JPH10130853A - Metal plating method - Google Patents

Metal plating method

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Publication number
JPH10130853A
JPH10130853A JP28374796A JP28374796A JPH10130853A JP H10130853 A JPH10130853 A JP H10130853A JP 28374796 A JP28374796 A JP 28374796A JP 28374796 A JP28374796 A JP 28374796A JP H10130853 A JPH10130853 A JP H10130853A
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JP
Japan
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plating
substrate
base material
mat material
pretreatment
Prior art date
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Pending
Application number
JP28374796A
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Japanese (ja)
Inventor
Masanori Tabei
正紀 田部井
Nobuo Matsuoka
宣夫 松岡
Kohei Chigira
恒平 千木良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Achilles Corp
Original Assignee
Achilles Corp
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Publication date
Application filed by Achilles Corp filed Critical Achilles Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To firmly deposit plating metal to the smooth surface of a substrate. SOLUTION: Pretreatment and plating treatment are executed. In the pretreatment, a mat material 2 is formed on a substrate 1, and the fine particles of the applied mat material are deposited to the surface of the substrate 1 to form raggedness, by which the adsorptivity of a plating catalyst can be improved. In the plating treatment, plating metallic film 3 obtained by electroless plating is formed on the surface of the substrate 1. The plating metallic film 3 is uniformly formed on the substrate 1 via the mat materials 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、非導電性でしかも
メッキ金属の載りにくい基材表面をメッキ金属膜で被覆
する金属被覆加工方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal coating method for coating a surface of a substrate which is non-conductive and on which a plating metal is not easily applied, with a plating metal film.

【0002】[0002]

【従来の技術】非導電性の基材、例えば合成樹脂発泡
体,合成樹脂繊維製品に導電性を付与する技術は、電磁
波シールド材の製造などに用いられる。従来、非導電性
の基材に導電性を付与する方法として、無電解メッキ
法,スパッタリング法,金属蒸着法などが知られてい
る。
2. Description of the Related Art A technique for imparting conductivity to a non-conductive substrate, for example, a synthetic resin foam or a synthetic resin fiber product, is used for manufacturing an electromagnetic wave shielding material. Conventionally, as a method for imparting conductivity to a non-conductive substrate, an electroless plating method, a sputtering method, a metal deposition method, and the like are known.

【0003】しかし、スパッタリング法や金属蒸着法
は、高真空中で行われるために脱気装置を含む特殊な設
備が必要である。この点、無電解メッキ法は前処理後、
メッキ浴に浸すのみで基材を導電化することができる。
However, the sputtering method and the metal deposition method require special equipment including a deaerator since they are performed in a high vacuum. In this regard, the electroless plating method uses
The substrate can be made conductive simply by immersing it in the plating bath.

【0004】無電解メッキ(化学メッキ)は、溶液中の
金属イオンを化学的に還元して析出した金属を基材に付
着させる方法である。析出した金属を基材に定着させる
ため、基材には前処理としてエッチング,脱脂,増感,
活性化などの処理が施される。
[0004] Electroless plating (chemical plating) is a method in which metal ions in a solution are chemically reduced to deposit deposited metal on a substrate. Etching, degreasing, sensitization,
Processing such as activation is performed.

【0005】例えば、エッチング処理としては、有機バ
イダー中に多量の金属粒子を含有した前処理塗膜を基材
表面に形成し、アルカリエッチング処理した後に通常の
無電界メッキを行う方法が公表特許公報昭62−500
344号に記載されている。
[0005] For example, as an etching treatment, a method of forming a pretreatment coating film containing a large amount of metal particles in an organic binder on the surface of a base material, performing an alkali etching treatment, and then performing ordinary electroless plating is disclosed in a published patent publication. 1987-500
No. 344.

