JPH10151872A - Printing mask for particle-containing paste and its manufacture - Google Patents

Printing mask for particle-containing paste and its manufacture

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JPH10151872A
JPH10151872A JP8324831A JP32483196A JPH10151872A JP H10151872 A JPH10151872 A JP H10151872A JP 8324831 A JP8324831 A JP 8324831A JP 32483196 A JP32483196 A JP 32483196A JP H10151872 A JPH10151872 A JP H10151872A
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mask
printing
paste
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pattern
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Shingen Kinoshita
真言 木下
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
    • H05K3/1216Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by screen printing or stencil printing

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a pattern of paste having satisfactory shape on a surface of a material to be printed by providing grooves of a slightly smaller width than a diameter of a globular particle at a predetermined interval on an overall sidewall face of a pattern hole provided at a printing mask. SOLUTION: The printing mask 52 having printing pattern pores is slidably rubbed by a squeegee, a viscous material containing globular particles in a viscous fluid material is coated widely, and charged in the pores. Thereafter, the mask 52 is released, and the viscous material is transferred in a pattern shape corresponding to the pattern pores onto a surface of the material to be printed. In such a stencil printing, grooves 63 are provided on sidewalls of the pattern pores to ensure sliding of the viscous material charged in the pores and containing the particles and the sidewall of the pattern pores so that the viscous fluid material contained in the viscous material is stored in the grooves 63. Thus, function of lubricant is performed for the fluid material. Cross sectional shape of the groove 63 may be any of triangular, rectangular wave, sine wave, semicircular and elliptical shapes.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は,孔版印刷技術を用
いて被印刷物表面上に粘性ペーストによるパターンを形
成する際に用いる粒子入ペースト用印刷マスク及びその
製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printing mask for particle-containing paste used when a viscous paste pattern is formed on the surface of a printing material using a stencil printing technique, and an apparatus for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子基板の実装工程における基板と部品
の半田接合の方法として,半田コテによる半田付けから
始まり,接合部を溶融半田槽に浸すディップ法,ノズル
により上向きに噴流させた溶解半田に接合面を浸しなが
ら通過させるリフロー法などが実用化されてきている。
そして,現在は印刷技術の応用であるリフロー法が主流
となってきた。
2. Description of the Related Art As a method of soldering a board and a component in a mounting process of an electronic board, a soldering iron is used to start soldering, and then a dipping method in which a joint is immersed in a molten solder bath. A reflow method in which a joining surface is passed while immersing the joining surface has been put to practical use.
At present, the reflow method, which is an application of printing technology, has become mainstream.

【0003】半田の微粉末をフラックスと練り合わせた
ものをクリーム半田というが,これを電子基板側の接合
部であるパッド上に印刷し,その上に半田付けすべき電
子部品のリード部をマウントし,クリーム半田の粘性を
利用して基板上に部品を保持しつつ搬送してリフロー炉
とよぶ加熱炉を通過させ,その時点でクリーム半田を溶
解させて基板のパッドと部品のリードを半田付けする。
[0003] Cream solder is obtained by kneading a fine powder of solder with a flux. The solder is printed on a pad which is a joint on the electronic substrate side, and a lead of an electronic component to be soldered is mounted thereon. Using the viscosity of the cream solder, the components are transported while being held on the board and passed through a heating furnace called a reflow furnace, at which point the cream solder is melted and the pads on the board and the component leads are soldered. .

【0004】このようなリフロー法のプロセスにおい
て,極めて重要なものが,クリーム半田の印刷に使用さ
れる印刷マスクである。
In such a reflow process, a very important thing is a print mask used for printing cream solder.

【0005】通常の印刷の方式を大きく分類すると,凸
版,平板,凹版などに代表される転写型と,謄写版,孔
版,シルクスクリーンなどに代表される謄写型に分ける
ことができるが,印刷量の確保に重点が置かれるクリー
ム半田の印刷に使用される印刷マスクは謄写型印刷マス
クである。
The general printing method can be roughly classified into a transfer type represented by letterpress, flat plate, intaglio and the like, and a copy type represented by copy, stencil and silk screen. The printing mask used for printing cream solder, which is emphasized in securing, is a copy-type printing mask.

【0006】この謄写型印刷において,ステンシルの印
刷版を使用する印刷法として,エッチングマスク,アデ
ィティブマスク,YAGレーザマスクなどがあり,さら
に,印刷版にプラスチック板を使用するエキシマレーザ
マスクがある。
In this copy printing, as a printing method using a stencil printing plate, there are an etching mask, an additive mask, a YAG laser mask and the like, and further, there is an excimer laser mask using a plastic plate for the printing plate.

【0007】これらのマスクは前述の通りいずれも印刷
されるペーストの量を確保することに配慮されている
が,被印刷側の要件によって印刷面積が制約されている
ことが多く,この場合,ペースト量の確保のためにマス
クの厚みが重要となる。
As described above, all of these masks are designed to secure the amount of paste to be printed, but the printing area is often limited by the requirements of the printing side. The thickness of the mask is important for securing the amount.

【0008】そこで,指定された厚みの印刷マスク版が
用いられることになる。
Therefore, a printing mask plate having a designated thickness is used.

【0009】このように,ペーストの印刷量確保のため
には,マスク版に一定の厚みが必要であるため,マスク
版の厚みが厚くなるほど,または開口面積が狭くなるほ
ど,印刷パターン孔の内壁の状態が抜け性に与える影響
は増大し,抜け性は悪化することになる。
As described above, since a certain thickness is required for the mask plate in order to secure the printing amount of the paste, as the thickness of the mask plate becomes larger or the opening area becomes smaller, the inner wall of the printing pattern hole becomes smaller. The effect of the state on the escapability increases, and the escapability deteriorates.

【0010】さらに,マスク版の製法によって異なる印
刷パターン孔断面形状の凹凸や内壁の表面粗さ,内壁面
の表面エネルギ(濡れ性,撥水性)等によってペースト
の抜け性は大きく影響される。
Furthermore, the paste removability is greatly affected by the unevenness of the cross-sectional shape of the printing pattern hole, the surface roughness of the inner wall, the surface energy (wetting property, water repellency) of the inner wall, etc., which vary depending on the mask plate manufacturing method.

【0011】そこで,まず,印刷パターン孔断面形状の
凹凸や内壁の表面粗さに関わる印刷マスク製造技術の進
展を説明する。
Therefore, first, the progress of a printing mask manufacturing technique relating to the unevenness of the cross section of the printing pattern hole and the surface roughness of the inner wall will be described.

【0012】図1から図4まではエッチングマスクの製
法を断面で表した概念図,図5はその結果開口されたエ
ッチングマスクの概念図である。
FIG. 1 to FIG. 4 are conceptual diagrams showing the manufacturing method of the etching mask in cross section, and FIG. 5 is a conceptual diagram of the etching mask opened as a result.

【0013】図1において,1は版素材として使用され
る金属板で,多くはステンレスのSUS304である。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a metal plate used as a plate material, which is mostly stainless steel SUS304.

【0014】これに,ロール癖除去やヘアライン加工,
脱脂などを行なった後,フォトレジスト2を塗布し,図
2のように両面からフォトフィルム3を密着させて露光
用光源4によって露光する。
In addition to this, roll habit removal, hairline processing,
After degreasing or the like, a photoresist 2 is applied, and a photo film 3 is adhered from both sides as shown in FIG.

【0015】一定のエージング時間を置いた後フォトレ
ジストを洗浄して現像すると,図3のように,フォトレ
ジスト2の塗膜による必要な意匠のマスキングができ,
その一方でフォトレジストの剥離部5ができる。
When the photoresist is washed and developed after a predetermined aging time, masking of the required design by the coating film of the photoresist 2 can be performed as shown in FIG.
On the other hand, a photoresist stripping portion 5 is formed.

【0016】マスキングのピンホールやダメージ,汚れ
等の検査,処置の後,図4のようにエッチングシャワー
装置で処理すると,塩化第2鉄などのエッチング液6に
よって,版素材1のマスキングされていない部分が溶か
されて行き,数分で図5のような印刷パターン孔が形成
される。その後,フォトレジストを剥離し,中和処理を
行なう。
After inspection and treatment of pinholes, damage, dirt, etc. of the masking, the plate material 1 is not masked by the etching solution 6 such as ferric chloride after the treatment with an etching shower device as shown in FIG. The portion is melted, and a print pattern hole as shown in FIG. 5 is formed in a few minutes. Thereafter, the photoresist is peeled off and a neutralization process is performed.

【0017】このようにして製作されるエッチングマス
クは,図5に示すような印刷パターン孔中央の凸部7が
形成され,かつ,印刷パターン孔内壁面の表面粗さも粗
いため,ペーストの印刷において抜け性が阻害され,印
刷品質は悪い。
In the etching mask manufactured in this manner, the projection 7 at the center of the printing pattern hole as shown in FIG. 5 is formed, and the surface roughness of the inner wall surface of the printing pattern hole is rough. Poor print quality is impaired due to poor printability.

【0018】アディティブマスクの製法は,電鋳法とも
呼ばれる製法で,以下,図6から図9まではアディティ
ブマスクの製法を断面で表した概念図,図10はその印
刷パターン孔の概念図である。
The additive mask is manufactured by a method also called an electroforming method. FIGS. 6 to 9 are conceptual views showing the additive mask manufacturing method in cross section, and FIG. 10 is a conceptual view of a printing pattern hole. .

【0019】図6において,めっき時の電極となるサブ
ストレート8の表面に感光性樹脂のドライフィルム9を
ラミネートし,厚みが不足する場合には感光性接着剤1
0を介し,その上からさらにドライフィルム9をラミネ
ートして厚みを付加する。
In FIG. 6, a dry film 9 of a photosensitive resin is laminated on the surface of a substrate 8 to be an electrode at the time of plating.
0, a dry film 9 is further laminated thereon to add thickness.

【0020】次に図7のようにパターンニングしたフォ
トマスク11をドライフィルム9上に密着させ,露光用
光源12によって露光後,一定のエージング時間を置い
た後現像すると,図8のように硬化,不溶化したドライ
フィルムによる印刷パターン孔形状の雌型13がサブス
トレート8上に残る。
Next, a photomask 11 patterned as shown in FIG. 7 is brought into close contact with the dry film 9, exposed by a light source 12 for exposure, developed after a certain aging time, and cured as shown in FIG. Then, the female mold 13 having a printed pattern hole shape formed of the insolubilized dry film remains on the substrate 8.

【0021】この雌型13のついたサブストレート8を
図9のように電解ニッケルめっき液中に入れ陰極側にし
て通電すると,ニッケルがサブストレート8表面に析出
し,ドライフィルムの雌型13の周辺に次第に析出ニッ
ケル層14が成長し厚くなっていく。
When the substrate 8 with the female mold 13 is placed in an electrolytic nickel plating solution as shown in FIG. 9 and the cathode side is energized, nickel precipitates on the surface of the substrate 8 and the dry film female mold 13 is removed. The deposited nickel layer 14 gradually grows and becomes thicker around the periphery.

【0022】析出ニッケル層14が所定の厚さになった
ところでめっき液より引き上げ,中和処理後サブストレ
ート8より析出ニッケル層14を剥離し,ドライフィル
ムの雌型13を除去すると,図10のような印刷パター
ン孔を得ることができる。
When the deposited nickel layer 14 reaches a predetermined thickness, the deposited nickel layer 14 is lifted up from the plating solution, neutralized, peeled off the substrate 8 from the substrate 8, and the dry film female mold 13 is removed. Such a printed pattern hole can be obtained.

