JPH0950948A - System coping with failure of semiconductor manufacturing apparatus - Google Patents

System coping with failure of semiconductor manufacturing apparatus

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JPH0950948A
JPH0950948A JP22262395A JP22262395A JPH0950948A JP H0950948 A JPH0950948 A JP H0950948A JP 22262395 A JP22262395 A JP 22262395A JP 22262395 A JP22262395 A JP 22262395A JP H0950948 A JPH0950948 A JP H0950948A
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JP
Japan
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module
failure
semiconductor manufacturing
manufacturing apparatus
processed
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Application number
JP22262395A
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Japanese (ja)
Inventor
Masanori Okuno
正則 奥野
Akira Maruyama
晃 丸山
Yukio Akita
幸男 秋田
Masatoshi Kiyoku
正敏 曲
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Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To continue a substrate treatment even if a failure is produced in one of processing systems by using the remaining normal processing systems and improve the production efficiency as a whole. SOLUTION: In a semiconductor manufacturing apparatus, substrates are separately treated by a plurality of process systems (PM1/PM2 and PM4/PM3). If a failure is produced in one (PM1/PM2) of the process systems, an integrated controller detects the failure and substrates which are to be treated by the process system in which the failure is produced are transferred to the other normal process system (PM4/PM3) and the treatment of substrates is continued. By continuing the substrate treatment as above described, the production efficiency as a whole can be improved in comparison with the conventional constitution wherein the treatment is interrupted.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、複数のプロセスモジュ
ールによって複数のプロセス系を構成し、処理対象の基
板を各プロセス系で分散処理する半導体製造装置に関
し、特に、いずれかのプロセス系に障害が発生した場合
に統合制御コントローラにより残余のプロセス系で基板
処理を続行させる障害対処システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus in which a plurality of process systems are constituted by a plurality of process modules, and a substrate to be processed is distributed and processed in each process system. The present invention relates to a failure coping system that allows an integrated controller to continue substrate processing in the remaining process system when an error occurs.

【0002】[0002]

【従来の技術】シリコンウエハ等といった処理対象の基
板に、エッチング、アッシング、成膜等といったプロセ
ス処理を施す半導体製造装置には、基板を搬入や搬出の
ために収容するモジュール、基板を搬送するモジュー
ル、基板に所定の処理を施すモジュールをゲートバルブ
を介して連接し、上記の処理並びに基板の搬送を自動的
に連続して行うものが知られている。
2. Description of the Related Art A semiconductor manufacturing apparatus for subjecting a substrate to be processed such as a silicon wafer to process processing such as etching, ashing, film formation, etc. has a module for accommodating the substrate for loading and unloading and a module for transporting the substrate. It is known that a module for performing a predetermined process on a substrate is connected via a gate valve to automatically and continuously perform the above process and substrate transfer.

【0003】図1には、このような半導体製造装置の一
例として枚葉式クラスタ型半導体製造装置の構成例を示
してある。この半導体製造装置は、4つのプロセスモジ
ュールPM1〜PM4と、2つのカセットモジュールC
M1及びCM2と、トランスポートモジュールTMと、
を備えており、トランスポートモジュールTMにプロセ
スモジュールPM1〜PM4及びカセットモジュールC
M1、CM2をそれぞれゲートバルブ(図示せず)を介
して気密に接続して構成されている。
FIG. 1 shows an example of the structure of a single-wafer cluster type semiconductor manufacturing apparatus as an example of such a semiconductor manufacturing apparatus. This semiconductor manufacturing apparatus includes four process modules PM1 to PM4 and two cassette modules C.
M1 and CM2, transport module TM,
The transport module TM includes process modules PM1 to PM4 and a cassette module C.
Each of M1 and CM2 is airtightly connected via a gate valve (not shown).