【0006】また、特開平7−42072号において
は、ポリエステル繊維からなる繊維構造物表面に無電解
メッキ法により金属皮膜を形成する方法において、無電
解メッキに先立ち、該繊維構造物の重量に基いて0.0
1〜5%の水酸化ナトリウムを含有する、沸点が100
℃以下の少なくとも1組の共沸混合物からなる有機溶剤
を用いて、該繊維構造物を精錬、脱脂処理した後、上記
と同種の有機溶剤に溶解したウレタン系樹脂の溶液で処
理することからなるポリエステル繊維構造物の金属被覆
加工方法を提案し、この方法によれば、ポリエステル繊
維構造物表面に均一で密着性の良好な金属皮膜を形成で
きる効果が強調されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-42072 discloses a method of forming a metal film on the surface of a fibrous structure composed of polyester fibers by electroless plating, based on the weight of the fibrous structure prior to electroless plating. 0.0
100% boiling point, containing 1-5% sodium hydroxide
After refining and degreasing the fibrous structure using an organic solvent composed of at least one set of azeotropic mixtures at a temperature of not more than 0 ° C., the fiber structure is treated with a solution of a urethane-based resin dissolved in the same kind of organic solvent as described above. A metal coating processing method for a polyester fiber structure is proposed, and according to this method, the effect of forming a uniform and good-adhesion metal film on the surface of the polyester fiber structure is emphasized.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】前記の公表特許公報昭
62−500344号に記載の方法によると、廃液によ
る金属流出や作業環境の悪化等の問題が発生しやすく、
さらに基材表面を直接傷つけて粗面化を行うために基材
物性低下等の問題も発生させることとなる。
According to the method described in the above-mentioned Japanese Patent Publication No. 62-500344, problems such as metal spillage due to waste liquid and deterioration of the working environment tend to occur.
Further, since the surface of the substrate is directly damaged to roughen the surface, problems such as deterioration of the physical properties of the substrate occur.

【0007】また、特開平7−42072号の方法は、
金属皮膜の密着に、接着性に優れたウレタン系樹脂を用
いようとする試みであるが、ウレタン系樹脂は、繊維表
面に形成された粗面に密着させるのであるから、従来法
と比較したときには、金属皮膜がウレタン系樹脂に裏打
ちされているかどうかの違いにすぎず、結局、この先行
例も基材表面にエッチング処理などによって表面を傷付
けて粗面を形成し、この粗面を利用して金属皮膜を密着
させるという構想の範囲内のものである。
The method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-42072 is
It is an attempt to use a urethane-based resin with excellent adhesion for the adhesion of the metal film.However, since the urethane-based resin adheres to the rough surface formed on the fiber surface, when compared with the conventional method, However, this is only a difference whether the metal film is backed by a urethane resin or not.After all, this prior example also forms a rough surface by scratching the surface of the base material surface by etching etc., and using this rough surface This is within the range of the concept of making the metal film adhere.

【0008】本発明の目的は、基材表面を傷付けること
なく無電解メッキによる金属膜を定着させる金属被覆加
工方法を提供することにある。
It is an object of the present invention to provide a metal coating method for fixing a metal film by electroless plating without damaging the substrate surface.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による金属被覆加工方法においては、前処理
と、メッキ処理とを有する金属被覆加工方法であって、
前処理は、マット材の微粒子を基材に被着する処理であ
り、メッキ処理は、前処理が施された基材に無電解メッ
キを施し、基材に被着したマット材の微粒子を埋めてメ
ッキ金属膜を形成する処理である。
To achieve the above object, a metal coating method according to the present invention comprises a pretreatment and a plating process,
The pre-treatment is a treatment for applying fine particles of the mat material to the base material, and the plating treatment is to perform electroless plating on the pre-treated base material and bury the fine particles of the mat material applied to the base material. This is a process of forming a plated metal film by using

【0010】また、前処理は、マット材と接着剤とを含
むエマルジョンを基材に被着させ、基材を乾燥させてマ
ット材を基材に定着させる処理である。
The pretreatment is a process of applying an emulsion containing a mat material and an adhesive to a substrate, drying the substrate, and fixing the mat material to the substrate.

【0011】また、マット材の微粒子は、基材に付着し
て、基材表面に凹凸を形成し、メッキ処理におけるメッ
キ触媒の吸着性を改善するものである。
The fine particles of the matting material adhere to the base material to form irregularities on the surface of the base material, thereby improving the adsorption of the plating catalyst in the plating process.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を説明
する。図1(a)において、本発明は、前処理として基
材1に無機質のマット材2を被着させた後に、メッキ処
理として無電解メッキを施し、図1(b)のようにマッ
ト材2を埋めて基材1にメッキ金属膜3を形成するもの
である。
Embodiments of the present invention will be described below. In FIG. 1A, according to the present invention, an inorganic mat material 2 is applied to a base material 1 as a pretreatment, and then electroless plating is performed as a plating process, and as shown in FIG. To form a plated metal film 3 on the substrate 1.

【0013】本発明において、基材1は、例えば電磁波
シールド材,導電材,静電気防止材などに加工する材料
であり、基材1には、織布,編布,不織布,ポリウレタ
ンスラブなどの発泡体ブロックなどを使用するが、特に
メッキ金属が載りにくいポリオレフィン樹脂なども基材
として使用可能である。このような基材は、基材表面に
エッチング処理等の格別の処理を必要としないので、強
アルカリ等の廃液問題も生じない。
In the present invention, the base material 1 is a material to be processed into, for example, an electromagnetic wave shielding material, a conductive material, an antistatic material, and the like. Although a body block or the like is used, a polyolefin resin or the like on which a plated metal is hardly applied can also be used as a base material. Such a base material does not require any special treatment such as an etching treatment on the base material surface, and thus does not cause a problem of waste liquid such as strong alkali.

