JPH10128199A - 薬液塗布装置 - Google Patents

薬液塗布装置

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Publication number
JPH10128199A
JPH10128199A JP30105996A JP30105996A JPH10128199A JP H10128199 A JPH10128199 A JP H10128199A JP 30105996 A JP30105996 A JP 30105996A JP 30105996 A JP30105996 A JP 30105996A JP H10128199 A JPH10128199 A JP H10128199A
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JP
Japan
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flux
drum
outer peripheral
chemical
gap
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Application number
JP30105996A
Other languages
English (en)
Inventor
Gunji Ishihara
群司 石原
Suguru Tan
英 丹
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3489Composition of fluxes; Methods of application thereof; Other methods of activating the contact surfaces

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  • Special Spraying Apparatus (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】スプレー式のような目詰りがなく、均一な塗布
が行ない得られ、しかもフラックスの塗布量の調整が容
易なフラックス塗布装置を提供することを目的とする。 【解決手段】互いに平行な軸線を中心として回転可能に
支持されている一対のドラムを近接して回転させるとと
もに、これら2つのドラム11にそれぞれフラックス供
給ノズル20によってフラックスを供給し、これらのド
ラム11間のギャップ部分を通過するように空気噴射ノ
ズル29によって空気または不活性ガスを噴射し、フラ
ックスを霧状に飛散させるとともに、空気噴射ノズル2
9からの空気の流れによってフラックスを搬送し、回路
基板40の下面にフラックスを塗布するようにしたもの
である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は薬液塗布装置に係
り、とくにワークの表面に薬液を塗布するようにした薬
液塗布装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子回路は、絶縁材料から成る回路基板
上に電子部品をマウントするとともに、これらの電子部
品のリードを回路基板上に予め形成されている導電性の
配線パターンによって互いに接続して形成するようにし
ている。
【0003】このような電子回路を形成する場合には、
予め配線パターンが形成されている回路基板上に電子部
品を装着し、次いでこの回路基板の電子部品がマウント
されいる面とは反対側の面にフラックスを塗布する。そ
してこの後に電子部品がマウントされた回路基板を静か
に半田ディップ槽に導入し、半田を溶融して成る半田の
噴流を回路基板のパターン面に接触させ、回路基板上の
接続用ランドに電子部品のリードを半田付けして接続す
るようにしている。
【0004】ディップ半田に先立って行なわれるフラッ
クスの塗布を行なうための従来のフラックス塗布装置
は、発泡式のフラックス塗布装置である。すなわちフラ
ックス液中に多孔質の発泡管を挿入しておき、この発泡
管内に空気あるいは窒素ガスを流して多数の泡をフラッ
クス液中に発生させ、その上面を搬送手段によって回路
基板を通過させることによって、回路基板の表面にフラ
ックスを塗布して付着させるようにしている。
【0005】別のフラックスの塗布装置は、スプレー式
の塗布装置である。スプレー式の塗布装置は回路基板の
搬送方向と直交する方向に配されている噴射管の噴射孔
