JPH0997425A - Production of magnetic recording medium - Google Patents

Production of magnetic recording medium

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JPH0997425A
JPH0997425A JP25335995A JP25335995A JPH0997425A JP H0997425 A JPH0997425 A JP H0997425A JP 25335995 A JP25335995 A JP 25335995A JP 25335995 A JP25335995 A JP 25335995A JP H0997425 A JPH0997425 A JP H0997425A
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JP
Japan
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surface
layer
protective layer
recording medium
magnetic
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Application number
JP25335995A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuzo Yamamoto
裕三 山本
Original Assignee
Kao Corp
花王株式会社
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance certifying (error) yield as well as to efficiently remove abnormal protrusions by carrying out a vanishing process for reducing the height of abnormal protrusions existing on the surface of a protective layer by anodic oxidation in an electrolytic soln. SOLUTION: In this vanishing process, a substrate is put in an electrolytic soln. and protrusions on the surface of a protective layer are anodically oxidized. At this time, abnormal protrusions are preferentially oxidized and removed. Various conditions in the anodic oxidation are desirably regulated so as to attain 5-100Å, preferably 5-30Å Ra (center line average roughness) and 10-500Å, preferably 10-200Å Rp (center line peak height). In the case of >500Å Rp, it becomes difficult to reduce the extent of levitation of a head and spacing loss is caused to reduce recording density.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関するものである。 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a manufacturing method of a magnetic recording medium. 更に詳しくは、非磁性基板上に乾式めっき等の方法により磁性層が形成されたハードディスクに代表される磁気記録媒体に関する。 More particularly, to a magnetic recording medium represented by a hard disk which a magnetic layer is formed by a method such as dry plating a non-magnetic substrate.

【0002】 [0002]

【従来の技術】磁気ディスクシステムにおいて、再生出力を考慮した場合、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間隔(浮上量)が小さい、すなわちスペーシングロスは少ない方が有利である。 BACKGROUND OF THE INVENTION Magnetic disk system, when considering the playback output, the interval between the magnetic recording medium and the magnetic head (flying height) is small, that the spacing loss is small it is advantageous. 言い換えると、磁気ディスク表面は平滑であることが望ましい。 In other words, it is desirable magnetic disk surface is smooth.

【0003】然し、一般に磁気ディスクは、保護層形成後、あるいは潤滑剤を塗布した後の表面に「異常突起」 [0003] However, in general the magnetic disk after the protective layer is formed, or on the surface after the coated lubricant "abnormal protrusions"
と呼ばれる微小突起が存在するためにこれを研磨テープにより除去して適当に突起の高さを低くして表面を仕上げることが行われている。 This to the microprojections is present is removed by polishing tape have been made to finish the surface and suitably reduce the height of the protrusions called. このように物理的な手段によりディスク表面の異常突起を除去する操作は通常「バーニッシュ」と呼ばれている。 Operation for removing an abnormal protrusion of the disk surface is commonly referred to as "varnish" Such physical means.

【0004】研磨テープによるバーニッシュ工程は、基本的にはアミルナ、ダイヤモンド等の砥粒を有機バインダーにより可撓性の支持体上に設けた研磨テープを磁気ディスク表面に適当な圧力をかけて当接させ、ディスクと研磨テープを走行させることにより行なわれる。 [0004] burnishing step by the polishing tape is basically Amiruna, over abrasive grains suitable pressure abrasive tape surface of the magnetic disk which is provided on a flexible support with an organic binder such as diamond equivalents is contact is carried out by moving the disk and the polishing tape. このようなバーニッシュ工程として、たとえば磁気ディスク媒体の製造工程において、該磁気ディスク媒体表面を研磨テープを用いて加工した後、表面に介在する微小突起のみを有効に除去するために、研磨テープを用い、媒体の周速250m/min以上、テープ加工圧力を50g Such varnishing process, for example in the manufacturing process of the magnetic disk medium, after processing by using a polishing tape magnetic disk medium surface, in order to effectively remove only microprojections intervening surface, the polishing tape used, the peripheral speed of the medium 250 meters / min or more, the tape processing pressure 50g
/mm 2以下とした磁気ディスク媒体の製造方法が提案(特開昭59−148134号公報、特公平2−104 / Mm 2 or less and the proposed method for manufacturing a magnetic disk medium (JP 59-148134 and JP KOKOKU 2-104
86号公報)されている。 86 No.) are. さらに、テクスチャー形成後に、電解液中で基板を直流電解して表面の異常突起を除去し、その後磁性層を形成する方法も提案(特開平7− Further, after the texture formation, and removing an abnormal protrusion of the surface by direct current electrolysis of the substrate in an electrolytic solution, proposed thereafter a method of forming a magnetic layer (JP-A-7-
225945号公報)されている。 225945 JP) are.