【0014】マット材は、艶消し剤あるいは艶出し剤で
ある。艶消し剤は、繊維、おもにレーヨンの光沢を消す
ために表面に付着あるいは紡糸の際に加える薬剤、また
は材料表面に光沢のない艶消し仕上げにするために塗料
あるいはワニスに添加するものである。
The mat material is a matting agent or a polishing agent. The matting agent is an agent added to a fiber or a rayon to be applied to the surface during spinning to reduce the gloss of the rayon, or added to a paint or varnish to give a matte matte finish to the material surface.

【0015】艶出し剤は、皮革や木材表面の仕上げの
際、表面を滑らかにし、保護,装飾するために用いる粉
末,液体,半液体状物または、繊維の艶出し加工の際に
加えられる糊材,充填剤である。
[0015] Polishing agents are powders, liquids, semi-liquids used for smoothing, protecting and decorating the surface of leather or wood when finishing the surface of leather or wood, or glue added when polishing fibers. Materials and fillers.

【0016】本発明において、マット材は、艶消し剤,
艶出し剤として使用されるもので、微粒子形状をとるも
のである。例えば、二酸化珪素等の珪素系化合物,カー
ボン粉末,活性炭粉末,金属粉末,合成樹脂粉末等を使
用することができる。この微粒子の平均径としては、好
ましくは10〜200μm程度で、更に好ましくは30
〜80μmである。マット剤の微粒子は基材に付着して
基材表面に凹凸を形成する。マット剤の微粒子の粒径が
10μm未満であると、基材に付着させるための接着剤
に埋没してしまい、付着効果がなくなってしまう場合も
ある。また、粒径が200μmを超えると基材表面の凹
凸が大きくなり、メッキ層のひび割れや欠落が発生する
可能性がある。
In the present invention, the mat material comprises a matting agent,
It is used as a polishing agent and takes the form of fine particles. For example, silicon-based compounds such as silicon dioxide, carbon powder, activated carbon powder, metal powder, synthetic resin powder, and the like can be used. The average diameter of the fine particles is preferably about 10 to 200 μm, more preferably about 30 μm.
8080 μm. The fine particles of the matting agent adhere to the substrate and form irregularities on the surface of the substrate. If the particle size of the fine particles of the matting agent is less than 10 μm, the matting agent may be buried in an adhesive for adhering to the substrate, and the adhering effect may be lost. On the other hand, if the particle size exceeds 200 μm, the irregularities on the surface of the base material become large, and there is a possibility that the plating layer may be cracked or missing.

【0017】このマット材を基材に付着させるために、
接着剤溶液に分散させる。接着剤としては、アクリル
系,ウレタン系,エポキシ系等のエマルジョンタイプの
ものが作業性の面で好ましい。これらの接着剤の樹脂分
は、使用される接着剤や塗布方法とによって適宜選択さ
れるが、少なすぎるとマット材と基材との接着力不足と
なり、メッキ工程途中でマット材が欠落する可能性が高
くなり、メッキの付着が不均一となる。また、樹脂分が
多すぎて接着剤の粘度が高すぎると、基材への均一な塗
布が難しくなると共に、接着剤中へのマット材の均一分
散が難しくなり、メッキ不良の発生原因となる可能性が
ある。
In order to attach this mat material to a substrate,
Disperse in the adhesive solution. As the adhesive, an emulsion type adhesive such as an acrylic type, a urethane type or an epoxy type is preferable in view of workability. The resin content of these adhesives is appropriately selected depending on the adhesive used and the application method. However, if the amount is too small, the adhesive strength between the mat material and the base material becomes insufficient, and the mat material may be lost during the plating process. And the plating adhesion becomes non-uniform. Further, if the viscosity of the adhesive is too high due to too much resin, it is difficult to uniformly apply the adhesive to the base material, and it is difficult to uniformly disperse the mat material in the adhesive, which causes plating failure. there is a possibility.

【0018】接着剤に対してマット材の添加量として
は、接着剤に対して0.1〜5%、更に好ましくは、
0.5〜1%程度添加する。
The amount of the mat material added to the adhesive is 0.1 to 5% based on the adhesive, and more preferably,
Add about 0.5-1%.

