JPH1015355A - 脱硝方法及び装置 - Google Patents
脱硝方法及び装置Info
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- JPH1015355A JPH1015355A JP8195472A JP19547296A JPH1015355A JP H1015355 A JPH1015355 A JP H1015355A JP 8195472 A JP8195472 A JP 8195472A JP 19547296 A JP19547296 A JP 19547296A JP H1015355 A JPH1015355 A JP H1015355A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 炭化水素、アルコール等を還元剤として燃焼
排ガス中の窒素酸化物を除去する際に、排ガス上流側の
脱硝触媒層を用いた還元剤による脱硝反応で熱が発生
し、排ガスの温度が上昇しても、排ガス温度が下流側の
脱硝触媒層の活性温度域から逸脱しないようにして、高
い脱硝率が得られるようにする。 【解決手段】 活性温度域が異なる少なくとも２種類の
脱硝触媒の触媒層として触媒Ａからなる触媒層１０ａ、
触媒Ｂからなる触媒層１０ｂを用い、炭化水素及びアル
コールの少なくとも１種を還元剤として、燃焼排ガス中
の窒素酸化物を除去する装置であって、脱硝触媒層１０
の排ガスが流入する上流側に低温域で活性が高い触媒Ａ
を配置するとともに、脱硝触媒層１０の下流側に高温域
で活性が高い触媒Ｂを直列に配置してなり、かつ、触媒
Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂからなる触媒層１０ｂ
の排ガス流入側にそれぞれ還元剤注入手段１２、１４を
設けてなる構成とする。
排ガス中の窒素酸化物を除去する際に、排ガス上流側の
脱硝触媒層を用いた還元剤による脱硝反応で熱が発生
し、排ガスの温度が上昇しても、排ガス温度が下流側の
脱硝触媒層の活性温度域から逸脱しないようにして、高
い脱硝率が得られるようにする。 【解決手段】 活性温度域が異なる少なくとも２種類の
脱硝触媒の触媒層として触媒Ａからなる触媒層１０ａ、
触媒Ｂからなる触媒層１０ｂを用い、炭化水素及びアル
コールの少なくとも１種を還元剤として、燃焼排ガス中
の窒素酸化物を除去する装置であって、脱硝触媒層１０
の排ガスが流入する上流側に低温域で活性が高い触媒Ａ
を配置するとともに、脱硝触媒層１０の下流側に高温域
で活性が高い触媒Ｂを直列に配置してなり、かつ、触媒
Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂからなる触媒層１０ｂ
の排ガス流入側にそれぞれ還元剤注入手段１２、１４を
設けてなる構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、燃焼排ガス、例え
ば、舶用ディーゼル機関の排ガスに含まれる窒素酸化物
（ＮＯx）を、炭化水素、アルコール等を還元剤として
除去する方法及び装置に関するものである。
ば、舶用ディーゼル機関の排ガスに含まれる窒素酸化物
（ＮＯx）を、炭化水素、アルコール等を還元剤として
除去する方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、炭化水素やアルコール等を還
元剤として、燃焼排ガス中の一酸化窒素（ＮＯ）と二酸
化窒素（ＮＯ2）を窒素に還元する反応には、脱硝触媒
として、ゼオライトにＰｔ、Ｃｕなどの金属を含有させ
たものや、アルミナにＣｕ、Ｃｏなどの金属を担持させ
たもの等が用いられている。従来は、これらの触媒を用
いて、燃焼排ガス中に含まれる炭化水素や、新たに排ガ
ス中に注入した炭化水素、アルコール等を還元剤とし
て、燃焼排ガス中の一酸化窒素と二酸化窒素を窒素に還
元して脱硝処理を行っていた。
元剤として、燃焼排ガス中の一酸化窒素（ＮＯ）と二酸
化窒素（ＮＯ2）を窒素に還元する反応には、脱硝触媒
として、ゼオライトにＰｔ、Ｃｕなどの金属を含有させ
たものや、アルミナにＣｕ、Ｃｏなどの金属を担持させ
たもの等が用いられている。従来は、これらの触媒を用
いて、燃焼排ガス中に含まれる炭化水素や、新たに排ガ
ス中に注入した炭化水素、アルコール等を還元剤とし
て、燃焼排ガス中の一酸化窒素と二酸化窒素を窒素に還
元して脱硝処理を行っていた。
【０００３】また、特開平６−７１１８１号公報には、
排ガスが流入する上流側に高温域で脱硝活性の高い触媒
を、排ガスが流出する下流側に低温域で脱硝活性の高い
触媒をそれぞれ直列に配置し、より広範囲の入口排ガス
温度に対応する脱硝方法が記載されている。なお、炭化
水素、アルコール等を還元剤とした脱硝方法や脱硝装置
において、異なる活性温度域を持つ２種以上の触媒の触
媒層を低温で活性なものから順に上流側より配置し、か
つ、それぞれの触媒層の入口（上流）側から還元剤を注
入するという内容の先行文献は見当たらない。
排ガスが流入する上流側に高温域で脱硝活性の高い触媒
を、排ガスが流出する下流側に低温域で脱硝活性の高い
触媒をそれぞれ直列に配置し、より広範囲の入口排ガス
温度に対応する脱硝方法が記載されている。なお、炭化
水素、アルコール等を還元剤とした脱硝方法や脱硝装置
において、異なる活性温度域を持つ２種以上の触媒の触
媒層を低温で活性なものから順に上流側より配置し、か
つ、それぞれの触媒層の入口（上流）側から還元剤を注
入するという内容の先行文献は見当たらない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の炭化水素やアル
コール等を還元剤とした脱硝処理では、それぞれの触媒
が脱硝反応に対して高い活性を有する固有の温度域を持
っているため、脱硝触媒層の入口における排ガスの温度
がこの範囲から外れると、排ガス中の一酸化窒素及び二
酸化窒素は殆ど除去されなくなる。また、還元剤は、一
酸化窒素や二酸化窒素とだけでなく酸素とも反応し、し
かも、一酸化窒素や二酸化窒素、酸素と反応することに
より大量に熱を発生する。そのため、脱硝率を上げるた
めに還元剤の注入量を増やしても、上記のように還元剤
の反応熱により温度が上昇し、触媒の脱硝活性が保たれ
る温度域から外れることになり、脱硝率はそれほど上昇
しなくなる。
コール等を還元剤とした脱硝処理では、それぞれの触媒
が脱硝反応に対して高い活性を有する固有の温度域を持
っているため、脱硝触媒層の入口における排ガスの温度
がこの範囲から外れると、排ガス中の一酸化窒素及び二
酸化窒素は殆ど除去されなくなる。また、還元剤は、一
酸化窒素や二酸化窒素とだけでなく酸素とも反応し、し
かも、一酸化窒素や二酸化窒素、酸素と反応することに
より大量に熱を発生する。そのため、脱硝率を上げるた
めに還元剤の注入量を増やしても、上記のように還元剤
の反応熱により温度が上昇し、触媒の脱硝活性が保たれ
る温度域から外れることになり、脱硝率はそれほど上昇
しなくなる。
【０００５】このように、炭化水素やアルコール等を還
元剤とした脱硝反応において、還元剤が排ガス中の一酸
化窒素や二酸化窒素等と反応するときに大量の熱を発生
し、そのため、排ガスの温度は上昇することになる。一
方、こうした反応に用いられる脱硝触媒は、種類により
それぞれ固有の活性な温度域を持っている。したがっ
て、上述したように、還元剤の注入量を増やしていって
も、排ガスの温度が触媒の活性な温度域の範囲内に入っ
ているうちは、それに伴い脱硝率が上昇するものの、還
元剤の反応熱が増大し、排ガスの温度が触媒の活性な温
度域の範囲から外れるようになると、還元剤は酸素と反
応するだけで、脱硝率はもはや上昇しなくなる。また、
上記の特開平６−７１１８１号公報記載の方法では、入
口の排ガス温度の変化に対してはある程度対応が可能で
あるが、温度が上昇した下流側では触媒の活性な温度域
から逸脱するため、触媒層における温度上昇には対応す
ることができず、高い脱硝率を得ることはできない。
元剤とした脱硝反応において、還元剤が排ガス中の一酸
化窒素や二酸化窒素等と反応するときに大量の熱を発生
し、そのため、排ガスの温度は上昇することになる。一
方、こうした反応に用いられる脱硝触媒は、種類により
それぞれ固有の活性な温度域を持っている。したがっ
て、上述したように、還元剤の注入量を増やしていって
も、排ガスの温度が触媒の活性な温度域の範囲内に入っ
ているうちは、それに伴い脱硝率が上昇するものの、還
元剤の反応熱が増大し、排ガスの温度が触媒の活性な温
度域の範囲から外れるようになると、還元剤は酸素と反
応するだけで、脱硝率はもはや上昇しなくなる。また、
上記の特開平６−７１１８１号公報記載の方法では、入
口の排ガス温度の変化に対してはある程度対応が可能で
あるが、温度が上昇した下流側では触媒の活性な温度域
から逸脱するため、触媒層における温度上昇には対応す
ることができず、高い脱硝率を得ることはできない。
【０００６】本発明は上記の諸点に鑑みなされたもの
で、本発明の目的は、炭化水素、アルコール等を還元剤
として燃焼排ガス中の窒素酸化物を除去する際に、排ガ
ス上流側の脱硝触媒層を用いた還元剤による脱硝反応で
熱が発生し、排ガスの温度が上昇しても、排ガス温度が
下流側の脱硝触媒層の活性温度域から逸脱しないように
して、高い脱硝率が得られるようにした方法及び装置を
提供することにある。
で、本発明の目的は、炭化水素、アルコール等を還元剤
として燃焼排ガス中の窒素酸化物を除去する際に、排ガ
ス上流側の脱硝触媒層を用いた還元剤による脱硝反応で
熱が発生し、排ガスの温度が上昇しても、排ガス温度が
下流側の脱硝触媒層の活性温度域から逸脱しないように
して、高い脱硝率が得られるようにした方法及び装置を
提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の脱硝方法は、活性温度域が異なる少なく
とも２種類の脱硝触媒の触媒層を用い、炭化水素及びア
ルコールの少なくとも１種からなる還元剤をそれぞれの
触媒層の排ガス流入側から各触媒層に注入して、燃焼排
ガス中の窒素酸化物（ＮＯx）を除去する方法であっ
て、前記触媒層を活性温度域が低い触媒から順に排ガス
上流側より直列に配置し、上流側に配置された低温域で
活性が高い触媒を用いて一酸化窒素（ＮＯ）及び二酸化
窒素（ＮＯ2）を除去し、ついで、より下流側に配置さ
れたより高温域で活性が高い触媒を用いて一酸化窒素及
び二酸化窒素をさらに除去することを特徴としている。
上記の本発明の方法において、脱硝触媒層の排ガス入口
における一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び温度
を計測して、還元剤の注入量を制御することが望まし
い。
めに、本発明の脱硝方法は、活性温度域が異なる少なく
とも２種類の脱硝触媒の触媒層を用い、炭化水素及びア
ルコールの少なくとも１種からなる還元剤をそれぞれの
触媒層の排ガス流入側から各触媒層に注入して、燃焼排
ガス中の窒素酸化物（ＮＯx）を除去する方法であっ
て、前記触媒層を活性温度域が低い触媒から順に排ガス
上流側より直列に配置し、上流側に配置された低温域で
活性が高い触媒を用いて一酸化窒素（ＮＯ）及び二酸化
窒素（ＮＯ2）を除去し、ついで、より下流側に配置さ
れたより高温域で活性が高い触媒を用いて一酸化窒素及
び二酸化窒素をさらに除去することを特徴としている。
上記の本発明の方法において、脱硝触媒層の排ガス入口
における一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び温度
を計測して、還元剤の注入量を制御することが望まし
い。
【０００８】また、上記の本発明の方法においては、脱
硝触媒として、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2
及びゼオライトからなる群より選ばれた少なくとも１種
の担体に、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｎ
ｉ、Ｚｎ及びＩｎからなる群より選ばれた少なくとも１
種の金属を含有させたものを用いることが望ましい。こ
の場合、低温域、例えば、２１０〜２５０℃の範囲で活
性が高い触媒としては、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、
ＴｉＯ2及びゼオライトからなる群より選ばれた少なく
とも１種の担体にＰｔを含有させたものが挙げられる。
また、高温域、例えば、２５０〜４５０℃の範囲で活性
が高い触媒としては、ゼオライトにＣｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、
Ａｇ、Ｍｎ及びＩｎからなる群より選ばれた少なくとも
１種の金属を含有させたものが挙げられる。一例とし
て、排ガス入口における排ガスの温度の変動範囲が２０
０〜３００℃で、Ｏ2濃度が１５％でＨ2Ｏ濃度が５％の
排ガスで、還元剤にＣ3Ｈ6（プロピレン）を用いる場合
は、２１０〜２５０℃の範囲で活性な触媒である、Ａｌ
2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトから
なる群より選ばれた少なくとも１種の担体にＰｔを含有
させたものと、２５０〜３５０℃の範囲で活性な触媒で
ある、ゼオライトにＣｕを含有させたものとの組み合わ
せが挙げられる。また、さらに下流側に３５０〜４５０
℃の範囲で活性な触媒である、ゼオライトにＣｏ、Ｆ
ｅ、Ａｇ、Ｍｎ及びＩｎからなる群より選ばれた少なく
とも１種の金属を含有させたものを組み合わせることも
可能である。
硝触媒として、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2
及びゼオライトからなる群より選ばれた少なくとも１種
の担体に、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｎ
ｉ、Ｚｎ及びＩｎからなる群より選ばれた少なくとも１
種の金属を含有させたものを用いることが望ましい。こ
の場合、低温域、例えば、２１０〜２５０℃の範囲で活
性が高い触媒としては、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、
ＴｉＯ2及びゼオライトからなる群より選ばれた少なく
とも１種の担体にＰｔを含有させたものが挙げられる。
また、高温域、例えば、２５０〜４５０℃の範囲で活性
が高い触媒としては、ゼオライトにＣｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、
Ａｇ、Ｍｎ及びＩｎからなる群より選ばれた少なくとも
１種の金属を含有させたものが挙げられる。一例とし
て、排ガス入口における排ガスの温度の変動範囲が２０
０〜３００℃で、Ｏ2濃度が１５％でＨ2Ｏ濃度が５％の
排ガスで、還元剤にＣ3Ｈ6（プロピレン）を用いる場合
は、２１０〜２５０℃の範囲で活性な触媒である、Ａｌ
2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトから
なる群より選ばれた少なくとも１種の担体にＰｔを含有
させたものと、２５０〜３５０℃の範囲で活性な触媒で
ある、ゼオライトにＣｕを含有させたものとの組み合わ
せが挙げられる。また、さらに下流側に３５０〜４５０
℃の範囲で活性な触媒である、ゼオライトにＣｏ、Ｆ
ｅ、Ａｇ、Ｍｎ及びＩｎからなる群より選ばれた少なく
とも１種の金属を含有させたものを組み合わせることも
可能である。
【０００９】また、上記の本発明の方法においては、還
元剤として、炭素数が２〜１６の炭化水素及び炭素数が
１〜１６のアルコールからなる群より選ばれた少なくと
も１種、又は炭素数が２〜１６の炭化水素及び炭素数が
１〜１６のアルコールからなる群より選ばれた少なくと
も１種を成分として含む液化石油ガスもしくは燃料油を
用いることが望ましい。この場合、炭素数が２〜１６の
炭化水素は、炭素数が２〜６のオレフィン及び炭素数が
７〜１６の炭化水素からなる群より選ばれた少なくとも
１種であることがより望ましく、炭素数が７〜１６の炭
化水素には、オレフィンだけでなく、パラフィンその他
の炭化水素が含まれる。
元剤として、炭素数が２〜１６の炭化水素及び炭素数が
１〜１６のアルコールからなる群より選ばれた少なくと
も１種、又は炭素数が２〜１６の炭化水素及び炭素数が
１〜１６のアルコールからなる群より選ばれた少なくと
も１種を成分として含む液化石油ガスもしくは燃料油を
用いることが望ましい。この場合、炭素数が２〜１６の
炭化水素は、炭素数が２〜６のオレフィン及び炭素数が
７〜１６の炭化水素からなる群より選ばれた少なくとも
１種であることがより望ましく、炭素数が７〜１６の炭
化水素には、オレフィンだけでなく、パラフィンその他
の炭化水素が含まれる。
【００１０】上記の本発明の方法において、脱硝触媒層
の下流に亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用いる触媒
の触媒層を直列に配置して、排ガス中の亜酸化窒素を除
去することが望ましい。特に、脱硝触媒として、Ａｌ2
Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトからな
る群より選ばれた少なくとも１種の担体にＰｔを含有さ
せた触媒等を用いる場合には、脱硝反応の過程で亜酸化
窒素（Ｎ2Ｏ）が生成するので、これを除去する必要が
ある。この場合、亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用
いる触媒層の排ガス流入側から炭化水素及びアルコール
の少なくとも１種からなる還元剤を注入することが望ま
しい。
の下流に亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用いる触媒
の触媒層を直列に配置して、排ガス中の亜酸化窒素を除
去することが望ましい。特に、脱硝触媒として、Ａｌ2
Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトからな
る群より選ばれた少なくとも１種の担体にＰｔを含有さ
せた触媒等を用いる場合には、脱硝反応の過程で亜酸化
窒素（Ｎ2Ｏ）が生成するので、これを除去する必要が
ある。この場合、亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用
いる触媒層の排ガス流入側から炭化水素及びアルコール
の少なくとも１種からなる還元剤を注入することが望ま
しい。
【００１１】また、上記の本発明の方法において、亜酸
化窒素を窒素に還元する反応に用いる触媒層の排ガス流
入側における亜酸化窒素の濃度及び温度を計測して、亜
酸化窒素を窒素に還元する還元剤の注入量を制御するこ
とが望ましい。また、上記の本発明の方法において、脱
硝触媒層の排ガス入口における一酸化窒素と二酸化窒素
の合計の濃度及び温度を計測して、それらの値をもとに
亜酸化窒素を効率よく窒素に還元するための各位置の還
元剤の注入量を制御することが望ましい。また、上記の
本発明の方法において、亜酸化窒素を窒素に還元する反
応に用いる触媒層の排ガス流入側における亜酸化窒素の
濃度及び温度を計測して、それらの値をもとに亜酸化窒
素を効率よく窒素に還元するための各位置の還元剤の注
入量を制御することが望ましい。
化窒素を窒素に還元する反応に用いる触媒層の排ガス流
入側における亜酸化窒素の濃度及び温度を計測して、亜
酸化窒素を窒素に還元する還元剤の注入量を制御するこ
とが望ましい。また、上記の本発明の方法において、脱
硝触媒層の排ガス入口における一酸化窒素と二酸化窒素
の合計の濃度及び温度を計測して、それらの値をもとに
亜酸化窒素を効率よく窒素に還元するための各位置の還
元剤の注入量を制御することが望ましい。また、上記の
本発明の方法において、亜酸化窒素を窒素に還元する反
応に用いる触媒層の排ガス流入側における亜酸化窒素の
濃度及び温度を計測して、それらの値をもとに亜酸化窒
素を効率よく窒素に還元するための各位置の還元剤の注
入量を制御することが望ましい。
【００１２】また、上記の本発明の方法においては、亜
酸化窒素を窒素に還元する反応に用いる触媒として、Ａ
ｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトか
らなる群より選ばれた少なくとも１種の担体に、Ｃｕ、
Ｃｏ、Ｒｈ、Ｃａ及びＳｎからなる群より選ばれた少な
くとも１種の金属を含有させたものを用いることが望ま
しい。また、上記の本発明の方法においては、亜酸化窒
素を窒素に還元する還元剤として、炭素数が２〜１６の
炭化水素及び炭素数が１〜１６のアルコールからなる群
より選ばれた少なくとも１種、又は炭素数が２〜１６の
炭化水素及び炭素数が１〜１６のアルコールからなる群
より選ばれた少なくとも１種を成分として含む液化石油
ガスもしくは燃料油を用いることが望ましい。この場
合、炭素数が２〜１６の炭化水素は、炭素数が２〜６の
オレフィン及び炭素数が７〜１６の炭化水素からなる群
より選ばれた少なくとも１種であることがより望まし
く、炭素数が７〜１６の炭化水素には、オレフィンだけ
でなく、パラフィンその他の炭化水素が含まれる。
酸化窒素を窒素に還元する反応に用いる触媒として、Ａ
ｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトか
らなる群より選ばれた少なくとも１種の担体に、Ｃｕ、
Ｃｏ、Ｒｈ、Ｃａ及びＳｎからなる群より選ばれた少な
くとも１種の金属を含有させたものを用いることが望ま
しい。また、上記の本発明の方法においては、亜酸化窒
素を窒素に還元する還元剤として、炭素数が２〜１６の
炭化水素及び炭素数が１〜１６のアルコールからなる群
より選ばれた少なくとも１種、又は炭素数が２〜１６の
炭化水素及び炭素数が１〜１６のアルコールからなる群
より選ばれた少なくとも１種を成分として含む液化石油
ガスもしくは燃料油を用いることが望ましい。この場
合、炭素数が２〜１６の炭化水素は、炭素数が２〜６の
オレフィン及び炭素数が７〜１６の炭化水素からなる群
より選ばれた少なくとも１種であることがより望まし
く、炭素数が７〜１６の炭化水素には、オレフィンだけ
でなく、パラフィンその他の炭化水素が含まれる。
【００１３】本発明の脱硝装置は、活性温度域が異なる
少なくとも２種類の脱硝触媒の触媒層を用い、炭化水素
及びアルコールの少なくとも１種を還元剤として、燃焼
排ガス中の窒素酸化物を除去する装置であって、触媒層
の排ガスが流入する上流側に低温域で活性が高い触媒を
配置するとともに、触媒層の下流側に行くほど高温域で
活性が高い触媒を直列に配置してなり、かつ、各触媒層
の排ガス流入側に還元剤注入手段を設けてなることを特
徴としている。上記の本発明の装置において、脱硝触媒
層の排ガス入口における一酸化窒素と二酸化窒素の合計
の濃度及び温度を計測する計測手段を取り付けるととも
に、計測された値をもとに還元剤の注入量を演算・制御
する制御手段を設けてなる構成とすることが望ましい。
少なくとも２種類の脱硝触媒の触媒層を用い、炭化水素
及びアルコールの少なくとも１種を還元剤として、燃焼
排ガス中の窒素酸化物を除去する装置であって、触媒層
の排ガスが流入する上流側に低温域で活性が高い触媒を
配置するとともに、触媒層の下流側に行くほど高温域で
活性が高い触媒を直列に配置してなり、かつ、各触媒層
の排ガス流入側に還元剤注入手段を設けてなることを特
徴としている。上記の本発明の装置において、脱硝触媒
層の排ガス入口における一酸化窒素と二酸化窒素の合計
の濃度及び温度を計測する計測手段を取り付けるととも
に、計測された値をもとに還元剤の注入量を演算・制御
する制御手段を設けてなる構成とすることが望ましい。
【００１４】また、上記の本発明の装置において、脱硝
触媒層における脱硝触媒の下流に亜酸化窒素を窒素に還
元する反応に用いる触媒の触媒層を直列に配置してなる
構成とすることが望ましい。また、上記の本発明の装置
において、脱硝触媒層における亜酸化窒素を窒素に還元
する反応に用いる触媒層の排ガス流入側に、炭化水素及
びアルコールの少なくとも１種からなる還元剤の注入手
段を設けてなる構成とすることが望ましい。なお、以上
の本発明の装置において述べた触媒層の構成としては、
例えば、ハニカム形状触媒、又はこれを積み重ねたもの
や、粒状の触媒を充填させたもの等が挙げられる。
触媒層における脱硝触媒の下流に亜酸化窒素を窒素に還
元する反応に用いる触媒の触媒層を直列に配置してなる
構成とすることが望ましい。また、上記の本発明の装置
において、脱硝触媒層における亜酸化窒素を窒素に還元
する反応に用いる触媒層の排ガス流入側に、炭化水素及
びアルコールの少なくとも１種からなる還元剤の注入手
段を設けてなる構成とすることが望ましい。なお、以上
の本発明の装置において述べた触媒層の構成としては、
例えば、ハニカム形状触媒、又はこれを積み重ねたもの
や、粒状の触媒を充填させたもの等が挙げられる。
【００１５】また、上記の本発明の装置において、亜酸
化窒素を窒素に還元する反応に用いる触媒の排ガス流入
側における亜酸化窒素の濃度及び温度を計測する計測手
段を取り付けるとともに、計測された値をもとに亜酸化
窒素を窒素に還元する還元剤の注入量を演算・制御する
制御手段を設けてなる構成とすることが望ましい。ま
た、上記の本発明の装置において、脱硝触媒層の排ガス
入口における一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び
温度を計測する計測手段を取り付けるとともに、計測さ
れた値をもとに亜酸化窒素を効率よく窒素に還元するた
めの各位置の還元剤の注入量を演算・制御する制御手段
を設けてなる構成とすることが望ましい。また、上記の
本発明の装置において、亜酸化窒素を窒素に還元する反
応に用いる触媒層の排ガス流入側における亜酸化窒素の
濃度及び温度を計測する計測手段を取り付けるととも
に、計測された値をもとに亜酸化窒素を効率よく窒素に
還元するための各位置の還元剤の注入量を演算・制御す
る制御手段を設けてなる構成とすることが望ましい。
化窒素を窒素に還元する反応に用いる触媒の排ガス流入
側における亜酸化窒素の濃度及び温度を計測する計測手
段を取り付けるとともに、計測された値をもとに亜酸化
窒素を窒素に還元する還元剤の注入量を演算・制御する
制御手段を設けてなる構成とすることが望ましい。ま
た、上記の本発明の装置において、脱硝触媒層の排ガス
入口における一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び
温度を計測する計測手段を取り付けるとともに、計測さ
れた値をもとに亜酸化窒素を効率よく窒素に還元するた
めの各位置の還元剤の注入量を演算・制御する制御手段
を設けてなる構成とすることが望ましい。また、上記の
本発明の装置において、亜酸化窒素を窒素に還元する反
応に用いる触媒層の排ガス流入側における亜酸化窒素の
濃度及び温度を計測する計測手段を取り付けるととも
に、計測された値をもとに亜酸化窒素を効率よく窒素に
還元するための各位置の還元剤の注入量を演算・制御す
る制御手段を設けてなる構成とすることが望ましい。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図１〜図８を参照しなが
ら、本発明の実施の形態について説明するが、本発明は
以下に述べる実施の形態に何ら限定されるものではな
い。図１は、本発明の実施の第１形態による脱硝装置の
一例を示している。図１において、２種類の触媒Ａから
なる触媒層１０ａ及び触媒Ｂからなる触媒層１０ｂは、
一酸化窒素と二酸化窒素を除去する脱硝触媒の触媒層で
あり、触媒Ａは２１０〜２５０℃の低温域で脱硝活性が
高い触媒であり、触媒Ｂは２５０〜３５０℃の高温域で
脱硝活性が高い触媒である。一例として、排ガス入口に
おける排ガスの温度の変動範囲が２００〜３００℃で、
Ｏ2濃度が１５％でＨ2Ｏ濃度が５％の排ガスで、還元剤
にＣ3Ｈ6（プロピレン）を用いる場合は、触媒Ａに２１
０〜２５０℃の範囲で活性な触媒であるＡｌ2Ｏ3、Ｓｉ
Ｏ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトからなる群より
選ばれた少なくとも１種の担体にＰｔを含有させたもの
が用いられ、触媒Ｂに２５０〜３５０℃の範囲で活性な
触媒であるゼオライトにＣｕを含有させたものが用いら
れる。図１では、脱硝触媒層１０の排ガス上流側より触
媒Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂからなる触媒層１０
ｂの順に直列に配置され、かつ、触媒Ａからなる触媒層
１０ａ、触媒Ｂからなる触媒層１０ｂそれぞれの排ガス
流入側に還元剤注入手段１２、１４が設けられている。
還元剤注入手段としては、一例として、還元剤注入管と
多数のスプレーノズルとから構成されたものが用いら
れ、還元剤の注入方法としては、一例として、還元剤を
気化させ、これに不活性ガスや水蒸気等を加えて、還元
剤が触媒上以外では反応しない濃度まで希釈したのち加
える方法がある。このとき、触媒層に均一に還元剤が流
れるようノズルを配置する必要があり、場合によっては
流れに対して垂直方向に複数のノズルを配置する。ま
た、脱硝触媒層としては、一例として、ハニカム形状触
媒、又はこれを積み重ねたものや、粒状の触媒を充填さ
せたもの等が用いられる。
ら、本発明の実施の形態について説明するが、本発明は
以下に述べる実施の形態に何ら限定されるものではな
い。図１は、本発明の実施の第１形態による脱硝装置の
一例を示している。図１において、２種類の触媒Ａから
なる触媒層１０ａ及び触媒Ｂからなる触媒層１０ｂは、
一酸化窒素と二酸化窒素を除去する脱硝触媒の触媒層で
あり、触媒Ａは２１０〜２５０℃の低温域で脱硝活性が
高い触媒であり、触媒Ｂは２５０〜３５０℃の高温域で
脱硝活性が高い触媒である。一例として、排ガス入口に
おける排ガスの温度の変動範囲が２００〜３００℃で、
Ｏ2濃度が１５％でＨ2Ｏ濃度が５％の排ガスで、還元剤
にＣ3Ｈ6（プロピレン）を用いる場合は、触媒Ａに２１
０〜２５０℃の範囲で活性な触媒であるＡｌ2Ｏ3、Ｓｉ
Ｏ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトからなる群より
選ばれた少なくとも１種の担体にＰｔを含有させたもの
が用いられ、触媒Ｂに２５０〜３５０℃の範囲で活性な
触媒であるゼオライトにＣｕを含有させたものが用いら
れる。図１では、脱硝触媒層１０の排ガス上流側より触
媒Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂからなる触媒層１０
ｂの順に直列に配置され、かつ、触媒Ａからなる触媒層
１０ａ、触媒Ｂからなる触媒層１０ｂそれぞれの排ガス
流入側に還元剤注入手段１２、１４が設けられている。
還元剤注入手段としては、一例として、還元剤注入管と
多数のスプレーノズルとから構成されたものが用いら
れ、還元剤の注入方法としては、一例として、還元剤を
気化させ、これに不活性ガスや水蒸気等を加えて、還元
剤が触媒上以外では反応しない濃度まで希釈したのち加
える方法がある。このとき、触媒層に均一に還元剤が流
れるようノズルを配置する必要があり、場合によっては
流れに対して垂直方向に複数のノズルを配置する。ま
た、脱硝触媒層としては、一例として、ハニカム形状触
媒、又はこれを積み重ねたものや、粒状の触媒を充填さ
せたもの等が用いられる。
【００１７】図１に示すような装置を用いて排ガスの脱
硝処理を行う場合、触媒Ａからなる触媒層１０ａにおい
て脱硝反応が起こって、その反応熱により排ガスの温度
が上昇し、排ガス温度が触媒Ａの活性温度域より高温に
なっても、その後段に触媒Ａより高温で活性な触媒Ｂか
らなる触媒層１０ｂが設置されているので、さらに排ガ
スの脱硝を行うことが可能である。また、このとき、脱
硝触媒層１０の最上流部の還元剤注入手段１２のみから
還元剤を注入しても、触媒Ａからなる触媒層１０ａにお
いて酸素との反応により還元剤が無駄に消費されてしま
うので、後段の触媒Ｂからなる触媒層１０ｂまで還元剤
が到達しないことがある。しかし、触媒Ｂからなる触媒
層１０ｂの排ガス流入側に設けられた還元剤注入手段１
４から新たに還元剤を注入すれば、触媒Ｂからなる触媒
層１０ｂにおいてさらに脱硝反応が起こることになり、
脱硝率は向上する。
硝処理を行う場合、触媒Ａからなる触媒層１０ａにおい
て脱硝反応が起こって、その反応熱により排ガスの温度
が上昇し、排ガス温度が触媒Ａの活性温度域より高温に
なっても、その後段に触媒Ａより高温で活性な触媒Ｂか
らなる触媒層１０ｂが設置されているので、さらに排ガ
スの脱硝を行うことが可能である。また、このとき、脱
硝触媒層１０の最上流部の還元剤注入手段１２のみから
還元剤を注入しても、触媒Ａからなる触媒層１０ａにお
いて酸素との反応により還元剤が無駄に消費されてしま
うので、後段の触媒Ｂからなる触媒層１０ｂまで還元剤
が到達しないことがある。しかし、触媒Ｂからなる触媒
層１０ｂの排ガス流入側に設けられた還元剤注入手段１
４から新たに還元剤を注入すれば、触媒Ｂからなる触媒
層１０ｂにおいてさらに脱硝反応が起こることになり、
脱硝率は向上する。
【００１８】図２は、本発明の実施の第１形態による脱
硝装置の他の例を示している。図２において、触媒Ｃか
らなる触媒層１０ｃは一酸化窒素と二酸化窒素を除去す
る脱硝触媒の触媒層であり、触媒Ｃは、触媒Ｂより高温
域の３５０〜４５０℃の範囲で脱硝活性が高い触媒であ
る。図２において、図１の場合と同様に、触媒Ａに２１
０〜２５０℃の範囲で活性な触媒であるＡｌ2Ｏ3、Ｓｉ
Ｏ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトからなる群より
選ばれた少なくとも１種の担体にＰｔを含有させたもの
を用い、触媒Ｂに２５０〜３５０℃の範囲で活性な触媒
であるゼオライトにＣｕを含有させたものを用いる場
合、一例として、触媒Ｃには、３５０〜４５０℃の範囲
で活性な触媒であるゼオライトにＣｏ、Ｆｅ、Ａｇ、Ｍ
ｎ及びＩｎからなる群より選ばれた少なくとも１種の金
属を含有させたものが用いられる。図２では、脱硝触媒
層１０の排ガス上流側より触媒Ａからなる触媒層１０
ａ、触媒Ｂからなる触媒層１０ｂ、触媒Ｃからなる触媒
層１０ｃの順に直列に配置され、かつ、触媒Ａからなる
触媒層１０ａ、触媒Ｂからなる触媒層１０ｂ、触媒Ｃか
らなる触媒層１０ｃそれぞれの排ガス流入側に還元剤注
入手段１２、１４、１６が設けられている。他の構成及
び作用は図１の場合と同様である。なお、図２では、一
例として、３種類の触媒からなる層を活性温度域の低い
ものから直列に上流より配置しているが、４種類以上の
触媒を用いて同様の構成とすることも勿論可能である。
硝装置の他の例を示している。図２において、触媒Ｃか
らなる触媒層１０ｃは一酸化窒素と二酸化窒素を除去す
る脱硝触媒の触媒層であり、触媒Ｃは、触媒Ｂより高温
域の３５０〜４５０℃の範囲で脱硝活性が高い触媒であ
る。図２において、図１の場合と同様に、触媒Ａに２１
０〜２５０℃の範囲で活性な触媒であるＡｌ2Ｏ3、Ｓｉ
Ｏ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトからなる群より
選ばれた少なくとも１種の担体にＰｔを含有させたもの
を用い、触媒Ｂに２５０〜３５０℃の範囲で活性な触媒
であるゼオライトにＣｕを含有させたものを用いる場
合、一例として、触媒Ｃには、３５０〜４５０℃の範囲
で活性な触媒であるゼオライトにＣｏ、Ｆｅ、Ａｇ、Ｍ
ｎ及びＩｎからなる群より選ばれた少なくとも１種の金
属を含有させたものが用いられる。図２では、脱硝触媒
層１０の排ガス上流側より触媒Ａからなる触媒層１０
ａ、触媒Ｂからなる触媒層１０ｂ、触媒Ｃからなる触媒
層１０ｃの順に直列に配置され、かつ、触媒Ａからなる
触媒層１０ａ、触媒Ｂからなる触媒層１０ｂ、触媒Ｃか
らなる触媒層１０ｃそれぞれの排ガス流入側に還元剤注
入手段１２、１４、１６が設けられている。他の構成及
び作用は図１の場合と同様である。なお、図２では、一
例として、３種類の触媒からなる層を活性温度域の低い
ものから直列に上流より配置しているが、４種類以上の
触媒を用いて同様の構成とすることも勿論可能である。
【００１９】図３は、本発明の実施の第１形態による脱
硝装置のさらに他の例を示している。図３では、脱硝触
媒層１０の排ガス上流側より触媒Ａからなる触媒層１０
ａ、触媒Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂからなる触媒
層１０ｂ、触媒Ｂからなる触媒層１０ｂの順に直列に配
置され、かつ、触媒Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂか
らなる触媒層１０ｂそれぞれの排ガス流入側に還元剤注
入手段１２、１８、１４、２０が設けられている。他の
構成及び作用は図１の場合と同様である。このように、
触媒が異なる場合だけでなく、同一の触媒からなる層を
直列に並べた場合でも、そのいくつかに還元剤注入手段
を設けることにより、還元剤の反応熱による局所的な温
度上昇を防ぐことができ、脱硝率を上げることができ
る。なお、図３では、一例として、２種類の触媒を用い
て、それぞれの種類の触媒からなる層に対して２箇所か
ら還元剤を注入する構成としているが、３種類以上の触
媒を用い、又はそれぞれの種類の触媒からなる層に対し
て３以上の箇所から還元剤を注入する構成とすることも
勿論可能である。
硝装置のさらに他の例を示している。図３では、脱硝触
媒層１０の排ガス上流側より触媒Ａからなる触媒層１０
ａ、触媒Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂからなる触媒
層１０ｂ、触媒Ｂからなる触媒層１０ｂの順に直列に配
置され、かつ、触媒Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂか
らなる触媒層１０ｂそれぞれの排ガス流入側に還元剤注
入手段１２、１８、１４、２０が設けられている。他の
構成及び作用は図１の場合と同様である。このように、
触媒が異なる場合だけでなく、同一の触媒からなる層を
直列に並べた場合でも、そのいくつかに還元剤注入手段
を設けることにより、還元剤の反応熱による局所的な温
度上昇を防ぐことができ、脱硝率を上げることができ
る。なお、図３では、一例として、２種類の触媒を用い
て、それぞれの種類の触媒からなる層に対して２箇所か
ら還元剤を注入する構成としているが、３種類以上の触
媒を用い、又はそれぞれの種類の触媒からなる層に対し
て３以上の箇所から還元剤を注入する構成とすることも
勿論可能である。
【００２０】図４は、本発明の実施の第２形態による脱
硝装置の一例を示している。図４は、図１に示す装置に
おいて、一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度を計測す
る濃度計測手段２２、排ガスの温度を計測する温度計測
手段２４を脱硝触媒層１０の排ガス入口に取り付け、濃
度計測手段２２、温度計測手段２４で計測された値をも
とに還元剤注入手段１２、１４からの還元剤の注入量を
演算・制御する制御手段２６を設けたものである。図４
では、制御手段２６は、制御器２８と還元剤注入手段１
２、１４にそれぞれ設けられた流量調節弁３０、３２と
から構成されているが、その他の制御手段を適用するこ
とも勿論可能である。なお、本実施の形態は、濃度計測
手段２２及び温度計測手段２４を脱硝触媒層１０の最上
流に取り付ける場合を示しているが、各触媒層の中間に
それらを取り付ける構成とすることも可能である。他の
構成及び作用は図１の場合と同様である。
硝装置の一例を示している。図４は、図１に示す装置に
おいて、一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度を計測す
る濃度計測手段２２、排ガスの温度を計測する温度計測
手段２４を脱硝触媒層１０の排ガス入口に取り付け、濃
度計測手段２２、温度計測手段２４で計測された値をも
とに還元剤注入手段１２、１４からの還元剤の注入量を
演算・制御する制御手段２６を設けたものである。図４
では、制御手段２６は、制御器２８と還元剤注入手段１
２、１４にそれぞれ設けられた流量調節弁３０、３２と
から構成されているが、その他の制御手段を適用するこ
とも勿論可能である。なお、本実施の形態は、濃度計測
手段２２及び温度計測手段２４を脱硝触媒層１０の最上
流に取り付ける場合を示しているが、各触媒層の中間に
それらを取り付ける構成とすることも可能である。他の
構成及び作用は図１の場合と同様である。
【００２１】図４に示すような装置を用いて排ガスの脱
硝処理を行う場合、温度計測手段２４で計測した排ガス
の温度に応じて、その温度域で活性の高い触媒の入口側
に設けられた還元剤注入手段１２又は／及び１４の流量
調節弁３０又は／及び３２が開となり、還元剤が注入さ
れる。それより上流側にある活性温度域が排ガスの温度
より低い触媒については、還元剤を注入しても脱硝反応
は起きず、還元剤が酸素と反応するだけであるので、還
元剤の注入は行わないように制御される。また、濃度計
測手段２２で計測した一酸化窒素と二酸化窒素の合計の
濃度や希望する脱硝率に応じて、活性温度域にある触媒
での脱硝処理だけでは不十分なときは、それよりも下流
側の触媒でも脱硝反応を行うべく、下流側の還元剤注入
手段１４からも還元剤の注入を行うように制御される。
その他の構成及び作用は、本発明の実施の第１形態の場
合と同様である。
硝処理を行う場合、温度計測手段２４で計測した排ガス
の温度に応じて、その温度域で活性の高い触媒の入口側
に設けられた還元剤注入手段１２又は／及び１４の流量
調節弁３０又は／及び３２が開となり、還元剤が注入さ
れる。それより上流側にある活性温度域が排ガスの温度
より低い触媒については、還元剤を注入しても脱硝反応
は起きず、還元剤が酸素と反応するだけであるので、還
元剤の注入は行わないように制御される。また、濃度計
測手段２２で計測した一酸化窒素と二酸化窒素の合計の
濃度や希望する脱硝率に応じて、活性温度域にある触媒
での脱硝処理だけでは不十分なときは、それよりも下流
側の触媒でも脱硝反応を行うべく、下流側の還元剤注入
手段１４からも還元剤の注入を行うように制御される。
その他の構成及び作用は、本発明の実施の第１形態の場
合と同様である。
【００２２】図５は、本発明の実施の第３形態による脱
硝装置の一例を示している。図５において、触媒Ｄから
なる触媒層１０ｄは亜酸化窒素を窒素に還元する触媒の
触媒層であり、触媒Ｄとしては、一例として、ゼオライ
トにＣｕやＣｏを含有させたもの等が用いられる。上記
の触媒Ｄは、３５０〜５００℃の範囲で活性が高い触媒
である。図５では、脱硝触媒層１０の排ガス上流側より
触媒Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂからなる触媒層１
０ｂ、触媒Ｄからなる触媒層１０ｄの順に直列に配置さ
れ、かつ、触媒Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂからな
る触媒層１０ｂ、触媒Ｄからなる触媒層１０ｄそれぞれ
の排ガス流入側に還元剤注入手段１２、１４、３４が設
けられている。なお、本実施の形態では、触媒Ｄからな
る触媒層１０ｄを最下流に設置しているが、亜酸化窒素
を窒素に還元する触媒層を各触媒層の中間に取り付ける
構成とすることも可能である。特に、脱硝に用いる触媒
Ａ、触媒Ｂとして、Ｐｔを含有させた触媒等を用いる場
合には、脱硝反応の過程で亜酸化窒素が生成するので、
これを触媒Ｄを用いて除去する必要がある。また、触媒
Ｄからなる触媒層１０ｄの排ガス流入側に設けられた還
元剤注入手段３４から還元剤を注入することで、亜酸化
窒素の除去を促進することができる。その他の構成及び
作用は、本発明の実施の第１形態の場合と同様である。
硝装置の一例を示している。図５において、触媒Ｄから
なる触媒層１０ｄは亜酸化窒素を窒素に還元する触媒の
触媒層であり、触媒Ｄとしては、一例として、ゼオライ
トにＣｕやＣｏを含有させたもの等が用いられる。上記
の触媒Ｄは、３５０〜５００℃の範囲で活性が高い触媒
である。図５では、脱硝触媒層１０の排ガス上流側より
触媒Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂからなる触媒層１
０ｂ、触媒Ｄからなる触媒層１０ｄの順に直列に配置さ
れ、かつ、触媒Ａからなる触媒層１０ａ、触媒Ｂからな
る触媒層１０ｂ、触媒Ｄからなる触媒層１０ｄそれぞれ
の排ガス流入側に還元剤注入手段１２、１４、３４が設
けられている。なお、本実施の形態では、触媒Ｄからな
る触媒層１０ｄを最下流に設置しているが、亜酸化窒素
を窒素に還元する触媒層を各触媒層の中間に取り付ける
構成とすることも可能である。特に、脱硝に用いる触媒
Ａ、触媒Ｂとして、Ｐｔを含有させた触媒等を用いる場
合には、脱硝反応の過程で亜酸化窒素が生成するので、
これを触媒Ｄを用いて除去する必要がある。また、触媒
Ｄからなる触媒層１０ｄの排ガス流入側に設けられた還
元剤注入手段３４から還元剤を注入することで、亜酸化
窒素の除去を促進することができる。その他の構成及び
作用は、本発明の実施の第１形態の場合と同様である。
【００２３】図６は、本発明の実施の第４形態による脱
硝装置の一例を示している。図６は、図５に示す装置に
おいて、亜酸化窒素の濃度を計測する濃度計測手段３
６、排ガスの温度を計測する温度計測手段３８を脱硝触
媒層１０における触媒Ｄからなる触媒層１０ｄの排ガス
流入側に取り付け、濃度計測手段３６、温度計測手段３
８で計測された値をもとに還元剤注入手段３４からの還
元剤の注入量を演算・制御する制御手段２６を設けたも
のである。図６では、制御手段２６は、制御器２８と還
元剤注入手段３４に設けられた流量調節弁４０とから構
成されているが、その他の制御手段を適用することも勿
論可能である。他の構成及び作用は図５の場合と同様で
ある。還元剤の注入量の制御については、本発明の実施
の第２形態の場合と同様である。
硝装置の一例を示している。図６は、図５に示す装置に
おいて、亜酸化窒素の濃度を計測する濃度計測手段３
６、排ガスの温度を計測する温度計測手段３８を脱硝触
媒層１０における触媒Ｄからなる触媒層１０ｄの排ガス
流入側に取り付け、濃度計測手段３６、温度計測手段３
８で計測された値をもとに還元剤注入手段３４からの還
元剤の注入量を演算・制御する制御手段２６を設けたも
のである。図６では、制御手段２６は、制御器２８と還
元剤注入手段３４に設けられた流量調節弁４０とから構
成されているが、その他の制御手段を適用することも勿
論可能である。他の構成及び作用は図５の場合と同様で
ある。還元剤の注入量の制御については、本発明の実施
の第２形態の場合と同様である。
【００２４】図７は、本発明の実施の第４形態による脱
硝装置の他の例を示している。図７は、図５に示す装置
において、一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度を計測
する濃度計測手段２２、排ガスの温度を計測する温度計
測手段２４を脱硝触媒層１０の排ガス入口に取り付け、
濃度計測手段２２、温度計測手段２４で計測された値を
もとに還元剤注入手段１２、１４、３４からの還元剤の
注入量を演算・制御する制御手段２６を設けたものであ
る。また、図８は、本発明の実施の第４形態による脱硝
装置のさらに他の例を示している。図８は、図５に示す
装置において、一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度を
計測する濃度計測手段２２、排ガスの温度を計測する温
度計測手段２４を脱硝触媒層１０の排ガス入口に取り付
けるとともに、亜酸化窒素の濃度を計測する濃度計測手
段３６、排ガスの温度を計測する温度計測手段３８を脱
硝触媒層１０における触媒Ｄからなる触媒層１０ｄの排
ガス流入側に取り付け、濃度計測手段２２、３６、温度
計測手段２４、３８で計測された値をもとに還元剤注入
手段１２、１４、３４からの還元剤の注入量を演算・制
御する制御手段２６を設けたものである。なお、還元剤
の注入量の制御は、図４や図６〜図８に示したものに限
られるものではなく、その他あらゆる構成の制御の仕方
が可能なものである。
硝装置の他の例を示している。図７は、図５に示す装置
において、一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度を計測
する濃度計測手段２２、排ガスの温度を計測する温度計
測手段２４を脱硝触媒層１０の排ガス入口に取り付け、
濃度計測手段２２、温度計測手段２４で計測された値を
もとに還元剤注入手段１２、１４、３４からの還元剤の
注入量を演算・制御する制御手段２６を設けたものであ
る。また、図８は、本発明の実施の第４形態による脱硝
装置のさらに他の例を示している。図８は、図５に示す
装置において、一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度を
計測する濃度計測手段２２、排ガスの温度を計測する温
度計測手段２４を脱硝触媒層１０の排ガス入口に取り付
けるとともに、亜酸化窒素の濃度を計測する濃度計測手
段３６、排ガスの温度を計測する温度計測手段３８を脱
硝触媒層１０における触媒Ｄからなる触媒層１０ｄの排
ガス流入側に取り付け、濃度計測手段２２、３６、温度
計測手段２４、３８で計測された値をもとに還元剤注入
手段１２、１４、３４からの還元剤の注入量を演算・制
御する制御手段２６を設けたものである。なお、還元剤
の注入量の制御は、図４や図６〜図８に示したものに限
られるものではなく、その他あらゆる構成の制御の仕方
が可能なものである。
【００２５】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例及びその比較例
を説明する。 実施例１ 図１に示す脱硝装置に、ディーゼルエンジン排ガスを模
擬したガスをボンベガスを用いて調整して流し、脱硝性
能を評価した。本実施例においては、触媒ＡとしてＳｉ
Ｏ2／Ａｌ2Ｏ3比５０のＭＦＩ型ゼオライトに白金を
０．５wt％含有させたものを用いた。また、触媒Ｂとし
てＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3比５０のＭＦＩ型ゼオライトに酸
化銅として５．１wt％含有させたものを用いた。なお、
評価にあたっては、触媒を９．８MPaで加圧成形してペ
レットとし、これを破砕して１．４〜２．８mmに粒径を
揃えたものを触媒層に充填した。また、還元剤としては
プロピレン０．５％を含む窒素希釈ガスを使用した。下
記の条件で測定した結果を表１に示す。 模擬ガス条件 温度： ２２０℃ ガス組成 ＮＯ： １５００ppm Ｏ2 ： １５％ ＣＯ2： ３％ Ｈ2Ｏ： ５％ Ｎ2 ： バランス 空間速度 触媒Ａからなる触媒層１０ａ： １００００h-1 触媒Ｂからなる触媒層１０ｂ： １００００h-1 還元剤注入量 還元剤注入手段１２での注入量： ２* 還元剤注入手段１４での注入量： ２ ＊： 入口ＮＯに対する、注入するプロピレンのモル比
を説明する。 実施例１ 図１に示す脱硝装置に、ディーゼルエンジン排ガスを模
擬したガスをボンベガスを用いて調整して流し、脱硝性
能を評価した。本実施例においては、触媒ＡとしてＳｉ
Ｏ2／Ａｌ2Ｏ3比５０のＭＦＩ型ゼオライトに白金を
０．５wt％含有させたものを用いた。また、触媒Ｂとし
てＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3比５０のＭＦＩ型ゼオライトに酸
化銅として５．１wt％含有させたものを用いた。なお、
評価にあたっては、触媒を９．８MPaで加圧成形してペ
レットとし、これを破砕して１．４〜２．８mmに粒径を
揃えたものを触媒層に充填した。また、還元剤としては
プロピレン０．５％を含む窒素希釈ガスを使用した。下
記の条件で測定した結果を表１に示す。 模擬ガス条件 温度： ２２０℃ ガス組成 ＮＯ： １５００ppm Ｏ2 ： １５％ ＣＯ2： ３％ Ｈ2Ｏ： ５％ Ｎ2 ： バランス 空間速度 触媒Ａからなる触媒層１０ａ： １００００h-1 触媒Ｂからなる触媒層１０ｂ： １００００h-1 還元剤注入量 還元剤注入手段１２での注入量： ２* 還元剤注入手段１４での注入量： ２ ＊： 入口ＮＯに対する、注入するプロピレンのモル比
【００２６】実施例２ 図３に示す脱硝装置を用いて、脱硝性能の評価を行っ
た。還元剤の注入量を下記の通り変えた以外は実施例１
と同様にして、脱硝性能を評価した。測定結果を表１に
示す。 還元剤注入量 還元剤注入手段１２での注入量： １* 還元剤注入手段１８での注入量： １ 還元剤注入手段１４での注入量： １ 還元剤注入手段２０での注入量： １ ＊： 入口ＮＯに対する、注入するプロピレンのモル比
た。還元剤の注入量を下記の通り変えた以外は実施例１
と同様にして、脱硝性能を評価した。測定結果を表１に
示す。 還元剤注入量 還元剤注入手段１２での注入量： １* 還元剤注入手段１８での注入量： １ 還元剤注入手段１４での注入量： １ 還元剤注入手段２０での注入量： １ ＊： 入口ＮＯに対する、注入するプロピレンのモル比
【００２７】実施例３ 図５に示す脱硝装置を用いて、脱硝性能の評価を行っ
た。触媒Ｄを用い、還元剤の注入量を下記の通り変えた
以外は実施例１と同様にして、脱硝性能を評価した。な
お、触媒ＤとしてＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3比５０のＭＦＩ型
ゼオライトに酸化コバルトとして４．２wt％含有させた
ものを用いた。測定結果を表１に示す。 還元剤注入量 還元剤注入手段１２での注入量： ２* 還元剤注入手段１４での注入量： ２ 還元剤注入手段３４での注入量： ２ ＊： 入口ＮＯに対する、注入するプロピレンのモル比
た。触媒Ｄを用い、還元剤の注入量を下記の通り変えた
以外は実施例１と同様にして、脱硝性能を評価した。な
お、触媒ＤとしてＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3比５０のＭＦＩ型
ゼオライトに酸化コバルトとして４．２wt％含有させた
ものを用いた。測定結果を表１に示す。 還元剤注入量 還元剤注入手段１２での注入量： ２* 還元剤注入手段１４での注入量： ２ 還元剤注入手段３４での注入量： ２ ＊： 入口ＮＯに対する、注入するプロピレンのモル比
【００２８】比較例１ 図１に示す脱硝装置を用いて、脱硝性能の評価を行っ
た。還元剤の注入量を下記の通り変えた以外は実施例１
と同様である。測定結果を表１に示す。 還元剤注入量 還元剤注入手段１２での注入量： ４* 還元剤注入手段１４での注入量： ０ ＊： 入口ＮＯに対する、注入するプロピレンのモル比
た。還元剤の注入量を下記の通り変えた以外は実施例１
と同様である。測定結果を表１に示す。 還元剤注入量 還元剤注入手段１２での注入量： ４* 還元剤注入手段１４での注入量： ０ ＊： 入口ＮＯに対する、注入するプロピレンのモル比
【００２９】
【表１】
【００３０】なお、表１におけるＮＯ濃度、ＮＯ2濃度
及びＮ2Ｏ濃度は、いずれも触媒層の出口において測定
した値である。また、脱硝率は、入口のＮＯとＮＯ2の
合計の濃度に対する、出口におけるＮＯとＮＯ2の合計
濃度の減少の割合を計算したものである。
及びＮ2Ｏ濃度は、いずれも触媒層の出口において測定
した値である。また、脱硝率は、入口のＮＯとＮＯ2の
合計の濃度に対する、出口におけるＮＯとＮＯ2の合計
濃度の減少の割合を計算したものである。
【００３１】
【発明の効果】本発明は上記のように構成されているの
で、つぎのような効果を奏する。 （１） 触媒層の排ガスが流入する上流側に低温域で活
性が高い触媒を配置するとともに、触媒層の下流側に行
くほど高温域で活性が高い触媒を直列に配置しているの
で、排ガス温度が下流側の触媒層の活性温度域から逸脱
しないようにして、高い脱硝率を得ることができる。 （２） 各触媒層の排ガス流入側に還元剤注入手段を設
けているので、還元剤が脱硝反応に有効に利用され、酸
素との反応で無駄に消費されず、脱硝率が向上する。 （３） １種類の触媒からなる触媒層の排ガス流入側に
複数の還元剤注入手段を設ける場合は、還元剤の反応熱
による局所的な温度上昇を防ぐことができ、脱硝率を上
げることができる（図３参照）。 （４） 一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び排ガ
スの温度をもとに、還元剤の注入量を制御する場合は、
より少量の還元剤で効率よく一酸化窒素及び二酸化窒素
を除去することができる。 （５） 触媒層の下流に亜酸化窒素を窒素に還元する反
応に用いる触媒層を設置する場合は、一酸化窒素や二酸
化窒素等から生成した亜酸化窒素を効率よく除去するこ
とができる。 （６） 亜酸化窒素を窒素に還元する触媒層の排ガス流
入側に還元剤注入手段を設ける場合は、亜酸化窒素の除
去をさらに促進することができる。 （７） 亜酸化窒素を窒素に還元する触媒を用いる際
に、亜酸化窒素の濃度及び排ガスの温度をもとに、還元
剤の注入量を制御する場合は、より少量の還元剤で効率
よく亜酸化窒素を除去することができる。 （８） 亜酸化窒素を窒素に還元する触媒を用いる際
に、一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び排ガスの
温度をもとに、還元剤の注入量を制御する場合は、より
少量の還元剤で効率よく亜酸化窒素を除去することがで
きる。 （９） 亜酸化窒素を窒素に還元する触媒を用いる際
に、一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度、亜酸化窒素
の濃度及び排ガスの温度をもとに、還元剤の注入量を制
御する場合は、より少量の還元剤で効率よく亜酸化窒素
を除去することができる。
で、つぎのような効果を奏する。 （１） 触媒層の排ガスが流入する上流側に低温域で活
性が高い触媒を配置するとともに、触媒層の下流側に行
くほど高温域で活性が高い触媒を直列に配置しているの
で、排ガス温度が下流側の触媒層の活性温度域から逸脱
しないようにして、高い脱硝率を得ることができる。 （２） 各触媒層の排ガス流入側に還元剤注入手段を設
けているので、還元剤が脱硝反応に有効に利用され、酸
素との反応で無駄に消費されず、脱硝率が向上する。 （３） １種類の触媒からなる触媒層の排ガス流入側に
複数の還元剤注入手段を設ける場合は、還元剤の反応熱
による局所的な温度上昇を防ぐことができ、脱硝率を上
げることができる（図３参照）。 （４） 一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び排ガ
スの温度をもとに、還元剤の注入量を制御する場合は、
より少量の還元剤で効率よく一酸化窒素及び二酸化窒素
を除去することができる。 （５） 触媒層の下流に亜酸化窒素を窒素に還元する反
応に用いる触媒層を設置する場合は、一酸化窒素や二酸
化窒素等から生成した亜酸化窒素を効率よく除去するこ
とができる。 （６） 亜酸化窒素を窒素に還元する触媒層の排ガス流
入側に還元剤注入手段を設ける場合は、亜酸化窒素の除
去をさらに促進することができる。 （７） 亜酸化窒素を窒素に還元する触媒を用いる際
に、亜酸化窒素の濃度及び排ガスの温度をもとに、還元
剤の注入量を制御する場合は、より少量の還元剤で効率
よく亜酸化窒素を除去することができる。 （８） 亜酸化窒素を窒素に還元する触媒を用いる際
に、一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び排ガスの
温度をもとに、還元剤の注入量を制御する場合は、より
少量の還元剤で効率よく亜酸化窒素を除去することがで
きる。 （９） 亜酸化窒素を窒素に還元する触媒を用いる際
に、一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度、亜酸化窒素
の濃度及び排ガスの温度をもとに、還元剤の注入量を制
御する場合は、より少量の還元剤で効率よく亜酸化窒素
を除去することができる。
【図１】本発明の実施の第１形態による脱硝装置の一例
を示す概略構成図である。
を示す概略構成図である。
【図２】本発明の実施の第１形態による脱硝装置の他の
例を示す概略構成図である。
例を示す概略構成図である。
【図３】本発明の実施の第１形態による脱硝装置のさら
に他の例を示す概略構成図である。
に他の例を示す概略構成図である。
【図４】本発明の実施の第２形態による脱硝装置の一例
を示す概略構成図である。
を示す概略構成図である。
【図５】本発明の実施の第３形態による脱硝装置の一例
を示す概略構成図である。
を示す概略構成図である。
【図６】本発明の実施の第４形態による脱硝装置の一例
を示す概略構成図である。
を示す概略構成図である。
【図７】本発明の実施の第４形態による脱硝装置の他の
例を示す概略構成図である。
例を示す概略構成図である。
【図８】本発明の実施の第４形態による脱硝装置のさら
に他の例を示す概略構成図である。
に他の例を示す概略構成図である。
１０ 脱硝触媒層 １０ａ 触媒Ａからなる触媒層 １０ｂ 触媒Ｂからなる触媒層 １０ｃ 触媒Ｃからなる触媒層 １０ｄ 触媒Ｄからなる触媒層 １２、１４、１６、１８、２０、３４ 還元剤注入手段 ２２ 一酸化窒素と二酸化窒素の合計の濃度を計測する
濃度計測手段 ２４、３８ 温度計測手段 ２６ 制御手段 ２８ 制御器 ３０、３２、４０ 流量調節弁 ３６ 亜酸化窒素の濃度を計測する濃度計測手段 触媒Ａ 低温域で活性が高い触媒 触媒Ｂ 高温域で活性が高い触媒 触媒Ｃ 触媒Ｂより高温域で活性が高い触媒 触媒Ｄ 亜酸化窒素を窒素に還元する触媒
濃度計測手段 ２４、３８ 温度計測手段 ２６ 制御手段 ２８ 制御器 ３０、３２、４０ 流量調節弁 ３６ 亜酸化窒素の濃度を計測する濃度計測手段 触媒Ａ 低温域で活性が高い触媒 触媒Ｂ 高温域で活性が高い触媒 触媒Ｃ 触媒Ｂより高温域で活性が高い触媒 触媒Ｄ 亜酸化窒素を窒素に還元する触媒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/16 Ｂ０１Ｊ 23/70 Ａ 23/38 Ｆ０１Ｎ 3/10 Ａ 23/70 3/28 Ｊ Ｆ０１Ｎ 3/10 Ｂ０１Ｄ 53/34 １２９Ｂ 3/28 53/36 ＺＡＢ １０２Ｃ １０２Ｈ (72)発明者 石川 勝也 兵庫県明石市川崎町１番１号 川崎重工業 株式会社明石工場内 (72)発明者 山下 尚 神戸市中央区東川崎町３丁目１番１号 川 崎重工業株式会社神戸工場内 (72)発明者 中山 信義 神戸市中央区東川崎町３丁目１番１号 川 崎重工業株式会社神戸工場内 (72)発明者 神社 洋一 神戸市中央区東川崎町３丁目１番１号 川 崎重工業株式会社神戸工場内
Claims (20)
- 【請求項１】 活性温度域が異なる少なくとも２種類の
脱硝触媒の触媒層を用い、炭化水素及びアルコールの少
なくとも１種からなる還元剤をそれぞれの触媒層の排ガ
ス流入側から各触媒層に注入して、燃焼排ガス中の窒素
酸化物を除去する方法であって、 前記触媒層を活性温度域が低い触媒から順に排ガス上流
側より直列に配置し、上流側に配置された低温域で活性
が高い触媒を用いて一酸化窒素及び二酸化窒素を除去
し、ついで、より下流側に配置されたより高温域で活性
が高い触媒を用いて一酸化窒素及び二酸化窒素をさらに
除去することを特徴とする脱硝方法。 - 【請求項２】 脱硝触媒層の排ガス入口における一酸化
窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び温度を計測して、還
元剤の注入量を制御する請求項１記載の脱硝方法。 - 【請求項３】 脱硝触媒として、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、
ＺｒＯ2、ＴｉＯ2及びゼオライトからなる群より選ばれ
た少なくとも１種の担体に、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、
Ａｇ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ及びＩｎからなる群より選ばれ
た少なくとも１種の金属を含有させたものを用いる請求
項１又は２記載の脱硝方法。 - 【請求項４】 還元剤として、炭素数が２〜１６の炭化
水素及び炭素数が１〜１６のアルコールからなる群より
選ばれた少なくとも１種、又は炭素数が２〜１６の炭化
水素及び炭素数が１〜１６のアルコールからなる群より
選ばれた少なくとも１種を成分として含む液化石油ガス
もしくは燃料油を用いる請求項１、２、３のいずれかに
記載の脱硝方法。 - 【請求項５】 炭素数が２〜１６の炭化水素が、炭素数
が２〜６のオレフィン及び炭素数が７〜１６の炭化水素
からなる群より選ばれた少なくとも１種である請求項４
記載の脱硝方法。 - 【請求項６】 脱硝触媒層の下流に亜酸化窒素を窒素に
還元する反応に用いる触媒の触媒層を直列に配置して、
排ガス中の亜酸化窒素を除去する請求項１〜５のいずれ
かに記載の脱硝方法。 - 【請求項７】 亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用い
る触媒層の排ガス流入側から炭化水素及びアルコールの
少なくとも１種からなる還元剤を注入する請求項６記載
の脱硝方法。 - 【請求項８】 亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用い
る触媒層の排ガス流入側における亜酸化窒素の濃度及び
温度を計測して、亜酸化窒素を窒素に還元する還元剤の
注入量を制御する請求項７記載の脱硝方法。 - 【請求項９】 脱硝触媒層の排ガス入口における一酸化
窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び温度を計測して、そ
れらの値をもとに亜酸化窒素を効率よく窒素に還元する
ための各位置の還元剤の注入量を制御する請求項７記載
の脱硝方法。 - 【請求項１０】 亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用
いる触媒層の排ガス流入側における亜酸化窒素の濃度及
び温度を計測して、それらの値をもとに亜酸化窒素を効
率よく窒素に還元するための各位置の還元剤の注入量を
制御する請求項７記載の脱硝方法。 - 【請求項１１】 亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用
いる触媒として、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ
2及びゼオライトからなる群より選ばれた少なくとも１
種の担体に、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｃａ及びＳｎからなる
群より選ばれた少なくとも１種の金属を含有させたもの
を用いる請求項６〜１０のいずれかに記載の脱硝方法。 - 【請求項１２】 亜酸化窒素を窒素に還元する還元剤と
して、炭素数が２〜１６の炭化水素及び炭素数が１〜１
６のアルコールからなる群より選ばれた少なくとも１
種、又は炭素数が２〜１６の炭化水素及び炭素数が１〜
１６のアルコールからなる群より選ばれた少なくとも１
種を成分として含む液化石油ガスもしくは燃料油を用い
る請求項７〜１１のいずれかに記載の脱硝方法。 - 【請求項１３】 炭素数が２〜１６の炭化水素が、炭素
数が２〜６のオレフィン及び炭素数が７〜１６の炭化水
素からなる群より選ばれた少なくとも１種である請求項
１２記載の脱硝方法。 - 【請求項１４】 活性温度域が異なる少なくとも２種類
の脱硝触媒の触媒層を用い、炭化水素及びアルコールの
少なくとも１種を還元剤として、燃焼排ガス中の窒素酸
化物を除去する装置であって、 触媒層の排ガスが流入する上流側に低温域で活性が高い
触媒を配置するとともに、触媒層の下流側に行くほど高
温域で活性が高い触媒を直列に配置してなり、かつ、各
触媒層の排ガス流入側に還元剤注入手段を設けてなるこ
とを特徴とする脱硝装置。 - 【請求項１５】 脱硝触媒層の排ガス入口における一酸
化窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び温度を計測する計
測手段を取り付けるとともに、計測された値をもとに還
元剤の注入量を演算・制御する制御手段を設けてなる請
求項１４記載の脱硝装置。 - 【請求項１６】 脱硝触媒層における脱硝触媒の下流に
亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用いる触媒の触媒層
を直列に配置してなる請求項１４又は１５記載の脱硝装
置。 - 【請求項１７】 脱硝触媒層における亜酸化窒素を窒素
に還元する反応に用いる触媒層の排ガス流入側に、炭化
水素及びアルコールの少なくとも１種からなる還元剤の
注入手段を設けてなる請求項１６記載の脱硝装置。 - 【請求項１８】 亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用
いる触媒の排ガス流入側における亜酸化窒素の濃度及び
温度を計測する計測手段を取り付けるとともに、計測さ
れた値をもとに亜酸化窒素を窒素に還元する還元剤の注
入量を演算・制御する制御手段を設けてなる請求項１７
記載の脱硝装置。 - 【請求項１９】 脱硝触媒層の排ガス入口における一酸
化窒素と二酸化窒素の合計の濃度及び温度を計測する計
測手段を取り付けるとともに、計測された値をもとに亜
酸化窒素を効率よく窒素に還元するための各位置の還元
剤の注入量を演算・制御する制御手段を設けてなる請求
項１７記載の脱硝装置。 - 【請求項２０】 亜酸化窒素を窒素に還元する反応に用
いる触媒層の排ガス流入側における亜酸化窒素の濃度及
び温度を計測する計測手段を取り付けるとともに、計測
された値をもとに亜酸化窒素を効率よく窒素に還元する
ための各位置の還元剤の注入量を演算・制御する制御手
段を設けてなる請求項１７記載の脱硝装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8195472A JPH1015355A (ja) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | 脱硝方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8195472A JPH1015355A (ja) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | 脱硝方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1015355A true JPH1015355A (ja) | 1998-01-20 |
Family
ID=16341660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8195472A Pending JPH1015355A (ja) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | 脱硝方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1015355A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2008255899A (ja) * | 2007-04-05 | 2008-10-23 | Toyota Motor Corp | アンモニア酸化触媒におけるｎ２ｏ生成量推定方法および内燃機関の排気浄化システム |
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| JP2012092690A (ja) * | 2010-10-26 | 2012-05-17 | Hino Motors Ltd | 内燃機関の排気処理装置 |
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| WO2020241379A1 (ja) * | 2019-05-24 | 2020-12-03 | 日立造船株式会社 | 焼却施設 |
| CN114849471A (zh) * | 2022-04-12 | 2022-08-05 | 南京中电环保科技有限公司 | 一种应用于玻璃纤维窑炉废气治理的HTr-3SO联合脱硝系统 |
-
1996
- 1996-07-05 JP JP8195472A patent/JPH1015355A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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