JPH10189421A - エッジリンス装置 - Google Patents
エッジリンス装置Info
- Publication number
- JPH10189421A JPH10189421A JP34880896A JP34880896A JPH10189421A JP H10189421 A JPH10189421 A JP H10189421A JP 34880896 A JP34880896 A JP 34880896A JP 34880896 A JP34880896 A JP 34880896A JP H10189421 A JPH10189421 A JP H10189421A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- edge
- wafer
- cover
- rinse
- rinsing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 エッジリンス幅が一定で、ウェーハのエッジ
より内側にリンス液が掛かるおそれのないエッジリンス
装置を得る。 【解決手段】 回転自在の基台１上のウェーハ２のエッ
ジ２ａより内側を覆うカバー４と、そのカバー４の外側
の下端に取付けられたエッジリンスノズル３と、ウェー
ハ２に対し、カバー４を接近及び離間自在に移動させる
駆動手段６とを有する。
より内側にリンス液が掛かるおそれのないエッジリンス
装置を得る。 【解決手段】 回転自在の基台１上のウェーハ２のエッ
ジ２ａより内側を覆うカバー４と、そのカバー４の外側
の下端に取付けられたエッジリンスノズル３と、ウェー
ハ２に対し、カバー４を接近及び離間自在に移動させる
駆動手段６とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフォトレジスト装置
用のエッジリンス装置に関する。
用のエッジリンス装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】以下に、図２を参照して、フォトレジス
ト装置用の従来のエッジリンス装置を説明する。回転自
在の円柱状のコータカップ１上にウェーハ２が載置され
る。軸９に対し、コータカップ１上のウェーハ２の上方
を回動するアーム８の先端に、エッジリンスノズル３が
取付けられている。
ト装置用の従来のエッジリンス装置を説明する。回転自
在の円柱状のコータカップ１上にウェーハ２が載置され
る。軸９に対し、コータカップ１上のウェーハ２の上方
を回動するアーム８の先端に、エッジリンスノズル３が
取付けられている。
【０００３】ウェーハ２のエッジ２ａが、ウェーハ２の
各処理工程で、位置決め部等と接触する場合、レジスト
の欠け等により汚される。そこで、ウェーハ２へのフォ
トレジストの塗布時に、エッジノズル３がウェーハ２の
エッジ２ａの位置に来るようにアーム８を回し、コータ
カップ１によってウェーハ５を回転させながら、エッジ
リンスノズル３から、リンス液剤、例えば、レジスト等
の溶剤を吐出させて、そのエッジ２ａに吹きつけて洗浄
する。
各処理工程で、位置決め部等と接触する場合、レジスト
の欠け等により汚される。そこで、ウェーハ２へのフォ
トレジストの塗布時に、エッジノズル３がウェーハ２の
エッジ２ａの位置に来るようにアーム８を回し、コータ
カップ１によってウェーハ５を回転させながら、エッジ
リンスノズル３から、リンス液剤、例えば、レジスト等
の溶剤を吐出させて、そのエッジ２ａに吹きつけて洗浄
する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】かかる従来のエッジリ
ンス装置は、エッジリンスノズルの取付けられたアーム
が回動することで、エッジリンス幅が変動する。又、リ
ンス液をエッジリンスノズルに供給する配管内のエアが
みやコータカップによるリンス液の跳ね返りがあると、
そのリンス液がウェーハ２のエッジ２ａの内側に掛かっ
てしまう。
ンス装置は、エッジリンスノズルの取付けられたアーム
が回動することで、エッジリンス幅が変動する。又、リ
ンス液をエッジリンスノズルに供給する配管内のエアが
みやコータカップによるリンス液の跳ね返りがあると、
そのリンス液がウェーハ２のエッジ２ａの内側に掛かっ
てしまう。
【０００５】かかる点に鑑み、本発明は、エッジリンス
幅が一定で、ウェーハのエッジより内側にリンス液が掛
かるおそれのないエッジリンス装置を提案しようとする
ものである。
幅が一定で、ウェーハのエッジより内側にリンス液が掛
かるおそれのないエッジリンス装置を提案しようとする
ものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によるエッジリン
ス装置は、回転自在の基台上のウェーハのエッジより内
側を覆うカバーと、 そのカバーの外側の下端に取付け
られたエッジリンスノズルと、ウェーハに対し、カバー
を接近及び離間自在に移動させる駆動手段とを有する。
ス装置は、回転自在の基台上のウェーハのエッジより内
側を覆うカバーと、 そのカバーの外側の下端に取付け
られたエッジリンスノズルと、ウェーハに対し、カバー
を接近及び離間自在に移動させる駆動手段とを有する。
【０００７】かかる本発明によれば、カバーによって、
ウェーハのエッジよりの内側にリンス液が掛かるおそれ
がなく、又、カバーの存在によって、リンス幅が一定に
なる。
ウェーハのエッジよりの内側にリンス液が掛かるおそれ
がなく、又、カバーの存在によって、リンス幅が一定に
なる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下に、図１を参照して、本発明
の実施の形態を説明する。円柱状の回転自在のコータカ
ップ（基台）１上に円板状のウェーハ２が載置される。
カップ状の円筒状のカバー４を設け、このカバー４によ
って、ウェーハ２のエッジ２ａより内側を覆うような直
径に設定する。そして、このカバー４の外側で、その下
端に１対のエッジリンスノズル３を、１８０°の角度割
りを以て設ける。エッジリンスノズル３の個数は、１
個、又は、３個以上でも良い。一対のエッジリンスノノ
ズル３、３からのリンス液の出射方向は、共に右回り方
向とすると、コータカップ１の回転方向は右回り方向と
するが、その逆も可能である。
の実施の形態を説明する。円柱状の回転自在のコータカ
ップ（基台）１上に円板状のウェーハ２が載置される。
カップ状の円筒状のカバー４を設け、このカバー４によ
って、ウェーハ２のエッジ２ａより内側を覆うような直
径に設定する。そして、このカバー４の外側で、その下
端に１対のエッジリンスノズル３を、１８０°の角度割
りを以て設ける。エッジリンスノズル３の個数は、１
個、又は、３個以上でも良い。一対のエッジリンスノノ
ズル３、３からのリンス液の出射方向は、共に右回り方
向とすると、コータカップ１の回転方向は右回り方向と
するが、その逆も可能である。
【０００９】このカバー４は一対の平行な連結棒５、５
を介してカバー保持体６に取付けられて、このカバー保
持体６によって、カバー４がウェーハ２に対し、接近及
び離間自在に駆動される。
を介してカバー保持体６に取付けられて、このカバー保
持体６によって、カバー４がウェーハ２に対し、接近及
び離間自在に駆動される。
【００１０】図示を省略したタンクよりの、ポンプによ
って加圧されたリンス液をエッジリンス管７を介してカ
バー保持体６内に供給し、カバー保持体６よりのリンス
液をエッジリンス管７を介して、エッジリンスノズル
３、３に供給して、そのエッジリンスノズル３、３より
吐出させ、コータカップ１によって回転せしめられてい
るウェーハ５のエッジ５ａに吹きつける。
って加圧されたリンス液をエッジリンス管７を介してカ
バー保持体６内に供給し、カバー保持体６よりのリンス
液をエッジリンス管７を介して、エッジリンスノズル
３、３に供給して、そのエッジリンスノズル３、３より
吐出させ、コータカップ１によって回転せしめられてい
るウェーハ５のエッジ５ａに吹きつける。
【００１１】カバー４は、その下端がウェーハ５より２
〜３mm上方に位置するように、位置決めする。
〜３mm上方に位置するように、位置決めする。
【００１２】かくして、エッジリンスノズル３、３より
のリンス液が回転中のウェーハ２のエッジに吐出される
が、リンス液がウェーハ２のエッジ２ａより内側に掛か
ることなく、リンス幅も一定となる。
のリンス液が回転中のウェーハ２のエッジに吐出される
が、リンス液がウェーハ２のエッジ２ａより内側に掛か
ることなく、リンス幅も一定となる。
【００１３】
【発明の効果】上述せる本発明によれば、回転自在の基
台上のウェーハのエッジより内側を覆うカバーと、 そ
のカバーの外側の下端に取付けられたエッジリンスノズ
ルと、ウェーハに対し、カバーを接近及び離間自在に移
動させる駆動手段とを有するので、エッジリンス幅が一
定で、ウェーハのエッジより内側にリンス液が掛かるお
それのないエッジリンス装置を得ることができる。
台上のウェーハのエッジより内側を覆うカバーと、 そ
のカバーの外側の下端に取付けられたエッジリンスノズ
ルと、ウェーハに対し、カバーを接近及び離間自在に移
動させる駆動手段とを有するので、エッジリンス幅が一
定で、ウェーハのエッジより内側にリンス液が掛かるお
それのないエッジリンス装置を得ることができる。
【図１】本発明の実施の形態を示す斜視図である。
【図２】従来例を示す斜視図である。 １ コータカップ、２ ウェーハ、２ａ ウェーハのエ
ッジ、３ エッジリンスノズル、４ カバー、５ 連結
棒、６ カバー保持体、７ エッジリンス管。
ッジ、３ エッジリンスノズル、４ カバー、５ 連結
棒、６ カバー保持体、７ エッジリンス管。
Claims (1)
- 【請求項１】 回転自在の基台上のウェーハのエッジよ
り内側を覆うカバーと、 該カバーの外側の下端に取付けられたエッジリンスノズ
ルと、 上記ウェーハに対し、上記カバーを接近及び離間自在に
移動させる駆動手段とを有することを特徴とするエッジ
リンス装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34880896A JPH10189421A (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | エッジリンス装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34880896A JPH10189421A (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | エッジリンス装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10189421A true JPH10189421A (ja) | 1998-07-21 |
Family
ID=18399514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34880896A Pending JPH10189421A (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | エッジリンス装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10189421A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100466297B1 (ko) * | 2002-10-17 | 2005-01-13 | 한국디엔에스 주식회사 | 반도체 제조 장치 |
| US7008487B1 (en) * | 2002-03-04 | 2006-03-07 | Micron Technology, Inc. | Method and system for removal of contaminates from phaseshift photomasks |
| JP6400161B1 (ja) * | 2017-08-08 | 2018-10-03 | キヤノン株式会社 | 成膜方法、ドライフィルムの製造方法、および液体吐出ヘッドの製造方法 |
-
1996
- 1996-12-26 JP JP34880896A patent/JPH10189421A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7008487B1 (en) * | 2002-03-04 | 2006-03-07 | Micron Technology, Inc. | Method and system for removal of contaminates from phaseshift photomasks |
| US7300526B2 (en) | 2002-03-04 | 2007-11-27 | Micron Technology, Inc. | Method and system for removal of contaminates from phaseshift photomasks |
| US8627836B2 (en) | 2002-03-04 | 2014-01-14 | Micron Technology, Inc. | Method and system for removal of contaminates from phaseshift photomasks |
| KR100466297B1 (ko) * | 2002-10-17 | 2005-01-13 | 한국디엔에스 주식회사 | 반도체 제조 장치 |
| US6939807B2 (en) | 2002-10-17 | 2005-09-06 | Semes Co., Ltd. | Apparatus for manufacturing semiconductor devices with a moveable shield |
| JP6400161B1 (ja) * | 2017-08-08 | 2018-10-03 | キヤノン株式会社 | 成膜方法、ドライフィルムの製造方法、および液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2019033171A (ja) * | 2017-08-08 | 2019-02-28 | キヤノン株式会社 | 成膜方法、ドライフィルムの製造方法、および液体吐出ヘッドの製造方法 |
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