JPH09300571A - エンボス版の製造方法 - Google Patents
エンボス版の製造方法Info
- Publication number
- JPH09300571A JPH09300571A JP12370296A JP12370296A JPH09300571A JP H09300571 A JPH09300571 A JP H09300571A JP 12370296 A JP12370296 A JP 12370296A JP 12370296 A JP12370296 A JP 12370296A JP H09300571 A JPH09300571 A JP H09300571A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- embossing plate
- cylinder
- depth
- photosensitive resin
- threshold value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、安価で短期間に製作でき、かつ意匠
的にも優れたエンボス版の製造方法を提供することにあ
る。 【解決手段】水平に保持した平面状の凹凸原稿の表面を
触針またはレーザー光により走査し、これによって得ら
れる凹部の深さに係わる情報を予め定めた閾値と比較
し、閾値より深い部分をＯＮ信号に変換し、閾値より浅
い部分をＯＦＦ信号として変換し、一回の走査によって
得られる情報を記憶装置に蓄え、予め感光性樹脂を塗布
したエンボス版シリンダーを走査と同期して回転させな
がら、前記記憶装置に蓄えられた一回転分のＯＮ−ＯＦ
Ｆ情報をレーザー光のＯＮ−ＯＦＦに変換して、シリン
ダー表面に直接露光し、この直接露光は、一定のピッチ
で移動しながらエンボス版シリンダーの円周全面に行
い、露光した後、現像、エッチング、剥膜を行うエンボ
ス版の製造方法である。
的にも優れたエンボス版の製造方法を提供することにあ
る。 【解決手段】水平に保持した平面状の凹凸原稿の表面を
触針またはレーザー光により走査し、これによって得ら
れる凹部の深さに係わる情報を予め定めた閾値と比較
し、閾値より深い部分をＯＮ信号に変換し、閾値より浅
い部分をＯＦＦ信号として変換し、一回の走査によって
得られる情報を記憶装置に蓄え、予め感光性樹脂を塗布
したエンボス版シリンダーを走査と同期して回転させな
がら、前記記憶装置に蓄えられた一回転分のＯＮ−ＯＦ
Ｆ情報をレーザー光のＯＮ−ＯＦＦに変換して、シリン
ダー表面に直接露光し、この直接露光は、一定のピッチ
で移動しながらエンボス版シリンダーの円周全面に行
い、露光した後、現像、エッチング、剥膜を行うエンボ
ス版の製造方法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチック素材
等にエンボス模様を付与する際に使用するエンボス版の
製造方法に関し、特に、連続的な凹凸を有する実物原稿
の凹凸を近似的に表現することができるエンボス版の製
造方法に関する。
等にエンボス模様を付与する際に使用するエンボス版の
製造方法に関し、特に、連続的な凹凸を有する実物原稿
の凹凸を近似的に表現することができるエンボス版の製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、エンボス版を製造する方法には幾
つかの方法が知られており、実際に使用されている。例
えば、原稿を写真撮影して作製したネガ（或いはポジ）
フィルムをして、感光性樹脂によるフォトエッチング方
法や、原稿から型取りして作ったマザーミルによる彫刻
法や、原稿に直接メッキを行って逆形状を写し取る電鋳
法等が一般的である。
つかの方法が知られており、実際に使用されている。例
えば、原稿を写真撮影して作製したネガ（或いはポジ）
フィルムをして、感光性樹脂によるフォトエッチング方
法や、原稿から型取りして作ったマザーミルによる彫刻
法や、原稿に直接メッキを行って逆形状を写し取る電鋳
法等が一般的である。
【０００３】しかしながら、前記に述べた単なるエッチ
ング法は、三次元形状の再現性が悪く、またエンボスの
深みを付けるために、数種類のネガ（若しくはポジ）フ
ィルムを用いる多段エッチング法においても、三次元形
状を有する原稿を再現することは困難であった。また、
前記彫刻法では、木目柄のように大柄の場合には適用で
きなかった。さらには、電鋳法における凹凸模様は意匠
的には優れているが、電鋳メッキに長時間を要し、コス
ト的にも非常に高価なエンボス版にならざるを得なかっ
た。
ング法は、三次元形状の再現性が悪く、またエンボスの
深みを付けるために、数種類のネガ（若しくはポジ）フ
ィルムを用いる多段エッチング法においても、三次元形
状を有する原稿を再現することは困難であった。また、
前記彫刻法では、木目柄のように大柄の場合には適用で
きなかった。さらには、電鋳法における凹凸模様は意匠
的には優れているが、電鋳メッキに長時間を要し、コス
ト的にも非常に高価なエンボス版にならざるを得なかっ
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は以上
