JPH10134573A - 半導体メモリ用のメインアンプ回路、半導体メモリ、および半導体メモリの製造方法 - Google Patents

半導体メモリ用のメインアンプ回路、半導体メモリ、および半導体メモリの製造方法

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JPH10134573A
JPH10134573A JP9133841A JP13384197A JPH10134573A JP H10134573 A JPH10134573 A JP H10134573A JP 9133841 A JP9133841 A JP 9133841A JP 13384197 A JP13384197 A JP 13384197A JP H10134573 A JPH10134573 A JP H10134573A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 書込みアンプ回路と共に動作する半導体メモ
リ用のメインアンプ回路を提供する。 【解決手段】 メインアンプ回路と書込みアンプ回路と
の両方が、第1のプラス電圧レベルで動作し、2つのI
/Oバスを第2のプラス電圧レベルへ選択的に駆動し、
プリチャージすることができるものである。メインアン
プ回路130は、2つのI/Oバスの分離と2つのI/
Oバスのプリチャージとの両方を実行することができる
プリチャージ回路134と、その第1のセクションをア
クティブにする信号を発信するためのアクティブ化回路
(NAND回路132)とを有し、2つのI/Oバスが
分離していないときのみ、2つのI/O信号をプリチャ
ージするよう前記信号が第1のセクションをイネーブル
にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は一般的に半導体の設
計技術に関し、特にダイナミックランダムアクセスメモ
リと共に用いる改良されたメインアンプ回路および入出
力バスを提供する装置および方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電子システムの設計において、速度およ
びタイミングの制約は常に考慮すべき重要な要素であっ
た。ほとんどのシステム設計では、使用されるすべての
構成要素のタイミング上の要求に適合させると共に、高
速を実現するため最適化する必要がある。その結果、多
くの集積回路、即ち“チップ”が同期設計を用いてい
る。同期化チップとは、チップの構成要素が共通のシス
テムクロックに接続されたチップのことである。同期化
チップでは通常、その入力および出力のいずれかに接続
されたラッチ、レジスタあるいはカウンタが単一のモノ
リシックチップ上に設けられている。更に同期化チップ
は、外部の論理チップが少なく、動作速度が速くなる
等、システム設計者に多くの便益を提供している。
【0003】同期化チップの一例として、シンクロナス
ダイナミックランダムアクセスメモリ(SDRAM)が
ある。SDRAMとは概念的に、単にレジスタあるいは
ラッチが同一チップ上に設けられたランダムアクセスメ
モリ(DRAM)である。しかし、トランジスタの数お
よびトランジスタの速度が増加すると共に、回路および
バスの設計はより厳密さが要求されるようになる。例え
ば、従来16MビットSDRAM(1Mビットは1,0
48,576個のメモリセル、即ちビット)や64Mビ
ットDRAMが存在するが、現在のところ、64Mビッ
トSDRAMは存在していない。64MビットSDRA
Mを作るための従来の方法の1つとして、16Mビット
SDRAMに用いられる周辺回路(メモリアレイの周辺
にある回路)を64MビットDRAMのメモリアレイと
組み合わせるものがある。しかし、そのような組み合わ
せは、同期的な動作に要求される動作速度の増加や、メ
モリセルの増加に起因する容量性負荷の増加のため、新
たに複数の問題を招くことになる。そのような問題の1
つにタイミングの競合がある。このタイミングの競合に
より不正なデータが読み出されることがあり、装置を動
作不能としてしまうことがある。また、他の問題の1つ
に電圧レベルの不一致がある。この電圧レベルの不一致
により信号が異なる電源に接続されることがあり、電源
が短絡されることがある。その結果、電力消費が増加
し、高温や大電流等の信頼性に係る問題が一般に生じ
る。
【0004】これらの問題を例示するため、従来の64
MビットDRAMと従来の16MビットSDRAMにつ
いて説明する。従来の64MビットDRAMはメモリセ
ルを複数の個々のバンクに分割している。ここでは例と
して4つのバンクを用いる。メモリセルの個々のバンク
に接続されているのは複数のメインアンプであり、この
メインアンプは後に図1を参照して説明するメインアン
プ回路を含む。また、メモリセルの個々のバンクに接続
されているのは複数の書込みアンプであり、この書込み
アンプは後に図2を参照して説明する書込みアンプ回路
を含む。メインアンプおよび書込みアンプのいずれも従
来の16MビットSDRAMから導入されたものであ
る。
【0005】図1は従来の16MビットSDRAM用の
メインアンプ回路10を示す。メインアンプ回路10は
複数の信号を受取るが、それらはバンクアクティブ信号
MASJと、メイン入出力分離信号MACBJと、メイ
ンアンプアクティブ信号MAEJと、テスト信号MAT
ESTBと、メインアンププリチャージ信号MAPJと
を含む。メインアンプ回路10はまた3つの信号、即ち
メイン入出力信号MIOTと、反転メイン入出力信号M
IOBと、メインアンプ出力MOJとを発信する。更
に、メインアンプ回路10は電源に接続されているが、
それらはプラス外部電源Vddと、マイナス外部電源V
ssと、プラス電源V1とを含む。従来の16Mビット
SDRAMでは電源V1はVddに等しいが、以下の説
明から明らかにされる理由により、ここでは2つの電源
を区別する。
【0006】メインアンプ回路10は4つの異なるセク
ションに分離することができる。第1のセクションはN
ANDゲート12により表されており、2つの信号MA
SJとMACBJとを受取る。MASJ信号は、メイン
アンプ回路10が“アクティブ”のときは常に“ハイ”
に維持される。メインアンプ回路10は、それに対応す
るメモリセルバンクのメモリセルにアクセスするために
用いられるときは常にアクティブである。MACBJ信
号は、メインアンプ回路10が2つの出力信号MIOT
とMIOBとを分離しているときは常に“ロウ”に遷移
する。この2つの出力信号を分離するために用いられる
回路部分は示されていないが、そのような回路の他の実
施は当業者によく知られている。MASJはハイに維持
されるので、NANDゲート12の出力N1は、MAC
BJを反転した信号になる。
【0007】メインアンプ回路10の第2のセクション
はプリチャージ回路14である。プリチャージ回路14
は、出力信号MIOBとMIOTとを特定の期間にわた
りVddまたはV1に接続することによりそれらの信号
をプリチャージする。プリチャージは、2つの出力信号
MIOTとMIOBとが分離していないとき、MAPJ
により制御され、メインアンプ回路10に対応するバン
クがアクティブでないときにはMASJ信号により制御
される。
【0008】メインアンプ回路10の第3のセクション
はフリップフロップ16である。フリップフロップ16
は、プリチャージ回路14から発信する信号N1とN2
とを受取る。フリップフロップは2つの出力信号N5と
N4とを生成する。
【0009】メインアンプ回路10の第4のセクション
は駆動回路18である。駆動回路18はフリップフロッ
プ16の出力N3とN4とを受取り、メイン出力バスの
出力信号MOJを選択的に発信する。
【0010】更に、駆動回路18はMATESTB信号
を受取るが、それはメインアンプ回路10がテストモー
ドにあることを示す。テストモードは、16MビットS
DRAMの製品試験の時間を短縮するために用いられ
る。従来の16MビットSDRAMを試験するには、個
々のメモリセルがアクセスされる必要がある。テストモ
ードを用いることにより、2つ以上のメモリセルへの書
込み、またそれからの読み出しが可能になり、従って試
験時間が短縮される。従来の16MビットSDRAMは
16のMOJ信号をまとめてメイン出力バスを形成する
ことにより、16ビット幅のSDRAMとして利用され
る。更に、従来の16MビットSDRAMは16のメイ
ンアンプ回路を有する。従って、従来の16MビットS
DRAMでは同時に16のメモリ位置にアクセスするこ
とができ、それにより試験時間が改善される。試験時間
を更に改善するには、16個より多くのメモリセルを同
時にアクセスすることができれば有益である。
【0011】図2は従来の16MビットSDRAM用の
書込みアンプ回路20を示す。書込みアンプ回路20は
複数の信号を受取るが、それらは第1のプリチャージ信
号MIPTIJと、第2のプリチャージ信号MIPBI
Jと、等化信号MIEQIJと、第1の書込み信号MD
IBと、第2の書込み信号MDITとを含む。書込みア
ンプ回路20はまた、メイン入出力信号MIOTと、反
転メイン入出力信号MIOBとを発信する。更に、書込
みアンプ回路20はマイナス外部電源Vssと、プラス
内部電源V1(これはVddに等しい)とに接続されて
いる。
【0012】書込みアンプ回路20は、出力信号MIO
BとMIOTとを、互いに接続することにより、あるい
は特定の期間にわたりV1に接続することによりそれら
の信号を等化させることができる。更に、書込み信号M
DIB、MDIT、MIPBIJ、またはMIPTIJ