【0004】プロセスモジュールPM1〜PM4はそれ
ぞれ処理対象のウエハに所定の処理を施すモジュールで
あり、この例では、これらプロセスモジュールPM1〜
PM4を2つの系に分割してウエハを分散処理してい
る。すなわち、プロセスモジュールPM1とPM4と、
そして、プロセスモジュールPM2とPM3とは同一の
ウエハ処理を実行し、プロセスモジュールPM1とPM
2とから成るプロセス系と、プロセスモジュールPM4
とPM3とから成るプロセス系とによって、ウエハに一
連の処理を施すようになっている。
The process modules PM1 to PM4 are modules for performing a predetermined process on a wafer to be processed. In this example, the process modules PM1 to PM4 are processed.
The PM4 is divided into two systems to disperse the wafer. That is, the process modules PM1 and PM4,
Then, the process modules PM2 and PM3 execute the same wafer processing, and the process modules PM1 and PM3
2 and a process module PM4
The wafer is subjected to a series of processes by the process system including the PM3 and PM3.

【0005】また、カセットモジュールCM1とCM2
は複数(例えば、10枚)のウエハを収容するモジュー
ルであり、この例では、カセットモジュールCM1は未
処理のウエハを収容する搬入モジュール(ロードモジュ
ール)に設定され、カセットモジュールCM2はプロセ
ス系で処理されたウエハを収容する搬出モジュール(ア
ンロードモジュール)に設定されている。また、トラン
スポートモジュールTMはウエハを搬送するためのロボ
ットアームRを収容しており、カセットモジュールCM
1とプロセスモジュールPM1及びPM4の間、プロセ
スモジュールPM1とPM2並びにPM4とPM3との
間、及び、プロセスモジュールPM2及びPM3とカセ
ットモジュールCM2との間でウエハを搬送する。な
お、このウエハ搬送に際して、各モジュール間の通口を
閉止しているゲートバルブが開閉操作される。
Further, cassette modules CM1 and CM2
Is a module that accommodates a plurality of (for example, 10) wafers. In this example, the cassette module CM1 is set as a carry-in module (load module) that accommodates unprocessed wafers, and the cassette module CM2 is processed by a process system. It is set as a carry-out module (unload module) that accommodates the processed wafer. Further, the transport module TM accommodates the robot arm R for transferring the wafer, and the cassette module CM
1 and the process modules PM1 and PM4, between the process modules PM1 and PM2 and PM4 and PM3, and between the process modules PM2 and PM3 and the cassette module CM2. During the wafer transfer, the gate valve that closes the passage between the modules is opened and closed.

【0006】プロセスモジュールPM1〜PM4、カセ
ットモジュールCM1及びCM2、トランスポートモジ
ュールTMによる動作は、それぞれのモジュールに付設
されたコントローラPC1〜PC4、CC1、CC2、
TCによって直接的に制御される。そして、図2に示す
ように、これらコントローラPC1〜PC4、CC1、
CC2、TCは、LAN等のネットワークNを介して統
合制御コントローラGCに接続されており、各コントロ
ーラPC1〜PC4、CC1、CC2、TCによる各モ
ジュールPM1〜PM4、CM1、CM2、TMの制御
を統合制御コントローラGCが統括して制御する。
The operation by the process modules PM1 to PM4, the cassette modules CM1 and CM2, and the transport module TM is performed by the controllers PC1 to PC4, CC1 and CC2 attached to the respective modules.
Directly controlled by TC. Then, as shown in FIG. 2, these controllers PC1 to PC4, CC1,
CC2 and TC are connected to an integrated control controller GC via a network N such as a LAN, and control of each module PM1 to PM4, CM1, CM2, TM by each controller PC1 to PC4, CC1, CC2, TC is integrated. The controller GC integrally controls.

【0007】統合制御コントローラGCには図3に示す
ような内容のウエハ搬送テーブルTが設けられており、
統合制御コントローラGCがテーブルTの内容に従って
制御を行うことにより、ウエハが2つのプロセス系PM
1及びPM2とPM4及びPM3へ分散して搬送され、
それぞれの系でプロセス処理が実施される。図3に示す
例では、カセットモジュールCM1に収容されているウ
エハを奇数枚目と偶数枚目とに分けて、奇数枚目のウエ
ハは各モジュールCM1、PM1、PM2、CM2から
成る経路で、偶数枚目のウエハは各モジュールCM1、
PM4、PM3、CM2から成る経路で分散して処理す
る。
The integrated controller GC is provided with a wafer transfer table T having the contents shown in FIG.
The integrated control controller GC controls according to the contents of the table T, so that the wafer has two process system PMs.
1 and PM2 and PM4 and PM3 are distributed and transported,
Process processing is carried out in each system. In the example shown in FIG. 3, the wafers housed in the cassette module CM1 are divided into odd-numbered wafers and even-numbered wafers, and the odd-numbered wafers are formed by modules CM1, PM1, PM2, and CM2. The first wafer is each module CM1,
Processing is performed in a distributed manner by a path including PM4, PM3, and CM2.

