JPH10222989A - Multiple-value semiconductor storage, its writing method and reading method, and storage medium - Google Patents

Multiple-value semiconductor storage, its writing method and reading method, and storage medium

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JPH10222989A
JPH10222989A JP26104197A JP26104197A JPH10222989A JP H10222989 A JPH10222989 A JP H10222989A JP 26104197 A JP26104197 A JP 26104197A JP 26104197 A JP26104197 A JP 26104197A JP H10222989 A JPH10222989 A JP H10222989A
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JP
Japan
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memory cell
bits
address space
physical address
information
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JP26104197A
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Katsuki Hazama
克樹 挾間
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Nippon Steel Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently correct an error even if multiple-value information stored in a multiple-value memory cell is lost. SOLUTION: A bit information dispersion means 6a for storing each bit for constituting one coded word that is coded by an arbitrary coding method by dispersing it into a plurality of multiple-value memory cells is provided at a memory cell array 1 of a multiple-value semiconductor storage with a plurality of multiple-value memory cells for retaining at least three storage states. Then, even an error results in a plurality of bits stored at one multiple- value memory, only information on the minimum number of bits whose error can be corrected is lost for one coded word.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は多値半導体記憶装置
及びその書き込み方法と読み出し方法並びに記憶媒体に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilevel semiconductor memory device, a method of writing and reading the same, and a storage medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置に記憶された符号の誤り
訂正機能として、例えばハミング符号を用いた方法が一
般的に用いられてきた。前記ハミング符号を用いる半導
体記憶装置においては、例えば、4ビットの情報ビット
(m1,m2,m3,m4)を記憶する場合、3ビット
の検査ビット(p1,p2,p3)を符号器によって求
め、情報ビットと検査ビットの合計7ビットを記憶す
る。
2. Description of the Related Art As an error correction function of a code stored in a semiconductor memory device, for example, a method using a Hamming code has been generally used. In a semiconductor memory device using the Hamming code, for example, when storing four information bits (m1, m2, m3, m4), three check bits (p1, p2, p3) are obtained by an encoder. A total of 7 bits of information bits and check bits are stored.

【0003】そして、前記半導体記憶装置に記憶したハ
ミング符号の読みだし時には、読みだした情報(y1,
y2,y3,y4,y5,y6,y7)を復号器に与
え、誤りを訂正した情報(m1,m2,m3,m4)を
得るようにしている。このような半導体記憶装置では、
前記読みだした情報(y1,y2,y3,y4,y5,
y6,y7)のうち、1ビットまでの誤りを訂正するこ
とができる。詳しくは、例えば、電子情報通信学会発行
今井秀樹著 「符号理論」(平成6年6月10日発行
(5版))などを参考にされたい。
When reading the Hamming code stored in the semiconductor memory device, the read information (y1, y1,
y2, y3, y4, y5, y6, y7) are supplied to a decoder to obtain error-corrected information (m1, m2, m3, m4). In such a semiconductor memory device,
The read information (y1, y2, y3, y4, y5,
(y6, y7), it is possible to correct an error of up to 1 bit. For details, see, for example, “Code Theory” (published on June 10, 1994 (5th edition)) by Hideki Imai, published by the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers.

【0004】ところで、最近は特開平6−195687
号公報に示されるように、1個のメモリセルに3値以上
の値を記憶する多値半導体記憶装置がある。前記多値半
導体記憶装置には、複数のしきい値電圧が設定されてい
て、例えば、4値不揮発性半導体メモリであれば、各メ
モリセルは4個のしきい値電圧(0V,2V,4V,6
V)に設定され、1個のメモリセルで2ビット分の情報
を記憶することができるようになされている。つまり、
記憶内容(00,01,10,11)に対応して、メモ
リセルのしきい値電圧が0V,2V,4V,6Vに設定
されている。
Incidentally, recently, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-195687
As shown in the publication, there is a multilevel semiconductor memory device that stores three or more values in one memory cell. In the multi-level semiconductor memory device, a plurality of threshold voltages are set. For example, in the case of a quaternary nonvolatile semiconductor memory, each memory cell has four threshold voltages (0 V, 2 V, and 4 V). , 6
V), so that two bits of information can be stored in one memory cell. That is,
The threshold voltages of the memory cells are set to 0 V, 2 V, 4 V, and 6 V corresponding to the stored contents (00, 01, 10, 11).

【0005】ここで、このような多値半導体記憶装置に
ハミング符号による誤り訂正機能を付与する場合、従来
は符号化で得られた記憶するべき符号列の各ビットを順
番に記憶するようにしていたので、隣り合うビットが同
じメモリセルに記憶されていた。
Here, when an error correction function using a Hamming code is provided to such a multilevel semiconductor memory device, conventionally, each bit of a code string to be stored obtained by encoding is stored in order. Therefore, adjacent bits are stored in the same memory cell.

【0006】例えば、情報ビット(m11,m21,m
31,m41)と(m12,m22,m32,m42)
から、検査ビット(p11,p21,p31)と(p1
2,p22,p32)とを得て、これを多値メモリセル
に記憶する場合を説明する。これらの情報ビット及び検
査ビットよりなるハミング符号を多値メモリセルに記憶
する場合、従来はm11とm21、m31とm41、p
11とp21、p31とm12、m22とm32、m4
2とp12、p22とp32のように順番に記憶してい
た。
For example, information bits (m11, m21, m
31, m41) and (m12, m22, m32, m42)
From the check bits (p11, p21, p31) and (p1
2, p22, p32) and storing them in a multi-level memory cell. When a Hamming code composed of these information bits and check bits is stored in a multilevel memory cell, conventionally, m11 and m21, m31 and m41, p
11 and p21, p31 and m12, m22 and m32, m4
2 and p12, and p22 and p32.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】多値半導体記憶装置に
おける誤りの起こり方を、先に記述した多値不揮発性メ
モリを例に述べると、しきい値電圧の変化によって誤り
が起こるため、例えば“10”が“01”になるよう
に、2ビットの情報の対が同時に誤りを起こす確率が非
常に高い。
The error occurrence in the multi-level semiconductor memory device will be described with reference to the above-described multi-level non-volatile memory as an example. There is a very high probability that two-bit information pairs will simultaneously cause an error so that "10" becomes "01".

【0008】つまり、多値半導体記憶装置で発生する誤
りは、1個の多値メモリセルに記憶する値の数に対応し
て、符号系列のある区間に集中して起こる、いわゆるバ
ースト誤りになるのが特徴である。そして、このような
バースト誤りが起こると、1個の多値メモリセルの記憶
状態が変化して、2ビットの誤りが起こることになる。
この場合には、1個のハミング符号において2個以上の
誤りが起こることになり、正しく復号化できなくなる。
That is, an error occurring in the multi-level semiconductor memory device is a so-called burst error which occurs in a certain section of the code sequence in correspondence with the number of values stored in one multi-level memory cell. It is characteristic. When such a burst error occurs, the storage state of one multi-level memory cell changes, and a 2-bit error occurs.
In this case, two or more errors occur in one Hamming code, and decoding cannot be performed correctly.

【0009】ハミング符号を用いる方法の他に、多値半
導体記憶装置の誤り訂正方法として特開昭60−163
300号公報にて示されているような、多元符号を用い
る方法も提案されているが、この方法も多値半導体記憶
装置における誤りの起こり方がバースト誤りになる確率
が高いことが考慮されておらず、誤り訂正の効率が悪い
問題があった。
In addition to the method using a Hamming code, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-163 discloses an error correction method for a multilevel semiconductor memory device.
A method using a multiple code as disclosed in Japanese Patent Publication No. 300 is also proposed. However, this method also takes into account that the probability of an error occurring in a multilevel semiconductor memory device is a high probability of a burst error. There was a problem that the efficiency of error correction was poor.

【0010】また、上述したような多値メモリでは、1
つのメモリセルに対する読み出し動作の回数が多くなる
という問題があった。従来の読み出し方法を、上述の4
値半導体記憶装置の読み出し動作について説明する。こ
の半導体記憶装置は、外部から読み出し命令を受信する
と、アドレスの入力を待つ。入力されるアドレスは、実
在するメモリセルに対応した物理アドレスではなく、論
理アドレスであるため、入力された論理アドレスから物
理アドレスが算出される。
In the above-described multi-valued memory, 1
There is a problem that the number of read operations for one memory cell increases. The conventional reading method is described in the above 4
A read operation of the value semiconductor memory device will be described. When receiving a read command from the outside, the semiconductor memory device waits for input of an address. The input address is not a physical address corresponding to a real memory cell, but a logical address. Therefore, a physical address is calculated from the input logical address.

【0011】次いで、算出された物理アドレスにより指
定されたメモリセルのしきい値電圧が(0V,2V,4
V,6V)の何れであるかを調べ、2ビットのデータに
変換する。具体的には、メモリセルに例えば1V,3
V,5Vの判定電圧を順次印加する。この場合、1Vの
判定電圧を印加したときにメモリセルのソース/ドレイ
ンに電流が流れたならば、メモリセルのしきい値電圧は
0Vであると分かり、“00”のデータが読み出され
る。一方、1Vでは電流が流れなかったが、3Vで電流
が流れたならば、メモリセルのしきい値電圧は2Vであ
ると分かり、“01”のデータが読み出される。
Next, the threshold voltage of the memory cell specified by the calculated physical address is set to (0 V, 2 V, 4
V, 6V) and converts it into 2-bit data. Specifically, for example, 1 V, 3
V and 5V judgment voltages are sequentially applied. In this case, if a current flows through the source / drain of the memory cell when the determination voltage of 1 V is applied, the threshold voltage of the memory cell is found to be 0 V, and the data “00” is read. On the other hand, if the current did not flow at 1 V, but if the current flowed at 3 V, the threshold voltage of the memory cell was found to be 2 V, and the data “01” was read.

【0012】更に、1Vと3Vでは電流が流れず、5V
のときに初めて電流が流れたならば、メモリセルのしき
い値電圧は4Vであると分かり、“10”のデータが読
み出される。更に、メモリセルに印加したすべての電圧
で電流が流れなかったときは、メモリセルのしきい値電
圧は6Vであると分かり、“11”のデータが読み出さ
れる。以上に説明した例では、1つのメモリセルに4
値、すなわち、2ビットのデータを記憶させたが、更に
多値のデータを記憶させることも研究されている。
Further, no current flows at 1 V and 3 V, and 5 V
When the current flows for the first time at the time of, the threshold voltage of the memory cell is found to be 4 V, and the data of "10" is read. Further, when no current flows at all the voltages applied to the memory cell, the threshold voltage of the memory cell is found to be 6 V, and the data "11" is read. In the example described above, one memory cell has four
Although a value, that is, 2-bit data is stored, storing multi-valued data is also being studied.

【0013】しかし、上述したような多値メモリでは、
1つのメモリセルに対する読み出し動作の回数が多くな
るという問題があった。例えば、上述のように1つのメ
モリセルに4値を記憶させた場合には、このように、従
来の4値半導体記憶装置においては、読み出し動作で、
入力されたアドレスが如何なる値であろうとも、メモリ
セルのしきい値電圧が4値のうちの何れであるかを特定
する3回の読み出し検出動作が必ず行われる。実際に
は、1V→3V→5Vと階段状に変化する電圧を印加し
て読み出し検出を行うのであるが、読み出し検出動作が
3回必要であることには変わりない。
However, in the above-mentioned multi-valued memory,
There is a problem that the number of read operations for one memory cell increases. For example, when the four values are stored in one memory cell as described above, in the conventional four-value semiconductor memory device, the read operation is performed as described above.
Regardless of the value of the input address, three read detection operations are always performed to specify which of the four values the threshold voltage of the memory cell is. Actually, read detection is performed by applying a voltage that changes in a stepwise manner from 1 V to 3 V to 5 V, but the read detection operation is still required three times.

【0014】そこで、本発明者等は、特開平7−201
189号公報で、メモリセルの読み出し動作を高速化す
る方法を開示している。この方法は、上述の4値半導体
記憶装置に対応させて説明すれば、メモリセルに先ず3
Vの電圧を印加し、電流が流れるか否かで2ビットのデ
ータのうちの上位ビットを判定する。この場合、電流が
流れたならば上位ビットは“0”であり、電流が流れな
かったならば上位ビットは“1”である。次いで、上位
ビットが“0”であると判定された場合には、メモリセ
ルに更に1Vの電圧を印加し、電流が流れたならばメモ
リセルの2ビットのデータは“00”であると、電流が
流れなかったならばデータは“01”であると判定され
て出力される。一方、上位ビットが“1”であると判定
された場合には、メモリセルに更に5Vの電圧を印加
し、電流が流れたならばメモリセルの2ビットのデータ
は“10”であると、電流が流れなかったならばデータ
は“11”であると判定されて出力される。このよう
に、特開平7−201189号公報の読み出し方法によ
れば、2回の読み出し動作で1つのメモリセルに記憶さ
れた2ビットのデータを特定することが可能となる。
Therefore, the present inventors have disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-201.
No. 189 discloses a method for speeding up a read operation of a memory cell. According to this method, which corresponds to the above-described quaternary semiconductor memory device, first, three
A voltage of V is applied, and an upper bit of 2-bit data is determined based on whether or not a current flows. In this case, if a current flows, the upper bit is “0”, and if no current flows, the upper bit is “1”. Next, when it is determined that the upper bit is “0”, a voltage of 1 V is further applied to the memory cell, and if a current flows, the 2-bit data of the memory cell is “00”. If no current flows, the data is determined to be "01" and output. On the other hand, when it is determined that the upper bit is “1”, a voltage of 5 V is further applied to the memory cell, and if a current flows, the 2-bit data of the memory cell is “10”. If no current flows, the data is determined to be "11" and output. As described above, according to the reading method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-201189, it is possible to specify 2-bit data stored in one memory cell by performing two reading operations.

【0015】しかしながら、特開平7−201189号
公報に記載の読み出し方法においても、論理アドレスに
よらず、換言すれば論理アドレスが例えばメモリセルの
上位ビットを指定している場合でも、メモリセルのしき
い値電圧が4値のいずれであるかを判定することにな
る。
However, even in the reading method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-201189, even if the logical address specifies, for example, the upper bit of the memory cell, it does not depend on the logical address. It is determined whether the threshold voltage is one of four values.

【0016】以上のように、従来の多値半導体記憶装置
は、その読み出し動作において、入力された論理アドレ
スによらず、メモリセルの記憶内容を完全に特定してか
らデータを出力するため、必要以上に時間を要し、必然
的に読み出し速度が制限されるという問題があった。
As described above, the conventional multi-valued semiconductor memory device outputs data after completely specifying the storage content of the memory cell regardless of the input logical address in the read operation. As described above, it takes time, and there is a problem that the reading speed is necessarily limited.

【0017】本発明は上述の問題点に鑑み、1つのメモ
リセルに記憶されている多値情報が失われても、誤り訂
正を効率よく行うことができるようにすることを第1の
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, it is a first object of the present invention to enable efficient error correction even when multi-value information stored in one memory cell is lost. I do.

【0018】また、入力された論理アドレスに応じて、
アクセス頻度の高いデータを高速で読みだすことを可能
とし、読みだし時のアクセス時間を更に短縮することが
できるようにすることを第2の目的とする。
Further, according to the input logical address,
It is a second object of the present invention to enable high-speed reading of frequently accessed data and to further shorten the reading access time.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明の多値半導体記憶
装置は、各々が3個以上の相異なる所定の記憶状態のう
ちの1つを保持する複数個の多値メモリセルと、任意の
符号化方法によって符号化された少なくとも第1の符号
と第2の符号が与えられ、前記第1の符号を構成する複
数の第1の情報ビットと前記第2の符号を構成する複数
の第2の情報ビットのうち、同じ桁の情報ビット同士が
1組となって対応する前記多値メモリセルに記憶される
ように前記第1及び第2の情報ビットを並べ替える並べ
替え手段と、並べ替えられた前記情報ビットに対応して
所定電圧を発生させる電圧発生手段と、アドレス情報を
受けて、当該アドレス情報に対応した前記多値メモリセ
ルに前記所定電圧を印加する電圧印加手段とを備える。
According to the present invention, there is provided a multi-level semiconductor memory device comprising: a plurality of multi-level memory cells each holding one of three or more different predetermined storage states; At least a first code and a second code encoded by the encoding method are provided, and a plurality of first information bits forming the first code and a plurality of second information bits forming the second code are provided. And a rearranging means for rearranging the first and second information bits so that information bits of the same digit among the information bits are stored as a set in the corresponding multi-level memory cell. Voltage generating means for generating a predetermined voltage in response to the information bit, and voltage applying means for receiving address information and applying the predetermined voltage to the multi-level memory cell corresponding to the address information.

【0020】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記並べ替え手段は、前記符号化方法の誤り
訂正能力に応じて、前記各多値メモリセルに記憶するビ
ット数を制御する。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the rearranging means controls the number of bits stored in each of the multi-level memory cells according to the error correction capability of the encoding method. .

【0021】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記並び替え手段は、前記複数の多値メモリ
セルの1つが記憶するビット数がmであるときに、m個
の情報ビットを前記1つの多値メモリセルに記憶させる
ように、符号長nの符号m個をm×n配列の各行として
並べ替える。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the rearrangement means is configured to output m information bits when one of the plurality of multi-level memory cells stores m bits. Are stored in the one multi-valued memory cell, and m codes of code length n are rearranged as each row of an m × n array.

【0022】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記多値メモリセルは不揮発性半導体メモリ
である。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the multi-level memory cell is a nonvolatile semiconductor memory.

【0023】本発明の多値半導体記憶装置の書き込み方
法は、各々が3個以上の相異なる所定の記憶状態のうち
の1つを保持する複数個の多値メモリセルを備えた多値
半導体記憶装置への情報ビットの書き込み方法であっ
て、任意の符号化方法によって符号化された少なくとも
第1の符号と第2の符号が与えられ、前記第1の符号を
構成する複数の第1の情報ビットと前記第2の符号を構
成する複数の第2の情報ビットのうち、同じ桁の情報ビ
ット同士が1組となって対応する前記多値メモリセルに
記憶されるように前記第1及び第2の情報ビットを並び
替える第1のステップと、前記並び替えられた前記情報
ビットに対応して所定電圧を発生させる第2のステップ
と、アドレス情報を受けて、当該アドレス情報に対応し
た前記多値メモリセルに前記所定電圧を印加する第3の
ステップとを備える。
A multi-level semiconductor memory device having a plurality of multi-level memory cells each holding one of three or more different predetermined storage states is provided. A method for writing information bits to a device, wherein at least a first code and a second code encoded by an arbitrary encoding method are provided, and a plurality of first information constituting the first code are provided. The first and second information bits of the same digit of the plurality of second information bits forming the second code are stored in the corresponding multi-level memory cell as a set. A first step of rearranging two information bits, a second step of generating a predetermined voltage corresponding to the rearranged information bits, and a step of receiving address information and receiving the address information. Value memory cell And a third step of applying a predetermined voltage to the.

【0024】本発明の記憶媒体は、コンピュータによっ
て各々が3個以上の相異なる所定の記憶状態のうちの1
つを保持する複数の多値メモリセルを備えた多値半導体
記憶装置に情報ビットを書き込むためのプログラムが記
憶された記憶媒体であって、任意の符号化方法によって
符号化された少なくとも第1の符号と第2の符号におい
て、前記第1の符号を構成する複数の第1の情報ビット
と、前記第2の符号を構成する複数の第2の情報ビット
とのうち、同じ桁の情報ビット同士が1組として前記複
数の多値メモリセルの1つに記憶されるように前記第1
及び第2の情報ビットを並べ替えるプログラムが記憶さ
れている。
The storage medium of the present invention can store one or more of three or more different predetermined storage states by a computer.
A storage medium storing a program for writing information bits in a multi-level semiconductor memory device including a plurality of multi-level memory cells holding at least one In a code and a second code, information bits of the same digit among a plurality of first information bits forming the first code and a plurality of second information bits forming the second code Are stored as one set in one of the plurality of multi-valued memory cells.
And a program for rearranging the second information bits.

【0025】本発明の記憶媒体の一態様例においては、
並べ替えられた前記第1及び第2の情報ビットに応じた
所定電圧を発生させ、アドレス情報を受けて、当該アド
レス情報に対応した前記多値メモリセルに前記所定電圧
を印加するプログラムが記憶されている。
In one embodiment of the storage medium of the present invention,
A program for generating a predetermined voltage according to the rearranged first and second information bits, receiving address information, and applying the predetermined voltage to the multi-level memory cell corresponding to the address information is stored. ing.

【0026】本発明の多値半導体記憶装置は、論理アド
レスが与えられて物理アドレスに変換する変換手段と、
前記物理アドレスを含む物理アドレス空間に対応して配
置され、n個(n≧2)の成分(X1 ,X2 ,…,
n )で表現される2n 値の記憶状態を保持する複数の
多値メモリセルと、前記論理アドレスを含む論理アドレ
ス空間が前記物理アドレス空間と一致するか否かを判定
する判定手段と、前記論理アドレス空間が前記物理アド
レス空間と一致すると判定された場合に、最上位の前記
成分X1 を所定の判定値により1回で特定する特定手段
と、特定された前記成分X1 を前記複数の多値メモリセ
ルのうちの前記物理アドレスに対応する多値メモリセル
から出力させる出力手段とを備えている。
The multi-level semiconductor memory device according to the present invention comprises: a conversion unit which receives a logical address and converts it to a physical address;
The components (X 1 , X 2 ,...,..., N) are arranged corresponding to the physical address space including the physical address.
X n ), a plurality of multi-valued memory cells holding a 2 n -valued storage state represented by X n ), and determination means for determining whether or not a logical address space including the logical address matches the physical address space; When it is determined that the logical address space coincides with the physical address space, specifying means for specifying the component X 1 at the top at one time by a predetermined determination value, and specifying the specified component X 1 Output means for outputting from the multi-valued memory cell of the multi-valued memory cell corresponding to the physical address.

【0027】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記各多値メモリセルは少なくとも1つのト
ランジスタを含み、前記特定手段は、前記判定値に対応
する電圧を発生させる第1の手段と、前記物理アドレス
が与えられてアドレス信号を出力する第2の手段と、前
記アドレス信号に応答して前記電圧を前記物理アドレス
に対応する前記多値メモリセルに与える第3の手段と、
前記電圧が与えられた前記トランジスタのソース−ドレ
イン間に電流が流れるか否かを判定する第4の手段と、
前記第4の手段における判定結果により前記最上位の前
記成分X1 を特定する第5の手段とを含む。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, each of the multi-level memory cells includes at least one transistor, and the specifying means generates a voltage corresponding to the determination value. Means, a second means for receiving the physical address and outputting an address signal, and a third means for applying the voltage to the multi-level memory cell corresponding to the physical address in response to the address signal;
Fourth means for determining whether or not current flows between the source and the drain of the transistor to which the voltage is applied;
The result of the determination in said fourth means includes a fifth means for specifying the component X 1 of said uppermost.

【0028】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記特定手段は、前記各多値メモリセルの出
力部位に一方の入力端子が接続され、前記最上位の前記
成分X1 に対応する電圧が供給される比較器と、前記比
較器の他方の入力端子に接続され、この他方の入力端子
に前記所定の判定値に対応する電圧を供給する電圧供給
回路とを含み、前記比較器の判定結果により前記最上位
の前記成分X1 を特定する。
[0028] In an exemplary aspect of the multi-level semiconductor memory device of the present invention, the specifying unit, the is one input terminal connected to an output portion of the multi-level memory cell, the component X 1 of the uppermost A comparator to which a corresponding voltage is supplied, and a voltage supply circuit connected to the other input terminal of the comparator and supplying a voltage corresponding to the predetermined determination value to the other input terminal. vessels of the determination result by specifying the component X 1 of said uppermost.

【0029】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空
間と一致しないと判定された場合、前記特定手段は、前
記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )を所定の最大n個の異
なる判定値により最大n回で特定する。
In one embodiment of the multi-valued semiconductor memory device according to the present invention, when it is determined that the logical address space does not match the physical address space, the specifying means sets the components (X 1 , X 2 , .., X n ) are specified at a maximum of n times by a predetermined maximum of n different determination values.

【0030】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記各多値メモリセルは少なくとも1つのト
ランジスタを含み、前記特定手段は、前記n個の判定値
に対応するn個の電圧を発生させる第1の手段と、前記
物理アドレスが与えられてアドレス信号を出力する第2
の手段と、前記アドレス信号に応答して前記電圧を前記
物理アドレスに対応する前記多値メモリセルに与える第
3の手段と、前記電圧が与えられた前記トランジスタの
ソース−ドレイン間に電流が流れるまで最大n種の電圧
を前記トランジスタのゲートに所定の順序で与える第4
の手段と、前記電流を検出することにより前記成分(X
1 ,X2 ,…,Xn )を特定する第5の手段とを含む。
In one embodiment of the multi-valued semiconductor memory device according to the present invention, each of the multi-valued memory cells includes at least one transistor, and the specifying means outputs n voltage values corresponding to the n judgment values. And a second means for outputting an address signal given the physical address.
Means, the third means for applying the voltage to the multi-level memory cell corresponding to the physical address in response to the address signal, and a current flowing between the source and the drain of the transistor to which the voltage is applied. Up to n kinds of voltages to the gate of the transistor in a predetermined order
Means and the component (X
1, X 2, ..., and a fifth means for specifying the X n).

【0031】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記特定手段は、前記各多値メモリセルの出
力部位に一方の入力端子が接続され、前記成分(X1
2,…,Xn )に対応する各々の電圧が供給される比
較器と、前記比較器の他方の入力端子に接続され、この
他方の入力端子に前記最大n個の判定値に対応する電圧
を供給する電圧供給回路とを含み、前記比較器の判定結
果により前記最上位の前記成分(X1 ,X2 ,…,
n )を特定する。
In one embodiment of the multi-valued semiconductor memory device according to the present invention, the identification means has one input terminal connected to an output portion of each of the multi-valued memory cells, and the component (X 1 ,
X 2 ,..., X n ) and connected to the other input terminal of the comparator, and the other input terminal corresponds to the maximum n determination values. And a voltage supply circuit for supplying a voltage, wherein the component (X 1 , X 2 ,...,
X n ).

【0032】本発明の多値半導体記憶装置の読み出し方
法は、物理アドレス空間に対応して配置され、n個(n
≧2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2
n 値の記憶状態を保持する複数の多値メモリセルから前
記成分を読み出す方法であって、論理アドレスを前記物
理アドレス空間に含まれる物理アドレスに変換する第1
のステップと、前記論理アドレスを含む論理アドレス空
間が前記物理アドレス空間と一致するか否かを判定する
第2のステップと、前記論理アドレス空間が前記物理ア
ドレス空間と一致すると判定された場合に、最上位の前
記成分X1 を所定の判定値により1回で特定する第3の
ステップと、特定された前記成分X1 を前記複数の多値
メモリセルのうちの前記物理アドレスに対応する多値メ
モリセルから出力させる第4のステップとを含む。
According to the method of reading a multilevel semiconductor memory device of the present invention, n (n)
≧ 2) represented by components (X 1 , X 2 ,..., X n )
A method of reading the component from a plurality of multi-valued memory cells holding an n- valued storage state, the method comprising: converting a logical address to a physical address included in the physical address space.
And a second step of determining whether or not a logical address space including the logical address matches the physical address space, and when it is determined that the logical address space matches the physical address space, A third step of specifying the highest-order component X 1 at one time based on a predetermined determination value, and a multi-level corresponding to the physical address of the plurality of multi-level memory cells to specify the specified component X 1 And outputting the data from the memory cell.

【0033】本発明の多値半導体記憶装置の読み出し方
法の一態様例においては、前記第2のステップにおい
て、前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一
致しないと判定された場合に、前記第2のステップの
後、前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )を所定の最大n
個の異なる判定値により最大n回で特定する第5のステ
ップを更に含む。
In one embodiment of the method for reading a multi-level semiconductor memory device according to the present invention, when it is determined in the second step that the logical address space does not match the physical address space, the second After the above step, the components (X 1 , X 2 ,..., X n ) are converted to a predetermined maximum n
The method further includes a fifth step of specifying a maximum of n times by the number of different determination values.