を通してフラックスを霧状に噴射し、その上を回路基板
を通過させてフラックスの微粒子を回路基板の表面に付
着させるものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】発泡式フラックス塗布
装置は、発泡管内のガス圧の変化によってフラックスの
泡の大きさが変化するとともに、フラックスが部分的に
塗布されなかったり、必要以上に多量のフラックスが塗
布される等の問題があり、フラックスの塗布量が不均一
になるという欠点がある。またフラックス液中で空気ま
たは窒素ガスによって発泡させるために、フラックスを
溶解しているアルコール分が揮発し、これによってフラ
ックスの濃度や比重が変化し易く、フラックスの品質不
良を発生することがある。このために発泡したフラック
スの液面を一定にする液面管理装置や、フラックスの比
重あるいは濃度を管理する装置が必要となり、このため
にトータルとしてのシステムが高価になる問題がある。
【0007】一方スプレー式のフラックス塗布装置は、
ノズルが詰り易く、ノズルの洗浄頻度が少ないとノズル
の目詰りが発生し、フラックスが塗布されないという不
具合を生ずる。固定式のスプレーノズルの場合には、複
数のスプレーノズルを必要とするが、互いに隣接するノ
ズル間において噴霧が干渉する領域が発生するために、
塗布量にむらを生ずる問題がある。
【0008】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たものであって、フラックス等の薬液を均一に塗布する
ことができる簡潔な薬液塗布装置を提供することを目的
とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、ワークの表面
に薬液を塗布するようにした薬液塗布装置において、固
定された壁面との間に外周面が所定のギャップをもって
近接して配されており、駆動手段によって回転駆動され
るドラムと、前記ドラムの外周面上に薬液を供給する薬
液供給手段と、前記壁面と前記ドラムの外周面との間の
ギャップにガスを噴射して前記ドラム上の薬液を霧化し
てガスとともに前記ワークに向けて搬送するガス吹付け
手段と、をそれぞれ具備する薬液塗布装置に関するもの
である。
【0010】別の発明は、ワークの表面に薬液を塗布す
るようにした薬液塗布装置において、外周面が所定のギ
ャップをもって互いに近接しており、それぞれ駆動手段
によって回転駆動される一対のドラムと、前記一対のド
ラムの内の少なくとも一方のドラムの外周面に薬液を供
給する薬液供給手段と、前記一対のドラムの外周面間の
ギャップにガスを噴射して前記ドラム上の薬液を霧化し
てガスとともに前記ワークに向けて搬送するガス吹付け
手段と、をそれぞれ具備する薬液塗布装置に関するもの
である。
【0011】上記2つの発明において、前記ワークが回
路基板であって、しかも前記薬液がフラックスであり、
前記回路基板上に前記フラックスを塗布するようにして
よい。
【0012】またドラムの回転方向と対向するようにば
ねで付勢してスクレーパの先端部を前記ギャップの下流
側において前記ドラムの外周面に圧着するようにし、前
記ドラムの外周面に付着した薬液を掻き落すようにして
よい。
【0013】あるいはまた洗浄液供給手段を備え、切換
え弁に対して前記洗浄液供給手段と前記薬液供給手段と
が並列に接続され、前記切換え弁の切換えによって前記
洗浄液供給手段から洗浄液が前記ドラムに供給されるよ
うにしてよい。
【0014】
【発明の実施の形態】図1〜図3は本発明の第1の実施
の形態に係るフラックス塗布装置を示すものであって、
このフラックス塗布装置は直方体状をなす外筐10を備
えている。外筐10内には水平な軸線を中心として回転
可能にドラム11が配されている。ドラム11はその両
端にそれぞれ支軸12が突設されており、このような支
軸12は外筐10の両側にそれぞれ取付けられている支
持板13によって回転可能に支持されるようになってい
る。
【0015】そして支持板13には図1に示すように長
孔が形成されるとともに、この長孔内を支軸12が移動
可能になされ、調整ねじ14によって支軸12の位置が
調整されるようにしている。また外筐10の外側面に取
付けられているモータ15によって上記ドラム11が回
転駆動されるようになっている。
【0016】図3に示すようにドラム11の外周面に先
端部が臨むようにフラックス供給ノズル20が配されて
いる。このフラックス供給ノズル20はポンプを内蔵す
る切換え弁21の吐出側に接続されている。切換え弁2
1の吸込み側は2本の吸引管を備え、一方の吸引管がフ