を適切にアサートすることにより、書込みアンプ回路2
0は選択的に出力信号MIOBとMIOTとをV1また
はVssに発信することができる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記のよう
な従来技術において、以下に説明するような欠点があ
る。
【0014】従来の64MビットDRAMは中間電圧レ
ベル、即ちVddとVssとの間で動作するメモリアレ
イを備えている。中間電圧レベルは、当業者によく知ら
れている様々な理由により必要とされている。従来の1
6MビットSDRAMから導入された前記2つのアンプ
回路はVddおよびVssで動作するが、それらのアン
プ回路を中間電圧を必要とする64MビットDRAMの
メモリアレイと組み合わせると問題が生じる。第1の解
決方法はVddの電圧レベルを変更することである。し
かし、この解決方法はうまく行かない。他の周辺回路お
よび他の周辺チップがVdd電源として、より高い所定
の電圧レベルを必要とするからである。第2の解決方法
はプラスの内部電源V1を前記の中間電圧レベルに等し
くなるように変更することである。このようにすれば、
Vddの電圧レベルは維持され、メモリアレイに対する
中間電圧レベルは低下される。しかし、この解決方法
は、後述するように、新たに複数の問題を招くことにな
る。
【0015】図3は前記の信号および回路を表すタイミ
ング図であり、VddとV1とが異なる電圧レベルであ
る場合に引き起こされる問題の一例を示すものである。
入力信号の機能は基本的に、従来の16MビットSDR
AMに含まれる他の回路(図示されていない)の機能に
より決定される。しかし、前記の信号名称に関する、入
力信号とその波形については当業者によく知られてい
る。
【0016】N1の波形は、メインアンプ回路10がア
クティブ(MASJがハイ)であるときは常に、基本的
にMACBJ信号の波形を反転したものであり、それは
符号22,24,26,28で示される通りである。こ
のようにして、N1はメインアンプ回路10にいつ分離
が生じるかを通知する。N1がロウのときは常に、メイ
ンアンプ回路10は出力信号MIOBとMIOT(それ
らを一般的にMIOxで示す)とを発信する。従って、
符号30,32,34を参照すると、MAPJ信号がロ
ウのとき、メインアンプ回路10はMIOx信号をVd
dに発信する。同様に、符号36,38を参照すると、
書込みアンプ回路20はまた、MIOx信号をV1また
はVssに特定の期間発信する。しかし、期間40およ
び42では、メインアンプ回路10および書込みアンプ
回路20のいずれもMIOx信号を同時に異なる電圧レ
ベルに発信する。MIOx信号が同時に異なる2つの電
圧レベルになることはないので、特定の期間にわたり、
対応する電源の間を“短絡”する。64MビットSDR
AMの信頼性および電力消費を改善するために、電源間
の短絡を全く無くすことができれば有益である。
【0017】そこで、本発明の目的は、タイミングの競
合および電圧レベルの不一致に起因する問題を解決した
半導体メモリを提供することにある。
【0018】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0019】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
【0020】即ち、本発明によれば、メインアンプ回路
を備えた半導体メモリが提供され、そのメインアンプ回
路は2つの異なるプラス電圧レベルを用いることがで
き、また、書込みアンプ回路と共に選択的に2つのI/
Oバスを駆動し、プリチャージすることができる。メイ
ンアンプ回路は分離・プリチャージセクションとアクテ
ィブ化セクションとを含む。アクティブ化セクション
は、2つのI/Oバスが分離していないときのみ、2つ
のI/O信号をプリチャージするよう第1のセクション
をアクティブにする信号を発信する。
【0021】本発明の他の一つの特徴として、メインア
ンプ回路はメイン出力バスとテスト出力バスとを含む。
それにより、半導体メモリは通常モードとテストモード
とで動作することができる。テストモードでは、半導体
メモリのメモリセルの2倍の数を同時にアクセスするこ
とができ、従って試験時間が短縮される。
【0022】本発明の他の一つの特徴として、半導体メ
モリは複数の異なるデータ幅の1つを取り得るが、各デ
ータ幅に対応する異なるサイズの出力バスを備えてい
る。異なるデータ幅は異なるメタルマスクを用いること
により生成されるので、異なるサイズの出力バスを同じ
メタルマスクを用いて生成することができる。キャパシ
タンスの比較的大きな出力バスは大きな幅で製造するこ
とができ、それらの抵抗は比較的小さくなる。反対に、
キャパシタンスの比較的小さな出力バスは小さな幅で製
造することができ、それらの抵抗は比較的大きくなる。
その結果、個々の異なる幅に対応する出力バスの時定数
は非常に類似したものになる。
【0023】
【発明の実施の形態】上述のように、図1、図2および
図3は16MビットSDRAM用の従来のメインアンプ
および書込みアンプに関する回路とタイミング図を示
す。図2の従来の書込みアンプ回路20は本発明におい
ても用いられ、従って、以下の説明においても参照され
る。
【0024】図4を参照すると、符号100は一般的に
本発明の特徴を具体化したSDRAMを示す。本発明の
好適な実施形態において、装置100は64MビットS
DRAMであるが、勿論、本発明はSDRAMの使用に
限定されるものではなく、他のタイプのランダムアクセ
スメモリを含め、異なるプラス電圧レベルによる多重ア
ンプを必要とするアレイタイプの集積回路に関連して用
いてもよい。更に、好適な実施形態で列挙されている電
圧レベルは説明のためのみのものであり、本発明を限定
することを意図したものではない。
【0025】装置100は、それぞれが入力パッド10
2および104を介したプラスの外部電源(Vdd)お
よびマイナスの外部電源(Vss)を受取る。好適な実
施形態において、Vdd電圧は3.3Vに等しく、Vs
s電圧は0Vに等しい。更に、装置100は、装置のメ
モリセルに用いるため、約2.2Vの内部電圧(Vd
l)を供給する電圧レギュレータ106を含む。これら
3種の電圧Vss、Vdd、Vdlはほとんどの従来の
64MビットDRAMに典型的なものなので、詳細には
説明しない。
【0026】装置100は、入力パッド108a,10
8b,108c,108dを介したアドレス入力および
制御信号入力を受取る。好適な実施形態において、より
多くのアドレス用入力パッドおよび制御用入力パッドが
存在するが、それらの機能はパッド108a〜108d
により示す。更に、装置100は複数の制御およびアド
レスデコーダ回路を含んでおり、それらは一般的にアド
レスデコーダグループ110として参照される。アドレ
スデコーダグループ110および入力パッド108a〜
108dはほとんどの64MビットDRAMあるいは1
6MビットSDRAMに従来から存在するものなので、
詳細には説明しない。
【0027】装置100は、I/Oパッド112a,1
12b,112c,112dを介したデータ入出力(I
/O)を送信しまたは受取る。I/Oの数は装置100
のデータ幅を決定するが、一般に4、8または16ビッ
ト幅である。特に言及しない限り、例えば、装置100
は4ビット幅の装置であり、4つのI/Oパッド112
a〜112dだけを備えているものとする。更に、装置
100は複数の入力バッファと出力バッファとその他の
回路とを含んでおり、それらは一般的にI/O回路グル
ープ114として参照される。I/O回路グループ11
4および入力パッド112a〜112dはほとんどの6
4MビットDRAMあるいは16MビットSDRAMに
従来から存在するものなので、詳細には説明しない。
【0028】装置100は64M(1Mは1,048,
576に等しい)のメモリセルを含んでいる。メモリセ
ルは0V(Vss)と2.2V(Vdl)との間の電圧
レベルで動作する。メモリセルは等しいサイズの4つの
バンク116,117,118,119にグループ分け
され、個々のバンクは、それぞれが添え字“u”または
“l”により示される上位部分と下位部分とを有してい
る。メモリセルは従来から存在するものであり、複数の
異なる信号線、アンプ回路、デコーダ回路を用いてい
る。バンク116〜119は、ほとんどの64Mビット
DRAMに従来から存在するメモリセルを含むので、そ
れらの機能を詳細に説明しない。
【0029】また、メモリセルの個々のバンクに接続さ
れているのは複数のメインアンプ回路および書込みアン
プ回路である。装置100では、8つのメインアンプ回
路と8つの書込みアンプ回路とが個々のバンク部分に接
続されている。例えば、バンク部分116uには、第1
のメインアンプ120と第1の書込みアンプ122とが
接続されており、それらは一般的にグループA1として
参照されている。そして、他の7つのメインアンプおよ
び書込みアンプはそれぞれ一般的にグループA2,A
3,A4,A5,A6,A7,A8として参照されてい
る。同様に、個々のバンク部分117u,118u,1
19u,116l,117l,118l,119lは、
8つのメインアンプおよび書込みアンプを備えており、
それぞれ一般的にグループB1〜B8,C1〜C8,D
1〜D8,E1〜E8,F1〜F8,G1〜G8,H1
〜H8として参照されている。すべてのメインアンプお
よびすべての書込みアンプはそれぞれ同一であり、以下
簡略化のため、第1のメインアンプ120および第1の
