JPH10135591A - Heat conductive substrate and wiring substrate - Google Patents

Heat conductive substrate and wiring substrate

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JPH10135591A
JPH10135591A JP8287113A JP28711396A JPH10135591A JP H10135591 A JPH10135591 A JP H10135591A JP 8287113 A JP8287113 A JP 8287113A JP 28711396 A JP28711396 A JP 28711396A JP H10135591 A JPH10135591 A JP H10135591A
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JP
Japan
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powder
heat conductive
substrate
wiring board
conductive substrate
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Application number
JP8287113A
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Japanese (ja)
Inventor
Tosaku Nishiyama
東作 西山
Kazunori Sakamoto
和徳 坂本
Masao Hasegawa
正生 長谷川
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0201Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0373Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat conductive substrate capable of securing the heat conductivity, while sustaining the electric insulation required for mounting an electronic part at low cost. SOLUTION: Mn-Zn ferrite particles (2) making the 87wt.% to the total wt of the particles (2) plus PPS resin pellet (1) are mixed with each other using a kneader. Next, this mixture is fed to a two axle extruder for melting down the PPS resin pellet (1) at the temperature of 200-250 deg.C, while for kneading the ferrite particles (2) into the PPS resin (1) to be linearly extruded from a discharge nozzle for solidifying by cooling down in water. Next, the cooled down solid matter is cut off in pellets using a pelletizer into mixed pellets, so that they may be fed to an in-line screw injection molding machine to be thermally melted down at about 350 deg.C for pressure-injection into a metallic mold at the pressure of about 1000kg/cm<2> to cool down the metallic mold at about 200 deg.C in the pressure-reduced state down to 500kg/cm<2> .

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子機器の分野で使
用される熱伝導性基板及び熱伝導性配線基板に関し、特
に、実装された電子部品から発生した熱を効率よく外部
に放散させることができる熱伝導性基板及び熱伝導性配
線基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat conductive substrate and a heat conductive wiring substrate used in the field of electronic equipment, and more particularly to a method for efficiently dissipating heat generated from mounted electronic components to the outside. The present invention relates to a heat conductive substrate and a heat conductive wiring substrate that can be made.

【0002】[0002]

【従来の技術】産業用、民生用を問わず最近の電子機器
は小型化、薄型化が一段と進展し、そのため電子機器を
構成する各種の部品の小型化や実装技術の革新が急速に
進行している。例えば、小型化、薄型化された電子部品
の実装母体となるプリント配線基板においても高密度実
装を可能にするための様々な技術開発がなされている。
かかる技術開発の例として、実装配線パターンの微細
化、高多層配線化、及び多層配線基板間の配線パターン
を接続するビアホールの小径化などである。特に最近の
電子機器(大規模LSI等)における高集積度化(高密
度化)の進行はめざましいものがあり、表面実装の高密
度化のための技術開発により拍車がかかっている。かか
る背景から、本件出願人は、表面実装の高密度化に適し
た全層がIVH(インナービアホール)構造を有する多
層基板を開発した。しかしながら、かかる多層基板にお
いては、実装されたLSI、パワーIC、および電源回
路部品等の電子部品から発生する熱の周辺部品(他の実
装されている電子部品)への影響が大きな問題になって
いる。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices, both industrial and consumer, have been further reduced in size and thickness, and as a result, the various components that make up the electronic devices have been rapidly reduced in size and innovation in mounting technology has been rapidly progressing. ing. For example, various technologies have been developed to enable high-density mounting even on a printed wiring board that is a mounting base for electronic components that have been reduced in size and thickness.
Examples of such technology development include miniaturization of mounting wiring patterns, high multilayer wiring, and reduction in diameter of via holes connecting wiring patterns between multilayer wiring boards. In particular, the progress of high integration (high density) in recent electronic devices (such as large-scale LSIs) has been remarkable, and has been spurred by the development of technology for high density surface mounting. From such a background, the present applicant has developed a multilayer substrate in which all layers suitable for high-density surface mounting have an IVH (inner via hole) structure. However, in such a multilayer substrate, the influence of heat generated from electronic components such as mounted LSIs, power ICs, and power supply circuit components on peripheral components (other mounted electronic components) becomes a serious problem. I have.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】電子部品が発生する熱
を放散させる方策としては、電子部品側ではアルミニウ
ム製の放熱フィンを取り付け、その広い表面積を利用し
て熱を放散させたり、放熱ファンを取り付けてこれによ
って強制的に冷却する方法が一般的である。一方、電子
部品を搭載する配線基板側では、本来絶縁材料であるフ
ェノール樹脂やエポキシ樹脂等を基材としているため
に、基板の熱伝導率は極めて低く、電子部品が発生する
熱を充分に放散させることが困難である。そこで、熱伝
導性に優れたアルミニウム等の金属基板の表面に電気絶
縁性の塗膜を形成して得られた熱伝導性基板の上面に配
線パターンを形成したプリント配線基板(以下、熱伝導
性配線基板とも称する。)を用い、この熱伝導性配線基
板にパワーICや電源回路部品等を搭載してこれらから
の発生熱を基板を介して外部に放散させるという策がと
られている。しかしながら、前記の熱伝導性基板は、金
属基板の表面に絶縁膜または絶縁層を形成する必要があ
り、当然高コストになることを免れない。一方、アルミ
ナや酸化ベリリウムを含有するセラミック基板またはフ
ェライトの板状成形体をそのまま熱伝導性基板として用
いる例についても報告または製品が発表されているが、
コスト的な問題は解決されていない。
As a measure for dissipating the heat generated by the electronic component, a heat radiating fin made of aluminum is mounted on the electronic component side, and the heat is dissipated by utilizing the large surface area, or the heat dissipating fan is mounted. It is common to install and thereby forcibly cool. On the other hand, on the wiring board side on which electronic components are mounted, since the base material is phenol resin or epoxy resin, which is originally an insulating material, the thermal conductivity of the board is extremely low, and the heat generated by the electronic components is sufficiently dissipated. It is difficult to let. Therefore, a printed wiring board (hereinafter, referred to as a heat conductive board) having a wiring pattern formed on an upper surface of a heat conductive board obtained by forming an electrically insulating coating film on the surface of a metal substrate such as aluminum having excellent heat conductivity. In addition, a measure is taken in which a power IC, a power supply circuit component, and the like are mounted on the thermally conductive wiring board, and heat generated from these components is dissipated to the outside via the board. However, the above-mentioned heat conductive substrate requires an insulating film or an insulating layer to be formed on the surface of the metal substrate, which naturally inevitably increases the cost. On the other hand, reports or products have been reported on examples of using a ceramic substrate or a ferrite plate-like molded body containing alumina or beryllium oxide as a thermally conductive substrate as it is,
The cost problem has not been solved.

【0004】本発明は前記のような課題を解決するため
になされたものであり、電子部品を搭載するに必要な電
気絶縁性を保持しながら熱伝導性を確保することがで
き、しかも、安価に製造することができる熱伝導性基板
及び熱伝導性配線基板を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and can secure thermal conductivity while maintaining electrical insulation required for mounting electronic components. It is an object of the present invention to provide a heat conductive substrate and a heat conductive wiring board which can be manufactured in a low temperature.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の熱伝導性基板は、合成樹脂基体中にフェラ
イト粉体を混入してなる基板とした。このような本発明
の熱伝導性基板では、基体を構成する合成樹脂によって
実装基板として必要な電気絶縁性が確保されるととも
に、合成樹脂基体中に分散しているフェライト粉体によ
って優れた熱伝導効率と電磁波を遮蔽する効果が得られ
る。従って、電子部品を実装した場合、電子部品から発
生した熱が基板を介して外部に効率よく放散される。ま
た、電子部品から発生した電磁波が基板によって遮蔽さ
れるので、基板の一方の主面に実装された電子部品から
発生した電磁波が他方の主面に実装された電子部品の動
作に悪影響を与えるのを防止することができる。また、
熱伝導性材料としてのフェライト粉体の使用量が従来の
この種の基板における熱伝導性材料の使用量に比べて少
なくて済み、また、簡単な工程で製造できるので、従来
のこの種の基板に比して製品コストを低減することがで
きる。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the heat conductive substrate of the present invention is a substrate obtained by mixing ferrite powder in a synthetic resin substrate. In such a heat conductive substrate of the present invention, the synthetic resin constituting the base ensures the necessary electrical insulation as a mounting substrate, and the ferrite powder dispersed in the synthetic resin base provides excellent heat conduction. The efficiency and the effect of shielding electromagnetic waves can be obtained. Therefore, when an electronic component is mounted, heat generated from the electronic component is efficiently radiated to the outside via the substrate. Also, since the electromagnetic waves generated from the electronic components are shielded by the substrate, the electromagnetic waves generated from the electronic components mounted on one main surface of the substrate adversely affect the operation of the electronic components mounted on the other main surface. Can be prevented. Also,
The amount of ferrite powder used as a heat conductive material is smaller than the amount of heat conductive material used in a conventional substrate of this type, and it can be manufactured in a simple process. As a result, the product cost can be reduced.

【0006】前記本発明の熱伝導性基板においては、基
板全体当りのフェライト粉体の含有量が70〜98wt
%であるのが好ましく、このような構成により、基板と
しての形態を損なうことなく、しかも、実装基板として
必要な基板抵抗(一般に表面抵抗が1×1010Ω/cm
2 以上)を維持しながら、極めて優れた熱伝導性を得る
ことができる。
In the heat conductive substrate of the present invention, the content of the ferrite powder per substrate is 70 to 98 wt.
%, And the substrate resistance required for the mounting substrate (generally, the surface resistance is 1 × 10 10 Ω / cm) without impairing the form of the substrate.
2 or more), and extremely excellent thermal conductivity can be obtained.

【0007】また前記本発明の熱伝導性基板において
は、フェライト粉体とともにアルミナ粉体、マグネシア
粉体、窒化アルミニウム粉体、炭化ケイ素粉体、酸化ベ
リリウム粉体及びシリカガラス粉体から選ばれる少なく
とも一つの粉体が混入されているのが好ましく、このよ
うな構成により、基板の機械的強度が向上するととも
に、製造時における基板の成形性が向上する。
Further, in the heat conductive substrate of the present invention, at least one selected from the group consisting of alumina powder, magnesia powder, aluminum nitride powder, silicon carbide powder, beryllium oxide powder and silica glass powder together with ferrite powder. It is preferable that one powder is mixed. With such a configuration, the mechanical strength of the substrate is improved and the moldability of the substrate during manufacturing is improved.

【0008】また前記好ましい構成の本発明の熱伝導性
基板においては、基板全体当りのフェライト粉体とアル
ミナ粉体、マグネシア粉体、窒化アルミニウム粉体、炭
化ケイ素粉体、酸化ベリリウム粉体及びシリカガラス粉
体から選ばれる少なくとも一つの粉体とのトータルの含
有量が70〜98wt%であるのがより好ましく、この
ような構成により、基板としての形態を損なうことな
く、しかも、実装基板として必要な基板抵抗(一般に表
面抵抗が1×1010Ω/cm2 以上)を維持しながら、
極めて優れた熱伝導性を得ることができる。
Further, in the heat conductive substrate of the present invention having the above preferred configuration, the ferrite powder, alumina powder, magnesia powder, aluminum nitride powder, silicon carbide powder, beryllium oxide powder and silica It is more preferable that the total content with at least one powder selected from glass powder is 70 to 98 wt%. With such a configuration, the form as a substrate is not impaired, and the While maintaining high substrate resistance (generally, surface resistance is 1 × 10 10 Ω / cm 2 or more)
Extremely good thermal conductivity can be obtained.