【0019】基材に対するマット材の付着量は、基材の
種類,形状によって異なるが、乾燥後の固形分として
1.0〜10g/m2程度でよい。この付着量が10g
/m2を超えると、メッキ処理において、キャタリスト
の吸着が多くなり、メッキ液の老化が速くなり、さらに
形成されたメッキ層に欠落や亀裂が発生し易くなる。ま
た、1.0g/m2以下の付着量であると、キャタリス
トの吸着不足により、メッキムラが発生し易くなる。
The amount of the mat material adhered to the substrate depends on the type and shape of the substrate, but may be about 1.0 to 10 g / m 2 as a solid content after drying. The amount of this adhesion is 10 g
If it exceeds / m 2 , in the plating process, the adsorption of the catalyst increases, the aging of the plating solution is accelerated, and the formed plating layer is liable to be chipped or cracked. On the other hand, when the adhesion amount is 1.0 g / m 2 or less, plating unevenness easily occurs due to insufficient adsorption of the catalyst.

【0020】前処理は、マット材を基材に塗布し、ある
いはディッピング処理,散布などの方法でマット材の微
粒子を基材に被着させる処理である。
The pretreatment is a process of applying a mat material to a substrate, or applying fine particles of the mat material to the substrate by a method such as dipping or spraying.

【0021】メッキ処理としての無電解メッキの方法
は、特に制限されるものではなく、従来から合成樹脂や
合成繊維類の金属メッキのために用いられる無電解メッ
キ法はいずれも使用可能である。例えば、無電解ニッケ
ルメッキの場合には、無電解ニッケルメッキの活性化処
理としてセンシタイジング−アクチベイティング法,キ
ャタライジング−アクチベイティング法などを用い、活
性化処理後の基材を硫酸ニッケル,塩化ニッケル,蟻酸
ニッケル,酢酸ニッケル等の水溶性ニッケル塩を用いた
メッキ浴中に浸漬して無電解メッキを行う。無電解ニッ
ケルメッキの還元剤には次亜燐酸ナトリウムやジメチル
アミンボラン,ホウ素化水素ナトリウムを用いる、無電
解メッキ処理によって基材組織に付着させたマット材を
覆って基材1上に金属膜3が形成される。
The method of electroless plating as the plating treatment is not particularly limited, and any of the electroless plating methods conventionally used for metal plating of synthetic resins and synthetic fibers can be used. For example, in the case of electroless nickel plating, a sensitizing-activating method, a catalizing-activating method, or the like is used as an activation process of the electroless nickel plating. Electroless plating is performed by immersion in a plating bath using a water-soluble nickel salt such as nickel chloride, nickel formate, and nickel acetate. As a reducing agent for electroless nickel plating, sodium hypophosphite, dimethylamine borane, or sodium borohydride is used. The metal film 3 is coated on the substrate 1 by covering the mat material adhered to the substrate structure by the electroless plating. Is formed.

【0022】[0022]

【実施例】以下に本発明の実施例を示す。Examples of the present invention will be described below.

【0023】織布(ポリエステルタフタ,糸の太さ75
デニール,厚さ0.08m/m,重さ60g/m2)を
基材とし、マット材には、艶消し剤[塩野義製薬(株)
製カープレックスFPS−1,無晶形二酸化ケイ素微粒
粉末,粒径50〜97μm]を、アクリル系エマルジョ
ンバインダー[大日本インキ化学工業(株)製DICN
AL−E7210Kの5%水溶液]に0.5%を混合し
たものを用いた。塗布処理としてロールコーターでマッ
ト材混合液を基材に塗布した後、70〜90℃のオーブ
ン中で乾燥した。
Woven cloth (polyester taffeta, thread thickness 75
Denier, thickness 0.08 m / m, weight 60 g / m 2 ), and matting material [Matte Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd.]
Carplex FPS-1, amorphous silicon dioxide fine powder, particle size of 50 to 97 μm] was added to an acrylic emulsion binder [DICN manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated.
AL-E7210K 5% aqueous solution]. As a coating treatment, a mat material mixture was applied to the substrate with a roll coater, and then dried in an oven at 70 to 90 ° C.

【0024】乾燥後の基材に、メッキ処理として通常の
無電解ニッケルメッキ方法を用いてニッケル膜を基材組
織に形成したところ、基材の組織にニッケルが素早く付
着し、基材組織の全面に均一にニッケル膜が形成され
た。得られたニッケル膜について抵抗値を測定したとこ
ろ、抵抗値のばらつきは、1m2中、5Ω・cm2以下で
あった。
When a nickel film is formed on the dried base material using a conventional electroless nickel plating method as a plating treatment, nickel quickly adheres to the base material structure, and the entire surface of the base material structure is formed. , A nickel film was formed uniformly. When the resistance value of the obtained nickel film was measured, the variation of the resistance value was 5 Ω · cm 2 or less in 1 m 2 .

【0025】比較のため、塗布処理を行わないまま基材
に直接、同じメッキ処理を施したところ、基材にはニッ
ケルが付着しない部分が生じ、1m2中の抵抗値のばら
つきが大きく、到底実用にはならないものであった。以
上実施例においては、基材の組織の平滑な表面に艶消し
剤の成分であるに酸化ケイ素の微粒子がバインダーによ
って付着し、組織表面に凹凸が形成され、無電解メッキ
処理に用いられたメッキ触媒が基材組織に有効に吸着
し、析出したメッキ金属が均一に付着するもの考えられ
る。
For comparison, when the same plating treatment was applied directly to the base material without performing the coating treatment, a portion where nickel did not adhere was formed on the base material, and the resistance value variation in 1 m 2 was large. It was not practical. In the above examples, the fine particles of silicon oxide, which is a component of the matting agent, adhere to the smooth surface of the texture of the base material with a binder, and irregularities are formed on the texture surface, and the plating used in the electroless plating treatment is performed. It is conceivable that the catalyst is effectively adsorbed on the substrate structure and the deposited plating metal is uniformly attached.

【0026】以上、実施例においては、艶消し剤を基材
に付着させた例について示したが、艶出し剤に用いられ
る微粒子であっても同等の効果が得られる。
As described above, the examples in which the matting agent is adhered to the substrate have been described. However, the same effect can be obtained even with fine particles used for the polishing agent.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上のように本発明によるときには、無
電解メッキ処理に先立ち、マット材である艶消し剤又は
艶出し剤の微粒子を基材組織に付着させることによりポ
リオレフィン樹脂のようなメッキ金属が載りにくい素材
であっても、これを化学メッキ用の基材に用いて無電解
メッキによるメッキ金属膜を均一に形成することがで
き、本発明方法によって得られた金属被覆体は、電磁波
シールド材,導電材,静電防止材などに広く用いること
ができる。
As described above, according to the present invention, prior to the electroless plating treatment, fine particles of a matting agent or a polishing agent as a mat material are adhered to a substrate structure to thereby form a plated metal such as a polyolefin resin. Even if the material is difficult to mount, it can be used as a base for chemical plating to form a plated metal film by electroless plating uniformly, and the metal coating obtained by the method of the present invention can be used as an electromagnetic wave shield. It can be widely used for materials, conductive materials, antistatic materials and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a),(b)は本発明の方法を工程順に示す
図である。
FIGS. 1A and 1B are diagrams showing a method of the present invention in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基材 2 マット材 3 メッキ金属膜 1 base material 2 mat material 3 plated metal film

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 前処理と、メッキ処理とを有する金属被
覆加工方法であって、 前処理は、マット材の微粒子を基材に被着する処理であ
り、 メッキ処理は、前処理が施された基材に無電解メッキを
施し、基材に被着したマット材の微粒子を埋めてメッキ
金属膜を形成する処理であることを特徴とする金属被覆
加工方法。
1. A metal coating processing method comprising a pretreatment and a plating treatment, wherein the pretreatment is a treatment for applying fine particles of a mat material to a base material, and the plating treatment is performed by a pretreatment. A metal coating processing method, wherein electroless plating is performed on the base material thus formed, and fine particles of a mat material adhered to the base material are embedded to form a plated metal film.
【請求項2】 前処理は、マット材と接着剤とを含むエ
マルジョンを基材に被着させ、基材を乾燥させてマット
材を基材に定着させる処理であることを特徴とする請求
項1に記載の金属被覆加工方法。
2. The pretreatment is a process of applying an emulsion containing a mat material and an adhesive to a substrate, drying the substrate, and fixing the mat material to the substrate. 2. The metal coating method according to item 1.
【請求項3】 マット材の微粒子は、基材に付着して、
基材表面に凹凸を形成し、メッキ処理におけるメッキ触
媒の吸着性を改善するものであることを特徴とする請求
項1又は2に記載の金属被覆加工方法。
3. The fine particles of the mat material adhere to the base material,
The metal coating method according to claim 1 or 2, wherein irregularities are formed on the surface of the substrate to improve the adsorption of a plating catalyst in the plating process.
JP28374796A 1996-10-25 1996-10-25 Metal plating method Pending JPH10130853A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013115423A (en) * 2011-11-25 2013-06-10 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Build-up printed circuit board and method of manufacturing the same

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