のような問題点を解決するためになされたもので、その
課題とするところは、安価で短期間に製作でき、かつ意
匠的にも優れたエンボス版の製造方法を提供することに
ある。
のような問題点を解決するためになされたもので、その
課題とするところは、安価で短期間に製作でき、かつ意
匠的にも優れたエンボス版の製造方法を提供することに
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はこれらの課題を
解決するため、まず請求項１の発明では、感光性樹脂を
用いたエッチング法によるエンボス版の製造方法におい
て、水平に保持した平面状の凹凸原稿の表面を触針また
はレーザー光により走査する手段と、これによって得ら
れる凹部の深さに係わる情報を予め定めた閾値と比較
し、閾値より深い部分をＯＮ信号に変換し、閾値より浅
い部分をＯＦＦ信号として変換し、一回の走査によって
得られる情報を記憶装置に蓄える手段と、予め感光性樹
脂を塗布したエンボス版シリンダーを走査と同期して回
転させながら、前記記憶装置に蓄えられた一回転分のＯ
Ｎ−ＯＦＦ情報をレーザー光のＯＮ−ＯＦＦに変換し
て、シリンダー表面に直接露光する手段と、前記直接露
光する手段が、一定のピッチで移動しながらエンボス版
シリンダーの円周全面に行う手段とを具備し、露光した
後、シリンダー表面の感光性樹脂皮膜の現像、腐食液に
よるエッチング、剥膜を行い、シリンダー表面に凹凸模
様を形成してなるエンボス版の製造方法である。
解決するため、まず請求項１の発明では、感光性樹脂を
用いたエッチング法によるエンボス版の製造方法におい
て、水平に保持した平面状の凹凸原稿の表面を触針また
はレーザー光により走査する手段と、これによって得ら
れる凹部の深さに係わる情報を予め定めた閾値と比較
し、閾値より深い部分をＯＮ信号に変換し、閾値より浅
い部分をＯＦＦ信号として変換し、一回の走査によって
得られる情報を記憶装置に蓄える手段と、予め感光性樹
脂を塗布したエンボス版シリンダーを走査と同期して回
転させながら、前記記憶装置に蓄えられた一回転分のＯ
Ｎ−ＯＦＦ情報をレーザー光のＯＮ−ＯＦＦに変換し
て、シリンダー表面に直接露光する手段と、前記直接露
光する手段が、一定のピッチで移動しながらエンボス版
シリンダーの円周全面に行う手段とを具備し、露光した
後、シリンダー表面の感光性樹脂皮膜の現像、腐食液に
よるエッチング、剥膜を行い、シリンダー表面に凹凸模
様を形成してなるエンボス版の製造方法である。
【０００６】また請求項２の発明では、前記閾値を原稿
の凹凸深さに応じて複数段階に設定し、位置を正確に合
わせながら、閾値の深い順に前記請求項１に記載の操作
を複数回に亘り繰り返し行って連続的な凹凸模様を形成
する、エンボス版の製造方法である。
の凹凸深さに応じて複数段階に設定し、位置を正確に合
わせながら、閾値の深い順に前記請求項１に記載の操作
を複数回に亘り繰り返し行って連続的な凹凸模様を形成
する、エンボス版の製造方法である。
【０００７】前記平面状の凹凸原稿に予めエンドレス繋
ぎ処理を施し、エンボス版シリンダーの円周に相当する
ピッチで、柄の天地が繋がるようにしておくエンボス版
の製造方法である。
ぎ処理を施し、エンボス版シリンダーの円周に相当する
ピッチで、柄の天地が繋がるようにしておくエンボス版
の製造方法である。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、実施の形態により本発明を
詳細に説明する。本発明は、原稿表面の凹凸形状を触針
またはレーザー変位計を用いて読み取り、読みとったデ
ータをレーザー描画装置に入力し、感光性樹脂を塗布し
たエンボス版シリンダーに直接描画することとした。す
なわち、原稿の表面形状を読みとる際に任意の深さ以上
の部分だけを識別するように予め閾値を定めておき、閾
値より深い部分をＯＮ信号とし、閾値より浅い部分をＯ
ＦＦ信号として記録するもので、変位計を設定し、描画
装置にデータを送り、その部位に相当する感光性樹脂に
レーザー光を照射して、この樹脂を直接露光硬化せし
め、現像液により現像した後、第１回目のエッチングを
行う。
詳細に説明する。本発明は、原稿表面の凹凸形状を触針
またはレーザー変位計を用いて読み取り、読みとったデ
ータをレーザー描画装置に入力し、感光性樹脂を塗布し
たエンボス版シリンダーに直接描画することとした。す
なわち、原稿の表面形状を読みとる際に任意の深さ以上
の部分だけを識別するように予め閾値を定めておき、閾
値より深い部分をＯＮ信号とし、閾値より浅い部分をＯ
ＦＦ信号として記録するもので、変位計を設定し、描画
装置にデータを送り、その部位に相当する感光性樹脂に
レーザー光を照射して、この樹脂を直接露光硬化せし
め、現像液により現像した後、第１回目のエッチングを
行う。
【０００９】次に、変位計の深さの読みとり設定を前記
に述べた設定より浅くして、再度読みとり、描画、現像
および第２回目のエッチング作業を行う。このような作
業を数回に亘り繰り返して多段階のエッチングを行うこ
とにより、原稿の凹凸とは逆形状の凹凸模様持った滑ら
かな表面が形成されることになる。従って、変位計の深