【0034】本発明の多値半導体記憶装置の読み出し方
法は、物理アドレス空間に対応して配置され、n個(n
≧2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2
n 値の記憶状態を保持し、各々が少なくとも1つのトラ
ンジスタを備える複数の多値メモリセルから前記成分を
読み出す方法であって、論理アドレスを前記物理アドレ
ス空間に含まれる物理アドレスに変換する第1のステッ
プと、前記論理アドレスを含む論理アドレス空間が前記
物理アドレス空間と一致するか否かを判定する第2のス
テップと、前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空
間と一致すると判定された場合に、前記トランジスタの
ゲートに所定の判定電圧を印加して、前記トランジスタ
のソース−ドレイン間に電流が流れる否かにより最上位
の前記成分X1 を特定する第3のステップと、特定され
た前記成分X1 を前記複数の多値メモリセルのうちの前
記物理アドレスに対応する多値メモリセルから出力させ
る第4のステップとを含む。
According to the method of reading a multilevel semiconductor memory device of the present invention, n (n)
≧ 2) represented by components (X 1 , X 2 ,..., X n )
A method for reading said components from a plurality of multi-valued memory cells each having an n- valued storage state and each including at least one transistor, wherein a first logical address is converted to a physical address included in said physical address space. And a second step of determining whether or not a logical address space including the logical address matches the physical address space, and when it is determined that the logical address space matches the physical address space, A third step of applying a predetermined determination voltage to the gate of the transistor to specify the component X 1 at the top based on whether or not a current flows between the source and the drain of the transistor; a fourth step of outputting a 1 from the multilevel memory cell corresponding to the physical address of the plurality of multilevel memory cells Including.

【0035】本発明の多値半導体記憶装置の読み出し方
法の一態様例においては、前記第2のステップにおい
て、前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一
致しないと判定された場合に、前記第2のステップの
後、前記トランジスタのゲートにn個の異なる判定電圧
を所定の順序で、前記トランジスタのソース−ドレイン
間に電流が流れるまで最大n回印加して前記成分(X
1 ,X2 ,…,Xn )を特定する第5のステップを更に
含む。
In one embodiment of the method for reading a multi-level semiconductor memory device according to the present invention, when it is determined in the second step that the logical address space does not match the physical address space, the second After the step, n different judgment voltages are applied to the gate of the transistor in a predetermined order at a maximum of n times until a current flows between the source and the drain of the transistor, and the component (X
1, X 2, ..., further comprising a fifth step of identifying X n).

【0036】本発明の多値半導体記憶装置の読み出し方
法は、物理アドレス空間に対応して配置され、n個(n
≧2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2
n 値の記憶状態を保持し、各々が少なくとも1つのトラ
ンジスタを備える複数の多値メモリセルから前記成分を
読み出す方法であって、論理アドレスを前記物理アドレ
ス空間に含まれる物理アドレスに変換する第1のステッ
プと、前記論理アドレスを含む論理アドレス空間が前記
物理アドレス空間と一致するか否かを判定する第2のス
テップと、前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空
間と一致すると判定された場合に、最上位の前記成分X
1 に対応する電圧と所定の判定電圧とを比較し、比較結
果により前記成分X1 を特定する第3のステップと、特
定された前記成分X1 を前記複数の多値メモリセルのう
ちの前記物理アドレスに対応する多値メモリセルから出
力させる第4のステップとを含む。
According to the method of reading a multi-level semiconductor memory device of the present invention, n (n)
≧ 2) represented by components (X 1 , X 2 ,..., X n )
A method for reading said components from a plurality of multi-valued memory cells each having an n- valued storage state and each including at least one transistor, wherein a first logical address is converted to a physical address included in said physical address space. And a second step of determining whether or not a logical address space including the logical address matches the physical address space, and when it is determined that the logical address space matches the physical address space, The top component X
Comparing a voltage corresponding to 1 and a predetermined determination voltage, the comparison result by the third step of identifying the components X 1, wherein the said component X 1 identified among the plurality of multilevel memory cells And outputting the data from the multi-level memory cell corresponding to the physical address.

【0037】本発明の多値半導体記憶装置の読み出し方
法の一態様例においては、前記第2のステップにおい
て、前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一
致しないと判定された場合に、前記第2のステップの
後、前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )に対応する電圧
と前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )の各々の成分に対
応する電圧とを比較し、比較結果により前記成分(X
1 ,X2 ,…,Xn )を特定する第5のステップを更に
含む。
In one embodiment of the method for reading a multi-level semiconductor memory device according to the present invention, when it is determined in the second step that the logical address space does not match the physical address space, the second after the step, the components (X 1, X 2, ... , X n) voltage and the component corresponding to the (X 1, X 2, ... , X n) is compared with the voltage corresponding to each component of the According to the comparison result, the component (X
1, X 2, ..., further comprising a fifth step of identifying X n).

【0038】本発明の記憶媒体は、コンピュータによっ
て、物理アドレス空間に対応して配置され、n個(n≧
2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2n
値の記憶状態を保持する複数の多値メモリセルから前記
成分を読み出すためのプログラムが記憶された記憶媒体
であって、論理アドレスを前記物理アドレス空間に含ま
れる物理アドレスに変換する第1のステップと、前記論
理アドレスを含む論理アドレス空間が前記物理アドレス
空間と一致するか否かを判定する第2のステップと、前
記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致する
と判定された場合に、最上位の前記成分X1 を所定の判
定値により1回で特定する第3のステップと、特定され
た前記成分X1 を前記複数の多値メモリセルのうちの前
記物理アドレスに対応する多値メモリセルから出力させ
る第4のステップとを備えたプログラムが記憶されてい
る。
The storage media according to the present invention are arranged by a computer in correspondence with the physical address space, and the number of storage media is n (n ≧ n).
Component of 2) (X 1, X 2 , ..., 2 n represented by X n)
A storage medium storing a program for reading the component from a plurality of multi-valued memory cells holding a value storage state, wherein a first step of converting a logical address into a physical address included in the physical address space And a second step of determining whether or not a logical address space including the logical address matches the physical address space; and determining that the logical address space matches the physical address space, third step and, multilevel memory cell corresponding to the physical address of the component X 1 identified the plurality of multilevel memory cells to identify the components X 1 at one time with a predetermined determination value And a fourth step of outputting the data from the program.

【0039】本発明の記憶媒体の一態様例においては、
前記第2のステップにおいて、前記論理アドレス空間が
前記物理アドレス空間と一致しないと判定された場合
に、前記第2のステップの後、前記成分(X1 ,X2
…,Xn )を所定の最大n個の異なる判定値により最大
n回で特定する第5のステップを更に含むプログラムが
記憶されている。
In one embodiment of the storage medium of the present invention,
If it is determined in the second step that the logical address space does not match the physical address space, after the second step, the components (X 1 , X 2 ,
.., X n ) are stored. The program further includes a fifth step of specifying at most n times by a predetermined maximum of n different determination values.

【0040】本発明の記憶媒体は、コンピュータによっ
て、物理アドレス空間に対応して配置され、n個(n≧
2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2n
値の記憶状態を保持し、各々が少なくとも1つのトラン
ジスタを備える複数の多値メモリセルから前記成分を読
み出すためのプログラムが記憶された記憶媒体であっ
て、論理アドレスを前記物理アドレス空間に含まれる物
理アドレスに変換する第1のステップと、前記論理アド
レスを含む論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と
一致するか否かを判定する第2のステップと、前記論理
アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致すると判定
された場合に、前記トランジスタのゲートに所定の判定
電圧を印加して、前記トランジスタのソース−ドレイン
間に電流が流れる否かにより最上位の前記成分X1 を特
定する第3のステップと、特定された前記成分X1 を前
記複数の多値メモリセルのうちの前記物理アドレスに対
応する多値メモリセルから出力させる第4のステップと
を備えたプログラムが記憶されている。
The storage media of the present invention are arranged by the computer in correspondence with the physical address space, and are stored in n (n ≧ n)
Component of 2) (X 1, X 2 , ..., 2 n represented by X n)
A storage medium storing a program for reading a component from a plurality of multilevel memory cells each holding a value storage state and each including at least one transistor, wherein a logical address is included in the physical address space. A first step of converting to a physical address, a second step of determining whether a logical address space including the logical address matches the physical address space, and a logical address space matching the physical address space then when it is determined, by applying a predetermined determination voltage to the gate of the transistor, the source of the transistor - the third step of identifying the components X 1 the uppermost by whether current flows between the drain , multilevel memory cell corresponding to the components X 1 identified in the physical address of the plurality of multilevel memory cells And a fourth step of outputting the data from the program.

【0041】本発明の記憶媒体の一態様例においては、
前記第2のステップにおいて、前記論理アドレス空間が
前記物理アドレス空間と一致しないと判定された場合
に、前記第2のステップの後、前記トランジスタのゲー
トにn個の異なる判定電圧を所定の順序で、前記トラン
ジスタのソース−ドレイン間に電流が流れるまで最大n
回印加して前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )を特定す
る第5のステップを更に含むプログラムが記憶されてい
る。
In one embodiment of the storage medium of the present invention,
In the second step, when it is determined that the logical address space does not match the physical address space, after the second step, n different determination voltages are applied to the gate of the transistor in a predetermined order. , A maximum of n until a current flows between the source and the drain of the transistor.
A program is stored which further includes a fifth step of specifying the components (X 1 , X 2 ,..., X n ) by applying once.

【0042】本発明の記憶媒体は、コンピュータによっ
て、物理アドレス空間に対応して配置され、n個(n≧
2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2n
値の記憶状態を保持し、各々が少なくとも1つのトラン
ジスタを備える複数の多値メモリセルから前記成分を読
み出すためのプログラムが記憶された記憶媒体であっ
て、論理アドレスを前記物理アドレス空間に含まれる物
理アドレスに変換する第1のステップと、前記論理アド
レスを含む論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と
一致するか否かを判定する第2のステップと、前記論理
アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致すると判定
された場合に、最上位の前記成分X1 に対応する電圧と
所定の判定電圧とを比較し、比較結果により前記成分X
1 を特定する第3のステップと、特定された前記成分X
1 を前記複数の多値メモリセルのうちの前記物理アドレ
スに対応する多値メモリセルから出力させる第4のステ
ップとを備えたプログラムが記憶されている。
The storage media of the present invention are arranged by the computer in correspondence with the physical address space, and the number of storage media is n (n ≧ n).
Component of 2) (X 1, X 2 , ..., 2 n represented by X n)
A storage medium storing a program for reading a component from a plurality of multilevel memory cells each holding a value storage state and each including at least one transistor, wherein a logical address is included in the physical address space. A first step of converting to a physical address, a second step of determining whether a logical address space including the logical address matches the physical address space, and a logical address space matching the physical address space Then, when it is determined, the voltage corresponding to the highest-order component X 1 is compared with a predetermined determination voltage, and based on the comparison result, the component X 1 is determined.
A third step of identifying 1 and the identified component X
Outputting a 1 from a multi-valued memory cell corresponding to the physical address of the plurality of multi-valued memory cells.

【0043】本発明の記憶媒体の一態様例においては、
前記第2のステップにおいて、前記論理アドレス空間が
前記物理アドレス空間と一致しないと判定された場合
に、前記第2のステップの後、前記成分(X1 ,X2
…,Xn )に対応する電圧と前記成分(X1 ,X2
…,Xn )の各々の成分に対応する電圧とを比較し、比
較結果により前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )を特定
する第5のステップを更に含むプログラムが記憶されて
いる。
In one embodiment of the storage medium of the present invention,
If it is determined in the second step that the logical address space does not match the physical address space, after the second step, the components (X 1 , X 2 ,
, X n ) and the components (X 1 , X 2 ,
, X n ) are compared with the voltages corresponding to the respective components, and a program is further stored which includes a fifth step of specifying the components (X 1 , X 2 ,..., X n ) based on the comparison result. I have.

【0044】本発明の多値半導体記憶装置は、複数の多
値メモリセルを具備し、前記各多値メモリセルが3個以
上の相異なる所定の記憶状態のうちの1つを保持する多
値半導体記憶装置であって、任意の符号化方法によって
符号化された1つの符号を構成する各ビットを前記複数
の多値メモリセルに分散させて記憶するようにする情報
ビット分散手段を具備する。
The multi-level semiconductor memory device of the present invention comprises a plurality of multi-level memory cells, each of which has one or more of three or more different predetermined storage states. The semiconductor memory device includes information bit dispersing means for distributing and storing each bit constituting one code encoded by an arbitrary encoding method in the plurality of multi-level memory cells.

【0045】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記情報ビット分散手段は、前記1つの符号
の誤り訂正能力に応じて、1つの多値メモリセルに記憶
する同一符号におけるビットの数を制御する。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device of the present invention, the information bit dispersing means stores the bits in the same code stored in one multi-level memory cell in accordance with the error correction capability of the one code. Control the number of.

【0046】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記情報ビット分散手段は、前記複数の多値
メモリセルに分散させて記憶する符号を、符号長nの符
号m個をm×n配列の各行として並べ、前記多値メモリ
セルが記憶するビット数がmであるときに、前記配列の
各列に配置されるm個の情報を前記多値メモリの1個に
記憶させる。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the information bit dispersing means converts the codes stored in the plurality of multi-level memory cells in a distributed manner into m codes having a code length of n. When the number of bits stored in the multilevel memory cell is m, m pieces of information arranged in each column of the array are stored in one of the multilevel memories.

【0047】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記多値メモリセルは不揮発性半導体メモリ
である。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the multi-level memory cell is a nonvolatile semiconductor memory.

【0048】本発明の記憶媒体は、上述の情報ビット分
散手段としてコンピュータを機能させるためのプログラ
ムを格納している。
The storage medium of the present invention stores a program for causing a computer to function as the information bit distributing means described above.

【0049】本発明の多値半導体記憶装置の書き込み方
法は、任意の符号化方法によって符号化された符号列
を、3個以上の記憶状態を保持する複数個の多値メモリ
セルを具備している多値半導体記憶装置に書き込む方法
であって、前記任意の符号化方法によって符号化された
1つの符号を構成する各ビットを複数の多値メモリセル
に分散させて記憶させる。
A writing method for a multi-level semiconductor memory device according to the present invention is characterized in that a code string coded by an arbitrary coding method is provided with a plurality of multi-level memory cells holding three or more storage states. In this method, each bit constituting one code encoded by the arbitrary encoding method is dispersedly stored in a plurality of multi-valued memory cells.

【0050】本発明の記憶媒体は、上述の多値半導体記
憶装置の書き込み方法がコンピュータから読み出し可能
に格納されている。
In the storage medium of the present invention, the above-described writing method for the multi-value semiconductor memory device is stored so as to be readable by a computer.

【0051】本発明の多値半導体記憶装置は、論理アド
レスが入力される入力手段と、前記論理アドレスから物
理アドレスを算出する変換手段と、制御ゲートと電荷蓄
積層とを有し、前記物理アドレスに対応して配置されて
おり、各々が2次元以上の成分により表現される3値以
上の記憶状態を保持する多値メモリセルと、前記物理ア
ドレスに対応した前記多値メモリセルを選択するととも
に、前記入力手段に入力される前記論理アドレスに応じ
て選択された前記多値メモリセルに記憶された前記成分
の中から出力する成分を指定する制御手段と、前記制御
手段により指定された前記多値メモリセルの前記成分の
データを出力する出力手段とを備え、前記成分のうちの
少なくとも1つの成分のデータを1回の判定で特定する
判定値が存在し、前記入力手段に入力した前記論理アド
レスが前記物理アドレスが張るアドレス空間と1対1対
応する部分空間に含まれるものであるときには、前記制
御手段が当該制御手段により指定された前記多値メモリ
セルの前記成分のデータを前記判定値で特定し、このデ
ータを前記出力手段から出力する。
The multi-valued semiconductor memory device of the present invention has input means for inputting a logical address, conversion means for calculating a physical address from the logical address, a control gate and a charge storage layer, And a multi-valued memory cell that holds a storage state of three or more values, each of which is represented by a component of two or more dimensions, and the multi-valued memory cell corresponding to the physical address. Control means for designating a component to be output from the components stored in the multi-valued memory cell selected in accordance with the logical address inputted to the input means, and the multi-level memory designated by the control means. Output means for outputting the data of the component of the value memory cell, wherein there is a determination value that specifies the data of at least one of the components in one determination. When the logical address input to the input means is included in a partial space corresponding one-to-one with the address space spanned by the physical address, the control means controls the multi-level memory cell designated by the control means. The component data is specified by the determination value, and the data is output from the output unit.

【0052】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記多値メモリセルは、n次元(n≧2)の
成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2n 値の記
憶状態を保持し、少なくとも前記X1 成分のデータを1
回の判定で特定する判定値が存在するとともに、前記部
分空間に含まれる前記論理アドレスのデータが前記X1
成分に格納されており、前記部分空間に含まれる前記論
理アドレスが前記入力手段に入力されたときには、対応
する前記多値メモリセルの前記記憶状態のうち、前記制
御手段により前記判定値で特定される前記X1 成分のデ
ータを前記出力手段から出力する。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device of the present invention, the multilevel memory cell is represented by n-dimensional (n ≧ 2) components (X 1 , X 2 ,..., X n ). holding the stored state of the 2 n values, the data of at least the X 1 component 1
There is a judgment value specified in the judgment of the time, and the data of the logical address included in the subspace is the X 1
When the logical address stored in the component and included in the subspace is input to the input unit, the storage state of the corresponding multi-level memory cell is specified by the determination value by the control unit. the data of the X 1 component output from said output means that.

【0053】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、X2 ,…,Xn 成分のデータを特定する各判
定値が存在するとともに、前記部分空間であるアドレス
空間A1 に近接するアドレス空間A2 ,…,An に含ま
れる前記論理アドレスのデータが前記アドレス空間A1
に近い順に前記X2 ,…,Xn 成分に順次格納されてお
り、前記入力手段に入力された前記論理アドレスのアド
レス空間に応じて、前記制御手段がXk (但し、k=
1,2,…,n)成分を前記各判定値によるk回の判定
で特定し、このXk 成分のデータを前記出力手段から出
力する。
In one embodiment of the multi-value semiconductor memory device of the present invention, each judgment value for specifying the data of the X 2 ,..., X n components exists, and is close to the address space A 1 which is the partial space. the address space a 2 to, ..., data of the logical address included in a n is the address space a 1
Wherein X 2, in order of proximity to ... are sequentially stored in the X n components, depending on the address space of the logical address inputted to said input means, said control means X k (where, k =
The (1, 2,..., N) component is specified by k determinations based on the respective determination values, and the data of the X k component is output from the output means.

【0054】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記電荷蓄積層が浮遊ゲートである。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the charge storage layer is a floating gate.

【0055】本発明の多値半導体記憶装置の読み出し方
法は、制御ゲートと電荷蓄積層とを備え、入力された論
理アドレスから算出された物理アドレスに対応して配置
されてなる多値メモリセルを有する多値半導体記憶装置
の読み出し方法であって、前記多値メモリセルには、各
々が2次元以上の成分により表現される3値以上の記憶
状態が保持されており、前記成分の少なくとも1つの成
分のデータを特定する判定値が存在し、前記入力手段に
入力した前記論理アドレスが前記物理アドレスが張るア
ドレス空間と1対1対応する部分空間に含まれるもので
あるときには、前記物理アドレスにより選択された前記
多値メモリセルの前記制御ゲートに前記判定値の電圧を
印加して、前記多値メモリセルのソース/ドレイン間に
電流が流れるか否かによって前記多値メモリセルの前記
成分のデータを特定して出力する。
A method of reading a multi-level semiconductor memory device according to the present invention includes a multi-level memory cell having a control gate and a charge storage layer, which is arranged corresponding to a physical address calculated from an input logical address. A method of reading a multi-valued semiconductor memory device, wherein the multi-valued memory cell holds three or more storage states each represented by a two-dimensional or more component, and at least one of the components When there is a determination value for specifying component data and the logical address input to the input means is included in a partial space corresponding to the address space spanned by the physical address on a one-to-one basis, a selection is made based on the physical address. Applying the voltage of the determination value to the control gate of the multi-valued memory cell and determining whether a current flows between the source and the drain of the multi-valued memory cell To the component data identified by the output of said multilevel memory cell by.

【0056】本発明の多値半導体記憶装置の読み出し方
法の一態様例においては、前記多値メモリセルには、n
次元(n≧2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で表現
される2n 値の記憶状態が保持されており、少なくとも
前記X1 成分のデータを特定する判定値が存在するとと
もに、前記部分空間に含まれる前記論理アドレスのデー
タが前記X1 成分に格納されており、前記部分空間に含
まれる前記論理アドレスが前記入力手段に入力されたと
きには、対応する前記多値メモリセルの前記記憶状態の
うち、前記前記値で特定される前記X1 成分のデータを
前記出力手段から出力する。
In one embodiment of the method of reading a multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the multi-level memory cell includes n
The storage state of 2 n values represented by the components (X 1 , X 2 ,..., X n ) of the dimension (n ≧ 2) is held, and at least a judgment value for specifying the data of the X 1 component exists. as well as, the and the logical address of the data is contained in the subspace is stored in the X 1 component, when the logical address included in the partial space is input to said input means, said corresponding multilevel memory among the storage state of the cell, and it outputs the data of the X 1 components identified by said value from said output means.

【0057】本発明の多値半導体記憶装置の読み出し方
法の一態様例においては、X2 ,…,Xn 成分のデータ
を特定する各判定値が存在するとともに、前記部分空間
であるアドレス空間A1 に近接するアドレス空間A2
…,An に含まれる前記論理アドレスのデータが前記ア
ドレス空間A1 に近い順に前記X2 ,…,Xn 成分に順
次格納されており、前記入力手段に入力された前記論理
アドレスのアドレス空間に応じて、Xk (但し、k=
1,2,…,n)成分のデータを前記各判定値によるk
回の判定で特定し、このXk 成分を出力する。
[0057] In an exemplary aspect of the method of reading the multi-level semiconductor memory device of the present invention, X 2, ..., with each judgment value identifying the data of X n component is present, the partial space in which the address space A Address space A 2 close to 1 ,
..., the data of the logical address included in A n is the order of closeness to the address space A 1 X 2, ..., are sequentially stored in the X n components, the address space of the logical address inputted to said input means X k (where k =
The data of the (1, 2,..., N) components is represented by k
The X k component is output by specifying the number of times of determination.

【0058】本発明の記憶媒体は、上述の読み出し方法
の手順をコンピュータに実行させるためのプログラムを
格納している。
The storage medium of the present invention stores a program for causing a computer to execute the procedure of the above-described reading method.

【0059】本発明の多値半導体記憶装置は、各々が3
個以上の相異なる所定の記憶状態のうちの1つを保持す
る複数個の多値メモリセルと、第1の記憶情報を、任意
の符号化方法によって少なくとも2桁以上の桁数を持つ
第1の符号値に変換する第1の符号化手段と、第2の記
憶情報を、任意の符号化方法によって少なくとも2桁以
上の桁数を持つ第2の符号値に変換する第2の符号化手
段と、前記第1,第2の符号値の同じ桁同士の符号値情
報を1組として、対応する前記多値メモリセルに記憶さ
れるように2組以上作成する並べ替え手段とを含む。
The multi-value semiconductor memory device of the present invention has three
A plurality of multi-valued memory cells that hold one of a plurality of different predetermined storage states, and a first storage information having a first number of at least two digits by an arbitrary encoding method. And a second encoding means for converting the second stored information into a second code value having at least two or more digits by an arbitrary encoding method. And reordering means for creating two or more sets of code value information of the same digit of the first and second code values as one set so as to be stored in the corresponding multi-level memory cell.

【0060】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記第1,第2の符号値が、同一の桁数を有
する。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device of the present invention, the first and second code values have the same number of digits.

【0061】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記任意の符号化方法が、2進法による符号
化方法である。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the arbitrary coding method is a coding method using a binary method.

【0062】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記多値メモリセルが、制御ゲートと浮遊ゲ
ートとを有する。
[0062] In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device of the present invention, the multilevel memory cell has a control gate and a floating gate.

【0063】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記多値メモリセルが、MNOS、マスクR
OM、EEPROM、EPROM、PROM、フラッシ
ュ不揮発性メモリのうちの少なくとも1つである。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the multi-level memory cell comprises an MNOS, a mask R
It is at least one of OM, EEPROM, EPROM, PROM, and flash nonvolatile memory.

【0064】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記第1,第2の符号値から、前記第1,第
2の記憶情報に生じた誤りを検出して訂正する訂正手段
を更に備える。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, a correcting means for detecting and correcting an error in the first and second storage information from the first and second code values. Is further provided.

【0065】本発明の多値半導体記憶装置は、各々が3
個以上の相異なる所定の記憶状態のうちの1つを保持す
る複数個の多値メモリセルと、入力された記憶情報を、
任意の符号化方法によって少なくとも2桁以上の桁数を
持つ符号値に変換する符号化手段と、前記符号化手段に
よって得られた前記符号値を、任意の桁数で分割して、
少なくとも2つの符号化情報ブロックを作成し、前記各
符号化情報ブロックの同じ桁の符号化情報を1組として
前記多値メモリセルに記憶させる分割記憶手段とを備え
る。
The multilevel semiconductor memory device of the present invention has three
A plurality of multi-valued memory cells holding one of a plurality of different predetermined storage states, and input storage information,
Encoding means for converting into a code value having at least two or more digits by an arbitrary encoding method, and dividing the code value obtained by the encoding means by an arbitrary number of digits,
Divided storage means for creating at least two encoded information blocks and storing the encoded information of the same digit of each encoded information block as a set in the multi-level memory cell.

【0066】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記各多値メモリセルに記憶された前記符号
化情報を読み出し、前記符号化方法の有する誤り訂正能
力に従って前記符号化情報からなる符号列を訂正して出
力する読み出し手段を更に含む。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device of the present invention, the coded information stored in each of the multi-level memory cells is read out, and the coded information is read from the coded information in accordance with the error correction capability of the coding method. And reading means for correcting and outputting the code string.

【0067】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記読み出し手段は、前記各多値メモリセル
からそれぞれ少なくとも所定位のビット情報を読み出し
て前記符号列を作成して出力する。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the read-out means reads out bit information of at least a predetermined position from each of the multi-level memory cells, creates and outputs the code string.

【0068】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記多値メモリセルは、4個の相異なる所定
の記憶状態のうちの1つを保持することが可能なもので
あり、前記分割記憶手段は、前記符号値を、桁数の等し
い2つの符号化情報ブロックに分割し、前記各符号化情
報ブロックの同じ桁の2つの符号化情報を1組として前
記多値メモリセルに記憶させる。
In one embodiment of the multi-valued semiconductor memory device according to the present invention, the multi-valued memory cell is capable of holding one of four different predetermined storage states, The division storage unit divides the code value into two coded information blocks having the same number of digits, and stores two sets of coded information of the same digit in each of the coded information blocks as a set in the multilevel memory cell. Remember.

【0069】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記読み出し手段は、2つの前記各符号化情
報ブロックの各々が情報ビットに冗長ビットが付加され
てなるものとして出力する。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the reading means outputs each of the two encoded information blocks as information bits to which redundant bits are added.

【0070】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記多値メモリセルは、8個の相異なる所定
の記憶状態のうちの1つを保持することが可能なもので
あり、前記分割記憶手段は、前記符号値を、桁数の等し
い3つの符号化情報ブロックに分割し、前記各符号化情
報ブロックの同じ桁の3つの符号化情報を1組として前
記多値メモリセルに記憶させる。
In one embodiment of the multi-valued semiconductor memory device of the present invention, the multi-valued memory cell can hold one of eight different predetermined storage states, The division storage unit divides the code value into three coded information blocks having the same number of digits, and sets the three coded information of the same digit of each coded information block as one set in the multi-valued memory cell. Remember.

【0071】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記読み出し手段は、3つの前記各符号化情
報ブロックの各々が情報ビットに冗長ビットが付加され
てなるものとして出力する。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the reading means outputs each of the three coded information blocks as information bits to which redundant bits are added.

【0072】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記読み出し手段は、1つの前記各符号化情
報ブロックと2つの前記各符号化情報ブロックが結合さ
れてなる情報ブロックの各々が情報ビットに冗長ビット
が付加されてなるものとして出力する。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the read means includes an information block formed by combining one encoded information block and two encoded information blocks. The information bits are output as redundant bits added to the information bits.