ラックス槽22内に挿入されるとともに、他方の吸引管
が洗浄液槽23内に挿入されるようになっている。
【0017】さらにドラム11の外周面に接触するよう
にスクレーパ24が配されている。このスクレーパ24
は圧縮コイルばね25によってその先端部がドラム11
の外周面に圧着されるようになっている。なおスクレー
パ24の先端部はドラム11の回転方向と対向するよう
になっている。またドラム11の外周面と接触するよう
に、外筐10の下側には膜厚調整板26が取付けられて
いる。
【0018】ドラム11の下側にはさらに空気噴射ノズ
ル29が配されている。空気噴射ノズル29は図4〜図
8に示すように、その上面にスリット30を備えてお
り、このスリット30を通して空気を噴射するようにし
ている。また空気噴射ノズル29の両側板にはそれぞれ
空気供給口31が設けられており、この空気供給口31
から空気噴射ノズル29内に圧縮空気が供給されるよう
になっている。また空気噴射ノズル29内には図8に示
すように、その内部に長さ方向に沿ってパンチングメタ
ルから成る整流板32が設けられており、これによって
スリット30の全長にわたってほぼ均一に空気を噴射す
るようにしている。
【0019】図3に示すように、空気噴射ノズル29の
側端側には傾斜ガイド33が配されるとともに、この傾
斜ガイド33の終端側がフラックス溜め34になってい
る。
【0020】ドラム11の外周面は外筐10の壁面を兼
用する固定壁面36と小さなギャップを介して対向する
ようになっており、このギャップの下側に上記空気噴射
ノズル29が位置している。そして固定壁面36の上側
にはガイド37が設けられている。ガイド37の上端は
塗布ノズルを兼用する開口38になっている。
【0021】以上のような構成において、モータ15に
よってドラム11を図3および図9において時計方向に
回転駆動するとともに、フラックス供給ノズル20によ
って回転中のドラム11の外周面上にフラックス液を供
給する。フラックス液は膜厚調整板26によって付着厚
さを均一にされた後、固定壁面36と対向するギャップ
の部分を通過する。
【0022】ドラム11と固定壁面36との間のギャッ
プ部に対して下方から空気噴射ノズル29によって空気
または不活性ガスが噴射されるために、ギャップの下側
においては圧力が上昇し、ギャップを通過した途端に圧
力が降下する。このようなギャップの下側と上側の圧力
の変化によってドラム11の外周面上に付着したフラッ
クスは図9に示すように霧状に飛散される。しかも霧状
のフラックスはギャップを通して空気噴射ノズル29の
スリット30から噴射されるガス流であってギャップを
通過するガス流によって上方に吹上げられる。これによ
ってガイド37の開口38の上側に位置する回路基板4
0の下面にフラックスが塗布される。なお回路基板40
はその上面に部品を装着しており、搬送手段によって図
9中左方または右方に移動される。
【0023】固定壁面36との間のギャップで霧化され
なかったフラックス液はドラム11に圧接されるスクレ
ーパ24によって毎回一緒に掻き落とされる。従って図
10に示すサイクルが連続して行なわれることになり、
ドラム11の外周面にフラックスの残留物が固着される
ことが防止され、フラックスを霧状にして回路基板40
の表面に安定に塗布することが可能になる。
【0024】フラックスの塗布を行なわないときに、空
気噴射ノズル29からの空気または不活性ガスの噴出を
停止するとともに、切換え弁21を切換え、フラックス
供給ノズル20からフラックスに代えて洗浄液が噴射さ
れる。すると不使用時にドラム11の外表面の洗浄を行
なうことが可能になる。塗布時においてドラム11から
落下したフラックス液や洗浄液の残液は傾斜ガイド33
によってフラックス溜め34に集まるようになってい
る。このようにして集められた残液は再使用され、ある
いはまた所定の処理を施して廃棄される。
【0025】モータ15によるドラム11の回転数の調
整、ドラム11の外周面と固定壁面36との間のギャッ
プの調整、空気噴射ノズル29からの空気または不活性
ガスの噴射圧力、風量等によって、供給されるフラック
スの濃度や粒子の大きさを調整することができる。また
空気噴射ノズル29はその両側面からそれぞれ空気供給
口31を通して空気が供給されるとともに、内部にパン
チングメタルから成る整流板32を備えているために、
安定的にスリット30の全長から空気または不活性ガス
を噴射することが可能になる。
【0026】このように本実施の形態に係るフラックス
塗布装置は、回転するドラム11に対してフラックス液
