JPH09300087A - レーザ溶接方法 - Google Patents

レーザ溶接方法

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JPH09300087A
JPH09300087A JP8143537A JP14353796A JPH09300087A JP H09300087 A JPH09300087 A JP H09300087A JP 8143537 A JP8143537 A JP 8143537A JP 14353796 A JP14353796 A JP 14353796A JP H09300087 A JPH09300087 A JP H09300087A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 連続移動溶接時に被溶接箇所に生じる凝固割
れを有効に排除すると共に、これによって溶接強度の向
上を図り且つレーザ溶接の信頼性向上を図ったレーザ溶
接方法を提供すること。 【解決手段】被溶接箇所に沿って溶接用レーザビーム
A,Bを相対的に移動させて成るレーザ溶接方法におい
て、溶接用レーザビームとして、出力の異なる複数の溶
接用レーザビームA,Bを使用すると共に、出力の高い
溶接用レーザビームAを上流側に,又出力の低い溶接用
レーザビームBを下流側に,それぞれ各ビームが一部重
なるようにして配設したこと。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ溶接方法に
係り、特に溶接ラインに沿った方向のレーザ出力のパワ
ー分布を適当に変化させることによってレーザ溶接箇所
の凝固割れ防止を図ったレーザ溶接方法に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ溶接は、レーザビームを金属板等
の被溶接箇所に対し照射して溶接するものであり、溶接
幅の狭い精密な溶接が可能であることから、従来よりそ
の開発が進められている。また、レーザビームは微小ス
ポットを形成し、その照射ポイントは、例えば溶融幅が
0.1〜0.2〔mm〕、溶け込み深さも0.0〜1.
0〔mm〕等となってアスペクト比を大きい。
【0003】一方、レーザ溶接は、上述したように溶融
幅が小さいことから、精密溶接には適している反面、レ
ーザビームの照射直後の溶接箇所の熱放散が速い(急冷
状態)。このため、レーザ溶接では、溶接箇所の凝固割
れもしくは内部ひずみが生じ、耐久性が悪いという不都
合が生じる。
【0004】かかる不都合を改善するため、近時にあっ
ては、図8(A)に示す従来のノーマル波とは異なり、
パルス波の波形制御によって立ち上がりが急で立ち下が
りを緩やかに設定したパルス波(図8(B)参照)が使
用されている。これにより、溶接箇所の熱放散の速度が
幾分緩和され、従来生じていた凝固割れの発生が有効に
抑制されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例におけるパ
ルス波の波形制御は、時間軸に沿ったレーザ波の波形制
御であり、スポット溶接においては凝固割れもなく好適
なものとなっている。しかしながら、この手法を用いて
連続した箇所に適用すると、スポット溶接を隣接して順
次繰り返すこととなり、その都度、レーザ照射をオン
(ON)/オフ(OFF)しなければならないため作業
能率が著しく悪い。
【0006】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、特に連続移動溶接時に被溶接箇所に生じる凝
固割れを有効に排除すると共に、これによって溶接強度
の向上を図り且つレーザ溶接の信頼性向上を図ったレー
ザ溶接方法を提供することを、その目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1記載の発明では、被溶接箇所に沿って溶接
用レーザビームを相対的に移動させて成るレーザ溶接方
法において、前述した溶接用レーザビームとして、出力
の異なる複数の溶接用レーザビームを使用する。そし
て、出力の高い溶接用レーザビームを上流側に,又出力