【0073】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記多値メモリセルは、16個の相異なる所
定の記憶状態のうちの1つを保持することが可能なもの
であり、前記分割記憶手段は、前記符号値を、桁数の等
しい4つの符号化情報ブロックに分割し、前記各符号化
情報ブロックの同じ桁の4つの符号化情報を1組として
前記多値メモリセルに記憶させる。
In one embodiment of the multi-valued semiconductor memory device of the present invention, the multi-valued memory cell is capable of holding one of 16 different predetermined storage states, The division storage unit divides the code value into four coded information blocks having the same number of digits, and sets the four coded information of the same digit of each coded information block as one set in the multi-valued memory cell. Remember.

【0074】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記読み出し手段は、4つの前記各符号化情
報ブロックの各々が情報ビットに冗長ビットが付加され
てなるものとして出力する。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the reading means outputs each of the four encoded information blocks as information bits to which redundant bits are added.

【0075】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記読み出し手段は、それぞれ2つの前記各
符号化情報ブ ロックが結合されてなる各情報ブロック
の各々が情報ビットに冗長ビットが付加されてなるもの
として出力する。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, each of the information blocks, each of which is obtained by combining two of the encoded information blocks, has a redundant bit as an information bit. Output as added.

【0076】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記多値メモリセルが、制御ゲートと浮遊ゲ
ートとを有する。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the multilevel memory cell has a control gate and a floating gate.

【0077】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記多値メモリセルが、MNOS、マスクR
OM、EEPROM、EPROM、PROM、フラッシ
ュ不揮発性メモリのうちの少なくとも1つである。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the multi-level memory cell includes an MNOS, a mask R
It is at least one of OM, EEPROM, EPROM, PROM, and flash nonvolatile memory.

【0078】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記冗長ビットは、前記2つの符号化情報ブ
ロックを基に前記2つの符号化情報ブロックの各々に対
応して生成され、前記各符号化情報ブロックの前記情報
ビットと対応する前記冗長ビットとの合計が前記符号化
列のビット数となるような冗長ビットである。
In one embodiment of the multi-level semiconductor memory device according to the present invention, the redundant bits are generated based on the two encoded information blocks in correspondence with each of the two encoded information blocks. The number of redundant bits is such that the sum of the information bits of each coded information block and the corresponding redundant bits is the number of bits of the coded sequence.

【0079】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記冗長ビットは、前記3つの符号化情報ブ
ロックを基に前記3つの符号化情報ブロックの各々に対
応して生成され、前記各符号化情報ブロックの前記情報
ビットと対応する前記冗長ビットの合計が前記符号化列
のビット数となるような冗長ビットである。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the redundant bits are generated based on the three encoded information blocks in correspondence with each of the three encoded information blocks. The number of redundant bits corresponding to the information bits of each coded information block is the number of bits of the coded sequence.

【0080】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記冗長ビットは、前記3つの符号化情報ブ
ロックを基にハミング符号化により前記3つの符号化情
報ブロックの各々に対応して第1の冗長ビットが生成さ
れ、前記3つの符号化情報ブロックの各々に対応する前
記第1の冗長ビットを付加して符号列が生成され、前記
各符号列に含まれるビット全ての排他論理和を算出して
前記各符号列に対応して第2の冗長ビットが生成され、
前記各符号列のビットと対応する前記第2の冗長ビット
との合計が前記符号列のビット数となるような冗長ビッ
トである。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the redundant bits correspond to each of the three encoded information blocks by Hamming encoding based on the three encoded information blocks. A first redundant bit is generated, a code string is generated by adding the first redundant bit corresponding to each of the three encoded information blocks, and an exclusive OR of all bits included in each code string is generated. And a second redundant bit is generated corresponding to each of the code strings,
The redundant bits are such that the sum of the bits of each code string and the corresponding second redundant bits is the number of bits of the code string.

【0081】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記冗長ビットは、前記3つの符号化情報ブ
ロックを基に、前記1つの符号化情報ブロックと前記2
つの符号化情報ブロックとが結合してなる情報ブロック
の各々に対応して生成され、前記1つの符号化情報ブロ
ックの情報ビットと対応する冗長ビットの合計と、前記
2つの符号化情報ブロックが結合されてなる情報ブロッ
クが分割されたときに前記分割された各ブロックの各々
の情報ビットと前記対応する冗長ビットの合計とが前記
符号化列のビット数となるような冗長ビットである。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the redundant bits are based on the three encoded information blocks and the one encoded information block and the two encoded information blocks.
The sum of the information bits of the one encoded information block and the corresponding redundant bits is generated corresponding to each of the information blocks obtained by combining the two encoded information blocks, and the two encoded information blocks are combined. When the resulting information block is divided, each of the information bits of each of the divided blocks and the sum of the corresponding redundant bits are redundant bits that are the number of bits of the coded sequence.

【0082】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記冗長ビットは、前記4つの符号化情報ブ
ロックを基に前記4つの符号化情報ブロックの各々に対
応して生成され、前記各符号化情報ブロックの前記情報
ビットと対応する前記冗長ビットの合計が前記符号化列
のビット数となるような冗長ビットである。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the redundant bits are generated on the basis of the four encoded information blocks in correspondence with each of the four encoded information blocks. The number of redundant bits corresponding to the information bits of each coded information block is the number of bits of the coded sequence.

【0083】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記冗長ビットは、前記4つの符号化情報ブ
ロックを基にハミング符号化により前記4つの符号化情
報ブロックの各々に対応して第1の冗長ビットが生成さ
れ、前記4つの符号化情報ブロックの各々に対応する前
記第1の冗長ビットを付加して符号列が生成され、前記
各符号列に含まれるビット全ての排他論理和を算出して
前記各符号列に対応して第2の冗長ビットが生成され、
前記各符号列のビットと対応する前記第2の冗長ビット
との合計が前記符号列のビット数となるような冗長ビッ
トである。
In one embodiment of the multilevel semiconductor memory device according to the present invention, the redundant bits correspond to each of the four coded information blocks by Hamming coding based on the four coded information blocks. A first redundant bit is generated, a code string is generated by adding the first redundant bit corresponding to each of the four encoded information blocks, and exclusive OR of all bits included in each code string is generated. And a second redundant bit is generated corresponding to each of the code strings,
The redundant bits are such that the sum of the bits of each code string and the corresponding second redundant bits is the number of bits of the code string.

【0084】本発明の多値半導体記憶装置の一態様例に
おいては、前記冗長ビットは、前記4つの符号化情報ブ
ロックを基に前記2つの符号化情報ブロックが結合して
なる情報ブロックの各々に対応して生成され、前記2つ
の符号化情報ブロックが結合されてなる情報ブロックの
各々が2つに分割されたときに前記分割された各ブロッ
クの各々の情報ビットと対応する冗長ビットの合計が前
記符号化列のビット数となるような冗長ビットである。
In one embodiment of the multi-valued semiconductor memory device according to the present invention, the redundant bit is provided in each of the information blocks obtained by combining the two encoded information blocks based on the four encoded information blocks. When each of the information blocks generated correspondingly and obtained by combining the two encoded information blocks is divided into two, the sum of the information bits and the corresponding redundant bits of each of the divided blocks is It is a redundant bit that is the number of bits in the coded sequence.

【0085】[0085]

【作用】本発明の多値半導体記憶装置においては、1つ
のメモリセルに記憶されている多値情報に誤りが生じて
も、1つの符号に関しては誤り訂正が可能な最小ビット
数の情報が失われるだけなので、誤り訂正を効率よく行
うことが可能となる。
In the multi-level semiconductor memory device of the present invention, even if an error occurs in the multi-level information stored in one memory cell, the information of the minimum number of bits that can be corrected for one code is lost. Error correction can be performed efficiently.

【0086】また、本発明の他の特徴によれば、論理ア
ドレスをアクセス速度の速いアドレス空間とアクセス速
度の比較的遅いアドレス空間とに階層化し、論理アドレ
スのうち、物理アドレスが張るアドレス空間と1対1対
応する部分空間をアクセス速度の速いアドレス空間とす
る。そして、多値メモリセルの記憶状態の特定の成分、
例えば最上位ビットにアクセス速度の速いアドレス空間
のデータを格納する。この特定成分のデータは1つの判
定値により判定される。
According to another feature of the present invention, logical addresses are hierarchized into an address space having a high access speed and an address space having a relatively low access speed, and the logical address has an address space to which a physical address extends. A one-to-one corresponding partial space is defined as an address space having a high access speed. And a specific component of the storage state of the multi-level memory cell,
For example, data in an address space with a high access speed is stored in the most significant bit. The data of the specific component is determined by one determination value.

【0087】入力された論理アドレスが前記部分空間に
含まれるものである場合には、この論理アドレスは前記
特定成分のデータを指定しており、判定値による1回の
判定により即座に特定成分のデータが分かり、出力され
ることになる。従って、この特定成分にアクセス頻度の
最も高いデータを格納し、他の成分に比較的アクセス頻
度の低いデータを格納することにより、極めて効率良く
半導体記憶装置の読みだしを行うことが可能となる。
When the input logical address is included in the partial space, the logical address specifies the data of the specific component, and the specific component is immediately determined by one determination based on the determination value. The data will be understood and output. Therefore, by storing the data with the highest access frequency in this specific component and storing the data with a relatively low access frequency in the other components, it is possible to read the semiconductor memory device extremely efficiently.

【0088】[0088]

【0089】[0089]

【発明の実施の形態】以下、本発明の多値半導体記憶装
置及びその書き込み方法と読み出し方法並びに記憶媒体
の一実施形態を図面を参照して説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a multi-value semiconductor memory device according to the present invention;

【0090】本実施形態の多値記憶EEPROMの主要
構成を図1に示す。図1において、メモリセルアレイ1
は、複数のメモリセルがマトリックス状に配置されたも
のである。メモリセルアレイ1を構成する各メモリセル
は、図2に示すように、浮遊ゲート型のメモリセルであ
り、p型シリコン基板11の表面領域にn型不純物拡散
層からなるドレイン12及びソース13がそれぞれ形成
され、それらの間がチャネル領域14となっている。
FIG. 1 shows the main configuration of the multi-value storage EEPROM of this embodiment. In FIG. 1, a memory cell array 1
Has a plurality of memory cells arranged in a matrix. As shown in FIG. 2, each memory cell constituting the memory cell array 1 is a floating gate type memory cell, and a drain 12 and a source 13 each composed of an n-type impurity diffusion layer are formed on a surface region of a p-type silicon substrate 11 respectively. A channel region 14 is formed between them.

【0091】また、ドレイン12にはビット線15が接
続され、ソース13にはソース線16が接続されてい
る。そして、チャネル領域14の上に、厚さ10nm程
度のSiO2 膜からなるトンネル絶縁膜20が形成さ
れ、その上に低抵抗ポリシリコンからなる浮遊ゲート1
7、層間絶縁膜18及び低抵抗ポリシリコンからなる制
御ゲート(ワード線)19が順次形成されている。
The bit line 15 is connected to the drain 12, and the source line 16 is connected to the source 13. Then, a tunnel insulating film 20 made of a SiO 2 film having a thickness of about 10 nm is formed on the channel region 14, and a floating gate 1 made of low-resistance polysilicon is formed thereon.
7, an interlayer insulating film 18 and a control gate (word line) 19 made of low-resistance polysilicon are sequentially formed.

【0092】ワード線19はメモリセルアレイ1の列方
向に並んでデコーダ2にそれぞれ接続され、一方、ビッ
ト線15は行方向に並んでマルチプレクサ4にそれぞれ
接続されている。ソース線16は接地されている。
The word lines 19 are connected to the decoder 2 side by side in the column direction of the memory cell array 1, while the bit lines 15 are connected to the multiplexer 4 side by side in the row direction. The source line 16 is grounded.

【0093】このように構成された本実施形態の多値記
憶EEPROMにデータを書き込む場合には、動作モー
ドをプログラムモードに設定する。そして、入出力イン
タフェースI/F8を介して書き込み情報をするととも
に、入力インタフェースI/F7を介してアドレスを入
力する。なお、入力されるアドレスは論理アドレスなの
で、変換回路9により物理アドレスに変換する。
When writing data to the multi-value storage EEPROM of the present embodiment configured as described above, the operation mode is set to the program mode. Then, write information is input via the input / output interface I / F8, and an address is input via the input interface I / F7. Since the input address is a logical address, the address is converted by the conversion circuit 9 into a physical address.

【0094】入出力インタフェースI/F8を介して入
力された情報は信号制御回路6に与えられ、ここに設け
られている情報ビット分散手段6aにより、後で詳細に
説明するように、情報ビットの並べ替えが行われる。
The information input via the input / output interface I / F 8 is supplied to the signal control circuit 6, and the information bit dispersing means 6a provided here, as will be described later in detail, converts the information bits. Sorting is performed.

【0095】そして、情報ビットの並べ替えが行われた
入力情報は、次に、電圧発生及び電圧制御回路3に与え
られ、情報ビットに応じた電圧が発生される。そして、
この発生された電圧がデコーダ2を介してメモリセルア
レイ1に加えられ、各メモリセルに所定のしきい値電圧
が設定される。
The input information on which the information bits have been rearranged is then supplied to a voltage generation and voltage control circuit 3, where a voltage corresponding to the information bits is generated. And
The generated voltage is applied to memory cell array 1 via decoder 2, and a predetermined threshold voltage is set for each memory cell.

【0096】(書き込み方法の第1の実施形態)以下、
図3を参照しながら本発明の書き込み方法の第1の実施
形態を具体的に説明する。
(First Embodiment of Writing Method)
The first embodiment of the writing method of the present invention will be specifically described with reference to FIG.

【0097】本実施形態で対象としている多値記憶EE
PROMは、各メモリセルのしきい値電圧が、記憶する
2ビットの情報(00、01、10、11)に対応し
て、4値(0、2、4、6V)に設定されている4値メ
モリであり、バースト誤り訂正符号として、符号長n、
バースト誤り訂正能力Lの符号Cをm回交錯する交錯法
を用いている。
The multi-valued memory EE targeted in this embodiment
In the PROM, the threshold voltage of each memory cell is set to four values (0, 2, 4, 6 V) corresponding to the stored 2-bit information (00, 01, 10, 11). A value memory, and a code length n,
A crossover method is used in which the code C of the burst error correction capability L is crossed m times.

【0098】本装置による書き換えにおいては、まず、
記憶内容8ビットの入力を受ける毎に、これを4×2ビ
ットの情報ビット(m11,m21,m31,m41)
(m12,m22,m32,m42)に分割し、この情
報ビットから3×2ビットの検査用の冗長ビット(p1
1,p21,p31)(p12,p22,p32)を生
成する。
In rewriting by this device, first,
Each time 8 bits of storage contents are received, this is converted into 4 × 2 information bits (m11, m21, m31, m41)
(M12, m22, m32, m42), and 3 × 2 redundant check bits (p1
1, p21, p31) (p12, p22, p32).

【0099】そして、これらの情報ビット(m11,m
21,m31,m41)(m12,m22,m32,m
42)及び冗長ビット(p11,p21,p31)(p
12,p22,p32)から2個の符号語(m11,m
21,m31,m41,p11,p21,p31)と、
(m12,m22,m32,m42,p12,p22,
p32)とを生成する。
Then, these information bits (m11, m
21, m31, m41) (m12, m22, m32, m
42) and redundant bits (p11, p21, p31) (p
12, p22, p32) and two codewords (m11, m
21, m31, m41, p11, p21, p31),
(M12, m22, m32, m42, p12, p22,
p32).

【0100】このようにして生成した2個の符号語を情
報ビット分散手段6aに与え、図3に示すように、2×
7配列の各行に交錯させて並べる。そして、7個のメモ
リセルのそれぞれに、m11とm12、m21とm2
2、m31とm32、m41とm42、p11とp1
2、p21とp22、p31とp32の組み合わせで順
次記憶する。
The two codewords generated in this way are given to the information bit dispersing means 6a, and as shown in FIG.
Arrange them in each row of the 7 arrays. Then, m11 and m12, m21 and m2 are respectively stored in the seven memory cells.
2, m31 and m32, m41 and m42, p11 and p1
2, sequentially stored in combination of p21 and p22 and p31 and p32.

【0101】即ち、図3において、メモリセル1の上位
ビットがm11、下位ビットがm12となり、同様にメ
モリセル2にm21とm22、メモリセル3にm31と
m32、メモリセル4にm41とm42、メモリセル5
にp11とp12、メモリセル6にp21とp22、メ
モリセル7にp31とp32が収められる。
That is, in FIG. 3, the upper bit of the memory cell 1 is m11 and the lower bit is m12. Similarly, the memory cell 2 is m21 and m22, the memory cell 3 is m31 and m32, the memory cell 4 is m41 and m42, Memory cell 5
P11 and p12, memory cell 6 contains p21 and p22, and memory cell 7 contains p31 and p32.

【0102】それぞれの符号語は、後で詳細に説明する
ように、1個の誤りが生じても訂正が可能であり、図3
のように、3番目のメモリセルのしきい値電圧が変化し
て、長さ2のバースト誤りが生じても、各符号語に対し
ては1個の誤りになるので訂正が可能である。すなわ
ち、7個のメモリセルのうち、1個のメモリセルのしき
い値電圧が変化し、例えば“01”の記憶内容が“1
0”に変化するバースト誤りが発生しても、訂正が可能
である。
As will be described later in detail, each code word can be corrected even if one error occurs.
As described above, even if the threshold voltage of the third memory cell changes and a burst error of length 2 occurs, only one error is generated for each code word, so that correction is possible. That is, the threshold voltage of one of the seven memory cells changes, and for example, the storage content of “01” is “1”.
Even if a burst error that changes to "0" occurs, it can be corrected.

【0103】(書き込み方法の第2の実施形態)以下、
本発明の書き込み方法の第2の実施形態を説明する。
(Second Embodiment of Writing Method)
A second embodiment of the writing method according to the present invention will be described.

【0104】本実施形態の書き込み方法で対象とする装
置は、各メモリセルのしきい値電圧が、記憶する3ビッ
トの情報(000、001、010、011、100、
101、110、111)に対応して、8値(0、1、
2、3、4、5、6、7V)に設定される8値メモリで
ある。
In the device targeted by the writing method of the present embodiment, the threshold voltage of each memory cell is such that the stored 3-bit information (000, 001, 010, 011, 100,
101, 110, 111), eight values (0, 1,
2, 3, 4, 5, 6, 7V).

【0105】本装置による書き換えにおいては、まず、
記憶内容12ビットの入力を受ける毎に、これを4×3
ビットの情報ビット(m11,m21,m31,m4
1)(m12,m22,m32,m42)(m13,m
23,m33,m43)に分割し、この情報ビットから
3×3ビットの冗長ビット(p11,p21,p31)
(p12,p22,p32)(p13,p23,p3
3)を得る。
In rewriting by this device, first,
Each time 12 bits of storage contents are received, this is 4 × 3
Bit information bits (m11, m21, m31, m4
1) (m12, m22, m32, m42) (m13, m
23, m33, m43), and 3 × 3 redundant bits (p11, p21, p31) are obtained from the information bits.
(P12, p22, p32) (p13, p23, p3
Obtain 3).

【0106】そして、3個の符号語(m11,m21,
m31,m41,p11,p21,p31)(m12,
m22,m32,m42,p12,p22,p32)
(m13,m23,m33,m43,p13,p23,
p33)を、3×7配列の各行に並べ、図4に示すよう
に、7個のメモリセルにそれぞれ、m11とm12とm
13、m21とm22とm23、m31とm32とm3
3、m41とm42とm43、p11とp12とp1
3、p21とp22とp23、p31とp32とp33
を記憶する。
Then, the three code words (m11, m21,
m31, m41, p11, p21, p31) (m12,
m22, m32, m42, p12, p22, p32)
(M13, m23, m33, m43, p13, p23,
p33) are arranged in each row of a 3 × 7 array, and as shown in FIG. 4, m11, m12, and m are stored in seven memory cells, respectively.
13, m21, m22, and m23, m31, m32, and m3
3, m41, m42 and m43, p11, p12 and p1
3, p21, p22 and p23, p31, p32 and p33
Is stored.

【0107】即ち、図4において、メモリセル1の上位
ビットがm11、下位ビットがm12となり、同様にメ
モリセル2にm21とm22、メモリセル3にm31と
m32、メモリセル4にm41とm42、メモリセル5
にm51とm52、メモリセル6にm61とm62、メ
モリセル7にm71とm72が収められる。
That is, in FIG. 4, the upper bit of the memory cell 1 is m11 and the lower bit is m12. Similarly, the memory cell 2 is m21 and m22, the memory cell 3 is m31 and m32, the memory cell 4 is m41 and m42, Memory cell 5
M51 and m52, m61 and m62 in the memory cell 6, and m71 and m72 in the memory cell 7.

【0108】それぞれの符号語は1個の誤りが生じても
訂正が可能であり、したがって、図4に示すように、例
えば3番目のメモリセルに長さ3のバースト誤りが生じ
ても、各符号語に対しては1個の誤りになるので訂正が
可能である。すなわち、7個のメモリセルのうち、1個
のメモリセルのしきい値電圧が変化して、例えば“10
0”の記憶内容が“011”に変化するバースト誤りが
発生しても、訂正が可能である。
Each code word can be corrected even if one error occurs. Therefore, as shown in FIG. 4, even if a burst error of length 3 occurs in the third memory cell, each code word can be corrected. Since one error is caused for the code word, it can be corrected. That is, of the seven memory cells, the threshold voltage of one memory cell changes to, for example, "10
Even if a burst error in which the storage content of "0" changes to "011" occurs, it can be corrected.

【0109】続いて、書き込み方法の第2の実施形態の
いくつかの変形例を説明する。
Next, several modifications of the second embodiment of the writing method will be described.

【0110】−変形例1− 本実施形態の書き込み方法で対象とする装置は、各メモ
リセルのしきい値電圧が、記憶する3ビットの情報(0
00、001、010、011、100、101、11
0、111)に対応して、8値(0、1、2、3、4、
5、6、7V)に設定される8値メモリである。この変
形例1においては、符号語を構成する各ビットのうち、
2個の誤りまでは誤り訂正が可能な所定の線型符号化規
則に従った場合について例示する。
-Variation 1- In a device targeted by the writing method of this embodiment, the threshold voltage of each memory cell is such that the 3-bit information (0
00, 001, 010, 011, 100, 101, 11
8 values (0, 1, 2, 3, 4,
5, 6 and 7 V). In the first modification, of the bits forming the codeword,
An example will be described in which up to two errors follow a predetermined linear coding rule that allows error correction.

【0111】本装置による書き換えにおいては、まず、
記憶内容が所定ビット、例えばkビットの入力を受ける
毎に、これを3つの(k/3)ビットの各情報ビットに
分割する。そして、各情報ビットから冗長ビットを得
て、14ビットの符号語(m11,m21,m31,m
41,m51,m61,m71,m12,m22,m3
2,m42,m52,m62,m72)と、7ビットの
符号語(m13,m23,m33,m43,m53,m
63,m73)を作成する。即ち、この14ビット及び
7ビットの各符号語のうち、それぞれ所定数のビットが
情報ビットであり、残りが誤り訂正用の冗長ビットであ
る。
In rewriting by this device, first,
Each time the storage content receives a predetermined bit, for example, k bits, it is divided into three (k / 3) information bits. Then, a redundant bit is obtained from each information bit, and a 14-bit code word (m11, m21, m31, m
41, m51, m61, m71, m12, m22, m3
2, m42, m52, m62, m72) and a 7-bit codeword (m13, m23, m33, m43, m53, m
63, m73). That is, in each of the 14-bit and 7-bit code words, a predetermined number of bits are information bits, and the rest are redundant bits for error correction.

【0112】次に、14ビットの符号語(m11,m2
1,m31,m41,m51,m61,m71,m1
2,m22,m32,m42,m52,m62,m7
2)を7ビットずつの符号列(m11,m21,m3
1,m41,m51,m61,m71)(m12,m2
2,m32,m42,m52,m62,m72)に分割
する。そして、符号列a(m11,m21,m31,m
41,m51,m61,m71)及び符号列b(m1
2,m22,m32,m42,m52,m62,m7
2)と1個の符号語c(m13,m23,m33,m4
3,m53,m63,m73)とを、3×7配列の各行
に並べ、図5に示すように、7個のメモリセルにそれぞ
れ、m11とm12とm13、m21とm22とm2
3、m31とm32とm33、m41とm42とm4
3、m51とm52とm53、m61とm62とm6
3、m71とm72とm73を記憶する。
Next, a 14-bit code word (m11, m2
1, m31, m41, m51, m61, m71, m1
2, m22, m32, m42, m52, m62, m7
2) is converted into a 7-bit code string (m11, m21, m3).
1, m41, m51, m61, m71) (m12, m2
2, m32, m42, m52, m62, m72). Then, the code string a (m11, m21, m31, m
41, m51, m61, m71) and the code string b (m1
2, m22, m32, m42, m52, m62, m7
2) and one codeword c (m13, m23, m33, m4
3, m53, m63, m73) are arranged in each row of the 3 × 7 array, and as shown in FIG. 5, seven memory cells are respectively m11, m12, and m13, m21, m22, and m2.
3, m31, m32, and m33, m41, m42, and m4
3, m51, m52 and m53, m61, m62 and m6
3. Store m71, m72 and m73.

【0113】即ち、図5(a)において、メモリセル1
の上位ビットがm11、中位ビットがm12、下位ビッ
トがm13となり、同様にメモリセル2にm21とm2
2とm23、メモリセル3にm31とm32とm33、
メモリセル4にm41とm42とm43、メモリセル5
にm51とm52とm53、メモリセル6にm61とm
62とm63、メモリセル7にm71とm72とm73
が収められる。
That is, in FIG. 5A, the memory cell 1
The upper bit is m11, the middle bit is m12, and the lower bit is m13. Similarly, m21 and m2 are stored in the memory cell 2.
2 and m23, and m31, m32 and m33 in the memory cell 3,
M41, m42 and m43 in memory cell 4, memory cell 5
M51, m52 and m53 in the memory cell 6 and m61 and m in the memory cell 6.
62 and m63, and m71, m72 and m73 in the memory cell 7
Is stored.

【0114】符号列a,b及び符号語cは1個の誤りが
生じても訂正が可能であり、したがって、図5(a)に
示すように、例えば3番目のメモリセルに長さ3のバー
スト誤りが生じても、各符号語a,b及び符号列cに対
してはそれぞれ1個の誤りとなり、このとき符号列a,
bから構成される符号語に対しては2個の誤りとなるの
で訂正が可能である。すなわち、7個のメモリセルのう
ち、1個のメモリセルのしきい値電圧が変化して、例え
ば“100”の記憶内容が“011”に変化するバース
ト誤りが発生しても、訂正が可能である。
The code strings a and b and the code word c can be corrected even if one error occurs, and therefore, for example, as shown in FIG. Even if a burst error occurs, one error is generated for each of the codewords a and b and the code sequence c.
Since the code word composed of b has two errors, it can be corrected. In other words, even if the threshold voltage of one of the seven memory cells changes and a burst error occurs in which the storage content of “100” changes to “011”, correction is possible. It is.

【0115】−変形例2− 本実施形態の書き込み方法で対象とする装置は、各メモ
リセルのしきい値電圧が、記憶する3ビットの情報(0
00、001、010、011、100、101、11
0、111)に対応して、8値(0、1、2、3、4、
5、6、7V)に設定される8値メモリである。この変
形例2においては、符号語を構成する各ビットのうち、
1個の誤りまでは誤り訂正が可能であり、2個の誤りま
では誤り検出が可能な符号化規則に従った場合について
例示する。
-Variation 2- In the device targeted by the writing method of this embodiment, the threshold voltage of each memory cell is such that the 3-bit information (0
00, 001, 010, 011, 100, 101, 11
8 values (0, 1, 2, 3, 4,
5, 6 and 7 V). In the second modification, of the bits forming the codeword,
An example in which an error correction is possible for up to one error and an encoding rule that allows error detection for up to two errors will be described.