【0005】 [0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、研磨テープを用いたバーニッシュ加工では、研磨テープの砥粒の粒径が均一でなく粒径に分布(ムラ)があるため、粒径の大きな砥粒やテープから脱落した砥粒がディスク表面を傷つけてエラーの原因をつくり収率の低下を招くという問題があった。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, in the burnishing with the abrasive tape, because the particle size of the abrasive grains of the polishing tape is a distribution of particle size non-uniform (uneven), large abrasive grains having a grain size abrasive grains and dropped out of the tape there is a problem that lowering the yield make the cause of the error damage the disc surface. また、研磨により生じた研磨粉あるいは研削粉がディスク表面に残存するとヘッドと衝突して摺動耐久性を低下させたり、磁性層や保護層を傷つけたりする。 The polishing powder or grinding dust caused by polishing or reduce the sliding durability to collide with the head when remaining on the disk surface, or to damage the magnetic layer and the protective layer. しかも研磨粉あるいは研削粉がディスク表面に残っていると、液体の潤滑剤や水が毛管現象により残存粒子の周りに寄せ集められ、ヘッド吸着の原因となる。 Moreover the abrasive powder or grinding powder remaining on the disk surface, the lubricant and liquid water is gathered around the remaining particles by capillary action, causing the head adsorption. また、特開平7−225945号公報のようにテクスチャー形成後、引き続き異常突起の除去を行ったのでは、各記録媒体層形成時に成長する異常突起については効果がなく、問題が残る。 Further, after the texture formed as JP 7-225945, JP-than subsequently went to remove the abnormal protrusions, no effect on abnormal protrusions that grow at each recording medium layer forming, a problem remains.

【0006】 [0006]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、磁気記録媒体表面の異常突起を除去する際に、上記したような研磨テープによるバーニッシュ加工の問題点を解消できる優れたバーニッシュ方法を提供することであり、本発明者らは鋭意研究の結果、従来の研磨テープによるバーニッシュのような物理的なバーニッシュ法ではなく、電解液中での陽極酸化による化学的なバーニッシュ法がこの要求を満たすことを見出し、本発明を完成するに至った。 Means for Solving the Problems The object of the present invention, when removing an abnormal protrusion of the magnetic recording medium surface, excellent burnishing method can solve the problems of the burnishing with the polishing tape as described above is to provide, the present inventors have result of intense research, not physical burnishing methods such as varnishes by conventional polishing tape, chemical burnishing method by anodic oxidation in an electrolytic solution is found that meet this need, the present invention has been accomplished.

【0007】すなわち本発明は、少なくとも、非磁性基板上に磁性層を形成する工程と、磁性層上に保護層を形成する工程と、保護層表面に存在する異常突起の高さを低くするバーニッシュ工程とを有する磁気記録媒体の製造方法において、前記バーニッシュ工程を電解液中での陽極酸化により行なうことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。 That is, the present invention includes at least a bar of forming a magnetic layer on a nonmagnetic substrate, to reduce the steps of forming a protective layer on the magnetic layer, the height of the abnormal protrusions that are present on the surface of the protective layer the method of manufacturing a magnetic recording medium having a varnishing step, there is provided a method of manufacturing a magnetic recording medium and performing the burnishing step by anodic oxidation in an electrolytic solution.

【0008】通常のハードディスクの製造工程は、基板をテクスチャー(表面を適度に粗面化する)処理した後、洗浄し、基板上に磁性層を成膜し、次いで磁性層上に保護層を形成した後、ディスク表面の異常突起を除去して適当な高さに調節するバーニッシュ工程が施される。 [0008] The conventional hard disk manufacturing process, (moderately roughened surface) texture the substrate was treated and washed, the magnetic layer is deposited on the substrate and then forming a protective layer on the magnetic layer after varnish step of adjusting to remove the abnormal protrusions of the disk surface to a suitable height is applied. このような製造工程において、必要に応じて磁性層の下の下地層、保護層上の潤滑層等を設ける工程が加えられる。 In such a manufacturing process, the underlying layer below the magnetic layer as necessary, steps are added to provide a lubricating layer or the like on the protective layer. 本発明の製造方法は、公知の製造工程において、いわゆるバーニッシュ工程を陽極酸化により行なうことを特徴とするものである。 Production method of the present invention, in the known production process, is to a so-called burnishing step and performing the anodic oxidation.