【0008】すなわち、図4に示すように、1枚目のウ
エハはカセットモジュールCM1からプロセスモジュー
ルPM1へ搬送されて処理がなされ、更にプロセスモジ
ュールPM2へ搬送されて処理がなされた後に、カセッ
トモジュールCM2へ搬送される。また、2枚目のウエ
ハは、1台のロボットアームRで搬送処理を行うために
1枚目と若干の待ち時間をもって、カセットモジュール
CM1からプロセスモジュールPM4へ搬送されて処理
がなされ、更にプロセスモジュールPM3へ搬送されて
処理がなされた後に、カセットモジュールCM2へ搬送
される。なお、3枚目及び4枚目以降のウエハについて
は、先のウエハについての処理が終了した後に同様に処
理される。
That is, as shown in FIG. 4, the first wafer is transferred from the cassette module CM1 to the process module PM1 for processing, further transferred to the process module PM2 for processing, and then the cassette module CM2. Be transported to. Further, the second wafer is transferred by the robot arm R to the process module PM4 from the cassette module CM1 and processed for a short waiting time so that the second module is processed. After being transported to PM3 and processed, it is transported to the cassette module CM2. The third and fourth and subsequent wafers are similarly processed after the processing for the previous wafer is completed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ここで、半導体製造に
おいては、例えば、外因によってプロセスモジュールで
のプロセス条件が変動する、各モジュールのコントロー
ラで処理エラーが発生する等といった、種々な障害が発
生する場合がある。このような障害に発生に対して、上
記した従来の半導体製造装置にあっては、障害箇所が一
部のプロセス系であっても、統合制御コントローラが全
ての処理動作を中断させていた。したがって、未処理の
ウエハが僅かであるような場合でも、これらウエハの処
理が続行されないため、結果として、ウエハ処理が大幅
に遅延してしまう事態が生じていた。
Here, in semiconductor manufacturing, various troubles occur, for example, process conditions in a process module change due to external factors, a processing error occurs in a controller of each module, and the like. There are cases. With respect to the occurrence of such a failure, in the above-described conventional semiconductor manufacturing apparatus, the integrated control controller interrupts all processing operations even if the failure location is a part of the process system. Therefore, even when the number of unprocessed wafers is small, the processing of these wafers is not continued, and as a result, the wafer processing is significantly delayed.

【0010】本発明は上記従来の事情に鑑みなされたも
ので、一部のプロセス系で障害が生じた場合には、残余
の正常なプロセス系で基板(ウエハ)処理を続行し、総
じて生産効率を向上させる半導体製造装置の障害対処シ
ステムを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above conventional circumstances, and when a failure occurs in a part of the process system, the substrate (wafer) processing is continued in the remaining normal process system, and the overall production efficiency is improved. It is an object of the present invention to provide a failure coping system for a semiconductor manufacturing apparatus that improves the performance.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体製造装置の障害対処システム
は、処理対象の基板を複数枚収容する搬入モジュール
と、前記基板に所定の処理を施すプロセスモジュール
と、処理がなされた基板を収容する搬出モジュールと
を、基板を各モジュール間で搬送するトランスポートモ
ジュールを介して連接した半導体製造装置において、前
記プロセスモジュールを複数設けるとともに、トランス
ポートモジュールで搬入モジュールからの基板を各プロ
セスモジュールに分散させて搬送し、各複数のプロセス
系で基板を分散処理させ、各モジュールを統括して制御
する統合制御コントローラが、いずれかのプロセス系で
発生した障害を検知し、各モジュールを制御して当該障
害の発生した系を除く残余のプロセス系で基板処理を続
行させることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a failure coping system for a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention includes a carry-in module for accommodating a plurality of substrates to be processed, and a predetermined process for the substrates. In a semiconductor manufacturing apparatus in which a process module and a carry-out module that accommodates a processed substrate are connected via a transport module that transports the substrate between the modules, a plurality of the process modules are provided and the transport module is used. The board from the carry-in module is distributed to each process module and transported, the boards are distributed to each of the multiple process systems, and the integrated controller that controls each module centrally controls the failure in any process system. To control each module and remove the remaining Characterized in that to continue the substrate treated with processes based.