【0116】本装置による書き換えにおいては、まず、
記憶内容12ビットの入力を受ける毎に、これを4×3
ビットの情報ビット(m11,m21,m31,m4
1)(m12,m22,m32,m42)(m13,m
23,m33,m43)に分割し、ハミング符号化によ
りこの情報ビットから3×3ビットの冗長ビット(p1
1,p21,p31)(p12,p22,p32)(p
13,p23,p33)を得る。
In rewriting by this device, first,
Each time 12 bits of storage contents are received, this is 4 × 3
Bit information bits (m11, m21, m31, m4
1) (m12, m22, m32, m42) (m13, m
23, m33, m43), and 3 × 3 redundant bits (p1) from the information bits by Hamming coding.
1, p21, p31) (p12, p22, p32) (p
13, p23, p33).

【0117】続いて、3個の符号列(m11,m21,
m31,m41,p11,p21,p31)(m12,
m22,m32,m42,p12,p22,p32)
(m13,m23,m33,m43,p13,p23,
p33)のそれぞれについて、各7ビット全てのEX−
ORを算出し、その結果として得られた各冗長ビットq
1,q2,q3を各符号列に付加して、3個の符号語
(m11,m21,m31,m41,p11,p21,
p31,q1)(m12,m22,m32,m42,p
12,p22,p32,q2)(m13,m23,m3
3,m43,p13,p23,p33,q3)を作成す
る。
Subsequently, three code strings (m11, m21,
m31, m41, p11, p21, p31) (m12,
m22, m32, m42, p12, p22, p32)
(M13, m23, m33, m43, p13, p23,
p33), the EX-
OR, and the resulting redundant bits q
1, q2, and q3 are added to each code string, and three code words (m11, m21, m31, m41, p11, p21,
p31, q1) (m12, m22, m32, m42, p
12, p22, p32, q2) (m13, m23, m3
3, m43, p13, p23, p33, q3).

【0118】そして、これら3個の符号語を3×8配列
の各行に並べ、図5(b)に示すように、8個のメモリ
セルにそれぞれ、m11とm12とm13、m21とm
22とm23、m31とm32とm33、m41とm4
2とm43、p11とp12とp13、p21とp22
とp23、p31とp32とp33、q1とq2とq3
を記憶する。
Then, these three codewords are arranged in each row of a 3 × 8 array, and as shown in FIG. 5B, m11, m12 and m13, m21 and m13 are stored in eight memory cells, respectively.
22 and m23, m31 and m32 and m33, m41 and m4
2 and m43, p11 and p12 and p13, p21 and p22
And p23, p31 and p32 and p33, q1 and q2 and q3
Is stored.

【0119】即ち、図5(b)において、メモリセル1
の上位ビットがm11、中位ビットがm12、下位ビッ
トがm13となり、同様にメモリセル2にm21とm2
2とm23、メモリセル3にm31とm32とm33、
メモリセル4にm41とm42とm43、メモリセル5
にp11とp12とp13、メモリセル6にp21とp
22とp23、メモリセル7にp31とp32とp3
3、メモリセル8にq1とq2とq3が収められる。
That is, in FIG. 5B, the memory cell 1
The upper bit is m11, the middle bit is m12, and the lower bit is m13. Similarly, m21 and m2 are stored in the memory cell 2.
2 and m23, and m31, m32 and m33 in the memory cell 3,
M41, m42 and m43 in memory cell 4, memory cell 5
P11, p12 and p13, and p21 and p in the memory cell 6.
22 and p23, and p31, p32 and p3 in the memory cell 7
3. q1, q2, and q3 are stored in the memory cell 8.

【0120】それぞれの符号語は1個の誤りが生じても
訂正が可能であり、したがって、図5(b)に示すよう
に、例えば3番目のメモリセルに長さ3のバースト誤り
が生じても、各符号語に対しては1個の誤りになるので
訂正が可能である。すなわち、8個のメモリセルのう
ち、1個のメモリセルのしきい値電圧が変化して、例え
ば“100”の記憶内容が“011”に変化するバース
ト誤りが発生しても、訂正が可能である。更に、極めて
稀なことであるとは思われるが、例えばもう1つのメモ
リセルに長さ1〜3のバースト誤りが生じた場合、少な
くとも1つ符号語に対しては2個の誤りとなるが、この
とき当該2個の誤りを検出することができ、そのうち1
つについては訂正が可能である。
Each code word can be corrected even if one error occurs. Therefore, as shown in FIG. 5B, for example, a burst error of length 3 occurs in the third memory cell. Can be corrected because each codeword has one error. That is, even if the threshold voltage of one of the eight memory cells changes and a burst error occurs in which the storage content of “100” changes to “011”, correction is possible. It is. Further, although it seems to be extremely rare, for example, if another memory cell has a burst error of length 1-3, at least one codeword will have two errors. At this time, the two errors can be detected.
One can be corrected.

【0121】(書き込み方法の第3の実施形態)以下、
本発明の書き込み方法の第3の実施形態を説明する。
(Third Embodiment of Writing Method)
A third embodiment of the writing method according to the present invention will be described.

【0122】本実施形態の書き込み方法で対象とする装
置は、各メモリセルのしきい値電圧が、記憶する4ビッ
トの情報(0000、0001、0010、0011、
0100、0101、0110、0111、1000、
1001、1010、1011、1100、1101、
1110、1111)に対応して、16値、例えば
(0、1、1.25、1.5、1.75、2、2.2
5、2.5、2.75、3、3.25、3.5、3.7
5、4、4.25、4.5V)に設定される16値メモ
リである。
In the device targeted by the writing method of this embodiment, the threshold voltage of each memory cell is such that 4-bit information (0000, 0001, 0010, 0011,
0100, 0101, 0110, 0111, 1000,
1001, 1010, 1011, 1100, 1101,
1110, corresponding to 16 values, for example, (0, 1, 1.25, 1.5, 1.75, 2, 2.2)
5, 2.5, 2.75, 3, 3.25, 3.5, 3.7
5, 4, 4.25, 4.5 V).

【0123】本装置による書き換えにおいては、まず、
記憶内容16ビットの入力を受ける毎に、これを4×4
ビットの情報ビット(m11,m21,m31,m4
1)(m12,m22,m32,m42)(m13,m
23,m33,m43)(m14,m24,m34,m
44)に分割し、この情報ビットから3×4ビットの冗
長ビット(p11,p21,p31)(p12,p2
2,p32)(p13,p23,p33)(p14,p
24,p34)を得る。
In rewriting by this device, first,
Each time 16 bits of storage contents are received, this is 4 × 4
Bit information bits (m11, m21, m31, m4
1) (m12, m22, m32, m42) (m13, m
23, m33, m43) (m14, m24, m34, m
44), and 3 × 4 redundant bits (p11, p21, p31) (p12, p2)
2, p32) (p13, p23, p33) (p14, p
24, p34).

【0124】そして、4個の符号語(m11,m21,
m31,m41,p11,p21,p31)(m12,
m22,m32,m42,p12,p22,p32)
(m13,m23,m33,m43,p13,p23,
p33)(m14,m24,m34,m44,p14,
p24,p34)を、4×7配列の各行に並べ、図6に
示すように、7個のメモリセルにそれぞれ、m11とm
12とm13とm14、m21とm22とm23とm2
4、m31とm32とm33とm34、m41とm42
とm43とm44、p11とp12とp13とp14、
p21とp22とp23とp24、p31とp32とp
33とp34を記憶する。
Then, the four codewords (m11, m21,
m31, m41, p11, p21, p31) (m12,
m22, m32, m42, p12, p22, p32)
(M13, m23, m33, m43, p13, p23,
p33) (m14, m24, m34, m44, p14,
p24, p34) are arranged in each row of the 4 × 7 array, and as shown in FIG.
12, m13 and m14, m21, m22, m23 and m2
4, m31, m32, m33 and m34, m41 and m42
And m43 and m44, p11 and p12, p13 and p14,
p21, p22, p23 and p24, p31, p32 and p
33 and p34 are stored.

【0125】即ち、図6において、メモリセル1の1位
ビットがm11、2位ビットがm12、3位ビットがm
13、4位ビットがm14となり、同様にメモリセル2
にm21とm22とm23とm24、メモリセル3にm
31とm32とm33とm34、メモリセル4にm41
とm42とm43とm44、メモリセル5にp11とp
12とp13とp14、メモリセル6にp21とp22
とp23とp24、メモリセル7にp31とp32とp
33とp34が収められる。
That is, in FIG. 6, the first bit of the memory cell 1 is m11, the second bit is m12, and the third bit is m11.
The 13th and 4th bits become m14. Similarly, the memory cell 2
M21, m22, m23, and m24, and m in the memory cell 3.
31 and m32, m33 and m34, and m41 in the memory cell 4
, M42, m43, and m44, and p11 and p in the memory cell 5.
12, p13 and p14, and p21 and p22 in the memory cell 6.
And p23 and p24, and p31, p32 and p in the memory cell 7.
33 and p34 are stored.

【0126】各符号列はそれぞれ1個の誤りが生じても
訂正が可能であり、したがって、図6に示すように、例
えば3番目のメモリセルに長さ4のバースト誤りが生じ
ても、各符号列に対しては1個の誤りになるので訂正が
可能である。すなわち、7個のメモリセルのうち、1個
のメモリセルのしきい値電圧が変化して、例えば“10
00”の記憶内容が“0111”に変化するバースト誤
りが発生しても、訂正が可能である。
Each code string can be corrected even if one error occurs. Therefore, as shown in FIG. 6, even if a burst error of length 4 occurs in the third memory cell, for example, Since a single error occurs in the code string, it can be corrected. That is, of the seven memory cells, the threshold voltage of one memory cell changes to, for example, "10
Even if a burst error in which the stored content of "00" changes to "0111" occurs, it can be corrected.

【0127】続いて、書き込み方法の第3の実施形態の
いくつかの変形例を説明する。
Next, some modifications of the third embodiment of the writing method will be described.

【0128】−変形例1− 本実施形態の書き込み方法で対象とする装置は、各メモ
リセルのしきい値電圧が、記憶する4ビットの情報(0
000、0001、0010、0011、0100、0
101、0110、0111、1000、1001、1
010、1011、1100、1101、1110、1
111)に対応して、16値、例えば(0、1、1.2
5、1.5、1.75、2、2.25、2.5、2.7
5、3、3.25、3.5、3.75、4、4.25、
4.5V)に設定される16値メモリである。この変形
例においては、符号語を構成する各ビットのうち、2個
の誤りまでは誤り訂正が可能な所定の線型符号化規則に
従った場合について例示する。
-Modification 1- In the device targeted by the writing method of the present embodiment, the threshold voltage of each memory cell is such that the 4-bit information (0
000, 0001, 0010, 0011, 0100, 0
101, 0110, 0111, 1000, 1001, 1
010, 1011, 1100, 1101, 1110, 1
111), 16 values, for example, (0, 1, 1.2)
5, 1.5, 1.75, 2, 2.25, 2.5, 2.7
5, 3, 3.25, 3.5, 3.75, 4, 4.25,
It is a 16-valued memory set to 4.5 V). In this modified example, a case will be described in which, according to a predetermined linear coding rule capable of correcting up to two errors among bits constituting a code word, error correction is possible.

【0129】本装置による書き換えにおいては、まず、
記憶内容が所定ビット、例えばpビットの入力を受ける
毎に、これを4つの(p/3)ビットの各情報ビットに
分割する。そして、各情報ビットから冗長ビットを得
て、2つの14ビットの符号語(m11,m21,m3
1,m41,m51,m61,m71,m12,m2
2,m32,m42,m52,m62,m72)(m1
3,m23,m33,m43,m53,m63,m7
3,m14,m24,m34,m44,m54,m6
4,m74)を作成する。即ち、これら14ビットの各
符号語のうち、それぞれ所定数のビットが情報ビットで
あり、残りが誤り訂正用の冗長ビットである。
In rewriting by this device, first,
Each time the storage content receives a predetermined bit, for example, p bits, it is divided into four (p / 3) information bits. Then, redundant bits are obtained from each information bit, and two 14-bit code words (m11, m21, m3) are obtained.
1, m41, m51, m61, m71, m12, m2
2, m32, m42, m52, m62, m72) (m1
3, m23, m33, m43, m53, m63, m7
3, m14, m24, m34, m44, m54, m6
4, m74). That is, in each of these 14-bit code words, a predetermined number of bits are information bits, and the rest are redundant bits for error correction.

【0130】次に、14ビットの各符号語(m11,m
21,m31,m41,m51,m61,m71,m1
2,m22,m32,m42,m52,m62,m7
2)(m13,m23,m33,m43,m53,m6
3,m73,m14,m24,m34,m44,m5
4,m64,m74)をそれぞれ7ビットずつの符号列
(m11,m21,m31,m41,m51,m61,
m71)(m12,m22,m32,m42,m52,
m62,m72)及び(m13,m23,m33,m4
3,m53,m63,m73)(m14,m24,m3
4,m44,m54,m64,m74)に分割する。そ
して、各符号列を、4×7配列の各行に並べ、図7
(a)に示すように、7個のメモリセルにそれぞれ、m
11とm12とm13とm14、m21とm22とm2
3とm24、m31とm32とm33とm34、m41
とm42とm43とm44、m51とm52とm53と
m54、m61とm62とm63とm64、m71とm
72とm73とm74を記憶する。
Next, each of the 14-bit code words (m11, m
21, m31, m41, m51, m61, m71, m1
2, m22, m32, m42, m52, m62, m7
2) (m13, m23, m33, m43, m53, m6
3, m73, m14, m24, m34, m44, m5
, M64, m74) are converted into code strings (m11, m21, m31, m41, m51, m61,
m71) (m12, m22, m32, m42, m52,
m62, m72) and (m13, m23, m33, m4
3, m53, m63, m73) (m14, m24, m3
4, m44, m54, m64, m74). Then, each code string is arranged in each row of the 4 × 7 array, and FIG.
As shown in (a), each of the seven memory cells has m
11, m12, m13, and m14, m21, m22, and m2
3, m24, m31, m32, m33, m34, m41
M42, m43, m44, m51, m52, m53, m54, m61, m62, m63, m64, m71, m
72, m73 and m74 are stored.

【0131】即ち、図7(a)において、メモリセル1
の1位ビットがm11、2位ビットがm12、3位ビッ
トがm13、4位ビットがm14となり、同様にメモリ
セル2にm21とm22とm23とm24、メモリセル
3にm31とm32とm33とm34、メモリセル4に
m41とm42とm43とm44、メモリセル5にm5
1とm52とm53とm54、メモリセル6にm61と
m62とm63とm64、メモリセル7にm71とm7
2とm73とm74が収められる。
That is, in FIG. 7A, the memory cell 1
The first bit is m11, the second bit is m12, the third bit is m13, and the fourth bit is m14. Similarly, m21, m22, m23, and m24 are stored in the memory cell 2, and m31, m32, and m33 are stored in the memory cell 3. m34, m41, m42, m43, and m44 in the memory cell 4, and m5 in the memory cell 5
1, m52, m53, and m54, m61, m62, m63, and m64 in the memory cell 6, and m71 and m7 in the memory cell 7.
2, m73 and m74 are stored.

【0132】それぞれの符号列は1個の誤りが生じても
訂正が可能であり、したがって、図7に示すように、例
えば3番目のメモリセルに長さ4のバースト誤りが生じ
ても、各符号列に対しては1個の誤りとなり、このとき
2つの符号列から構成される各符号語に対しては2個の
誤りとなるので訂正が可能である。すなわち、7個のメ
モリセルのうち、1個のメモリセルのしきい値電圧が変
化して、例えば“1000”の記憶内容が“0111”
に変化するバースト誤りが発生しても、訂正が可能であ
る。
Each code string can be corrected even if one error occurs. Therefore, as shown in FIG. 7, even if a burst error of length 4 occurs in the third memory cell, for example, One error occurs in the code string, and at this time, two errors occur in each code word composed of the two code strings, so that correction is possible. In other words, the threshold voltage of one of the seven memory cells changes, and for example, the storage content of “1000” becomes “0111”.
Can be corrected even if a burst error that changes to

【0133】−変形例2− 本実施形態の書き込み方法で対象とする装置は、各メモ
リセルのしきい値電圧が、記憶する4ビットの情報(0
000、0001、0010、0011、0100、0
101、0110、0111、1000、1001、1
010、1011、1100、1101、1110、1
111)に対応して、16値、例えば(0、1、1.2
5、1.5、1.75、2、2.25、2.5、2.7
5、3、3.25、3.5、3.75、4、4.25、
4.5V)に設定される16値メモリである。この変形
例においては、符号語を構成する各ビットのうち、1個
の誤りまでは誤り訂正が可能であり、2個の誤りまでは
誤り検出が可能な符号化規則に従った場合について例示
する。
-Variation 2-In the device targeted by the writing method of the present embodiment, the threshold voltage of each memory cell is the 4-bit information (0
000, 0001, 0010, 0011, 0100, 0
101, 0110, 0111, 1000, 1001, 1
010, 1011, 1100, 1101, 1110, 1
111), 16 values, for example, (0, 1, 1.2)
5, 1.5, 1.75, 2, 2.25, 2.5, 2.7
5, 3, 3.25, 3.5, 3.75, 4, 4.25,
It is a 16-valued memory set to 4.5 V). In this modified example, a case will be exemplified where, according to a coding rule in which up to one error can be corrected and up to two errors can be detected in each bit constituting a codeword. .

【0134】本装置による書き換えにおいては、まず、
記憶内容16ビットの入力を受ける毎に、これを4×4
ビットの情報ビット(m11,m21,m31,m4
1)(m12,m22,m32,m42)(m13,m
23,m33,m43)(m14,m24,m34,m
44)に分割し、ハミング符号化によりこの情報ビット
から3×4ビットの冗長ビット(p11,p21,p3
1)(p12,p22,p32)(p13,p23,p
33)(p14,p24,p34)を得る。
In rewriting by this device, first,
Each time 16 bits of storage contents are received, this is 4 × 4
Bit information bits (m11, m21, m31, m4
1) (m12, m22, m32, m42) (m13, m
23, m33, m43) (m14, m24, m34, m
44), and 3 × 4 redundant bits (p11, p21, p3) are converted from the information bits by Hamming coding.
1) (p12, p22, p32) (p13, p23, p
33) (p14, p24, p34) is obtained.

【0135】続いて、4個の符号列(m11,m21,
m31,m41,p11,p21,p31)(m12,
m22,m32,m42,p12,p22,p32)
(m13,m23,m33,m43,p13,p23,
p33)(m14,m24,m34,m44,p14,
p24,p34)のそれぞれについて、各7ビット全て
のEX−ORを算出し、その結果として得られた各冗長
ビットq1,q2,q3,q4を各符号列に付加して、
4個の符号語(m11,m21,m31,m41,p1
1,p21,p31,q1)(m12,m22,m3
2,m42,p12,p22,p32,q2)(m1
3,m23,m33,m43,p13,p23,p3
3,q3)(m14,m24,m34,m44,p1
4,p24,p34,q4)を作成する。
Subsequently, four code strings (m11, m21,
m31, m41, p11, p21, p31) (m12,
m22, m32, m42, p12, p22, p32)
(M13, m23, m33, m43, p13, p23,
p33) (m14, m24, m34, m44, p14,
p24, p34), calculate the EX-OR of all 7 bits, and add the resulting redundant bits q1, q2, q3, q4 to each code string,
Four codewords (m11, m21, m31, m41, p1
1, p21, p31, q1) (m12, m22, m3
2, m42, p12, p22, p32, q2) (m1
3, m23, m33, m43, p13, p23, p3
3, q3) (m14, m24, m34, m44, p1
4, p24, p34, q4).

【0136】そして、これら4個の符号語を4×8配列
の各行に並べ、図7(b)に示すように、8個のメモリ
セルにそれぞれ、m11とm12とm13とm14、m
21とm22とm23とm24、m31とm32とm3
3とm34、m41とm42とm43とm44、p11
とp12とp13とp14、p21とp22とp23と
p24、p31とp32とp33とp34、q1とq2
とq3とq4を記憶する。
Then, these four code words are arranged in each row of a 4 × 8 array, and as shown in FIG. 7B, the eight memory cells have m11, m12, m13, m14, m14 respectively.
21, m22, m23, and m24, m31, m32, and m3
3 and m34, m41 and m42, m43 and m44, p11
And p12 and p13 and p14, p21 and p22 and p23 and p24, p31 and p32, p33 and p34, and q1 and q2.
And q3 and q4.

【0137】即ち、図7(b)において、メモリセル1
の1位ビットがm11、2位ビットがm12、3位ビッ
トがm13、4位ビットがm14となり、同様にメモリ
セル2にm21とm22とm13とm14、メモリセル
3にm31とm32とm33とm34、メモリセル4に
m41とm42とm43とm44、メモリセル5にm5
1とm52とp13とp14、メモリセル6にm61と
m62とp23とp24、メモリセル7にm71とm7
2とp33とp34、メモリセル8にq1とq2とq3
とq4が収められる。
That is, in FIG. 7B, the memory cell 1
The first bit is m11, the second bit is m12, the third bit is m13, and the fourth bit is m14. Similarly, m21, m22, m13, and m14 are stored in the memory cell 2, and m31, m32, and m33 are stored in the memory cell 3. m34, m41, m42, m43, and m44 in the memory cell 4, and m5 in the memory cell 5
1, m52, p13, and p14, m61, m62, p23, and p24 in the memory cell 6, and m71 and m7 in the memory cell 7.
2, p33 and p34, and q1, q2 and q3 in the memory cell 8.
And q4.

【0138】それぞれの符号語は1個の誤りが生じても
訂正が可能であり、したがって、図7(b)に示すよう
に、例えば3番目のメモリセルに長さ4のバースト誤り
が生じても、各符号語に対しては1個の誤りになるので
訂正が可能である。すなわち、8個のメモリセルのう
ち、1個のメモリセルのしきい値電圧が変化して、例え
ば“1000”の記憶内容が“0111”に変化するバ
ースト誤りが発生しても、訂正が可能である。更に、極
めて稀なことであるとは思われるが、例えばもう1つの
メモリセルに長さ1〜4のバースト誤りが生じた場合、
少なくとも1つ符号語に対しては2個の誤りとなるが、
このとき当該2個の誤りを検出することができ、そのう
ち1つについては訂正が可能である。
Each code word can be corrected even if one error occurs. Therefore, as shown in FIG. 7B, for example, a burst error of length 4 occurs in the third memory cell. Can be corrected because each codeword has one error. In other words, even if the threshold voltage of one of the eight memory cells changes and a burst error occurs in which the storage content of “1000” changes to “0111”, correction is possible. It is. Furthermore, it seems very unlikely that, for example, if another memory cell has a burst error of length 1-4,
There will be two errors for at least one codeword,
At this time, the two errors can be detected, and one of them can be corrected.

【0139】なお、書き込み方法の第2及び第3の実施
形態の各変形例に示した符号化方法以外にも、有用であ
ると考えられる手法がある。例えば、先ず64個の元デ
ータに”0”のデータを56ビット付加して、合計12
0ビット長の情報ビットを得る。続いて、120ビット
の情報ビットから127ビット長のハミング符号を作成
する。続いて、127ビット全てのEX−ORを算出
し、その結果を追加128ビット長の符号を得る。しか
る後、先に追加した56ビットの”0”を除去して、7
2ビット長の符号語を得る。この符号化方法は、符号語
を構成する各ビットのうち、1個の誤りまでは誤り訂正
を行い、2個の誤りまでは誤り検出を可能としており、
主記憶装置用のSEC/DED符号(single-error-cor
recting/double-error-detecting code )として、頻繁
に利用されている。
It should be noted that other than the encoding method shown in each modification of the second and third embodiments of the writing method, there are other methods which are considered to be useful. For example, first, 56 bits of “0” data are added to 64 pieces of original data to make a total of 12 bits.
Obtain 0-bit information bits. Subsequently, a 127-bit length Hamming code is created from the 120 information bits. Subsequently, EX-OR of all 127 bits is calculated, and the result is used to obtain an additional 128-bit length code. Then, the previously added 56-bit “0” is removed, and 7
Obtain a 2-bit long codeword. In this encoding method, error correction is performed up to one error of each bit constituting a codeword, and error detection is possible up to two errors.
SEC / DED code (single-error-cor
recting / double-error-detecting code).

【0140】次に、1つの符号語について1個の誤りが
生じても訂正が可能な具体例を説明する。下記の表1
は、4情報ビットに3冗長ビットを付加したハミング符
号を示している。
Next, a specific example will be described in which even if one error occurs for one code word, correction can be made. Table 1 below
Indicates a Hamming code obtained by adding three redundant bits to four information bits.

【0141】[0141]

【表1】 [Table 1]

【0142】この符号で、1、2、4桁目は冗長ビット
であり、(1、3、5、7)、(2、3、6、7)及び
(4、5、6、7)の各桁の組で偶数パリティになるよ
うに冗長ビットが決められている。例えば、10進数
「12」に対応する符号“0111100”を書き込ん
でおいたところ、誤りが発生して“0101100”と
読み出された場合、表1に示したように、誤りがある桁
を2進数(この場合は011)で得ることができるの
で、誤りが発生しても容易に、かつ確実に訂正すること
ができる。
In this code, the first, second and fourth digits are redundant bits, and are (1, 3, 5, 7), (2, 3, 6, 7) and (4, 5, 6, 7). Redundant bits are determined so that each set of digits has an even parity. For example, when the code “0111100” corresponding to the decimal number “12” is written and an error occurs and is read as “0101100”, as shown in Table 1, the digit having the error is set to 2 Since the error can be obtained in a base number (011 in this case), even if an error occurs, it can be easily and reliably corrected.

【0143】なお、この符号は、情報ビット数がさらに
多い場合にまで拡張することができ、n個の情報ビット
に対して必要な冗長ビット数mは次式で表される。 2m =n+m+1 …(1式)
Note that this code can be extended to a case where the number of information bits is even larger, and the number m of redundant bits required for n information bits is expressed by the following equation. 2 m = n + m + 1 (1 formula)

【0144】以上の説明では、本発明を浮遊ゲート型の
メモリセルを有する不揮発性記憶装置に実施した場合を
例に挙げて説明をしたが、多値記憶を行わせるメモリセ
ルとしては、浮遊ゲート型のものに限らず、MNOS型
のものでも良い。また、本発明は、EEPROM以外に
も、EPROMやPROM、更には、例えば、電界効果
トランジスタのチャネル領域にイオン注入する不純物の
量を制御することによりしきい値を変化させて記憶状態
を得るマスクROMにも適用することが可能である。ま
た、4値と8値の場合を例に挙げたが、決してこの値に
限定されるものでもない。
In the above description, the case where the present invention is applied to a nonvolatile memory device having a floating gate type memory cell has been described as an example. It is not limited to the MNOS type, but may be the MNOS type. In addition, the present invention provides not only an EEPROM but also an EPROM and a PROM, and further, for example, a mask that obtains a storage state by changing a threshold value by controlling the amount of impurities implanted into a channel region of a field effect transistor. It is also possible to apply to a ROM. Also, the case of four values and eight values has been described as an example, but the present invention is not limited to these values.

【0145】また、誤り訂正符号を得る方法として交錯
法を例に説明をしたが、メモリセルに記憶する情報量に
応じたバースト長の誤りを訂正できる誤り訂正符号であ
れば、交錯法以外の方法、例えば、巡回符号または短縮
化巡回符号でもよい。
Although the method of obtaining an error correcting code has been described by taking the crossing method as an example, any error correcting code that can correct an error having a burst length corresponding to the amount of information stored in a memory cell will be described. The method may be, for example, a cyclic code or a shortened cyclic code.

【0146】次に、本発明の読み出し方法の好適な実施
形態について、図面を参照して詳細に説明する。
Next, a preferred embodiment of the reading method of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0147】(読み出し方法の第1の実施形態)先ず、
本発明の読み出し方法の第1の実施形態について説明す
る。この第1の実施形態においては、半導体記憶装置と
して多値記憶EEPROM及びその読み出し方法を例示
する。
(First Embodiment of Reading Method) First,
A first embodiment of the reading method of the present invention will be described. In the first embodiment, a multi-value storage EEPROM and a reading method therefor will be exemplified as a semiconductor storage device.