【0023】この印刷パターン孔内壁の形状はドライフ
ィルムの雌型13の形状を反映して比較的平坦となり,
エッチングマスクと比較すると印刷品質が良いため,微
細な印刷にも適している。
The shape of the inner wall of the printing pattern hole is relatively flat reflecting the shape of the female die 13 of the dry film,
Since the printing quality is better than the etching mask, it is suitable for fine printing.

【0024】ただ,時に,ドライフィルムを貼り合わせ
た感光性接着剤10の部分に該当する内壁面に,表面粗
さが粗い帯状の部分や,図10に示すような段差15が
発生することがある。
However, at times, a band-like portion having a rough surface or a step 15 as shown in FIG. 10 may be formed on the inner wall surface corresponding to the portion of the photosensitive adhesive 10 to which the dry film is attached. is there.

【0025】また,感光性接着剤10はやや光の透過率
が低いため,露光の際,ドライフィルム9のサブストレ
ート側底部まで十分に感光させようとして露光時間を延
ばしたり,強い光で露光すると,マスキングされていて
本来影となる所までハレーションによる光の廻り込みが
あって,図10の内壁面に凹凸16が発生することがあ
る。
Further, since the photosensitive adhesive 10 has a slightly low light transmittance, it is difficult to extend the exposure time to sufficiently expose the bottom of the dry film 9 on the substrate side or to expose the photosensitive adhesive 10 to strong light. There is a case where unevenness 16 is generated on the inner wall surface of FIG.

【0026】この凹凸16は,感光性接着剤10を境に
して光源側の内壁に発生し,「オーバー露光現象」,
「アタック現象」,「くわれ」などと言われており,印
刷性を阻害する形状である。
The irregularities 16 are formed on the inner wall on the light source side with the photosensitive adhesive 10 as a boundary.
It is said to be an "attack phenomenon" or "break", and is a shape that impairs printability.

【0027】YAGレーザマスクは,比較的新しい製法
の印刷マスクで,図11から図13まではYAGレーザ
マスクの製法を断面で表した概念図,図14はその結果
開口されたYAGレーザマスクの概念図である。
The YAG laser mask is a printing mask of a relatively new manufacturing method. FIGS. 11 to 13 are conceptual views showing the manufacturing method of the YAG laser mask in cross section, and FIG. 14 is a conceptual view of the YAG laser mask opened as a result. FIG.

【0028】図11において,17は版素材として使用
される金属板で,多くはステンレスのSUS304であ
る。このSUS304は,エッチングマスクに使用され
る金属板1とほぼ同じであるが,エッチングマスクでは
冷間圧延を数回以上行なったものを使用するのに対し
て,YAGレーザでは圧延回数をさほど必要としない。
In FIG. 11, reference numeral 17 denotes a metal plate used as a plate material, which is mostly stainless steel SUS304. This SUS304 is almost the same as the metal plate 1 used for the etching mask. However, while the etching mask used is one that has been cold rolled several times or more, the YAG laser requires a lot of rolling times. do not do.

【0029】これに,ロール癖除去などを行なった後,
YAGレーザ光18によって金属板17を加熱溶解させ
るが,これだけでは切断することができないため,アシ
ストガス19によって金属20の除去を行なう。
After removing the roll habit and the like,
Although the metal plate 17 is heated and melted by the YAG laser beam 18, the metal plate 17 cannot be cut by this alone, so the metal 20 is removed by the assist gas 19.

【0030】図12に示すのは切断の手順である。最初
に貫通穴21をあけることをピアシングというが,この
時の加工範囲は広くなる傾向があり,切断予定線上でピ
アシングを行なうとその部分だけ外にはみ出した加工形
状になるため,図に示すように,ピアシングは除去予定
部で行ない,その後切断予定線上に合流するように切断
加工を進める。
FIG. 12 shows the cutting procedure. Piping the first through hole 21 is called piercing, but the processing range at this time tends to be wide, and when piercing is performed on the planned cutting line, the processed shape protrudes only outside that portion, so as shown in the figure. Then, the piercing is performed at the portion to be removed, and then the cutting process is performed so as to join the line to be cut.

【0031】このYAGレーザによる切断では,図13
に示すように,溶解したドロース22aが切断辺縁部に
固着し,このままでは印刷マスクとして使えないため,
表面の研磨処理でドロース22aを除去する。
In this cutting by the YAG laser, FIG.
As shown in the figure, the dissolved dross 22a adheres to the cutting edge and cannot be used as a print mask as it is,
The dross 22a is removed by polishing the surface.

【0032】この時,印刷パターン孔内へのカエリ22
bの発生が顕著な場合は,印刷時のペーストの抜け性を
阻害する要因にもなるため,さらに電解研磨によってカ
エリ22b除去を行なうこともある。
At this time, the burrs 22 in the print pattern holes
When the occurrence of b is remarkable, it also becomes a factor that hinders the removability of the paste at the time of printing. Therefore, the burrs 22b may be further removed by electrolytic polishing.

【0033】完成した印刷パターン孔は,図14に示す
ように内壁表面の凹凸23が激しく,印刷品質はエッチ
ングマスク以上であるが,アデイティブマスク以下であ
る。
As shown in FIG. 14, the completed printing pattern holes have severe irregularities 23 on the inner wall surface, and the printing quality is higher than the etching mask but lower than the additive mask.

【0034】一時,CO2レーザにより同様の印刷マス
ク製作が試みられたことがあったが,熱影響がYAGレ
ーザより広範に及ぶため内壁表面の凹凸はさらに激し
く,印刷マスクとして十分な印刷品質を実現できず,普
及するに到らなかった。
Attempts have been made to produce a similar print mask with a CO 2 laser at one time. However, since the thermal effect is more extensive than that of a YAG laser, the unevenness of the inner wall surface is more severe, and sufficient print quality as a print mask is obtained. It could not be realized and did not spread.

【0035】このように孔版印刷用のマスクは,シルク
スクリーンを除きその版素材が金属板であることから
「メタルマスク」とも呼ばれ,ペーストの孔版印刷では
重要であるが,近年は更なる微細印刷が求められてお
り,メタルマスクでの密着の悪さ,微細加工の限界,製
法と素材に起因する長納期やコスト高などを解決するた
めの新しいマスクとして,版素材にプラスチック版を使
いエキシマレーザで印刷パターン孔の穴開け加工を行な
うものが出現した(特開平7−81027号公報を参
照)。
As described above, the mask for stencil printing is also called a "metal mask" because the stencil material is a metal plate except for a silk screen, and is important in stencil printing of a paste. Printing is required. Excimer laser using a plastic plate as a plate material as a new mask to solve problems such as poor adhesion with metal masks, limitations of fine processing, long delivery times and high costs due to manufacturing methods and materials. (See JP-A-7-81027).

【0036】このマスクは,製法に注目した場合「エキ
シマレーザマスク」と呼ばれ,版の素材に注目すると
「プラスチックマスク」と呼ばれている。以下,ここで
は「エキシマレーザマスク」と呼ぶが,図15から図1
8まではエキシマレーザマスクの製法を断面で表した概
念図,図19はその結果開口されたエキシマレーザマス
クの概念図である。
This mask is called an “excimer laser mask” when focusing on the manufacturing method, and is called a “plastic mask” when focusing on the material of the plate. Hereinafter, the excimer laser mask is referred to as “excimer laser mask”.
8 is a conceptual diagram showing the manufacturing method of the excimer laser mask in cross section, and FIG. 19 is a conceptual diagram of the excimer laser mask opened as a result.

【0037】図15において,24は照射されるエキシ
マレーザのビーム光の範囲である。ビーム光24が線状
のYAGレーザやCO2レーザに対し,エキシマレーザ
のビーム光24の断面は面であり,これを遮光板(アパ
ーチャ)25に開けた開口形状によって任意の形状に整
え,レンズ26によって集光させて加工可能なエネルギ
ー密度を得た後,マスクの版素材であるプラスチック板
27を開口加工する。
In FIG. 15, reference numeral 24 denotes a range of the beam light of the excimer laser to be irradiated. In contrast to a linear YAG laser or CO 2 laser, the cross section of the excimer laser beam light 24 is a plane. After obtaining the energy density which can be processed by condensing the light by using the mask 26, the plastic plate 27 which is the mask plate material is opened.

【0038】図16はエキシマレーザによるプラスチッ
クの加工原理の概念図である。高分子であるプラスチッ
クは無数の原子28が共有結合で固体化しているもので
あるが,ここにアパーチャ25を通したレーザー光29
を一定エネルギ以上で照射すると,基底部の軌道で安定
していた電子が励起され,共有軌道から離脱して一つ上
の軌道に移動する。
FIG. 16 is a conceptual diagram of the principle of processing a plastic by an excimer laser. The plastic, which is a polymer, is formed by solidifying an infinite number of atoms 28 by covalent bonds.
When is irradiated with a certain energy or more, electrons stable in the base orbit are excited and move away from the shared orbit to the upper orbit.

【0039】そのため,図17のように共有結合が成立
しなくなり,開裂した原子30は高速で飛散し,この結
果,レーザー光照射範囲のプラスチック表面には掘り込
み加工が行なわれることになる。
Therefore, as shown in FIG. 17, the covalent bond is not established, and the cleaved atoms 30 are scattered at a high speed. As a result, the plastic surface in the laser beam irradiation range is dug.

【0040】一回のレーザー光照射での掘り込み量は1
μm以下であることが多いが,この加工を繰り返すこと
で任意の深さの掘り込みが可能で,マスク素材のプラス
チック板の厚さ以上の掘り込み加工を行なうと貫通穴と
なる。
The digging amount per laser beam irradiation is 1
It is often less than μm, but digging to any depth is possible by repeating this process. If digging is done more than the thickness of the plastic plate of the mask material, it becomes a through hole.

【0041】エキシマレーザによるこのような加工をア
ブレーション加工という。その時飛散していく原子の温
度は6千度にもなるが,一連のメカニズムは20ナノ秒
という短時間で完了するため隣接する原子に熱を十分伝
導する余裕がなく,この加工を非熱加工とも言う。
Such processing using an excimer laser is called ablation processing. At that time, the temperature of the scattered atoms is as high as 6,000 degrees Celsius, but since the series of mechanisms is completed in a short time of 20 nanoseconds, there is not enough room to conduct heat to adjacent atoms. Also say.

【0042】このように,エキシマレーザのアブレーシ
ョン加工は,熱的,化学的,機械的な影響をほとんど受
けないで,波長レベル,原子レベルの極めて微細な平面
的加工が容易に行なえる。
As described above, the excimer laser ablation processing can be easily performed with extremely fine planar processing at the wavelength level and the atomic level without being substantially affected by thermal, chemical and mechanical effects.

【0043】図18は加工の様子,図19はその結果得
られる印刷パターン孔の形状を示すものであるが,その
加工状態は31の内壁面のように非常に良好で,印刷品
質は,前述のエッチングマスク,アディティブマスク,
YAGレーザマスクを凌駕する。
FIG. 18 shows the state of processing, and FIG. 19 shows the shape of the resulting print pattern hole. The processing state is very good as the inner wall surface of 31, and the print quality is as described above. Etching mask, additive mask,
Outperforms YAG laser masks.

【0044】図20〜図32はこのような印刷マスク製
法によって発生するペーストの抜け性の悪い不具合形状
の断面図,及びその発生原因の説明図である。
FIGS. 20 to 32 are cross-sectional views of defective shapes having poor removability of paste generated by such a printing mask manufacturing method, and explanatory diagrams of the causes of the generation.