【0009】本発明において、バーニッシュ工程は、電解液中に支持体を浸漬し陽極酸化処理を施すことにより行なわれる。 [0009] In the present invention, burnishing step is carried out by subjecting the immersion anodizing a support in the electrolyte. 即ち、少なくとも磁性層、保護層が形成された支持体を、NaOH等の電解質水溶液中に浸漬し、 That is, at least a magnetic layer, the support having a protective layer formed was immersed in an aqueous electrolyte solution such as NaOH,
これを陽極とし陰極の基準電極との間に電圧を印加する。 This voltage is applied between the reference electrode of the cathode and anode. それにより、水溶液中においてOH - 、ClO - OH In Thereby, in aqueous solution -, ClO -,
SO 4 - 、CO 3 -等の酸化性イオンの放電が生じる。 SO 4 -, CO 3 -, etc. discharge oxidizing ions occurs in. これにより、陽極の支持体の保護層を構成する原子、例えばカーボン薄膜の場合は炭素と、酸化性イオンが反応して結合し、CO 2 、CO、Na 2 CO 3等となって炭素が消耗する。 Thus, atoms constituting the protective layer of the support of the anode, for example, a carbon in the case of carbon thin film, oxidizing ions bond by reacting, CO 2, CO, carbon becomes Na 2 CO 3 or the like expendable to. これにより保護層の突起が除去される。 Thus the projections of the protective layer is removed. なお、本発明では支持体を陽極とするが、陰極の材質は限定しない。 In the present invention has a support and an anode, not the material of the cathode is limited.

【0010】バーニッシュ工程に用いられる電解質水溶液は、酸或いはアルカリの水溶液であれば良く、0.1 [0010] The electrolyte solution used in the burnishing step may be any aqueous solution of an acid or alkali, 0.1
〜100重量%、好ましくは1〜60重量%の濃度のものが用いられる。 100 wt%, preferably from those in the concentration of 1 to 60% by weight is used. 用いられる酸は硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、フッ酸、過塩素酸等の無機酸、或いは蓚酸、蟻酸等の有機酸が挙げられる。 Acid used sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid, an inorganic acid such as perchloric acid, or oxalic acid, and organic acids such as formic acid. アルカリはNaOH、KOH等が挙げられ、これらは二種以上のものをブレンドして使用してもかまわない。 Alkali NaOH, KOH, and the like. These may be used as a blend of two or more kinds thereof. なお、バーニッシュ効率や電解槽グの腐食を考慮すると、アルカリ系水溶液を用いることが好ましい。 In consideration of corrosion of the burnishing efficiency and the electrolytic bath grayed, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. また、バーニッシュ効率、防錆性付与のための添加剤を配合してもよい。 Also, burnishing efficiency may be blended with additives for rust imparting.

【0011】用いる電流波形は、例えば直流、単相交流や三相交流等の交流、矩形波、三角波等のパルス波、単相半波、二相半波、三相半波、六相半波、単相全波、三相全波等が特殊波形が用いられる。 [0011] current waveform used, for example direct current, single-phase AC or three-phase alternating current such as alternating current, square-wave, pulse wave such as a triangular wave, single-phase half-wave, two-phase half-wave, three-phase half-wave, six phase half-wave , single-phase full-wave, three-phase full-wave or the like is a special waveform used. これらの波形を組み合わせて用いてもよい。 It may be used in combination of these waveforms. 生産性の点から考慮すると、三相交流が望ましい。 Considering from the viewpoint of productivity, the three-phase alternating current is desirable. 電解波形を変えると得られるバーニッシュ形状も変化することから、所望のバーニッシュ形状に合わせて電流波形の選択/組み合わせを行なうことが望ましい。 Since also changes burnishing shape obtained with varying the electrolysis waveform, it is desirable to perform the selection / combination of the current waveform in accordance with the desired varnish shape.

【0012】陽極酸化時の電流密度に関しては、バーニッシュ処理の均一性、生産性、設備負荷を考慮すると、 [0012] For the current density during the anodization, the uniformity of varnishing, productivity, considering the equipment load,
1〜200mA/cm 2が好ましく、更に好ましくは5 Preferably 1~200mA / cm 2, more preferably 5
〜100mA/cm 2である。 It is a ~100mA / cm 2. すなわち、電流密度が低すぎると、生産性が低下し、逆に高すぎる場合にはバーニッシュ処理の均一性が低下する傾向がある。 That is, when the current density is too low, the productivity decreases, if conversely too high tend to uniformity of varnishing is lowered.

【0013】また、陽極酸化時の電圧に関しては、バーニッシュ処理の均一性、生産性、設備負荷を考慮すると、1〜100Vが好ましく、更に好ましくは2〜50 [0013] With respect to the voltage during the anodization, the uniformity of varnishing, productivity, considering the equipment load, preferably 1 to 100 V, more preferably 2 to 50
Vである。 A V. すなわち、電圧が低すぎると、必要な電流密度が得られず、生産性が低下し、逆に高すぎる場合には電場の偏りが生じやすく、均一な粗面化が行なわれなくなる傾向がある。 That is, when the voltage is too low, the current density can not be obtained necessary, productivity decreases, and if conversely too high tends to occur an electric field bias, uniform graining tends to be no longer performed.

【0014】陽極酸化時の電流や電圧は、処理時、常に一定となるように設定していてもよく、或いは工程中で変化させてもよい。 [0014] Current and voltage during anodization process at all times may also be set to be constant, or may be varied during the process. 陽極酸化の処理時間に関しては、バーニッシュ処理の程度や均一性を考慮すると、1秒〜1 For the process time of the anodic oxidation, in consideration of the degree and uniformity of varnishing, 1 second to 1
時間程度が好ましい。 Time is preferably about. 更に好ましくは約5秒〜20分程度である。 And more preferably about 5 seconds to about 20 minutes. すなわち、処理時間が短すぎると所望のバーニッシュ効果が得られにくく、逆に処理時間が長すぎる場合にも所望のバーニッシュ効果が得られ難くなる傾向がある。 That is, the processing time is too short difficult to obtain desired varnishing effect, desired burnishing effect if the processing time is too long there is a tendency that it is difficult to achieve.

【0015】尚、陽極酸化を行なう温度は1〜100℃ [0015] The temperature for performing the anodic oxidation is 1 to 100 ° C.
程度でよい。 It may be a degree. 一般的には室温付近でよいが、電解液の種類により適宜選択すればよい。 Typically it may be around room temperature, but may be appropriately selected depending on the type of electrolyte.

【0016】 [0016]

【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、陽極酸化によるバーニッシュ工程以外の工程は従来の製造方法に準じて行なうことができる。 The method of manufacturing a magnetic recording medium of the embodiment of the present invention, the steps other than the burnishing process by anodic oxidation may be carried out according to the conventional manufacturing method. 即ち、本発明では陽極酸化により表面に存在する異常突起を除去する工程の前に、磁気記録媒体は既にその基本的な構成が形成されている。 That is, the present invention prior to the step of removing the abnormal protrusions existing on the surface by anodic oxidation, the magnetic recording medium is already its basic configuration is formed. たとえば、カーボン製の基板上に蒸着やスパッタ手段のような乾式めっき手段により磁性層を設ける工程、磁性層上に蒸着やスパッタ手段のような乾式めっき手段あるいはディッピングやスピンコート法により保護層を設ける工程などを経て、磁気記録媒体が構成されており、このような磁気記録媒体に対して表面に存在する異常突起を除去する作業が施される。 For example, a protective layer by dry plating means or dipping or a spin coating method, such as step, vapor deposition or sputtering means on the magnetic layer providing a magnetic layer by dry plating means such as vapor deposition or sputtering unit on a substrate made of carbon through such steps, the magnetic recording medium is configured, the work of removing the abnormal protrusions on the surface with respect to such a magnetic recording medium is performed. また、磁性層が設けられる前にカーボン製の基板上に蒸着やスパッタ手段のような乾式めっき手段により下地層を設ける工程などを盛り込むことができる。 Further, it is possible to incorporate such a step of providing a base layer by dry plating means such as vapor deposition or sputtering unit in a carbon substrate before the magnetic layer is provided.