書込みアンプ122についてのみ説明する。しかし、残
りのメインアンプおよび書込みアンプも同様に動作する
ことはいうまでもない。
【0030】個々のメインアンプはメイン出力バス12
4に、個々の書込みアンプはデータ・インバス126に
それぞれ接続されている。上述のように、装置100の
I/Oの数を4、8または16とすることができる。従
って、出力バス124およびデータ・インバス126は
それぞれ、4本、8本または16本の個々のバスライン
を含む。
【0031】図5を参照すると、第1のメインアンプ1
20の改良されたメインアンプ回路130は、図1の従
来のメインアンプ回路10と同様に複数の信号を利用す
る。それらはバンクアクティブ化信号MASJと、メイ
ン入出力分離信号MACBJと、メインアンプアクティ
ブ化信号MAEJと、テスト信号MATESTBと、メ
インアンププリチャージ信号MAPJと、メイン入出力
信号MIOTと、反転メイン入出力信号MIOBと、メ
インアンプ出力MOJとを含む。更に、メインアンプ回
路130はまた、電源Vdd、Vdl、Vssに接続さ
れている。
【0032】メインアンプ回路130は4つの異なるセ
クションに分離することができる。第1のセクションは
NAND回路132である。NAND回路132は3つ
の信号MAPJと、MASJと、MACBJとを受取
る。MACBJ信号は、メインアンプ回路130が2つ
の出力信号MIOTとMIOBとを分離しているときは
常にロウに遷移する。MASJ信号は、バンク部分11
6uがアクティブのときは常にハイに遷移する。MAP
J信号は、出力信号MIOTとMIOBとがプリチャー
ジされるときは常にハイに遷移する。その結果、NAN
D回路132の出力N1’は、分離信号MACBJとプ
リチャージ信号MAPJとの両方に依存する。この改良
されたNAND回路132の利点は以下の説明から更に
明らかにされる。
【0033】メインアンプ回路130の第2のセクショ
ンはプリチャージ回路134である。プリチャージ回路
134は、出力信号MIOBとMIOTとを互いに接続
し、特定の期間にわたりVddに、そして他の期間にわ
たりVdlに接続することにより、それら出力信号MI
OBとMIOTとをプリチャージする。Vddへのプリ
チャージは信号MAPJにより制御され、2つの出力信
号MIOTとMIOBとが分離していないときには、即
ちN1’がロウのとき、プリチャージが実行される。V
dlへのプリチャージは信号MASJにより制御され、
バンク部分116uがアクティブであるときのみ、プリ
チャージを実行する。
【0034】メインアンプ回路130の第3のセクショ
ンはフリップフロップ136である。フリップフロップ
136は、プリチャージ回路134から発信する信号N
5’とN2’とを受取る。フリップフロップ136は2
つの出力信号N3’とN4’とを生成する。
【0035】メインアンプ回路130の第4のセクショ
ンは駆動回路138である。駆動回路138はフリップ
フロップ136の出力N3’とN4’とを受取り、メイ
ン出力バスのMOJ信号を選択的に発信する。
【0036】更に、駆動回路138はメイン回路130
がテストモードにあることを示す信号MATESTBを
受取り、MOJ信号を発信するために出力アクティブ化
信号MAOEJを受取る。これら2つの信号と出力N
3’とN4’とを用いることにより、駆動回路138は
MOJバスまたはメインアンプテスト出力バスMOTJ
のいずれかを選択的に発信することができる。MOTJ
信号はMOJバスに類似しているが、テストモード期間
のみ用いられる。64個のメインアンプ回路が存在し、
そのうちの32個が上位バンク116u,117u,1
18u,119uに接続されており、残りの32個が下
位バンク116l,117l,118l,119lに接
続されているので、メインテスト出力バス124tは、
各メインアンプ回路に接続された個々のMOTJバスに
対応する64個のバスを含む。それにより、テストモー
ド時に64個のメモリセルを同時にアクセスすることが
できる。MOTJ信号を用いずに通常モードで動作する
場合、最大で16個のメモリセル(16ビット幅の装置
100の場合)を同時にアクセスすることができる。そ
の結果、テストモードで動作する場合、64Mのメモリ
セルすべてにアクセスするのに要する時間は4分の1に
短縮される。テストモードを更に使いよいものにするた
め、メモリセルから同時に読み出されたすべてのデータ
が正しいかどうかを決定するようメインテスト出力バス
124tは圧縮・復元回路に接続されている。勿論、こ
の圧縮・復元回路は従来の16MビットSDRAMに用
いられており、当業者にとって明らかであり、容易に理
解されるものである。
【0037】上述のように、第1の書込みアンプ122
は図2の書込みアンプ回路20を含むが、電圧V1はV
dl電源に接続されているものとする。
【0038】図6を参照すると、様々な入力信号の波形
が示されているが、それらの波形は装置100上に配置
された他の回路(図示されていない)の機能により決定
される。しかし、これら入力信号の多くは従来の16M
ビットSDRAMの入力信号と同様のものであり、前記
の信号名称に関する、これらの入力信号とその波形につ
いては当業者によく知られている。
【0039】N1’信号の波形は、メインアンプ回路1
30がイネーブル(MASJがハイ)であるときは常
に、信号MACBJとMAPJとの両方に依存したもの
であり、それは符号140,142,144,146で
示される通りである。このようにして、N1’信号はメ
インアンプ回路130に、いつ分離が生じるか、プリチ
ャージがなされていないかを通知する。N1’信号がロ
ウのときは常に、メインアンプ回路130は出力信号M
IOBとMIOT(それらを一般的にMIOxで示す)
とをVddに発信する。従って、MAPJ信号はN1’
信号を制御するので、メインアンプ回路130は期間1
48,150,152ではMIOx信号をVddに発信
しない。
【0040】符号36,38を参照すると、書込みアン
プ回路20は、MIOx信号をVdlまたはVssに特
定の期間発信し続けるが、競合する電圧がMIOx信号
にかけられることに起因する短絡は全く生じない。
【0041】再び図4を参照すると、装置100のビッ
ト幅は、4、8、16ビットとすることができ、以下そ
れぞれby−4バージョン、by−8バージョン、by
−16バージョンとして参照する。本装置の製造の際、
装置100のどのバージョンにするかが決定される。装
置100は複数のマスク層(図示されていない)を用い
て製造されるが、各バージョンは特定のメタルマスク層
(図示されていない)に関係する。勿論、異なるバージ
ョンの装置をメタルマスク層1枚のみを変更して製造す
るこの方法は当技術分野ではよく知られており、詳細に
は説明しない。
【0042】装置100の特定のバージョンにより出力
バス124およびデータ・インバス126のバスライン
の数が決定される。by−4バージョンの場合、出力バ
ス124には4本のバスラインが存在し、そのうちの2
本は上位バンク116u,117u,118u,119
uに対応し、残りの2本は下位バンク116l,117
l,118l,119lに対応する。by−8バージョ
ンの場合、出力バス124には8本のバスラインが存在
し、そのうちの4本は上位バンク116u,117u,
118u,119uに対応し、残りの4本は下位バンク
116l,117l,118l,119lに対応する。
by−16バージョンの場合、出力バス124には16
本のバスラインが存在し、そのうちの8本が上位バンク
116u,117u,118u,119uに対応し、残
りの8本は下位バンク116l,117l,118l,
119lに対応している。データ・インバス126にお
けるバスラインの配列および本数は出力バス124の場
合と同様である。
【0043】装置100のバージョンにより、メイン出
力バス124またはメインデータ・インバス126の単
一のバスラインに接続されたアンプグループA1〜A
8,B1〜B8,C1〜C8,D1〜D8,E1〜E
8,F1〜F8,G1〜G8,H1〜H8の数が決定さ
れる。by−4バージョンの場合、単一のバスラインに
16個のアンプグループが接続されている。バンク11
6,117,118,119が上位および下位レベルに
分離されているので、単一のバスライン上の16個のア
ンプグループはすべて同じレベルである。第1の例とし
て、A1,A3,A5,A7,B1,B3,B5,B
7,C1,C3,C5,C7,D1,D3,D5,D7
のメインアンプのグループにおいて、個々のグループの
メインアンプは同じバスラインに接続されているが、装
置100のby−4バージョンへのメモリアクセスによ
りこれらのグループから1つのメインアンプがアクティ
ブにされる。第2の例として、E2,E4,E6,E
8,F2,F4,F6,F8,G2,G4,G6,G
8,H2,H4,H6,H8のグループにおいて、個々
のグループのメインアンプは同じバスラインに接続され
ているが、装置100のby−4バージョンへのメモリ
アクセスによりこれらのグループから1つのメインアン
プがアクティブにされる。
【0044】装置100のby−8バージョンの場合、
単一のバスラインに8つのアンプグループが接続されて
いる。バンク116,117,118,119が上位お
よび下位レベルに分離されているので、単一のバスライ
ン上の8つのアンプグループはすべて同じレベルであ
る。第1の例として、A1,A5,B1,B5,C1,
C5,D1,D5のメインアンプのグループにおいて、
個々のグループのメインアンプは同じバスラインに接続