【0045】図20は印刷パターン孔のエッジに丸みが
付く不具合形状で,一時期生産されていたパンチプレス
マスクのポンチ押し込み側や,電解研摩でバリやカエリ
を除去する際過剰に時間をかけすぎた場合などに発生す
る。良好なエッジのマスクに比べペーストの充填性に劣
り,かつ,抜け性が悪くなる。
FIG. 20 shows a defective shape in which the edges of the printed pattern holes are rounded. Excessive time was taken to remove the burrs and burrs by the punch-pressing side of the punch press mask that had been produced for a while, or by electrolytic polishing. Occurs in some cases. As compared with a mask having a good edge, the filling property of the paste is inferior and the removability is poor.

【0046】図21は,印刷パターン孔の上面または下
面のエッジにバリのある不具合形状で,YAGレーザマ
スクのドロース研摩により表裏両面に,またパンチプレ
スマスクのダイス側に発生する。やはり抜け性を悪化さ
せる形状である。
FIG. 21 shows a defective shape having burrs on the upper or lower edge of the printing pattern hole, which is generated on both the front and back surfaces by the dross polishing of the YAG laser mask and on the die side of the punch press mask. Again, the shape deteriorates the removability.

【0047】図22は,「ギザリ」といわれる不具合形
状で,印刷パターン孔のエッジの稜線部に不規則な凹部
が発生するもので,図23に示すように,エッチングマ
スクの製造プロセス中エッチング液6によってマスキン
グ用のフォトレジスト2が版用の金属板1から一部剥離
して発生するもので,表裏いずれにも発生することがあ
る。
FIG. 22 shows a defective shape called "jagging" in which irregular concave portions are formed at the ridges of the edges of the print pattern holes. As shown in FIG. The mask 6 causes the photoresist 2 for masking to be partially peeled off from the metal plate 1 for printing, and may occur on both sides.

【0048】また,図24に示すようにアディティブマ
スクの微小印刷パターン孔の周辺を,エッチング範囲限
定用のマスキング32で保護し,エッチングでマスクの
厚みを薄くするハーフエッチング加工を行なうことがあ
る。
In addition, as shown in FIG. 24, the periphery of the fine print pattern hole of the additive mask may be protected by a masking 32 for limiting an etching range, and a half etching process may be performed to reduce the thickness of the mask by etching.

【0049】この際に行なう印刷パターン孔内壁保護用
の樹脂33の充填が不十分だと,図24のように内壁と
樹脂間に発生した間隙にエッチング液がにじみ込み,印
刷パターン孔エッジの稜線34がエッチング液によって
蝕刻されギザリとなる。これもやはりペーストの充填性
や抜け性に劣る原因となる。
If the filling of the resin 33 for protecting the inner wall of the printing pattern hole performed at this time is insufficient, as shown in FIG. 24, the etching liquid seeps into the gap generated between the inner wall and the resin, and the ridge line of the edge of the printing pattern hole. 34 is etched by the etchant and becomes jagged. This is also a cause of inferior paste filling and removability.

【0050】図25は,印刷パターン孔の内壁中央部が
凸形状になるエッチングマスクでの典型的な不具合形状
である。図1〜図4の製法に示す通り,金属板1の表裏
よりエッチングで開口させる過程でマスキングが剥離さ
れ露出した金属板1は,露出部の中央が深く周辺部が浅
い鍋底型に掘り込まれていく。
FIG. 25 shows a typical defective shape in an etching mask in which the central portion of the inner wall of the printing pattern hole has a convex shape. As shown in the manufacturing method of FIGS. 1 to 4, the masking is peeled off in the process of opening from the front and back of the metal plate 1 by etching, and the exposed metal plate 1 is dug into a pot bottom type having a deep exposed center and a shallow peripheral portion. To go.

【0051】そのため,表裏両面から進行するエッチン
グ孔が両者連続した穴になったとき,図5及び図25に
示す中央の凸部7が発生する。この形状はペーストの通
過を妨げ,抜け性を阻害する。また,この内壁面はエッ
チングによって蝕刻されるため表面粗さが粗く,印刷品
質をさらに悪化させる。
For this reason, when the etching holes proceeding from both the front and back sides become continuous holes, a central convex portion 7 shown in FIGS. 5 and 25 is generated. This shape hinders the passage of the paste and hinders the removability. Further, since the inner wall surface is etched by etching, the surface roughness is rough, and the printing quality is further deteriorated.

【0052】メタルマス7としては最も早く実用化され
たエッチングマスクであるが,印刷品質は,YAGレー
ザマスク,アディティブマスク,エキシマレーザマスク
のいずれにも劣り,精密な印刷には向かない。
Although the metal mask 7 is the etching mask that has been put into practical use the earliest, the printing quality is inferior to any of the YAG laser mask, the additive mask, and the excimer laser mask, and is not suitable for precise printing.

【0053】図26はアディティブマスクで発生するテ
ーパ過剰の不具合形状である。前述の図6〜図9にアデ
ィティブマスクの製法を示したが,特に図7の露光工程
において,その光源12に図27に示すような散乱する
光源35を使用するとテーパの付いた印刷パターン孔の
断面形状となる。
FIG. 26 shows a defective shape with excessive taper generated in the additive mask. The manufacturing method of the additive mask is shown in FIGS. 6 to 9 described above. In particular, in the exposure step shown in FIG. 7, when a scattered light source 35 as shown in FIG. It has a cross-sectional shape.

【0054】印刷マスクの印刷パターン孔内壁が垂直で
あれば,印刷性は,被印刷物に対してのペーストのタッ
キング力と,版離れに従ってペーストを被印刷物表面か
ら剥離させようとするマスク内壁,ペースト間のずり応
力によって決定される。
If the inner wall of the print pattern hole of the print mask is vertical, the printability is determined by the tacking force of the paste on the printing material and the inner wall of the mask which tries to peel off the paste from the surface of the printing material as the plate separates. It is determined by the shear stress between them.

【0055】ところが,内壁にテーパが付くに従って内
壁面とペースト間のタッキング力が増して被印刷物表面
とペーストとのタッキング力に対抗することとなり,抜
け性を悪化させる。
However, as the inner wall is tapered, the tacking force between the inner wall and the paste increases, which opposes the tacking force between the surface of the printing material and the paste, thereby deteriorating the removability.

【0056】図27に示すのは散乱光源35での露光の
概念図であるが,フォトマスク11の透明パターン部分
から入射する光は,ドライフィルム9に対して,光源3
5の光が全く届かない部分36,一部の光が届く部分3
7,全ての光が届く部分38と,露光条件の違いを発生
させる。
FIG. 27 is a conceptual diagram of exposure by the scattering light source 35. Light incident from the transparent pattern portion of the photomask 11 is transmitted to the dry film 9 by the light source 3
The part 36 to which no light reaches 5 and the part 3 to which some light reaches
7. The difference between the portion 38 to which all light reaches and the exposure condition is generated.

【0057】また,特に一部の光が届く部分37におい
ては,光が全く届かない部分36に近い側の光量は少な
く,全ての光が届く部分38に近い側では多く露光され
るため露光条件は連続的に変化している。
In particular, in a portion 37 to which some light reaches, the amount of light near the portion 36 to which no light reaches at all is small, and in a portion near the portion 38 to which all light reaches, a large amount of light is exposed. Is continuously changing.

【0058】このような散乱光源下で露光されたドライ
フィルム9は,露光感度が高いものであれば図28のよ
うに光が届く部分37の範囲を含んで硬化,不溶化した
形状となり,露光感度が低いものであれば図29のよう
に一部光が届く部分37の範囲を含まない形状となる。
If the dry film 9 exposed under such a scattered light source has a high exposure sensitivity, the dry film 9 has a hardened and insolubilized shape including the range of the portion 37 to which light reaches as shown in FIG. 29, the shape does not include the range of the portion 37 to which light partially reaches as shown in FIG.

【0059】このようなテーパ過剰形状への対応とし
て,並行光での露光を行なうため,光路途中にハニカム
構造の遮蔽板を置いて斜めの光だけをハニカム内壁面で
遮蔽したり,光源の紫外線ランプを放物面鏡の焦点に設
置し,その並行反射光を利用するなどの改善によって,
現在ではテーパ過剰形状は少なくなってきた。
To cope with such an excessively tapered shape, in order to perform exposure with parallel light, a honeycomb-shaped shielding plate is placed in the middle of the optical path to block only oblique light with the inner wall surface of the honeycomb, or the ultraviolet light of the light source. By installing a lamp at the focal point of a parabolic mirror and using the parallel reflected light,
At present, the excessive taper shape has been reduced.

【0060】図30は,アディティブマスクに特有な,
印刷パターン孔内壁に段差15が発生する不具合形状で
ある。
FIG. 30 shows a characteristic of the additive mask.
This is a defect shape in which a step 15 occurs on the inner wall of the printing pattern hole.

【0061】前述したアディティブマスクの製法におい
て,図6のようにドライフィルム9を感光性接着剤10
で複数枚ラミネートしてマスクの厚さに対応することが
多いが,この感光性接着剤10が周囲のドライフィルム
の感光感度や現像時の溶解性において差があると,図1
0や図30のような段差15が発生する。この形状もペ
ーストの抜け性を阻害する不具合形状である。
In the above-described additive mask manufacturing method, as shown in FIG.
In many cases, the photosensitive adhesive 10 is laminated in accordance with the thickness of the mask.
0 or a step 15 as shown in FIG. 30 occurs. This shape is also a defective shape that hinders the removability of the paste.

【0062】これに対しては,従来より厚いドライフィ
ルムが提供され始めており,感光性接着剤10の使用を
回避することが容易になりつつある。
On the other hand, a dry film thicker than before has been provided, and it is becoming easier to avoid using the photosensitive adhesive 10.

【0063】図31もアディティブマスクに特有な,
「オーバー露光現象」,「アタック現象」,「くわれ」
57’などといわれる形状で,やはり感光性接着剤10
によってドライフィルム9をラミネートすることによる
不具合である。
FIG. 31 is also specific to the additive mask.
"Overexposure phenomenon", "Attack phenomenon", "Kiage"
57 ', etc., and the photosensitive adhesive 10
This is a problem caused by laminating the dry film 9.

【0064】ラミネートしたドライフィルムを露光する
場合は,図31を上下反転した形で図7のように露光す
るが,製作するマスクの厚さが厚い場合,感光性接着剤
10の部分で光の透過率が悪いため,ドライフィルム底
面まで十分露光されない恐れがある。
When exposing the laminated dry film, the exposure is performed as shown in FIG. 7 with the top and bottom turned upside down as shown in FIG. Due to poor transmittance, there is a possibility that the bottom of the dry film is not sufficiently exposed.

【0065】その対応として長時間露光や大光量露光が
行なわれるが,これが過剰な場合,フォトマスクで遮光
されている影の部分までドライフィルム内のハレーショ
ンによって露光されてしまい,内壁面の凹凸16にな
る。この凹凸16もペーストの抜け性を阻害する要因で
ある。
As a countermeasure, a long time exposure or a large light amount exposure is performed. If the exposure is excessive, a shadow portion which is shielded by a photomask is exposed by halation in the dry film, and the inner wall surface has irregularities 16. become. The unevenness 16 is also a factor that hinders the removability of the paste.