の低い溶接用レーザビームを下流側にそれぞれ各ビーム
が一部重なるようにして配設する、という構成を採って
いる。
【0008】このため、この請求項1記載の発明では、
例えば図1において、被溶接部材100上の被溶接箇所
には、レーザ溶接の開始と同時に合成パワー分布P01
立ち上がりの大きい部分(図5の左側)が、まず印加さ
れ、続いて最大値に達した後、パワー出力が徐々に抑制
された状態のレーザパワーが印加され、これによって、
溶接済の箇所が(室温で急冷されることなく)低いパワ
ー出力部分で連続的に徐冷工程に付される。被溶接箇所
が連続している場合、この状態が継続する。
【0009】従って、この図3の合成パワー分布P01
基づいたレーザ溶接にあっては、被溶接箇所が有効に徐
冷され、その結果、従来例で度々生じていた被溶接箇所
部分の凝固割れの発生を有効に阻止するができる。
【0010】請求項2記載の発明では、被溶接箇所に沿
って溶接用レーザビームを相対的に移動させて成るレー
ザ溶接方法において、前述した溶接用レーザビームにと
して、出力の異なる複数の溶接用レーザビームを使用す
ると共に、出力の高い溶接用レーザビームを上流側に、
出力の低い溶接用レーザビームを下流側に、それぞれ各
ビームが一部重なるようにして配設する。そして、前述
した複数の溶接用レーザビームを、一のレーザ出力源か
ら光学系をもって分岐してなる分岐レーザ光とする、と
いう構成を採っている。
【0011】このため、この請求項2記載の発明でも、
前述した請求項1記載の発明と同等に機能するほか、レ
ーザ出力部を一つとすることができるため装置を安価に
得ることができ、同時にその小型軽量化が可能となる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従って順次説明する。
【0013】図1において、符号1,2は、それぞれ一
方と他方の溶接用レーザ出力部を示す。又、記号Aは一
方のレーザ出力部1から出力される第1の溶接用レーザ
ビームを示し、記号Bは他方のレーザ出力部2から出力
される第2の溶接用レーザビームを示す。符号100は
被溶接部材を示す。この被溶接部材100は、図示しな
い移送手段によって図1の矢印e方向に移送されるよう
に構成されている。
【0014】溶接用レーザ出力部1,2は所定位置に固
定して装備されている。この溶接用レーザ出力部1,2
の出力ビームは、移動中の被溶接部材100上の被溶接
箇所に集光レンズ1A,2Aを介して照射される。この
場合、被溶接部材100を固定して溶接用レーザ出力部
1,2側を移動させるようにしてもよい。
【0015】又、符号4は集光ビーム用光学系を示す。
この集光ビーム用光学系4は、前述した溶接用レーザ出
力部1,2と被溶接部材100との間に配設され、ビー
ム集光ケース5内に装備されている。このビーム集光ケ
ース5は、溶接用レーザ出力部1,2から出力されるレ
ーザビームに向けて開口された第1の開口部5aと、集
光された溶接用レーザビームを被溶接部材100に送り
出す第2の開口部5bとを備えている。
【0016】ビーム集光ケース5内には、レーザ出力部
1から出力される第1の溶接用レーザビームAを集光す
る一方の集光レンズ1Aと、レーザ出力部2から出力さ
れる第2の溶接用レーザビームBを集光する他方の集光
レンズ2Aとを備えている。また、この他方の集光レン
ズ2Aの前述した第1の開口部5a側には、第1乃至第
2のレーザ反射鏡2E,2Fが装備されている。
【0017】そして、レーザ出力部2から出力された第
2の溶接用レーザビームBは、第1の反射ミラー2E,
第2の反射ミラー2F,及び集光レンズ2Aを介して幾
分外側(図1の右側)にずらした位置から被溶接部材1
00上の被溶接箇所に照射される。
【0018】ここで、図2(A)に、被溶接部材100
上の被溶接箇所に照射される第1の溶接用レーザビーム
Aのパワー分布P1 を示し、図2(B)に被溶接部材1
00上の被溶接箇所に照射される第2の溶接用レーザビ
ームBのパワー分布P2 を示す。この第2の溶接用レー
ザビームBは、被溶接箇所においては、前述した第1の
溶接用レーザビームAよりそのパワー分布が図2(B)