されているが、装置100のby−8バージョンへのメ
モリアクセスによりこれらのグループから1つのメイン
アンプがアクティブにされる。第2の例として、E2,
E6,F2,F6,G2,G6,H2,H6のグループ
において、個々のグループのメインアンプは同じバスラ
インに接続されているが、装置100のby−8バージ
ョンへのメモリアクセスによりこれらのグループから1
つのメインアンプがアクティブにされる。
【0045】装置100のby−16バージョンの場
合、単一のバスラインに4つのアンプグループが接続さ
れている。バンク116,117,118,119が上
位および下位レベルに分離されているので、単一のバス
ライン上の4つのアンプグループはすべて同じレベルで
ある。第1の例として、A1,B1,C1,D1のメイ
ンアンプのグループにおいて、個々のグループのメイン
アンプは同じバスラインに接続されているが、装置10
0のby−16バージョンへのメモリアクセスによりこ
れらのグループから1つのメインアンプがアクティブに
される。第2の例として、E4,F4,G4,H4のグ
ループにおいて、個々のグループのメインアンプは同じ
バスラインに接続されているが、装置100のby−1
6バージョンへのメモリアクセスによりこれらのグルー
プから1つのメインアンプがアクティブにされる。
【0046】装置100のby−4バージョン、by−
8バージョン、by−16バージョンに関して、異なる
数のアンプグループが単一のバスラインに同時に接続さ
れているため、メイン出力バス124の容量性負荷は各
バージョン毎に異なる。by−4バージョンでは、接続
された16個のメインアンプによる容量性負荷は比較的
大きいが、by−16バージョンの場合、接続された4
つのメインアンプによる容量性負荷は比較的小さい。こ
のキャパシタンスにおける不一致により複数の問題が生
じる。1つはI/O回路114に発生する。by−4バ
ージョンもby−16バージョンも、そのマスク層は1
つを除いて共通であるため、各バージョンに対するI/
O回路は実質的に同じである。しかし、メイン出力バス
124は、異なるバージョンに対して容量性負荷が異な
るため、I/O回路114へ駆動される信号は異なる時
間に到着する。その結果、バージョン間での信号の不一
致に起因するI/O回路においてエラーが生じることが
ある。他の問題は、by−4バージョンは、一般的にb
y−8バージョンおよびby−16バージョンより動作
が遅くなることがある。
【0047】これらの問題は、異なるバージョン毎にメ
イン出力バス124のバスラインの数を変更するだけで
なく、バスラインの幅をも変更することにより解決され
る。図7a〜7cを参照すると、メイン出力バス124
の一部が示されているが、それは上位バンク117u
と、B1,B2,B3,B4,B5,B6,B7,B8
のグループのメインアンプと共に用いられる。各メイン
アンプの出力はMOJ(図5)であるため、異なるメイ
ンアンプの出力は、それぞれがB1,B2,B3,B
4,B5,B6,B7,B8のグループのメインアンプ
回路の出力MOJに対応するMOB1,MOB2,MO
B3,MOB4,MOB5,MOB6,MOB7,MO
B8として参照される。更に、勿論、バンク部分117
uは、個々のバンク部分およびそれらのメイン出力バス
124への接続の典型にすぎない。また、メイン出力バ
ス124は各バージョン毎に異なっているため、以下、
by−16バージョン、by−4バージョン、by−8
バージョンに対するメイン出力バスをそれぞれ12
4’,124”,124''' として参照する。
【0048】図7aは、装置100のby−16バージ
ョンに用いられる8本のバスライン160a,160
b,160c,160d,160e,160f,160
g,160hを備えたメイン出力バス124’を示す。
個々の8本のバスライン160a〜160hは特定の幅
160wを有する。更に、個々のメインアンプ出力MO
B1,MOB2,MOB3,MOB4,MOB5,MO
B6,MOB7,MOB8は、8本のバスライン160
a〜160hのうちの1つに接続されている。メインア
ンプ出力MOB1,MOB2,MOB3,MOB4,M
OB5,MOB6,MOB7,MOB8は、各バージョ
ンと整合するメタルマスク層の1つを用いて形成されて
いる。その結果、メインアンプ出力の形状は装置100
の各バージョンに対して同じである。更に、メインアン
プ出力MOB1,MOB2,MOB3,MOB4,MO
B5,MOB6,MOB7,MOB8は、従来のスルー
ホール技術を用いてバスライン160a〜160hに接
続されている。
【0049】図7bは、装置100のby−8バージョ
ンに用いられる4本のバスライン162a,162b,
162c,162dを備えたメイン出力バス124”を
示す。個々の4本のバスライン162a〜162dは特
定の幅162w(ただし、162w>160w)を有す
る。更に、個々のメインアンプ出力MOB1,MOB
2,MOB3,MOB4,MOB5,MOB6,MOB
7,MOB8は、4本のバスライン162a〜162d
のうちの1つに接続されている。メインアンプ出力MO
B1,MOB2,MOB3,MOB4,MOB5,MO
B6,MOB7,MOB8の形状は装置100の各バー
ジョンに対して一定であるため、バスライン162a〜
162dの幅162wは、図示されているように適切な
メインアンプ出力に重なり合うよう十分大きなものであ
る。
【0050】図7cは、装置100のby−4バージョ
ンに用いられる2本のバスライン164a,164bを
備えたメイン出力バス124''' を示す。個々の2本の
バスライン164a,164bは特定の幅164w(た
だし、164w>162w>160w)を有する。更
に、個々のメインアンプ出力MOB1,MOB2,MO
B3,MOB4,MOB5,MOB6,MOB7,MO
B8は、2本のバスライン164a,164bのうちの
1つに接続されている。図7bに関連する上述のよう
に、メインアンプ出力MOB1,MOB2,MOB3,
MOB4,MOB5,MOB6,MOB7,MOB8の
形状は装置100の各バージョンに対して一定であるた
め、バスライン164a,164bの幅164wは、図
示されているように適切なメインアンプ出力に重なり合
うよう十分大きなものである。
【0051】装置100の異なるバージョン毎に異なる
バス幅を提供することにより、バージョン毎のキャパシ
タンスの差異により引き起こされる時間遅延は等化され
る。この時間遅延は、メイン出力バス124のバスライ
ンのRC定数により決定される(ここで、Rは各バスラ
インの抵抗、Cは各バスラインのキャパシタンスを表
す)。バスラインの幅を広くすることにより、各バスラ
インの抵抗は減少する。このようにして、by−4バー
ジョンのバスライン164a,164bのRは比較的小
さくなり、これらのバスラインのCは比較的大きくな
る。反対に、by−16バージョンのバスライン160
a〜160hのRは比較的大きくなり、これらのバスラ
インのCは比較的小さくなる。その結果、装置100の
各バージョンのバスラインにおける時間遅延、即ちRC
定数は非常に類似したものとなり、異なるバージョンの
バスラインの信号性能は、かなり整合したものとなる。
【0052】図9を参照すると、装置200は本発明が
適用される他の実施形態のSDRAMが示されている。
装置200はXラッチプリデコーダ、Xデコーダ、Yラ
ッチプリデコーダ、Yデコーダ、メモリアレイ、センス
アンプ等を各々持つ4つのバンクBANK0〜BANK
3で構成された64MSDRAMである。しかし、本発
明はSDRAMに限定されるものではなく、他のタイプ
のランダムアクセスメモリ(RAM)を含み、更に、バ
ンク構成も特に限定されることもない。更に言えば、異
なる複数の電源電圧レベルを必要とするアレイタイプの
集積回路に用いてもよい。以下に述べる電圧レベルは説
明の為のみのものであり本発明を限定することを意図し
たものでない。
【0053】装置200は入力パッド202、204を
介して外部電源Vddおよび外部電源Vssを受ける。
外部電源Vddは約3.3Vであり、外部電源Vssは約
0Vの接地電圧である。更に、装置200は図8に示さ
れるようなメモリセルを有する。また、約2.2Vの内部
電圧Vdlを供給する電圧レギュレータVdl gen
206を含む。
【0054】装置200は図示しない複数のアドレス入
力パッドを介してアドレス信号を受ける。更に、入力さ
れたアドレス信号はLVTTLレベルからCMOSレベ
ルまたはチップ内レベルに変換するためのアドレス初段
回路LVC208を介して各バンクBANK0〜BAN
K3に入力される。Yラッチカウンタ210はバースト
モード時に入力したアドレス信号をラッチしカウンタに
よってそのアドレス信号を更新する。アドレス初段回路
LVC208やYラッチカウンタ210は、従来から存
在する回路を用いることができる。
【0055】装置200は、図示しないI/Oパッドを
介してデータの読出しまたは書込みを行う。さらに読出
しまたは書込みが行われるデータは、データ初段回路D
Q1〜DQ4、212、218によってLVTTLレベ
ル、CMOSレベルまたは特定のレベルに変換される。
データ初段回路212、218は、ハイインピーダンス
コントロール回路Hi−Z Control 220に
よって制御される複数のCMOS入出力バッファCMO
S buff222、228に接続されている。ハイイ
ンピーダンスコントロール回路Hi−Z Contro
l 220は、アドレス初段回路208およびデータ初
段回路212、218と同様に外部から入力される制御