を供給し、ドラム11の外周面に近接する固定壁面36
との間の間隙に空気噴射ノズル29によって空気または
不活性ガスを吹付け、フラックス液を霧状にして回路基
板40等のワークにフラックス液を塗布するようにした
ものである。ドラム11の回転方向に対向するようにス
クレーパ24の先端部を圧着するように圧縮コイルばね
25で付勢したスクレーパ24を取付け、ドラム11の
外周面に付着硬化したフラックスを塗布毎に削ぎ落とす
ようにしており、これによって経時的に安定したフラッ
クスの供給を可能にしている。
【0027】切換え弁21を切換えることによって、ア
ルコール等の洗浄液をフラックス供給ノズル20によっ
てドラム11の外周面に供給することによって、フラッ
クスの塗布後にドラム11の外周面に付着しているフラ
ックスを洗浄し、これによってフラックスの付着硬化を
防止することができる。なおフラックス供給ノズル20
とは別に洗浄液槽23を設けて、専用の独立のノズルか
ら洗浄液を供給するようにしてもよい。
【0028】このような実施の形態に係るフラックス塗
布装置によれば、フラックスの塗布量をドラム11の回
転数、ドラム11と固定壁面36との間のギャップの調
整、空気噴射ノズル29によって噴射される空気または
不活性ガスの風圧および風量を調整することによって制
御できるようになる。またフラックスの霧状飛散は上記
の方法によって容易に調整でき、回路基板に対する均一
なフラックスの塗布が行ない得るようになる。
【0029】またこのようなフラックス塗布装置は、発
泡式のフラックス塗布装置のような種々の管理装置を必
要としない。また小孔から成るノズルを通してフラック
スを霧状にして噴射するものではないために、スプレー
式フラックス塗布装置のようなノズルの目詰りを発生し
ない。
【0030】次に別の実施の形態を図11〜図14によ
って説明する。この実施の形態はドラム11の外周面上
に母線方向に延びる複数の溝45を形成するようにした
ものである。溝45の断面形状は図12に示すような円
弧状としてよい。あるいはまた図13に示すようなV字
型の溝としてよい。あるいはまた図14に示すような断
面が矩形の溝であってもよい。
【0031】このような溝45を形成することによっ
て、ドラム11上におけるフラックスの保持がより確実
に行なえるとともに、固定壁面36との間のギャップの
部分において、空気噴射ノズル29から噴射される空気
または不活性ガスの流れによって溝45内に空気または
不活性ガスの小さな渦を生ずることになる。このような
渦がフラックスの霧化を促進し、これによってより微細
なフラックスの霧を発生させることが可能になる。
【0032】図15に示す構成は、ドラム11の外周面
に溝45に代えて円弧状をなす多数の凹部46を形成す
るようにしたものである。図16に示す構成は溝45と
凹部46とを円周方向に沿って交互に配列している。こ
れらの構成によっても、凹部46あるいは凹部46と溝
45との組合わせによって、フラックスの霧化を促進
し、より良好なフラックスの塗布を行ない得るようにな
る。
【0033】図17に示す構成はドラム11の回転方向
を図3に示す回転方向とは逆方向にしたものである。こ
のような構成の変化に応じて、スクレーパ24をドラム
11の下側に配するとともに、膜厚調整板26をドラム
11の上方に配置するようにしている。なおその他の構
成は上記実施の形態とほぼ同様である。
【0034】このような構成によっても、フラックス供
給ノズル20から噴射されるフラックスがドラム11の
外周面に付着され、固定壁面36との間のギャップの部
分で空気噴射ノズル29から噴射される空気または不活
性ガスの流れによってフラックスが霧化され、ガイド3
7の開口38を通して上方へ供給されることになる。
【0035】上記実施の形態に係るドラム11は円筒状
をなしているが、このような構成に代えて、図18に示
すような樽型のドラム11としてもよい。この場合には
固定壁面36が凹面になってドラム11の外周面との間
にほぼ均一なギャップを形成する。
【0036】あるいはまた図19に示すように、ドラム
11がその軸線方向の中間位置においてくびれた形状と
してもよい。このような形状に応じて、固定壁面36は
凸型の曲面をなしている。
【0037】あるいはまた図20に示すように、ドラム
11を円錐台状の形状とするとともに、このようなドラ
ム11の外周面を傾斜する固定壁面36と対接させるよ
うにしてもよい。
【0038】次に図21〜図23によってさらに別の実
施の形態のフラックス塗布装置を説明する。このフラッ
クス塗布装置は図23に示すように、一対のドラム11