【0066】図32はエッチングマスクに発生する不具
合である。製法の説明図2に示すように,エッチングマ
スクの露光には表裏2枚のフォトフィルム3を使用する
が,通常,このフォトフィルムにはトンボといわれる位
置合わせ用マークが設定され,それによって上下フィル
ムがずれないように位置を合わせ,袋とじ状に貼り合わ
せて使用する。
FIG. 32 shows a problem that occurs in the etching mask. Description of the manufacturing method As shown in FIG. 2, two photo-films 3 are used for exposing the etching mask. Usually, the photo-films are provided with registration marks called registration marks, and thereby, the upper and lower films are used. Adjust the position so that they do not shift, and attach them together in a bag.

【0067】この位置合わせがずれたまま製作される
と,エッチングマスクにこのような傾斜した印刷パター
ン孔の形状が発生する。この不具合によって,ペースト
の抜け性が悪化するだけではなく,スキージの移動方向
によって印刷品質がばらつくことになる。
If the wafer is manufactured with the misalignment, the shape of the inclined printed pattern hole is generated in the etching mask. This inconvenience not only deteriorates the removability of the paste, but also varies the print quality depending on the moving direction of the squeegee.

【0068】図33は印刷マスクのパターン孔断面形状
の良好な場合のペーストの抜け性を,図34はパターン
孔断面形状の不良な場合の抜け性を概念図で表したもの
である。
FIG. 33 is a conceptual diagram showing the releasability of the paste when the pattern hole cross-sectional shape of the print mask is good, and FIG. 34 is a conceptual diagram showing the releasability when the pattern hole cross-sectional shape is poor.

【0069】また,図35は,ペーストの抜け性の違い
による不具合形状を,スリット穴形状の印刷における概
念図で表したものである。
FIG. 35 is a conceptual diagram showing a defective shape due to a difference in paste removability in printing a slit hole shape.

【0070】図35の不具合「ペーストなし」は,印刷
パターン孔内からペーストが抜けられず,被印刷物表面
には印刷されなかったものである。「ペースト欠け」
は,印刷パターン孔の抜け性の悪い部分が部分的に目詰
まりしたものである。
The defect "no paste" shown in FIG. 35 means that the paste was not removed from the inside of the print pattern hole and was not printed on the surface of the printing material. "Lack of paste"
In the figure, a portion of the print pattern hole having poor removability is partially clogged.

【0071】「めくれ」は,版離れの際のマスク側の抜
け性の悪さによるズリ応力と,被印刷物表面へのタッキ
ング力とがペーストを引っ張りあい,一度は被印刷物表
面から一部剥離しかけたペーストが,その後被印刷物表
面に落下したもので,多くは印刷したい位置からペース
トがずれる。
In the “turning-up”, the shear stress due to poor removability of the mask side when the plate is released and the tacking force to the surface of the printing material pull the paste, and the film is partially peeled off from the printing material surface once. The paste then falls on the surface of the printing substrate, and often shifts from the position where printing is desired.

【0072】「つの」は,「鞍状形状」「サドル」「糸
引き」など多くの言い方があるが,抜け性の悪い印刷パ
ターン孔部分が,版離れ時に被印刷物表面とペーストを
引っ張りあうと,粘性と曳糸性によって図のような不具
合形状になる。
The word "tsu" has many expressions such as "saddle shape", "saddle", and "stringing". However, when the print pattern hole portion with poor removability pulls the paste against the surface of the printing material when the plate is separated. Due to the viscosity and spinnability, the shape becomes defective as shown in the figure.

【0073】「ブリッジ」は「つの」の程度がさらに激
しいもので,隣接パターンと不良ペースト形状とが接触
している場合で,特にペーストが電気回路形成用途に使
用される場合,「ショート」とよばれることがある。
"Bridge" is a type in which the degree of "one" is more intense. When the adjacent pattern is in contact with the defective paste shape, especially when the paste is used for forming an electric circuit, it is called "short". Sometimes called.

【0074】以上,印刷品質の観点からマスクの印刷パ
ターン孔形成技術を述べたが,ペーストの抜け性を左右
するのは,パターン孔断面形状の凹凸や内壁の表面粗さ
だけではなく,内壁面の対ペースト濡れ性や撥水性にも
依存することが分かってきた。
The above description has been given of the technique of forming a printed pattern hole of a mask from the viewpoint of print quality. It has been found that it also depends on the wettability with respect to the paste and the water repellency.

【0075】そこで図36のような,印刷パターン孔内
壁にテフロンのコーティング層44を持つ印刷マスク
や,図37のようにアディティブ法で印刷マスク版を製
作する時,使用する電解ニッケルめっき液45の中にテ
フロンの微粒子46を分散させ,めっき成長面に巻き込
むことにより,図38のようにめっき表面にテフロン微
粒子46の一部表面を分散して露出させる「複合めっき
製法」による印刷マスクが提案された。
Therefore, as shown in FIG. 36, a print mask having a Teflon coating layer 44 on the inner wall of a print pattern hole or a print mask plate manufactured by an additive method as shown in FIG. A printing mask by a “composite plating method” has been proposed in which a part of the Teflon fine particles 46 is dispersed and exposed on the plating surface as shown in FIG. Was.

【0076】これらの印刷マスクは高額であることから
広く普及するに至っていないが,抜け性は大巾に改善さ
れた。
Although these printing masks have not been widely used due to their high cost, the removability has been greatly improved.

【0077】しかし,開口部の断面形状の改善に加え,
上記のような内壁面の対ペースト濡れ性や撥水性を改善
しても,印刷パターン孔形状が微細で且つ図39のよう
にスリット形状47である場合,穴両端のコーナー部に
ペーストが目詰まりしやすい。
However, in addition to the improvement of the sectional shape of the opening,
Even if the wettability and water repellency of the inner wall surface with respect to the paste are improved, when the printed pattern hole shape is fine and the slit shape is 47 as shown in FIG. 39, the paste is clogged at the corners at both ends of the hole. It's easy to do.

【0078】これは,被印刷物表面とペーストとのタッ
キング面積に対して,コーナー部の内壁面積の割合が大
きく,版離れの際ペーストを剥がそうとするズリ応力が
コーナー部で最も大きく作用するからである。
This is because the ratio of the inner wall area of the corner to the tacking area between the surface of the printing material and the paste is large, and the shear stress for peeling off the paste at the time of separation of the plate exerts the greatest effect at the corner. It is.

【0079】このことから,現状の印刷マスクの印刷パ
ターン穴内壁への撥水性加工では,ズリ応力を除去しき
れていないことがわかる。
From this, it can be seen that shear stress has not been completely removed by the water repellent processing of the inner wall of the print pattern hole of the current print mask.

【0080】図40,図41は同一の印刷における平面
及び断面概念図で,ペーストの目詰まり傾向の例を示す
ものである。印刷マスクに丸形48,正方形49及びス
リット型47の印刷パターン孔を形成して球状粒子を含
有するペースト50を印刷する場合,図40においてス
キージ51が上から下向きに,図41において左から右
にスキージングを行なったとき,ペースト50は,図4
0においては下側のパターン穴側壁へ,図41において
は右側のパターン穴側壁へ目詰まりを発生させる傾向が
ある。
FIGS. 40 and 41 are conceptual views of a plane and a cross section in the same printing, showing an example of the tendency of the paste to be clogged. When printing the paste 50 containing the spherical particles by forming the printing pattern holes of the round shape 48, the square 49 and the slit shape 47 on the printing mask, the squeegee 51 is directed downward from above in FIG. 40, and from left to right in FIG. When squeezing is performed on paste 50, paste 50
At 0, clogging tends to occur on the lower pattern hole side wall, and in FIG. 41, on the right pattern hole side wall.

【0081】これはスキージング方向に依存しており,
スキージング方向は図42は下から上向きに,図43で
は右から左向きの場合であるが,いずれもスキージの進
行方向前方のパターン穴側壁へペースト50が目詰まり
しやすい。
This depends on the squeezing direction.
The squeezing direction is from bottom to top in FIG. 42 and from right to left in FIG. 43. In all cases, the paste 50 is likely to be clogged on the pattern hole side wall in the forward direction of the squeegee.

【0082】図44〜47は,従来説明されてきた印刷
パターン孔へのペーストの充填メカニズムである。
FIGS. 44 to 47 show the mechanism of filling the paste into the printing pattern holes described above.

【0083】図44において,スキージが印刷マスク上
に置かれたペーストを右方向にスキージングしていく
時,マスク版面に粘着しつつ後ろから押されるペースト
は図44の矢印のようにローリングしながら右方向に前
進し,印刷パターン孔に到ると,図45,図46,図4
7に示すように,ペーストは順次開口部の手前側から充
填されていく。
In FIG. 44, when the squeegee squeezes the paste placed on the print mask to the right, the paste pressed from behind while adhering to the mask plate while rolling as shown by the arrow in FIG. When moving forward to the right and reaching the print pattern holes, FIGS.
As shown in FIG. 7, the paste is sequentially filled from the near side of the opening.

【0084】ところが実際に観察してみると,その充填
メカニズムは図48〜51に示すものであった。
However, when actually observed, the filling mechanism was as shown in FIGS.

【0085】図48〜51において,スキージが図中の
右に向けてスキージングされる時,印刷マスク上に置か
れたペーストは,ローリングしつつも印刷マスク版面上
をスリップしている。
In FIGS. 48 to 51, when the squeegee is squeezed to the right in the drawing, the paste placed on the print mask slips on the print mask plate while rolling.

【0086】図48でペーストは開口部の手前に到る。
従来の説明ではこの後ペーストは印刷パターン孔の中に
充填されていくはずであるが,実際にはペーストがパタ
ーン孔開口部上を横断しても開口部内に充填されない。
In FIG. 48, the paste reaches just before the opening.
According to the conventional description, the paste should be filled in the printed pattern holes after that, but actually, the paste does not fill the openings even if the paste crosses over the openings of the pattern holes.

【0087】図49において,ペーストの先端部がスキ
ージの進行方向前方側の開口部エッジに到達し,さらに
前方にスリップしていくとき,ペーストの底部が前方側
エッジにひっかかり,下から削り取られるようにして充
填が始まる。
In FIG. 49, when the front end of the paste reaches the opening edge on the front side in the traveling direction of the squeegee and further slips forward, the bottom of the paste is caught by the front side edge and is scraped off from below. Then the filling starts.

【0088】この開口部内に充填されたペーストは,パ
ターン孔の上部を通過していくペーストの底部を滞留さ
せるが,さらに,滞留させられたペーストは後ろから来
るペーストに押されて,下側に膨らむようにして開口部
内に充填されていく。
The paste filled in the opening causes the bottom of the paste passing through the upper portion of the pattern hole to stay therein, and the held paste is further pushed by the paste coming from the rear, so that the paste is moved downward. The opening is filled into the opening so as to expand.

【0089】このようにして,スキージが印刷パターン
孔の上を通過するまでに,ペーストは開口部内の空間に
充填完了する。
Thus, by the time the squeegee passes over the print pattern hole, the paste is completely filled in the space in the opening.

【0090】さらにこの充填されたペーストの状態を観
察したところ,図52のように,スキージの進行方向に
対し後方側の開口部内空間には粒子密度の粗の部分50
aが,一方,スキージの進行方向に対し前方側の側壁に
接する部分には粒子密度の密の部分50bとがあり,粒
子分布に差が発生している。
Further, when the state of the filled paste was observed, as shown in FIG. 52, a coarse particle density portion 50 was found in the space in the opening on the rear side with respect to the traveling direction of the squeegee.
On the other hand, there is a portion 50b having a high particle density at a portion in contact with the side wall on the front side with respect to the traveling direction of the squeegee, and a difference occurs in the particle distribution.