【0148】読みだし動作時には、まず、外部から入力
I/F7を介して論理アドレス信号を変換回路9に入力
し、論理アドレス信号から実在のメモリセルに対応する
物理アドレス信号を算出する。続いて、この物理アドレ
ス信号を信号制御回路6に入力する。信号制御回路6
は、入力された物理アドレス信号に応じて、選択すべき
ワード線19とビット線15を判断し、デコーダ2及び
マルチプレクサ4にその結果を命令する。この命令に応
じて、デコーダ2はワード線19を、マルチプレクサ4
はビット線15をそれぞれ選択する。
At the time of reading operation, first, a logical address signal is externally input to the conversion circuit 9 via the input I / F 7, and a physical address signal corresponding to a real memory cell is calculated from the logical address signal. Subsequently, the physical address signal is input to the signal control circuit 6. Signal control circuit 6
Determines the word line 19 and bit line 15 to be selected in accordance with the input physical address signal, and instructs the decoder 2 and the multiplexer 4 on the result. In response to this instruction, the decoder 2 sets the word line 19 to the multiplexer 4
Select the bit lines 15 respectively.

【0149】また、信号制御回路6は、選択されたメモ
リセルの制御ゲート19に印加すべき電圧の大きさを判
断し、電圧制御回路3にその結果を命令する。電圧制御
回路3は、デコーダ2を介して、選択されたワード線1
9に所定の電圧を印加する。一方、選択されたビット線
15には、マルチプレクサ4により所定の電圧が印加さ
れる。そして、選択メモリセルのしきい値の状態によっ
て選択ビット線15に電流が流れるか否かが決まる。
The signal control circuit 6 determines the magnitude of the voltage to be applied to the control gate 19 of the selected memory cell, and instructs the voltage control circuit 3 on the result. The voltage control circuit 3 is connected to the selected word line 1 via the decoder 2.
9 is applied with a predetermined voltage. On the other hand, a predetermined voltage is applied to the selected bit line 15 by the multiplexer 4. Then, whether or not a current flows through the selected bit line 15 is determined by the state of the threshold value of the selected memory cell.

【0150】この選択ビット線15の電流の状態は、マ
ルチプレクサ4からセンスアンプ5に伝達される。セン
スアンプ5は、選択ビット線15の電流の有無を検出
し、その結果を信号制御回路6に伝達する。信号制御回
路6は、センスアンプ5での検出結果に基づき、選択メ
モリセルの制御ゲート19に次に印加する電圧を決定し
て、その結果を電圧制御回路3に命令する。また、信号
制御回路6は、以上の手順を繰り返して最終的に得られ
た選択メモリセルの記憶データを出力I/F8を介して
出力する。
The current state of the selected bit line 15 is transmitted from the multiplexer 4 to the sense amplifier 5. The sense amplifier 5 detects the presence or absence of a current on the selected bit line 15 and transmits the result to the signal control circuit 6. The signal control circuit 6 determines the next voltage to be applied to the control gate 19 of the selected memory cell based on the detection result of the sense amplifier 5, and instructs the voltage control circuit 3 of the result. Further, the signal control circuit 6 repeats the above procedure and outputs the storage data of the selected memory cell finally obtained via the output I / F 8.

【0151】図8に、第1の実施形態による読みだし方
法のフローチャートを示す。この第1の実施形態では、
8メガビットの記憶容量をもつ4値の多値記憶EEPR
OMについて例示する。この4値の多値記憶EEPRO
Mは、16進数表記で〔00 0000 〕〜〔7F FFFF 〕の論
理アドレス空間と、〔00 0000 〕〜〔3F FFFF 〕の物理
アドレス空間とを有している。また、各メモリセルが、
2ビット(=4値)のデータ(00,01,10,1
1)を記憶しており、これらのデータに対応して、各メ
モリセルに(0V,2V,4V,6V)のしきい値電圧
が設定されている。
FIG. 8 shows a flowchart of the reading method according to the first embodiment. In the first embodiment,
4-valued multi-valued storage EEPR with 8 megabit storage capacity
An example of OM will be described. This 4-valued multi-value storage EEPROM
M has a logical address space of [00 0000] to [7F FFFF] and a physical address space of [00 0000] to [3F FFFF] in hexadecimal notation. Also, each memory cell is
2-bit (= 4 values) data (00, 01, 10, 1)
1), and a threshold voltage of (0 V, 2 V, 4 V, 6 V) is set for each memory cell in accordance with these data.

【0152】そして、所定のメモリセルの物理アドレス
がApであるとき、このメモリセルは、2ビットの各成
分のうち、上位ビットに論理アドレスApのデータを、
下位ビットに論理アドレス(Ap+〔40 0000 〕)のデ
ータを記憶するようになっている。
When the physical address of a predetermined memory cell is Ap, the memory cell stores the data of the logical address Ap in the upper bits of the two-bit components.
The data of the logical address (Ap + [40 0000]) is stored in the lower bits.

【0153】換言すれば、データの書き換え動作時にお
いて、〔00 0000 〕〜〔3F FFFF 〕の論理アドレスAl
及び記憶させるデータ(0又は1)が指定されると、物
理アドレスAlに存在するメモリセルの上位ビットが指
定されたデータに書き換えられる。
In other words, at the time of the data rewriting operation, the logical addresses Al of [00 0000] to [3F FFFF]
When the data to be stored (0 or 1) is specified, the upper bits of the memory cell at the physical address Al are rewritten to the specified data.

【0154】一方、データの書き換え動作時において、
〔40 0000 〕〜〔7F FFFF 〕の論理アドレスAl及び記
憶させるデータ(0又は1)が指定されると、物理アド
レス(Al−〔40 0000 〕)に存在するメモリセルの下
位ビットが指定されたデータに書き換えられる。
On the other hand, during the data rewriting operation,
When the logical address Al of [40 0000] to [7F FFFF] and the data to be stored (0 or 1) are specified, the lower bit of the memory cell existing in the physical address (Al- [40 0000]) is specified. Rewritten with data.

【0155】先ず、外部から読みだし命令を受信し(ス
テップS1)、論理アドレス信号が入力I/F7に入力
されると(ステップS2)、信号制御回路6が、この論
理アドレス信号が〔00 0000 〕〜〔3F FFFF 〕であるか
否かを判定する(ステップS3)。
First, when a read command is received from the outside (step S1) and a logical address signal is input to the input I / F 7 (step S2), the signal control circuit 6 sets the logical address signal to [00 0000]. ] To [3F FFFF] (step S3).

【0156】ここで、論理アドレス信号が〔00 0000 〕
〜〔3F FFFF 〕である場合には、論理アドレスが物理ア
ドレスと一致し、読みだしが要求されているデータは2
ビットのうちの上位ビットであることが分かる(ステッ
プS4)。この場合、選択メモリセルの制御ゲート19
に3Vの判定電圧を印加し、ドレイン12−ソース13
間に電流が流れるか否かを、選択ビット線15及びセン
スアンプ5を通じて検出する(ステップS5)。
Here, the logical address signal is [00 0000].
If [3F FFFF], the logical address matches the physical address, and the data requested to be read is 2
It can be seen that this is the upper bit of the bits (step S4). In this case, the control gate 19 of the selected memory cell
To the drain 12-source 13
It is detected through the selected bit line 15 and the sense amplifier 5 whether or not a current flows between them (step S5).

【0157】そして、ステップS5において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れた場
合、すなわち、選択メモリセルが導通した場合には、こ
のメモリセルのしきい値電圧は0Vと2Vのいずれかで
あるので、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、上
位ビットが“0”であると判定され、このデータを即座
に出力I/F8から出力する(ステップS6)。
In step S5, when a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell, that is, when the selected memory cell is turned on, the threshold voltages of the selected memory cell are 0V and 2V. Therefore, among the components in the storage state of this memory cell, the upper bit is determined to be “0”, and this data is immediately output from the output I / F 8 (step S6).

【0158】一方、ステップS5において、選択メモリ
セルのドレイン12−ソース13間に電流が流れない場
合、このメモリセルのしきい値電圧は4Vと6Vのいず
れかであるので、このメモリセルの記憶状態の成分のう
ち、上位ビットが“1”であると判定され、このデータ
を即座に出力I/F8から出力する(ステップS7)。
On the other hand, if no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S5, the threshold voltage of this memory cell is either 4V or 6V. Among the components of the state, it is determined that the upper bit is "1", and this data is immediately output from the output I / F 8 (step S7).

【0159】また、ステップS3において、入力I/F
7に入力した論理アドレス信号が〔40 0000 〕〜〔7F F
FFF 〕である場合には、論理アドレスが物理アドレスと
一致せず、物理アドレス=(論理アドレス−〔40 0000
〕)となり、読みだしが要求されているデータは2ビ
ットのうちの下位ビットであることが分かる(ステップ
S8)。この場合、選択メモリセルの制御ゲート19に
3Vの判定電圧を印加し、ドレイン12−ソース13間
に電流が流れるか否かを、選択ビット線15及びセンス
アンプ5を通じて検出する(ステップS9)。
In step S3, input I / F
7 is [40 0000]-[7FF
FFF], the logical address does not match the physical address, and the physical address = (logical address− [40 0000
]), Indicating that the data requested to be read is the lower bit of the two bits (step S8). In this case, a determination voltage of 3 V is applied to the control gate 19 of the selected memory cell, and whether or not a current flows between the drain 12 and the source 13 is detected through the selected bit line 15 and the sense amplifier 5 (Step S9).

【0160】ステップS9において、選択メモリセルの
ドレイン12−ソース13間に電流が流れた場合には、
そのメモリセルのしきい値電圧は0Vと2Vのいずれか
であるので、続いて信号制御回路6は、選択メモリセル
の制御ゲート19に1Vの判定電圧を印加するように電
圧制御回路3に命令する(ステップS10)。
In step S9, when a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell,
Since the threshold voltage of the memory cell is either 0 V or 2 V, the signal control circuit 6 instructs the voltage control circuit 3 to apply a 1 V determination voltage to the control gate 19 of the selected memory cell. (Step S10).

【0161】そして、ステップS10において、選択メ
モリセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れた
場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は0Vであ
り、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、下位ビッ
トが“0”であると判定され、このデータを出力I/F
8から出力する(ステップS11)。
In step S10, when a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell, the threshold voltage of the memory cell is 0 V, and the component of the storage state of this memory cell is The lower bit is determined to be "0", and this data is output to the output I / F.
8 (step S11).

【0162】一方、ステップS10において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は2Vで
あり、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、下位ビ
ットが“1”であると判定され、このデータを出力I/
F8から出力する(ステップS12)。
On the other hand, if no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S10, the threshold voltage of that memory cell is 2 V, and the component of the storage state of this memory cell is , The lower bit is determined to be “1”, and this data is output to I / O
Output from F8 (step S12).

【0163】また、ステップS9において、選択メモリ
セルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなかっ
た場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は4Vか6
Vのいずれかであるので、続いて信号制御回路6は、選
択メモリセルの制御ゲート19に5Vの判定電圧を印加
するように電圧制御回路3に命令する(ステップS1
3)。
When no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S9, the threshold voltage of the selected memory cell is 4V or 6V.
Therefore, the signal control circuit 6 instructs the voltage control circuit 3 to apply a 5V determination voltage to the control gate 19 of the selected memory cell (step S1).
3).

【0164】そして、ステップS13において、選択メ
モリセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れた
場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は4Vであ
り、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、下位ビッ
トが“0”であると判定され、このデータを出力I/F
8から出力する(ステップS12)。
If a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S13, the threshold voltage of the memory cell is 4 V, and the component of the storage state of this memory cell is The lower bit is determined to be "0", and this data is output to the output I / F.
8 (step S12).

【0165】一方、ステップS13において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は6Vで
あり、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、下位ビ
ットが“1”であると判定され、このデータを出力I/
F8から出力する(ステップS13)。
On the other hand, if no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S13, the threshold voltage of that memory cell is 6 V, and the component of the storage state of this memory cell is , The lower bit is determined to be “1”, and this data is output to I / O
Output from F8 (step S13).

【0166】ここで、図1及び図9を参照して、前記読
み出し方法における1、3又は5Vの判定電圧を選択メ
モリセルの制御ゲート19に印加してドレイン12−ソ
ース13間に電流が流れるか否かを判定する方法につい
て説明する。
Here, referring to FIG. 1 and FIG. 9, a decision voltage of 1, 3 or 5 V in the above-mentioned reading method is applied to the control gate 19 of the selected memory cell, and a current flows between the drain 12 and the source 13. A method of determining whether or not the determination is made will be described.

【0167】例えば、図8のステップ4で、信号制御回
路6は変換回路9からの物理アドレスを受けて読み出し
が要求されているデータが上位ビットであることが分か
ると、選択されたメモリセルの制御ゲート19に印加す
べき電圧が3Vであることを判定し、電圧制御回路3に
その結果を伝える。電圧制御回路3は、図9に示すよう
に、1Vの参照電圧発生回路3a、3Vの参照電圧発生
回路3b、5Vの参照電圧発生回路3cを備えており、
この例では参照電圧発生回路3bが3Vの電圧を発生し
てスイッチ回路55に出力する。
For example, in step 4 of FIG. 8, when the signal control circuit 6 receives the physical address from the conversion circuit 9 and finds that the data requested to be read is the upper bit, the signal control circuit 6 It is determined that the voltage to be applied to the control gate 19 is 3 V, and the result is transmitted to the voltage control circuit 3. As shown in FIG. 9, the voltage control circuit 3 includes a 1V reference voltage generation circuit 3a, a 3V reference voltage generation circuit 3b, and a 5V reference voltage generation circuit 3c.
In this example, the reference voltage generation circuit 3b generates a voltage of 3V and outputs it to the switch circuit 55.

【0168】更に、信号制御回路6は、入力された物理
アドレス信号に応じて選択すべきワード線を判断し、デ
コーダ2にその結果を伝える。これに応じてデコーダ2
はデコード信号をスイッチ回路55に出力する。
Further, the signal control circuit 6 determines a word line to be selected according to the input physical address signal, and transmits the result to the decoder 2. In response, the decoder 2
Outputs a decode signal to the switch circuit 55.

【0169】3Vの参照電圧とデコード信号を受けたス
イッチ回路55は、選択すべきワード線に3Vの参照電
圧を与える。セルアレイ1の選択すべきメモリセル1a
のドレイン12−ソース13間に電流が流れるか否かの
判定は、センスアンプ5にて行われる。センスアンプ5
は、メモリセル1aからの電圧と参照電圧発生回路56
からの所定電圧とを比較して、信号制御回路6にその結
果を伝える。
The switch circuit 55 receiving the 3V reference voltage and the decode signal applies a 3V reference voltage to the word line to be selected. Memory cell 1a to be selected in cell array 1
Is determined by the sense amplifier 5 as to whether or not a current flows between the drain 12 and the source 13. Sense amplifier 5
Is the voltage from the memory cell 1a and the reference voltage generation circuit 56
, And the result is transmitted to the signal control circuit 6.

【0170】センスアンプ5の検出結果に基づき、信号
制御回路6はメモリセル1aに続いて印加する電圧1V
又は5Vを決定して電圧制御回路3に伝える。そして、
信号制御回路6は、最終的に得られたメモリセル1aの
記憶データを出力I/F8を介して出力する。
On the basis of the detection result of the sense amplifier 5, the signal control circuit 6 applies a voltage of 1 V to the memory cell 1a.
Alternatively, 5 V is determined and transmitted to the voltage control circuit 3. And
The signal control circuit 6 outputs the finally obtained storage data of the memory cell 1a via the output I / F8.

【0171】上述のように、この第1の実施形態におい
ては、論理アドレス〔00 0000 〕〜〔7F FFFF 〕をアク
セス速度の速いアドレス空間A1 (論理アドレス〔00 0
000〕〜〔3F FFFF 〕)とアクセス速度の比較的遅いア
ドレス空間A2 (論理アドレス〔40 0000 〕〜〔7F FFF
F 〕)とに階層化し、論理アドレス〔00 0000 〕〜〔7F
FFFF 〕のうち、物理アドレス〔00 0000 〕〜〔3F FFF
F 〕が張るアドレス空間と1対1対応する部分空間(論
理アドレス〔00 0000 〕〜〔3F FFFF 〕)をアクセス速
度の速いアドレス空間A1 とする。そして、メモリセル
の記憶状態の特定の成分、ここでは上位ビットにアドレ
ス空間A1 のデータを格納する。
As described above, in the first embodiment, the logical addresses [00 0000] to [7F FFFF] are stored in the address space A 1 (logical address [00 0
000] to [3F FFFF]) and the address space A 2 with relatively slow access speed (logical address [40 0000] to [7F FFF]
F])) and logical addresses [00 0000] to [7F
FFFF], physical addresses [00 0000] to [3F FFF
F] is the address space and one-to-one corresponding subspace (logical address [00 0000] to [3F FFFF]) fast address space A 1 access speed of tensioning. The specific components of the memory state of the memory cell, wherein the store data of the address space A 1 to the upper bits.

【0172】入力された論理アドレスが前記部分空間に
含まれるもの(論理アドレス〔00 0000 〕〜〔3F FFFF
〕)である場合には、この論理アドレスは上位ビット
のデータを指定しており、3Vの判定電圧による1回の
判定により即座に上位ビットのデータが分かり、出力さ
れることになる。この場合、すべての判定電圧により各
しきい値電圧を調べる場合に比して、読みだし速度が約
2倍となる。従って、この上位ビットにアクセス頻度の
最も高いデータを格納し、下位ビットに比較的アクセス
頻度の低いデータを格納することにより、操作者(プロ
グラマ)にはあたかも単一の高速記憶装置が存在してい
るかの如く見え、極めて効率良く多値記憶EEPROM
の読みだしを行うことが可能となる。
In the case where the input logical address is included in the partial space (logical address [00 0000] to [3F FFFF]
]), The logical address designates the data of the upper bit, and the data of the upper bit is immediately recognized and output by one determination based on the determination voltage of 3V. In this case, the reading speed is about twice as fast as when each threshold voltage is checked based on all the judgment voltages. Therefore, by storing the data with the highest access frequency in the upper bits and the data with a relatively low access frequency in the lower bits, the operator (programmer) has a single high-speed storage device. Multi-value storage EEPROM that looks as if it is very efficient
Can be read.

【0173】なお、多値記憶EEPROMに格納するこ
とが好適なデータやプログラムには、アクセス頻度の高
いものとしては例えば演算装置のBIOSが、アクセス
頻度の比較的低いものとしては例えば文書ファイルがあ
る。この場合、前者をアクセス速度の速い上位ビット
に、後者をアクセス速度の比較的遅い下位ビットに格納
すればよい。
The data and the program preferably stored in the multi-value storage EEPROM include, for example, a BIOS of an arithmetic device having a high access frequency, and a document file having a relatively low access frequency. . In this case, the former may be stored in the upper bits having a higher access speed, and the latter may be stored in the lower bits having a relatively slow access speed.

【0174】(読み出し方法の第2の実施形態)次に、
本発明の読み出し方法の第2の実施形態について説明す
る。この実施形態においては、第1の実施形態と同様
に、半導体記憶装置として多値記憶EEPROM及びそ
の読みだし方法を例示する。多値記憶EEPROMの主
要構成については第1の実施形態のそれと同様である
が、多値記憶EEPROMが12メガビットの記憶容量
をもつ8値のものである点で第1の実施形態と相違す
る。なお、第1の実施形態の多値記憶EEPROMと同
様の構成要素等については同符号を記して説明を省略す
る。
(Second Embodiment of Reading Method) Next,
A second embodiment of the reading method according to the present invention will be described. In this embodiment, as in the first embodiment, a multi-valued storage EEPROM and a method for reading out the same will be exemplified as a semiconductor memory device. The main configuration of the multi-value storage EEPROM is the same as that of the first embodiment, but differs from the first embodiment in that the multi-value storage EEPROM is an eight-valued memory having a storage capacity of 12 megabits. Note that the same components as those of the multi-value storage EEPROM of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0175】図10に、第2の実施形態による読みだし
方法のフローチャートを示す。この第2の実施形態で
は、12メガビットの記憶容量をもつ8値の多値記憶E
EPROMについて例示する。この8値の多値記憶EE
PROMは、16進数表記で〔00 0000 〕〜〔BF FFFF
〕の論理アドレス空間と、〔00 0000 〕〜〔3F FFFF
〕の物理アドレス空間とを有している。また、各メモ
リセルが、3ビット(=8値)のデータ(000,00
1,010,011,100,101,110,11
1)を記憶しており、これらのデータに対応して、各メ
モリセルに(0V,1V,2V,3V,4V,5V,6
V,7V)のしきい値電圧が設定されている。
FIG. 10 is a flowchart of a reading method according to the second embodiment. In the second embodiment, an eight-valued multivalued storage E having a storage capacity of 12 megabits is used.
An example of an EPROM will be described. This 8-valued multi-valued memory EE
PROM is expressed in hexadecimal notation from [00 0000] to [BF FFFF
] And the address space of [00 0000]-[3F FFFF
] Physical address space. In addition, each memory cell stores 3-bit (= 8 values) data (00000, 000).
1,010,011,100,101,110,11
1), and (0V, 1V, 2V, 3V, 4V, 5V, 6V) are stored in each memory cell in accordance with these data.
V, 7V).

【0176】そして、所定のメモリセルの物理アドレス
がApであるとき、このメモリセルは、3ビットの各成
分のうち、最上位ビットに論理アドレスApのデータを
記憶し、中位ビットに論理アドレス(Ap+〔40 0000
〕)のデータを記憶し、最下位ビットに論理アドレス
(Ap+〔80 0000 〕)のデータを記憶するようになっ
ている。
When the physical address of a predetermined memory cell is Ap, this memory cell stores the data of the logical address Ap in the most significant bit of the three-bit components, and stores the logical address Ap in the middle bit. (Ap + [40 0000
]), And the data of the logical address (Ap + [80 0000]) is stored in the least significant bit.

【0177】換言すれば、データの書き換え動作におい
て、〔00 0000 〕〜〔3F FFFF 〕の論理アドレスAl及
び記憶させるデータ(0又は1)が指定されると、物理
アドレスAlに存在するメモリセルの最上位ビットが指
定されたデータに書き換えられる。
In other words, in the data rewriting operation, when the logical address Al of [00 0000] to [3F FFFF] and the data (0 or 1) to be stored are specified, the memory cell existing at the physical address Al The most significant bit is rewritten with the specified data.

【0178】また、データの書き換え動作において、
〔40 0000 〕〜〔7F FFFF 〕の論理アドレスAl及び記
憶させるデータ(0又は1)が指定されると、物理アド
レス(Al−〔40 0000 〕)に存在するメモリセルの中
位ビットが指定されたデータに書き換えられる。
In the data rewriting operation,
When the logical address Al of [40 0000] to [7F FFFF] and the data to be stored (0 or 1) are specified, the middle bit of the memory cell existing at the physical address (Al- [40 0000]) is specified. Is rewritten to the data.

【0179】さらに、データの書き換え動作において、
〔80 0000 〕〜〔BF FFFF 〕の論理アドレスAl及び記
憶させるデータ(0又は1)が指定されると、物理アド
レス(Al−〔80 0000 〕)に存在するメモリセルの最
下位ビットが指定されたデータに書き換えられる。
Further, in the data rewriting operation,
When the logical address Al of [80 0000] to [BF FFFF] and the data to be stored (0 or 1) are specified, the least significant bit of the memory cell existing at the physical address (Al- [80 0000]) is specified. Is rewritten to the data.

【0180】先ず、外部から読みだし命令を受信し(ス
テップS21)、論理アドレス信号が入力I/F7に入
力されると(ステップS22)、信号制御回路6が、こ
の論理アドレス信号が〔00 0000 〕〜〔3F FFFF 〕であ
るか否かを判定する(ステップS23)。
First, when a read command is received from the outside (step S21) and a logical address signal is input to the input I / F 7 (step S22), the signal control circuit 6 sets the logical address signal to [00 0000]. ] To [3F FFFF] (step S23).

【0181】ここで、論理アドレス信号が〔00 0000 〕
〜〔3F FFFF 〕である場合には、論理アドレスが物理ア
ドレスと一致し、読みだしが要求されているデータは3
ビットのうちの最上位ビットであることが分かる(ステ
ップS24)。この場合、選択メモリセルの制御ゲート
19に3.5Vの判定電圧を印加し、ドレイン12−ソ
ース13間に電流が流れるか否かを、選択ビット線15
及びセンスアンプ5を通じて検出する(ステップS2
5)。
Here, the logical address signal is [00 0000].
If [3F FFFF], the logical address matches the physical address, and the data requested to be read is 3
It can be seen that this is the most significant bit of the bits (step S24). In this case, a determination voltage of 3.5 V is applied to the control gate 19 of the selected memory cell, and whether or not a current flows between the drain 12 and the source 13 is determined by the selection bit line 15.
And through the sense amplifier 5 (step S2
5).

【0182】そして、ステップS25において、選択メ
モリセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れた
場合、すなわち、選択メモリセルが導通した場合には、
このメモリセルのしきい値電圧は0V,1V,2V,3
Vのいずれかであり、これらのしきい値電圧で指定され
る3ビットのデータはそれぞれ、“000”,“00
1”,“010”,“011”であるため、このメモリ
セルの記憶状態の成分のうち、最上位ビットが“0”で
あることが判定され、このデータを即座に出力I/F8
から出力する(ステップS26)。
In step S25, when a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell, that is, when the selected memory cell becomes conductive,
The threshold voltage of this memory cell is 0 V, 1 V, 2 V, 3
V, and 3-bit data specified by these threshold voltages are “000” and “00”, respectively.
1 ”,“ 010 ”, and“ 011 ”, it is determined that the most significant bit of the storage state component of this memory cell is“ 0 ”, and this data is immediately output to the output I / F 8.
(Step S26).

【0183】一方、ステップS25において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れない
場合、このメモリセルのしきい値電圧は4V,5V,6
V,7Vのいずれかであり、これらのしきい値電圧で指
定される3ビットのデータはそれぞれ、“100”,
“101”,“110”,“111”であるため、この
メモリセルの記憶状態の成分のうち、最上位ビットが
“1”であることが判定され、このデータを即座に出力
I/F8から出力する(ステップS27)。
On the other hand, if no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S25, the threshold voltage of this memory cell is 4V, 5V, 6
V, 7V, and the 3-bit data specified by these threshold voltages are “100”,
Since they are “101”, “110”, and “111”, it is determined that the most significant bit of the storage state component of this memory cell is “1”, and this data is immediately output from the output I / F 8. Output (Step S27).

【0184】また、ステップS23において、入力I/
F7に入力した論理アドレス信号が〔00 0000 〕〜〔3F
FFFF 〕でない場合、更に入力した論理アドレス信号が
〔400000 〕〜〔7F FFFF 〕であるか否かを判定する
(ステップS28)。
In step S23, the input I /
The logical address signal input to F7 is [00 0000]-[3F
If not, it is determined whether or not the input logical address signal is [400000] to [7F FFFF] (step S28).

【0185】ここで、論理アドレス信号が〔40 0000 〕
〜〔7F FFFF 〕である場合には、論理アドレスが物理ア
ドレスと一致せず、物理アドレス=(論理アドレス−
〔40 0000 〕)となり、読みだしが要求されているデー
タは3ビットのうちの中位ビットであることが分かる
(ステップS29)。この場合、選択メモリセルの制御
ゲート19に3.5Vの判定電圧を印加し、ドレイン1
2−ソース13間に電流が流れるか否かを、選択ビット
線15及びセンスアンプ5を通じて検出する(ステップ
S30)。
Here, the logical address signal is [40 0000]
When [7F FFFF], the logical address does not match the physical address, and the physical address = (logical address−
[40 0000]), indicating that the data requested to be read is the middle-order bit of the three bits (step S29). In this case, a determination voltage of 3.5 V is applied to the control gate 19 of the selected memory cell and the drain 1
Whether or not a current flows between the source 2 and the source 13 is detected through the selected bit line 15 and the sense amplifier 5 (step S30).

【0186】ステップS30において、選択メモリセル
のドレイン12−ソース13間に電流が流れた場合に
は、そのメモリセルのしきい値は0V,1V,2V,3
Vのいずれかである。ここで、0V,1Vのしきい値電
圧で指定される3ビットのデータは“000”,“00
1”であって中位ビットはどちらも“0”であり、2
V,3Vのしきい値電圧で指定される3ビットのデータ
は“010”,“011”であって中位ビットはどちら
も“1”である。従って、この中位ビットを判定するた
め、信号制御回路6は、選択メモリセルの制御ゲート1
9に1.5Vの判定電圧を印加するように電圧制御回路
3に命令する(ステップS31)。
In step S30, if a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell, the threshold value of the memory cell is 0V, 1V, 2V, 3
V. Here, 3-bit data specified by threshold voltages of 0 V and 1 V are “000”, “00”
1 ”, the middle bits are both“ 0 ”, and 2
The 3-bit data specified by the threshold voltages V and 3V are "010" and "011", and the middle bits are both "1". Therefore, in order to determine the middle bit, the signal control circuit 6 controls the control gate 1 of the selected memory cell.
9 is instructed to apply a determination voltage of 1.5 V to the voltage control circuit 3 (step S31).

