JPH0980475A - Liquid crystal display element and its manufacture - Google Patents

Liquid crystal display element and its manufacture

Info

Publication number
JPH0980475A
JPH0980475A JP23268395A JP23268395A JPH0980475A JP H0980475 A JPH0980475 A JP H0980475A JP 23268395 A JP23268395 A JP 23268395A JP 23268395 A JP23268395 A JP 23268395A JP H0980475 A JPH0980475 A JP H0980475A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal line
liquid crystal
electrode
reference electrode
video signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23268395A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Yanagawa
和彦 柳川
Masuyuki Ota
益幸 太田
Kazuhiro Ogawa
和宏 小川
Keiichiro Ashizawa
啓一郎 芦沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP23268395A priority Critical patent/JPH0980475A/en
Priority to US08/708,812 priority patent/US6049369A/en
Priority to KR1019960039046A priority patent/KR100278813B1/en
Publication of JPH0980475A publication Critical patent/JPH0980475A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To restore a short-circuited position by a simple method. SOLUTION: A display electrode 18 and a reference electrode 14 are formed on each pixel area on one side transparent substrate between the transparent substrates arranged oppositely to each other through a liquid crystal layer, and by generating electric field in parallel to the transparent substrate between these electrodes, light transmitting through the liquid crystal layer is modulated. Then, a video signal from a video signal line 3 is supplied to the display electrode 18 through a switching element turning on by supply of a scanning signal to a scanning signal line 2, and a reference signal from a reference signal line 4 is supplied to the reference electrode 14. In the manufacture of such a liquid crystal display element, when electric short circuit arises between the video signal line 3 and the reference electrode 14 adjacent to the video signal line, the reference electrode 14 is cut in the area of the reference signal line side between the reference electrodes 14 in the position where the electric short circuit arises.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示素子およびその
製造方法に係り、特に、いわゆる横電界方式の液晶表示
素子およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a so-called lateral electric field type liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】いわゆる横電界方式と称されるカラー液
晶表示素子は、液晶層を介して互いに対向して配置され
る透明基板のうち、その一方の液晶層側の単位画素に相
当する領域面に表示電極と基準電極とが備えられ、この
表示電極と基準電極との間に透明基板面と平行に発生さ
せる電界によって前記液晶層を透過する光を変調させる
ようにしたものである。
2. Description of the Related Art A so-called lateral electric field type color liquid crystal display device is a region surface corresponding to a unit pixel on one liquid crystal layer side of a transparent substrate arranged to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. Further, a display electrode and a reference electrode are provided, and light transmitted through the liquid crystal layer is modulated by an electric field generated between the display electrode and the reference electrode in parallel with the transparent substrate surface.

【0003】このようなカラー液晶表示基板は、その表
示面に対して大きな角度視野から観察しても鮮明な映像
を認識でき、いわゆる広角度視野に優れたものとして知
られるに至った。
Such a color liquid crystal display substrate can recognize a clear image even when viewed from a large angle visual field with respect to its display surface, and has come to be known as a so-called wide angle visual field excellent.

【0004】そして、このような横電界方式をいわゆる
アクティブ・マトリックス方式と称される液晶表示素子
に適用させたものは、マトリックス状に配置された各画
素領域にそれぞれスイッチング素子が備えられ、走査信
号線からの走査信号によってオンするスイッチング素子
を介して映像信号線からの映像信号が前記表示電極に供
給されるとともに、前記基準電極は、基準信号線からの
基準信号が供給されるように構成されている。
In the liquid crystal display device of the so-called active matrix system, which employs such a lateral electric field system, a switching device is provided in each pixel region arranged in a matrix, and a scanning signal is provided. A video signal from a video signal line is supplied to the display electrode via a switching element that is turned on by a scanning signal from the line, and the reference electrode is configured to be supplied with a reference signal from the reference signal line. ing.

【0005】なお、このような構成からなる液晶表示素
子としては、たとえば特許出願公表平5−505247
号公報および特開昭63−21907号公報等に詳述さ
れている。
A liquid crystal display element having such a structure is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Publication No. 5-505247.
JP-A No. 63-21907, and the like.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに構成された液晶表示素子は、一方の透明基板面にお
いて、走査信号線および基準信号線とそれぞれ交差させ
て映像信号線を配置させなければならず、しかも、各画
素領域において、表示電極を間にしてその両脇に基準電
極を配置させていることから、幾何学的に複雑な構成と
なっている。
However, in the liquid crystal display element having such a structure, the video signal lines must be arranged so as to intersect the scanning signal lines and the reference signal lines on one transparent substrate surface. In addition, in each pixel area, the reference electrodes are arranged on both sides of the display electrode with the display electrode interposed therebetween, which results in a geometrically complicated configuration.

【0007】このため、このような液晶表示素子の製造
過程において、本来、絶縁されて形成されなければなら
ない各種信号線との間、あるいは信号線と電極との間に
電気的短絡が生じる確率が大きくなってしまうことは否
めなく、その簡単な修復方法が要望されていた。
Therefore, in the process of manufacturing such a liquid crystal display element, there is a possibility that an electrical short circuit may occur between various signal lines which should originally be insulated and formed, or between the signal line and the electrode. There is an undeniable increase in size, and there has been demand for a simple repair method.

【0008】本発明は、このような事情に基づいてなさ
れたものであり、その目的は、簡単な方法で短絡個所の
修復を達成できる液晶表示素子の製造方法を提供するこ
とにある。
The present invention has been made under such circumstances, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of repairing a short-circuited portion by a simple method.

【0009】また、本発明の他の目的は、信号線あるい
は電極において断線が生じていたとしても、簡単な方法
で断線個所の修復を達成できる液晶表示素子の製造方法
を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of repairing a broken portion by a simple method even if the signal line or the electrode is broken.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0011】すなわち、液晶層を介して互いに対向配置
された透明基板のうち、その一方の透明基板の各画素領
域に表示電極と基準電極とが形成され、これら各電極の
間に前記透明基板と平行に電界を発生せしめることによ
って前記液晶層を通過する光を変調させるものであっ
て、前記表示電極は、走査信号線への走査信号の供給に
よってオンするスイッチング素子を介して映像信号線か
らの映像信号が供給されるとともに、前記基準電極は、
基準信号線からの基準信号が供給される液晶表示素子の
製造方法において、映像信号線とこの映像信号線と隣接
する基準電極との間で電気的短絡が生じている場合に、
該電気的短絡の生じている個所の両脇における基準電極
のうち、基準信号線側の基準電極を切断することを特徴
とするものである。
That is, a display electrode and a reference electrode are formed in each pixel region of one transparent substrate of the transparent substrates arranged to face each other with a liquid crystal layer in between, and the transparent substrate is provided between these electrodes. Light that passes through the liquid crystal layer is modulated by generating an electric field in parallel, and the display electrodes are switched from a video signal line through a switching element that is turned on by supplying a scan signal to the scan signal line. When the video signal is supplied, the reference electrode is
In a method for manufacturing a liquid crystal display element to which a reference signal from a reference signal line is supplied, when an electrical short circuit occurs between a video signal line and a reference electrode adjacent to the video signal line,
Among the reference electrodes on both sides of the location where the electrical short circuit occurs, the reference electrode on the reference signal line side is cut off.