を備えるようになっており、これらのドラム11間のギ
ャップの部分でフラックスを霧化させるようにしてい
る。ドラム11間のギャップを調整するために、支持板
13には図21に示すように長孔が形成されるととも
に、この長孔内に一方のドラム11の支軸12が支持さ
れており、調整ねじ14によって支軸12の位置を調整
し、一対のドラム11間のギャップの調整を可能にして
いる。
【0039】またこのフラックス塗布装置はドラム11
毎にそれぞれフラックス供給ノズル20を備えるように
なっている。またそれぞれのドラム11はスクレーパ2
4を上方に備えるとともに、下側には膜厚調整板26を
取付けるようにしている。さらに一対のドラム11の間
の部分であってその下側に空気噴射ノズル29が配され
るとともに、一対のドラム11間であってその上方にガ
イド37が取付けられている。そしてガイド37の上端
側が塗布ノズルを構成する開口38になっている。
【0040】以上のような構成において、それぞれのフ
ラックス供給ノズル20によって一対の回転するドラム
11にそれぞれフラックス液を供給する。フラックス液
は膜厚調整板26によって一定の膜厚に調整されるとと
もに、一対のドラム間のギャップの部分に達する。
【0041】ギャップの下側から空気噴射ノズル29に
よって空気または不活性ガスが噴射されるために、ギャ
ップの下側においては圧力が上昇するとともに、ギャッ
プの上側においては圧力が低下する。このような圧力の
変化とギャップを通過する空気または不活性ガスの流れ
とによって、ドラム11の表面に付着しているフラック
スが霧化して飛散する。霧状のフラックスは空気または
不活性ガスの流れによって上方に流動し、図28に示す
ように回路基板40の下面に塗布される。
【0042】ドラム11の表面に残ったフラックス液は
ドラム11に圧接されているスクレーパ24によってそ
れぞれ連続して掻き落とされる。このサイクルが連続し
て行なわれることによって、ドラム11にフラックスの
残留物が固着することを防ぎ、フラックスを霧状にして
回路基板40に塗布することが可能になる。
【0043】なおこの実施の形態においても、フラック
スの塗布を行なわないときには、空気噴射ノズル29か
らの空気または不活性ガスの噴射を停止するとともに、
一対のフラックス液供給ノズル20からフラックス液に
代えて洗浄液を供給することによって、ドラム11の外
表面の洗浄を行なうことが可能になる。フラックスの塗
布時にドラム11から落下したフラックス液や洗浄の後
の残液は外筐10の下面に形成されている傾斜ガイド3
3によってフラックス溜め34に集められ、再利用さ
れ、あるいはまた所定の廃液処理を施した後に廃棄され
ることになる。
【0044】図24〜図27はこのような一対のドラム
11を用いるフラックス塗布装置に用いられる空気噴射
ノズル29を示している。この空気噴射ノズル29はそ
の上面のほぼ中央部にスリット30を備えるとともに、
両側面にはそれぞれ空気供給口31が設けられている。
またその内部には水平方向にパンチングメタルから成る
整流板32を配するようにし、このような整流板32に
よって空気の流れを安定化している。
【0045】図29は一対のドラム11を用いた場合に
おけるドラム11の回転方向を図28とは逆の方向にし
た場合の構成を示している。この場合にはノズル20を
斜め上方に配するとともに、スクレーパ24を下方に位
置し、膜厚調整板26をドラム11のほぼ上面に接する
ようにしている。
【0046】このような構成においても、一対のドラム
11間のギャップに空気噴射ノズル29によって空気を
噴射すると、フラックス供給ノズル20から供給されて
ドラム11に付着したフラックスが霧化するとともに、
霧化されたフラックスが空気噴射ノズル29から噴射さ
れる空気または不活性ガスによって上方へ吹上げられ、
回路基板40の下面に塗布される。
【0047】図30は一対のドラム11を用いた場合に
おいて、その外周面にそれぞれ溝45を形成した構成を
示している。溝45はドラム11の母線方向に延びる溝
であって、ドラム11の外周面に沿って所定の間隔で形
成されている。
【0048】ドラム11上の溝45の断面形状は図31
に示すような円弧状であってよい。あるいはまた図32
に示すようなV字状の溝であってよい。あるいはまた図
33に示すような矩形断面の溝であってよい。
【0049】図34はドラム11上に溝45と凹部46
とをそれぞれ交互に形成するようにしている。すなわち
溝45間に母線方向に延びるように凹部46を多数配列
した構成としている。
【0050】これらの溝45や凹部46によってフラッ