【0009】また前記より好ましい構成の本発明の熱伝
導性基板においては、フェライト粉体と、アルミナ粉
体、マグネシア粉体、窒化アルミニウム粉体、炭化ケイ
素粉体、酸化ベリリウム粉体及びシリカガラス粉体から
選ばれる少なくとも一つの粉体との配合比(フェライト
粉体:アルミナ粉体、マグネシア粉体、窒化アルミニウ
ム粉体、炭化ケイ素粉体、及び酸化ベリリウム粉体から
選ばれる少なくとも一つの粉体)が重量比で2:1〜2
0:1であるのが更に好ましく、このような構成によ
り、電磁波遮蔽効果を損なうことなく、極めて優れた熱
伝導性及び機械的強度が得られる。
Further, in the heat conductive substrate of the present invention having a more preferable configuration, a ferrite powder, an alumina powder, a magnesia powder, an aluminum nitride powder, a silicon carbide powder, a beryllium oxide powder and a silica glass powder are provided. Compounding ratio with at least one powder selected from powder (ferrite powder: at least one powder selected from alumina powder, magnesia powder, aluminum nitride powder, silicon carbide powder, and beryllium oxide powder) Is 2: 1 to 2 by weight
The ratio is more preferably 0: 1. With such a configuration, extremely excellent thermal conductivity and mechanical strength can be obtained without impairing the electromagnetic wave shielding effect.

【0010】また前記本発明の熱伝導性基板において
は、合成樹脂が熱可塑性樹脂であるのが好ましく、この
ような構成により、射出成形法により簡単に信頼性の高
い製品を製造することができる。また、射出成形の金型
内に銅箔パターン等の配線パターンを配置してインサー
ト成形することにより後述の熱伝導性配線基板を簡単に
製造することができる。
In the heat conductive substrate of the present invention, the synthetic resin is preferably a thermoplastic resin. With such a structure, a highly reliable product can be easily manufactured by an injection molding method. . Further, by arranging a wiring pattern such as a copper foil pattern in an injection molding die and performing insert molding, a heat conductive wiring board described later can be easily manufactured.

【0011】また前記本発明の熱伝導性基板において
は、合成樹脂が弾性体樹脂であるのが好ましく、このよ
うな構成により、折り曲げ可能なフレキシブル基板にす
ることができる。
Further, in the heat conductive substrate of the present invention, the synthetic resin is preferably an elastic resin, and with such a structure, a bendable flexible substrate can be obtained.

【0012】また前記本発明の熱伝導性基板において
は、合成樹脂が熱硬化性樹脂であるのが好ましく、この
ような構成により、圧縮成形法またはトランスファ成形
法により簡単に信頼性の高い製品を製造することができ
る。また、トランスファーモールディング成形法を用い
て銅箔パターン等の配線パターンをインサート成形する
ことにより後述の熱伝導性配線基板を簡単に製造するこ
とができる。
In the heat conductive substrate of the present invention, the synthetic resin is preferably a thermosetting resin. With such a structure, a highly reliable product can be easily obtained by a compression molding method or a transfer molding method. Can be manufactured. Also, a heat conductive wiring board described later can be easily manufactured by insert-molding a wiring pattern such as a copper foil pattern using a transfer molding method.

【0013】また前記本発明の熱伝導性基板において
は、合成樹脂基体が、無機繊維もしくは有機繊維の布か
らなる芯材に熱硬化性樹脂を含浸して硬化せしめてなる
基体であるのが好ましく、このような構成により、基板
の機械的強度を向上させることができる。
In the heat conductive substrate of the present invention, the synthetic resin substrate is preferably a substrate obtained by impregnating a thermosetting resin into a core material made of an inorganic fiber or organic fiber cloth and curing the core material. With such a configuration, the mechanical strength of the substrate can be improved.

【0014】また、本発明の他の熱伝導性基板は、多層
構造の熱伝導性基板であって、少なくともその一層が前
記本発明の熱伝導性基板からなることを特徴とする。こ
のような本発明の他の熱伝導性基板では、前記本発明の
熱伝導性基板以外の基板として、例えば合成樹脂基板
や、無機質繊維または有機質繊維の布からなる芯材に熱
硬化性樹脂を含浸して硬化せしめてなる基板等の熱伝導
性材料を含有しない樹脂製基板を用いることにより、多
層構造の熱伝導性基板全体の機械的強度を高く保持でき
る。従って、熱伝導性基板単体の薄厚化を図ることがで
き、フェライト粉体や、アルミナ粉体、マグネシア粉
体、窒化アルミニウム粉体、炭化ケイ素粉体、酸化ベリ
リウム粉体及びシリカガラス粉体から選ばれる少なくと
も一つの粉体の使用量を低減することができる。
Another heat conductive substrate according to the present invention is a heat conductive substrate having a multilayer structure, wherein at least one of the heat conductive substrates comprises the heat conductive substrate according to the present invention. In such another heat conductive substrate of the present invention, as a substrate other than the heat conductive substrate of the present invention, for example, a synthetic resin substrate, a thermosetting resin to a core material made of inorganic fiber or organic fiber cloth. By using a resin substrate that does not contain a heat conductive material such as a substrate that is impregnated and cured, the mechanical strength of the entire heat conductive substrate having a multilayer structure can be kept high. Therefore, it is possible to reduce the thickness of the heat conductive substrate alone, and it is selected from ferrite powder, alumina powder, magnesia powder, aluminum nitride powder, silicon carbide powder, beryllium oxide powder and silica glass powder. The amount of at least one powder used can be reduced.

【0015】また、本発明の熱伝導性配線基板は、前記
本発明の単層構造の熱伝導性基板または多層構造の熱伝
導性基板の少なくとも一方の主面に配線パターンを形成
したものである。このような本発明の熱伝導性配線基板
では電子部品を基板の主面に高密度に実装することがで
きる。また、かかる熱伝導性配線基板が弾性体樹脂から
なる合成樹脂基体を用いたフレキシブルな熱伝導性基板
を用いてなるものである場合、これによって複数の熱伝
導性配線基板間を電気的に接続することにより放熱面積
が拡大化した実装基板を作成できる。
Further, the heat conductive wiring board of the present invention has a wiring pattern formed on at least one main surface of the heat conductive substrate having a single-layer structure or the heat conductive substrate having a multilayer structure of the present invention. . In such a heat conductive wiring board of the present invention, electronic components can be mounted on the main surface of the board at high density. Further, when the heat conductive wiring board is formed by using a flexible heat conductive board using a synthetic resin base made of an elastic resin, the plurality of heat conductive wiring boards are electrically connected by this. By doing so, it is possible to create a mounting board having an enlarged heat radiation area.

【0016】前記本発明の熱伝導性配線基板において
は、熱伝導性基板の表裏両主面に配線パターンが形成さ
れ、前記表裏両面の配線パターンがスルーホールを介し
て接続されているのが好ましく、このような構成によ
り、電子部品を基板の表裏両主面の配線パターンに高密
度に実装することができる。また、表裏両主面の配線パ
ターンがスルーホールで接続されているので、基板の表
裏両主面に実装された電子部品の熱が基板の表裏両主面
から効率よく放散される。
In the heat conductive wiring board of the present invention, it is preferable that a wiring pattern is formed on both main surfaces of the front and back surfaces of the heat conductive substrate, and the wiring patterns on both front and back surfaces are connected via through holes. With such a configuration, the electronic components can be mounted on the wiring patterns on both the front and back main surfaces of the board at a high density. Further, since the wiring patterns on the front and back main surfaces are connected by through holes, heat of the electronic components mounted on the front and back main surfaces of the board is efficiently dissipated from the front and back main surfaces of the board.

【0017】また、本発明の他の熱伝導性配線基板は、
多層構造の熱伝導性配線基板であって、少なくとも、前
記本発明の単層構造の熱伝導性基板または多層構造の熱
伝導性基板の表裏両主面に配線パターンを形成し、前記
表裏両主面の配線パターンをスルーホールを介して接続
してなる熱伝導性配線基板と、その表裏両主面に形成さ
れた配線パターンをスルーホールを介して接続してなる
配線基板とを含むことを特徴とする。このような本発明
の他の熱伝導性配線基板では、前記配線基板として、例
えば、合成樹脂基板の表裏両主面に配線パターンを形成
し、前記表裏両主面の配線パターンをスルーホールを介
して接続してなる配線基板や、無機質繊維もしくは有機
質繊維の布からなる芯材に熱硬化性樹脂を含浸して硬化
せしめてなる基板の表裏両主面に配線パターンを形成
し、前記表裏両主面の配線パターンをスルーホールを介
して接続してなる配線基板等を用いて、これらの配線基
板と前記熱伝導性配線基板の重ねる数、重ねる順序等を
変えることにより、熱放散性、電磁波遮蔽性、及び基板
強度等の配線基板の諸特性を調整することができる。
Further, another heat conductive wiring board of the present invention comprises:
A heat conductive wiring board having a multilayer structure, wherein at least a wiring pattern is formed on both front and back main surfaces of the heat conductive substrate having a single layer structure or the heat conductive substrate having a multilayer structure according to the present invention; It is characterized by including a heat conductive wiring board formed by connecting the wiring patterns on the surface through through holes, and a wiring board formed by connecting the wiring patterns formed on both front and back main surfaces through the through holes. And In such another heat conductive wiring board of the present invention, as the wiring board, for example, a wiring pattern is formed on both front and back main surfaces of a synthetic resin substrate, and the wiring pattern on both front and back main surfaces is inserted through a through hole. A wiring pattern is formed on both front and back main surfaces of a wiring board formed by connecting and connecting a thermosetting resin to a core material made of an inorganic fiber or an organic fiber cloth and curing the resin. By using a wiring board or the like formed by connecting the wiring patterns on the surface through through holes, by changing the number of layers and the order of stacking these wiring boards and the heat conductive wiring board, heat dissipation, electromagnetic wave shielding It is possible to adjust various characteristics of the wiring board, such as performance and board strength.

【0018】前記本発明の熱伝導性配線基板において
は、配線パターンと熱伝導性基板との間に電気絶縁膜が
形成されているのが好ましく、このような構成により、
優れた熱伝導性を有し、かつ、高い表面電気抵抗を備え
た熱伝導性配線基板を得ることができる。
In the heat conductive wiring board of the present invention, it is preferable that an electric insulating film is formed between the wiring pattern and the heat conductive substrate.
A thermally conductive wiring board having excellent thermal conductivity and high surface electrical resistance can be obtained.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。 (第1の実施形態)図1は本発明の第1の実施形態によ
る熱伝導性基板の断面図である。図において、3は熱伝
導性基板で、これは合成樹脂基体1中にフェライト粉体
2が混入されて構成されている。
Embodiments of the present invention will be described below. (First Embodiment) FIG. 1 is a sectional view of a heat conductive substrate according to a first embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 3 denotes a heat conductive substrate, which is constituted by mixing a ferrite powder 2 into a synthetic resin substrate 1.

【0020】本実施形態の熱伝導性基板3の合成樹脂基
体1を構成する合成樹脂としては、例えば、ポリブチレ
ンテレフタレート(PBT)、ポリフェニレンサルファ
イド(PPS)、ポリテトラフルオロエチレン(PTF
E)、液晶ポリマー(LCP)、及びポリフェニレンオ
キサイド(PPO)等の熱可塑性樹脂や、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、及びジアリルフタレート樹
脂等の熱硬化性樹脂が使用される。熱可塑性樹脂または
熱硬化性樹脂のいずれを使用する場合においても、前記
例示の樹脂の1種または2種以上を使用することができ
る。
Examples of the synthetic resin constituting the synthetic resin base 1 of the heat conductive substrate 3 of the present embodiment include polybutylene terephthalate (PBT), polyphenylene sulfide (PPS), and polytetrafluoroethylene (PTF).
E), thermoplastic resins such as liquid crystal polymer (LCP) and polyphenylene oxide (PPO), and thermosetting resins such as phenolic resin, epoxy resin, polyimide resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, and diallyl phthalate resin. used. Regardless of whether a thermoplastic resin or a thermosetting resin is used, one or more of the above-described resins can be used.

【0021】また、合成樹脂基体1中に混入するフェラ
イト粉体2としては、例えば、Mn−Zn系、Cu−Z
n系、NiーZn系、Cu−Zn−Mg系等の各種フェ
ライトを使用でき、これらから選ばれる1種または2種
以上が使用される。フェライト粉体2の粒径は体積平均
粒径で一般に0.1〜10μm、好ましくは0.5〜3
μmである。フェライト粉体の形状は特に限定されず、
球状、針状等の各種形状のものを使用することができる
が、成形性、熱伝導性の点から球状の粉体を用いるのが
好ましい。フェライト粉体2の合成樹脂基体1中への混
入量(配合量)は一般に基板3全体当り70wt%以上
にするのが好ましい。これは、70wt%未満であると
基板3へ充分な熱伝導性(3.5W/m・℃以上の熱伝
導率を示す熱伝導性)を付与することが困難になるため
である。一方、フェライト粉体2の合成樹脂基体1中へ
の混入量を多くし過ぎると、基板3の電気抵抗(表面電
気抵抗)を実装基板として必要な抵抗値(一般に1×1
10Ω/cm2 以上)に維持することが困難になり、ま
た、基板としての形態を保持することが困難になる。こ
のため、フェライト粉体2の合成樹脂基体1中への混入
量(配合量)の上限は基板3全体当り98wt%以下に
するのが好ましい。なお、合成樹脂基体1を構成する合
成樹脂の種類等によっても異なるが、フェライト粉体2
の混入量(配合量)を基板3全体当り80〜95wt%
の範囲内にした場合に、基板3の熱伝導性が極めて良好
(4.5W/m・℃以上)になり、かつ、基板の電気抵
抗(表面電気抵抗)が極めて高抵抗(1×1011Ω/c
2 以上)になる。なお、本実施形態の熱伝導性基板3
の厚みは特に限定されないが一般に0.1〜3mmであ
る。
The ferrite powder 2 mixed in the synthetic resin substrate 1 is, for example, a Mn-Zn type, Cu-Z
Various ferrites such as n-based, Ni-Zn-based, and Cu-Zn-Mg-based can be used, and one or more selected from these are used. The particle size of the ferrite powder 2 is generally 0.1 to 10 μm, preferably 0.5 to 3 μm in volume average particle size.
μm. The shape of the ferrite powder is not particularly limited,
Although various shapes such as a spherical shape and a needle shape can be used, it is preferable to use a spherical powder from the viewpoint of moldability and heat conductivity. In general, it is preferable that the amount of ferrite powder 2 mixed in the synthetic resin substrate 1 (mixing amount) be 70 wt% or more based on the entire substrate 3. This is because if the content is less than 70 wt%, it becomes difficult to provide the substrate 3 with sufficient thermal conductivity (thermal conductivity indicating a thermal conductivity of 3.5 W / m · ° C. or more). On the other hand, if the amount of the ferrite powder 2 mixed into the synthetic resin base 1 is too large, the electric resistance (surface electric resistance) of the substrate 3 is reduced to a resistance value (generally 1 × 1) required as a mounting substrate.
0 10 Ω / cm 2 or more), and it becomes difficult to maintain the form as a substrate. For this reason, it is preferable that the upper limit of the amount of the ferrite powder 2 to be mixed into the synthetic resin substrate 1 (blending amount) is 98 wt% or less based on the entire substrate 3. The ferrite powder 2 varies depending on the type of the synthetic resin constituting the synthetic resin base 1 and the like.
80-95 wt% of the total amount of the substrate 3
, The thermal conductivity of the substrate 3 becomes extremely good (4.5 W / m · ° C. or more) and the electric resistance (surface electric resistance) of the substrate 3 is extremely high (1 × 10 11). Ω / c
m 2 or more). The heat conductive substrate 3 of the present embodiment
Is not particularly limited, but is generally 0.1 to 3 mm.

【0022】本実施形態の熱伝導性基板3の製造方法は
特に限定されないが、その一具体例について簡単に説明
する。最初に合成樹脂基体1が熱可塑性樹脂(PPS樹
脂)で構成された熱伝導性基板3の製法について説明す
る。まず、Mn−Znフェライト粉体をPPS樹脂のペ
レットにこれら両者のトータル重量に対するMn−Zn
フェライト粉体の重量比が87wt%となるように加
え、混練機により充分混合する。この混合工程において
フェライト粉体をステアリン酸やリノール酸等の脂肪酸
を用いて表面処理しておくとフェライト粉体のPPS樹
脂ペレット表面での分散性が向上して、成形後に得られ
る熱伝導性基板の機械的特性が向上する。特に、優れた
弾性を付与することができる。次に、前記その表面にフ
ェライト粉末を付着させたPPS樹脂ペレットを2軸押
出機に投入し、200〜250℃の温度に加熱してPP
S樹脂を溶解させるとともにフェライト粉体を充分にP
PS樹脂の中に練り込み、2軸押出機の先端の吐出ノズ
ルから線状に押し出して水中で冷却固化させる。次に、
この冷却固化物をペレタイザーによってペレット状に切
断し、これを混合ペレットとする。次に、この混合ペレ
ットをインラインスクリュー射出成形機に投入し、約3
50℃で加熱溶解して金型中に約1000kg/cm2
の圧力で射出し、続いてその圧力を500kg/cm2
まで一旦減圧した状態で約200℃まで金型を冷却す
る。この後、金型から完成した熱伝導性基板を取り出
す。なお、射出成形の際に金型内に例えば銅箔からなる
配線パターン(インサート)を配置して、インサート成
形を行うと、表面に配線パターンが形成された熱伝導性
配線基板を得ることができる。
Although the method of manufacturing the heat conductive substrate 3 of the present embodiment is not particularly limited, one specific example thereof will be briefly described. First, a method of manufacturing the heat conductive substrate 3 in which the synthetic resin base 1 is made of a thermoplastic resin (PPS resin) will be described. First, the Mn-Zn ferrite powder was added to a PPS resin pellet by adding Mn-Zn to the total weight of both.
The ferrite powder is added so as to have a weight ratio of 87% by weight, and sufficiently mixed by a kneader. If the ferrite powder is surface-treated with a fatty acid such as stearic acid or linoleic acid in this mixing step, the dispersibility of the ferrite powder on the surface of the PPS resin pellet is improved, and the heat conductive substrate obtained after molding is obtained. The mechanical properties of are improved. In particular, excellent elasticity can be provided. Next, the PPS resin pellets having the ferrite powder adhered to the surface thereof are charged into a twin-screw extruder, and heated to a temperature of 200 to 250 ° C.
Dissolve S-resin and ferrite powder sufficiently
The mixture is kneaded into a PS resin, extruded linearly from a discharge nozzle at the tip of a twin-screw extruder, and cooled and solidified in water. next,
This cooled solidified product is cut into pellets by a pelletizer, and this is used as mixed pellets. Next, the mixed pellets were charged into an in-line screw injection molding machine,
Heated and melted at 50 ° C and put in a mold to about 1000 kg / cm 2
Injection at a pressure of 500 kg / cm 2
The mold is cooled to about 200 ° C. while the pressure is once reduced. Thereafter, the completed heat conductive substrate is taken out of the mold. In addition, when a wiring pattern (insert) made of, for example, a copper foil is arranged in a mold at the time of injection molding and insert molding is performed, a heat conductive wiring substrate having a wiring pattern formed on a surface can be obtained. .

【0023】次に、合成樹脂基体1が熱硬化性樹脂(加
熱硬化性エポキシ樹脂)からなる熱伝導性基板3の製法
について説明する。まず、エポキシ樹脂主材とポリアミ
ド硬化剤を混合した後、この混合物にCu−Znフェラ
イトの粉体をこれら両者のトータルの重量に対するCu
−Znフェライト粉体の重量比が95wt%となるよう
に加えて、均質になるまで3本ロール機によって混練す
る。次にこの混練物を予備硬化させてタブレットとし、
このタブレットを所定の形状を有する成形金型内に移
し、加熱加圧した状態で圧縮成形することにより完全硬
化させて熱伝導性基板とする。なお、圧縮成形法に代え
てトランスファー成形法を用いてもよく、特に、トラン
スファーモールディング成形法を用いることにより、金
型内に配置した配線パターン(インサート)に損傷を与
えることなくインサート成形を行うことがき、表面に配
線パターンが形成された熱伝導性配線基板を高い歩留ま
りで製造することができる。
Next, a method for manufacturing the heat conductive substrate 3 in which the synthetic resin substrate 1 is made of a thermosetting resin (heat curable epoxy resin) will be described. First, after mixing an epoxy resin main material and a polyamide curing agent, a Cu-Zn ferrite powder is added to this mixture with Cu based on the total weight of both.
-Add the Zn ferrite powder so that the weight ratio is 95 wt%, and knead the mixture with a three-roll mill until the mixture becomes homogeneous. Next, this kneaded material is pre-cured to make a tablet,
The tablet is transferred into a molding die having a predetermined shape, and is compression-molded in a state where the tablet is heated and pressurized to be completely cured to obtain a heat conductive substrate. The transfer molding method may be used instead of the compression molding method. In particular, by using the transfer molding method, it is possible to perform the insert molding without damaging the wiring pattern (insert) arranged in the mold. It is possible to manufacture a heat conductive wiring substrate having a wiring pattern formed on a surface thereof at a high yield.

【0024】以上のような熱可塑性樹脂または熱硬化性
樹脂からなる合成樹脂基体1を用いて形成された熱伝導
性基板3は硬質基板になるが、合成樹脂基体1をポリブ
タジエン、エチレンプロピレンゴム等のエラストマー
(常温付近でゴム状弾性を有する樹脂)からなるものと
することにより、熱伝導性基板3を折り曲げ可能なフレ
キシブルな基板にすることができる。
The heat conductive substrate 3 formed by using the synthetic resin substrate 1 made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin as described above is a hard substrate, but the synthetic resin substrate 1 is made of polybutadiene, ethylene propylene rubber or the like. By using the above-mentioned elastomer (a resin having rubber-like elasticity at around normal temperature), the thermally conductive substrate 3 can be a flexible substrate that can be bent.

【0025】このような本実施形態の熱伝導性基板3で
は、合成樹脂基体1によって実装基板として必要な電気
絶縁性が得られるとともに、基体1中に分散しているフ
ェライト粉体2によって優れた熱伝導効率と電磁波遮蔽
効果が得られる。従って、これに電子部品を実装した場
合、電子部品から発生した熱が基板3を介して外部に効
率よく放散される。また、電子部品から発生した電磁波
が基板3によって遮蔽されるので、一方の主面(表面)
に実装されている電子部品から発生する電磁波によっ
て、他方の主面(裏面)に実装されている電子部品が悪
影響を受けるのを防止できる。また、従来のこの種の基
板に比べて熱伝導性材料(フェライト粉体)の使用量が
少なくて済み、また、製造工程も簡単であることから、
製品コストを大きく低減することができる。
In the heat conductive substrate 3 according to the present embodiment, the synthetic resin substrate 1 provides the electrical insulation required for a mounting substrate, and the ferrite powder 2 dispersed in the substrate 1 provides excellent heat insulation. Heat conduction efficiency and electromagnetic wave shielding effect can be obtained. Therefore, when an electronic component is mounted thereon, heat generated from the electronic component is efficiently radiated to the outside via the substrate 3. In addition, since the electromagnetic wave generated from the electronic component is shielded by the substrate 3, one main surface (front surface)
The electronic component mounted on the other main surface (back surface) can be prevented from being adversely affected by the electromagnetic wave generated from the electronic component mounted on the other main surface. In addition, the amount of heat conductive material (ferrite powder) used is smaller than that of a conventional substrate of this type, and the manufacturing process is simple.
Product costs can be greatly reduced.

【0026】なお、本実施形態による熱伝導性基板3は
それ単体で実装基板として使用することが多いが、例え
ば、その一方の主面に、合成樹脂のみで成形された基板
(合成樹脂基板)や、ガラス繊維、金属繊維、木質繊
維、または合成樹脂繊維の布からなる芯材に熱硬化性樹
脂を含浸して硬化せしめてなる基板(芯材含有熱硬化性
樹脂基板)を貼り合わせたり、2枚の熱伝導性基板3の
間に、前記合成樹脂基板や芯材含有熱硬化性樹脂基板を
挟むことにより、多層構造の実装基板を構成することも
できる。この場合、多層構造の基板全体の強度が合成樹
脂基板または芯材含有熱硬化性樹脂基板よって補強され
るので、熱伝導性基板の薄厚化を図ることができ(例え
ば0.1mm以下)、フェライト粉体の使用量を低減す
ることができる。また、熱伝導性基板3が折り曲げ可能
なフレキシブル基板である場合に、前記合成樹脂基板を
前述のエラストマーからなるものにすると、多層構造基
板をフレキシブル基板にできる。
The thermal conductive substrate 3 according to the present embodiment is often used alone as a mounting substrate. For example, a substrate (synthetic resin substrate) formed of only one synthetic resin on one main surface thereof is used. Or a substrate made of glass fiber, metal fiber, wood fiber, or synthetic resin fiber cloth impregnated with a thermosetting resin and cured (core-containing thermosetting resin substrate), By mounting the synthetic resin substrate or the core-containing thermosetting resin substrate between two heat conductive substrates 3, a mounting substrate having a multilayer structure can be formed. In this case, since the strength of the entire substrate having the multilayer structure is reinforced by the synthetic resin substrate or the core material-containing thermosetting resin substrate, the thickness of the heat conductive substrate can be reduced (for example, 0.1 mm or less), and ferrite can be reduced. The amount of powder used can be reduced. Further, when the heat conductive substrate 3 is a flexible substrate that can be bent, if the synthetic resin substrate is made of the above-mentioned elastomer, the multilayer substrate can be a flexible substrate.

【0027】(第2の実施形態)図2は本発明の第2の
実施形態による熱伝導性基板の断面図である。図におい
て、図1と同一符号は同一または相当する部分を示し、
4は熱伝導性基板で、これは合成樹脂基体1中にフェラ
イト粉体2と、Al23(アルミナ)粉体、MgO(マ
グネシア)粉体、AlN(窒化アルミニウム)粉体、S
iC(炭化ケイ素)粉体、BeO(酸化ベリリウム)粉
体及びシリカガラス粉体から選ばれる少なくとも一つの
粉体(補助熱伝導性粉体)5が混入されて構成されてい
る。
(Second Embodiment) FIG. 2 is a sectional view of a heat conductive substrate according to a second embodiment of the present invention. In the figure, the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts,
Reference numeral 4 denotes a heat conductive substrate, which is a ferrite powder 2, Al 2 O 3 (alumina) powder, MgO (magnesia) powder, AlN (aluminum nitride) powder, S
At least one powder (auxiliary heat conductive powder) 5 selected from iC (silicon carbide) powder, BeO (beryllium oxide) powder and silica glass powder is mixed therein.

【0028】すなわち、本実施形態の熱伝導性基板4
は、前記第1の実施形態の熱伝導性基板3の合成樹脂基
体1中に更に補助熱伝導性粉体5としてAl23粉体、
MgO粉体、AlN粉体、SiC粉体、BeO粉体及び
シリカガラス粉体から選ばれる少なくとも一つの粉体を
混入したものである。製法もフェライト粉体2とともに
補助熱伝導性粉体5を用いる以外は前記第1の実施形態
の熱伝導性基板3のそれと基本的に同じである。このよ
うな本実施形態の熱伝導性基板4は、理由は明らかでは
ないが、合成樹脂基体1中にフェライト粉体2のみを混
入した前記第1の実施形態の熱伝導性基板3に比べて機
械的強度が向上し、また、製造時における合成樹脂と粉
体の混合物を板状に成形する際の成形性が良好になる。
That is, the heat conductive substrate 4 of the present embodiment
Is an Al 2 O 3 powder as an auxiliary heat conductive powder 5 in the synthetic resin substrate 1 of the heat conductive substrate 3 of the first embodiment;
It contains at least one powder selected from MgO powder, AlN powder, SiC powder, BeO powder and silica glass powder. The manufacturing method is basically the same as that of the heat conductive substrate 3 of the first embodiment except that the auxiliary heat conductive powder 5 is used together with the ferrite powder 2. Although the reason is not clear, the heat conductive substrate 4 of the present embodiment is compared with the heat conductive substrate 3 of the first embodiment in which only the ferrite powder 2 is mixed in the synthetic resin base 1. The mechanical strength is improved, and the moldability when molding the mixture of the synthetic resin and the powder into a plate at the time of production is improved.

【0029】本実施形態の熱伝導性基板4において、補
助熱伝導性粉体5の粒径は体積平均粒径で一般に0.1
〜10μm、好ましくは0.5〜3μmである。補助熱
伝導性粉体5の形状は特に限定されないが、成形性、熱
伝導性の点から球状の粉体を用いるのが好ましい。フェ
ライト粉体2及び補助熱伝導性粉体5の合成基体1中へ
の混入量(フェライト粉体2と補助熱伝導性粉体5のト
ータルの配合量)は一般に基板4全体当り70wt%以
上にするのが好ましい。これは、前記第1の実施形態の
熱伝導性基板3において好ましいフェライト粉体2の混
入量を基板3全体当り70wt%以上にするのと同様の
理由による。また、前記第1の実施形態の熱伝導性基板
3と同様の理由により、フェライト粉体2及び補助熱伝
導性粉体5(Al23粉体、MgO粉体、AlN粉体、
SiC粉体、BeO粉体及びシリカガラス粉体から選ば
れる少なくとも一つの粉体)の合成基体1中への混入量
(配合量)の上限は基板4全体当り98wt%以下にす
るのが好ましい。また、本実施形態の熱伝導性基板4に
おいても、フェライト粉体2と補助熱伝導性粉体5の合
成樹脂基体1中への混入量(フェライト粉体2と補助熱
伝導性粉体5のトータルの配合量)が基板3全体当り8
0〜95wt%の範囲内にある時に、基板4の熱伝導性
及び電気抵抗(表面電気抵抗)が極めて良好となる。な
お、フェライト粉体2と補助熱伝導性粉体5の配合比
(フェライト粉体2:補助熱伝導性粉体5)は一般に
2:1〜50:1、好ましくは2:1〜20:1であ
る。これは補助熱伝導性粉体5の配合量が前記配合比を
越えて多くなると、基板4全体における電磁波を遮蔽す
る効果が小さくなり、前記配合比を越えて少なくなる
と、フェライト粉体2のみを用いた場合の基板の機械的
強度や基板成形性と殆ど変わらなくなるためである。本
実施形態の熱伝導性基板4の厚みは特に限定されない
が、一般に0.1〜3.0mmである。また、本実施形
態の熱伝導性基板4についても、これに前述の合成樹脂
基板や芯材含有熱硬化性樹脂基板を積層することによっ
て多層構造基板を構成できることは言うまでもない。
In the heat conductive substrate 4 of the present embodiment, the particle size of the auxiliary heat conductive powder 5 is generally 0.1 by volume average particle size.
10 to 10 μm, preferably 0.5 to 3 μm. The shape of the auxiliary heat conductive powder 5 is not particularly limited, but it is preferable to use a spherical powder from the viewpoint of moldability and heat conductivity. The mixing amount of the ferrite powder 2 and the auxiliary thermal conductive powder 5 into the synthetic substrate 1 (total blending amount of the ferrite powder 2 and the auxiliary thermal conductive powder 5) is generally 70% by weight or more based on the entire substrate 4. Is preferred. This is for the same reason as the preferable amount of the ferrite powder 2 mixed in the heat conductive substrate 3 of the first embodiment is 70 wt% or more based on the entire substrate 3. Further, for the same reason as the heat conductive substrate 3 of the first embodiment, the ferrite powder 2 and the auxiliary heat conductive powder 5 (Al 2 O 3 powder, MgO powder, AlN powder,
It is preferable that the upper limit of the mixing amount (blending amount) of the SiC powder, BeO powder and silica glass powder) into the synthetic substrate 1 is 98 wt% or less based on the entire substrate 4. Also in the heat conductive substrate 4 of the present embodiment, the amount of the ferrite powder 2 and the auxiliary heat conductive powder 5 mixed into the synthetic resin base 1 (the amount of the ferrite powder 2 and the auxiliary heat conductive powder 5 The total amount is 8 per substrate 3
When the content is in the range of 0 to 95 wt%, the thermal conductivity and electric resistance (surface electric resistance) of the substrate 4 become extremely good. The mixing ratio of the ferrite powder 2 and the auxiliary heat conductive powder 5 (ferrite powder 2: auxiliary heat conductive powder 5) is generally 2: 1 to 50: 1, preferably 2: 1 to 20: 1. It is. This is because, when the compounding amount of the auxiliary heat conductive powder 5 increases beyond the mixing ratio, the effect of shielding the electromagnetic wave in the entire substrate 4 decreases, and when the mixing amount decreases beyond the mixing ratio, only the ferrite powder 2 is used. This is because it hardly changes from the mechanical strength and moldability of the substrate when used. Although the thickness of the heat conductive substrate 4 of the present embodiment is not particularly limited, it is generally 0.1 to 3.0 mm. In addition, it is needless to say that the multilayered substrate can also be formed by laminating the above-described synthetic resin substrate or the core-containing thermosetting resin substrate on the thermally conductive substrate 4 of the present embodiment.

【0030】(第3の実施形態)図3(a),図3
(b)は本発明の第3の実施形態による熱伝導性基板の
製造工程を示す工程別断面図であり、図において、図1
と同一符号は同一または相当する部分を示している。以
下、この図に基づいて製造工程を説明する。
(Third Embodiment) FIGS. 3A and 3
FIG. 4B is a sectional view illustrating a step of manufacturing the heat conductive substrate according to the third embodiment of the present invention, in which FIG.
The same reference numerals indicate the same or corresponding parts. Hereinafter, the manufacturing process will be described with reference to FIG.

【0031】まず、2枚のガラス繊維の布からなる芯材
7を用意し、それぞれに、フェライト粉体2を分散させ
たエポキシ樹脂6を含浸させ、乾燥してプリプレグ8
a,8bを形成した後、これらプリプレグ8a,8bを
重ね合わせる。そして、図示しないホットプレス成形機
によりプリプレグ8a,8bを加熱、加圧(図3
(a):図中の符号50は加圧力を示している。)して
圧縮するとともにエポキシ樹脂6を硬化させると、合成
樹脂基体1中にフェライト粉体2が混入され、かつ、2
枚のガラス繊維の布からなる芯材7が挿設されてなる熱
伝導性基板8が得られる(図3(b):プリプレグ8a
の裏面側の樹脂層とプリプレグ8bの表面側の樹脂層が
圧縮成形により一体化されている。)。前記では、芯材
7にガラス繊維の布を使用しているが、ステンレス繊維
やチタン合金繊維などの金属繊維からなる布、木質繊維
からなる布、またはアラミド繊維などの合成樹脂繊維か
らなる布等を使用することもできる。布の形態は特に限
定されないが、強度の点から不織布であるのが好まし
い。また、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂1を使用し
ているが、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂等の他の熱
硬化性樹脂を使用することもできる。また、前記第2の
実施形態と同様にフェライト粉体2とともに前記補助熱
伝導性粉体(Al23粉体、MgO粉体、AlN粉体、
SiC粉体、BeO粉体及びシリカガラス粉体から選ば
れる少なくとも一つの粉体)5を用いることもできる。
また、プリプレグ8a,8b2枚を重ねて加熱、加圧し
て基板を得たが、1枚のプリプレグを加熱、加圧して基
板にしてもよい。
First, a core material 7 made of two glass fiber cloths is prepared, and each is impregnated with an epoxy resin 6 in which a ferrite powder 2 is dispersed, and is dried to prepare a prepreg 8.
After forming a and 8b, these prepregs 8a and 8b are overlapped. Then, the prepregs 8a and 8b are heated and pressed by a hot press molding machine (not shown) (FIG. 3).
(A): Reference numeral 50 in the figure indicates a pressing force. ) To compress and harden the epoxy resin 6, the ferrite powder 2 is mixed into the synthetic resin base 1,
A heat conductive substrate 8 in which a core material 7 made of a piece of glass fiber cloth is inserted is obtained (FIG. 3B: prepreg 8a)
And the resin layer on the front side of the prepreg 8b are integrated by compression molding. ). In the above, a glass fiber cloth is used for the core material 7, but a cloth made of metal fiber such as stainless steel fiber or titanium alloy fiber, a cloth made of wood fiber, a cloth made of synthetic resin fiber such as aramid fiber, or the like. Can also be used. The form of the fabric is not particularly limited, but is preferably a nonwoven fabric from the viewpoint of strength. Although the epoxy resin 1 is used as the thermosetting resin, other thermosetting resins such as a phenol resin and a polyimide resin may be used. Further, similarly to the second embodiment, the auxiliary heat conductive powder (Al 2 O 3 powder, MgO powder, AlN powder,
At least one powder selected from SiC powder, BeO powder and silica glass powder) 5 can also be used.
Although two prepregs 8a and 8b are stacked and heated and pressed to obtain a substrate, one prepreg may be heated and pressed to form a substrate.

【0032】本実施形態の熱伝導性基板8において、フ
ェライト粉体2の基板への混入量(配合量)、または、
フェライト粉体2と補助熱伝導性粉体5のトータルの基
板への混入量(配合量)は、前記第1及び第2の実施形
態の熱伝導性基板3,4と同様に基板全体当り70wt
%以上にするのが好ましい。これは、前記第1及び第2
の実施形態の熱伝導性基板3,4における理由と同様の
理由による。また、その上限も前記第1及び第2の実施
形態の熱伝導性基板3,4と同様に基板全体当り98w
t%以下にするのが好ましい。更に前記第1及び第2の
実施形態の熱伝導性基板3,4と同様に、フェライト粉
体2の基板への混入量(配合量)、または、フェライト
粉体2と補助熱伝導性粉体5のトータルの基板への混入
量(配合量)が、基板全体当り80〜95wt%の範囲
内にある時に、熱伝導性基板8の熱伝導性及び電気抵抗
(表面電気抵抗)が極めて良好になる。
In the heat conductive substrate 8 of the present embodiment, the amount of the ferrite powder 2 mixed into the substrate (blending amount) or
The total amount (mixing amount) of the ferrite powder 2 and the auxiliary heat conductive powder 5 mixed into the substrate is 70 wt% per substrate as in the case of the heat conductive substrates 3 and 4 of the first and second embodiments.
% Is preferable. This corresponds to the first and second
The reason is the same as the reason for the heat conductive substrates 3 and 4 of the embodiment. Also, the upper limit is 98 watts per substrate as in the case of the heat conductive substrates 3 and 4 of the first and second embodiments.
It is preferably set to t% or less. Further, similarly to the heat conductive substrates 3 and 4 of the first and second embodiments, the amount of the ferrite powder 2 mixed into the substrate (blending amount), or the ferrite powder 2 and the auxiliary heat conductive powder When the total amount (mixing amount) of the No. 5 in the substrate is within the range of 80 to 95 wt% based on the entire substrate, the thermal conductivity and the electrical resistance (surface electrical resistance) of the thermally conductive substrate 8 are extremely excellent. Become.

【0033】このような本実施形態の熱伝導性基板8
は、合成樹脂基体1が繊維布からなる芯材7を含んでい
るので、機械的強度が極めて向上した基板となる。ま
た、プリプレグ8a,8bのホットプレス成形工程時に
例えば銅箔のパターンからなる配線パターンをプリプレ
グ8a,8bの表面に配置することにより熱伝導性配線
基板を製造することができる。また、本実施形態の熱伝
導性基板8についても、これに前述の合成樹脂基板や芯
材含有熱硬化性樹脂基板を積層することによって多層構
造基板を構成できることは言うまでもない。
The heat conductive substrate 8 of this embodiment as described above
Since the synthetic resin substrate 1 includes the core material 7 made of fiber cloth, the substrate has extremely improved mechanical strength. In addition, a heat conductive wiring board can be manufactured by arranging a wiring pattern made of, for example, a copper foil pattern on the surface of the prepregs 8a and 8b during the hot press molding step of the prepregs 8a and 8b. In addition, it is needless to say that the multilayered substrate can also be formed by laminating the above-described synthetic resin substrate or the core-containing thermosetting resin substrate on the thermally conductive substrate 8 of the present embodiment.

【0034】(第4の実施形態)図4は本発明の第4の
実施形態による熱伝導性配線基板の断面図である。図に
おいて、図1と同一符号は同一または相当する部分を示
し、11は熱伝導性配線基板で、これは第1の実施形態
の熱伝導性基板3の表裏両主面に例えば銅箔等の導電体
からなる配線パターン10が形成され、この表裏両主面
の配線パターン10が熱伝導性基板3の所要位置に形成
されたスルーホール9によって接続されて構成されてい
る。なお、図では基板の表裏両主面に配線パターン10
を形成しているが、基板の一方の主面にのみ配線パター
ン10を形成した場合は、当然、スルーホール9は不要
になる。また、スルーホール9の形成は配線パターン1
0の形成前でも、配線パターン10の形成後でもよい。
また、スルーホール9の形成は例えばドリルやレーザー
光照射等によって基板に貫通穴を形成した後、貫通穴の
内壁にメッキ処理によって銅の電極を形成する、また
は、貫通穴に銀ペーストや銅ペースト等の導電性ペース
トを印刷充填する方法等が用いられる。
(Fourth Embodiment) FIG. 4 is a sectional view of a heat conductive wiring board according to a fourth embodiment of the present invention. In the figure, the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same or corresponding parts, and 11 denotes a heat conductive wiring board, which is provided on both front and back main surfaces of the heat conductive substrate 3 of the first embodiment, for example, a copper foil or the like. A wiring pattern 10 made of a conductor is formed, and the wiring patterns 10 on both front and back main surfaces are connected by through holes 9 formed at required positions of the heat conductive substrate 3. In the drawing, the wiring pattern 10 is provided on both the front and back main surfaces of the substrate.
However, when the wiring pattern 10 is formed only on one main surface of the substrate, the through hole 9 is naturally unnecessary. Further, the formation of the through hole 9 is based on the wiring pattern 1.
It may be before the formation of 0 or after the formation of the wiring pattern 10.
The through hole 9 is formed by forming a through hole in the substrate by, for example, drilling or irradiating a laser beam, and then forming a copper electrode by plating on the inner wall of the through hole, or forming a silver paste or a copper paste in the through hole. For example, a method of printing and filling a conductive paste such as the above is used.

【0035】このような本実施形態の熱伝導性配線基板
11では、パワーICや電源トランス等の発熱性の電子
部品を配線パターン10上に実装した場合、その熱放散
を効果的に行うことができる。また、配線基板11の表
裏両面に電子部品を実装した場合に、一方の面に実装さ
れた電子部品から発生する電磁波によって他方の面に実
装された電子部品が悪影響を受けることを防止すること
ができる。
In the heat conductive wiring board 11 of this embodiment, when heat-generating electronic components such as a power IC and a power transformer are mounted on the wiring pattern 10, the heat can be effectively dissipated. it can. Further, when electronic components are mounted on both the front and back surfaces of the wiring board 11, it is possible to prevent the electronic components mounted on the other surface from being adversely affected by electromagnetic waves generated from the electronic components mounted on one surface. it can.

【0036】なお、本実施形態の熱伝導性配線基板11
では、熱伝導性基板を第1の実施形態の熱伝導性基板3
にしているが、熱伝導性基板を第2の実施形態の熱伝導
性基板4や第3の実施形態の熱伝導性基板8にすること
も可能である。第3の実施形態の熱伝導性基板8にする
場合、熱伝導性配線基板は以下のようにして製造され
る。まず、第3の実施形態で説明したプリプレグを作成
し、このプリプレグにレーザ光を照射して所望の位置に
貫通穴を形成し、銀ペーストまたは銅ペースト等の導電
性ペーストを印刷充填してスルーホールを形成した後、
プリプレグの表裏両主面に銅箔を配置し、加熱加圧によ
ってプリプレグを圧縮硬化させる。次にフォトリソグラ
フ法により銅箔をパターニングして配線パターンを形成
して、熱伝導性配線基板を完成させる。
The heat conductive wiring board 11 of this embodiment
Then, the heat conductive substrate is replaced with the heat conductive substrate 3 of the first embodiment.
However, the heat conductive substrate may be the heat conductive substrate 4 of the second embodiment or the heat conductive substrate 8 of the third embodiment. When the heat conductive substrate 8 of the third embodiment is used, the heat conductive wiring board is manufactured as follows. First, the prepreg described in the third embodiment is prepared, a laser beam is applied to the prepreg to form a through hole at a desired position, and a conductive paste such as a silver paste or a copper paste is printed and filled to form a through-hole. After forming the hole,
A copper foil is placed on both front and back main surfaces of the prepreg, and the prepreg is compression-hardened by heating and pressing. Next, a copper foil is patterned by photolithography to form a wiring pattern, thereby completing a heat conductive wiring board.

【0037】(第5の実施形態)図5は本発明の第5の
実施形態による熱伝導性多層配線基板の断面図であり、
図において、図4と同一符号は同一または相当する部分
を示し、19は熱伝導性多層配線基板で、これは、前記
第4の実施形態の熱伝導性配線基板11と、フェライト
粉体を含まない両面配線基板16と、中間接続体18と
が積層されて構成されている。両面配線基板16は、ア
ラミド繊維の不織布を芯材として含むエポキシ樹脂基材
12の表裏両主面に配線パターン13,14を形成し、
これら表裏両主面の配線パターン13,14をエポキシ
樹脂基材12の所要位置に形成したスルーホール(ビア
ホール)15によって接続したものである。中間接続体
18はアラミド繊維の不織布を芯材として含むエポキシ
樹脂基材の所定位置にスルーホール(ビアホール)17
を形成したものである。
(Fifth Embodiment) FIG. 5 is a sectional view of a thermally conductive multilayer wiring board according to a fifth embodiment of the present invention.
4, the same reference numerals as those in FIG. 4 denote the same or corresponding parts, and 19 denotes a heat conductive multilayer wiring board, which includes the heat conductive wiring board 11 of the fourth embodiment and a ferrite powder. A double-sided wiring board 16 and an intermediate connector 18 are laminated. The double-sided wiring board 16 forms wiring patterns 13 and 14 on both front and back main surfaces of an epoxy resin base material 12 containing a nonwoven fabric of aramid fiber as a core material,
The wiring patterns 13 and 14 on the front and back main surfaces are connected by through holes (via holes) 15 formed at required positions on the epoxy resin base material 12. The intermediate connector 18 has a through hole (via hole) 17 at a predetermined position of an epoxy resin base material containing a nonwoven fabric of aramid fiber as a core material.
Is formed.

【0038】以下、本実施形態の熱伝導性多層配線基板
の製造方法について簡単に説明する。アラミド繊維の不
織布を芯材を用意し、これにエポキシ樹脂を含浸させ乾
燥してプリプレグを得る。次に、このプリプレグの所要
位置にレーザ光照射により貫通孔を形成し、更にこの貫
通孔に銅ペーストや銀ペースト等の導電性ペーストを充
填してスルーホール(ビアホール)15を形成する。次
に、プリプレグの表裏両主面に銅箔を貼着し、プリプレ
グを加圧、加熱することによってプリプレグを圧縮、硬
化させた後、銅箔をフォトリソグラフ法により所定のパ
ターンにパターニングして配線パターン13,14を形
成すると、配線パターン13と配線パターン14がスル
ーホール(ビアホール)15で電気的に接続された両面
配線基板16が完成する。ここで、スルーホール(ビア
ホール)15の導電性ペーストはプリプレグの圧縮硬化
時にその導電体(パウダー)の密度が上昇する。
Hereinafter, a method of manufacturing the thermally conductive multilayer wiring board of the present embodiment will be briefly described. A core material is prepared from a nonwoven fabric of aramid fiber, impregnated with an epoxy resin, and dried to obtain a prepreg. Next, a through hole is formed at a required position of the prepreg by irradiating a laser beam, and the through hole is filled with a conductive paste such as a copper paste or a silver paste to form a through hole (via hole) 15. Next, a copper foil is adhered to both front and back main surfaces of the prepreg, and the prepreg is compressed and cured by pressing and heating the prepreg, and then the copper foil is patterned into a predetermined pattern by a photolithographic method, and wiring is performed. When the patterns 13 and 14 are formed, a double-sided wiring board 16 in which the wiring patterns 13 and the wiring patterns 14 are electrically connected through through holes (via holes) 15 is completed. Here, the density of the conductive material (powder) of the conductive paste in the through hole (via hole) 15 increases when the prepreg is compression-hardened.

【0039】次に、アラミド繊維の不織布を芯材にエポ
キシ樹脂を含浸させて乾燥させた多孔質プリプレグを用
意し、このプリプレグの所定位置にレーザ光照射により
貫通孔を形成し、更にこの貫通孔に銅ペーストや銀ペー
スト等の導電性ペーストを充填してスルーホール(ビア
ホール)17を形成して中間接続体18を作成する。
Next, a porous prepreg prepared by impregnating an aramid fiber non-woven fabric with a core material of epoxy resin and drying is prepared, a through-hole is formed at a predetermined position of the prepreg by irradiating a laser beam, and the through-hole is formed. Is filled with a conductive paste such as a copper paste or a silver paste to form a through hole (via hole) 17 to form an intermediate connector 18.

【0040】最後に、前記得られた両面配線基板16、
第4の実施形態の熱伝導性配線基板11、及び中間接続
体18を、両面配線基板16と第4の実施形態の熱伝導
性配線基板11の間に中間接続体18が配置されるよう
に重ね合わせ、これらを上下より加熱加圧して中間接続
体18を圧縮することにより、中間接続体18のスルー
ホール(ビアホール)17の導電ペーストを硬化させ
て、熱伝導性配線基板11の裏面(下面)の配線パター
ン10と両面配線基板16の表面(上面)の配線パター
ン13を接続させ、最上層(表面層)に熱伝導性配線基
板11を有する熱伝導性多層配線基板19が得られる。
Finally, the obtained double-sided wiring board 16,
The heat conductive wiring board 11 and the intermediate connector 18 of the fourth embodiment are arranged such that the intermediate connector 18 is arranged between the double-sided wiring board 16 and the heat conductive wiring board 11 of the fourth embodiment. The conductive paste in the through-holes (via holes) 17 of the intermediate connector 18 is hardened by heating and pressurizing these from above and below, thereby compressing the intermediate connector 18, and the back surface (lower surface) of the heat conductive wiring board 11 is hardened. The wiring pattern 10) is connected to the wiring pattern 13 on the front surface (upper surface) of the double-sided wiring substrate 16 to obtain a heat conductive multilayer wiring substrate 19 having the heat conductive wiring substrate 11 on the uppermost layer (surface layer).

【0041】このような本実施形態の熱伝導性多層配線
基板19では、パワーICや電源トランス等の発熱性の
電子部品を配線パターン10上に実装した場合、その熱
放散を効果的に行うことができる。また、多層配線基板
基板19の裏面の配線パターン14へ発熱性の電子部品
を実装した場合、この電子部品からの発生熱が多層配線
基板基板19内の配線パターン13,10及びスルーホ
ール(ビアホール)15,17を介して最上層(表面
層)の熱伝導性配線基板11に伝わり、最上層(表面
層)の熱伝導性配線基板11から放散される。また、多
層配線基板19の表裏両面に電子部品を実装した場合
に、一方の面に実装された電子部品から発生する電磁波
によって他方の面に実装された電子部品が悪影響を受け
ることを防止することができる。
In the heat conductive multilayer wiring board 19 of the present embodiment, when heat-generating electronic components such as a power IC and a power transformer are mounted on the wiring pattern 10, the heat can be effectively dissipated. Can be. When a heat-generating electronic component is mounted on the wiring pattern 14 on the back surface of the multilayer wiring board 19, the heat generated from the electronic component causes the wiring patterns 13 and 10 and the through holes (via holes) in the multilayer wiring board 19 to be formed. The heat is transmitted to the uppermost layer (surface layer) of the thermally conductive wiring board 11 through the layers 15 and 17 and is radiated from the uppermost layer (surface layer) of the thermally conductive wiring board 11. In addition, when electronic components are mounted on both the front and back surfaces of the multilayer wiring board 19, the electronic components mounted on the other surface are prevented from being adversely affected by electromagnetic waves generated from the electronic components mounted on one surface. Can be.

【0042】なお、前記熱伝導性多層配線基板19では
最下層(裏面層)に両面配線基板16を用いたが、最下
層(裏面層)に最上層(表面層)と同様の熱伝導性配線
基板11を用いることもできる。また、前記熱伝導性多
層配線基板19は3層構造であるが、両面配線基板16
及び/または熱伝導性配線基板11の数を更に増やし
て、これらを中間接続体18を介して更に積層すること
も可能である。また、両面配線基板16は、アラミド繊
維の不織布を芯材にエポキシ樹脂を含浸させて乾燥させ
た多孔質プリプレグにレーザ光照射により貫通孔を形成
し、この貫通孔に銅ペーストや銀ペースト等の導電性ペ
ーストを充填してスルーホール(ビアホール)17を形
成してなる両面配線基板であるが、従来からこの分野で
汎用されているガラス−エポキシ基板の表裏両主面に配
線パターンを形成し、表裏両主面の配線パターンを形成
した両面配線基板を用いることも可能である。
In the heat conductive multilayer wiring board 19, the double-sided wiring board 16 is used as the lowermost layer (backside layer), but the same heat conductive wiring as the uppermost layer (surface layer) is used as the lowermost layer (backside layer). The substrate 11 can also be used. The heat conductive multilayer wiring board 19 has a three-layer structure,
It is also possible to further increase the number of the heat conductive wiring boards 11 and to further laminate them via the intermediate connector 18. Further, the double-sided wiring board 16 forms a through-hole by irradiating a laser beam on a porous prepreg obtained by impregnating a nonwoven fabric of aramid fiber with an epoxy resin in a core material, and drying the through-hole with a copper paste or a silver paste. This is a double-sided wiring board in which a conductive paste is filled to form through-holes (via holes) 17. Wiring patterns are formed on both front and back main surfaces of a glass-epoxy substrate conventionally used in this field. It is also possible to use a double-sided wiring board on which wiring patterns on both front and back main surfaces are formed.

【0043】(実施の形態6)図6は本発明の第6の実
施形態による熱伝導性配線基板の断面図であり、図にお
いて、図4と同一符号は同一または相当する部分を示
し、20は熱伝導性配線基板で、これは第1の実施形態
の熱伝導性基板3の一方の主面(表面)に電気絶縁膜5
1が形成され、この電気絶縁膜51の表面と熱伝導性基
板3の他方の主面(裏面)に配線パターン10が形成さ
れ、この表裏両面の配線パターン10が熱伝導性基板3
及び電気絶縁膜51の所要の位置に形成されたスルーホ
ール9によって接続されて構成されている。すなわち、
本実施形態の熱伝導性配線基板20は、熱伝導性基板3
と配線パターン10の間に電気絶縁膜51を設けて、基
板の表面抵抗を1×1013Ω/cm2 以上(好ましくは
1×1013〜1×1018Ω/cm2 )に高めたものであ
る。ここでの電気絶縁膜51は例えば、エポキシ樹脂、
ポリイミド樹脂等の材料からなり、塗布やフィルム貼り
付け等の方法で形成する。また、電気絶縁膜51の厚み
は一般に10μm以下にする。これは、厚みが10μm
より大きくなると基板の熱放散性が低下する傾向を示す
ためである。なお、電気絶縁膜51の厚みが小さくなり
過ぎると、基板の表面抵抗を充分に高める(1013/c
2 以上に高める)ことが困難になるため、0.5μm
以上にする必要がある。
(Embodiment 6) FIG. 6 is a sectional view of a heat conductive wiring board according to a sixth embodiment of the present invention. In the figure, the same reference numerals as those in FIG. Is a heat conductive wiring board, which is provided on one main surface (front surface) of the heat conductive substrate 3 of the first embodiment.
1 is formed, and a wiring pattern 10 is formed on the front surface of the electric insulating film 51 and the other main surface (back surface) of the heat conductive substrate 3.
And the electrical insulating film 51 is connected by a through hole 9 formed at a required position. That is,
The heat conductive wiring board 20 of the present embodiment includes a heat conductive board 3
An electric insulating film 51 is provided between the substrate and the wiring pattern 10 to increase the surface resistance of the substrate to 1 × 10 13 Ω / cm 2 or more (preferably 1 × 10 13 to 1 × 10 18 Ω / cm 2 ). It is. The electric insulating film 51 here is, for example, an epoxy resin,
It is made of a material such as a polyimide resin, and is formed by a method such as coating or attaching a film. The thickness of the electric insulating film 51 is generally set to 10 μm or less. It has a thickness of 10 μm
This is because when it is larger, the heat dissipation of the substrate tends to decrease. If the thickness of the electric insulating film 51 becomes too small, the surface resistance of the substrate is sufficiently increased (10 13 / c).
m 2 or more), it is difficult to increase the
It is necessary to do above.

【0044】このような本実施形態の熱伝導性配線基板
20では、熱伝導性基板3の主面に電気絶縁膜51を設
けたことにより、基板の熱放散性を阻害することなく、
基板の表面の電気抵抗を高めることができ、実装基板と
しての信頼性を高めることができる。なお、このような
電気絶縁膜51を前記第5の実施形態の熱伝導性多層配
線基板19における熱伝導性基板3の主面に形成しても
同様の効果が得られることは言うまでもない。
In the heat conductive wiring board 20 of the present embodiment, the electric insulating film 51 is provided on the main surface of the heat conductive substrate 3 so that the heat dissipation of the substrate is not hindered.
The electric resistance of the surface of the substrate can be increased, and the reliability as a mounting substrate can be increased. It is needless to say that the same effect can be obtained by forming such an electric insulating film 51 on the main surface of the heat conductive substrate 3 in the heat conductive multilayer wiring board 19 of the fifth embodiment.

【0045】(第7の実施形態)図7(a)は本発明の
第7の実施形態による熱伝導性配線基板の平面図、図7
(b)は図7(a)に示す熱伝導性配線基板を用いた電
子機器の一具体例の側面図、図7(c)は図7(a)に
示す熱伝導性配線基板を用いた電子機器の他の具体例の
側面図である。
(Seventh Embodiment) FIG. 7A is a plan view of a heat conductive wiring board according to a seventh embodiment of the present invention.
7B is a side view of a specific example of an electronic device using the heat conductive wiring board shown in FIG. 7A, and FIG. 7C uses the heat conductive wiring board shown in FIG. It is a side view of other specific examples of electronic equipment.

【0046】図7(a)において、40は熱伝導性配線
基板で、これはポリブタジエンからなる合成樹脂基体中
にフェライト粉体を混入してなる熱伝導性基板21の主
面に互いに平行に走る複数本の配線パターン22を形成
し、配線パターン22の両端に接続パッド23を形成し
てなるもので、折り曲げ可能なフレキシブル基板になっ
ている。
In FIG. 7A, reference numeral 40 denotes a heat conductive wiring board, which runs parallel to the main surface of a heat conductive board 21 made by mixing ferrite powder in a synthetic resin base made of polybutadiene. A plurality of wiring patterns 22 are formed, and connection pads 23 are formed at both ends of the wiring pattern 22, thereby forming a bendable flexible substrate.

【0047】図7(b)において、24は例えば第4の
実施形態の熱伝導性配線基板11であって、主面にはコ
ンデンサ等の発熱量が小さい電子部品25が実装され、
主面の端部には接続端子26が設けられている。27は
例えば第4の実施形態の熱伝導性配線基板11であっ
て、主面には電源トランス、パワーIC等の複数の発熱
性の電子部品28が高密度に実装され、主面の端部には
接続端子29が設けられている。熱伝導性配線基板24
と熱伝導性配線基板27のそれぞれの接続端子26,2
9には図7(a)のフレキブルな熱伝導性配線基板40
の接続パッド23がはんだまたは金属バンプを用いて接
続されており、これによって、電気回路的に2枚の配線
基板(熱伝導性配線基板24、熱伝導性配線基板27)
が接続されている。このように構成された電子機器で
は、熱伝導性配線基板27上に電源トランス、パワーI
C等の複数の発熱性の電子部品28が高密度に実装して
なるモジュールが動作して発熱性の電子部品28が発熱
すると、この熱は熱伝導性配線基板27から放散される
だけでなく、フレキシブルな熱伝導性配線基板40を介
して熱伝導性配線基板24へ伝導し、フレキシブルな熱
伝導性配線基板40及び熱伝導性配線基板24からも放
散されることとなる。この結果、極めて効率よく電子部
品28からの発生熱が放散され、電子部品28が安定に
動作する。一方、図7(c)において、図7(b)と同
一符号は同一または相当する部分を示し、30は例えば
アルミニウム等の熱伝導性に優れた金属から作られたケ
ーシング30であって、ケーシング30の内面には例え
ばアルミ、銅等の熱伝導性を有する金属から作られたコ
ネクター31が取り付けられている。フレキブルな熱伝
導性配線基板40の一方の端部にある接続パッド23が
熱伝導性配線基板27の接続端子29にはんだまたは金
属バンプを用いて接続され、他方の端部がネジ止め等に
よってコネクター31に取り付けられている。このよう
に構成された電子機器では、発熱部品28から発生した
熱は熱伝導性配線基板27から放散されるとともに、フ
レキシブルな熱伝導性配線基板40及びコネクター31
を介してケーシング30へ伝導してケーシング30から
も放散されることとなり、その結果、極めて効率よく電
子部品28からの発生熱を放散でき、電子部品28が安
定に動作する。なお、ここでは熱伝導性配線基板27及
び電子部品28を収容するためのケーシング30を熱放
散手段として使用しているが、例えばアルミニウム等の
熱伝導性に優れた金属の板に単にコネクター31を取り
付けたものを熱放散手段として使用することも可能であ
る。
In FIG. 7 (b), reference numeral 24 denotes, for example, the heat conductive wiring board 11 of the fourth embodiment, on which electronic components 25 having a small heat generation amount such as capacitors are mounted on the main surface.
A connection terminal 26 is provided at an end of the main surface. Reference numeral 27 denotes, for example, the heat conductive wiring board 11 of the fourth embodiment, on which a plurality of heat-generating electronic components 28 such as a power transformer and a power IC are mounted on the main surface at a high density. Is provided with a connection terminal 29. Thermal conductive wiring board 24
And connection terminals 26, 2 of heat conductive wiring board 27, respectively.
9 shows a flexible heat conductive wiring board 40 shown in FIG.
Connection pads 23 are connected using solder or metal bumps, so that two wiring boards (a heat conductive wiring board 24 and a heat conductive wiring board 27) are formed in an electric circuit.
Is connected. In the electronic device configured as described above, a power transformer and a power I
When a module formed by mounting a plurality of heat-generating electronic components 28 such as C at a high density operates to generate heat, the heat is not only dissipated from the heat conductive wiring board 27 but also dissipated. The heat is transmitted to the heat conductive wiring board 24 via the flexible heat conductive wiring board 40, and is also radiated from the flexible heat conductive wiring board 40 and the heat conductive wiring board 24. As a result, the heat generated from the electronic component 28 is very efficiently dissipated, and the electronic component 28 operates stably. On the other hand, in FIG. 7 (c), the same reference numerals as those in FIG. 7 (b) denote the same or corresponding parts, and 30 denotes a casing 30 made of a metal having excellent heat conductivity such as aluminum. A connector 31 made of a metal having thermal conductivity, such as aluminum or copper, is attached to the inner surface of the connector 30. The connection pad 23 at one end of the flexible heat conductive wiring board 40 is connected to the connection terminal 29 of the heat conductive wiring board 27 using solder or a metal bump, and the other end is connected to the connector by screwing or the like. 31. In the electronic device configured as described above, the heat generated from the heat generating component 28 is dissipated from the heat conductive wiring board 27 and the flexible heat conductive wiring board 40 and the connector 31 are connected.
The heat generated from the electronic component 28 can be very efficiently dissipated, and the electronic component 28 operates stably. Although the casing 30 for accommodating the heat conductive wiring board 27 and the electronic components 28 is used as a heat dissipating means here, the connector 31 is simply provided on a metal plate having excellent heat conductivity such as aluminum. It is also possible to use the attached one as heat dissipating means.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の熱伝導性
基板によれば、合成樹脂基体中にフェライト粉体を混入
してなる基板にしたので、実装基板として必要な電気絶
縁性を確保でき、しかも、優れた熱伝導効率と電磁波の
遮蔽効果が得られる。従って、この熱伝導性基板を実装
基板にして電子機器を構成した場合、電子部品が発熱し
ても、熱が基板を介して外部に効率よく放散され、発熱
した電子部品それ自身及び他の電子部品が安定に動作
し、また、基板の一方の主面に実装された電子部品から
発生した電磁波が他方の主面に実装された電子部品に到
達せず、電子部品が妨害ノイズから保護されることとな
り、信頼性の高い電子機器を得ることができる。また、
熱伝導性材料としてのフェライト粉体の使用量が従来の
この種の基板における熱伝導性材料の使用量に比べて少
なくて済むので、従来のこの種の基板に比して製品コス
トを低減することができる。
As described above, according to the heat conductive substrate of the present invention, since the substrate is made by mixing ferrite powder into the synthetic resin substrate, the electrical insulation required for the mounting substrate is secured. In addition, excellent heat conduction efficiency and an electromagnetic wave shielding effect can be obtained. Therefore, when an electronic device is configured using this heat conductive substrate as a mounting substrate, even if the electronic component generates heat, the heat is efficiently radiated to the outside via the substrate, and the heated electronic component itself and other electronic components are generated. The components operate stably, and the electromagnetic waves generated from the electronic components mounted on one main surface of the board do not reach the electronic components mounted on the other main surface, and the electronic components are protected from interference noise. Thus, a highly reliable electronic device can be obtained. Also,
Since the amount of ferrite powder used as a heat conductive material is smaller than the amount of heat conductive material used in a conventional substrate of this type, the product cost can be reduced compared to the conventional substrate of this type. be able to.

【0049】また、本発明の熱伝導性配線基板によれ
ば、前記本発明の合成樹脂基体中にフェライト粉体を混
入してなる熱伝導性基板の少なくとも一方の主面に配線
パターンを形成したものとしたので、例えばパワーIC
や電源トランス等の発熱性の電子部品を配線パターン上
に高密度に実装しても、極めて効率よく熱放散を行うこ
とができ、信頼性の高い電子機器を得ることができる。
According to the heat conductive wiring board of the present invention, a wiring pattern is formed on at least one principal surface of the heat conductive substrate obtained by mixing ferrite powder in the synthetic resin base of the present invention. So, for example, power IC
Even if heat-generating electronic components such as a power supply and a power transformer are densely mounted on the wiring pattern, heat can be dissipated extremely efficiently, and a highly reliable electronic device can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施形態による熱伝導性基板
の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a heat conductive substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の第2の実施形態による熱伝導性基板
の断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of a heat conductive substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の第3の実施形態による熱伝導性基板
の製造工程を示す工程別断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a process of manufacturing a thermally conductive substrate according to a third embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の第4の実施形態による熱伝導性配線
基板の断面図である。
FIG. 4 is a sectional view of a heat conductive wiring board according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の第5の実施形態による熱伝導性配線
基板の断面図である。
FIG. 5 is a sectional view of a heat conductive wiring board according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の第6の実施形態による熱伝導性配線
基板の断面図である。
FIG. 6 is a sectional view of a heat conductive wiring board according to a sixth embodiment of the present invention.

【図7】 図7(a)は本発明の第7の実施形態による
熱伝導性配線基板の平面図、図7(b)は図7(a)に
示す熱伝導性配線基板を用いた電子機器の一具体例の側
面図、図7(c)は図7(a)に示す熱伝導性配線基板
を用いた電子機器の他の具体例の側面図である。
FIG. 7A is a plan view of a heat conductive wiring board according to a seventh embodiment of the present invention, and FIG. 7B is an electron using the heat conductive wiring board shown in FIG. 7A. FIG. 7C is a side view of another specific example of the electronic device using the heat conductive wiring board shown in FIG. 7A.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 合成樹脂基体 2 フェライト粉体 3 熱伝導性基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Synthetic resin base 2 Ferrite powder 3 Thermal conductive substrate

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08K 3/36 C08K 3/36 C08L 101/00 C08L 101/00 H05K 1/02 H05K 1/02 A 3/46 3/46 U T 7/20 7/20 C Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C08K 3/36 C08K 3/36 C08L 101/00 C08L 101/00 H05K 1/02 H05K 1/02 A 3/46 3/46 UT 7 / 20 7/20 C

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 合成樹脂基体中にフェライト粉体を混入
してなる熱伝導性基板。
1. A thermally conductive substrate obtained by mixing ferrite powder in a synthetic resin substrate.
【請求項2】 基板全体当りのフェライト粉体の含有量
が70〜98wt%である請求項1に記載の熱伝導性基
板。
2. The thermally conductive substrate according to claim 1, wherein the content of the ferrite powder is 70 to 98 wt% based on the whole substrate.
【請求項3】 フェライト粉体とともに、アルミナ粉
体、マグネシア粉体、窒化アルミニウム粉体、炭化ケイ
素粉体、酸化ベリリウム粉体及びシリカガラス粉体から
選ばれる少なくとも一つの粉体が混入されている請求項
1に記載の熱伝導性基板。
3. A ferrite powder is mixed with at least one powder selected from alumina powder, magnesia powder, aluminum nitride powder, silicon carbide powder, beryllium oxide powder and silica glass powder. The heat conductive substrate according to claim 1.
【請求項4】 基板全体当りの、フェライト粉体と、ア
ルミナ粉体、マグネシア粉体、窒化アルミニウム粉体、
炭化ケイ素粉体、酸化ベリリウム粉体及びシリカガラス
粉体から選ばれる少なくとも一つの粉体とのトータルの
含有量が70〜98wt%である請求項3に記載の熱伝
導性基板。
4. A ferrite powder, an alumina powder, a magnesia powder, an aluminum nitride powder,
The heat conductive substrate according to claim 3, wherein the total content of at least one powder selected from a silicon carbide powder, a beryllium oxide powder, and a silica glass powder is 70 to 98 wt%.
【請求項5】 フェライト粉体と、アルミナ粉体、マグ
ネシア粉体、窒化アルミニウム粉体、炭化ケイ素粉体、
酸化ベリリウム粉体及びシリカガラス粉体から選ばれる
少なくとも一つの粉体との配合比(フェライト粉体:ア
ルミナ粉体、マグネシア粉体、窒化アルミニウム粉体、
炭化ケイ素粉体、酸化ベリリウム粉体及びシリカガラス
粉体から選ばれる少なくとも一つの粉体)が重量比で
2:1〜20:1である請求項4に記載の熱伝導性基
板。
5. A ferrite powder, an alumina powder, a magnesia powder, an aluminum nitride powder, a silicon carbide powder,
Compounding ratio with at least one powder selected from beryllium oxide powder and silica glass powder (ferrite powder: alumina powder, magnesia powder, aluminum nitride powder,
The thermally conductive substrate according to claim 4, wherein the weight ratio of at least one powder selected from silicon carbide powder, beryllium oxide powder, and silica glass powder) is 2: 1 to 20: 1.
【請求項6】 合成樹脂が熱可塑性樹脂である請求項1
〜5のいずれかに記載の熱伝導性基板。
6. The method according to claim 1, wherein the synthetic resin is a thermoplastic resin.
6. The heat conductive substrate according to any one of items 1 to 5,
【請求項7】 合成樹脂が弾性体樹脂である請求項1〜
5のいずれかに記載の熱伝導性基板。
7. The synthetic resin is an elastic resin.
6. The heat conductive substrate according to any one of 5.
【請求項8】 合成樹脂が熱硬化性樹脂である請求項1
〜5のいずれかに記載の熱伝導性基板。
8. The method according to claim 1, wherein the synthetic resin is a thermosetting resin.
6. The heat conductive substrate according to any one of items 1 to 5,
【請求項9】 合成樹脂基体が、無機質繊維もしくは有
機質繊維の布からなる芯材に熱硬化性樹脂を含浸して硬
化せしめてなる基板である請求項1〜5のいずれかに記
載の熱伝導性基板。
9. The heat conduction according to claim 1, wherein the synthetic resin substrate is a substrate formed by impregnating a thermosetting resin into a core material made of an inorganic fiber or an organic fiber cloth and curing the resin. Substrate.
【請求項10】 多層構造の熱伝導性基板であって、少
なくともその一層が請求項1〜9のいずれかに記載の熱
伝導性基板からなることを特徴とする熱伝導性基板。
10. A heat conductive substrate having a multilayer structure, at least one of which comprises the heat conductive substrate according to claim 1.
【請求項11】 請求項1〜10のいずれかに記載の熱
伝導性基板の少なくとも一方の主面に配線パターンを形
成してなる熱伝導性配線基板。
11. A heat conductive wiring board formed by forming a wiring pattern on at least one main surface of the heat conductive board according to claim 1.
【請求項12】 熱伝導性基板の表裏両主面に配線パタ
ーンが形成され、前記表裏両主面の配線パターンがスル
ーホールを介して接続されている請求項11に記載の熱
伝導性配線基板。
12. The heat conductive wiring board according to claim 11, wherein wiring patterns are formed on both front and back main surfaces of the heat conductive substrate, and the wiring patterns on the front and back main surfaces are connected via through holes. .
【請求項13】 多層構造の熱伝導性配線基板であっ
て、少なくとも、請求項1〜10のいずれかに記載の熱
伝導性基板の表裏両主面に配線パターンを形成し、前記
表裏両主面の配線パターンをスルーホールを介して接続
してなる熱伝導性配線基板と、その表裏両主面に形成さ
れた配線パターンをスルーホールを介して接続してなる
配線基板とを含むことを特徴とする熱伝導性配線基板。
13. A heat conductive wiring board having a multilayer structure, wherein a wiring pattern is formed on at least both main surfaces of the heat conductive substrate according to claim 1; It is characterized by including a heat conductive wiring board formed by connecting the wiring patterns on the surface through through holes, and a wiring board formed by connecting the wiring patterns formed on both front and back main surfaces through the through holes. Thermal conductive wiring board.
【請求項14】 最外層に設けられた熱伝導性配線基板
の熱伝導性基板と配線パターンとの間に電気絶縁膜が形
成されている請求項11〜13のいずれかに記載の熱伝
導性配線基板。
14. The heat conductive film according to claim 11, wherein an electric insulating film is formed between the heat conductive substrate and the wiring pattern of the heat conductive wiring substrate provided in the outermost layer. Wiring board.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005004560A1 (en) * 2003-07-03 2005-01-13 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Soft magnetic material for manufacturing printed circuit boards
JPWO2004092268A1 (en) * 2003-04-15 2006-07-06 横浜ゴム株式会社 Resin composition for molding and coating and noise suppression material using the same
US7155820B2 (en) 2000-06-14 2007-01-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for manufacturing printed circuit board
JP2009224720A (en) * 2008-03-18 2009-10-01 Tdk Corp Electronic module and electronic device
JP2012234858A (en) * 2011-04-28 2012-11-29 Denso Corp Multilayer substrate
WO2016199638A1 (en) * 2015-06-10 2016-12-15 日東電工株式会社 Coil module and method for producing same

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58117234A (en) * 1982-01-05 1983-07-12 Meidensha Electric Mfg Co Ltd Heat-conductive material
JPS63162563U (en) * 1987-04-13 1988-10-24
JPH02202088A (en) * 1989-01-31 1990-08-10 Toshiba Lighting & Technol Corp Hybrid integrated circuit
JPH032354B2 (en) * 1982-04-08 1991-01-14 Kollmorgen Tech Corp
JPH0371695U (en) * 1989-11-16 1991-07-19
JPH03229763A (en) * 1990-02-02 1991-10-11 Kanebo Ltd Thermoplastic resin composition
JPH0548271A (en) * 1991-08-12 1993-02-26 Murata Mfg Co Ltd Functional multilayer circuit board
JPH0595197A (en) * 1991-10-01 1993-04-16 Mitsui Toatsu Chem Inc Printed wiring board and substrate used therefor
JPH0621593A (en) * 1992-04-14 1994-01-28 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of printed circuit board
JPH077099A (en) * 1993-03-24 1995-01-10 Northern Telecom Ltd Package for integrated circuit and attenuation of electromagnetic radiation
JPH0878803A (en) * 1994-09-05 1996-03-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Printed wiring board and manufacture thereof
JPH08255982A (en) * 1995-01-20 1996-10-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Circuit board and its manufacture

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58117234A (en) * 1982-01-05 1983-07-12 Meidensha Electric Mfg Co Ltd Heat-conductive material
JPH032354B2 (en) * 1982-04-08 1991-01-14 Kollmorgen Tech Corp
JPS63162563U (en) * 1987-04-13 1988-10-24
JPH02202088A (en) * 1989-01-31 1990-08-10 Toshiba Lighting & Technol Corp Hybrid integrated circuit
JPH0371695U (en) * 1989-11-16 1991-07-19
JPH03229763A (en) * 1990-02-02 1991-10-11 Kanebo Ltd Thermoplastic resin composition
JPH0548271A (en) * 1991-08-12 1993-02-26 Murata Mfg Co Ltd Functional multilayer circuit board
JPH0595197A (en) * 1991-10-01 1993-04-16 Mitsui Toatsu Chem Inc Printed wiring board and substrate used therefor
JPH0621593A (en) * 1992-04-14 1994-01-28 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of printed circuit board
JPH077099A (en) * 1993-03-24 1995-01-10 Northern Telecom Ltd Package for integrated circuit and attenuation of electromagnetic radiation
JPH0878803A (en) * 1994-09-05 1996-03-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Printed wiring board and manufacture thereof
JPH08255982A (en) * 1995-01-20 1996-10-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Circuit board and its manufacture

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7155820B2 (en) 2000-06-14 2007-01-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for manufacturing printed circuit board
JPWO2004092268A1 (en) * 2003-04-15 2006-07-06 横浜ゴム株式会社 Resin composition for molding and coating and noise suppression material using the same
WO2005004560A1 (en) * 2003-07-03 2005-01-13 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Soft magnetic material for manufacturing printed circuit boards
JP2009224720A (en) * 2008-03-18 2009-10-01 Tdk Corp Electronic module and electronic device
JP2012234858A (en) * 2011-04-28 2012-11-29 Denso Corp Multilayer substrate
WO2016199638A1 (en) * 2015-06-10 2016-12-15 日東電工株式会社 Coil module and method for producing same

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