に示すように全体的に小さく設定されている。
【0019】前述したビーム集光ケース5内には、一方
と他方の各集光レンズ1A,2Aの各焦点位置を光軸に
沿った方向に移送して調整する焦点位置調整機構1B,
2Bが装備されている。そして、この一方と他方の各集
光レンズ1A,2Aは、焦点位置調整機構1B,2Bに
よって、その焦点位置を光軸に沿った方向(図1のa方
向,b方向)に調整し得るようになっている。
【0020】この内、他方の集光レンズ2Aに併設され
た焦点位置調整機構2Bは、更に、当該他方の集光レン
ズ2Aの照射ポイントを、前述した被溶接部材100上
の被溶接箇所に沿った方向の下流側(図1の矢印e方
向)に可変距離0〜S2 の範囲で任意にずらして固定し
得る機能を備えている。
【0021】図3に、被溶接箇所に対する他方の集光レ
ンズ2Aの照射ポイントを前述した被溶接箇所に沿った
方向の下流側に距離S1 (但し、S1 <S2 )だけずら
した場合を示す。即ち、この図3では、一方の集光レン
ズ1Aの照射ポイントから距離S1 だけずらされて図2
(A)におけるy−z座標軸上に図2(B)に示す溶接
用レーザビームBが照射され、これにより、被溶接部材
100上の被溶接箇所には、図3に示す合成パワー分布
(照射レーザの合成パターン)P01が形成されるように
なっている。
【0022】ここで、他方の集光レンズ2Aに併設され
た焦点位置調整機構2Bが備えている溶接用レーザビー
ムBの照射ポイントの可変範囲0〜S2 と合成パワー分
布との関係を、好ましい場合の図4(B)と,その両端
部の可変範囲0および可変範囲S2 の場合(図4(A)
(C)の場合)について説明する。
【0023】図4(A)は、第1および第2の溶接用レ
ーザビームA,Bを同一ポイントに重ねて照射する場合
(即ち、照射ポイントの中心点のずれ「0」の場合)を
示す。記号P00は、この図4(A)の場合の合成パワー
分布(照射レーザの合成パターン)を示す。また、図4
(B)は、前述した図3の場合である。
【0024】更に、図4(C)は、溶接用レーザビーム
Bの照射ポイントのずれ範囲を最大値S2 に設定し照射
する場合を示す。記号P02は、この図4(C)の場合の
合成パワー分布(照射レーザの合成パターン)を示す。
【0025】即ち、この図4(C)に示す合成パワー分
布P02は、この第2の溶接用レーザビームBを第1の溶
接用レーザビームAから距離S2 だけ,ずらした場合に
得られる合成パワー分布である。これら図4(A),図
4(B),図4(C)のいずれも、被溶接部材100の
相対的移動方向に沿ったy−z座標軸について開示した
ものである。
【0026】この内、図4(A)に示す合成パワー分布
(照射レーザの合成パターン)P00は、レーザビーム
A,Bが一箇所に重ねられているため、一方のレーザビ
ームのみを使用してその強度を高めたのと同等となり徐
冷工程を設定することができない。また、図4(C)に
示す合成パワー分布(照射レーザの合成パターン)P02
の場合は、徐冷予定箇所(レーザビームの移動方向下流
側に立ち下がり部)で再び加熱する事態が生じることか
ら、このパターンも、本実施形態には不適当なものとな
っている。このため、溶接後の徐冷工程に際して都合よ
く機能する図4(B)の場合が、この三つの例では最適
なものとなっている。
【0027】ここで、前述した合成パワー分布P01と溶
接箇所側で受けるレーザパワーとの関係を図5に基づい
て説明する。この図5(A)に示す合成パワー分布P01
は、図4(B)又は図3において既に開示した合成パワ
ー分布P01と同一のもので、y−z座標軸について取り
出したものである。また、図5(B)はパルス波形制御
によって上述した図5(A)に似せてて形成されたレー
ザビームの出力波形を示す。
【0028】この図5(A)において、横軸のy軸上に
図の左方から右方に時間tで移動する点Hを想定する。
この点Hが移動中に合成パワー分布P01により照射され
るレーザパワーは、定点(スポット溶接の位置)が図5
(B)のパルス波形制御によって受けるレーザパワーと
同一となる。
【0029】即ち、この図5(A)の合成パワー分布P
01のものを使用すると、合成パワー分布P01と被溶接箇