さの読みとりの設定を細かいピッチで行えば、凹凸形状
の再現性もそれに従って良いものとなるが、実用的には
３回程度の繰り返しで十分である。
に述べた設定より浅くして、再度読みとり、描画、現像
および第２回目のエッチング作業を行う。このような作
業を数回に亘り繰り返して多段階のエッチングを行うこ
とにより、原稿の凹凸とは逆形状の凹凸模様持った滑ら
かな表面が形成されることになる。従って、変位計の深
さの読みとりの設定を細かいピッチで行えば、凹凸形状
の再現性もそれに従って良いものとなるが、実用的には
３回程度の繰り返しで十分である。
【００１０】なお、読みとりに使用するレーザー変位計
の分解能は小さい方が望ましいが、読みとりを行う原稿
の凹凸の大きさにより適宜選択することが良い。また感
光性樹脂を硬化させるレーザー描画装置は、読みとりを
行うレーザー変位計と同等の機能を持ったものである必
要がある。
の分解能は小さい方が望ましいが、読みとりを行う原稿
の凹凸の大きさにより適宜選択することが良い。また感
光性樹脂を硬化させるレーザー描画装置は、読みとりを
行うレーザー変位計と同等の機能を持ったものである必
要がある。
【００１１】また、使用する感光性樹脂は特に限定はし
ないが、少なくとも読みとり若しくは描画される時の分
解能と同等の解像力度を有することが必要である。また
エッチングに用いるエッチング液は、エンボス版が銅製
であるならば、塩化第二鉄、塩化第二銅、硝酸、クロム
酸、可硫酸塩等が使用できるが、通常は塩化第二鉄が一
般的に使用されている。
ないが、少なくとも読みとり若しくは描画される時の分
解能と同等の解像力度を有することが必要である。また
エッチングに用いるエッチング液は、エンボス版が銅製
であるならば、塩化第二鉄、塩化第二銅、硝酸、クロム
酸、可硫酸塩等が使用できるが、通常は塩化第二鉄が一
般的に使用されている。
【００１２】
【実施例】以下、図面に従って実施例を詳細に説明す
る。図１は、本発明におけるエンボス版の製造方法の概
念図である。１０は原稿、１１は触針またはレーザー
光、１２はレーザー変位計本体、１３はレーザー描画装
置、１４はレーザー光、１５は感光性樹脂を塗布したエ
ンボス版（実用はシリンダー）である。
る。図１は、本発明におけるエンボス版の製造方法の概
念図である。１０は原稿、１１は触針またはレーザー
光、１２はレーザー変位計本体、１３はレーザー描画装
置、１４はレーザー光、１５は感光性樹脂を塗布したエ
ンボス版（実用はシリンダー）である。
【００１３】すなわち、原稿１０表面の凹凸形状を触針
またはレーザー光１１を用いて深さを読みとり、読みと
った凹凸形状の深さデータをレーザー変位計本体１２か
らレーザー描画装置１３に入力し、感光性樹脂を塗布し
た金属板（実用は金属製のエンボス版シリンダー）の感
光性樹脂膜にレーザー光１４を照射して直接描画するこ
とを示したものである。この原稿１０の表面の凹凸形状
を読みとる際に、変位計本体１２は予め任意の深さ以上
の部分だけを識別する用に閾値を定めておき、閾値より
深い部分をＯＮ信号とし、閾値より浅い部分をＯＦＦ信
号として記録するようにしたものである。
またはレーザー光１１を用いて深さを読みとり、読みと
った凹凸形状の深さデータをレーザー変位計本体１２か
らレーザー描画装置１３に入力し、感光性樹脂を塗布し
た金属板（実用は金属製のエンボス版シリンダー）の感
光性樹脂膜にレーザー光１４を照射して直接描画するこ
とを示したものである。この原稿１０の表面の凹凸形状
を読みとる際に、変位計本体１２は予め任意の深さ以上
の部分だけを識別する用に閾値を定めておき、閾値より
深い部分をＯＮ信号とし、閾値より浅い部分をＯＦＦ信
号として記録するようにしたものである。
【００１４】図２は、本発明のエンボス版の製造方法に
おける深さ読みとり位置と描画部位と、エッチング後形
状の簡単な説明図である。図２に示すように、第１回目
として原稿の最深部より少し浅い所に変位計を設定し触
針またはレーザー光で測定して、描画装置にデータを送
り、その部位に相当するエンボス版表面の感光性樹脂膜
にレーザー光を照射し、直接露光すると共に樹脂膜を硬
化させて、現像した後、第１回目のエッチングを行うこ
とで、原稿とは逆の凸形状が形成される。次いで、深さ
の読みとり変位計の設定を、第１回目の閾値より浅いも
のとして、再度読みとり、描画、現像および第２回目の
エッチングを行い、２段目の凸形状を形成する。図は、
順次この工程を繰り返し第５回目迄の読みとり、描画、
現像およびエッチングを示しているが、実用的には３回
程度で十分に凹凸模様は再現される。
おける深さ読みとり位置と描画部位と、エッチング後形
状の簡単な説明図である。図２に示すように、第１回目
として原稿の最深部より少し浅い所に変位計を設定し触
針またはレーザー光で測定して、描画装置にデータを送
り、その部位に相当するエンボス版表面の感光性樹脂膜
にレーザー光を照射し、直接露光すると共に樹脂膜を硬
化させて、現像した後、第１回目のエッチングを行うこ
とで、原稿とは逆の凸形状が形成される。次いで、深さ
の読みとり変位計の設定を、第１回目の閾値より浅いも
のとして、再度読みとり、描画、現像および第２回目の