【0017】なお、成膜には乾式めっき手段を採用することが好ましい。 [0017] In addition, it is preferable to employ a dry plating means for forming films. すなわち、乾式めっき手段は湿式めっき手段に比べて高品質な磁性膜が得られ易い。 That is, the dry plating means easily high-quality magnetic film obtained in comparison with the wet plating means. また、磁性膜の組成変更も容易であり、磁性膜の設計変更も容易となる。 The composition changes of the magnetic film is also facilitated and easy design changes of the magnetic film.

【0018】本発明のバーニッシュ工程は、前述の如く、基板を電解液中に配置することにより保護層の表面の突起を陽極酸化するものであるが、その際、異常突起が優先的に酸化されて除去される。 The burnishing process of the present invention, as described above, but is intended to anodizing projections of the surface of the protective layer by placing the substrate in an electrolyte solution, in which abnormal protrusions are preferentially oxidized to be removed. また除去される異常突起の高さ(酸化の程度)も、酸化条件(電流密度、電解時間、電解液の種類等)を調節することにより精密に制御可能である。 The abnormal protrusions which are removed the height (degree of oxidation) is also oxidizing conditions (current density, the electrolysis time, the kind of the electrolyte) is precisely controllable by adjusting the. したがって、本発明では保護層の構成材料として、陽極酸化により気化、分解できかつその際にディスク製造工程に悪影響を及ぼさないものであれば何れも使用できる。 Therefore, as a material of the protective layer in the present invention, vaporized by anodic oxidation, any as long as it does not adversely affect the degradation can and disc manufacturing process in its use. とくに本発明においては、保護層はダイヤモンドライクカーボン、ガラス状カーボン、グラファイト等のカーボンを主な構成成分とするもの、または金属あるいは表面酸化を受けた金属薄膜が好ましい。 In particular the present invention, the protective layer is a diamond-like carbon, glassy carbon, which carbon major constituent such as graphite metal thin film or undergoing metal or surface oxidation, is preferred.
これらの保護層は、従来公知の方法、たとえばスパッタ等の乾式めっきにより形成され、その厚さは5〜25n These protective layers, conventionally known methods, for example, be formed by dry plating such as sputtering, its thickness is 5~25n
m程度である。 It is about m.

【0019】陽極酸化処理の諸条件は、バーニッシュ処理後の磁気記録媒体のRa(中心線平均粗さ)が5〜1 The conditions of anodizing treatment, Ra (center line average roughness) of the magnetic recording medium after burnishing is 5-1
00Å、好ましくは5〜30Å、且つRp(中心線最大高さ)が10〜500Å、好ましくは10〜200Åとなるように調節することが望ましい。 Å, preferably 5~30A, and Rp (center line maximum height) is 10 to 500 .ANG, preferably it is desirable to adjust so that 10~200A. Rpが500Åを超えるとヘッドの浮上量低下が困難となりスペーシングロスが生じて記録密度向上の点で好ましくない。 Rp is not preferable in terms of recording density caused the spacing loss becomes difficult decrease the flying height of exceeding 500Å head.

【0020】磁気記録媒体の表面には、通常、潤滑剤が塗布される。 [0020] surface of the magnetic recording medium is normally a lubricant is applied. この潤滑剤は、通常、潤滑剤溶液を塗布することによって設けられるものに過ぎず、潤滑剤を設ける前後の段階で表面プロフィール(突起)が変化するものではないから、潤滑剤を設ける前に異常突起を除去する作業が施される。 The lubricant is typically merely provided by applying a lubricant solution, because there is not intended to change the surface profile (projection) before and after the step of providing a lubricant, abnormality before providing a lubricant operation for removing the projections is applied. なお、潤滑剤を塗布した後、異常突起を除去する作業を施しても良いが、この作業によって潤滑剤が拭き取られてしまうことを鑑みたならば、再度、潤滑剤を塗布せざるを得ない。 Incidentally, obtained after applying the lubricant, it may be subjected to working to remove the abnormal protrusions, but if in view that the lubricant will be wiped off by this operation, again forced to lubricate Absent. したがって、通常は、潤滑剤を設ける前に異常突起を除去する作業が施される。 Therefore, usually the task of removing an abnormal protrusion before providing the lubricant is applied.

【0021】本発明により異常突起が除去された磁気記録媒体は磁気ヘッドの浮上量を小さいものとでき、スペーシングロスが少なくなるから、再生出力の面で好ましいものとなる。 The magnetic recording medium abnormal protrusions has been removed by the present invention can as a small flying height of the magnetic head, since the spacing loss is reduced, which is preferable in terms of the reproduction output.