所との相対的な移動に際して、その移動箇所全体にわた
って順次連続して、図5(A)に示す合成パワー分布P
01の溶接用レーザビームを受けることができる。
【0030】即ち、図1において、被溶接部材100上
の被溶接箇所には、レーザ溶接の開始と同時に合成パワ
ー分布P01の立ち上がりの大きい部分(図5の左側)
が、まず印加され、続いて最大値に達した後、パワー出
力が徐々に抑制された状態のレーザパワーが印加され、
これによって、溶接済の箇所が(室温で急冷されること
なく)低いパワー出力部分で連続的に徐冷工程に付され
ることとなる。被溶接箇所が連続している限りこの状態
が継続する。
【0031】従って、この図3の合成パワー分布P01
基づいたレーザ溶接にあっては、被溶接箇所が有効に徐
冷され、その結果、従来例で度々生じていた被溶接箇所
部分の凝固割れの発生を有効に阻止するができ、これに
より溶接強度の向上を図ることができ、且つレーザ溶接
の作業能率の向上および信頼性向上を図ることができ
る。
【0032】ここで、上記実施形態にあっては、レベル
の異なる二つの連続照射に係るレーザビームを合成した
場合を例示したが、これとは別に、図1において第1の
溶接用レーザビームAをYAGレーザ・Qスイッチパル
スとし、第2の溶接用レーザビームBをCO2 レーザ
(炭酸ガスレーザ)とし、これら二つの異種のレーザビ
ームを合成したものであってもよい。
【0033】また、三つ以上のレーザビームを組み合わ
せてより溶接に適したパワー分布のレーザビームを形成
し使用してもよい。また、複数のレーザビームを組み合
わせて所定のレーザパワー分布を得るのに、いずれかの
レーザビームを照射面に対して傾けてもよい。
【0034】〔実験例〕次に、図3で開示した合成パワ
ー分布(照射レーザの合成パターン)P01によって成さ
れるレーザ溶接の良否(特に表面に生じるビード面)
を、合成パワー分布P00,P02の場合と比較して説明す
る。
【0035】図6に、上述した図4(A)(B)(C)
に示す各レーザビームA,Bの合成パワー分布P00,P
01又はP02によって形成される実際の溶接ビード(写真
撮影したもの)を示す。ここで、第1の溶接用レーザビ
ームA(出力パワーP1 )としてはYAGレーザ・Qス
イッチパルスを使用し、又第2の溶接用レーザビームB
(出力パワーP2 )としてはCO2 レーザ(炭酸ガスレ
ーザ)をそれぞれ使用した。
【0036】この図6に示す結果から明らかのように、
図6,図6の場合についてもレーザ溶接は可能であ
るが、溶接の良否判定に際して重要視される溶接ビード
の形状は、明らかに本実施形態で採用した図6のもの
(即ち、図3の合成パワー分布P01に依存した場合)
が、実際上最も良好な結果を得ることができた。即ち、
この図6には、溶接ビードが繰り返し順序よく形成さ
れており、また、その溶接面の切断観察に際しても凝固
割れの形跡は全く見られなかった。
【0037】〔変形例〕次に、図1に示す実施形態の変
形例を図7に示す。この図7に示す変形例は、二つのレ
ーザービームA,Bを単一のレーザ出力部11と、ハー
フミラー12と反射ミラー13によって構成した点に特
徴を備えている。
【0038】即ち、レーザ出力部11から出力されるレ
ーザービームAに光軸上にハーフミラー12が配置さ
れ、このハーフミラー12からの反射ビームをレーザビ
ームBとして、これが反射ミラー13によって被溶接箇
所に照射されるように構成されている。この場合、レー
ザービームAに対するレーザビームBの合成方法は、前
述した実施形態(図1〜図3)の場合と同一となってい
る。
【0039】このようにしても、前述した実施形態(図
1〜図3)の場合とほぼ同等の作用効果を得ることがで
きるほか、単一のレーザ出力部11で良好なレーザ溶接
を実行し得ることから、溶接装置を安価に得ることがで
きる。
【0040】
【発明の効果】以上のように、本発明によると、溶接用
レーザビームとして出力の異なる複数の溶接用レーザビ
ームを使用すると共に、出力の高い溶接用レーザビーム
を上流側に,又出力の低い溶接用レーザビームを下流側
に,それぞれ各ビームが一部重なるようにして配設した