エッチングを行い、２段目の凸形状を形成する。図は、
順次この工程を繰り返し第５回目迄の読みとり、描画、
現像およびエッチングを示しているが、実用的には３回
程度で十分に凹凸模様は再現される。
【００１５】図３は、本発明のエンボス版の製造方法の
概念図を示す。図３（ａ）に示すように、レーザー変位
計によって原稿表面の凹凸を読みとる際、先ず最も深い
と想定される場所の深さを測定し、それよりも少し浅い
深度で表面を走査し、コンパレータによりＯＮ−ＯＦＦ
信号に変換し、走査している深さより深い部位に相当す
る部分をレーザー描画装置によりエンボス版表面に描画
する。この時、レーザー変位計の走査動作とレーザー描
画装置の動作は、同調していることが必要がある。ま
た、読みとったデータは、一旦メモリー等の記憶装置に
蓄えて、エンボス版シリンダーの回転に同期して読み出
すことが必要である。次に、現像液によりエンボス版上
に塗布されている未硬化の感光性樹脂を除去し、エッチ
ング液によりエッチングを行い最深部の逆形状の凸部が
形成される。
概念図を示す。図３（ａ）に示すように、レーザー変位
計によって原稿表面の凹凸を読みとる際、先ず最も深い
と想定される場所の深さを測定し、それよりも少し浅い
深度で表面を走査し、コンパレータによりＯＮ−ＯＦＦ
信号に変換し、走査している深さより深い部位に相当す
る部分をレーザー描画装置によりエンボス版表面に描画
する。この時、レーザー変位計の走査動作とレーザー描
画装置の動作は、同調していることが必要がある。ま
た、読みとったデータは、一旦メモリー等の記憶装置に
蓄えて、エンボス版シリンダーの回転に同期して読み出
すことが必要である。次に、現像液によりエンボス版上
に塗布されている未硬化の感光性樹脂を除去し、エッチ
ング液によりエッチングを行い最深部の逆形状の凸部が
形成される。
【００１６】次に、洗浄を行い、エッチング液を取り除
いた後、さらにエンボス版シリンダーに感光性樹脂を塗
布する。そして図３（ｂ）に示すように、２回目の走査
深度は１回目より浅い部分で行う。また１回目の描画位
置に正確に同調させて描画を行った後、再度現像、エッ
チングを行って１回目の凸形状の下段に同調して第２回
目の凸形状が形成される。続いて、図３（ｃ）に示すよ
うに、３回目の走査深度は２回目よりさらに浅い部分で
行い、上記の手順を繰り返す。
いた後、さらにエンボス版シリンダーに感光性樹脂を塗
布する。そして図３（ｂ）に示すように、２回目の走査
深度は１回目より浅い部分で行う。また１回目の描画位
置に正確に同調させて描画を行った後、再度現像、エッ
チングを行って１回目の凸形状の下段に同調して第２回
目の凸形状が形成される。続いて、図３（ｃ）に示すよ
うに、３回目の走査深度は２回目よりさらに浅い部分で
行い、上記の手順を繰り返す。
【００１７】このような作業を複数回に亘り繰り返すこ
とにより、多段エッチングが可能となる。またエッチン
グ条件を変えることにより、エンボス凸部の高さを変え
ることも可能であり、さらには走査深度ピッチを小さく
設定することにより、エンボスの再現性を向上させるこ
とが可能となる。
とにより、多段エッチングが可能となる。またエッチン
グ条件を変えることにより、エンボス凸部の高さを変え
ることも可能であり、さらには走査深度ピッチを小さく
設定することにより、エンボスの再現性を向上させるこ
とが可能となる。
【００１８】
【発明の効果】以上の様なエンボス版の製造方法によ
り、安価なエッチング法でよりリアルな表現が可能で、
かつ任意にエンボスの深さや再現性を変更することがで
きる。すなわち、平面形状の原稿を直接走査して直接描
画を行うので、エンボス版の作製が容易であり、また触
針またはレーザー光の走査は原稿を傷つけることがない
ため、原稿を保存しておくことによりエンボス版の再作
製が容易に行うことができる。さらには、原稿の段階で
エンドレス繋ぎ処理を施しておけるので、木目柄等の大
柄パターンであっても、容易にエンドレスのエンボス版
を得ることができる等の、種々の優れた効果を奏する。
り、安価なエッチング法でよりリアルな表現が可能で、
かつ任意にエンボスの深さや再現性を変更することがで
きる。すなわち、平面形状の原稿を直接走査して直接描
画を行うので、エンボス版の作製が容易であり、また触
針またはレーザー光の走査は原稿を傷つけることがない
ため、原稿を保存しておくことによりエンボス版の再作
製が容易に行うことができる。さらには、原稿の段階で
エンドレス繋ぎ処理を施しておけるので、木目柄等の大
柄パターンであっても、容易にエンドレスのエンボス版
を得ることができる等の、種々の優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例におけるエンボス版の製造方
法の概念図である。
法の概念図である。
【図２】本発明の一実施例によるエンボス版の製造方法
における、深さ読みとり位置と描画部位と、エッチング
後形状を示す説明図である。
における、深さ読みとり位置と描画部位と、エッチング
後形状を示す説明図である。
【図３】本発明の一実施例によるエンボス版の製造方法
の概念図で、（ａ）は、第１回目の最深部の読みとり深