信号に対してレベル変換を行ない、また、ハイインピー
ダンスコントロール回路Hi−Z Control 2
20は、内部制御信号を出力するマスクコントロール回
路DQM230によって制御される。ここでマスクコン
トロールとはデータの入出力バッファを動作タイミング
に応じてハイインピーダンスまたはロウインピーダンス
に制御することを言う。複数のCMOS入出力バッファ
CMOS buff222、228の各々は、さらに複
数のレイテンシーラッチ回路Latency Latc
h232、238の各々に接続されている。モードデコ
ーダラッチ回路240は、セットコマンドでバーストモ
ードがセットされるときに発生するモードデコーダラッ
チセット信号MRSによりCASレイテンシーCL、B
ustレイテンシーBL等を出力する。レイテンシーコ
ントロール回路244は、前記CL、BL等が出力され
るのに伴って後述するコントロール系回路242からの
ラッチ更新信号(内部クロック)を受けレイテンシーラ
ッチ回路232、238のための制御信号を出力する。
制御信号を受けたレイテンシーラッチ回路232、23
8は前記CL、BL等に対応したデータの書込み読出し
を行なう。
【0056】データ初段回路、CMOS入出力バッフ
ァ、レイテンシーラッチ回路、図示しないI/Oパッド
の数は装置200のデータ幅を決定する。一般的にデー
タ幅は4、8又は16ビット幅である。例えば、装置2
00のデータ幅は4ビットであり、図示しない4個のI
/Oパッドと、代表として2個を図示しているデータ初
段回路、CMOS入出力バッファ、レイテンシーラッチ
回路を各々4個づつ備えている。
【0057】装置200は、チップ選択コマンドCS
/、ロウアドレスコマンドRAS/、カラムアドレスコ
マンドCAS/、ライトイネーブルコマンドWE、クロ
ックCLK、クロックイネーブルCLEを外部から各々
入力し内部信号を発生するコントロール系回路242を
備える。なお、ここで示す”/”はコマンド入力がロウ
レベルのときコマンド入力サイクルが有効になることを
示す。入力されたコマンドによりコントロール系回路2
42は、モードデコーダラッチセット信号MRS、信号
Bcu、信号Bact/Pre、信号R/W、ラッチ更
新信号を各々出力する。モードデコーダラッチセット信
号MRSはモードデコーダラッチに内部アドレス信号を
取り込むための信号である。信号Bcuは読出しまたは
書込みのときにアドレス信号を取込み、バーストモード
のときにYラッチカウンタ210のカウントアップを制
御するための信号である。信号Bact/Preはバン
ク別にアクティブおよびバンクのプリチャージを制御す
るための信号である。信号R/Wはバンク別に書込みま
たは読出しを制御するための信号である。ラッチ更新信
号は前記モードデコーダラッチ回路240の出力CAS
レイテンシーCL毎に発生しレイテンシーコントロール
回路244を制御するために用いられる内部クロック信
号である。
【0058】装置200は、64M(1Mは1,04
8,756に等しい)の図8に示すようなメモリセルを
複数備える。メモリセルは約0V(Vss)と約2.2V
(Vdl)との間の電圧レベルで動作する。配置された
複数のメモリセルはメモリバンクBANK0〜BANK
3にグループ分けされており、個々のバンクは、Xラッ
チプリデコーダXlatch pre−dec、Xデコ
ーダXdec、YプリデコーダYpre−dec、Yデ
コーダYdec、メモリマットMat、図10に示され
るようなセンスアンプ回路SA、図11に示されるよう
なI/O選択部回路400を備える。前記I/O選択部
回路400は、ローカル入出力LIOT、LIOEとメ
イン入出力MIOB、MIOTとの接続または非接続を
選択するために用いられる。なお、図10に示すセンス
アンプ回路SAおよび図11に示すI/O選択部回路に
ついては後で詳細に説明する。
【0059】図10および図11は、装置200に用い
られるセンスアンプ回路300およびI/O選択部回路
400を示している。図12は装置200のバンクがア
クティブ動作時のセンスアンプ回路300とI/O選択
部回路400の各信号の波形図を示している。図13は
各バンクのプリチャージ動作時のセンスアンプ回路30
0とI/O選択部回路400の各信号の波形図を示して
いる。以下、バンクアクティブ動作時とプリチャージ動
作時について説明する。
【0060】図10、図11および図12を参照する
と、各回路のバンクアクティブ動作が示されている。各
バンクがアクティブになることにより、センスアンプ回
路300の各ノードをVdl/2レベルにプリチャージ
するための動作が終了する。すなわち、制御信号BLE
QBがVddレベルのハイレベルからVssレベルのロ
ウレベルに遷移し、センスアンプ回路300のプリチャ
ージMOSFETがオフ状態となりチャージ動作が中止
され、センスアンプ回路300が動作可能な状態とな
る。また、I/O選択部回路400のローカル入出力L
IOT、LIOBをVdl/2レベルにプリチャージす
るための動作が終了する。すなわち、制御信号BLEQ
BがVddレベルのハイレベルからVssレベルのロウ
レベルに遷移する。その結果、インバータ回路402、
404の出力信号がI/O選択部回路400のプリチャ
ージMOSFETをオフ状態にし、ローカル入出力LI
OT、LIOBのプリチャージ動作が中止される。従っ
て、センスアンプ回路300のプリチャージ動作が中止
されるよりもインバータ回路402、404の遅延時間
だけ遅延してI/O選択部回路400のローカル入出力
LIOT、LIOBのプリチャージ動作が中止される。
さらに制御信号BLEQBはローカル入出力LIOT、
LIOBとメイン入出力MIOT、MIOBとを接続し
動作可能な状態にするための制御信号としても用いられ
ている。
【0061】I/O選択部回路400のローカル入出力
LIOT、LIOBとメイン入出力MIOB、MIOT
とが接続される直前においてメイン入出力信号MIO
T、MIOBはVdlレベルであり、センスアンプ回路
300およびI/O選択部回路400のローカル入出力
信号LIOT、LIOBの電圧レベルはVdl/2レベ
ルである。ローカル入出力LIOT、LIOBとメイン
入出力MIOT、MIOBとが接続されるとメイン入出
力MIOT、MIOBはVdlレベルからVdl/2レ
ベル方向に向かって遷移し、ローカル入出力信号LIO
T、LIOBはVdl/2レベルからVdlレベルへ向
かって遷移する。
【0062】図2に示されるように書込みアンプ回路2
0はメイン入出力MIOT、MIOBに接続されてい
る。メイン入出力MIOT、MIOBに接続されている
書込みアンプ回路20の信号線MILSB、MILST
はVdl電圧に接続されているプリチャージ回路WAP
によりVdlレベルにプリチャージされている。従っ
て、信号線MILSB、MILSTに接続されているメ
イン入出力信号MIOT、MIOBおよびローカル入出
力信号LIOT、LIOBの電圧レベルは書込みアンプ
回路20の信号線MILSB、MILSTのプリチャー
ジ電圧Vdlレベルになる。
【0063】シェアード信号SHR0が各々Vddより
もさらに高い電圧レベルVppとVssレベルに遷移す
ると、ビット線BL0B、BL0Tとセンスアンプ回路
300の信号線302、304とが接続状態になり、ビ
ット線BL0B、BL0Tの電圧レベルの差が図10に
示される信号線302、304に現れる。外部またはア
ドレスラッチカウンタ(図9参照)からのアドレス信号
によりワード線SWL0(図8参照)がVppレベルに
立ち上がる。ある一定時間経過するとセンスアンプ活性
化信号SDP、SDNが各々VdlレベルおよびVss
レベルに遷移し、ビット線BL0B、BL0Tの電圧レ
ベルの差をセンスアンプ回路300のセンスアンプ部S
AN、SNPでさらに増幅する。その後カラム選択信号
YSが立ち上がり外部からのデータの書込みまたはメモ
リセルからのデータの読出しを行なう。
【0064】図10、図11および図13を参照する
と、各回路のプリチャージ動作が示されている。まず、
書込みまたは読出しが終了したことによりワード線SW
L0はVppレベルのハイレベルからVssレベルのロ
ウレベルに遷移する。ワード線SWL0がVssレベル
に遷移した時点でシェアード信号SHR0およびSHR
1がVddレベルに遷移する。次に、制御信号BLEQ
BがVssのロウレベルからVddのハイレベルに遷移
することにより、センスアンプ回路300のプリチャー
ジMOSFETがオン状態になり、センスアンプ回路3
00の各ノードがVdl/2Vレベルにプリチャージさ
れる。
【0065】図9に示す個々のバンクの回路群WA/M
A246は、各々8個のメインアンプ回路と8個の書込
みアンプ回路とを備えており、メインアンプ回路および
書込みアンプ回路は図5および図2に示したものを用い
る。
【0066】図14には、図2に示されている書込みア
ンプ回路20および図5に示されている本発明のメイン
アンプ回路130の書込み時の様々な入力信号および出
力信号の詳細な波形が示されており、図14(c)は、
図6で示されている書込み時の波形をさらに詳細に示し
たものである。各々の内部制御信号の電圧レベルは、図
14(a)で示されるようにVddレベルをハイレベル
としVssレベルをロウレベルにする動作電圧レベルで
ある。しかし、図14(b)で示されるように第1およ
び第2の書込み信号MDIBおよびMDITは、Vdd
レベルをハイレベルとしVssレベルをロウレベルとす
るのに対し、メモリセルへ書込まれる信号つまりメイン
入出力信号MIOT、MIOBは、Vdlレベルをハイ
レベルとしVssレベルをロウレベルにする電圧レベル
としている。つまり、この書込みアンプ回路20はハイ
レベルをVddレベルからVdlレベルへレベル変換を
している。
【0067】期間152にメインアンププリチャージ信
号MAPJに同期する信号N1’がハイレベルであるこ
とによって、メイン入出力MIOT、MIOBは信号N
1’がゲートに入力されているPMOS(一対のスイッ
チMOSFET、Q1、Q2)を境に分離されている。
その結果、一方のデータ線対(l1、l2)のプリチャ
ージ電圧レベルVdlと、他方のデータ線対(m1、m
2)のプリチャージ電圧レベルであるVddレベルとを
分離することができる。
【0068】もし、メイン入出力MIOT、MIOBが
前記PMOS(Q1、Q2)を境に分離されない場合、
Vddレベルにプリチャージされるデータ線対(m1、
m2)よりデータ線対(l1、l2)のほうが電圧レベ
ルが低いため、前記データ線対(l1、l2)の電圧レ
ベルはVddレベルへ遷移してしまう。
【0069】従って、信号MIOT、MIOBは、信号
N1’がゲートに入力されているPMOS(Q1、Q
2)を境にデータ線対(l1、l2)とデータ線対(m
1、m2)とに分離されることにより、書込みアンプ回
路20のVdl電圧端子とデータ線対(m1、m2)を
プリチャージするためのVdd電圧端子との短絡により
無駄な電流が流れることを防止できる。つまり、信号M
APJによって駆動されるプリチャージMOSFETが
オン状態であるときは、信号N1’によって制御される
PMOS(Q1、Q2)はオフ状態にされるので、デー
タ線対(m1、m2)をプリチャージするVdd電圧端
子と書込みアンプ回路20のVdl電圧端子との短絡に
よる無駄な電流消費を防止することができる。
【0070】図15を参照すると、図5に示されている
本発明のメインアンプ回路130の読出し時の様々な入
力信号および出力信号の詳細な波形が示されている。図
15(d)は図6で示されている読出し時の波形をさら
に詳細に示したものである。各々の内部制御信号の電圧
レベルは、図15(a)に示されるようにVddレベル
をハイレベルとしVssレベルをロウレベルにする電圧
レベルである。しかし、図15(b)に示されるように
メモリセルからMIOT、MIOBに読出された信号は
Vdlレベルをハイレベルとしているのに対し、メイン
アンプ出力信号MOJは、Vddレベルをハイレベルと
している。つまり、このメインアンプ回路130は、ハ
イレベルをVdlレベルからVddレベルへレベル変換
をしている。
【0071】図15(c)を参照すると、メインアンプ
回路130の各信号N1’、N2’、N5’の動作電圧
レベルはVddレベルをハイレベルとしVssレベルを
ロウレベルとしている。信号N1’はメインアンプがイ
ネーブル(MASJがハイレベル)であるとき常にメイ
ン入出力分離信号MACBJとメインプリチャージ信号
MAPJの両方に依存したものであり、図15(d)に
示される符号144、146の通りである。
【0072】データ線対(l1、l2、m1、m2)は
信号N1’がゲートに入力されるPMOS(一対のスイ
ッチMOSFET、Q1、Q2)を境に分離可能とされ
る。プリチャージ回路134は分離された一方のデータ
線対(l1、l2)をVdlレベルにプリチャージし、
他方のデータ線対(m1、m2)をVddレベルにプリ
チャージすることができる。
【0073】信号N1’がロウレベルの期間にメモリセ
ルから読出されたデータが、一方のデータ線対(l1、
l2)から他方のデータ線対(m1、m2)に伝達され
る。その後、該データがCMOSラッチ型増幅回路(Q
3、Q4、Q5、Q6)で増幅され、フリップフロップ
回路136に読出しデータが保持される。信号N1’が
ロウレベルの期間、第1および第2のプリチャージ信号
MIPBIJおよびMIPTIJがハイレベルになるこ
とにより、書込みアンプ回路20からのデータ線対(l
1、l2)へのプリチャージは停止される。
【0074】また、プリチャージ期間中はPMOS(Q
1、Q2)がオフ状態になることにより、信号N5’お
よび信号N2’はデータ線対(m1、m2)のプリチャ
ージレベルであるVddレベルに保たれ、信号N5’と
信号N2’の電圧レベル低下によるフリップフロップ回
路136内に流れる貫通電流を防止することができる。
【0075】もし、プリチャージ期間中にデータ線対
(l1、l2、m1、m2)が前記PMOS(Q1、Q
2)を境に分離されない場合、Vddレベルにプリチャ
ージされるデータ線対(m1、m2)とVdlレベルに
プリチャージされるデータ線対(l1、l2)とが短絡
し、前記データ線対(l1、l2)の電圧レベルはVd
dレベルへ向かって遷移してしまう。さらにデータ線対
(m1、m2)のプリチャージレベルであるVddレベ
ルが低下し、信号N5’および信号N2’の電圧レベル
低下によるフリップフロップ回路136内の前記貫通電
流が生じる。
【0076】従って、図15(d)に示されるように、
プリチャージの期間150において第1および第2のプ
リチャージ信号MIPBIJおよびMIPTIJがロウ
レベルであることにより、書込みアンプ回路(図2)側
のデータ線対(l1、l2)はVdlレベルにプリチャ
ージされる。また、CMOSラッチ型増幅回路(Q3〜
Q6)側のデータ線対(m1、m2)は図15(c)に
示すようにVddレベルにプリチャージされる。つま
り、プリチャージ回路134のデータ線対(l1、l
2、m1、m2)を分離するためのPMOS(Q1、Q
2)がオフ状態にあるためにVdlレベルにプリチャー
ジされる書込みアンプ回路側のデータ線対(l1、l
2)とVddレベルにプリチャージされるデータ線対
(m1、m2)との短絡が防止される。
【0077】本実施形態のメモリはアレイの内部電圧が
外部電圧よりも低い電圧とされる。これにより、内部回
路の低消費電力化を図っている。この場合、メモリ内で
内部低電圧から外部高電圧へ読出し信号レベルを変換す
る必要がある。信号レベルを変換するために新たな変換
回路を設けると、変換回路での遅延時間により、読出し
スピードの遅延を招く。
【0078】本発明の実施形態によればデータ線対(l
1、l2、m1、m2)をスイッチMOSFET(Q
1、Q2)で分割し、内部回路側のデータ線対を低電圧
にプリチャージし、CMOSラッチ型増幅回路(Q3〜
Q6)側のデータ線対(m1、m2)を高電圧にプリチ
ャージし、読出し時に両データ線を結合することによ
り、電圧レベル変換を行なうので、電圧レベル変換に伴
う遅延が実質的に生じない。
【0079】本発明の実施形態のように、CMOSラッ
チ型増幅回路(Q3〜Q6)の出力信号を受けてデータ
を保持する保持回路136を設けることにより、増幅回
路のプリチャージ動作を次の読出し動作に備えて早期に
開始することができる。
【0080】また、増幅回路として図5に示されるよう
なCMOSラッチ型増幅回路(Q3〜Q6)を用いるこ
とにより、より高速な読出し動作が可能である。すなわ
ち、前記読出し時のレベル変換により、信号N2’、信
号N5’がVddレベルからVdlレベルに下がり(図
15(c)参照)、その後、CMOSラッチ型増幅回路
(Q3〜Q6)により一方がVddレベル、他方がVs
sレベルに向かって各々相補的に高速に増幅される。
【0081】以上、詳細に説明したように、CMOSラ
ッチ型増幅回路(Q3〜Q6)の電源電圧として、内部
電圧の電源電圧(Vdl)よりも高い電圧(Vdd)を
用い、増幅回路の入力データ線を高い電圧(Vdd)に
プリチャージするためにスイチMOSFET(Q1、Q
2)を利用することにより、増幅回路の動作時にレベル
変換動作を同時に実行することが可能となった。従っ
て、レベル変換の為の遅延時間が実質的に無視できるの
で高速な読出し動作が可能となる。
【0082】以上、本発明者によってなされた発明を例
示的な実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
【0083】例えば、ある場合には、本発明のある特徴
を用いる一方、本発明の他の特徴を用いないこともでき
る。更に、本発明の範囲を逸脱することなく、本実施形
態に付加的または代替的な構成要素や他の回路を追加す
ることもできる。従って、添付の特許請求の範囲は本発
明の範囲と整合する仕方で広く解釈すべきである。
【0084】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
【0085】即ち、タイミングの競合および電圧レベル
の不一致に起因する問題を解決することができる。
【0086】また、テストモードでは半導体メモリのメ
モリセルの2倍の数を同時にアクセスすることができ、
従って試験時間を短縮することができる。
【0087】更に、個々の異なる幅に対応する出力バス
の時定数を非常に類似したものにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の16MビットSDRAM用のメインアン
プ回路の略図である。
【図2】従来の16MビットSDRAM用の書込みアン
プ回路の略図である。
【図3】図1および図2の従来の回路のタイミング図で
ある。
【図4】本発明の実施形態である64MビットSDRA
Mのブロック図である。
【図5】図4の64MビットSDRAM用の改良された
メインアンプ回路の略図である。
【図6】図2の従来の書込みアンプ回路を備えた図5の
改良されたメインアンプ回路のタイミング図であり、本
発明の特徴を示す図である。
【図7a】図4の64MビットSDRAMのメイン出力
バス用のレイアウト図である。
【図7b】図4の64MビットSDRAMのメイン出力
バス用のレイアウト図である。
【図7c】図4の64MビットSDRAMのメイン出力
バス用のレイアウト図である。
【図8】図4および図9の64M・SDRAMのメモリ
セルを示す図である。
【図9】本発明の好適な他の64M・SDRAMの全体
図である。
【図10】本発明の64M・SDRAMのセンスアンプ
回路図である。
【図11】本発明の64M・SDRAMのI/O選択部
回路図である。
【図12】バンクアクティブ時のタイミング図である。
【図13】プリチャージ時のタイミング図である。
【図14】書込みアンプのタイミング図である。
【図15】本発明のメインアンプのタイミング図であ
る。
【符号の説明】
10,130 メインアンプ回路 12 NANDゲート(第1のセクション) 14 プリチャージ回路(第2のセクション) 16 フリップフロップ(第3のセクション) 18 駆動回路(第4のセクション) 20 書込みアンプ回路 100,200 装置(SDRAM) 102,104,108a〜108d 入力パッド 106 電圧レギュレータ 110 アドレスデコーダグループ 112a〜112d I/Oパッド 114 I/O回路グループ 116〜119 バンク 116u〜119u メモリセルバンクの上位部分 116l〜119l メモリセルバンクの下位部分 120 メインアンプ 122 書込みアンプ 124 メイン出力バス 124t メインテスト出力バス 124’〜124''' メイン出力バス 126 データ・インバス 132 NAND回路(第1のセクション) 134 プリチャージ回路(第2のセクション) 136 フリップフロップ回路(第3のセクション) 138 駆動回路(第4のセクション) 148,150,152 期間 160,160a〜160h バスライン 160W,162W,164W バス幅 162a〜162d,164a,164b バスライン 202,204 パッド 206 電圧レギュレータ 208 アドレス初段回路 210 Yラッチカウンタ 212,218 データ初段回路 220 ハイインピーダンスコントロール回路 222,228 CMOSバッファ 230 マスクコントロール回路 232,238 レイテンシーラッチ回路 240 モードデコーダラッチ回路 242 コントロール系回路 244 レイテンシーコントロール回路 246 回路群 300 センスアンプ回路 302,304 信号線 400 I/O選択部回路 402,404 インバータ回路 A1〜A8,B1〜B8,C1〜C8,D1〜D8,E
1〜E8,F1〜F8,G1〜G8,H1〜H8 グル
ープ Q1〜Q6 MOSFET l1,l2,m1,m2 データ線 WAP プリチャージ回路 MILSB,MILST 信号線 SAN,SNP センスアンプ部 MOB1〜MOB8 メインアンプ出力 MASJ バンクアクティブ化信号 MACBJ メイン入出力分離信号 MAEJ メインアンプアクティブ化信号 MATESTB テスト信号 MAPJ メインアンププリチャージ信号 MIOT メイン入出力信号またはメイン入出力 MIOB 反転メイン入出力信号または反転メイン入出
力 MIOx 入出力信号 MIPTIJ 第1のプリチャージ信号 MIPBIJ 第2のプリチャージ信号 MIEQIJ 等化信号 MIDB 第1の書込み信号 MIDT 第2の書込み信号 MOJ メインアンプ出力またはメインアンプ出力信号 MAOEJ 出力アクティブ信号 MOTJ メインアンプテスト出力信号 Vdd プラス外部電源 Vss 接地電圧 V1,Vd1 内部電圧 N1,N2,N1’,N2’ 出力または信号 N3,N4 出力信号 N3’〜N5’ 出力または出力信号 BANK0〜BANK8 バンク MRS モードデコーダラッチセット信号 Bcu,Bact/Pre,R/W,BLEQB 信号 LIOT,LIOB ローカル入出力信号またはローカ
ル入出力 BL0B,BL0T,BL1B,BL1T ビット線 SWL0 ワード線 YS カラム選択信号 SHR0,SHR1 シェアード信号 SDP,SDN センスアンプ活性化信号
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/8242 H01L 27/10 681F

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 書込みアンプ回路と共に動作する半導体
    メモリ用のメインアンプ回路であって、該メインアンプ
    回路と該書込みアンプ回路との両方が第1のプラス電圧
    レベルで動作し、2つのI/Oバスを第2のプラス電圧
    レベルへ選択的に駆動し、プリチャージすることができ
    るものであり、該メインアンプ回路は、 前記2つのI/Oバスの分離と該2つのI/Oバスのプ
    リチャージとの両方を実行することができるプリチャー
    ジ回路と、 その第1のセクションをアクティブにする信号を発信す
    るためのアクティブ化回路とを有し、 前記2つのI/Oバスが分離しているときのみ、2つの
    I/O信号をプリチャージするよう前記信号が前記第1
    のセクションをイネーブルにすることを特徴とする半導
    体メモリ用のメインアンプ回路。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体メモリ用のメイン
    アンプ回路であって、書込みサイクルの間、前記2つの
    I/Oバスのプリチャージから該メインアンプ回路の前
    記第1のセクションをディスエーブルにすることを特徴
    とする半導体メモリ用のメインアンプ回路。
  3. 【請求項3】 複数のメモリセルとメインアンプ回路と
    を有する半導体メモリであって、該メインアンプ回路が
    メイン出力バスとテスト出力バスとを有し、通常モード
    では、該メイン出力バスのみが該メモリセルにアクセス
    することができ、テストモードでは、該メイン出力バス
    と該テスト出力バスとの両方が該メモリセルに同時にア
    クセスすることができることを特徴とする半導体メモ
    リ。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の半導体メモリであって、
    更に、前記テストモードの間、前記メモリセルからアク
    セスされるデータを圧縮し、復元するための圧縮・復元
    手段を有することを特徴とする半導体メモリ。
  5. 【請求項5】 請求項3記載の半導体メモリであって、
    前記メインアンプ回路が出力アクティブ化信号とテスト
    アクティブ化信号との両方を含むことを特徴とする半導
    体メモリ。
  6. 【請求項6】 請求項3記載の半導体メモリであって、
    64Mのメモリセルを含むことを特徴とする半導体メモ
    リ。
  7. 【請求項7】 第1または第2のメタルマスクのいずれ
    か一方を含む複数のマスクを用いる半導体メモリの製造
    方法であって、第1のデータ幅を有する第1の半導体メ
    モリは該第1のメタルマスクを用いて製造され、第2の
    データ幅を有する第2の半導体メモリは該第2のメタル
    マスクを用いて製造され、該第1および第2の半導体メ
    モリの両方が出力バス上に出力信号を受取る同一の出力
    回路を備え、該第1の半導体メモリの該出力バスは該第
    2の半導体メモリの該出力バスより大きいキャパシタン
    スを有し、該製造方法は、 前記第1の出力バスの抵抗が前記第2の出力バスの抵抗
    より小さくなるよう第1のバス幅と第2のバス幅とを選
    択することを特徴とする半導体メモリの製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の半導体メモリの製造方法
    であって、前記出力バスのそれぞれの時定数が比較的に
    同じであることを特徴とする半導体メモリの製造方法。
  9. 【請求項9】 請求項7記載の半導体メモリの製造方法
    であって、前記半導体メモリのそれぞれが64Mのメモ
    リセルを含むことを特徴とする半導体メモリの製造方
    法。
  10. 【請求項10】 請求項9記載の半導体メモリの製造方
    法であって、前記第1の幅が4ビットであり、前記第2
    の幅が16ビットであることを特徴とする半導体メモリ
    の製造方法。
  11. 【請求項11】 請求項7記載の半導体メモリの製造方
    法であって、前記第1の出力バスのバス幅が前記第2の
    出力バスのバス幅より小さいので、該第1の出力バスの
    前記抵抗が該第2の出力バスの前記抵抗より小さいこと
    を特徴とする半導体メモリの製造方法。
  12. 【請求項12】 複数のビット線対と該複数のビット線
    対と交差する複数のワード線とダイナミック型メモリセ
    ルと前記複数のビット線対に接続される複数のセンスア
    ンプ回路とを含むメモリアレイと、 前記複数のビット線対の所定のビット線対が選択的に接
    続されるデータ線対と、 前記データ線対に接続され第1プラス電圧レベルを出力
    する書き込み回路と、 前記データ線対に接続され第2プラス電圧レベルを出力
    する読み出し増幅回路と、 前記データ線対を、一方の対と他方の対に分割するため
    にデータ線対に設けられた一対のスイッチMOSFET
    と、 前記データ線対の前記一方の対を前記第1プラス電圧レ
    ベルにプリチャージする第1プリチャージ回路と、 前記データ線対の前記他方の対を前記第2プラス電圧レ
    ベルにプリチャージする第2プリチャージ回路とを備
    え、 前記書き込み回路は前記データ線対の前記一方の対に接
    続され、前記読み出し増幅回路は前記データ線対の他方
    の対に接続され、 前記第2プリチャージ回路が動作状態であるときは前記
    一対のスイッチMOSFETはオフ状態にされることを
    特徴とする半導体メモリ。
  13. 【請求項13】 請求項12記載の半導体メモリであっ
    て、 前記第2プラス電圧レベルは前記第1プラス電圧レベル
    より高い電圧であることを特徴とする半導体メモリ。
  14. 【請求項14】 請求項13記載の半導体メモリであっ
    て、 前記複数のセンスアンプのハイレベルの出力電圧は前記
    第1プラス電圧レベルであることを特徴とする半導体メ
    モリ。
  15. 【請求項15】 請求項14記載の半導体メモリであっ
    て、 前記読み出し増幅回路はCMOSラッチ回路であること
    を特徴とする半導体メモリ。
  16. 【請求項16】 複数のビット線対と該複数のビット線
    対と交差する複数のワード線とダイナミック型メモリセ
    ルと前記複数のビット線対に接続される複数のセンスア
    ンプ回路とを含むメモリアレイと、 前記複数のビット線対の所定のビット線対が選択的に接
    続されるデータ線対と、 前記データ線対に接続される読み出し増幅回路と、 前記データ線対を、一方の対と他方の対に分割するため
    に該データ線対に設けられた一対のスイッチMOSFE
    Tと、 前記データ線対の前記一方の対を第1プラス電圧レベル
    にプリチャージする第1プリチャージ回路と、 前記データ線対の前記他方の対を前記第1プラス電圧レ
    ベルより高い第2プラス電圧レベルにプリチャージする
    第2プリチャージ回路とを備え、 前記所定のビット線対は前記一方の対に接続され、前記
    読み出し増幅回路は前記データ線対の他方の対に接続さ
    れ、 前記読み出し増幅回路の電源電圧は前記第2プラス電圧
    レベルであることを特徴とする半導体メモリ。
  17. 【請求項17】 請求項16記載の半導体メモリであっ
    て、 前記読み出し増幅回路はCMOSラッチ回路であること
    を特徴とする半導体メモリ。
  18. 【請求項18】 請求項17記載の半導体メモリであっ
    て、 前記複数のセンスアンプのハイレベルの出力電圧は前記
    第1プラス電圧レベルであることを特徴とする半導体メ
    モリ。
  19. 【請求項19】 請求項18記載の半導体メモリであっ
    て、前記半導体メモリは、 前記読み出し増幅回路の出力信号を受ける保持回路を備
    え、 前記保持回路の電源電圧は前記第2プラス電圧レベルで
    あることを特徴とする半導体メモリ。
  20. 【請求項20】 請求項19記載の半導体メモリであっ
    て、前記半導体メモリは、 外部電源電圧を受けて前記第1プラス電圧レベルの電圧
    を得る電源電圧降圧回路をさらに備えることを特徴とす
    る半導体メモリ。
  21. 【請求項21】 請求項20記載の半導体メモリであっ
    て、前記半導体メモリは、 前記データ線対に接続され第1プラス電圧レベルを出力
    する書き込み回路をさらに備えることを特徴とする半導
    体メモリ。
  22. 【請求項22】 請求項19記載の半導体メモリであっ
    て、 前記第2プリチャージ回路が動作状態であるときは前記
    一対のスイッチMOSFETはオフ状態にされることを
    特徴とする半導体メモリ。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6212120B1 (en) 1999-05-26 2001-04-03 Nec Corporation Semiconductor memory device with less power consumption
JP2001332090A (ja) * 2000-05-22 2001-11-30 Samsung Electronics Co Ltd 半導体メモリ装置及びデータ伝送方法
WO2001057871A3 (en) * 2000-02-02 2002-02-21 Broadcom Corp Memory module with hierarchical functionality
US6937538B2 (en) 2000-02-02 2005-08-30 Broadcom Corporation Asynchronously resettable decoder for a semiconductor memory

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100355225B1 (ko) * 1999-07-12 2002-10-11 삼성전자 주식회사 교류 스트레스의 번-인 테스트가 가능한 집적회로 및 이를 이용한 테스트 방법
KR100400309B1 (ko) 2001-05-04 2003-10-01 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자의 내부 동작명령 발생장치 및 방법
KR100611404B1 (ko) * 2004-07-27 2006-08-11 주식회사 하이닉스반도체 메인 증폭기 및 반도체 장치
KR100991999B1 (ko) * 2008-10-21 2010-11-04 주식회사 하이닉스반도체 데이터 전송 회로 및 이를 이용한 반도체 집적 회로
TWI503821B (zh) * 2012-07-09 2015-10-11 Faraday Tech Corp 靜態隨機存取記憶裝置及其位元線電壓控制電路

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0787037B2 (ja) * 1984-03-02 1995-09-20 沖電気工業株式会社 半導体メモリ回路のデータ書込方法
US4754433A (en) * 1986-09-16 1988-06-28 Ibm Corporation Dynamic ram having multiplexed twin I/O line pairs
JPH0786425A (ja) * 1993-06-30 1995-03-31 Hitachi Ltd ダイナミック型ram
KR960006271B1 (ko) * 1993-08-14 1996-05-13 삼성전자주식회사 고속동작을 위한 입출력라인구동방식을 가지는 반도체메모리장치
JPH07235187A (ja) * 1994-02-22 1995-09-05 Hitachi Ltd 半導体記憶装置、及びデータ処理装置
US5481500A (en) * 1994-07-22 1996-01-02 International Business Machines Corporation Precharged bit decoder and sense amplifier with integrated latch usable in pipelined memories
US5671181A (en) * 1994-12-16 1997-09-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Data read circuit used in semiconductor storage device
US5672987A (en) * 1995-06-08 1997-09-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Potential difference transmission device and semiconductor memory device using the same
JPH1139880A (ja) * 1997-07-16 1999-02-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6212120B1 (en) 1999-05-26 2001-04-03 Nec Corporation Semiconductor memory device with less power consumption
WO2001057871A3 (en) * 2000-02-02 2002-02-21 Broadcom Corp Memory module with hierarchical functionality
US6937538B2 (en) 2000-02-02 2005-08-30 Broadcom Corporation Asynchronously resettable decoder for a semiconductor memory
US7082076B2 (en) 2000-02-02 2006-07-25 Broadcom Corporation Memory module with hierarchical functionality
JP2001332090A (ja) * 2000-05-22 2001-11-30 Samsung Electronics Co Ltd 半導体メモリ装置及びデータ伝送方法

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