ので、これによると、当該空間合成された溶接用レーザ
ビームを被溶接部材上に相対的に移動することにより、
被溶接部材上の被溶接箇所には、レーザ溶接の開始と同
時に合成パワー分布の立ち上がりの大きい部分が、続い
てレーザビームの移動と共に最大値が、更にパワー出力
が徐々に抑制された状態のレーザパワーが順次連続して
印加され、これによって、レーザビームの移動と共に溶
接終了側が(室温で急冷されることなく)低いパワー出
力部分で連続的に徐冷工程に付される。これにより、溶
接箇所完了後に生じる凝固割れを有効に排除することが
でき、同時に、これによって溶接強度の向上を図り且つ
レーザ溶接の信頼性および作業性向上を図ることができ
るという従来にない優れたレーザ溶接方法を提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるレーザ溶接方法の一実施の形態
を示す概略構成図である。
【図2】図1に開示した一方と他方の溶接用レーザ出力
部から出力される溶接用レーザビームのレーザパワーを
示す図で、図2(A)は第1の溶接用レーザビームのレ
ーザパワーを示す線図、図2(B)は第2の溶接用レー
ザビームのレーザパワーを示す線図である。
【図3】図2に開示した二つの溶接用レーザビームをそ
の焦点位置を所定距離ずらして同時照射した場合に生じ
る合成パワー分布を示す線図である。
【図4】図2に開示した二つの溶接用レーザビームを重
合した場合および焦点位置を所定距離ずらして同時照射
した場合に生じる合成パワー分布を示す線図で、図4
(A)は二つの溶接用レーザビームを重合した場合を示
す線図、図4(B)は二つの溶接用レーザビームの焦点
位置を所定距離ずらして同時照射した場合(図3と同
じ)を示す線図、また、図4(C)は二つの溶接用レー
ザビームの焦点位置を更に大きくずらして同時照射した
場合を示す線図である。
【図5】図3に開示した二つの溶接用レーザビームの合
成パワー分布とパルス波形制御によって形成されたレー
ザビームの出力波形との比較を示す図で、図5(A)は
図3に開示した二つの溶接用レーザビームの合成パワー
分布を示し、図5(B)はパルス波形制御によって図5
(A)に合わせて形成された場合のレーザビームの出力
波形を示す。
【図6】図4(A)〜(C)に開示した二つの溶接用レ
ーザビームの合成パワー分布によってレーザ溶接した場
合の溶接面のビードを示す図表である。
【図7】図1の変形例を示す説明図である。
【図8】従来例よりレーザ溶接に使用されているパルス
波を示す図で、図8(A)はノーマルパルス波を示す線
図、図8(B)はパルス波の波形制御によって立ち下が
りを緩やかに設定したパルス波を示す線図である。
【符号の説明】
1,2 溶接用レーザ出力部 1A 一方の集光レンズ 1B,2B 焦点位置調整機構 2A 他方の集光レンズ 100 被溶接部材 A 第1の溶接用レーザビーム B 第2の溶接用レーザビーム

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被溶接箇所に沿って溶接用レーザビームを
    相対的に移動させて成るレーザ溶接方法において、 前記溶接用レーザビームとして、出力の異なる複数の溶
    接用レーザビームを使用すると共に、出力の高い溶接用
    レーザビームを上流側に,又出力の低い溶接用レーザビ
    ームを下流側に,それぞれ各ビームが一部重なるように
    して配設したことを特徴とするレーザ溶接方法。
  2. 【請求項2】被溶接箇所に沿って溶接用レーザビームを
    相対的に移動させて成るレーザ溶接方法において、 前記溶接用レーザビームにとして、出力の異なる複数の
    溶接用レーザビームを使用すると共に、出力の高い溶接
    用レーザビームを上流側に、出力の低い溶接用レーザビ
    ームを下流側に、それぞれ各ビームが一部重なるように
    して配設し、 前記複数の溶接用レーザビームを、一のレーザ出力源か
    ら光学系をもって分岐してなる分岐レーザ光としたこと
    を特徴とするレーザ溶接方法。
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