【0012】[0012]

【作用】このように構成した液晶表示素子の製造方法に
よれば、基準電極を上述のように切断することによっ
て、その切断個所から先端にかけての基準電極はその機
能を喪失し、表示電極との間において表示に寄与しうる
有効な電界が形成される領域が減少して軽度の点欠陥と
なってしまうものである。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display element having such a structure, by cutting the reference electrode as described above, the reference electrode from the cut portion to the tip loses its function, and the reference electrode is not connected to the display electrode. In the meantime, a region where an effective electric field that can contribute to display is formed is reduced, resulting in a slight point defect.

【0013】しかし、表示面の全体からみれば、この点
欠陥は特に目立つものではなく、表示素子として充分に
機能できるものとなる。
However, when viewed from the entire display surface, this point defect is not particularly conspicuous and can sufficiently function as a display element.

【0014】したがって、基準信号線を共通にする画素
群の欠陥、すなわち線欠陥による弊害を簡単な作業で容
易に除去できるようになる。
Therefore, it is possible to easily remove the defect of the pixel group having the common reference signal line, that is, the adverse effect due to the line defect by a simple operation.

【0015】[0015]

【実施例】まず、本発明の実施例の説明をする前に、本
発明の適用の対象となるいわゆる横電界方式の液晶表示
素子の構成の一実施例を説明する。
First, before explaining the embodiments of the present invention, one embodiment of the constitution of a so-called lateral electric field type liquid crystal display device to which the present invention is applied will be explained.

【0016】図2に示すように、液晶表示素子1があ
り、この液晶表示素子1の液晶を介して互いに対向配置
される透明基板のうち一方の透明基板1Aの液晶側の面
に、そのx方向(行方向)に延在しy方向(列方向)に
並設される走査信号線2および基準信号線4とが形成さ
れている。
As shown in FIG. 2, there is a liquid crystal display element 1, and one of the transparent substrates 1A arranged opposite to each other through the liquid crystal of the liquid crystal display element 1 has a liquid crystal side surface x on its transparent side. A scanning signal line 2 and a reference signal line 4 which extend in the direction (row direction) and are arranged in parallel in the y direction (column direction) are formed.

【0017】この場合、同図では、透明基板1Aの上方
から、基準信号線4、この基準信号線と比較的大きく離
間された走査信号線2、この走査信号線2と近接された
基準信号線4、この基準信号線4と比較的大きく離間さ
れた走査信号線2、…というように配置されている。
In this case, in the figure, from the upper side of the transparent substrate 1A, a reference signal line 4, a scanning signal line 2 relatively separated from the reference signal line 2, and a reference signal line close to the scanning signal line 2 are provided. 4, scanning signal lines 2, which are relatively spaced apart from the reference signal line 4, and so on.

【0018】そして、これら走査信号線2および基準信
号線4とそれぞれ絶縁されてy方向に延在しx方向に当
間隔に並設される映像信号線3が形成されている。
Video signal lines 3 are formed which are insulated from the scanning signal lines 2 and the reference signal lines 4 and extend in the y direction and are arranged in parallel in the x direction at equal intervals.

【0019】ここで、走査信号線2、基準信号線4、お
よび映像信号線3のそれぞれによって囲まれる矩形状の
比較的広い面積の各領域において単位画素が形成される
領域となり、これら各単位画素がマトリックス状に配置
されて表示面を構成するようになっている。なお、これ
ら各単位画素の詳細な構成については後に説明する。
Here, a unit pixel is formed in each rectangular area having a relatively large area surrounded by the scanning signal line 2, the reference signal line 4, and the video signal line 3, and these unit pixels are formed. Are arranged in a matrix to form a display surface. The detailed configuration of each unit pixel will be described later.

【0020】液晶表示素子1には、その外部回路として
垂直走査回路5および映像信号駆動回路6が備えられ、
該垂直走査回路5によって前記走査信号線2のそれぞれ
に順次走査信号(電圧)が供給され、そのタイミングに
合わせて映像信号駆動回路6は映像信号線3に映像信号
(電圧)が供給されるようになっている。
The liquid crystal display element 1 is provided with a vertical scanning circuit 5 and a video signal drive circuit 6 as its external circuits.
The vertical scanning circuit 5 sequentially supplies a scanning signal (voltage) to each of the scanning signal lines 2, and the video signal drive circuit 6 supplies the video signal (voltage) to the video signal line 3 at the timing. It has become.

【0021】なお、垂直走査回路5および映像信号駆動
回路6は、液晶駆動電源回路7から電源が供給されてい
るとともに、CPU8からの画像情報がコントローラ9
によってそれぞれ表示データおよび制御信号に分けられ
て入力されるようになっている。
The vertical scanning circuit 5 and the video signal drive circuit 6 are supplied with power from the liquid crystal drive power supply circuit 7, and the image information from the CPU 8 is supplied to the controller 9 as well.
The display data and the control signal are separately input according to.

【0022】また、前記基準信号線4に印加される電圧
も液晶駆動電源回路7から供給されるようになってい
る。
The voltage applied to the reference signal line 4 is also supplied from the liquid crystal drive power supply circuit 7.

【0023】次に、このように構成される液晶表示素子
1における各単位画素の一実施例を以下説明する。
Next, one embodiment of each unit pixel in the liquid crystal display element 1 having the above-mentioned structure will be described below.

【0024】図3は、液晶表示素子1における単位画素
の一実施例を示す平面図である。なお、図3におけるIV
−IV線における断面図を図4に、V−V線における断面図
を図5に、VI−VI線における断面図を図6に示してい
る。
FIG. 3 is a plan view showing an embodiment of the unit pixel in the liquid crystal display element 1. In addition, IV in FIG.
A sectional view taken along the line -IV is shown in FIG. 4, a sectional view taken along the line VV is shown in FIG. 5, and a sectional view taken along the line VI-VI is shown in FIG.

【0025】図3において、透明基板1Aの主表面に、
x方向に延在する基準信号線4と、この基準信号線4と
離間されかつ平行に走査信号線4が形成されている。
In FIG. 3, on the main surface of the transparent substrate 1A,
The reference signal line 4 extending in the x direction and the scanning signal line 4 are formed in parallel with and spaced from the reference signal line 4.

【0026】ここで、基準信号線4には、2本の基準電
極14が一体に形成されている。すなわち、それぞれの
基準電極14は、一対の後述する映像信号線3とで形成
される画素領域のy方向辺、すなわち前記それぞれの映
像信号線3に近接して(−)y方向に走査信号線2の近
傍にまで延在されて形成されている。
Here, two reference electrodes 14 are integrally formed on the reference signal line 4. That is, each reference electrode 14 is adjacent to each of the video signal lines 3 in the y direction of a pixel region formed by a pair of video signal lines 3 described later, that is, in the (-) y direction, in the vicinity of each of the video signal lines 3. It is formed so as to extend to the vicinity of 2.