【0012】[0012]

【作用】本発明では、基板を複数のプロセス系で分散し
て処理している状態において、いずれかのプロセス系で
障害が発生すると、統合制御コントローラがこの障害の
発生を検知する。そして、統合制御コントローラが障害
が発生したプロセス系で処理する予定の基板を残余の正
常なプロセス系へ振り替え、これら基板の処理を続行さ
せる。したがって、障害が発生したプロセス系の分、処
理が遅延するものの、基板処理を続行することで、全て
の処理を中断する場合に比べて総じて生産効率を高める
ことができる。
According to the present invention, when a failure occurs in any one of the process systems while the substrate is distributed and processed by the plurality of process systems, the integrated controller detects the occurrence of the failure. Then, the integrated control controller transfers the substrate to be processed in the failed process system to the remaining normal process system, and continues the processing of these substrates. Therefore, although the processing is delayed by the amount of the process system in which the failure has occurred, by continuing the substrate processing, it is possible to improve the production efficiency as a whole, as compared with the case where all the processing is interrupted.

【0013】[0013]

【実施例】本発明の一実施例に係る半導体製造装置の障
害対処システムを図面を参照して説明する。なお、本実
施例は図1及び図2に示した半導体製造装置に本発明を
適用したものであり、既に説明した部分には同一符号を
付して重複する説明は省略する。プロセスモジュールP
M1とPM2とから成るプロセス系と、プロセスモジュ
ールPM4とPM3とから成るプロセス系とのいずれに
も障害がなく正常に稼働している状態では、本実施例に
おいても、統合制御コントローラGCが図3に示したテ
ーブル内容に従って各コントローラPC1〜PC4、C
C1、CC2、TCを統括して制御し、図4に示したよ
うにウエハを奇数枚目と偶数枚目に分けてそれぞれのプ
ロセス系で分散処理させる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A fault coping system for a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The present embodiment is one in which the present invention is applied to the semiconductor manufacturing apparatus shown in FIGS. 1 and 2, and the same reference numerals are given to the parts already described and the duplicated description will be omitted. Process module P
In a state in which both the process system including M1 and PM2 and the process system including process modules PM4 and PM3 are operating normally without any failure, the integrated controller GC in FIG. Controllers PC1 to PC4, C according to the table contents shown in
C1, CC2, and TC are collectively controlled, and as shown in FIG. 4, wafers are divided into odd-numbered wafers and even-numbered wafers and dispersed in respective process systems.

【0014】本実施例の統合制御コントローラGCは、
各プロセスモジュールコントローラPC1〜PC4から
のエラー信号を受けて、各プロセスモジュールコントロ
ーラPC1〜PC4及び各プロセスモジュールPC1〜
PC4での障害発生を検知する手段を有しており、シス
テム稼働中はこの障害発生検知を常時行っている。ま
た、本実施例の統合制御コントローラGCは、ウエハ搬
送テーブルTの内容を書き換える手段を有しており、障
害発生を検知したときには、この書換手段によってテー
ブルTの内容を書き換え、障害が発生したプロセス系で
処理する予定のウエハを残余の正常なプロセス系へ振り
替えて処理を続行する縮退運用を実施する。なお、本実
施例では、統合制御コントローラGCの操作パネルを操
作して、作業者が縮退運用を実施するか否かを選択指示
することができ、当該指示がなされている場合にのみ、
統合制御コントローラGCが縮退運用を実施する。
The integrated controller GC of this embodiment is
Upon receiving an error signal from each process module controller PC1 to PC4, each process module controller PC1 to PC4 and each process module PC1 to
It has means for detecting the occurrence of a failure in the PC 4, and this failure occurrence is constantly detected during system operation. Further, the integrated control controller GC of the present embodiment has means for rewriting the contents of the wafer transfer table T, and when a failure is detected, the contents of the table T are rewritten by this rewriting means, and the process in which the failure has occurred. Degenerate operation is performed in which wafers to be processed by the system are transferred to the remaining normal process system and processing is continued. In the present embodiment, the operator can operate the operation panel of the integrated controller GC to instruct the operator to select whether or not to perform the degenerate operation, and only when the instruction is issued,
The integrated controller GC carries out degenerate operation.