【0187】そして、ステップS31において、選択メ
モリセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れた
場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は0V或いは
1Vであり、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、
中位ビットが“0”であると判定され、このデータを出
力I/F8から出力する(ステップS32)。
If a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S31, the threshold voltage of the memory cell is 0 V or 1 V, and Of the ingredients,
The middle bit is determined to be "0", and this data is output from the output I / F 8 (step S32).

【0188】一方、ステップS31において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は2V或
いは3Vであり、このメモリセルの記憶状態の成分のう
ち、中位ビットが“1”であると判定され、このデータ
を出力I/F8から出力する(ステップS33)。
On the other hand, if no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S31, the threshold voltage of that memory cell is 2 V or 3 V, and the storage state of this memory cell is , The middle bit is determined to be “1”, and this data is output from the output I / F 8 (step S33).

【0189】また、ステップS30において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は4V,
5V,6V,7Vのいずれかである。ここで、4V,5
Vのしきい値電圧で指定される3ビットのデータは“1
00”,“101”であって中位ビットはどちらも
“0”であり、6V,7Vのしきい値電圧で指定される
3ビットのデータは“010”,“011”であって中
位ビットはどちらも“1”である。従って、この中位ビ
ットを判定するため、信号制御回路6は、選択メモリセ
ルの制御ゲート19に5.5Vの判定電圧を印加するよ
うに電圧制御回路3に命令する(ステップS34)。
If no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S30, the threshold voltage of the selected memory cell is 4V.
5V, 6V, or 7V. Here, 4V, 5
The 3-bit data specified by the threshold voltage of V is "1"
00 "and" 101 ", the middle bits are both" 0 ", and the 3-bit data specified by the threshold voltages of 6V and 7V are" 010 "and" 011 " Therefore, in order to determine the middle bit, the signal control circuit 6 applies a determination voltage of 5.5 V to the control gate 19 of the selected memory cell. (Step S34).

【0190】そして、ステップS34において、選択メ
モリセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れた
場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は4V或いは
5Vであり、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、
中位ビットが“0”であると判定され、このデータを出
力I/F8から出力する(ステップS32)。
When a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S34, the threshold voltage of the memory cell is 4V or 5V, and Of the ingredients,
The middle bit is determined to be "0", and this data is output from the output I / F 8 (step S32).

【0191】一方、ステップS34において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は6V或
いは7Vであり、このメモリセルの記憶状態の成分のう
ち、中位ビットが“1”であると判定され、このデータ
を出力I/F8から出力する(ステップS33)。
On the other hand, if no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S34, the threshold voltage of that memory cell is 6 V or 7 V, and the storage state of this memory cell is , The middle bit is determined to be “1”, and this data is output from the output I / F 8 (step S33).

【0192】また、ステップS28において、入力I/
F7に入力した論理アドレス信号が〔40 0000 〕〜〔7F
FFFF 〕でない場合には、論理アドレス信号は〔80 000
0 〕〜〔BF FFFF 〕、すなわち、物理アドレス=(論理
アドレス−〔80 0000 〕)となり、読みだしが要求され
ているデータは3ビットのうちの最下位ビットであるこ
とが分かる(ステップS35)。この場合、選択メモリ
セルの制御ゲート19に3.5Vの判定電圧を印加し、
ドレイン12−ソース13間に電流が流れるか否かを、
選択ビット線15及びセンスアンプ5を通じて検出する
(ステップS36)。
In step S28, the input I /
The logical address signal input to F7 is [40 0000]-[7F
FFFF], the logical address signal is [80 000
0] to [BF FFFF], that is, physical address = (logical address− [80 0000]), and it can be seen that the data requested to be read is the least significant bit of the three bits (step S35). . In this case, a determination voltage of 3.5 V is applied to the control gate 19 of the selected memory cell,
It is determined whether a current flows between the drain 12 and the source 13 or not.
Detection is performed through the selected bit line 15 and the sense amplifier 5 (step S36).

【0193】ステップS36において、選択メモリセル
のドレイン12−ソース13間に電流が流れた場合に
は、そのメモリセルのしきい値は0V,1V,2V,3
Vのいずれかであり、これらの各しきい値電圧で指定さ
れる3ビットのデータはそれぞれ、“000”,“00
1”,“010”,“011”であるため、この段階で
はまだ最下位ビットを特定することはできない。従っ
て、最下位ビットを特定するため、信号制御回路6は、
先ず選択メモリセルの制御ゲート19に1.5Vの判定
電圧を印加するように電圧制御回路3に命令する(ステ
ップS37)。
In step S36, if a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell, the threshold value of the memory cell is 0V, 1V, 2V, 3
V, and the 3-bit data specified by each of these threshold voltages is “000”, “00”, respectively.
1 ”,“ 010 ”, and“ 011 ”, it is not possible to specify the least significant bit at this stage yet, so to specify the least significant bit, the signal control circuit 6
First, the voltage control circuit 3 is instructed to apply a determination voltage of 1.5 V to the control gate 19 of the selected memory cell (step S37).

【0194】ステップS37において、選択メモリセル
のドレイン12−ソース13間に電流が流れた場合に
は、そのメモリセルのしきい値は0V或いは1Vであ
り、これらの各しきい値電圧で指定される3ビットのデ
ータは、“000”或いは“001”である。従って、
最下位ビットを特定するため、信号制御回路6は、選択
メモリセルの制御ゲート19に0.5Vの判定電圧を印
加するように電圧制御回路3に命令する(ステップS3
8)。
In step S37, when a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell, the threshold value of the memory cell is 0 V or 1 V, and is specified by each of these threshold voltages. The 3-bit data is “000” or “001”. Therefore,
In order to specify the least significant bit, the signal control circuit 6 instructs the voltage control circuit 3 to apply a determination voltage of 0.5 V to the control gate 19 of the selected memory cell (step S3).
8).

【0195】そして、ステップS38において、選択メ
モリセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れた
場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は0Vであ
り、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、最下位ビ
ットが“0”であると判定され、このデータを出力I/
F8から出力する(ステップS39)。
If a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S38, the threshold voltage of the memory cell is 0 V, and the component of the storage state of this memory cell is Of these, the least significant bit is determined to be “0”, and this data is output to I / O
Output from F8 (step S39).

【0196】一方、ステップS38において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は1Vで
あり、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、最下位
ビットが“1”であると判定され、このデータを出力I
/F8から出力する(ステップS40)。
On the other hand, if no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S38, the threshold voltage of that memory cell is 1 V, and the component of the storage state of this memory cell is Is determined that the least significant bit is "1", and this data is output to I
/ F8 (step S40).

【0197】また、ステップS37において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値は2V或いは
3Vであり、これらの各しきい値電圧で指定される3ビ
ットのデータは、“010”或いは“011”である。
従って、最下位ビットを特定するため、信号制御回路6
は、選択メモリセルの制御ゲート19に2.5Vの判定
電圧を印加するように電圧制御回路3に命令する(ステ
ップS41)。
If no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S37, the threshold value of the memory cell is 2 V or 3 V, and each of these threshold voltages Is 3-bit data "010" or "011".
Therefore, to specify the least significant bit, the signal control circuit 6
Commands the voltage control circuit 3 to apply a determination voltage of 2.5 V to the control gate 19 of the selected memory cell (step S41).

【0198】そして、ステップS41において、選択メ
モリセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れた
場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は2Vであ
り、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、最下位ビ
ットが“0”であると判定され、このデータを出力I/
F8から出力する(ステップS39)。
When a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S41, the threshold voltage of the memory cell is 2 V, and the component of the storage state of this memory cell is Of these, the least significant bit is determined to be “0”, and this data is output to I / O
Output from F8 (step S39).

【0199】一方、ステップS41において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は3Vで
あり、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、最下ビ
ットが“1”であると判定され、このデータを出力I/
F8から出力する(ステップS40)。
On the other hand, if no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S41, the threshold voltage of the memory cell is 3 V, and the component of the storage state of this memory cell is , The lowest bit is determined to be “1”, and this data is output to I / O
Output from F8 (step S40).

【0200】また、ステップS36において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値は4V,5
V,6V,7Vのいずれかであり、これらの各しきい値
電圧で指定される3ビットのデータはそれぞれ、“10
0”,“101”,“110”,“111”であるた
め、この段階ではまだ最下位ビットを特定することはで
きない。従って、最下位ビットを特定するため、信号制
御回路6は、先ず選択メモリセルの制御ゲート19に
5.5Vの判定電圧を印加するように電圧制御回路3に
命令する(ステップS42)。
If no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S36, the threshold value of the selected memory cell is 4V, 5.
V, 6V, or 7V, and the 3-bit data specified by each of these threshold voltages is "10
Since the bits are 0, 101, 110, and 111, the least significant bit cannot be specified at this stage, so the signal control circuit 6 first selects the least significant bit to specify the least significant bit. The voltage control circuit 3 is instructed to apply a determination voltage of 5.5 V to the control gate 19 of the memory cell (step S42).

【0201】ステップS42において、選択メモリセル
のドレイン12−ソース13間に電流が流れた場合に
は、そのメモリセルのしきい値は4V或いは5Vであ
り、これらの各しきい値電圧で指定される3ビットのデ
ータは、“100”或いは“101”である。従って、
最下位ビットを特定するため、信号制御回路6は、選択
メモリセルの制御ゲート19に4.5Vの判定電圧を印
加するように電圧制御回路3に命令する(ステップS4
3)。
In step S42, when a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell, the threshold value of the memory cell is 4 V or 5 V, and is specified by each of these threshold voltages. The 3-bit data is “100” or “101”. Therefore,
In order to specify the least significant bit, the signal control circuit 6 instructs the voltage control circuit 3 to apply a determination voltage of 4.5 V to the control gate 19 of the selected memory cell (step S4).
3).

【0202】そして、ステップS43において、選択メ
モリセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れた
場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は4Vであ
り、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、最下位ビ
ットが“0”であると判定され、このデータを出力I/
F8から出力する(ステップS39)。
When a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S43, the threshold voltage of the memory cell is 4 V, and the component of the storage state of this memory cell is Of these, the least significant bit is determined to be “0”, and this data is output to I / O
Output from F8 (step S39).

【0203】一方、ステップS43において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は5Vで
あり、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、最下位
ビットが“1”であると判定され、このデータを出力I
/F8から出力する(ステップS40)。
On the other hand, if no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S43, the threshold voltage of that memory cell is 5 V, and the component of the storage state of this memory cell is Is determined that the least significant bit is "1", and this data is output to I
/ F8 (step S40).

【0204】また、ステップS42において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値は6V或いは
7Vであり、これらの各しきい値電圧で指定される3ビ
ットのデータは、“110”或いは“111”である。
従って、最下位ビットを特定するため、信号制御回路6
は、選択メモリセルの制御ゲート19に6.5Vの判定
電圧を印加するように電圧制御回路3に命令する(ステ
ップS44)。
If no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S42, the threshold value of the memory cell is 6V or 7V. The 3-bit data designated by “1” is “110” or “111”.
Therefore, to specify the least significant bit, the signal control circuit 6
Commands the voltage control circuit 3 to apply a determination voltage of 6.5 V to the control gate 19 of the selected memory cell (step S44).

【0205】そして、ステップS44において、選択メ
モリセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れた
場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は6Vであ
り、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、最下位ビ
ットが“0”であると判定され、このデータを出力I/
F8から出力する(ステップS39)。
When a current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S44, the threshold voltage of the memory cell is 6 V, and the component of the storage state of the memory cell is Of these, the least significant bit is determined to be “0”, and this data is output to I / O
Output from F8 (step S39).

【0206】一方、ステップS44において、選択メモ
リセルのドレイン12−ソース13間に電流が流れなか
った場合には、そのメモリセルのしきい値電圧は7Vで
あり、このメモリセルの記憶状態の成分のうち、最下位
ビットが“1”であると判定され、このデータを出力I
/F8から出力する(ステップS40)。
On the other hand, if no current flows between the drain 12 and the source 13 of the selected memory cell in step S44, the threshold voltage of that memory cell is 7 V, and the component of the storage state of this memory cell is Is determined that the least significant bit is "1", and this data is output to I
/ F8 (step S40).

【0207】上述のように、この第2の実施形態におい
ては、論理アドレス〔00 0000 〕〜〔BF FFFF 〕をアク
セス速度の速いアドレス空間とアクセス速度の比較的遅
いアドレス空間とに階層化する。ここで、アクセス速度
の速いアドレス空間をアドレス空間A1 (論理アドレス
〔00 0000 〕〜〔3F FFFF 〕)とし、アクセス速度の比
較的遅いアドレス空間を更に細分化して、アドレス空間
1 に次いでアクセス速度の速いアドレス空間をアドレ
ス空間A2 (論理アドレス〔40 0000 〕〜〔BFFFFF
〕)とし、アドレス空間A2 に次いでアクセス速度の
速いアドレス空間をアドレス空間A3 (論理アドレス
〔40 0000 〕〜〔BF FFFF 〕)として階層化する。
As described above, in the second embodiment, the logical addresses [00 0000] to [BF FFFF] are hierarchized into an address space having a high access speed and an address space having a relatively low access speed. Here, an address space having a high access speed is referred to as an address space A 1 (logical address [00 0000] to [3F FFFF]), and an address space having a relatively low access speed is further subdivided to access the address space A 1. The high-speed address space is defined as address space A 2 (logical addresses [40 0000] to [BFFFFF
]), And stratified as the address space A 2 in then in address fast address space access speed space A 3 (logical address [40 0000] to [BF FFFF]).

【0208】論理アドレス〔00 0000 〕〜〔7F FFFF 〕
のうち、物理アドレス〔00 0000 〕〜〔3F FFFF 〕が張
るアドレス空間と1対1対応する部分空間(論理アドレ
ス〔00 0000 〕〜〔3F FFFF 〕)をアクセス速度の速い
アドレス空間A1 とする。そして、メモリセルの記憶状
態の特定の成分、ここでは最上位ビットにアドレス空間
1 のデータを格納する。そして、中位ビットにアドレ
ス空間A1 に次いでアクセス速度の速いアドレス空間A
2 のデータを、最下位ビットにアドレス空間A2 に次い
でアクセス速度の速いアドレス空間A3 のデータをそれ
ぞれ格納する。
[0208] Logical address [00 0000]-[7F FFFF]
Among them, the physical address [00 0000] to address space and one-to-one corresponding subspace (logical address [00 0000] to [3F FFFF]) fast address space A 1 access speed of the [3F FFFF] spanned the . The specific components of the memory state of the memory cell, wherein the store data of the address space A 1 to the most significant bit. Then, the address space A having the next highest access speed after the address space A 1 is set in the middle bit.
The second data, and stores each access speed faster address space A 3 of data next to the least significant bit in the address space A 2.

【0209】入力された論理アドレスが前記部分空間に
含まれるもの(論理アドレス〔00 0000 〕〜〔3F FFFF
〕)である場合には、この論理アドレスは最上位ビッ
トのデータを指定しており、3.5Vの判定電圧による
1回の判定により即座に最上位ビットのデータが分か
り、出力されることになる。また、入力された論理アド
レスが前記部分空間には含まれないが、この部分空間に
近いアドレス空間に含まれるもの(論理アドレス〔40 0
000 〕〜〔7F FFFF 〕)である場合には、この論理アド
レスは中位ビットのデータを指定しており、3.5V
と、1.5V或いは5.5Vの判定による2回の判定に
より中位ビットのデータが分かり、出力されることにな
る。
[0209] Input logical addresses included in the partial space (logical addresses [00 0000] to [3F FFFF]
]), This logical address specifies the data of the most significant bit, and the data of the most significant bit is immediately recognized and output by one determination with the determination voltage of 3.5 V. Become. The input logical address is not included in the partial space, but is included in an address space close to this partial space (logical address [400 0
000]-[7F FFFF]), this logical address specifies the middle-order bit data, and
And the two determinations of 1.5 V or 5.5 V determine the middle bit data and output it.

【0210】すなわち、最上位ビットのデータを読みだ
す場合では、すべての判定値により各しきい値電圧を調
べる場合に比して、読みだし速度が約3倍となり、中位
ビットのデータを読みだす場合では、すべての判定電圧
により各しきい値電圧を調べる場合に比して、読みだし
速度が約1.5倍となる。従って、最上位ビットにアク
セス頻度の最も高いデータを格納し、中位ビットに最上
位ビットに次ぐアクセス頻度の高いデータを、最下位ビ
ットに比較的アクセス頻度の低いデータをそれぞれ格納
することにより、操作者(プログラマ)にはあたかも単
一(或いは2段階)の高速記憶装置が存在しているかの
如く見え、極めて効率良く多値記憶EEPROMの読み
だしを行うことが可能となる。
That is, when reading the data of the most significant bit, the reading speed becomes about three times as compared with the case where each threshold voltage is checked by all the judgment values, and the data of the middle bit is read. In this case, the reading speed is about 1.5 times that in the case where each threshold voltage is checked by using all the judgment voltages. Therefore, by storing the most frequently accessed data in the most significant bit, storing the most frequently accessed data next to the most significant bit in the middle bit, and storing the relatively infrequently accessed data in the least significant bit, respectively. The operator (programmer) looks as if there is a single (or two-stage) high-speed storage device, and can read the multi-value storage EEPROM extremely efficiently.

【0211】以上、本発明を浮遊ゲート型のメモリセル
を有するEEPROMに多値記憶を行わせた場合を例に
とって説明したが、多値記憶を行わせるメモリセルとし
ては、浮遊ゲート型のものに限らず、MNOS型のもの
でも良い。
Although the present invention has been described with reference to an example in which an EEPROM having a floating gate type memory cell performs multi-level storage, a floating gate type memory cell is used as a memory cell for performing multi-level storage. However, the present invention is not limited to this and may be an MNOS type.

【0212】また、本発明は、EEPROM以外にも、
EPROMやPROMに多値記憶を行わせた場合の読み
だし方法、更には、例えば、電界効果トランジスタのチ
ャネル領域にイオン注入する不純物の量を制御すること
によりしきい値を変化させて記憶状態を得るマスクRO
Mに多値記憶を行わせた場合の読みだし方法にも適用が
可能である。
[0212] Further, the present invention is not limited to the EEPROM.
A reading method in a case where an EPROM or a PROM performs multi-value storage, and further, for example, changing a threshold by controlling the amount of impurities implanted into a channel region of a field-effect transistor to change a storage state. Obtained mask RO
The present invention can also be applied to a reading method when M is made to perform multi-value storage.

【0213】更に、本発明の読み出し方法はDRAMに
も適用できる。この場合、炉フレッシュを行うことは言
うまでもない。
Furthermore, the read method of the present invention can be applied to a DRAM. In this case, it goes without saying that a furnace fresh is performed.

【0214】更に、上述の第1,第2の実施形態では、
1個のメモリセルに2ビット又は3ビットの記憶容量を
持たせたが、本発明は1個のメモリセルに4値(2ビッ
ト)以上の記憶容量を持たせた全ての場合に適用が可能
であり、特に、記憶容量が大きいほど効果的である。
Further, in the first and second embodiments described above,
Although one memory cell has a storage capacity of 2 bits or 3 bits, the present invention can be applied to all cases where one memory cell has a storage capacity of four values (2 bits) or more. In particular, the larger the storage capacity, the more effective.

【0215】なお、上述の第1,第2の実施形態では、
アドレスを判定した後、各値のしきい値電圧が設定され
たメモリセルの制御ゲートに所定の判定電圧を印加して
メモリセルのドレイン−ソース間に電流が流れるか否か
を検出する手法について説明したが、メモリセルからの
出力電圧を所定の判定電圧と比較してデータを判定する
こともできる。この方法を図11の回路図を参照して説
明する。
In the first and second embodiments described above,
A method for detecting whether or not a current flows between a drain and a source of a memory cell by applying a predetermined determination voltage to a control gate of a memory cell in which a threshold voltage of each value is set after determining an address Although described, the data may be determined by comparing the output voltage from the memory cell with a predetermined determination voltage. This method will be described with reference to the circuit diagram of FIG.

【0216】図7の判定回路は、図1のセルアレイ1と
マルチプレクサ4との間に設けられる。セルアレイ1の
メモリセル1aに設定された下位ビットに相当するしき
い値電圧Vth1が、インバータ40、トランジスタ4
1,42からなる出力バッファを介してセンスアンプ4
3の反転入力端子に与えられる。センスアンプ43の非
反転入力端子にはトランジスタ47に設定された判定電
圧V47が、インバータ46、トランジスタ44,45
からなる出力バッファを介して与えられる。
The determination circuit of FIG. 7 is provided between the cell array 1 and the multiplexer 4 of FIG. The threshold voltage Vth1 corresponding to the lower bit set in the memory cell 1a of the cell array 1 is determined by the inverter 40 and the transistor 4
Sense amplifier 4 via an output buffer comprising
3 inverting input terminal. The judgment voltage V47 set in the transistor 47 is supplied to the non-inverting input terminal of the sense amplifier 43 by the inverter 46 and the transistors 44 and 45.
Via an output buffer consisting of

【0217】しきい値電圧Vth1が判定電圧V47より
小さい場合、センスアンプ43の出力はHithになる
ので、メモリセル1aに記憶された下位ビットD0は”
1”と判定される。センスアンプ43の出力がHith
なので、トランジスタ52がオンする一方、インバータ
53によりトランジスタ54がオフする。従って、トラ
ンジスタ52に設定された判定電圧V52が、インバー
タ51、トランジスタ49,50からなる出力バッファ
を介してセンスアンプ48の非反転入力端子に与えられ
る。そして、メモリセル1aに設定された上位ビットに
相当するしきい値電圧Vth2が、出力バッファを介して
センスアンプ48の反転入力端子に与えられる。
When the threshold voltage Vth1 is smaller than the judgment voltage V47, the output of the sense amplifier 43 becomes High, so that the lower bit D0 stored in the memory cell 1a is set to "
1 ". The output of the sense amplifier 43 is High.
Therefore, while the transistor 52 is turned on, the transistor 54 is turned off by the inverter 53. Therefore, the determination voltage V52 set for the transistor 52 is supplied to the non-inverting input terminal of the sense amplifier 48 via the output buffer including the inverter 51 and the transistors 49 and 50. Then, the threshold voltage Vth2 corresponding to the upper bit set in the memory cell 1a is applied to the inverting input terminal of the sense amplifier 48 via the output buffer.

【0218】しきい値電圧Vth2が判定電圧V52より
小さい場合、センスアンプ48の出力はHithになる
ので、メモリセル1aに記憶された上位ビットD1は”
1”と判定される。一方、しきい値電圧Vth2が判定電
圧V52より大きい場合、センスアンプ48の出力はL
owになるので、メモリセル1aに記憶された上位ビッ
トD1は”0”と判定される。
When the threshold voltage Vth2 is smaller than the judgment voltage V52, the output of the sense amplifier 48 becomes High, so that the upper bit D1 stored in the memory cell 1a becomes "1".
On the other hand, when the threshold voltage Vth2 is higher than the determination voltage V52, the output of the sense amplifier 48 is L
Therefore, the upper bit D1 stored in the memory cell 1a is determined to be "0".

【0219】次に、しきい値電圧Vth1が判定電圧V4
7より大きい場合、センスアンプ43の出力はLowに
なるので、メモリセル1aに記憶された下位ビットD0
は”0”と判定される。センスアンプ43の出力がLo
wなので、トランジスタ52がオフする一方、インバー
タ53によりトランジスタ54がオンする。従って、ト
ランジスタ54に設定された判定電圧V54が、出力バ
ッファを介してセンスアンプ48の非反転入力端子に与
えられる。そして、メモリセル1aに設定された上位ビ
ットに相当するしきい値電圧Vth2が、出力バッファを
介してセンスアンプ48の反転入力端子に与えられる。
Next, the threshold voltage Vth1 becomes equal to the judgment voltage V4.
7, the output of the sense amplifier 43 becomes Low, and the lower bit D0 stored in the memory cell 1a is output.
Is determined to be “0”. When the output of the sense amplifier 43 is Lo
Since it is w, the transistor 52 is turned off while the transistor 54 is turned on by the inverter 53. Therefore, the determination voltage V54 set in the transistor 54 is supplied to the non-inverting input terminal of the sense amplifier 48 via the output buffer. Then, the threshold voltage Vth2 corresponding to the upper bit set in the memory cell 1a is applied to the inverting input terminal of the sense amplifier 48 via the output buffer.

【0220】しきい値電圧Vth2が判定電圧V54より
小さい場合、センスアンプ48の出力はHithになる
ので、メモリセル1aに記憶された上位ビットD1は”
1”と判定される。一方、しきい値電圧Vth2が判定電
圧V54より大きい場合、センスアンプ48の出力はL
owになるので、メモリセル1aに記憶された上位ビッ
トD1は”0”と判定される。
When the threshold voltage Vth2 is smaller than the determination voltage V54, the output of the sense amplifier 48 becomes High, so that the upper bit D1 stored in the memory cell 1a is set to "
On the other hand, when the threshold voltage Vth2 is higher than the determination voltage V54, the output of the sense amplifier 48 is L
Therefore, the upper bit D1 stored in the memory cell 1a is determined to be "0".

【0221】このようにして、2ビット(4値)のデー
タ(00、01、10、11)が判定される。この手法
は、ビット数に応じて、センスアンプや、判定電圧供給
回路を増やせば4値以上の多値メモリセルにも適用でき
る。
In this way, 2-bit (quaternary) data (00, 01, 10, 11) is determined. This method can be applied to multi-valued memory cells having four or more values by increasing the number of sense amplifiers and determination voltage supply circuits according to the number of bits.

【0222】なお、上述した実施形態の機能を実現する
ように各種のデバイスを動作させるように、前記各種デ
バイスと接続された装置あるいはシステム内のコンピュ
ータに対し、前記実施形態の機能を実現するためのソフ
トウェアのプログラムコードを供給し、そのシステムあ
るいは装置のコンピュータ(CPUあるいはMPU)に
格納されたプログラムに従って前記各種デバイスを動作
させることによって実施したものも、本発明の範疇に含
まれる。
Note that, in order to realize various functions so as to realize the functions of the above-described embodiments, an apparatus connected to the various devices or a computer in a system is required to realize the functions of the above-described embodiments. The present invention also includes a program that is implemented by supplying the program code of the software described above and operating the various devices according to a program stored in a computer (CPU or MPU) of the system or apparatus.

【0223】また、この場合、前記ソフトウェアのプロ
グラムコード自体が上述した実施形態の機能を実現する
ことになり、そのプログラムコード自体、およびそのプ
ログラムコードをコンピュータに供給するための手段、
例えばかかるプログラムコードを格納した記憶媒体31
は本発明を構成する。
In this case, the program code of the software implements the functions of the above-described embodiment, and the program code itself and means for supplying the program code to the computer are provided.
For example, a storage medium 31 storing such a program code
Constitute the present invention.

【0224】記憶媒体31は、入出力I/F8を介して
信号制御回路6に接続された記憶再生装置30により、
そこに格納されているプログラムコードが読みだされ、
信号制御回路6を構成するコンピュータを動作させる。
なお、かかるプログラムコードを記憶する記憶媒体31
としては、例えばフロッピーディスク、ハードディス
ク、光ディスク、光磁気ディスク、CD−ROM、磁気
テープ、不揮発性のメモリカード、ROM等を用いるこ
とができる。
The storage medium 31 is stored in the storage / reproduction device 30 connected to the signal control circuit 6 via the input / output I / F 8.
The program code stored there is read out,
The computer constituting the signal control circuit 6 is operated.
The storage medium 31 for storing the program code
For example, a floppy disk, hard disk, optical disk, magneto-optical disk, CD-ROM, magnetic tape, nonvolatile memory card, ROM, or the like can be used.