クスが確実に保持される。またギャップの部分において
溝45あるいは凹部46に小さな空気あるいは不活性ガ
スの渦を生じ、このような渦によってフラックスの霧化
を助長することになり、より微細な霧が形成されること
になる。
【0051】図35は一対のドラム11の形状を樽型の
ドラム11と軸線方向の中間位置がくびれたドラム11
とから構成したものである。この場合においても、両者
の近接位置には所定のギャップが形成されることにな
る。あるいはまた図36に示すように、一対の円錐台状
をなすドラム11を互いに逆向きに組合わせてそれらの
間に所定のギャップを形成するようにしてもよい。
【0052】
【発明の効果】以上のように本発明は、固定された壁面
との間に外周面が所定のギャップをもって近接して配さ
れており、駆動手段によって回転駆動されるドラムと、
ドラムの外周面上に薬液を供給する薬液供給手段と、壁
面とドラムの外周面との間のギャップにガスを噴射して
ドラム上の薬液を霧化してガスとともにワークに向けて
搬送するガス吹付け手段とをそれぞれ具備するようにし
たものである。
【0053】従って本発明によれば、壁面とドラムの外
周面との間のギャップにガス吹付け手段によってガスを
噴射することによって、ドラムの外周面上に供給された
薬液が霧化されることになり、このような霧化された薬
液が噴射されたガスによってワークに向けて搬送され、
ワークの表面に塗布されるようになる。従って小孔から
成るスプレー式のノズルを必要とせず、目詰りを起すこ
となく均一な塗布を行なうことが可能な薬液塗布装置を
提供することが可能になる。また薬液の塗布量はドラム
の回転数やドラムと壁面との間のギャップの調整、ある
いはまた噴出されるガスの風量や風圧によって調整でき
るようになる。
【0054】別の発明は、ワークの表面に薬液を塗布す
るようにした薬液塗布装置において、外周面が所定のギ
ャップをもって互いに近接しており、それぞれ駆動手段
によって回転駆動される一対のドラムと、一対のドラム
の内の少なくとも一方のドラムの外周面に薬液を供給す
る薬液供給手段と、一対のドラムの外周面間のギャップ
にガスを噴射してドラム上の薬液を霧化してガスととも
にワークに向けて搬送するガス吹付け手段とをそれぞれ
具備するようにしたものである。
【0055】従って本発明によれば、一対のドラムの外
周面間のギャップの部分にガスを噴射すると、ドラムの
外周面に供給された薬液が霧化されるようになり、霧化
した薬液がガスの流れによってワークに向けて搬送さ
れ、ワークの表面に塗布される。従って薬液の目詰りを
生ずることなく均一な塗布を行なうことが可能な薬液の
塗布装置を提供できるようになる。また一対のドラムの
回転数や一対のドラム間のギャップ、ガスの噴射圧や噴
射量の調整によって薬液の塗布量の制御が行なわれるよ
うになる。
【0056】ワークが回路基板であって、しかも薬液が
フラックスであり、回路基板上に前記フラックスを塗布
するようにした構成によれば、回路基板に対する均一な
フラックスの塗布が可能でしかも目詰りのトラブルの発
生しないフラックスの塗布装置を提供できるようにな
る。
【0057】ドラムの回転方向と対向するようにばねで
付勢してスクレーパの先端部をギャップの下流側におい
てドラムの外周面に圧着するようにし、ドラムの外周面
に付着した薬液を掻き落すようにした構成によれば、ド
ラムに薬液の残留物が固着することを防ぎ、薬液を霧状
にしてワークに安定的に塗布できるようになる。
【0058】洗浄液供給手段を備え、切換え弁に対して
洗浄液供給手段と薬液供給手段とが並列に接続され、切
換え弁の切換えによって洗浄液供給手段から洗浄液がド
ラムに供給されるようにした構成によれば、薬液の塗布
を行なわないときに洗浄液によってドラムの外表面の洗
浄を行なうことが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態のフラックス塗布装置の側面
図である。
【図2】同正面図である。
【図3】内部構造を示す縦断面図である。
【図4】空気噴射ノズルの斜視図である。
【図5】空気噴射ノズルの平面図である。
【図6】同正面図である。
【図7】同側面図である。
【図8】同縦断面図である。
【図9】動作状態を示す縦断面図である。
【図10】動作を示すブロック図である。
【図11】変形例のドラムの平面図である。
【図12】同要部拡大断面図である。
【図13】同要部拡大断面図である。
【図14】同要部拡大断面図である。
【図15】別の実施の形態に係るドラムの外観斜視図で
ある。
【図16】さらに別の実施の形態に係るドラムの外観斜
視図である。