【0015】次に、各プロセス系を成すプロセスモジュ
ールコントローラPC1〜PC4及びプロセスモジュー
ルPC1〜PC4で障害が発生した場合における、本実
施例のシステムの動作を図5〜図7を参照して説明す
る。まず、システムが起動されると統合制御コントロー
ラGCが各プロセスモジュールコントローラPC1〜P
C4からのエラー信号の監視を開始し(ステップSS
1)、プロセスモジュールコントローラPC1〜PC4
或いはプロセスモジュールPC1〜PC4のいずれかで
障害が発生して、統合制御コントローラGCが当該障害
に係るプロセスモジュールコントローラPC1〜PC4
からのエラー信号を受信すると、縮退運用を実施する指
示がなされていか否かを判断する(ステップS2)。
Next, the operation of the system of this embodiment when a failure occurs in the process module controllers PC1 to PC4 and the process modules PC1 to PC4 forming each process system will be described with reference to FIGS. . First, when the system is started, the integrated control controller GC causes the process module controllers PC1 to P
Start monitoring the error signal from C4 (step SS
1), process module controllers PC1 to PC4
Alternatively, a failure occurs in any of the process modules PC1 to PC4, and the integrated controller GC causes the process module controllers PC1 to PC4 related to the failure.
When the error signal from is received, it is determined whether or not an instruction to execute the degenerate operation is given (step S2).

【0016】この結果、縮退運用の実施が指示されてい
ない場合には、従来と同様に全てのプロセス系の処理を
中断させる(ステップS3)。なお、本実施例では、統
合制御コントローラGCの操作パネルを操作して、縮退
運用をすることなく、正常なプロセス系のみをそのまま
稼動させるように選択指示することもでき、この指示が
なされている場合には、正常なプロセス系は図3に示し
た内容のままのテーブエルTに従って自己が処理すべき
ウエハのみの処理を続行する(ステップS3)。一方、
上記の判断の結果、縮退運用実施の指示がなされている
場合には、エラー信号及び図3のテーブル内容に基づい
て、障害が発生したプロセス系が奇数枚目のウエハを処
理する系であるかを統合制御コントローラGCが判断す
る(ステップS4)。
As a result, when the execution of the degenerate operation is not instructed, the processing of all process systems is suspended as in the conventional case (step S3). In this embodiment, it is also possible to operate the operation panel of the integrated controller GC to give a selection instruction to operate only the normal process system as it is without performing degenerate operation. In this case, the normal process system continues to process only the wafer to be processed by itself in accordance with the table L T as shown in FIG. 3 (step S3). on the other hand,
As a result of the above judgment, if the degeneration operation is instructed, based on the error signal and the contents of the table in FIG. 3, is the process system in which the fault has occurred processed the odd number of wafers? Is determined by the integrated control controller GC (step S4).

【0017】この結果、奇数枚目のウエハを処理する系
(すなわち、PM1及びPM2の系)で障害が発生して
いる場合にはウエハ搬送テーブルTの奇数枚目のウエハ
に関するスケジュールを書き換える一方(ステップS
5)、偶数枚目のウエハを処理する系(すなわち、PM
4及びPM3の系)で障害が発生している場合にはウエ
ハ搬送テーブルTの偶数枚目のウエハに関するスケジュ
ールを書き換える(ステップS6)。
As a result, when a failure occurs in the system for processing odd-numbered wafers (that is, the system of PM1 and PM2), the schedule relating to the odd-numbered wafers of the wafer transfer table T is rewritten ( Step S
5), a system for processing even-numbered wafers (that is, PM
4 and PM3 system), the schedule for the even numbered wafers in the wafer transfer table T is rewritten (step S6).