【0225】[0225]

【発明の効果】本発明は上述したように、本発明によれ
ば、1つのメモリセルに記憶されている多値情報が失わ
れても、誤り訂正を効率よく行うようにすることができ
る。
As described above, according to the present invention, even if multi-valued information stored in one memory cell is lost, error correction can be performed efficiently.

【0226】また、本発明の他の特徴によれば、入力さ
れた論理アドレスに応じて、アクセス頻度の高いデータ
を高速で読み出すことを可能とし、読み出し時のアクセ
ス時間を大幅に短縮することができる。
Further, according to another feature of the present invention, it is possible to read out frequently accessed data at high speed in accordance with an input logical address, thereby greatly reducing the access time at the time of reading. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態によるEEPROMの主要な
構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a main configuration of an EEPROM according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態によるEEPROMの浮遊ゲ
ート型メモリセルの概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a floating gate type memory cell of an EEPROM according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の書き込み方法の第1の実施形態を説明
する模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a first embodiment of a writing method according to the present invention.

【図4】本発明の書き込み方法の第2の実施形態を説明
する模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a second embodiment of the writing method of the present invention.

【図5】本発明の書き込み方法の第2の実施形態の変形
例を説明する模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a modification of the second embodiment of the writing method of the present invention.

【図6】本発明の書き込み方法の第3の実施形態を説明
する模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a third embodiment of the writing method according to the present invention.

【図7】本発明の書き込み方法の第3の実施形態の変形
例を説明する模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a modification of the third embodiment of the writing method of the present invention.

【図8】本発明の読み出し方法の第1の実施形態による
読みだし方法のフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart of a reading method according to a first embodiment of the reading method of the present invention.

【図9】図8のフローチャートにおけるしきい値電圧を
判定する方法を説明するブロック図である。
9 is a block diagram illustrating a method for determining a threshold voltage in the flowchart of FIG.

【図10】本発明の読み出し方法の第2の実施形態によ
る読みだし方法のフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart of a reading method according to a second embodiment of the reading method of the present invention.

【図11】しきい値電圧を判定する他の方法を説明する
ブロック図である。
FIG. 11 is a block diagram illustrating another method for determining a threshold voltage.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 デコーダ 3 電圧発生及び電圧制御回路 4 マルチプレクサ 5 センスアンプ 6 信号制御回路 6a 情報ビット分散手段 7 入力I/F 8 出力I/F 9 変換回路 11 シリコン基板 12 ドレイン 13 ソース 17 浮遊ゲート 19 制御ゲート 30 記憶再生装置 31 記憶媒体 40,46,51,53 インバータ 41,42,44,45,47,49,50,52,5
4 トランジスタ 43,48 センスアンプ 55 スイッチ回路 56 参照電圧発生回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Memory cell array 2 Decoder 3 Voltage generation and voltage control circuit 4 Multiplexer 5 Sense amplifier 6 Signal control circuit 6a Information bit distribution means 7 Input I / F 8 Output I / F 9 Conversion circuit 11 Silicon substrate 12 Drain 13 Source 17 Floating gate 19 Control gate 30 Storage / reproduction device 31 Storage medium 40, 46, 51, 53 Inverter 41, 42, 44, 45, 47, 49, 50, 52, 5
4 Transistor 43, 48 Sense amplifier 55 Switch circuit 56 Reference voltage generation circuit