【0022】また、本発明においては、基板上の磁性層などの構成はこれまでの技術がそのまま用いられる。 [0022] In the present invention, configuration such as a magnetic layer on the substrate previous techniques is used as it is. すなわち、基板上に設けられる下地層(下地膜)、磁性層(磁性膜)、保護層(保護膜)、潤滑層(潤滑膜)などの構成については、従来の技術をそのまま利用できる。 That is, the base layer provided on a substrate (base film), a magnetic layer (magnetic layer), a protective layer (protective film), a structure such as a lubricating layer (lubricating film) may be directly used conventional techniques.
たとえば、特開平5−18952号公報、特開平5−1 For example, JP-A-5-18952, JP-A No. 5-1
37822号公報、特開平5−211769号公報、特開平5−289496号公報などに記載の技術を利用できる。 37822, JP-A No. 5-211769, JP-available techniques described in, JP-A-5-289496 JP.

【0023】本発明に用いられる基板としては、たとえば、ガラス状カーボン等のカーボン、強化ガラス、結晶化ガラス、アルミニウム及びアルミニウム合金、チタン及びチタン合金、セラミックス、樹脂、あるいはこれらの複合材料からなるものが挙げられる。 [0023] As the substrate used in the present invention, for example, made of glass-like carbon such as carbon fiber, reinforced glass, crystallized glass, aluminum and aluminum alloys, titanium and titanium alloys, ceramics, resin or their composite materials, and the like. これらの中でも、とくにガラス状カーボンが好ましく、たとえば特開昭60−35333号に記載されたものを用いることができる。 Among these, particularly preferred glassy carbon can be used those described in e.g. JP-60-35333.

【0024】 [0024]

【実施例】以下実施例にて本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be described in the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0025】実施例1〜4及び比較例1〜2 成膜工程 基板として、直径1.8インチ、25ミル、比重1.5 [0025] As Examples 1-4 and Comparative Examples 1 and 2 the deposition process the substrate 1.8 inches in diameter, 25 mil, specific gravity 1.5
のガラス状カーボン製基板を用意した。 To prepare a glassy carbon substrate made of.

【0026】これらの基板上に、Arガス圧2mTor [0026] on these substrates, Ar gas pressure 2mTor
r、基板温度250℃の条件でDCマグネトロンスパッタリングにより厚さ100nmのTi層を形成した。 r, thereby forming a Ti layer having a thickness of 100nm by DC magnetron sputtering at a substrate temperature of 250 ° C.. 次いでArガス圧2mTorr、基板温度260℃の条件でDCマグネトロンスパッタリングにより前記Ti層上に厚さ20nmのAl−Si合金(Al:Si=95: Then Ar gas pressure of 2 mTorr, Al-Si alloy having a thickness of 20nm on the Ti layer by DC magnetron sputtering at a substrate temperature of 260 ℃ (Al: Si = 95:
5/重量%)層を形成した。 5 / wt%) layer was formed. これらの層により基板に凹凸(テクスチャー)が形成される。 Uneven substrate (texture) is formed by these layers.

【0027】次に、Arガス圧2mTorr、基板温度260℃の条件でDCマグネトロンスパッタリングにより、前記Al−Si合金層上に厚さ25nmのアモルファスカーボン(ダイヤモンドライクカーボン)層を形成した。 Next, Ar gas pressure of 2 mTorr, a DC magnetron sputtering at a substrate temperature of 260 ° C., the formation of the Al-Si alloy layer to a thickness 25nm of amorphous carbon (diamond-like carbon) layer. 次いで、Arガス圧2mTorr、基板温度20 Then, Ar gas pressure of 2 mTorr, a substrate temperature 20
0℃の条件下でDCマグネトロンスパッタ装置を用いて、前記アモルファスカーボン層上に、厚さ100nm 0 using a DC magnetron sputtering device under the conditions of ° C., the amorphous carbon layer, the thickness of 100nm
のTi層を設け、その後該Ti層上に厚さ40nmのC C of the Ti layer is provided, thickness of 40nm thereafter the Ti layer
r層を設けた。 It provided with a r layer.