【0018】この書き換え処理は統合制御コントローラ
GCの書換手段でなされ、例えば、図3中及び図5図中
に×印で示すように、1枚目(奇数枚目)のウエハのプ
ロセス処理中に障害が発生した場合には、図6に*印で
示すように、ウエハ搬送テーブルTの当該ウエハ以降の
奇数枚目に係るスケジュールが書き換えられる。すなわ
ち、3枚目、5枚目、7枚目、9枚目のウエハは、正常
な処理においてはプロセスモジュールPM1及びPM2
から成るプロセス系で処理されるようにスケジュールさ
れているが(図3参照)、このプロセス系に障害が発生
したことにより、プロセスモジュールPM4及びPM3
から成る正常なプロセス系で処理されるように書き換え
られる。
This rewriting process is performed by the rewriting means of the integrated control controller GC. For example, as indicated by a mark X in FIGS. 3 and 5, during the process processing of the first (odd number) wafer. When a failure occurs, the schedule relating to the odd-numbered wafers after the relevant wafer in the wafer transfer table T is rewritten, as indicated by * in FIG. That is, the third wafer, the fifth wafer, the seventh wafer, and the ninth wafer are processed modules PM1 and PM2 during normal processing.
Is scheduled to be processed by the process system consisting of (see FIG. 3), but due to the failure of this process system, process modules PM4 and PM3 are processed.
It is rewritten to be processed by a normal process system consisting of.

【0019】このようにテーブルTの書き換えがなされ
た後、このテーブルTの内容に従って統合制御コントロ
ーラGCが制御を行う(ステップS7)。この結果、図
5に示すように、プロセスモジュールPM4及びPM3
から成る正常なプロセス系において、後続する(3枚目
以降の)ウエハが処理される。したがって、障害が生じ
たプロセス系で処理する予定のウエハについても処理が
続行され、ウエハに薄膜形成等の所定の処理が施され
る。
After the table T is rewritten in this way, the integrated controller GC controls according to the contents of the table T (step S7). As a result, as shown in FIG. 5, the process modules PM4 and PM3 are
In the normal process system consisting of, the subsequent (third and subsequent) wafers are processed. Therefore, the processing is continued even for the wafer to be processed in the process system in which the failure has occurred, and the predetermined processing such as thin film formation is performed on the wafer.

【0020】なお、この縮退運用による処理において
は、プロセス系が減少することによってウエハ搬送の重
複が減少することから、統合制御コントローラGCは図
5に示すように3枚目以降のウエハについての待ち時間
を調整し、2経路で処理していたものを1経路で処理す
るように制御を行う。このため、プロセス系に障害が生
じても装置を停止することなく、全てのウエハを処理す
ることができる。
In this degenerate operation process, since the number of process systems is reduced and the overlap of wafer transfer is reduced, the integrated controller GC waits for the third and subsequent wafers as shown in FIG. The time is adjusted, and control is performed so that what was processed by two paths is processed by one path. Therefore, even if a failure occurs in the process system, all the wafers can be processed without stopping the apparatus.

【0021】なお、上記の実施例では、統合制御コント
ローラGCはコントローラPC1〜PC4からのエラー
信号で障害発生を検知するようにしたが、各コントロー
ラPC1〜PC4や各プロセスモジュールPC1〜PC
4を直接監視して、障害発生を検知するようにしてもよ
い。また、上記実施例の半導体製造装置では、搬入用と
搬出用のカセットモジュールCM1、CM2をそれぞれ
設けたが、1つのカセットモジュールで搬入と搬出とを
兼用させることも可能である。
In the above embodiment, the integrated control controller GC detects the failure occurrence by the error signal from the controllers PC1 to PC4, but each controller PC1 to PC4 and each process module PC1 to PC.
4 may be directly monitored to detect the occurrence of a failure. Further, in the semiconductor manufacturing apparatus of the above-described embodiment, the cassette modules CM1 and CM2 for loading and unloading are respectively provided, but it is also possible to use one cassette module for both loading and unloading.

【0022】また、本発明においては、半導体製造装置
のプロセス系は2つ以上あればよく、また、各プロセス
系は1つ以上のプロセスモジュールで構成されていれば
よい。また、本発明はクラスタ型以外の半導体製造装置
にも適用することが可能であり、要は、2つ以上のプロ
セス系で処理対象の基板を分散処理する半導体製造装置
であれば本発明を適用することができる。
Further, in the present invention, the semiconductor manufacturing apparatus may have two or more process systems, and each process system may be composed of one or more process modules. Further, the present invention can be applied to a semiconductor manufacturing apparatus other than the cluster type. In short, the present invention can be applied to any semiconductor manufacturing apparatus that dispersively processes substrates to be processed in two or more process systems. can do.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る障害
対処システムによれば、基板を複数のプロセス系で分散
して処理する半導体製造装置において、いずれかのプロ
セス系で障害が発生した場合に、統合制御コントローラ
が障害が発生したプロセス系で処理する予定の基板を残
余の正常なプロセス系へ振り替えて処理を続行させるよ
うにしたため、最小限の遅延によって、処理予定の基板
の所定の処理を施すことができ、従来に比して半導体製
造の効率を高めることができる。
As described above, according to the fault handling system of the present invention, when a fault occurs in any of the process systems in a semiconductor manufacturing apparatus that disperses and processes substrates in a plurality of process systems. In addition, the integrated controller transfers the board to be processed in the failed process system to the remaining normal process system to continue processing, so that the predetermined processing of the board to be processed can be performed with a minimum delay. Therefore, the efficiency of semiconductor manufacturing can be improved as compared with the conventional case.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る半導体製造装置の構成
例を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a configuration example of a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例に係る制御系を示す構成図で
ある。
FIG. 2 is a configuration diagram showing a control system according to an embodiment of the present invention.

【図3】ウエハ搬送テーブルの正常時における内容を示
す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing contents of a wafer transfer table at a normal time.

【図4】半導体製造装置の正常時における処理のタイム
チャートである。
FIG. 4 is a time chart of processing when the semiconductor manufacturing apparatus is normal.

【図5】半導体製造装置の障害発生時における処理のタ
イムチャートである。
FIG. 5 is a time chart of processing when a failure occurs in the semiconductor manufacturing apparatus.

【図6】ウエハ搬送テーブルの障害発生時における内容
を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing contents when a failure occurs in the wafer transfer table.

【図7】半導体製造装置の障害発生時における対処処理
のフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart of a coping process when a failure occurs in the semiconductor manufacturing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

PM1、PM2、PM3、PM4 プロセスモジュー
ル、 CM1、CM2 カセットモジュール、 TM トランスポートモジュール、 GC 統合制御コントローラ、 PC1、PC2、PC3、PC4 プロセスモジュール
コントローラ、 CC1、CC2 カセットモジュールコントローラ、 TC トランスポートモジュールコントローラ、
PM1, PM2, PM3, PM4 process module, CM1, CM2 cassette module, TM transport module, GC integrated control controller, PC1, PC2, PC3, PC4 process module controller, CC1, CC2 cassette module controller, TC transport module controller,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 曲 正敏 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masatoshi Kama 3-14-20 Higashi-Nakano, Nakano-ku, Tokyo Inside Kokusai Electric Inc.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 処理対象の基板を複数枚収容する搬入モ
ジュールと、前記基板に所定の処理を施すプロセスモジ
ュールと、処理がなされた基板を収容する搬出モジュー
ルとを、基板を各モジュール間で搬送するトランスポー
トモジュールを介して連接した半導体製造装置におい
て、 前記プロセスモジュールを複数設けるとともに、トラン
スポートモジュールで搬入モジュールからの基板を各プ
ロセスモジュールに分散させて搬送し、各複数のプロセ
ス系で基板を分散処理させ、 各モジュールを統括して制御する統合制御コントローラ
が、いずれかのプロセス系で発生した障害を検知し、各
モジュールを制御して当該障害の発生した系を除く残余
のプロセス系で基板処理を続行させることを特徴とする
半導体製造装置の障害対処システム。
1. A substrate is transferred between modules by a carry-in module that accommodates a plurality of substrates to be processed, a process module that performs a predetermined process on the substrates, and a carry-out module that houses the processed substrates. In a semiconductor manufacturing apparatus connected via a transport module, a plurality of the process modules are provided, and the transport module disperses and transports the substrate from the carry-in module to each process module, and the substrate is transported by each of the plurality of process systems. An integrated controller that performs distributed processing and controls each module in a centralized manner detects a failure that occurred in one of the process systems and controls each module to control the board in the remaining process system excluding the system in which the failure occurred. A failure coping system for a semiconductor manufacturing apparatus, characterized by continuing processing.
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