【0091】この粒子分布の密な部分と,図40及び図
41においてスキージの進行方向前方側のパターン穴側
壁に目詰りする球形固体含有ペーストの分布とは一致し
ており,ペースト中の粒子密度と版離れ時のペーストの
抜け性には相関がある。
The dense portion of the particle distribution coincides with the distribution of the spherical solid-containing paste clogging the side wall of the pattern hole on the front side in the traveling direction of the squeegee in FIGS. 40 and 41. There is a correlation between the release of the paste when the plate is released.

【0092】この相関は,濡れ性にかかわる表面エネル
ギで説明される。固形粒子を含むペーストは,その含有
粒子間を粘性を持つ液体で満たすことによって,ペース
トとしての性状を保持するが,固形粒子に対し粘性液体
の比率が高いとペースト総体の粘度が低下し流動化しや
すくなる。
This correlation is explained by the surface energy related to wettability. A paste containing solid particles retains the properties of the paste by filling the space between the particles with a viscous liquid, but if the ratio of viscous liquid to solid particles is high, the viscosity of the paste as a whole decreases and the paste becomes fluid. It will be easier.

【0093】また,逆に粘性液体の比率が低下すると高
粘度となり,形状保持傾向が高まる。
Conversely, when the ratio of the viscous liquid decreases, the viscosity increases, and the tendency to maintain the shape increases.

【0094】これは,固形粒子間の粘性液体は,ある一
定含有率以上では粒子間において潤滑剤として機能して
いるものの,逆に一定含有率以下になると,固形粒子表
面および粘性液体の表面エネルギによって互いに濡れ合
うとともに粘性液体の表面張力によって引き合うため,
固形粒子はこの粘性液体によって互いに拘束され動きに
くくなるものである。
This is because the viscous liquid between the solid particles functions as a lubricant between the particles at a certain content or more, but conversely, at a certain content or less, the surface energy of the solid particles and the viscous liquid is reduced. Are wetted by each other and attracted by the surface tension of the viscous liquid.
The solid particles are restrained from each other by the viscous liquid and are difficult to move.

【0095】このメカニズムは固形粒子間だけではな
く,固形粒子と印刷パターン孔側壁間でも働くため,ス
キージの進行方向に対し後方側の開口部内空間に充填さ
れた低固形粒子密度,高粘性液体比率のペーストは側壁
に対しても流動的で滑りやすく,結果として抜け性のよ
い部分となる。
Since this mechanism works not only between the solid particles but also between the solid particles and the side wall of the printed pattern hole, the density of the low solid particles and the ratio of the high viscous liquid filled in the space in the opening on the rear side with respect to the traveling direction of the squeegee. The paste is fluid and slippery also on the side walls, and as a result becomes a part with good removability.

【0096】逆にスキージの進行方向前方側の開口部側
壁に接している高固形粒子密度,低粘性液体比率のペー
ストは側壁にたいして非流動的で滑りにくく,結果とし
て抜け性の悪い部分となる。
Conversely, the paste having a high solid particle density and a low viscosity liquid ratio which is in contact with the side wall of the opening on the front side in the direction of travel of the squeegee is non-flowable and hard to slip on the side wall, and as a result, the part having poor removability is obtained.

【0097】現在まで,印刷パターン孔の内壁形状に起
因する抜け性の悪さや,内壁面の表面粗さに起因する抜
け性の悪さ,内壁面の潤滑性に起因する抜け性の悪さ等
には対応策が講じられてきたが,このスキージング方向
に相関する固形粒子含有ペーストの抜け性のばらつきに
対して有効な対応策が無く,微細印刷の要求が高まって
いる今,新たな対応技術が求められている。
Until now, poor removability due to the inner wall shape of the printed pattern hole, poor releasability due to the surface roughness of the inner wall surface, poor releasability due to the lubricity of the inner wall surface, etc. Countermeasures have been taken, but there is no effective countermeasure against the variation in the removability of the paste containing solid particles, which correlates with the squeezing direction. It has been demanded.

【0098】[0098]

【発明が解決しようとする課題】このように,ステンシ
ルを用いた孔版印刷において,従来より問題であった抜
け性の確保に対し,様々な対応がなされてはきたが,い
まだスキージング方向に相関した目詰まりの発生に対し
ては有効な対応策がなく,早急な対応が望まれている。
As described above, in stencil printing using a stencil, various measures have been taken to ensure the removability, which has been a problem in the past, but there is still a correlation in the squeezing direction. There is no effective countermeasure against the occurrence of clogging, and an immediate response is desired.

【0099】そこで,本発明は,上記のようなスキージ
ング方向に相関した目詰まりが発生しにくい粒子入ペー
スト用印刷マスク及びその製造装置を提供することを目
的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a printing mask for a paste containing particles, which hardly causes clogging related to the squeezing direction as described above, and an apparatus for manufacturing the same.

【0100】[0100]

【課題を解決するための手段】請求項1にかかる発明
は,印刷用のパターン孔を備えた印刷マスクであって,
被印刷物表面上に載置された当該マスク上をスキージで
摺擦し,粘性流動体に球状粒子を含有してなる粘性体を
塗り広め,これにより前記パターン孔に当該粘性体を充
填し,その後当該印刷マスクを版離れさせることによ
り,前記粘性体を被印刷物表面に前記パターン孔に対応
したパターン形状で転写する際に用いられる粒子入ペー
スト用印刷マスクにおいて,前記印刷マスクに設けられ
たパターン孔の側壁全面に,前記球状粒子の径よりわず
かに小さい巾の溝が所定間隔で設けられ,かつ,当該溝
が印刷マスクの厚み方向に延設されてなることを特徴と
する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a printing mask having a pattern hole for printing.
The mask placed on the surface of the printing material is rubbed with a squeegee to spread a viscous fluid containing spherical particles in the viscous fluid, thereby filling the pattern holes with the viscous material. By separating the printing mask from the printing plate, in the printing mask for particle-containing paste used when transferring the viscous material to the surface of the printing material in a pattern shape corresponding to the pattern holes, the pattern holes provided in the printing mask are provided. Grooves having a width slightly smaller than the diameter of the spherical particles are provided at predetermined intervals on the entire side wall of the print mask, and the grooves extend in the thickness direction of the print mask.

【0101】即ち,パターン孔に充填された球状粒子を
含有した粘性体と当該パターン孔の側壁との滑りを確保
すべく,パターン孔の側壁に溝を設けて,当該溝に前記
粘性体に含まれる粘性流動体が溜るようにする。そして
当該粘性流動体に潤滑剤の働きをさせることを特徴とす
る。
That is, a groove is provided in the side wall of the pattern hole so as to ensure the slip between the viscous material containing the spherical particles filled in the pattern hole and the side wall of the pattern hole, and the groove is included in the viscous material. The viscous fluid to be collected is collected. The viscous fluid functions as a lubricant.

【0102】請求項2にかかる発明は,前記溝の横断面
形状が,三角形状,矩形波形状,正弦波形状,半円形
状,楕円形状の内のいずれかであることを特徴とする。
The invention according to claim 2 is characterized in that the cross-sectional shape of the groove is any one of a triangular shape, a rectangular wave shape, a sine wave shape, a semicircular shape, and an elliptical shape.

【0103】請求項3にかかる発明は,エキシマレーザ
光を出射するレーザ源と,側壁が前記溝の横断面形状に
形成されて前記エキシマレーザ光を所定形状に整形する
整形孔を具備したアパーチャ,又は反射面の周囲が前記
溝の横断面形状に形成された整形反射面を具備して,前
記エキシマレーザ光を所定形状に整形して反射する整形
反射面を有して,整形されたエキシマレーザ光をマスク
材に照射して印刷用のパターン孔を形成することを特徴
とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a laser source for emitting an excimer laser beam, and an aperture having a side wall formed in a cross-sectional shape of the groove to shape the excimer laser beam into a predetermined shape. Or, a shaped excimer laser having a shaped reflecting surface formed around the reflecting surface in a cross-sectional shape of the groove, and shaping and reflecting the excimer laser light into a predetermined shape. Light is irradiated to the mask material to form a pattern hole for printing.

【0104】即ち,パターン孔の側壁に溝を有したマス
クを形成する際に,エキシマレーザ光をアパーチャまた
はミラーによりパターン孔の形状に整形し,かつ,当該
アパーチャの整形孔またはミラーの整形反射面に溝形状
を設けて,パターン孔の形成と同時に当該溝も形成する
ようにしたことを特徴とする。
That is, when forming a mask having a groove on the side wall of the pattern hole, the excimer laser light is shaped into the shape of the pattern hole by an aperture or a mirror, and the shaped hole of the aperture or the shaped reflection surface of the mirror. A groove is formed in the groove, and the groove is formed simultaneously with the formation of the pattern hole.

【0105】[0105]

【発明の実施の形態】本発明は,従来の印刷マスクでは
困難であった微細印刷に対し,より有用であるため,現
在すでに通常印刷で印刷品質の良いマスクとの組み合わ
せが望ましく,印刷品質の良くないエッチングマスクや
YAGレーザマスクとは馴染みにくい。そこで,以下
に,アディティブマスク及びエキシマレーザマスクにお
ける本発明の実施形態を示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention is more useful for fine printing, which has been difficult with conventional printing masks. It is hardly familiar with poor etching masks and YAG laser masks. Therefore, an embodiment of the present invention in an additive mask and an excimer laser mask will be described below.

【0106】アディテイブ製法によって本発明にかかる
印刷マスクのパターン孔形状を形成する方法において,
図7及び57は露光,図8及び58は現像,図9及び5
9はめっきの工程の概略構成である。
In the method of forming the pattern hole shape of the print mask according to the present invention by the additive manufacturing method,
7 and 57 are exposure, FIGS. 8 and 58 are development, FIGS. 9 and 5
9 is a schematic configuration of a plating step.

【0107】図7及び57に示す露光のプロセスにおい
て,電解めっき用電極基材となるサブストレート8上
に,感光ドライフィルム9を必要厚にラミネートし,そ
の表面に露光形状決定のため形成したい意匠を透明部と
遮光部に分けてデザインしたフォトマスク11を真空吸
着等で密着させ,上方の高圧水銀灯等の平行紫外光源1
2によって露光をおこなうと,ドライフィルム9にはフ
ォトマスク11の意匠通りの潜像が得られる。
In the exposure process shown in FIGS. 7 and 57, a photosensitive dry film 9 is laminated to a required thickness on a substrate 8 serving as an electrode substrate for electrolytic plating, and a design to be formed on the surface to determine an exposure shape. A photomask 11 designed to be divided into a transparent part and a light-shielding part is adhered by vacuum suction or the like, and a parallel ultraviolet light source 1 such as a high-pressure mercury lamp above
When the exposure is performed by the method 2, a latent image according to the design of the photomask 11 is obtained on the dry film 9.

【0108】このとき,印刷マスクのパターン孔側壁に
本発明にかかる溝を形成するため,フォトマスク11の
意匠として,当該溝形状を形成するための凹凸パターン
64を使用する。
At this time, in order to form a groove according to the present invention on the side wall of the pattern hole of the print mask, an uneven pattern 64 for forming the groove shape is used as a design of the photomask 11.

【0109】さらに図8及び58の現像プロセスにおい
て,感光樹脂現像液65で所定の現像をおこなって潜像
を顕像化すると,サブストレート8上に本発明にかかる
印刷パターン孔のめっき雌型66が得られる。
Further, in the developing process shown in FIGS. 8 and 58, when the latent image is visualized by performing a predetermined development with the photosensitive resin developer 65, the plated female mold 66 of the printed pattern hole according to the present invention is formed on the substrate 8. Is obtained.