【図17】回転方向を逆にした例の要部縦断面図であ
る。
【図18】別の実施の形態のドラムを用いた例を示す平
面図である。
【図19】さらに別の実施の形態のドラムを用いた例を
示す平面図である。
【図20】さらに別の実施の形態のドラムを用いた例を
示す平面図である。
【図21】別の実施の形態のフラックス塗布装置を示す
側面図である。
【図22】同正面図である。
【図23】内部構造を示す縦断面図である。
【図24】空気噴射ノズルを示す平面図である。
【図25】同正面図である。
【図26】同側面図である。
【図27】同縦断面図である。
【図28】動作状態を示す要部拡大断面図である。
【図29】回転方向を逆にした場合の動作状態を示す要
部拡大断面図である。
【図30】別の形態のドラムの組合わせを示す平面図で
ある。
【図31】ドラムの要部拡大断面図である。
【図32】ドラムの要部拡大断面図である。
【図33】ドラムの要部拡大断面図である。
【図34】さらに別の形態のドラムの要部斜視図であ
る。
【図35】別の形態のドラムの組合わせを示す平面図で
ある。
【図36】さらに別の形態のドラムの組合わせを示す平
面図である。
【符号の説明】
10‥‥外筐、11‥‥ドラム、12‥‥支軸、13‥
‥支持板、14‥‥調整ねじ、15‥‥モータ、20‥
‥フラックス供給ノズル、21‥‥切換え弁(ポン
プ)、22‥‥フラックス槽、23‥‥洗浄液槽、24
‥‥スクレーパ、25‥‥圧縮コイルばね、26‥‥膜
厚調整板、29‥‥空気噴射ノズル、30‥‥スリッ
ト、31‥‥空気供給口、32‥‥整流板(パンチング
メタル)、33‥‥傾斜ガイド、34フラックス溜め、
36‥‥固定壁面、37‥‥ガイド、38‥‥開口(塗
布ノズル)、40‥‥回路基板、41‥‥フラックスの
霧を含む空気流、45‥‥溝、46‥‥凹部

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ワークの表面に薬液を塗布するようにした
    薬液塗布装置において、 固定された壁面との間に外周面が所定のギャップをもっ
    て近接して配されており、駆動手段によって回転駆動さ
    れるドラムと、 前記ドラムの外周面上に薬液を供給する薬液供給手段
    と、 前記壁面と前記ドラムの外周面との間のギャップにガス
    を噴射して前記ドラム上の薬液を霧化してガスとともに
    前記ワークに向けて搬送するガス吹付け手段と、 をそれぞれ具備する薬液塗布装置。
  2. 【請求項2】ワークの表面に薬液を塗布するようにした
    薬液塗布装置において、 外周面が所定のギャップをもって互いに近接しており、
    それぞれ駆動手段によって回転駆動される一対のドラム
    と、 前記一対のドラムの内の少なくとも一方のドラムの外周
    面に薬液を供給する薬液供給手段と、 前記一対のドラムの外周面間のギャップにガスを噴射し
    て前記ドラム上の薬液を霧化してガスとともに前記ワー
    クに向けて搬送するガス吹付け手段と、 をそれぞれ具備する薬液塗布装置。
  3. 【請求項3】前記ワークが回路基板であって、しかも前
    記薬液がフラックスであり、前記回路基板上に前記フラ
    ックスを塗布するようにしたことを特徴とする請求項1
    または請求項2に記載の薬液塗布装置。
  4. 【請求項4】ドラムの回転方向と対向するようにばねで
    付勢してスクレーパの先端部を前記ギャップの下流側に
    おいて前記ドラムの外周面に圧着するようにし、前記ド
    ラムの外周面に付着した薬液を掻き落すようにしたこと
    を特徴とする請求項1または請求項2に記載の薬液塗布
    装置。
  5. 【請求項5】洗浄液供給手段を備え、切換え弁に対して
    前記洗浄液供給手段と前記薬液供給手段とが並列に接続
    され、前記切換え弁の切換えによって前記洗浄液供給手
    段から洗浄液が前記ドラムに供給されるようにしたこと
    を特徴とする請求項1または請求項2に記載のフラック
    ス塗布装置。
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Cited By (3)

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KR20170015151A (ko) * 2015-07-29 2017-02-08 팔로 알토 리서치 센터 인코포레이티드 필라멘트 신장 분무기
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