【0028】更に、Arガス圧2mTorr、基板温度260℃の条件でDCマグネトロンスパッタリングにより、前記Cr層上に厚さ400nmのCo−Cr−Pt Furthermore, Ar gas pressure of 2 mTorr, a DC magnetron sputtering at a substrate temperature of 260 ° C., a thickness of 400nm on the Cr layer Co-Cr-Pt
−B系磁性層を設けた。 -B system provided with a magnetic layer.

【0029】続いて、ガラス状カーボン製ターゲットを装着した対向ターゲット型のスパッタ装置を用い、室内を排気し、そして2mTorrのガス圧となるようAr [0029] Subsequently, using a facing target sputtering device equipped with a glassy carbon-made targets, was evacuated chamber, and so that a gas pressure of 2 mTorr Ar
ガスを導入してスパッタを行い、磁性層上に20nm厚のアモルファスカーボンからなる保護層を設けた。 Sputtering was performed by introducing a gas, a protective layer made of 20nm thick amorphous carbon on the magnetic layer.

【0030】バーニッシュ工程 上記のようにして各種膜が成膜された基板を表1に示す条件(対極:カーボン)にて陽極酸化によるバーニッシュ処理を施した。 The condition of a substrate on which various membrane as varnishing processes mentioned above are deposited in Table 1 (counter electrode: carbon) in subjected to burnishing by anodic oxidation. なお、比較例1のテープバーニッシュは、回転するロールに研磨テープをゴムロールで押しつけることにより行なったが、その条件は以下の通りである。 Incidentally, the tape burnishing of Comparative Example 1, although the polishing tape to a rotating roll was carried out by pressing in a rubber roll, and the conditions thereof are as follows. 研磨テープ:WA#10000 相対速度:100m/秒 時間:1秒 ロール硬度:25ショア硬度 ロール押し付け圧:0.8kgf また、比較例2は実施例1と同じカーボン基板を用い、 Abrasive tape: WA # 10000 relative speed: 100 m / sec Time: 1 sec Roll Hardness: 25 shore hardness roll pressing pressure: 0.8 kgf addition, Comparative Example 2 uses the same carbon substrate as in Example 1,
WA#6000の研磨テープを用いたテクスチャー加工により表面粗さRa=37Å、Rp=270Åの表面を形成させ、10%硫酸水溶液中で直流電解を行って、異常突起の除去を行い、Ra=35Å、Rp=190Åのテクスチャー表面を得た。 WA # polishing tape textured by surface roughness using the 6000 Ra = 37 Å, to form a surface of Rp = 270 Å, performing direct current electrolysis in a 10% sulfuric acid aqueous solution, subjected to removal of the abnormal protrusions, Ra = 35 Å to obtain a textured surface of Rp = 190Å. その後引き続き実施例1と同様に記録媒体層を形成したが、保護層形成後のバーニッシュ処理は行わなかった。 Thereafter continued to form a recording medium layer in the same manner as in Example 1 but, varnishing after forming the protective layer was not performed.

【0031】その後、常法により、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤(モンテカチーニ社製のFomblin [0031] Then, by a conventional method perfluoropolyether lubricant (Montecatini Co. Fomblin
AM2001)溶液を、乾燥後の厚さが17Åとなるように塗布して保護層上に潤滑剤層を形成した。 The AM2001) solution, the thickness after drying to form a lubricant layer on the coated protective layer so that the 17 Å.

【0032】特性評価 上記により得られた磁気ディスクについて、以下の特性評価を行なった。 The magnetic disk obtained by the characterization described above was subjected to the following characterization. その結果を表1に示す。 The results are shown in Table 1.

【0033】(i)Ra(中心線平均粗さ)およびRp [0033] (i) Ra (centerline average roughness) and Rp
(中心線最大高さ) RaおよびRpは、触針式粗さ計(TENCOR社製, (Centerline maximum height) Ra and Rp are stylus roughness meter (TENCOR Co.,
型式P2)により、下記の条件で測定した。 Depending on the model P2), it was measured under the following conditions. なおRaおよびRpはバーニッシュ工程前後のものをそれぞれ測定した。 Note Ra and Rp were measured as before and after varnishing process, respectively. 触針径:0.6μm(針曲率半径) 触針押し付け圧力:7mg 測定長:250μm×8ヶ所 トレース速度:2.5μm/秒 カットオフ:1.25μm(ローパスフィルタ) (ii)外観検査 明るい照明下で、目視観察を行い、スクラッチ傷等をチェックし、実用上問題ない程度の外観を有するものを合格とし、下記の基準で評価した。 Sawahari径: 0.6 .mu.m (the needle radius of curvature) stylus pressing pressure: 7 mg Measuring length: 250 [mu] m × 8 places tracing speed: 2.5 [mu] m / sec Cutoff: 1.25 .mu.m (low pass filter) (ii) visual inspection bright light under was visually observed to check the scratches or the like, and pass those having the appearance of a degree no practical problem were evaluated according to the following criteria. S:合格率が80%以上〜100% A:合格率が50%以上〜80%未満 B:合格率が30%以上〜50%未満 C:合格率が0%以上〜30%未満 (iii)GHT Proquip社製MG150T装置を用い、50%スライダヘッドを用いて行った。 S: pass rate of 80% or more to 100% A: pass rate at least 50% less to 80% B: less than pass rate of 30% or more to 50% C: pass rate is less than 30% or more 0% (iii) using GHT Proquip Co. MG150T apparatus was performed using a 50% slider head. 1.5μインチの浮上高さの通過率により、以下ように評価した。 The passing rate of the flying height of 1.5μ inch, and evaluated as follows. S:通過率が90%以上 A:通過率が70%以上〜90%未満 B:通過率が50%以上〜70%未満 C:通過率が30%以上〜50%未満 D:通過率が30%未満 (iv)MCF(エラー特性) エラー特性はProquip社製MG150T装置を用い、70%スライダヘッドを使用し、記録密度51KF S: passing rate of 90% or more A: pass rate is less than 70% to 90% B: less than passing rate of 50% or more to 70% C: less than passage rate is 30% or more to 50% D: passage rate is 30 % less than (iv) MCF (error characteristics) error characteristics with Proquip Co. MG150T apparatus, using 70% slider head, the recording density 51KF
CIの条件で評価した。 They were evaluated under the conditions of the CI. スライスレベルは70%とし、 Slice level is set to 70%,
16ビット未満のミッシングエラーの個数をカウントし、以下のように評価した。 Counting the number of missing an error of less than 16 bits, and evaluated as follows. S:評価ディスクの50%以上がエラー個数が0〜5個である。 S: more than 50% rating disk error number is 0-5. A:評価ディスクの50%以上がエラー個数が6〜15 A: more than 50% of the number of errors evaluation disk is 6 to 15
個である。 Is a number. B:評価ディスクの50%以上がエラー個数が16〜4 B: 50% or more of the evaluation disk error number 16-4
5個である。 Five is. C:評価ディスクの50%以上がエラー個数が46個以上である。 C: more than 50% rating disk error number is 46 or more.

【0034】 [0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】これらの結果からわかる通り、本発明の製造方法による磁気記録媒体は、表面の異常な突起が効果的に除去されており、また、エラーが起き難いものとなっていることが判る。 [0035] As can be seen from these results, the magnetic recording medium according to the production method of the present invention, abnormal protrusions on the surface are effectively removed, and it is understood that the what hard error occurs.

【0036】 [0036]

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、磁気記録媒体表面の異常な突起を効果的に除去でき、サーティファイ(エラー)収率が向上し、また外観不良が顕著に減少する。 According to the production method of the present invention, it can effectively remove abnormal protrusions of the magnetic recording medium surface, improved certification (error) yields, also poor appearance significantly reduced.

Claims (2)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 少なくとも、非磁性基板上に磁性層を形成する工程と、磁性層上に保護層を形成する工程と、保護層表面に存在する異常突起の高さを低くするバーニッシュ工程とを有する磁気記録媒体の製造方法において、 1. A least, a step of forming a magnetic layer on a nonmagnetic substrate, forming a protective layer on the magnetic layer, and a burnishing step to reduce the height of the abnormal protrusions that are present on the surface of the protective layer the method of manufacturing a magnetic recording medium having,
    前記バーニッシュ工程を電解液中での陽極酸化により行なうことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 Method of manufacturing a magnetic recording medium and performing the burnishing step by anodic oxidation in an electrolytic solution.
  2. 【請求項2】 保護層の主な構成成分がカーボン、金属又は表面酸化を受けた金属である請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法。 2. A main constituent is carbon protective layer, the manufacturing method of the magnetic recording medium of claim 1, wherein a metal which has received the metal or surface oxidation.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009071879A (en) * 1997-02-13 2009-04-02 Mitsubishi Electric Corp Moving image prediction device and moving image predicting method

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