Claims (66)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 各々が3個以上の相異なる所定の記憶状
態のうちの1つを保持する複数個の多値メモリセルと、 任意の符号化方法によって符号化された少なくとも第1
の符号と第2の符号が与えられ、前記第1の符号を構成
する複数の第1の情報ビットと前記第2の符号を構成す
る複数の第2の情報ビットのうち、同じ桁の情報ビット
同士が1組となって対応する前記多値メモリセルに記憶
されるように前記第1及び第2の情報ビットを並べ替え
る並べ替え手段と、 並べ替えられた前記情報ビットに対応して所定電圧を発
生させる電圧発生手段と、 アドレス情報を受けて、当該アドレス情報に対応した前
記多値メモリセルに前記所定電圧を印加する電圧印加手
段とを備えることを特徴とする多値半導体記憶装置。
A plurality of multi-level memory cells each holding one of three or more different predetermined storage states; and at least a first memory cell encoded by an arbitrary encoding method.
And a second code, the information bits of the same digit among the plurality of first information bits forming the first code and the plurality of second information bits forming the second code Rearranging means for rearranging the first and second information bits such that the first and second information bits are stored in the corresponding multi-valued memory cell as one set; and a predetermined voltage corresponding to the rearranged information bits. And a voltage application means for receiving the address information and applying the predetermined voltage to the multi-valued memory cell corresponding to the address information.
【請求項2】 前記並べ替え手段は、前記符号化方法の
誤り訂正能力に応じて、前記各多値メモリセルに記憶す
るビット数を制御することを特徴とする請求項1に記載
の多値半導体記憶装置。
2. The multi-valued memory according to claim 1, wherein said rearranging means controls the number of bits stored in each of said multi-valued memory cells according to an error correction capability of said encoding method. Semiconductor storage device.
【請求項3】 前記並び替え手段は、前記複数の多値メ
モリセルの1つが記憶するビット数がmであるときに、
m個の情報ビットを前記1つの多値メモリセルに記憶さ
せるように、符号長nの符号m個をm×n配列の各行と
して並べ替えることを特徴とする請求項1又は2に記載
の多値半導体記憶装置。
3. The reordering means, wherein when the number of bits stored in one of the plurality of multi-level memory cells is m,
3. The multi-level memory according to claim 1, wherein m codes of code length n are rearranged as respective rows of an m.times.n array so that m information bits are stored in said one multi-level memory cell. Value semiconductor storage device.
【請求項4】 前記多値メモリセルは不揮発性半導体メ
モリであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1
項に記載の多値半導体記憶装置。
4. The multi-level memory cell according to claim 1, wherein said multi-level memory cell is a nonvolatile semiconductor memory.
13. The multi-valued semiconductor memory device according to item 1.
【請求項5】 各々が3個以上の相異なる所定の記憶状
態のうちの1つを保持する複数個の多値メモリセルを備
えた多値半導体記憶装置への情報ビットの書き込み方法
であって、 任意の符号化方法によって符号化された少なくとも第1
の符号と第2の符号が与えられ、前記第1の符号を構成
する複数の第1の情報ビットと前記第2の符号を構成す
る複数の第2の情報ビットのうち、同じ桁の情報ビット
同士が1組となって対応する前記多値メモリセルに記憶
されるように前記第1及び第2の情報ビットを並び替え
る第1のステップと、 前記並び替えられた前記情報ビットに対応して所定電圧
を発生させる第2のステップと、 アドレス情報を受けて、当該アドレス情報に対応した前
記多値メモリセルに前記所定電圧を印加する第3のステ
ップとを備えることを特徴とする書き込み方法。
5. A method for writing information bits to a multi-level semiconductor memory device comprising a plurality of multi-level memory cells each holding one of three or more different predetermined storage states. At least the first encoded by any encoding method
And a second code, the information bits of the same digit among the plurality of first information bits forming the first code and the plurality of second information bits forming the second code A first step of rearranging the first and second information bits so that the information bits are stored as a set in the corresponding multi-valued memory cell; A writing method, comprising: a second step of generating a predetermined voltage; and a third step of receiving address information and applying the predetermined voltage to the multi-level memory cell corresponding to the address information.
【請求項6】 コンピュータによって各々が3個以上の
相異なる所定の記憶状態のうちの1つを保持する複数の
多値メモリセルを備えた多値半導体記憶装置に情報ビッ
トを書き込むためのプログラムが記憶された記憶媒体で
あって、 任意の符号化方法によって符号化された少なくとも第1
の符号と第2の符号において、前記第1の符号を構成す
る複数の第1の情報ビットと、前記第2の符号を構成す
る複数の第2の情報ビットとのうち、同じ桁の情報ビッ
ト同士が1組として前記複数の多値メモリセルの1つに
記憶されるように前記第1及び第2の情報ビットを並べ
替えるプログラムが記憶されたことを特徴とする記憶媒
体。
6. A program for writing information bits to a multilevel semiconductor memory device having a plurality of multilevel memory cells each holding one of three or more different predetermined storage states by a computer. A stored storage medium, comprising at least a first encoded by an arbitrary encoding method.
And the second code, the information bit of the same digit among the plurality of first information bits forming the first code and the plurality of second information bits forming the second code A storage medium storing a program for rearranging the first and second information bits such that the first and second information bits are stored in one of the plurality of multi-valued memory cells as one set.
【請求項7】 並べ替えられた前記第1及び第2の情報
ビットに応じた所定電圧を発生させ、アドレス情報を受
けて、当該アドレス情報に対応した前記多値メモリセル
に前記所定電圧を印加するプログラムが記憶されたこと
を特徴とする請求項6に記載の記憶媒体。
7. A predetermined voltage corresponding to the rearranged first and second information bits is generated, the address information is received, and the predetermined voltage is applied to the multi-level memory cell corresponding to the address information. The storage medium according to claim 6, wherein a program for performing the operation is stored.
【請求項8】 論理アドレスが与えられて物理アドレス
に変換する変換手段と、 前記物理アドレスを含む物理アドレス空間に対応して配
置され、n個(n≧2)の成分(X1 ,X2 ,…,
n )で表現される2n 値の記憶状態を保持する複数の
多値メモリセルと、 前記論理アドレスを含む論理アドレス空間が前記物理ア
ドレス空間と一致するか否かを判定する判定手段と、 前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致す
ると判定された場合に、最上位の前記成分X1 を所定の
判定値により1回で特定する特定手段と、 特定された前記成分X1 を前記複数の多値メモリセルの
うちの前記物理アドレスに対応する多値メモリセルから
出力させる出力手段とを備えたことを特徴とする多値半
導体記憶装置。
8. A conversion means which receives a logical address and converts the physical address into a physical address; and n (n ≧ 2) components (X 1 , X 2 ) arranged corresponding to a physical address space including the physical address. ,…,
X n ), a plurality of multi-valued memory cells that hold a 2 n -valued storage state represented by X n ), and a determination unit that determines whether a logical address space including the logical address matches the physical address space. if the logical address space is determined to match said physical address space, the plurality specifying means for specifying the component X 1 of the uppermost once the predetermined determination value, the component X 1 identified Output means for outputting from the multi-valued memory cell corresponding to the physical address among the multi-valued memory cells.
【請求項9】 前記各多値メモリセルは少なくとも1つ
のトランジスタを含み、前記特定手段は、 前記判定値に対応する電圧を発生させる第1の手段と、 前記物理アドレスが与えられてアドレス信号を出力する
第2の手段と、 前記アドレス信号に応答して前記電圧を前記物理アドレ
スに対応する前記多値メモリセルに与える第3の手段
と、 前記電圧が与えられた前記トランジスタのソース−ドレ
イン間に電流が流れるか否かを判定する第4の手段と、 前記第4の手段における判定結果により前記最上位の前
記成分X1 を特定する第5の手段とを含むことを特徴と
する請求項8に記載の多値半導体記憶装置。
9. Each of the multi-valued memory cells includes at least one transistor, the specifying means includes first means for generating a voltage corresponding to the determination value, and an address signal given the physical address. A second means for outputting the voltage; a third means for applying the voltage to the multi-level memory cell corresponding to the physical address in response to the address signal; and a source-drain between the transistor to which the voltage is applied. And a fourth means for determining whether or not a current flows through the first means, and a fifth means for specifying the highest-order component X1 based on a result of the determination in the fourth means. 9. The multilevel semiconductor memory device according to item 8.
【請求項10】 前記特定手段は、 前記各多値メモリセルの出力部位に一方の入力端子が接
続され、前記最上位の前記成分X1 に対応する電圧が供
給される比較器と、 前記比較器の他方の入力端子に接続され、この他方の入
力端子に前記所定の判定値に対応する電圧を供給する電
圧供給回路とを含み、 前記比較器の判定結果により前記最上位の前記成分X1
を特定することを特徴とする請求項8に記載の多値半導
体記憶装置。
10. The comparator according to claim 1, wherein one of the input terminals is connected to an output portion of each of the multi-valued memory cells, and a comparator is supplied with a voltage corresponding to the uppermost component X 1. It is connected to the other input terminal of the vessel, and a voltage supply circuit for supplying a voltage corresponding to the predetermined determination value to the input terminal of the other, the said uppermost by the determination result of the comparator component X 1
The multilevel semiconductor memory device according to claim 8, wherein
【請求項11】 前記論理アドレス空間が前記物理アド
レス空間と一致しないと判定された場合、前記特定手段
は、前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )を所定の最大n
個の異なる判定値により最大n回で特定することを特徴
とする請求項8に記載の多値半導体記憶装置。
11. When it is determined that the logical address space does not coincide with the physical address space, the specifying means sets the component (X 1 , X 2 ,..., X n ) to a predetermined maximum n
9. The multi-valued semiconductor memory device according to claim 8, wherein the identification is performed at a maximum of n times by the plurality of different judgment values.
【請求項12】 前記各多値メモリセルは少なくとも1
つのトランジスタを含み、前記特定手段は、 前記n個の判定値に対応するn個の電圧を発生させる第
1の手段と、 前記物理アドレスが与えられてアドレス信号を出力する
第2の手段と、 前記アドレス信号に応答して前記電圧を前記物理アドレ
スに対応する前記多値メモリセルに与える第3の手段
と、 前記電圧が与えられた前記トランジスタのソース−ドレ
イン間に電流が流れるまで最大n種の電圧を前記トラン
ジスタのゲートに所定の順序で与える第4の手段と、 前記電流を検出することにより前記成分(X1 ,X2
…,Xn )を特定する第5の手段とを含むことを特徴と
する請求項11に記載の多値半導体記憶装置。
12. Each of the multi-level memory cells has at least one
A first means for generating n voltages corresponding to the n determination values, a second means for receiving the physical address and outputting an address signal, Third means for applying the voltage to the multi-valued memory cell corresponding to the physical address in response to the address signal; and n kinds of the maximum until a current flows between the source and the drain of the transistor to which the voltage is applied. A fourth means for applying a voltage to the gate of the transistor in a predetermined order; and detecting the current to detect the components (X 1 , X 2 ,
, X n ), and a fifth means for specifying X n ). The multi-value semiconductor memory device according to claim 11, further comprising:
【請求項13】 前記特定手段は、 前記各多値メモリセルの出力部位に一方の入力端子が接
続され、前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )に対応する
各々の電圧が供給される比較器と、 前記比較器の他方の入力端子に接続され、この他方の入
力端子に前記最大n個の判定値に対応する電圧を供給す
る電圧供給回路とを含み、 前記比較器の判定結果により前記最上位の前記成分(X
1 ,X2 ,…,Xn )を特定することを特徴とする請求
項11に記載の多値半導体記憶装置。
13. The identification means, wherein one input terminal is connected to an output portion of each of the multi-valued memory cells, and a voltage corresponding to each of the components (X 1 , X 2 ,..., X n ) is supplied. And a voltage supply circuit connected to the other input terminal of the comparator and supplying a voltage corresponding to the maximum n determination values to the other input terminal. According to the result, the component (X
12. The multi-value semiconductor memory device according to claim 11, wherein ( 1 , X 2 ,..., X n ) are specified.
【請求項14】 物理アドレス空間に対応して配置さ
れ、n個(n≧2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で
表現される2n 値の記憶状態を保持する複数の多値メモ
リセルから前記成分を読み出す方法であって、 論理アドレスを前記物理アドレス空間に含まれる物理ア
ドレスに変換する第1のステップと、 前記論理アドレスを含む論理アドレス空間が前記物理ア
ドレス空間と一致するか否かを判定する第2のステップ
と、 前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致す
ると判定された場合に、最上位の前記成分X1 を所定の
判定値により1回で特定する第3のステップと、 特定された前記成分X1 を前記複数の多値メモリセルの
うちの前記物理アドレスに対応する多値メモリセルから
出力させる第4のステップとを含むことを特徴とする読
み出し方法。
14. A plurality of storage units which are arranged corresponding to a physical address space and hold a storage state of 2 n values represented by n (n ≧ 2) components (X 1 , X 2 ,..., X n ) A first step of converting a logical address into a physical address included in the physical address space, wherein the logical address space including the logical address is the same as the physical address space. a second step of determining whether or not matching, if the logical address space is determined to match said physical address space, specifying once the components X 1 the uppermost by a predetermined judgment value a third step, and characterized in that it comprises a fourth step of outputting the components X 1 identified from the multilevel memory cell corresponding to the physical address of the plurality of multilevel memory cells Read how.
【請求項15】 前記第2のステップにおいて、前記論
理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致しないと
判定された場合に、 前記第2のステップの後、前記成分(X1 ,X2 ,…,
n )を所定の最大n個の異なる判定値により最大n回
で特定する第5のステップを更に含むことを特徴とする
請求項14に記載の読み出し方法。
15. In the second step, when it is determined that the logical address space does not match the physical address space, after the second step, the components (X 1 , X 2 ,...,
The method according to claim 14, further comprising a fifth step of specifying X n ) at a maximum of n times by a predetermined maximum of n different determination values.
【請求項16】 物理アドレス空間に対応して配置さ
れ、n個(n≧2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で
表現される2n 値の記憶状態を保持し、各々が少なくと
も1つのトランジスタを備える複数の多値メモリセルか
ら前記成分を読み出す方法であって、 論理アドレスを前記物理アドレス空間に含まれる物理ア
ドレスに変換する第1のステップと、 前記論理アドレスを含む論理アドレス空間が前記物理ア
ドレス空間と一致するか否かを判定する第2のステップ
と、 前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致す
ると判定された場合に、前記トランジスタのゲートに所
定の判定電圧を印加して、前記トランジスタのソース−
ドレイン間に電流が流れる否かにより最上位の前記成分
1 を特定する第3のステップと、 特定された前記成分X1 を前記複数の多値メモリセルの
うちの前記物理アドレスに対応する多値メモリセルから
出力させる第4のステップとを含むことを特徴とする読
み出し方法。
16. A storage state of 2 n values arranged corresponding to a physical address space and represented by n (n ≧ 2) components (X 1 , X 2 ,..., X n ), A method of reading said components from a plurality of multi-level memory cells each comprising at least one transistor, comprising: a first step of translating a logical address to a physical address included in said physical address space; A second step of determining whether a logical address space matches the physical address space; and determining that the logical address space matches the physical address space, a predetermined determination voltage is applied to the gate of the transistor. To the source of the transistor.
Multi corresponding a third step of identifying the components X 1 the uppermost by whether current flows between the drain, the components X 1 identified in the physical address of the plurality of multilevel memory cells Reading from the value memory cell.
【請求項17】 前記第2のステップにおいて、前記論
理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致しないと
判定された場合に、 前記第2のステップの後、前記トランジスタのゲートに
n個の異なる判定電圧を所定の順序で、前記トランジス
タのソース−ドレイン間に電流が流れるまで最大n回印
加して前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )を特定する第
5のステップを更に含むことを特徴とする請求項16に
記載の読み出し方法。
17. In the second step, if it is determined that the logical address space does not match the physical address space, after the second step, n different determination voltages are applied to the gate of the transistor. Is applied in a predetermined order up to n times until a current flows between the source and the drain of the transistor to specify the component (X 1 , X 2 ,..., X n ). 17. The reading method according to claim 16, wherein:
【請求項18】 物理アドレス空間に対応して配置さ
れ、n個(n≧2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で
表現される2n 値の記憶状態を保持し、各々が少なくと
も1つのトランジスタを備える複数の多値メモリセルか
ら前記成分を読み出す方法であって、 論理アドレスを前記物理アドレス空間に含まれる物理ア
ドレスに変換する第1のステップと、 前記論理アドレスを含む論理アドレス空間が前記物理ア
ドレス空間と一致するか否かを判定する第2のステップ
と、 前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致す
ると判定された場合に、最上位の前記成分X1 に対応す
る電圧と所定の判定電圧とを比較し、比較結果により前
記成分X1 を特定する第3のステップと、 特定された前記成分X1 を前記複数の多値メモリセルの
うちの前記物理アドレスに対応する多値メモリセルから
出力させる第4のステップとを含むことを特徴とする読
み出し方法。
18. A storage state of 2 n values arranged corresponding to a physical address space and represented by n (n ≧ 2) components (X 1 , X 2 ,..., X n ), A method of reading said components from a plurality of multi-level memory cells each comprising at least one transistor, comprising: a first step of translating a logical address to a physical address included in said physical address space; A second step of determining whether a logical address space coincides with the physical address space; and, if it is determined that the logical address space coincides with the physical address space, corresponding to the component X 1 at the highest level compares the voltage with a predetermined determination voltage, the comparison result by the third step of identifying the components X 1, wherein the said component X 1 identified among the plurality of multilevel memory cells A fourth step of outputting from the multi-valued memory cell corresponding to the physical address.
【請求項19】 前記第2のステップにおいて、前記論
理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致しないと
判定された場合に、 前記第2のステップの後、前記成分(X1 ,X2 ,…,
n )に対応する電圧と前記成分(X1 ,X2 ,…,X
n )の各々の成分に対応する電圧とを比較し、比較結果
により前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )を特定する第
5のステップを更に含むことを特徴とする請求項18に
記載の読み出し方法。
19. In the second step, when it is determined that the logical address space does not match the physical address space, after the second step, the components (X 1 , X 2 ,.
X n ) and the components (X 1 , X 2 ,..., X
compares the voltage corresponding to each of the components of n), the comparison result by the component (X 1, X 2, ... , claim, characterized in X n) further comprises a fifth step of identifying 18 Reading method described in 1.
【請求項20】 コンピュータによって、物理アドレス
空間に対応して配置され、n個(n≧2)の成分(X
1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2n 値の記憶状態を
保持する複数の多値メモリセルから前記成分を読み出す
ためのプログラムが記憶された記憶媒体であって、 論理アドレスを前記物理アドレス空間に含まれる物理ア
ドレスに変換する第1のステップと、 前記論理アドレスを含む論理アドレス空間が前記物理ア
ドレス空間と一致するか否かを判定する第2のステップ
と、 前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致す
ると判定された場合に、最上位の前記成分X1 を所定の
判定値により1回で特定する第3のステップと、 特定された前記成分X1 を前記複数の多値メモリセルの
うちの前記物理アドレスに対応する多値メモリセルから
出力させる第4のステップとを備えたプログラムが記憶
されていることを特徴とする記憶媒体。
20. A computer which is arranged corresponding to a physical address space and has n (n ≧ 2) components (X
1, X 2, ..., a storage medium storing a program for the X n) a plurality of multilevel memory cells for holding a storage state of the 2 n value represented by reading out the components, the logical address A first step of translating to a physical address included in the physical address space; a second step of determining whether a logical address space including the logical address matches the physical address space; If but it is determined that matches the physical address space, a third step of identifying at once the components X 1 the uppermost by a predetermined judgment value, the component X 1 identified the plurality of multi A fourth step of outputting from a multi-valued memory cell corresponding to the physical address among the valued memory cells.
【請求項21】 前記第2のステップにおいて、前記論
理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致しないと
判定された場合に、 前記第2のステップの後、前記成分(X1 ,X2 ,…,
n )を所定の最大n個の異なる判定値により最大n回
で特定する第5のステップを更に含むプログラムが記憶
されていることを特徴とする請求項20に記載の記憶媒
体。
21. In the second step, when it is determined that the logical address space does not match the physical address space, after the second step, the components (X 1 , X 2 ,.
21. The storage medium according to claim 20, wherein a program further comprising a fifth step of specifying X n ) at a maximum of n times by a predetermined maximum of n different determination values is stored.
【請求項22】 コンピュータによって、物理アドレス
空間に対応して配置され、n個(n≧2)の成分(X
1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2n 値の記憶状態を
保持し、各々が少なくとも1つのトランジスタを備える
複数の多値メモリセルから前記成分を読み出すためのプ
ログラムが記憶された記憶媒体であって、 論理アドレスを前記物理アドレス空間に含まれる物理ア
ドレスに変換する第1のステップと、 前記論理アドレスを含む論理アドレス空間が前記物理ア
ドレス空間と一致するか否かを判定する第2のステップ
と、 前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致す
ると判定された場合に、前記トランジスタのゲートに所
定の判定電圧を印加して、前記トランジスタのソース−
ドレイン間に電流が流れる否かにより最上位の前記成分
1 を特定する第3のステップと、 特定された前記成分X1 を前記複数の多値メモリセルの
うちの前記物理アドレスに対応する多値メモリセルから
出力させる第4のステップとを備えたプログラムが記憶
されていることを特徴とする記憶媒体。
22. A computer which is arranged in correspondence with a physical address space and has n (n ≧ 2) components (X
1, X 2, ..., holds the storage state of the 2 n value represented by X n), each program for reading the component from the plurality of multilevel memory cells comprises at least one transistor is stored A storage medium, comprising: a first step of converting a logical address into a physical address included in the physical address space; and a step of determining whether a logical address space including the logical address matches the physical address space. And if a determination is made that the logical address space matches the physical address space, a predetermined determination voltage is applied to the gate of the transistor,
Multi corresponding a third step of identifying the components X 1 the uppermost by whether current flows between the drain, the components X 1 identified in the physical address of the plurality of multilevel memory cells A program having a fourth step of outputting from a value memory cell.
【請求項23】 前記第2のステップにおいて、前記論
理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致しないと
判定された場合に、 前記第2のステップの後、前記トランジスタのゲートに
n個の異なる判定電圧を所定の順序で、前記トランジス
タのソース−ドレイン間に電流が流れるまで最大n回印
加して前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )を特定する第
5のステップを更に含むプログラムが記憶されているこ
とを特徴とする請求項22に記載の記憶媒体。
23. When it is determined in the second step that the logical address space does not match the physical address space, after the second step, n different determination voltages are applied to the gate of the transistor. Are applied in a predetermined order at a maximum of n times until a current flows between the source and the drain of the transistor to specify the components (X 1 , X 2 ,..., X n ). 23. The storage medium according to claim 22, wherein the storage medium is stored.
【請求項24】 コンピュータによって、物理アドレス
空間に対応して配置され、n個(n≧2)の成分(X
1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2n 値の記憶状態を
保持し、各々が少なくとも1つのトランジスタを備える
複数の多値メモリセルから前記成分を読み出すためのプ
ログラムが記憶された記憶媒体であって、 論理アドレスを前記物理アドレス空間に含まれる物理ア
ドレスに変換する第1のステップと、 前記論理アドレスを含む論理アドレス空間が前記物理ア
ドレス空間と一致するか否かを判定する第2のステップ
と、 前記論理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致す
ると判定された場合に、最上位の前記成分X1 に対応す
る電圧と所定の判定電圧とを比較し、比較結果により前
記成分X1 を特定する第3のステップと、 特定された前記成分X1 を前記複数の多値メモリセルの
うちの前記物理アドレスに対応する多値メモリセルから
出力させる第4のステップとを備えたプログラムが記憶
されていることを特徴とする記憶媒体。
24. A computer which is arranged corresponding to a physical address space and has n (n ≧ 2) components (X
1, X 2, ..., holds the storage state of the 2 n value represented by X n), each program for reading the component from the plurality of multilevel memory cells comprises at least one transistor is stored A storage medium, comprising: a first step of converting a logical address into a physical address included in the physical address space; and a step of determining whether a logical address space including the logical address matches the physical address space. Step 2, and when it is determined that the logical address space coincides with the physical address space, a voltage corresponding to the highest-order component X 1 is compared with a predetermined determination voltage. exits from the third step and the multilevel memory cell corresponding to the physical address of the component X 1 identified the plurality of multilevel memory cells to identify the 1 Storage medium in which a program and a fourth step of is characterized in that it is stored.
【請求項25】 前記第2のステップにおいて、前記論
理アドレス空間が前記物理アドレス空間と一致しないと
判定された場合に、 前記第2のステップの後、前記成分(X1 ,X2 ,…,
n )に対応する電圧と前記成分(X1 ,X2 ,…,X
n )の各々の成分に対応する電圧とを比較し、比較結果
により前記成分(X1 ,X2 ,…,Xn )を特定する第
5のステップを更に含むプログラムが記憶されているこ
とを特徴とする請求項24に記載の記憶媒体。
25. If it is determined in the second step that the logical address space does not match the physical address space, after the second step, the components (X 1 , X 2 ,...
X n ) and the components (X 1 , X 2 ,..., X
n ) is compared with a voltage corresponding to each component, and a program further including a fifth step of specifying the component (X 1 , X 2 ,..., X n ) based on the comparison result is stored. 25. The storage medium according to claim 24, wherein:
【請求項26】 複数の多値メモリセルを具備し、前記
各多値メモリセルが3個以上の相異なる所定の記憶状態
のうちの1つを保持する多値半導体記憶装置において、 任意の符号化方法によって符号化された1つの符号を構
成する各ビットを前記複数の多値メモリセルに分散させ
て記憶するようにする情報ビット分散手段を具備するこ
とを特徴とする多値半導体記憶装置。
26. A multi-valued semiconductor memory device comprising a plurality of multi-valued memory cells, wherein each of said multi-valued memory cells holds one of three or more different predetermined storage states. A multi-level semiconductor memory device comprising information bit dispersing means for distributing and storing each bit constituting one code encoded by the conversion method in the plurality of multi-level memory cells.
【請求項27】 前記情報ビット分散手段は、前記1つ
の符号の誤り訂正能力に応じて、1つの多値メモリセル
に記憶する同一符号におけるビットの数を制御すること
を特徴とする請求項26に記載の多値半導体記憶装置。
27. The information bit dispersing means controls the number of bits in the same code stored in one multi-level memory cell according to the error correction capability of the one code. 2. The multi-value semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項28】 前記情報ビット分散手段は、前記複数
の多値メモリセルに分散させて記憶する符号を、符号長
nの符号m個をm×n配列の各行として並べ、前記多値
メモリセルが記憶するビット数がmであるときに、前記
配列の各列に配置されるm個の情報を前記多値メモリの
1個に記憶させることを特徴とする請求項27に記載の
多値半導体記憶装置。
28. The multi-level memory cell according to claim 28, wherein the information bit dispersing unit arranges the codes distributed and stored in the plurality of multi-level memory cells, as m rows having a code length of n as m × n arrays. 28. The multi-level semiconductor according to claim 27, wherein when the number of bits stored in the multi-level memory is m, m pieces of information arranged in each column of the array are stored in one of the multi-level memories. Storage device.
【請求項29】 前記多値メモリセルは不揮発性半導体
メモリであることを特徴とする請求項26〜28のいず
れか1項に記載の多値半導体記憶装置。
29. The multi-level semiconductor memory device according to claim 26, wherein said multi-level memory cell is a nonvolatile semiconductor memory.
【請求項30】 請求項26〜29のいずれか1項に記
載の情報ビット分散手段としてコンピュータを機能させ
るためのプログラムを格納した記憶媒体。
30. A storage medium storing a program for causing a computer to function as the information bit dispersing means according to claim 26.
【請求項31】 任意の符号化方法によって符号化され
た符号列を、3個以上の記憶状態を保持する複数個の多
値メモリセルを具備している多値半導体記憶装置に書き
込む方法において、 前記任意の符号化方法によって符号化された1つの符号
を構成する各ビットを複数の多値メモリセルに分散させ
て記憶させることを特徴とする多値半導体記憶装置の書
き込み方法。
31. A method of writing a code string coded by an arbitrary coding method into a multi-level semiconductor memory device having a plurality of multi-level memory cells holding three or more storage states, A method of writing a multi-level semiconductor memory device, wherein each bit constituting one code encoded by the arbitrary encoding method is dispersed and stored in a plurality of multi-level memory cells.
【請求項32】 請求項31に記載の多値半導体記憶装
置の書き込み方法がコンピュータから読み出し可能に格
納されている記憶媒体。
32. A storage medium in which the writing method for a multi-level semiconductor storage device according to claim 31 is stored so as to be readable by a computer.
【請求項33】 論理アドレスが入力される入力手段
と、 前記論理アドレスから物理アドレスを算出する変換手段
と、 制御ゲートと電荷蓄積層とを有し、前記物理アドレスに
対応して配置されており、各々が2次元以上の成分によ
り表現される3値以上の記憶状態を保持する多値メモリ
セルと、 前記物理アドレスに対応した前記多値メモリセルを選択
するとともに、前記入力手段に入力される前記論理アド
レスに応じて選択された前記多値メモリセルに記憶され
た前記成分の中から出力する成分を指定する制御手段
と、 前記制御手段により指定された前記多値メモリセルの前
記成分のデータを出力する出力手段とを備え、 前記成分のうちの少なくとも1つの成分のデータを1回
の判定で特定する判定値が存在し、前記入力手段に入力
した前記論理アドレスが前記物理アドレスが張るアドレ
ス空間と1対1対応する部分空間に含まれるものである
ときには、前記制御手段が当該制御手段により指定され
た前記多値メモリセルの前記成分のデータを前記判定値
で特定し、このデータを前記出力手段から出力すること
を特徴とする多値半導体記憶装置。
33. An input unit for inputting a logical address, a conversion unit for calculating a physical address from the logical address, a control gate and a charge storage layer, wherein the input unit is arranged corresponding to the physical address. Selecting a multi-valued memory cell, each of which holds a storage state of three or more values represented by components of two or more dimensions, and the multi-valued memory cell corresponding to the physical address, and inputting the data to the input means Control means for specifying a component to be output from the components stored in the multi-valued memory cell selected according to the logical address; data of the component of the multi-valued memory cell specified by the control means Output means for outputting the data of at least one of the components, wherein there is a determination value for specifying data of at least one of the components in one determination, and When the logical address is included in a partial space corresponding one-to-one with the address space spanned by the physical address, the control means determines the data of the component of the multi-level memory cell designated by the control means. A multivalued semiconductor memory device characterized by specifying a value and outputting the data from the output means.
【請求項34】 前記多値メモリセルは、n次元(n≧
2)の成分(X1 ,X2 ,…,Xn )で表現される2n
値の記憶状態を保持し、 少なくとも前記X1 成分のデータを1回の判定で特定す
る判定値が存在するとともに、前記部分空間に含まれる
前記論理アドレスのデータが前記X1 成分に格納されて
おり、 前記部分空間に含まれる前記論理アドレスが前記入力手
段に入力されたときには、対応する前記多値メモリセル
の前記記憶状態のうち、前記制御手段により前記判定値
で特定される前記X1 成分のデータを前記出力手段から
出力することを特徴とする請求項33に記載の多値半導
体記憶装置。
34. The multi-valued memory cell has n dimensions (n ≧ n).
Component of 2) (X 1, X 2 , ..., 2 n represented by X n)
Holding the stored state values, along with the determination value that identifies the data of at least the X 1 component in the determination of one is present, the data of the logical address included in the partial space is stored in the X 1 component cage, when the logical address included in the partial space is input to said input means, out of the storage state of the corresponding multi-level memory cell, the X 1 components identified by the determination value by the control means 34. The multi-value semiconductor memory device according to claim 33, wherein said data is output from said output means.
【請求項35】 X2 ,…,Xn 成分のデータを特定す
る各判定値が存在するとともに、前記部分空間であるア
ドレス空間A1 に近接するアドレス空間A2,…,An
に含まれる前記論理アドレスのデータが前記アドレス空
間A1 に近い順に前記X2 ,…,Xn 成分に順次格納さ
れており、 前記入力手段に入力された前記論理アドレスのアドレス
空間に応じて、前記制御手段がXk (但し、k=1,
2,…,n)成分を前記各判定値によるk回の判定で特
定し、このXk 成分のデータを前記出力手段から出力す
ることを特徴とする請求項34に記載の多値半導体記憶
装置。
35. X 2, ..., with each judgment value identifying the data of X n component is present, the address space A 2 in proximity to the address space A 1 is the partial space, ..., A n
, Xn components are sequentially stored in the X 2 ,..., X n components in the order of proximity to the address space A 1 according to the address space of the logical address input to the input means. The control means is X k (where k = 1,
35. The multilevel semiconductor memory device according to claim 34, wherein the component (2,..., N) is specified by k determinations based on the respective determination values, and the data of the X k component is output from the output unit. .
【請求項36】 前記電荷蓄積層が浮遊ゲートであるこ
とを特徴とする請求項33〜35のいずれか1項に記載
の多値半導体記憶装置。
36. The multi-value semiconductor memory device according to claim 33, wherein said charge storage layer is a floating gate.
【請求項37】 制御ゲートと電荷蓄積層とを備え、入
力された論理アドレスから算出された物理アドレスに対
応して配置されてなる多値メモリセルを有する多値半導
体記憶装置の読み出し方法において、 前記多値メモリセルには、各々が2次元以上の成分によ
り表現される3値以上の記憶状態が保持されており、前
記成分の少なくとも1つの成分のデータを特定する判定
値が存在し、 前記入力手段に入力した前記論理アドレスが前記物理ア
ドレスが張るアドレス空間と1対1対応する部分空間に
含まれるものであるときには、前記物理アドレスにより
選択された前記多値メモリセルの前記制御ゲートに前記
判定値の電圧を印加して、前記多値メモリセルのソース
/ドレイン間に電流が流れるか否かによって前記多値メ
モリセルの前記成分のデータを特定して出力することを
特徴とする多値半導体記憶装置の読み出し方法。
37. A reading method of a multi-level semiconductor memory device having a multi-level memory cell including a control gate and a charge storage layer and arranged corresponding to a physical address calculated from an input logical address, The multi-valued memory cell holds a storage state of three or more values each represented by a component of two or more dimensions, and has a determination value for specifying data of at least one of the components. When the logical address inputted to the input means is included in a partial space corresponding to the address space spanned by the physical address, the control gate of the multi-valued memory cell selected by the physical address is transmitted to the control gate. A voltage of a judgment value is applied, and whether or not a current flows between the source / drain of the multi-level memory cell depends on whether the component of the multi-level memory cell is Method of reading multi-level semiconductor memory device and outputs to identify the over data.
【請求項38】 前記多値メモリセルには、n次元(n
≧2)の成分(X1,X2 ,…,Xn )で表現される2
n 値の記憶状態が保持されており、 少なくとも前記X1 成分のデータを特定する判定値が存
在するとともに、前記部分空間に含まれる前記論理アド
レスのデータが前記X1 成分に格納されており、 前記部分空間に含まれる前記論理アドレスが前記入力手
段に入力されたときには、対応する前記多値メモリセル
の前記記憶状態のうち、前記前記値で特定される前記X
1 成分のデータを前記出力手段から出力することを特徴
とする請求項37に記載の半導体記憶装置の読み出し方
法。
38. The multi-valued memory cell has n dimensions (n
≧ 2) represented by components (X 1 , X 2 ,..., X n )
storage state of n values are held, along with the determination value that identifies the data of at least the X 1 component is present, the data of the logical address included in the partial space is stored in the X 1 component, When the logical address included in the subspace is input to the input means, the X specified by the value in the storage state of the corresponding multi-level memory cell
38. The method according to claim 37, wherein one component data is output from the output unit.
【請求項39】 X2 ,…,Xn 成分のデータを特定す
る各判定値が存在するとともに、前記部分空間であるア
ドレス空間A1 に近接するアドレス空間A2,…,An
に含まれる前記論理アドレスのデータが前記アドレス空
間A1 に近い順に前記X2 ,…,Xn 成分に順次格納さ
れており、 前記入力手段に入力された前記論理アドレスのアドレス
空間に応じて、Xk (但し、k=1,2,…,n)成分
のデータを前記各判定値によるk回の判定で特定し、こ
のXk 成分を出力することを特徴とする請求項38に記
載の多値半導体記憶装置の読み出し方法。
39. X 2, ..., with each judgment value identifying the data of X n component is present, the address space A 2 in proximity to the address space A 1 is the partial space, ..., A n
, Xn components are sequentially stored in the X 2 ,..., X n components in the order of proximity to the address space A 1 according to the address space of the logical address input to the input means. 39. The data according to claim 38, wherein data of an X k (where k = 1, 2,..., N) component is specified by k determinations based on the respective determination values, and the X k component is output. A reading method of a multilevel semiconductor memory device.
【請求項40】 請求項37〜39のいずれか1項に記
載の読み出し方法の手順をコンピュータに実行させるた
めのプログラムを格納した記憶媒体。
40. A storage medium storing a program for causing a computer to execute the procedure of the reading method according to any one of claims 37 to 39.
【請求項41】 各々が3個以上の相異なる所定の記憶
状態のうちの1つを保持する複数個の多値メモリセル
と、 第1の記憶情報を、任意の符号化方法によって少なくと
も2桁以上の桁数を持つ第1の符号値に変換する第1の
符号化手段と、 第2の記憶情報を、任意の符号化方法によって少なくと
も2桁以上の桁数を持つ第2の符号値に変換する第2の
符号化手段と、 前記第1,第2の符号値の同じ桁同士の符号値情報を1
組として、対応する前記多値メモリセルに記憶されるよ
うに2組以上作成する並べ替え手段とを含むことを特徴
とする多値半導体記憶装置。
41. A plurality of multi-valued memory cells each holding one of three or more different predetermined storage states, and storing first storage information by at least two digits by an arbitrary encoding method. First encoding means for converting the first code value into the first code value having the above number of digits, and converting the second storage information into a second code value having at least two or more digits by an arbitrary encoding method. Second encoding means for converting, and code value information of the same digit of the first and second code values is set to 1
A multi-level semiconductor memory device, comprising: as a set, rearrangement means for creating two or more sets so as to be stored in the corresponding multi-level memory cells.
【請求項42】 前記第1,第2の符号値が、同一の桁
数を有することを特徴とする請求項41に記載の多値半
導体記憶装置。
42. The multi-value semiconductor memory device according to claim 41, wherein said first and second code values have the same number of digits.
【請求項43】 前記任意の符号化方法が、2進法によ
る符号化方法であることを特徴とする請求項41又は4
2に記載の多値半導体記憶装置。
43. An encoding method according to claim 41, wherein said arbitrary encoding method is an encoding method based on a binary system.
3. The multilevel semiconductor memory device according to 2.
【請求項44】 前記多値メモリセルが、制御ゲートと
浮遊ゲートとを有することを特徴とする請求項41〜4
3のいずれか1項に記載の多値半導体記憶装置。
44. The multi-valued memory cell has a control gate and a floating gate.
4. The multi-valued semiconductor memory device according to any one of 3.
【請求項45】 前記多値メモリセルが、MNOS、マ
スクROM、EEPROM、EPROM、PROM、フ
ラッシュ不揮発性メモリのうちの少なくとも1つである
ことを特徴とする請求項41〜44のいずれか1項に記
載の多値半導体記憶装置。
45. The multi-valued memory cell according to claim 41, wherein the multi-valued memory cell is at least one of an MNOS, a mask ROM, an EEPROM, an EPROM, a PROM, and a flash nonvolatile memory. 2. The multi-value semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項46】 前記第1,第2の符号値から、前記第
1,第2の記憶情報に生じた誤りを検出して訂正する訂
正手段を更に備えることを特徴とする請求項41〜45
のいずれか1項に記載の多値半導体記憶装置。
46. The apparatus according to claim 41, further comprising a correcting unit configured to detect and correct an error occurring in the first and second storage information from the first and second code values.
The multi-value semiconductor memory device according to any one of the above items.
【請求項47】 各々が3個以上の相異なる所定の記憶
状態のうちの1つを保持する複数個の多値メモリセル
と、 入力された記憶情報を、任意の符号化方法によって少な
くとも2桁以上の桁数を持つ符号値に変換する符号化手
段と、 前記符号化手段によって得られた前記符号値を、任意の
桁数で分割して、少なくとも2つの符号化情報ブロック
を作成し、前記各符号化情報ブロックの同じ桁の符号化
情報を1組として前記多値メモリセルに記憶させる分割
記憶手段とを備えたことを特徴とする多値半導体記憶装
置。
47. A plurality of multi-valued memory cells each holding one of three or more different predetermined storage states, and input storage information is converted into at least two digits by an arbitrary encoding method. Encoding means for converting to a code value having the above number of digits, the code value obtained by the encoding means is divided by an arbitrary number of digits, to create at least two encoded information blocks, A multi-level semiconductor memory device comprising: a divided storage unit for storing, as a set, the same digit of encoded information of each encoded information block in the multi-level memory cell.
【請求項48】 前記各多値メモリセルに記憶された前
記符号化情報を読み出し、前記符号化方法の有する誤り
訂正能力に従って前記符号化情報からなる符号列を訂正
して出力する読み出し手段を更に含むことを特徴とする
請求項47に記載の多値半導体記憶装置。
48. A reading means for reading out the coded information stored in each of the multi-valued memory cells, correcting a code string composed of the coded information in accordance with an error correction capability of the coding method, and outputting the corrected code string. 48. The multi-valued semiconductor memory device according to claim 47, comprising:
【請求項49】 前記読み出し手段は、前記各多値メモ
リセルからそれぞれ少なくとも所定位のビット情報を読
み出して前記符号列を作成して出力することを特徴とす
る請求項48に記載の多値半導体記憶装置。
49. The multi-level semiconductor according to claim 48, wherein said read-out means reads out bit information of at least a predetermined position from each of said multi-level memory cells, creates and outputs said code string. Storage device.
【請求項50】 前記多値メモリセルは、4個の相異な
る所定の記憶状態のうちの1つを保持することが可能な
ものであり、 前記分割記憶手段は、前記符号値を、桁数の等しい2つ
の符号化情報ブロックに分割し、前記各符号化情報ブロ
ックの同じ桁の2つの符号化情報を1組として前記多値
メモリセルに記憶させることを特徴とする請求項49に
記載の多値半導体記憶装置。
50. The multi-valued memory cell is capable of holding one of four different predetermined storage states, and the divided storage means stores the code value by the number of digits. 50. The multi-level memory cell according to claim 49, wherein the multi-level memory cell is divided into two coded information blocks having the same value, and two sets of coded information of the same digit of each coded information block are stored as one set. Multi-value semiconductor memory device.
【請求項51】 前記読み出し手段は、2つの前記各符
号化情報ブロックの各々が情報ビットに冗長ビットが付
加されてなるものとして出力することを特徴とする請求
項50に記載の多値半導体記憶装置。
51. The multi-valued semiconductor memory according to claim 50, wherein said read means outputs each of said two encoded information blocks as information bits obtained by adding redundant bits to information bits. apparatus.
【請求項52】 前記多値メモリセルは、8個の相異な
る所定の記憶状態のうちの1つを保持することが可能な
ものであり、 前記分割記憶手段は、前記符号値を、桁数の等しい3つ
の符号化情報ブロックに分割し、前記各符号化情報ブロ
ックの同じ桁の3つの符号化情報を1組として前記多値
メモリセルに記憶させることを特徴とする請求項49に
記載の多値半導体記憶装置。
52. The multi-valued memory cell is capable of holding one of eight different predetermined storage states, and the divided storage means stores the code value by the number of digits. 50. The multi-valued memory cell according to claim 49, wherein the encoded information block is divided into three encoded information blocks having the same value, and three encoded information items of the same digit of each encoded information block are stored as a set in the multi-valued memory cell. Multi-value semiconductor memory device.
【請求項53】 前記読み出し手段は、3つの前記各符
号化情報ブロックの各々が情報ビットに冗長ビットが付
加されてなるものとして出力することを特徴とする請求
項52に記載の多値半導体記憶装置。
53. The multi-valued semiconductor memory according to claim 52, wherein said reading means outputs each of the three encoded information blocks as information bits obtained by adding redundant bits to information bits. apparatus.
【請求項54】 前記読み出し手段は、1つの前記各符
号化情報ブロックと2つの前記各符号化情報ブロックが
結合されてなる情報ブロックの各々が情報ビットに冗長
ビットが付加されてなるものとして出力することを特徴
とする請求項52に記載の多値半導体記憶装置。
54. The reading means outputs each of the information blocks formed by combining one of the encoded information blocks and two of the encoded information blocks as redundant information bits added to information bits. 53. The multi-value semiconductor memory device according to claim 52, wherein:
【請求項55】 前記多値メモリセルは、16個の相異
なる所定の記憶状態のうちの1つを保持することが可能
なものであり、 前記分割記憶手段は、前記符号値を、桁数の等しい4つ
の符号化情報ブロックに分割し、前記各符号化情報ブロ
ックの同じ桁の4つの符号化情報を1組として前記多値
メモリセルに記憶させることを特徴とする請求項49に
記載の多値半導体記憶装置。
55. The multi-valued memory cell is capable of holding one of 16 different predetermined storage states, and the divided storage means stores the code value by the number of digits. 50. The multi-level memory cell according to claim 49, wherein the encoded information blocks are divided into four encoded information blocks having the same value, and four encoded information items of the same digit of each encoded information block are stored as a set in the multi-level memory cell. Multi-value semiconductor memory device.
【請求項56】 前記読み出し手段は、4つの前記各符
号化情報ブロックの各々が情報ビットに冗長ビットが付
加されてなるものとして出力することを特徴とする請求
項55に記載の多値半導体記憶装置。
56. The multi-level semiconductor memory according to claim 55, wherein said read means outputs each of said four encoded information blocks as information bits obtained by adding redundant bits to information bits. apparatus.
【請求項57】 前記読み出し手段は、それぞれ2つの
前記各符号化情報ブロックが結合されてなる各情報ブロ
ックの各々が情報ビットに冗長ビットが付加されてなる
ものとして出力することを特徴とする請求項55に記載
の多値半導体記憶装置。
57. The reading means, wherein each of the information blocks formed by combining the two coded information blocks is output as information bits to which redundant bits are added. 56. A multi-valued semiconductor memory device according to item 55.
【請求項58】 前記多値メモリセルが、制御ゲートと
浮遊ゲートとを有することを特徴とする請求項47〜5
7のいずれか1項に記載の多値半導体記憶装置。
58. The multi-valued memory cell has a control gate and a floating gate.
8. The multi-valued semiconductor memory device according to any one of items 7 to 7.
【請求項59】 前記多値メモリセルが、MNOS、マ
スクROM、EEPROM、EPROM、PROM、フ
ラッシュ不揮発性メモリのうちの少なくとも1つである
ことを特徴とする請求項47〜57のいずれか1項に記
載の多値半導体記憶装置。
59. The multi-valued memory cell according to claim 47, wherein the multi-valued memory cell is at least one of an MNOS, a mask ROM, an EEPROM, an EPROM, a PROM, and a flash nonvolatile memory. 2. The multi-value semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項60】 前記冗長ビットは、前記2つの符号化
情報ブロックを基に前記2つの符号化情報ブロックの各
々に対応して生成され、前記各符号化情報ブロックの前
記情報ビットと対応する前記冗長ビットとの合計が前記
符号化列のビット数となるような冗長ビットであること
を特徴とする請求項51に記載の多値半導体記憶装置。
60. The redundant bit is generated corresponding to each of the two encoded information blocks based on the two encoded information blocks, and the redundant bit corresponding to the information bit of each encoded information block is generated. 52. The multi-level semiconductor memory device according to claim 51, wherein the number of redundant bits is a number of redundant bits that is equal to the number of bits of the coded sequence.
【請求項61】 前記冗長ビットは、前記3つの符号化
情報ブロックを基に前記3つの符号化情報ブロックの各
々に対応して生成され、前記各符号化情報ブロックの前
記情報ビットと対応する前記冗長ビットの合計が前記符
号化列のビット数となるような冗長ビットであることを
特徴とする請求項53に記載の多値半導体記憶装置。
61. The redundant bit is generated corresponding to each of the three encoded information blocks based on the three encoded information blocks, and the redundant bit corresponding to the information bit of each encoded information block is generated. 54. The multi-level semiconductor memory device according to claim 53, wherein the total number of redundant bits is a redundant bit that is equal to the number of bits of the coded sequence.
【請求項62】 前記冗長ビットは、前記3つの符号化
情報ブロックを基にハミング符号化により前記3つの符
号化情報ブロックの各々に対応して第1の冗長ビットが
生成され、前記3つの符号化情報ブロックの各々に対応
する前記第1の冗長ビットを付加して符号列が生成さ
れ、前記各符号列に含まれるビット全ての排他論理和を
算出して前記各符号列に対応して第2の冗長ビットが生
成され、前記各符号列のビットと対応する前記第2の冗
長ビットとの合計が前記符号列のビット数となるような
冗長ビットであることを特徴とする請求項53に記載の
多値半導体記憶装置。
62. A first redundant bit corresponding to each of the three coded information blocks is generated by Hamming coding based on the three coded information blocks based on the three coded information blocks. A code string is generated by adding the first redundant bits corresponding to each of the coded information blocks, and exclusive OR of all the bits included in each of the code strings is calculated, and a code string corresponding to each of the code strings is calculated. 54. The redundant bits according to claim 53, wherein two redundant bits are generated, and the sum of the bits of each code string and the corresponding second redundant bits is the number of bits of the code string. The multivalued semiconductor memory device according to the above.
【請求項63】 前記冗長ビットは、前記3つの符号化
情報ブロックを基に、前記1つの符号化情報ブロックと
前記2つの符号化情報ブロックとが結合してなる情報ブ
ロックの各々に対応して生成され、前記1つの符号化情
報ブロックの情報ビットと対応する冗長ビットの合計
と、前記2つの符号化情報ブロックが結合されてなる情
報ブロックが分割されたときに前記分割された各ブロッ
クの各々の情報ビットと前記対応する冗長ビットの合計
とが前記符号化列のビット数となるような冗長ビットで
あることを特徴とする請求項53に記載の多値半導体記
憶装置。
63. The redundant bits correspond to each information block formed by combining the one encoded information block and the two encoded information blocks based on the three encoded information blocks. The sum of the generated redundant bits corresponding to the information bits of the one encoded information block and each of the divided blocks when the information block formed by combining the two encoded information blocks is divided. 54. The multi-level semiconductor memory device according to claim 53, wherein the information bits and the sum of the corresponding redundant bits are redundant bits that are the number of bits of the coded sequence.
【請求項64】 前記冗長ビットは、前記4つの符号化
情報ブロックを基に前記4つの符号化情報ブロックの各
々に対応して生成され、前記各符号化情報ブロックの前
記情報ビットと対応する前記冗長ビットの合計が前記符
号化列のビット数となるような冗長ビットであることを
特徴とする請求項56に記載の多値半導体記憶装置。
64. The redundant bit is generated corresponding to each of the four encoded information blocks based on the four encoded information blocks, and the redundant bit corresponding to the information bit of each encoded information block is generated. 57. The multi-level semiconductor memory device according to claim 56, wherein the total number of redundant bits is a redundant bit whose number is equal to the number of bits of said coded sequence.
【請求項65】 前記冗長ビットは、前記4つの符号化
情報ブロックを基にハミング符号化により前記4つの符
号化情報ブロックの各々に対応して第1の冗長ビットが
生成され、前記4つの符号化情報ブロックの各々に対応
する前記第1の冗長ビットを付加して符号列が生成さ
れ、前記各符号列に含まれるビット全ての排他論理和を
算出して前記各符号列に対応して第2の冗長ビットが生
成され、前記各符号列のビットと対応する前記第2の冗
長ビットとの合計が前記符号列のビット数となるような
冗長ビットであることを特徴とする請求項56に記載の
多値半導体記憶装置。
65. A first redundant bit corresponding to each of the four encoded information blocks is generated by Hamming encoding based on the four encoded information blocks, based on the four encoded information blocks. A code string is generated by adding the first redundant bits corresponding to each of the coded information blocks, and exclusive OR of all the bits included in each of the code strings is calculated, and a code string corresponding to each of the code strings is calculated. 57. The method according to claim 56, wherein two redundant bits are generated, and the sum of the bits of each code string and the corresponding second redundant bits is the number of bits of the code string. The multivalued semiconductor memory device according to the above.
【請求項66】 前記冗長ビットは、前記4つの符号化
情報ブロックを基に前記2つの符号化情報ブロックが結
合してなる情報ブロックの各々に対応して生成され、前
記2つの符号化情報ブロックが結合されてなる情報ブロ
ックの各々が2つに分割されたときに前記分割された各
ブロックの各々の情報ビットと対応する冗長ビットの合
計が前記符号化列のビット数となるような冗長ビットで
あることを特徴とする請求項57に記載の多値半導体記
憶装置。
66. The redundant bits are generated based on the four encoded information blocks in correspondence with each of the information blocks obtained by combining the two encoded information blocks, and Are redundant bits such that when each of the information blocks obtained by combining is divided into two, the sum of the information bits and the corresponding redundant bits of each of the divided blocks becomes the number of bits of the coded sequence. 58. The multi-valued semiconductor memory device according to claim 57, wherein:
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