さとその凸形状を示す説明図で、（ｂ）は、第２回目の
読みとり深さとその凸形状を示す説明図で、（ｃ）は、
第３回目の読みとり深さとその凸形状を示す説明図であ
る。
の概念図で、（ａ）は、第１回目の最深部の読みとり深
さとその凸形状を示す説明図で、（ｂ）は、第２回目の
読みとり深さとその凸形状を示す説明図で、（ｃ）は、
第３回目の読みとり深さとその凸形状を示す説明図であ
る。
１０ …原稿 １１ …レーザー変位計 １２ …レーザー変位計本体 １３ …レーザー描画装置 １４ …レーザー光 １５ …エンボス版
Claims (3)
- 【請求項１】感光性樹脂を用いたエッチング法によるエ
ンボス版の製造方法において、 水平に保持した平面状の凹凸原稿の表面を触針またはレ
ーザー光により走査する手段と、 これによって得られる凹部の深さに係わる情報を予め定
めた閾値と比較し、閾値より深い部分をＯＮ信号に変換
し、閾値より浅い部分をＯＦＦ信号として変換し、一回
の走査によって得られる情報を記憶装置に蓄える手段
と、 予め感光性樹脂を塗布したエンボス版シリンダーを走査
と同期して回転させながら、前記記憶装置に蓄えられた
一回転分のＯＮ−ＯＦＦ情報をレーザー光のＯＮ−ＯＦ
Ｆに変換して、シリンダー表面に直接露光する手段と、 前記直接露光する手段が、一定のピッチで移動しながら
エンボス版シリンダーの円周全面に行う手段とを具備
し、 露光した後、シリンダー表面の感光性樹脂皮膜の現像、
エッチング、剥膜を行い、シリンダー表面に凹凸模様を
形成してなることを特徴とするエンボス版の製造方法。 - 【請求項２】前記閾値を原稿の凹凸深さに応じて複数段
階に設定し、位置を正確に合わせながら閾値の深い順に
前記請求項１に記載の操作を複数回繰り返し行って、連
続的な凹凸模様を形成することを特徴とするエンボス版
の製造方法。 - 【請求項３】前記平面状の凹凸原稿に予めエンドレス繋
ぎ処理を施し、エンボス版シリンダーの円周に相当する
ピッチで、柄の天地が繋がるようにしておくことを特徴
とする請求項１に記載のエンボス版の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12370296A JP3991370B2 (ja) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | エンボス版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12370296A JP3991370B2 (ja) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | エンボス版の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09300571A true JPH09300571A (ja) | 1997-11-25 |
| JP3991370B2 JP3991370B2 (ja) | 2007-10-17 |
Family
ID=14867237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12370296A Expired - Fee Related JP3991370B2 (ja) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | エンボス版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3991370B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011073452A (ja) * | 2010-12-01 | 2011-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 綾織布地調シートの作成方法および装置 |
| JP2012189656A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 分版装置、分版方法、プログラム、記憶媒体 |
-
1996
- 1996-05-17 JP JP12370296A patent/JP3991370B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011073452A (ja) * | 2010-12-01 | 2011-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 綾織布地調シートの作成方法および装置 |
| JP2012189656A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 分版装置、分版方法、プログラム、記憶媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3991370B2 (ja) | 2007-10-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH10106052A (ja) | プラスチック情報ディスクにアートワークを付与する方法 | |