【0027】そして、これら走査信号線2、基準信号線
4、および基準電極14が形成された透明基板1Aの表
面にはこれら走査信号線2等をも被ってたとえばシリコ
ン窒化膜からなる絶縁膜15(図4、図5、図6、参
照)が形成されている。この絶縁膜15は、後述する映
像信号線3に対しては走査信号線2および基準信号線4
との交差部における層間絶縁膜として、薄膜トランジス
タTFTの形成領域に対してはゲート絶縁膜として、蓄
積容量Cstgの形成領域に対しては誘電体膜として機
能するようになっている。
The surface of the transparent substrate 1A on which the scanning signal lines 2, the reference signal lines 4, and the reference electrodes 14 are formed covers the scanning signal lines 2 and the like, and an insulating film 15 made of, for example, a silicon nitride film. (See FIGS. 4, 5, and 6) are formed. The insulating film 15 is provided for the scanning signal line 2 and the reference signal line 4 for the video signal line 3 described later.
It functions as an interlayer insulating film at the intersection with and as a gate insulating film for the formation region of the thin film transistor TFT, and as a dielectric film for the formation region of the storage capacitor Cstg.

【0028】この絶縁膜15の表面には、まず、その薄
膜トランジスタTFTの形成領域において半導体層16
が形成されている。この半導体層16はたとえばアモル
ファスSiからなり、走査信号線2上において映像信号
線3に近接された部分に重畳して形成されている。これ
により、走査信号線2の一部が薄膜トランジスタTFT
のゲート電極を兼ねた構成となっている。
On the surface of the insulating film 15, first, in the formation region of the thin film transistor TFT, the semiconductor layer 16 is formed.
Are formed. The semiconductor layer 16 is made of, for example, amorphous Si, and is formed on the scanning signal line 2 so as to overlap a portion close to the video signal line 3. As a result, a part of the scanning signal line 2 is
Is also configured as a gate electrode.

【0029】そして、このようにして形成された絶縁膜
15の表面には、図3に示すように、そのy方向に延在
しx方向に並設される映像信号線3が形成されている。
Then, on the surface of the insulating film 15 thus formed, as shown in FIG. 3, video signal lines 3 extending in the y direction and arranged in parallel in the x direction are formed. .

【0030】そして、映像信号線3は、薄膜トランジス
タTFTの前記半導体層16の表面の一部にまで延在さ
れて形成されたドレイン電極3Aが一体となって備えら
れている。
The video signal line 3 is integrally provided with a drain electrode 3A formed to extend to a part of the surface of the semiconductor layer 16 of the thin film transistor TFT.

【0031】さらに、画素領域における絶縁膜15の表
面には表示電極18が形成されている。この表示電極1
8は一つの画素領域を2分割するように前記基準電極1
8の中央をy方向に延在されて形成されている。すなわ
ち、表示電極18の一端は前記薄膜トランジスタTFT
のソース電極18Aを兼ね、そのまま(+)y方向に延
在され、その他端が基準信号線4に重畳されて形成され
ている。
Further, a display electrode 18 is formed on the surface of the insulating film 15 in the pixel area. This display electrode 1
8 is the reference electrode 1 so that one pixel region is divided into two.
The center of 8 is formed to extend in the y direction. That is, one end of the display electrode 18 has the thin film transistor TFT.
It also serves as the source electrode 18A and extends in the (+) y direction as it is, and the other end thereof is formed so as to overlap with the reference signal line 4.

【0032】この場合、表示電極18の基準信号線4に
重畳される前記他端は比較的大きな面積を有し、前記基
準信号線4との間に誘電体膜としての前記絶縁膜15を
備える蓄積容量Cstgを構成している。この蓄積容量
Cstgによってたとえば薄膜トランジスタTFTがオ
フした際に表示電極18に映像情報を長く蓄積させる効
果を奏するようにしている。
In this case, the other end of the display electrode 18 superimposed on the reference signal line 4 has a relatively large area, and the insulating film 15 as a dielectric film is provided between the other end and the reference signal line 4. It constitutes a storage capacity Cstg. The storage capacitor Cstg has an effect of storing video information on the display electrode 18 for a long time when the thin film transistor TFT is turned off, for example.

【0033】なお、前述した薄膜トランジスタTFTの
ドレイン電極3Aとソース電極18Aとの界面に相当す
る半導体層16の表面にははリン(P)がドープされて
高濃度層となっており、これにより前記各電極における
オーミックコンタクトを図っている。この場合、半導体
層16の表面の全域には前記高濃度層が形成されてお
り、前記各電極を形成した後に、該電極をマスクとして
該電極形成領域以外の高濃度層をエッチングするように
して上記の構成とすることができる。
The surface of the semiconductor layer 16 corresponding to the interface between the drain electrode 3A and the source electrode 18A of the thin film transistor TFT described above is doped with phosphorus (P) to form a high-concentration layer. Ohmic contact is attempted at each electrode. In this case, the high-concentration layer is formed on the entire surface of the semiconductor layer 16, and after forming the electrodes, the high-concentration layer other than the electrode formation region is etched using the electrodes as a mask. The above configuration can be adopted.

【0034】そして、このように薄膜トランジスタTF
T、映像信号線3、表示電極18、および蓄積容量Cs
tgが形成された絶縁膜15の上面にはたとえばシリコ
ン窒化膜からなる保護膜19(図4、図5、図6参照)
が形成され、この保護膜19の上面には配向膜20が形
成されて、液晶表示素子のいわゆる下側基板を構成して
いる。なお、この下側基板の液晶層側と反対側の面には
偏光板21が配置されている。
Then, in this way, the thin film transistor TF
T, video signal line 3, display electrode 18, and storage capacitor Cs
A protective film 19 made of, for example, a silicon nitride film is formed on the upper surface of the insulating film 15 on which tg is formed (see FIGS. 4, 5, and 6).
Is formed, and the alignment film 20 is formed on the upper surface of the protective film 19 to form a so-called lower substrate of the liquid crystal display element. A polarizing plate 21 is arranged on the surface of the lower substrate opposite to the liquid crystal layer side.

【0035】そして、いわゆる上側基板となる透明基板
1Bの液晶側の部分には、図4に示すように、各画素領
域の境界部に相当する部分に遮光膜22が形成されてい
る。この遮光膜22は、前記薄膜トランジスタTFTへ
直接に光が照射されるのを防止するための機能と表示コ
ントラストの向上を図る機能とを備えるものとなってい
る。これにより遮光膜22は開口部を有するようにな
り、その開口部が実質的な画素領域を構成するものとな
っている。
As shown in FIG. 4, a light-shielding film 22 is formed on the liquid crystal side of the transparent substrate 1B, which is the so-called upper substrate, at the portions corresponding to the boundaries between the pixel regions. The light-shielding film 22 has a function of preventing the thin film transistor TFT from being directly irradiated with light and a function of improving the display contrast. As a result, the light shielding film 22 has an opening portion, and the opening portion constitutes a substantial pixel region.

【0036】さらに、遮光膜22の開口部を被ってカラ
ーフィルタ23が形成され、このカラーフィルタ23は
x方向に隣接する画素領域におけるそれとは異なった色
を備えるとともに、それぞれ遮光膜22上において境界
部を有するようになっている。また、このようにカラー
フィルタ23が形成された面には樹脂膜等からなる平坦
膜24が形成され、この平坦膜24の表面には配向膜2
5が形成されている。なお、この上側基板の液晶層側と
反対側の面には偏光板26が配置されている。
Further, a color filter 23 is formed so as to cover the opening of the light-shielding film 22, and the color filter 23 has a different color from that of the pixel region adjacent in the x direction and has a boundary on each light-shielding film 22. It has a part. A flat film 24 made of a resin film or the like is formed on the surface on which the color filter 23 is formed, and the alignment film 2 is formed on the surface of the flat film 24.
5 are formed. A polarizing plate 26 is arranged on the surface of the upper substrate opposite to the liquid crystal layer side.

【0037】ここで、透明基板1A側に形成された配向
膜20と偏光板21、透明基板1B側に形成された配向
膜25と偏光板26との関係を図7を用いて説明する。
The relationship between the alignment film 20 and the polarizing plate 21 formed on the transparent substrate 1A side and the alignment film 25 and the polarizing plate 26 formed on the transparent substrate 1B side will be described with reference to FIG.

【0038】表示電極18と基準電極14との間に印加
される電界の方向207に対して、配向膜20および2
5のいずれのラビング方向208の角度はφLCとなっ
ている。また、液晶層LCとしては、誘電率異方性Δε
が正でその値が7.3(1kHz)、屈折率異方性Δn
が0.073(589nm、20℃)のネマチック液晶
の組成物を用いている。
Alignment films 20 and 2 with respect to the direction 207 of the electric field applied between the display electrode 18 and the reference electrode 14.
5, the angle of the rubbing direction 208 is φLC. The liquid crystal layer LC has a dielectric anisotropy Δε.
Is positive and its value is 7.3 (1 kHz), refractive index anisotropy Δn
Is 0.073 (589 nm, 20 ° C.), which is a nematic liquid crystal composition.

【0039】本実施例では例えば、φLC=85°とす
る。またこのとき、一方の偏光板21の偏光透過軸方向
209の角度φPをφP=φLCとし、また、もう一方
の偏光板26の偏光透過軸方向を、φPと直交するよう
に配置する。
In this embodiment, for example, φLC = 85 °. At this time, the angle φP of the polarization transmission axis direction 209 of the one polarizing plate 21 is set to φP = φLC, and the polarization transmission axis direction of the other polarizing plate 26 is arranged so as to be orthogonal to φP.

【0040】このような関係からなる配向膜20、25
と偏光板21、26等の構成は、いわゆるノーマリブラ
ックモードと称されるもので、液晶層LC内に透明基板
1Aと平行な電界Eを発生せしめることにより、該液晶
層LCを透過する光を制御し、特に基準電極と表示電極
間に電界が印加されない時に遮断しいわゆる黒表示でき
るようになっている。
Alignment films 20 and 25 having such a relationship
The configuration of the polarizing plates 21 and 26 and so on is what is called a normally black mode. Light that passes through the liquid crystal layer LC is generated by generating an electric field E parallel to the transparent substrate 1A in the liquid crystal layer LC. Is controlled, and in particular, so-called black display can be performed by shutting off when no electric field is applied between the reference electrode and the display electrode.

【0041】実施例1.このような構成からなる液晶表
示素子の下側基板の製造過程において、たとえば前記図
3に対応する図1(a)に示すように、映像信号線3の
形成の際に、その映像信号線3と隣接する基準電極14
との間で電気的短絡(図中点線丸で示す)が生じてしま
った場合を考える。
Embodiment 1 In the process of manufacturing the lower substrate of the liquid crystal display device having such a structure, for example, as shown in FIG. 1A corresponding to FIG. 3, when the video signal line 3 is formed, the video signal line 3 is formed. Reference electrode 14 adjacent to
Consider a case where an electrical short circuit (indicated by a dotted circle in the figure) occurs between and.

【0042】このような電気的短絡は、映像信号線3が
パターンどおりに形成されず、該映像信号線3の一部が
基準電極14側にはみ出して形成されてしまうととも
に、該基準電極14との間の絶縁膜15の絶縁が不完全
な場合に、生じるようになる。
Such an electrical short circuit is formed in such a manner that the video signal line 3 is not formed according to the pattern, a part of the video signal line 3 protrudes toward the reference electrode 14 side, and at the same time as the reference electrode 14. This occurs when the insulation of the insulating film 15 between the two is incomplete.

【0043】このようになった場合、x方向に並設され
る各画素に共通な基準信号線4と映像信号線3が同電位
になってしまうことから、各画素がその表示機能を喪失
するいわゆる線欠陥となり、この線欠陥を修復できない
限り、下側基板の全部が製品として使用できなくなるこ
とになる。
In such a case, the reference signal line 4 and the video signal line 3 common to the pixels arranged in parallel in the x direction have the same potential, so that each pixel loses its display function. So-called line defects occur, and unless the line defects can be repaired, the entire lower substrate cannot be used as a product.

【0044】そこで、本実施例では、図1(b)に示す
ように、上記短絡個所が生じている部分の両脇における
基準電極14のうち、基準信号線4側の基準電極14を
たとえばレーザ光線で切断(図中点線丸で示す)するよ
うにしている。レーザ光線による切断は、そのビーム径
が小さく、しかも目的の個所に極めて正確に走査できる
ことから、上述した操作は簡単に行い得る。
Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 1B, among the reference electrodes 14 on both sides of the portion where the short-circuited portion has occurred, the reference electrode 14 on the reference signal line 4 side is, for example, a laser. A ray is used for cutting (shown by a dotted circle in the figure). The cutting by the laser beam can be performed easily because the beam diameter is small and the target portion can be scanned extremely accurately.

【0045】このように切断された基準電極14は、表
示電極18との間において表示に寄与しうる有効な電界
が形成される領域が減少し、軽度の点欠陥となってしま
うものであるが、表示面の全体からみれば特に目立つも
のではないことから、上述した線欠陥による弊害を除去
できることになる。
Although the reference electrode 14 thus cut off has a small area where an effective electric field that can contribute to display is formed between the reference electrode 14 and the display electrode 18, it becomes a slight point defect. Since it is not particularly conspicuous when viewed from the entire display surface, it is possible to eliminate the above-mentioned adverse effects due to the line defects.

【0046】なお、上述したような電気短絡が生じた場
合に、図8に示すように、映像信号線3の切断は確実に
回避できるような注意を払った上で、映像信号線3の基
準電極側14へのはみ出し部分を該映像信号線の走行方
向に沿って切断(図中点線丸で示す)するようにしても
よいことはいうまでもない。
When the above-mentioned electrical short circuit occurs, as shown in FIG. 8, the reference of the video signal line 3 should be taken with care so that the disconnection of the video signal line 3 can be surely avoided. It goes without saying that the protruding portion to the electrode side 14 may be cut along the running direction of the video signal line (shown by a dotted circle in the figure).

【0047】このようにすることによって、たとえ、基
準電極14を大きく抉って映像信号線3のはみ出し部分
を切断してしまっても、上述した効果と同様な効果が得
られるからである。
By doing so, even if the reference electrode 14 is largely depressed to cut off the protruding portion of the video signal line 3, the same effect as described above can be obtained.

【0048】実施例2.図3に対応する図9(a)に示
すように、基準電極14および基準信号線4の形成の際
に、該基準電極3と隣接する走査信号線2との間で電気
的短絡が生じてしまった場合を考える。
Example 2. As shown in FIG. 9A corresponding to FIG. 3, when the reference electrode 14 and the reference signal line 4 are formed, an electrical short circuit occurs between the reference electrode 3 and the adjacent scanning signal line 2. Think about the case.

【0049】基準電極14が一体に形成された基準信号
線4は走査信号線2と同層に形成され、しかも、基準信
号線4から延在された基準電極14の先端部は、開口率
の向上が考慮されて走査信号線2と極めて近接して位置
づけられている。このため、基準電極14の先端部と走
査信号線2との間に、それらを構成する材料の残留物が
付着して電気的短絡(図中点線丸で示す)が生じる可能
性が高くなる。
The reference signal line 4 integrally formed with the reference electrode 14 is formed in the same layer as the scanning signal line 2, and the tip portion of the reference electrode 14 extending from the reference signal line 4 has an aperture ratio of Considering improvement, it is positioned very close to the scanning signal line 2. Therefore, there is a high possibility that a residue of the material that constitutes the reference electrode 14 and the scanning signal line 2 will adhere between the tip portion of the reference electrode 14 and the scanning signal line 2 to cause an electrical short circuit (indicated by a dotted circle in the figure).

【0050】このようになった場合は、x方向に並設さ
れる画素に共通な基準信号線4と走査信号線2が同電位
になってしまうことから、いわゆる線欠陥となり、この
線欠陥を修復できない限り、下側基板の全部が製品とし
て使用できなくなることになる。
In such a case, the reference signal line 4 and the scanning signal line 2 common to the pixels arranged in parallel in the x direction have the same potential, so that a so-called line defect is generated. Unless it can be repaired, the entire lower substrate cannot be used as a product.

【0051】そこで、本実施例では、図9(b)に示す
ように、上記短絡個所が生じている部分の近傍における
基準電極14をたとえばレーザ光線で切断(図中点線丸
で示す)するようにしている。このようにした場合、実
施例1で示したと同様の効果が得られる。
Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 9B, the reference electrode 14 in the vicinity of the portion where the short-circuited portion is generated is cut by, for example, a laser beam (indicated by a dotted circle in the figure). I have to. In this case, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0052】実施例3.実施例1および実施例2の場
合、そのいずれにおいても映像信号線3と僅かの隙間を
有して隣接する基準電極14をたとえばレーザ光で切断
することによって、線欠陥による弊害を除去するように
しているものである。
Example 3. In each of the first and second embodiments, the adverse effect due to the line defect is removed by cutting the reference electrode 14 adjacent to the video signal line 3 with a slight gap, for example, by laser light. It is what

【0053】図10(a)は、該基準電極の切断におい
て、その操作が簡単に行い得る液晶表示素子の一実施例
を示した平面図である。
FIG. 10A is a plan view showing an embodiment of the liquid crystal display element which can be easily operated in cutting the reference electrode.

【0054】同図は、図3に対応する図であり、図3と
同一の符号を示す材料はともに同一の機能を有するもの
となっている。図3と異なる構成は基準電極14の形成
パターンにある。すなわち、映像信号線3と僅かの隙間
を有して隣接する基準電極14は、その基準信号線4か
ら延在される部分において、他の部分と比較して映像信
号線3から大きく離間された構成となっている。
This drawing corresponds to FIG. 3, and the materials having the same reference numerals as those in FIG. 3 both have the same function. The configuration different from that of FIG. 3 lies in the formation pattern of the reference electrode 14. That is, the reference electrode 14 which is adjacent to the video signal line 3 with a slight gap is largely separated from the video signal line 3 in the portion extending from the reference signal line 4 as compared with the other portions. It is composed.

【0055】これによって、基準電極14の一部は画素
領域内に若干侵入するようにして形成される(図中点線
丸で示す)が、この部分は該画素領域の角部となること
から、開口率に大きな影響を及ぼさないものとなる。
As a result, a part of the reference electrode 14 is formed so as to slightly penetrate into the pixel region (shown by a dotted circle in the figure), but since this part is a corner of the pixel region, It does not have a great influence on the aperture ratio.

【0056】そして、このように構成された液晶表示素
子は、図10(b)に示すように、基準電極14の切断
の個所として、その映像信号線3から大きく離間された
個所に特定しておけば、映像信号線を損傷させることな
く基準電極のみを切断する(図中点線丸で示す)ことが
できるようになる。
Then, in the liquid crystal display device having such a structure, as shown in FIG. 10B, the reference electrode 14 is cut at a position greatly separated from the video signal line 3. By doing so, it becomes possible to cut only the reference electrode (indicated by a dotted circle in the figure) without damaging the video signal line.

【0057】そして、このように基準電極14の切断個
所を予め特定しておくことによって、切断個所決定のた
めの複雑な信号処理系を不要にできるという効果を奏す
る。
By thus previously specifying the cutting point of the reference electrode 14, there is an effect that a complicated signal processing system for determining the cutting point can be eliminated.

【0058】実施例4.図3に対応する図11(a)に
示すように、x方向に互いに隣接するそれぞれの画素領
域における走査信号線2と基準信号線4との間で電気的
短絡が生じてしまった場合を考える。
Example 4. As shown in FIG. 11A corresponding to FIG. 3, consider a case where an electrical short circuit occurs between the scanning signal line 2 and the reference signal line 4 in each pixel region adjacent to each other in the x direction. .

【0059】この走査信号線2と基準信号線4は同層で
形成され、かつ、開口率の向上を図って形成した場合、
それらは僅かな隙間を有して隣接されることになる。こ
のため、走査信号線2と基準信号線4との間に、それら
を構成する材料の残留物が付着して電気的短絡が生じる
可能性が高くなる。
When the scanning signal line 2 and the reference signal line 4 are formed in the same layer and are formed so as to improve the aperture ratio,
They will be adjacent with a small gap. Therefore, there is a high possibility that an electric short circuit may occur between the scan signal line 2 and the reference signal line 4 due to the residue of the material constituting them adhering thereto.

【0060】このようになった場合も、x方向に並設さ
れる画素領域に共通な基準信号線4と走査信号線2が同
電位になってしまうことから線欠陥となる。
Even in such a case, the reference signal line 4 and the scanning signal line 2 which are common to the pixel regions arranged in parallel in the x direction have the same potential, which causes a line defect.

【0061】そこで、本実施例で、図11(b)に示す
ように、上記短絡個所が生じている部分の残留物自体を
たとえばレーザ光線で切断するようにしている。
Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 11B, the residue itself at the portion where the short-circuited portion is generated is cut by, for example, a laser beam.

【0062】このようにした場合、実施例2と同様な効
果が得られる。
In this case, the same effect as the second embodiment can be obtained.

【0063】実施例5.図3に対応する図12(a)に
示すように、基準信号線4がその一部において断線(図
中点線丸で示す)された状態で形成された場合を考え
る。
Example 5. As shown in FIG. 12A corresponding to FIG. 3, consider a case where the reference signal line 4 is formed in a state in which a part of the reference signal line 4 is broken (shown by a dotted circle).

【0064】この場合の基準信号線4は、x方向に並設
される画素に共通となっていることから、明らかに線欠
陥となる。
Since the reference signal line 4 in this case is common to the pixels arranged side by side in the x direction, it obviously becomes a line defect.

【0065】このようになった場合、図12(b)に示
すように、その断線個所に導電材料からなる成膜20を
施す(図中点線丸で示す)ことによって、切断された各
基準信号線を電気的に接続するようにする。
In such a case, as shown in FIG. 12 (b), each of the cut reference signals is formed by applying a film 20 made of a conductive material to the broken portion (indicated by a dotted circle in the figure). Make sure the wires are electrically connected.

【0066】この場合の成膜としては、いわゆる光CV
D法を用い、断線個所に成膜しようとする材料を含む雰
囲気を形成し、その雰囲気を通して成膜しようとする個
所にレーザ光を走査することによって容易に達成するこ
とができる。
The film formation in this case is so-called optical CV.
This can be easily achieved by forming an atmosphere containing the material to be film-formed at the disconnection point by using the D method and scanning the laser beam at the point to be film-formed through the atmosphere.

【0067】実施例6.図3に対応する図13に示すよ
うに、表示電極18がその一部において断線(図中点線
で示す)された状態で形成された場合を考える。
Embodiment 6 FIG . As shown in FIG. 13 corresponding to FIG. 3, consider a case where the display electrode 18 is formed in a state in which a part thereof is broken (shown by a dotted line in the drawing).

【0068】この場合、断線された表示電極18を備え
る画素のみが正常に動作しなくなっていわゆる点欠陥と
なる。
In this case, only the pixel having the broken display electrode 18 does not operate normally, resulting in a so-called point defect.

【0069】このようになった場合、図13(b)に示
すように、その断線個所に導電材料からなる成膜30を
上述した光CVD法を用いて施すことによって、切断さ
れた表示電極18を電気的に接続する(図中点線丸で示
す)ようにする。
In such a case, as shown in FIG. 13B, the cut display electrode 18 is formed by applying the film formation 30 made of a conductive material to the disconnection point by using the above-mentioned photo CVD method. To be electrically connected (indicated by a dotted circle in the figure).

【0070】なお、基準電極14において、断線が生じ
た場合にも同様の方法で修復ができることはもちろんで
ある。
Needless to say, even if the reference electrode 14 is broken, it can be repaired by the same method.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上説明したことから明らかになるよう
に、本発明による液晶表示素子によれば、簡単な方法で
短絡個所の修復を達成できるようになる。
As is apparent from the above description, according to the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to repair a short-circuited portion by a simple method.

【0072】また、信号線あるいは電極において断線が
生じていたとしても、簡単な方法で断線個所の修復を達
成できるようになる。
Further, even if the signal line or the electrode is broken, the broken portion can be repaired by a simple method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による液晶表示素子の製造方法の一実施
例を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention.

【図2】本発明による製造方法の対象となる液晶表示素
子およびその駆動回路の一実施例を示す構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram showing an embodiment of a liquid crystal display element and a driving circuit thereof, which is a target of the manufacturing method according to the present invention.

【図3】本発明による製造方法の対象となる液晶表示素
子の一実施例を示す要部平面図である。
FIG. 3 is a main part plan view showing an embodiment of a liquid crystal display element which is a target of the manufacturing method according to the present invention.

【図4】図3のIV−IV線における断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG.

【図5】図3のV−V線における断面図である。5 is a cross-sectional view taken along line VV of FIG.

【図6】図3のVI−VI線における断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line VI-VI in FIG.

【図7】本発明による製造方法の対象となる液晶表示素
子の配向膜および偏光膜の関係を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a relationship between an alignment film and a polarizing film of a liquid crystal display element which is a target of the manufacturing method according to the present invention.

【図8】本発明による液晶表示素子の製造方法の他の実
施例を示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing another embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention.

【図9】本発明による液晶表示素子の製造方法の他の実
施例を示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing another embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention.

【図10】本発明による液晶表示素子の製造方法の他の
実施例を示す平面図である。
FIG. 10 is a plan view showing another embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention.

【図11】本発明による液晶表示素子の製造方法の他の
実施例を示す平面図である。
FIG. 11 is a plan view showing another embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention.

【図12】本発明による液晶表示素子の製造方法の他の
実施例を示す平面図である。
FIG. 12 is a plan view showing another embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention.

【図13】本発明による液晶表示素子の製造方法の他の
実施例を示す平面図である。
FIG. 13 is a plan view showing another embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2……走査信号線、3……映像信号線、4……基準信号
線、14……基準電極、18……表示電極、TFT……
薄膜トランジスタ、Cstg……蓄積容量。
2 ... Scanning signal line, 3 ... Video signal line, 4 ... Reference signal line, 14 ... Reference electrode, 18 ... Display electrode, TFT ...
Thin film transistor, Cstg ... Storage capacity.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芦沢 啓一郎 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Keiichiro Ashizawa 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba Hitachi, Ltd. Electronic Device Division

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶層を介して互いに対向配置された透
明基板のうち、その一方の透明基板の各画素領域に表示
電極と基準電極とが形成され、これら各電極の間に前記
透明基板と平行に電界を発生せしめることによって前記
液晶層を通過する光を変調させるものであって、 前記表示電極は、走査信号線への走査信号の供給によっ
てオンするスイッチング素子を介して映像信号線からの
映像信号が供給されるとともに、前記基準電極は、基準
信号線からの基準信号が供給される液晶表示素子の製造
方法において、 映像信号線とこの映像信号線と隣接する基準電極との間
で電気的短絡が生じている場合に、該電気的短絡の生じ
ている個所における該基準電極のうち、基準信号線側の
領域で該基準電極を切断することを特徴とする液晶表示
素子の製造方法。
1. A display electrode and a reference electrode are formed in each pixel region of one of the transparent substrates arranged to face each other with a liquid crystal layer in between, and the transparent substrate is provided between the electrodes. In order to modulate the light passing through the liquid crystal layer by generating an electric field in parallel, the display electrode, from the video signal line via the switching element turned on by the supply of the scanning signal to the scanning signal line. In the method of manufacturing a liquid crystal display device, in which the video signal is supplied and the reference electrode is supplied with the reference signal from the reference signal line, the reference electrode is electrically connected between the video signal line and the reference electrode adjacent to the video signal line. Of the reference electrode at the location where the electrical short circuit has occurred, the reference electrode is cut in a region on the side of the reference signal line. Method.
【請求項2】 液晶層を介して互いに対向配置された透
明基板のうち、その一方の透明基板の各画素領域に表示
電極と基準電極とが形成され、これら各電極の間に前記
透明基板と平行に電界を発生せしめることによって前記
液晶層を通過する光を変調させるものであって、 前記表示電極は、走査信号線への走査信号の供給によっ
てオンするスイッチング素子を介して映像信号線からの
映像信号が供給されるとともに、前記基準電極は、基準
信号線からの基準信号が供給される液晶表示素子の製造
方法において、 所定のパターンどおりに形成されない映像信号線の隣接
する基準電極側へのはみ出し部によって、該基準電極と
の電気的短絡が生じている場合に、該はみ出し部を切断
することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
2. A display electrode and a reference electrode are formed in each pixel region of one transparent substrate of the transparent substrates arranged to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and the transparent substrate is provided between these electrodes. In order to modulate the light passing through the liquid crystal layer by generating an electric field in parallel, the display electrode, from the video signal line via the switching element turned on by the supply of the scanning signal to the scanning signal line. In the method of manufacturing a liquid crystal display element in which a video signal is supplied and the reference electrode is supplied with a reference signal from a reference signal line, the reference electrode is not formed according to a predetermined pattern to the adjacent reference electrode side of the video signal line. A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the protruding portion is cut off when the protruding portion causes an electrical short circuit with the reference electrode.
【請求項3】 液晶層を介して互いに対向配置された透
明基板のうち、その一方の透明基板の各画素領域に表示
電極と基準電極とが形成され、これら各電極の間に前記
透明基板と平行に電界を発生せしめることによって前記
液晶層を通過する光を変調させるものであって、 前記表示電極は、走査信号線への走査信号の供給によっ
てオンするスイッチング素子を介して映像信号線からの
映像信号が供給されるとともに、前記基準電極は、基準
信号線からの基準信号が供給される液晶表示素子の製造
方法において、 前記基準電極とこの基準電極と隣接する走査信号線との
間で電気的短絡が生じている場合に、該電気的短絡の生
じている個所の近傍において該基準電極を切断すること
を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
3. A display electrode and a reference electrode are formed in each pixel area of one transparent substrate of the transparent substrates arranged to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and the transparent substrate is provided between these electrodes. In order to modulate the light passing through the liquid crystal layer by generating an electric field in parallel, the display electrode, from the video signal line via the switching element turned on by the supply of the scanning signal to the scanning signal line. In the method of manufacturing a liquid crystal display device, in which a video signal is supplied and the reference electrode is supplied with a reference signal from a reference signal line, the reference electrode is electrically connected between the reference electrode and a scanning signal line adjacent to the reference electrode. A method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein the reference electrode is cut in the vicinity of a portion where the electrical short circuit occurs when the electrical short circuit occurs.
【請求項4】 液晶層を介して互いに対向配置された透
明基板のうち、その一方の透明基板の各画素領域に表示
電極と基準電極とが形成され、これら各電極の間に前記
透明基板と平行に電界を発生せしめることによって前記
液晶層を通過する光を変調させるものであって、 前記表示電極は、走査信号線への走査信号の供給によっ
てオンするスイッチング素子を介して映像信号線からの
映像信号が供給されるとともに、前記基準電極は、基準
信号線からの基準信号が供給される液晶表示素子におい
て、 基準電極は、映像信号線と隣接して基準信号線から延在
されて形成されているとともに、その基準信号線から延
在される部分において、他の部分と比較して映像信号線
から大きく離間された構成となっていることを特徴とす
る液晶表示素子。
4. A display electrode and a reference electrode are formed in each pixel region of one of the transparent substrates arranged to face each other with a liquid crystal layer in between, and the transparent substrate is provided between these electrodes. In order to modulate the light passing through the liquid crystal layer by generating an electric field in parallel, the display electrode, from the video signal line via the switching element turned on by the supply of the scanning signal to the scanning signal line. In the liquid crystal display device in which the video signal is supplied and the reference electrode is supplied with the reference signal from the reference signal line, the reference electrode is formed to extend from the reference signal line adjacent to the video signal line. In addition, the liquid crystal display element is characterized in that the portion extending from the reference signal line is far away from the video signal line as compared with other portions.
【請求項5】基準電極とこの基準電極と近接する他の信
号線との電気的短絡が生じた場合、前記基準電極のうち
映像信号線と大きく離間された部分を切断することを特
徴とする請求項4記載の液晶表示素子。
5. When an electrical short circuit occurs between the reference electrode and another signal line adjacent to the reference electrode, a portion of the reference electrode that is largely separated from the video signal line is cut off. The liquid crystal display element according to claim 4.
【請求項6】 液晶層を介して互いに対向配置された透
明基板のうち、その一方の透明基板の各画素領域に表示
電極と基準電極とが形成され、これら各電極の間に前記
透明基板と平行に電界を発生せしめることによって前記
液晶層を通過する光を変調させるものであって、 前記表示電極は、走査信号線への走査信号の供給によっ
てオンするスイッチング素子を介して映像信号線からの
映像信号が供給されるとともに、前記基準電極は、基準
信号線からの基準信号が供給される液晶表示素子の製造
方法において、 基準信号線とこの基準信号線と隣接して配置される走査
信号線との間に導電付着物を介して電気的短絡が生じて
いる場合に、該導電付着物自体の切断を行うことを特徴
とする液晶表示素子の製造方法。
6. A display electrode and a reference electrode are formed in each pixel region of one transparent substrate of the transparent substrates arranged to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and the transparent substrate is provided between these electrodes. In order to modulate the light passing through the liquid crystal layer by generating an electric field in parallel, the display electrode, from the video signal line via the switching element turned on by the supply of the scanning signal to the scanning signal line. In the method of manufacturing a liquid crystal display device, in which a video signal is supplied and the reference electrode is supplied with a reference signal from a reference signal line, a reference signal line and a scanning signal line arranged adjacent to the reference signal line. A method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein the conductive deposit itself is cut when an electrical short circuit occurs between the conductive deposit and the conductive deposit.
【請求項7】 切断はレーザ光の照射によって行うこと
を特徴とする請求項1ないし6記載のうちいずれか記載
の液晶表示装置の製造方法。
7. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the cutting is performed by irradiating a laser beam.
【請求項8】 液晶層を介して互いに対向配置された透
明基板のうち、その一方の透明基板の各画素領域に表示
電極と基準電極とが形成され、これら各電極の間に前記
透明基板と平行に電界を発生せしめることによって前記
液晶層を通過する光を変調させるものであって、 前記表示電極は、走査信号線への走査信号の供給によっ
てオンするスイッチング素子を介して映像信号線からの
映像信号が供給されるとともに、前記基準電極は、基準
信号線からの基準信号が供給される液晶表示素子の製造
方法において、 前記基準信号線の一部が断線している場合に、その断線
された各基準信号線との間をつなげる成膜形成を導電材
によって行うことを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。
8. A display electrode and a reference electrode are formed in each pixel region of one transparent substrate of the transparent substrates arranged to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and the transparent substrate is provided between the respective electrodes. In order to modulate the light passing through the liquid crystal layer by generating an electric field in parallel, the display electrode, from the video signal line via the switching element turned on by the supply of the scanning signal to the scanning signal line. In the method of manufacturing a liquid crystal display device in which a video signal is supplied and the reference signal is supplied from a reference signal line, the reference electrode is disconnected if a part of the reference signal line is disconnected. A method for manufacturing a liquid crystal display element, characterized in that a conductive material is used to form a film to connect each reference signal line.
【請求項9】 液晶層を介して互いに対向配置された透
明基板のうち、その一方の透明基板の各画素領域に表示
電極と基準電極とが形成され、これら各電極の間に前記
透明基板と平行に電界を発生せしめることによって前記
液晶層を通過する光を変調させるものであって、 前記表示電極は、走査信号線への走査信号の供給によっ
てオンするスイッチング素子を介して映像信号線からの
映像信号が供給されるとともに、前記基準電極は、基準
信号線からの基準信号が供給される液晶表示素子の製造
方法において、 前記基準電極あるいは表示電極の一部が断線している場
合に、その断線された電極との間をつなげる成膜形成を
導電材によって行うことを特徴とする液晶表示素子の製
造方法。
9. A display electrode and a reference electrode are formed in each pixel region of one transparent substrate of the transparent substrates arranged to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and the transparent substrate is provided between these electrodes. In order to modulate the light passing through the liquid crystal layer by generating an electric field in parallel, the display electrode, from the video signal line via the switching element turned on by the supply of the scanning signal to the scanning signal line. Along with the supply of a video signal, the reference electrode is a liquid crystal display element manufacturing method in which a reference signal from a reference signal line is supplied, in the case where a part of the reference electrode or the display electrode is broken, A method for manufacturing a liquid crystal display element, characterized in that a conductive material is used to form a film to connect with a broken electrode.
【請求項10】 導電材による成膜形成は、該導電材を
含む雰囲気中を通してレーザ光を照射する光CVD法に
より行うことを特徴とする請求項8、9のうちいずれか
記載の液晶表示素子の製造方法。
10. The liquid crystal display element according to claim 8, wherein the film formation using the conductive material is performed by an optical CVD method in which a laser beam is irradiated through an atmosphere containing the conductive material. Manufacturing method.
JP23268395A 1995-09-11 1995-09-11 Liquid crystal display element and its manufacture Pending JPH0980475A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23268395A JPH0980475A (en) 1995-09-11 1995-09-11 Liquid crystal display element and its manufacture
US08/708,812 US6049369A (en) 1995-09-11 1996-09-09 Parallel-field TFT LCD having reference electrodes and a conductive layer
KR1019960039046A KR100278813B1 (en) 1995-09-11 1996-09-10 LCD and its correction method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23268395A JPH0980475A (en) 1995-09-11 1995-09-11 Liquid crystal display element and its manufacture

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0980475A true JPH0980475A (en) 1997-03-28

Family

ID=16943162

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23268395A Pending JPH0980475A (en) 1995-09-11 1995-09-11 Liquid crystal display element and its manufacture

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0980475A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999045430A1 (en) * 1998-03-06 1999-09-10 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display
US6118508A (en) * 1997-08-13 2000-09-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal displays including reference electrode lines that extend across multiple pixels
KR100309063B1 (en) * 1998-06-30 2001-11-01 가나이 쓰토무 Liquid Crystal Display Device
TWI595290B (en) * 2016-02-18 2017-08-11 群創光電股份有限公司 Display device

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6118508A (en) * 1997-08-13 2000-09-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal displays including reference electrode lines that extend across multiple pixels
KR100268104B1 (en) * 1997-08-13 2000-10-16 윤종용 Ips mode lcd with common electrode lines and methods of manufacturing the same
WO1999045430A1 (en) * 1998-03-06 1999-09-10 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display
EP1063564A1 (en) * 1998-03-06 2000-12-27 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display
EP1063564A4 (en) * 1998-03-06 2005-09-14 Hitachi Ltd Liquid crystal display
KR100643444B1 (en) * 1998-03-06 2006-11-10 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 Liquid display device
KR100309063B1 (en) * 1998-06-30 2001-11-01 가나이 쓰토무 Liquid Crystal Display Device
TWI595290B (en) * 2016-02-18 2017-08-11 群創光電股份有限公司 Display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3464570B2 (en) Color liquid crystal display device
JP2772405B2 (en) Liquid crystal display
US7986289B2 (en) Liquid crystal display device
KR100278813B1 (en) LCD and its correction method
WO1995025291A1 (en) Active matrix liquid crystal display device
US5852482A (en) TFT array of liquid crystal display where dataline and source electrode projecting therefrom cross gate lines at only two points and repair method thereof
JP2669954B2 (en) Active matrix display
TW200305045A (en) In-plane-switching type liquid crystal display apparatus
US20030122990A1 (en) Array substrate for in-plane switching mode liquid crystal display device and method of fabricating the same
KR100779013B1 (en) repair method of gate line open in LCD
US7936424B2 (en) Liquid crystal display panel with light leakage prevention film and method for manufacturing the same
KR20000045318A (en) Liquid crystal display device with high aperture ratio and projection ratio
US6330042B1 (en) Liquid crystal display and the method of manufacturing the same
JPH0980475A (en) Liquid crystal display element and its manufacture
JP5096127B2 (en) Display device
JPH0545034B2 (en)
JPH0980473A (en) Liquid crystal display element
JP3583534B2 (en) Active matrix liquid crystal display panel
KR100695614B1 (en) Repair method for one pixel using laser chemical vapor deposition and a repaired substrate of liquid crystal display device
JP3360987B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JP2624812B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display panel
JP3418684B2 (en) Active matrix type liquid crystal display
JP3562808B2 (en) Liquid crystal display device
JP3592706B2 (en) Active matrix liquid crystal display panel
KR102054001B1 (en) Thin film transistor array panel, liquid crystal display, method to repair thereof, coror filter array panel and method of fabrication thereof