【0110】図9及び59のめっきのプロセスにおい
て,上記のめっき雌型66付きサブストレート8を電解
めっき用電源67のマイナス側につなぎ,一方のプラス
側には電鋳用ニッケルアノード68をつないで,両者を
電解めっき液45中に沈めて一定時間通電・めっき浴を
行ない必要な厚さのめっきを付けると,アディテイブ製
法によって本発明にかかる印刷パターンの溝形状を持つ
印刷用メタルマスク用の金属版が得られる。
In the plating process shown in FIGS. 9 and 59, the substrate 8 with the plating female die 66 is connected to the negative side of the power source 67 for electrolytic plating, and the nickel anode 68 for electroforming is connected to one positive side. When both are immersed in the electrolytic plating solution 45 and energized and subjected to a plating bath for a certain period of time and plated to a required thickness, a metal for a printing metal mask having a groove shape of a printing pattern according to the present invention is formed by an additive manufacturing method. A plate is obtained.

【0111】このあと,サブストレートから当該金属版
を剥離させ,めっき用雌型66を溶解除去した後,ポリ
エステルやナイロン製のテンション付与用紗膜を介して
印刷枠に接合することにより,印刷マスクとして完成す
る。
Then, the metal plate is peeled off from the substrate, and the plating female die 66 is dissolved and removed, and then joined to a printing frame via a polyester or nylon tensioning gauze film to form a printing mask. Completed as

【0112】一方,以下はエキシマレーザマスクによっ
て本発明にかかる印刷マスクのパターン孔形状を形成す
る方法であるが,図56は本発明にかかる溝付エキシマ
レーザマスクを形成する装置の概略構成を示す図で,エ
キシマレーザ光(以下,単にレーザ光と記載する)を出
射するエキシマレーザ発生装置56,当該エキシマレー
ザ発生装置56から出射されたレーザの光路を変更する
プリズムまたはミラー57(57a,57b,57
c),レーザ光の強度分布を均一化するホモジェナイ
ザ,およびレーザ光の長・短径寸法を縮小・拡大するビ
ームエキスパンダまたはビームコンプレッサがあるビー
ム調整部58,レーザ光を所定形状のパターンにする遮
光用アパーチャまたは反射ミラーのビーム形成部59,
レーザ光を集光する集光レンズ60,マスク素材のプラ
スチック板を保持してXYZ軸方向に移動させるステー
ジ61,当該アパーチャ・ステージの位置決めを制御す
ると共にエキシマレーザ発生装置56を制御する制御部
62,観察光学系用のカメラ63を有している。
On the other hand, the following is a method for forming the pattern hole shape of the print mask according to the present invention using an excimer laser mask. FIG. 56 shows a schematic configuration of an apparatus for forming a grooved excimer laser mask according to the present invention. In the figure, an excimer laser generator 56 that emits excimer laser light (hereinafter, simply referred to as laser light), a prism or a mirror 57 (57a, 57b, 57a, 57b, 57) that changes the optical path of the laser emitted from the excimer laser generator 56 is shown. 57
c), a beam adjuster 58 having a homogenizer for equalizing the intensity distribution of the laser beam, and a beam expander or beam compressor for reducing / enlarging the major and minor dimensions of the laser beam, and forming the laser beam into a predetermined shape pattern A beam forming unit 59 of a light blocking aperture or a reflecting mirror,
A condenser lens 60 for condensing a laser beam, a stage 61 for holding a plastic plate of a mask material and moving it in the XYZ axis directions, and a control unit 62 for controlling the positioning of the aperture stage and controlling the excimer laser generator 56. And a camera 63 for an observation optical system.

【0113】図60は図56における遮光用アパーチャ
または反射ミラーのビーム形成部59により整形された
レーザ光がマスク用素材のプラスチック板に照射される
際の様子を示す図である。
FIG. 60 is a view showing a state in which the laser beam shaped by the beam forming portion 59 of the light shielding aperture or the reflecting mirror in FIG. 56 is applied to the plastic plate of the mask material.

【0114】ビーム形成部59には,パターン孔に対応
した複数の整形孔69が設けられている。無論,整形孔
は1つでも良く,適宜形成するパターンにより設定され
る。
The beam forming section 59 is provided with a plurality of shaping holes 69 corresponding to the pattern holes. Needless to say, one shaping hole may be provided, and the shaping hole is appropriately set by a pattern.

【0115】当該整形孔69の内周側壁には,集光レン
ズ60の縮小率の逆数の倍率になった溝が設けられてい
る。従って,当該ビーム形成部59により形成されるマ
スクのパターン孔にも図53に示すように溝53が形成
されるようになる。
On the inner peripheral side wall of the shaping hole 69, a groove having a reciprocal magnification of the reduction ratio of the condenser lens 60 is provided. Accordingly, a groove 53 is also formed in the pattern hole of the mask formed by the beam forming portion 59 as shown in FIG.

【0116】この溝53の幅は,パター孔に充填された
ペーストに含有される粒子径よりもわずかに小さい大き
さに設定されている。
The width of the groove 53 is set to be slightly smaller than the particle diameter contained in the paste filled in the putter holes.

【0117】このような構成において,エキシマレーザ
発生装置56から出射されたレーザ光断面のエネルギ強
度分布は,中央部が強くて周辺部が弱く,分布が不均一
である。この不均一さが加工に悪影響を及ぼす場合,ビ
ーム調整部58のホモジェナイザで均一化を図ることが
ある。
In such a configuration, the energy intensity distribution of the cross section of the laser beam emitted from the excimer laser generator 56 is strong at the center and weak at the periphery, and is uneven in distribution. When the non-uniformity adversely affects the processing, the homogenizer of the beam adjusting unit 58 may achieve uniformity.

【0118】また,出射されたレーザ光の断面形状は,
やや角の丸い長方形であることが多く,この形状が加工
に悪影響を及ぼす場合,やはりビーム調整部58のビー
ムコンプレッサによってレーザ光の長・短径寸法を縮小
したり,またはビームエキスパンダによって拡大して必
要なビームに調整する。
The sectional shape of the emitted laser light is
In many cases, the shape is a rectangle with a slightly rounded corner, and if this shape has an adverse effect on the processing, the long and short diameters of the laser beam are reduced by the beam compressor of the beam adjusting unit 58 or enlarged by the beam expander. To adjust the required beam.

【0119】その後,プリズムまたはミラー57(57
a,57b,57c)によってマスク59に垂直に入射
するように光路を調整されたレーザ光は,遮光用アパー
チャまたは反射ミラーのビーム形成部59により整形さ
れ,集光レンズ60により投影される。
Thereafter, the prism or mirror 57 (57
The laser light whose optical path has been adjusted so as to be perpendicularly incident on the mask 59 by a, 57b, 57c) is shaped by a light-blocking aperture or a beam forming unit 59 of a reflection mirror, and projected by a condenser lens 60.

【0120】このように投影されたレーザ光は,単位面
積あたりのエネルギー密度が高められ,素材ごとに固有
のアブレーション加工に必要なエネルギ密度を越えるこ
とができるようになるため,当該マスクにパターン孔が
形成される。
The energy of the laser beam projected in this manner is increased per unit area, and the laser beam can exceed the energy density required for ablation processing unique to each material. Is formed.

【0121】そして,マスクにパターン孔が形成される
と,制御部62は遮光用アパーチャまたは反射ミラーの
ビーム形成部59とステージ61の位置決めを行ない,
次のパターン孔の加工を行なう。
When the pattern holes are formed in the mask, the control unit 62 performs positioning of the stage 61 with the beam forming unit 59 of the light-shielding aperture or the reflecting mirror.
The next pattern hole is processed.

【0122】なお,本発明ではパターン孔の側壁に溝を
設けるが,当該溝の隣接間隔は非常に小さいため,もし
形成部59のアパーチャまたはミラーのパターンとマス
クの加工形状が等寸であれば,形成部59のアパーチャ
またはミラー作成は困難でコストもかかる。
In the present invention, a groove is provided on the side wall of the pattern hole. However, since the adjacent space between the grooves is very small, if the pattern of the aperture or mirror of the forming portion 59 and the processing shape of the mask are the same size. The formation of the aperture or mirror of the forming section 59 is difficult and costly.

【0123】ところが,上述の通り本装置は集光レンズ
60によって縮小投影されるため,遮光用アパーチャま
たは反射ミラーのビーム形成部59に形成されるパター
ンは縮小率の逆数倍だけ大きくても良く,上記アパーチ
ャやミラーの製造コストが低減できるため,当該印刷マ
スクの製造コストも下げることができる。
However, as described above, since this device is reduced and projected by the condenser lens 60, the pattern formed on the beam forming portion 59 of the light shielding aperture or the reflecting mirror may be larger by the reciprocal multiple of the reduction ratio. Since the manufacturing cost of the aperture and the mirror can be reduced, the manufacturing cost of the print mask can also be reduced.

【0124】また,エキシマレーザ光ではアブレーショ
ンを起こしにくく,溝53の幅の大きさに合わせた径の
微粒子をマスク用素材に含有させておくと,当該微粒子
の影になるところではマスク基材は加工されず自然に溝
53を形成することができるようになる。
[0124] Excimer laser light is unlikely to cause ablation. If fine particles having a diameter corresponding to the width of the groove 53 are contained in the mask material, the mask base material is not shadowed by the fine particles. The groove 53 can be formed naturally without being processed.

【0125】この製法では,溝配置のピッチや深さな
ど,バラツキが発生することになるが,用途によっては
整形孔69に溝53を設ける必要がなくなる。
In this manufacturing method, variations occur in the pitch and depth of the groove arrangement, but it is not necessary to provide the groove 53 in the shaping hole 69 depending on the application.

【0126】次に本発明の作用原理を説明する。従来
は,印刷マスクの側壁と充填された粒子含有ペースト5
0とのズリ応力を小さくして,印刷マスクの版離れの際
に当該ペーストがパターン孔70内に残らないよう,可
能な限り側壁面を滑らかにしていた。
Next, the operation principle of the present invention will be described. Conventionally, the side wall of the printing mask and the filled particle-containing paste 5
The side wall surface is made as smooth as possible so as to prevent the paste from remaining in the pattern holes 70 when the printing mask is separated from the plate by reducing the shear stress of 0.

【0127】しかし,本願発明者は,当該ペーストの目
詰まり状態とパターン孔に当該ペーストが充填される様
子を詳細に観察した結果,以下のことを突き止めた。
However, as a result of closely observing the clogged state of the paste and the manner in which the paste is filled in the pattern holes, the inventors of the present application have found the following.

【0128】即ち,版離れの際目詰まりする当該ペース
トは,摺動するスキージを内壁面が正対して迎える側の
側壁(以下,迎え側壁という)に残留する傾向が強く,
かかる傾向はパターン孔に粒子含有ペースト50が充填
されるメカニズムと密接に関係していた。
That is, the paste which is clogged when the plate is separated has a strong tendency to remain on the side wall (hereinafter, referred to as a receiving side wall) on the side where the inner wall faces the sliding squeegee.
This tendency was closely related to the mechanism of filling the particle-containing paste 50 into the pattern holes.

【0129】このことを図48〜51を参照して,パタ
ーン孔70に粒子含有ペースト50が充填されるメカニ
ズムを説明する。なお,図中の矢印は,粒子含有ペース
ト50の動きを示している。
Referring to FIGS. 48 to 51, a mechanism for filling the pattern holes 70 with the particle-containing paste 50 will be described. The arrows in the figure indicate the movement of the particle-containing paste 50.

【0130】図48〜51において,摺動するスキージ
51に押されて移動していく固体粒子含有ペースト50
は,マスク版面上をローリングしつつも,スリップして
前方へ移動していく。
48 to 51, a paste 50 containing solid particles which is pushed by a sliding squeegee 51 and moves.
, While rolling on the mask plate, slips and moves forward.

【0131】図48で当該ペーストはパターン孔70に
到るが,この後ペースト50がパターン孔70の開口部
上を横断しても開口部内に充填されず,図49におい
て,ペースト50の先端部が迎え側壁のエッジ部に到達
し,さらに前方にスリップしていくとき,ペーストの底
部が前方迎え側壁71のエッジにひっかかり,あたかも
ペースト50がカンナで下から削り取られるようにして
充填が始まる。
In FIG. 48, the paste reaches the pattern hole 70, but after that, even when the paste 50 crosses over the opening of the pattern hole 70, the paste is not filled into the opening. When the paste reaches the edge of the receiving side wall and further slips forward, the bottom of the paste is caught on the edge of the front side receiving wall 71, and the filling is started as if the paste 50 was scraped off from below with a canna.

【0132】パターン孔70の開口部内に充填されたペ
ースト50は,パターン孔70の上部を通過していくペ
ースト50の底部を滞留させるが,さらに,滞留させら
れたペースト50は後ろから来るペーストに押されて,
下側に膨らむようにして開口部内に充填されていく。
The paste 50 filled in the opening of the pattern hole 70 stays at the bottom of the paste 50 passing through the upper portion of the pattern hole 70, and the retained paste 50 is further reduced to the paste coming from behind. Pressed,
It is filled into the opening so as to swell downward.

【0133】スキージが印刷パターン孔の上を通過する
までに,このようにして,遂にはペーストは開口部内の
空間に充填完了する。
By the time the squeegee passes over the print pattern hole, the paste is finally filled in the space in the opening.

【0134】この充填済みのペーストの状態は,図52
のように,スキージの進行方向に対し後方側の開口部内
空間には固体粒子密度の粗の部分50aが,一方,スキ
ージの進行方向に対し前方側の側壁に接する部分には固
体粒子密度の密の部分50bとがあり,粒子分布に差が
発生している。
The state of the filled paste is shown in FIG.
As shown in the figure, a portion 50a having a low solid particle density exists in the space in the opening on the rear side with respect to the traveling direction of the squeegee, while a portion contacting the side wall on the front side with respect to the traveling direction of the squeegee has a high density. And there is a difference in the particle distribution.

【0135】当該ペーストのように固体粒子を含有して
いるペーストは,迎え側壁に押しつけられると,固体粒
子密度は迎え側壁71a側に高くなるが,反面,ペース
ト中の液体成分は容易に対向する側壁71bに移動する
ことができるため,絞り出されるようにしてこのような
密度分布が生じる。
When the paste containing solid particles such as the paste is pressed against the receiving side wall, the density of the solid particles increases toward the receiving side 71a, but the liquid component in the paste easily opposes. Since it is possible to move to the side wall 71b, such a density distribution is generated by being squeezed out.

【0136】この結果,版離れの際には,ペースト中の
液体成分の含有比率が多く粒子密度の少ない側壁71b
側は,この液体成分が潤滑剤の働きをするため,側壁と
のズリ応力が低減され,抜け性が改善される。
As a result, when the plate is separated, the side wall 71b having a large content ratio of the liquid component in the paste and a low particle density is obtained.
On the side, since this liquid component acts as a lubricant, shear stress with the side wall is reduced and the removability is improved.

【0137】一方,固体粒子密度の高い部分は潤滑剤と
なる液体成分が少なく,且つ固体粒子相互の間隙が少な
くなると,潤滑剤として機能していた液体成分が,逆に
表面エネルギによる濡れ性で互いの固形粒子を引き合
い,動きを拘束し始める。
On the other hand, in the portion where the solid particle density is high, the liquid component serving as the lubricant is small, and when the gap between the solid particles is reduced, the liquid component functioning as the lubricant is adversely affected by the wettability due to the surface energy. The solid particles attract each other and begin to restrain their movement.

【0138】このようにして,固体粒子密度の高い部分
の流動性が失われるのと共に,固体粒子と内壁面との間
隙でも互いに拘束し,引き合う現象が発生する。このこ
とにより,結果的に当該迎え側壁71aの部分で固体粒
子の目詰まりが多発する。
As described above, the fluidity of the portion where the solid particle density is high is lost, and the gap between the solid particle and the inner wall surface is restrained and attracted to each other. As a result, clogging of solid particles frequently occurs in the portion of the receiving side wall 71a.

【0139】このように,充填のメカニズムに起因した
ペースト中の固体粒子の密度のかたよりは,このよう
に,一方で抜け製を促進し,他方で抜け性を阻害すると
いう正反対の現象を発生させる。
As described above, rather than the density of the solid particles in the paste caused by the filling mechanism, the opposite phenomenon that the removal is promoted on the one hand and the removal property is inhibited on the other hand occurs. .

【0140】従って,ペースト中に分散する固体粒子に
高密度部分が発生しても,ペースト中の液体成分が潤滑
剤として,固体粒子または固体粒子同志が流動性を失っ
た塊と迎え側壁71との間に介在するならば,固体粒子
の目詰まりを防止することができる。
Therefore, even if a high-density portion is generated in the solid particles dispersed in the paste, the liquid component in the paste acts as a lubricant, and the solid particles or the solid particles come into contact with the lumps having lost fluidity and meet the side wall 71. If interposed between the solid particles, clogging of the solid particles can be prevented.

【0141】そこで,本発明では,固体粒子の粒径より
わずかに小さい溝をパターン孔の側壁に印刷マスクの厚
み方向に延設・形成して,当該溝内にペースト中の液体
成分が潤滑剤として溜るようにすると共に,ペーストの
抜け方向に対しては凹凸のない側壁形状を維持してい
る。
Therefore, in the present invention, a groove slightly smaller than the particle size of the solid particles is formed on the side wall of the pattern hole so as to extend in the thickness direction of the print mask, and the liquid component in the paste contains the lubricant in the groove. And the side wall shape without unevenness is maintained in the direction in which the paste comes off.

【0142】以上により,スキージ方向によって発生し
ていたペーストの目詰まり傾向が防止できると共に,版
離れ速度を速くしてもパターン孔70に充填された固体
粒子含有ペーストの残留がなくなり,一層の高品位・微
細印刷が可能になる。
As described above, the tendency of the paste to be clogged due to the direction of the squeegee can be prevented, and the paste containing the solid particles filled in the pattern holes 70 does not remain even if the plate releasing speed is increased. High quality and fine printing are possible.

【0143】なお,上記説明では,溝53辺縁部の横断
面形状を三角形状として説明したが,本発明はこれに限
られるものではなく,図55に示す棒形状,矩形波形
状,正弦波形状,半円形状,楕円形状等が可能である。
In the above description, the cross-sectional shape of the peripheral portion of the groove 53 is described as being triangular. However, the present invention is not limited to this, and the rod shape, rectangular wave shape, sine wave shape shown in FIG. Shapes, semicircular shapes, elliptical shapes, etc. are possible.

【0144】この場合,三角形状や棒形状等において
は,コーナー部は丸く面取りされた形状にすることが,
摩耗から形状を保護し,耐久性を増す観点から望まし
い。
In this case, in the case of a triangular shape, a bar shape, or the like, the corner portion may be rounded and chamfered.
It is desirable from the viewpoint of protecting the shape from abrasion and increasing durability.

【0145】[0145]

【発明の効果】本発明によれば,パターン孔の側壁に固
体粒子径より小さい幅の溝を設けたのでズリ応力が小さ
くなり,版離れの際に固体粒子含有ペーストがパターン
孔に残留することがなくなって,良好な形状を持つペー
ストのパターンを被印刷物表面に形成することが可能に
なった。
According to the present invention, since a groove having a width smaller than the solid particle diameter is provided on the side wall of the pattern hole, shear stress is reduced, and the paste containing solid particles remains in the pattern hole when the plate is separated. And the paste pattern having a good shape can be formed on the surface of the printing material.

【0146】また,パターン孔の側壁に溝を有したマス
クを形成する際に,アディテイブマスクにおいてはフォ
トマスク11により,エキシマレーザマスクにおいては
アパーチャにより,それぞれ印刷パターン孔の形状に整
形すると同時に,当該フォトマスク11またはアパーチ
ャの整形用形状に溝形成用パターンも付与することによ
り,印刷パターン孔の形成と同時に当該溝も形成できる
ようにしたので,安価に高品位な印刷マスクを製造する
ことが可能になった。
When a mask having a groove on the side wall of the pattern hole is formed, the shape of the print pattern hole is formed by the photomask 11 in the additive mask and by the aperture in the excimer laser mask. By providing a groove forming pattern to the shaping shape of the photomask 11 or the aperture, the grooves can be formed simultaneously with the formation of the printing pattern holes, so that a high-quality printing mask can be manufactured at low cost. It is now possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】エッチングマスクの製法におけるフォトレジス
ト塗布後の断面概念図である。
FIG. 1 is a conceptual sectional view after a photoresist is applied in a method of manufacturing an etching mask.

【図2】エッチングマスクの製法における露光の概念図
である。
FIG. 2 is a conceptual diagram of exposure in a method of manufacturing an etching mask.

【図3】エッチングマスクの製法における現像の概念図
である。
FIG. 3 is a conceptual diagram of development in a method of manufacturing an etching mask.

【図4】エッチングマスクの製法におけるエッチング加
工の概念図である。
FIG. 4 is a conceptual diagram of an etching process in a method of manufacturing an etching mask.

【図5】エッチング加工の結果開口されたエッチングマ
スクの概念図である。
FIG. 5 is a conceptual diagram of an etching mask opened as a result of etching.

【図6】アディティブマスクの製法におけるドライフィ
ルムのラミネートの概念図である。
FIG. 6 is a conceptual diagram of lamination of a dry film in a method of manufacturing an additive mask.

【図7】アディティブマスクの製法における露光の概念
図である。
FIG. 7 is a conceptual diagram of exposure in a manufacturing method of an additive mask.

【図8】アディティブマスクの製法における現像の概念
図である。
FIG. 8 is a conceptual diagram of development in a method of manufacturing an additive mask.

【図9】アディティブマスクの製法におけるめっきの概
念図である。
FIG. 9 is a conceptual diagram of plating in a method of manufacturing an additive mask.

【図10】アディテイブ加工の結果開口されたアディテ
イブマスクの概念図である。
FIG. 10 is a conceptual diagram of an additive mask opened as a result of additive processing.

【図11】YAGレーザマスクの製法における切断法の
概念図である。
FIG. 11 is a conceptual diagram of a cutting method in a method of manufacturing a YAG laser mask.

【図12】YAGレーザマスクの製法における切断の手
順を表した概念図である。
FIG. 12 is a conceptual diagram showing a cutting procedure in a method of manufacturing a YAG laser mask.

【図13】YAGレーザマスクの切断形状の断面概念図
である。
FIG. 13 is a conceptual sectional view of a cut shape of a YAG laser mask.

【図14】YAGレーザの切断加工の結果開口されたY
AGレーザマスクの概念である。
FIG. 14 shows a Y opened as a result of a cutting process by a YAG laser.
This is the concept of the AG laser mask.

【図15】エキシマレーザマスクの加工原理を示す概念
図である。
FIG. 15 is a conceptual diagram showing the processing principle of an excimer laser mask.

【図16】エキシマレーザによるアブレーション加工の
原理を示す概念図である。
FIG. 16 is a conceptual diagram showing the principle of ablation processing using an excimer laser.

【図17】アブレーションによる掘り込み加工の概念図
である。
FIG. 17 is a conceptual diagram of a digging process by ablation.

【図18】エキシマレーザによる平面的加工の概念図で
ある。
FIG. 18 is a conceptual diagram of planar processing by an excimer laser.

【図19】エキシマレーザ加工の結果開口されたエキシ
マレーザマスクの概念である。
FIG. 19 is a concept of an excimer laser mask opened as a result of excimer laser processing.

【図20】印刷パターン孔エッジ部に丸みの付く不具合
形状である。
FIG. 20 shows a defective shape in which an edge portion of a printing pattern hole is rounded.

【図21】印刷パターン孔の上面または下面のエッジに
バリのある不具合形状である。
FIG. 21 shows a defective shape having burrs on the upper or lower edge of a printing pattern hole.

【図22】印刷パターン孔の上面または下面のエッジに
ギザリのある不具合形状である。
FIG. 22 shows a defective shape in which an edge of the upper surface or the lower surface of the print pattern hole is jagged.

【図23】エッチングマスクにおけるギザリ不良発生原
因の概念図である。
FIG. 23 is a conceptual diagram of a cause of occurrence of a jagged defect in an etching mask.

【図24】アディティブマスクにおけるギザリ不良発生
原因の概念図である。
FIG. 24 is a conceptual diagram of a cause of occurrence of a jagged defect in an additive mask.

【図25】印刷パターン孔の内壁中央部が凸になる不具
合形状である。
FIG. 25 shows a defective shape in which the center of the inner wall of the printing pattern hole is convex.

【図26】印刷パターン孔の内壁がテーパ過剰となる不
具合形状である。
FIG. 26 shows a defective shape in which the inner wall of the printing pattern hole becomes excessively tapered.

【図27】散乱光源によるテーパ発生の仕組みを示す概
念図である。
FIG. 27 is a conceptual diagram showing a mechanism of taper generation by a scattered light source.

【図28】散乱光源による感度の高いドライフィルムの
露光形状である。
FIG. 28 shows an exposure shape of a highly sensitive dry film by a scattering light source.

【図29】散乱光源による感度の低いドライフィルムの
露光形状である。
FIG. 29 shows an exposure shape of a dry film having low sensitivity by a scattering light source.

【図30】印刷パターン孔の内壁に段差発生する不具合
形状である。
FIG. 30 shows a defective shape in which a step occurs on the inner wall of the print pattern hole.

【図31】印刷パターン孔の内壁発生したオーバ露光現
象による不具合形状である。
FIG. 31 shows a defective shape due to an overexposure phenomenon generated on the inner wall of a printing pattern hole.

【図32】印刷パターン孔が傾斜する不具合形状であ
る。
FIG. 32 shows a defective shape in which the printing pattern holes are inclined.

【図33】印刷マスクのパターン孔の良好な場合のペー
ストの抜け形状である。
FIG. 33 is a view showing the shape of the paste that is removed when the pattern holes of the print mask are good.

【図34】印刷マスクのパターン孔の不良の場合のペー
ストの抜け性の概念図である。
FIG. 34 is a conceptual diagram of paste removability when a pattern hole of a print mask is defective.

【図35】スリット孔による印刷の不具合形状の概念図
である。
FIG. 35 is a conceptual diagram of a defective shape of printing due to a slit hole.

【図36】印刷パターン孔内壁にテフロン層を持つ印刷
マスクの断面図である。
FIG. 36 is a cross-sectional view of a printing mask having a Teflon layer on the inner wall of a printing pattern hole.

【図37】テフロン微粒子とニッケルとの複合めっき製
法の概念図である。
FIG. 37 is a conceptual diagram of a composite plating manufacturing method of Teflon fine particles and nickel.

【図38】複合めっき製法によるテフロンの状態の説明
図である。
FIG. 38 is an explanatory diagram of a state of Teflon by a composite plating method.

【図39】スリット孔の場合のペーストの目詰まりの様
子を示す概念図である。
FIG. 39 is a conceptual diagram showing a state of paste clogging in the case of a slit hole.

【図40】上からのスキージングによるペーストの目詰
まりの傾向を示す平面概念図である。
FIG. 40 is a conceptual plan view showing the tendency of paste clogging due to squeezing from above.

【図41】左からのスキージングによるペーストの目詰
まりの傾向を示す断面概念図である。
FIG. 41 is a conceptual sectional view showing a tendency of clogging of a paste due to squeezing from the left.

【図42】下からのスキージングによるペーストの目詰
まりの傾向を示す平面概念図である。
FIG. 42 is a conceptual plan view showing the tendency of paste clogging due to squeezing from below.

【図43】右からのスキージングによるペーストの目詰
まりの傾向を示す断面概念図である。
FIG. 43 is a conceptual sectional view showing a tendency of paste clogging due to squeezing from the right.

【図44】マスク版面上のペーストの挙動を示す従来説
での断面概念図である。
FIG. 44 is a conceptual conceptual view showing a behavior of a paste on a mask plate surface in a conventional theory.

【図45】パターン孔端部に至ったペーストの挙動を示
す従来説での断面概念図である。
FIG. 45 is a cross-sectional conceptual view in a conventional theory showing a behavior of a paste reaching an end of a pattern hole.

【図46】パターン孔に充填される瞬間の従来説でのメ
カニズム説明断面概念図である。
FIG. 46 is a conceptual cross-sectional view illustrating a mechanism in a conventional theory at the moment when a pattern hole is filled.

【図47】充填完了時の従来説での断面概念図である。FIG. 47 is a cross-sectional conceptual view according to the conventional theory when filling is completed.

【図48】マスク版面上のペーストの挙動を示す観察に
基づいた断面概念図である。
FIG. 48 is a conceptual sectional view based on observation showing behavior of a paste on a mask plate surface.

【図49】パターン孔に充填されるペ ーストの挙動を
示す断面概念図である。
FIG. 49 is a conceptual sectional view showing the behavior of a paste filled in a pattern hole.

【図50】パターン孔に充填されるペーストの挙動を示
す断面概念図である。
FIG. 50 is a conceptual sectional view showing the behavior of the paste filled in the pattern holes.

【図51】パターン孔へのペースト充填が完了した時の
断面概念図である。
FIG. 51 is a conceptual cross-sectional view when filling of a pattern hole with a paste is completed.

【図52】スキージの移動方向とペースト内粒子の分布
密度の関係を示す概念図である。
FIG. 52 is a conceptual diagram showing a relationship between a moving direction of a squeegee and a distribution density of particles in a paste.

【図53】パターン孔の側壁に溝を持つ印刷マスクの概
念図である。
FIG. 53 is a conceptual diagram of a print mask having a groove on a side wall of a pattern hole.

【図54】パターン孔の側壁に溝を持つ印刷マスク内で
の粒子と流動体溜りを示す概念図である。
FIG. 54 is a conceptual view showing particles and a fluid pool in a print mask having a groove on a side wall of a pattern hole.

【図55】溝及びその辺縁部分の形状を示す横断面図。FIG. 55 is a cross-sectional view showing the shape of a groove and its peripheral portion.

【図56】本発明にかかる溝付きエキシマレーザマスク
の製造装置である。
FIG. 56 is an apparatus for manufacturing a grooved excimer laser mask according to the present invention.

【図57】アディティブ製法における露光工程の概念図
である。
FIG. 57 is a conceptual diagram of an exposure step in the additive manufacturing method.

【図58】アディティブ製法における現像工程の概念図
である。
FIG. 58 is a conceptual diagram of a developing step in the additive manufacturing method.

【図59】アディティブ製法におけるめっき工程の概念
図である。
FIG. 59 is a conceptual diagram of a plating step in an additive manufacturing method.

【図60】遮光用アパーチャにより整形されたレーザ光
がマスク用素材に照射される際の様子を示す図である。
FIG. 60 is a diagram showing a state in which a laser beam shaped by a light blocking aperture is irradiated on a mask material.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

25 遮光板(アパーチャ) 27 プラスチック板 50 ペースト 50a 粒子密度の粗の部分 50b 粒子密度の密の部分 51 スキージ 53 溝 54 球形固体粒子 55 流動体溜り 56 エキシマレーザ発生装置(レーザ源) 69 整形部 70 パターン孔 71 迎え側壁 Reference Signs List 25 light-shielding plate (aperture) 27 plastic plate 50 paste 50a coarse part of particle density 50b dense part of particle density 51 squeegee 53 groove 54 spherical solid particle 55 fluid reservoir 56 excimer laser generator (laser source) 69 shaping unit 70 Pattern hole 71 Welcome side wall

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 印刷用のパターン孔を備えた印刷マスク
であって,被印刷物表面上に載置された当該マスク上を
スキージで摺擦し,粘性流動体に球状粒子を含有してな
る粘性体を塗り広め,これにより前記パターン孔に当該
粘性体を充填し,その後当該印刷マスクを版離れさせる
ことにより,前記粘性体を被印刷物表面に前記パターン
孔に対応したパターン形状で転写する際に用いられる粒
子入ペースト用印刷マスクにおいて,前記印刷マスクに
設けられたパターン孔の側壁に,前記球状粒子の径より
わずかに小さい巾の溝が所定間隔で設けられ,かつ,当
該溝が印刷マスクの厚み方向に延設されてなることを特
徴とする粒子入ペースト用印刷マスク。
1. A printing mask provided with a pattern hole for printing, wherein the mask placed on the surface of a printing substrate is rubbed with a squeegee to form a viscous fluid containing spherical particles. When the viscous body is spread on the surface of the printing material in a pattern shape corresponding to the pattern holes by spreading the body, thereby filling the pattern holes with the viscous body, and then separating the printing mask from the plate. In the printing mask for the paste containing particles to be used, grooves having a width slightly smaller than the diameter of the spherical particles are provided at predetermined intervals on the side walls of the pattern holes provided in the printing mask, and the grooves are formed in the printing mask. A print mask for paste containing particles, wherein the print mask is extended in a thickness direction.
【請求項2】 前記溝の横断面形状が,三角形状,矩形
波形状,正弦波形状,半円形状,楕円形状の内のいずれ
かであることを特徴とする請求項1記載の粒子入ペース
ト用印刷マスク。
2. The particle-containing paste according to claim 1, wherein the cross-sectional shape of the groove is any one of a triangular shape, a rectangular wave shape, a sine wave shape, a semicircular shape, and an elliptical shape. Printing mask.
【請求項3】 エキシマレーザ光を出射するレーザ源
と,側壁が前記溝の横断面形状に形成されて前記エキシ
マレーザ光を所定形状に整形する整形孔を具備したアパ
ーチャ,又は反射面の周囲が前記溝の横断面形状に形成
された整形反射面を具備して,前記エキシマレーザ光を
所定形状に整形して反射する整形反射面を有して,整形
されたエキシマレーザ光をマスク材に照射することによ
り請求項1又は2記載の印刷用のパターン孔を形成する
粒子入ペースト用印刷マスクの製造装置。
3. A laser source for emitting an excimer laser beam, an aperture having a side wall formed in a cross-sectional shape of the groove and a shaping hole for shaping the excimer laser beam into a predetermined shape, or a reflection surface. A shaping / reflecting surface formed in a cross-sectional shape of the groove; a shaping / reflecting surface for shaping and reflecting the excimer laser light into a predetermined shape; and applying the shaped excimer laser light to a mask material An apparatus for manufacturing a print mask for particle-containing paste, wherein the print mask for forming a pattern hole for printing according to claim 1 or 2 is formed.
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