| ATE168791T1 (de) | Methode zur herstellung eines lithographischen musters in einem verfahren zur herstellung von halbleitervorrichtungen | |
| JPH07241909A (ja) | 合成皮革原版作製システム及び合成皮革原版作製方法 | |
| JP3991370B2 (ja) | エンボス版の製造方法 | |
| GB1574910A (en) | Fabrication of diffractive subtractive filter embossing master | |
| US4287537A (en) | Method of reproducing graphic material on an intaglio form | |
| JP3165463B2 (ja) | 精密万線版の製造方法及び化粧材 | |
| CN1111853C (zh) | 光卡 | |
| JP2004358662A (ja) | 凹凸模様及び押型の作成方法並びに押型 | |
| CN111653188B (zh) | 激光加密防伪胶带及其制备方法 | |
| JPS5699623A (en) | Preparation of embossed sheet | |
| JP3188313B2 (ja) | 木目エンボス版の製造方法 | |
| US3711346A (en) | Method of reproducing wood grain surface configurations | |
| CN105904864A (zh) | 具备菲涅耳透镜视觉效果的烫印和转移薄膜的制造方法 | |
| JP2011194770A (ja) | 分版装置、分版方法、エンボス版製造装置、エンボス版製造方法、エンボス版、シート | |
| JPH05185327A (ja) | エンボスロールの製作方法 | |
| JP3487894B2 (ja) | 木目導管溝エンボス版の作成方法 | |
| JP3429404B2 (ja) | エンボス版の製造方法及びエンボス版並びにそれを用いて賦型した化粧シート及び化粧板 | |
| US6202040B1 (en) | Image modifiers for use in scanning photographic images | |
| JPH0814039B2 (ja) | 回路基板用樹脂成形金型を使用した基板の製造方法 | |
| JPS63104839A (ja) | エンボス版の製造方法 | |
| JPH0454238B2 (ja) | ||
| US4184910A (en) | Surface-texture filmwork generation | |
| JPS6319860B2 (ja) | ||
| ATE15949T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung von belichtungsmasken fuer die herstellung eines aufzeichnungstraegers mit einer aufzeichnung hoher informationsdichte. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060329 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070410 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20070607 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070703 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070716 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100803 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 4 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110803 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110803 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120803 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120803 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130803 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |