JPH09172051A - Method for transferring wafer cassette in vertical processing apparatus - Google Patents

Method for transferring wafer cassette in vertical processing apparatus

Info

Publication number
JPH09172051A
JPH09172051A JP34980696A JP34980696A JPH09172051A JP H09172051 A JPH09172051 A JP H09172051A JP 34980696 A JP34980696 A JP 34980696A JP 34980696 A JP34980696 A JP 34980696A JP H09172051 A JPH09172051 A JP H09172051A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
wafer cassette
wafer
vertical
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34980696A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Riichi Kano
利一 狩野
Fumihide Ikeda
文秀 池田
Ryoji Saito
良二 斉藤
Toru Yoshida
徹 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kokusai Electric Corp filed Critical Kokusai Electric Corp
Priority to JP34980696A priority Critical patent/JPH09172051A/en
Publication of JPH09172051A publication Critical patent/JPH09172051A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the production of particles, contamination and damage by rotating a wafer cassette in the vertical position to bring it in the horizontal position, and transferring the rotated wafer cassette to a housing position in the vertical direction. SOLUTION: A wafer cassette(WC) 6 is supplied to a cassette receiver (receiver) 2 by means of a cassette transferring means with wafers 7 kept vertically WC 6 is then positioned in the back and forth direction and in the left and right direction. The receiver 2 is rotated and shifted from the vertical position to the horizontal position. WC 6 is transfered to a specified position by means of the receiver 2, a cassette rotating means 3, and a cassette horizontal feed means (feed means, 4 together with an elevator 5. Thereafter, WC 6 is horizontally fed to a cassette housing area by the feed means 4. It is judged whether WC 6 is properly housed in the cassette housing area. If WC is not properly housed, an alarm is given. If WC is properly housed, the feed means 4, the elevator 5 and the like are returned to their original positions, and a series of operations is completed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、縦型拡散・CVD装置
のような縦型処理装置におけるウェーハカセットの搬送
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of transporting a wafer cassette in a vertical processing apparatus such as a vertical diffusion / CVD apparatus.

【0002】[0002]

【従来技術とその課題】従来は、装置内にウェーハカセ
ットをロード・アンロードするのに、人間がウェーハ収
納部にウェーハカセットを収納したりこれより取り出し
たりする必要があった。しかし、半導体デバイスの高集
積化にともない、最大の発塵源である人間が介在するこ
とが許されなくなってきたため、自動化することが望ま
れていた。また、装置単体の自動化だけではなく、製造
ライン全体の自動化にも対応する必要がでてきた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to load and unload a wafer cassette in the apparatus, it was necessary for a person to store the wafer cassette in the wafer storage section and take it out of the wafer cassette. However, with the high integration of semiconductor devices, human beings, which are the largest dust source, are no longer allowed to intervene, and automation has been desired. Moreover, it has become necessary to support not only the automation of the device itself but also the automation of the entire production line.

【0003】現状では1個搬送のカセットローダはある
が、搬送に時間がかかり、スループットが向上せず全自
動化に対し難点があった。本発明の目的は、縦型拡散・
CVD装置のような縦型処理装置において、垂直状態の
ウェーハカセットが供給される受渡し位置とウェーハカ
セットの収納位置との間でウェーハカセットを自動でロ
ード・アンロードすることによって、最大の発塵源であ
る人間が介在することなく、かつ短時間でウェーハを取
り扱えるようになし、半導体製造ラインの全自動化に対
応できる搬送方法を提供することである。
At present, there is a cassette loader capable of carrying one piece, but it takes a long time to carry the piece, the throughput is not improved, and there is a problem in the full automation. The object of the present invention is to achieve vertical diffusion /
In a vertical processing apparatus such as a CVD apparatus, the maximum dust source is obtained by automatically loading and unloading the wafer cassette between the delivery position where the wafer cassette in a vertical state is supplied and the storage position of the wafer cassette. It is an object of the present invention to provide a transfer method capable of handling a wafer in a short time without human intervention and capable of supporting full automation of a semiconductor manufacturing line.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明方法は上記の課題
を解決し、上記の目的を達成するため、請求項1記載の
発明は、垂直状態のウェーハカセットが供給される受渡
し位置とウェーハカセットの収納位置との間でウェーハ
カセットを搬送する縦型処理装置におけるウェーハカセ
ット搬送方法において、ウェーハカセットの受渡し位置
に供給された垂直状態のウェーハカセットを水平状態に
回転した後、回転されたウェーハカセットを収納位置ま
で上下方向に搬送する、ことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems and to achieve the above-mentioned object, the method of the present invention provides a wafer cassette and a delivery position to which a wafer cassette in a vertical state is supplied. In the wafer cassette transfer method in the vertical processing apparatus for transferring the wafer cassette between the wafer cassette and the storage position of Is conveyed up and down to the storage position.

【0005】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の縦型処理装置におけるウェーハカセット搬送方法に
おいて、前記縦型処理装置は、前記ウェーハカセットが
載置されるカセット受台と、前記カセット受台を回転さ
せる回転手段と、前記カセット受台を上下させる上下搬
送手段とを具備したウェーハカセット搬送装置を有して
おり、前記回転手段が、ウェーハカセットの受渡し位置
に供給され、垂直状態でカセット受台に載置されたカセ
ットを水平状態に回転し、前記上下搬送手段が、回転さ
れたウェーハカセットを収納位置まで上下方向に搬送す
る、ものである。
According to a second aspect of the present invention, in the wafer cassette transport method in the vertical processing apparatus according to the first aspect, the vertical processing apparatus includes a cassette pedestal on which the wafer cassette is mounted, It has a wafer cassette transfer device equipped with a rotating means for rotating the cassette receiving table and an up-and-down transfer means for moving the cassette receiving table up and down, and the rotating means is supplied to the delivery position of the wafer cassette and is in a vertical state. Then, the cassette placed on the cassette receiving stand is horizontally rotated, and the vertical transfer means vertically transfers the rotated wafer cassette to the storage position.

【0006】[0006]

【作用】ウェーハカセットをロードする時は、受渡し位
置に供給された垂直状態のウェーハカセットを水平状態
に回転した後、回転されたウェーハカセットを収納位置
まで上下方向に搬送する。また、ウェーハカセットをア
ンロードする時は、上記の逆の過程を経てアンロードす
る。
When loading the wafer cassette, the vertical wafer cassette supplied to the delivery position is rotated horizontally, and then the rotated wafer cassette is conveyed vertically to the storage position. Further, when unloading the wafer cassette, the unloading is performed through the reverse process.

【0007】従って、ウェーハカセット内に収納される
ウェーハは水平状態で上下方向に動かされて収納位置ま
で搬送されることになる。通常、ウェーハカセット内の
溝はある程度の幅を持っているため、もしウェーハが垂
直状態で上下方向に搬送されると、ウェーハがガタつ
き、カセットの溝と擦れて、パーティクルが発生しウェ
ーハを汚染したり、ウェーハに傷、欠け等が発生し、歩
留まり低下の要因となるが、本発明では、自動的にウェ
ーハは水平状態で上下方向に搬送されることになるた
め、ウェーハがウェーハカセット内でガタつくことがな
い。従って、パーティクルや歩留まり低下を伴うことな
く、ロード・アンロードの自動化を行うことができ、半
導体製造ラインの全自動化に対応することができる。
Therefore, the wafers stored in the wafer cassette are moved in the vertical direction in the horizontal state and transferred to the storage position. Normally, the groove in the wafer cassette has a certain width, so if the wafer is conveyed vertically in the vertical direction, the wafer will rattle, rubbing against the groove in the cassette, generating particles and contaminating the wafer. Or, scratches on the wafer, chipping, etc. occur, which becomes a factor of yield reduction, but in the present invention, since the wafer is automatically conveyed in the vertical direction in the horizontal state, the wafer in the wafer cassette No rattling. Therefore, it is possible to automate loading and unloading without causing particles and a decrease in yield, and it is possible to cope with full automation of the semiconductor manufacturing line.

【0008】また、人間が介在する必要がないため、人
間を要因とするパーティクルを減少させることができ
る。
Further, since there is no need for humans to intervene, it is possible to reduce particles caused by humans.

【0009】[0009]

【実施例】以下図面に基づいて本発明の実施例を説明す
る。第1図は本発明方法の一実施例の構成を示すブロッ
ク図、第2図は本実施例の斜視説明図である。まず本実
施例の構成を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the construction of one embodiment of the method of the present invention, and FIG. 2 is a perspective explanatory view of this embodiment. First, the configuration of this embodiment will be described.

【0010】本実施例は縦型拡散・CVD装置におい
て、ウェーハカセット6の受渡しを検出する機能と,左
右方向の位置決め機能と,前後方向の位置決め機能とを
有し,ウェーハカセット6の受渡しがウェーハ7の垂直
状態で行われるカセット受台2と、このカセット受台2
にウェーハカセット6の受渡しをウェーハ7の垂直状態
で行うカセット受渡し手段1と、カセット受台2を回転
してウェーハカセット6を垂直状態から水平状態に,逆
に水平状態から垂直状態にするカセット回転手段3と、
ウェーハカセット6を水平方向に送るカセット水平送り
手段4と、カセット受台2,カセット回転手段3及びカ
セット水平送り手段4を受渡し位置と装置内のカセット
収納位置との間を上下方向に搬送するカセット上下搬送
手段(エレベータ)5とよりなるウェーハカセット搬送
装置によって実施される。
In this embodiment, the vertical diffusion / CVD apparatus has a function of detecting the delivery of the wafer cassette 6, a horizontal positioning function, and a front-back direction positioning function. 7, the cassette pedestal 2 which is performed in the vertical state, and the cassette pedestal 2
The cassette transfer means 1 for transferring the wafer cassette 6 in the vertical state of the wafer 7, and the cassette receiving table 2 for rotating the wafer cassette 6 from the vertical state to the horizontal state, and vice versa. Means 3,
A cassette for horizontally feeding the wafer cassette 6 in the horizontal direction, a cassette receiving stand 2, a cassette rotating means 3, and a horizontal cassette feeding means 4 for vertically conveying between a delivery position and a cassette storage position in the apparatus. It is carried out by a wafer cassette transfer device including a vertical transfer means (elevator) 5.

【0011】次に本実施例の動作を説明する。第3図は
本実施例の動作説明用フローチャートである。カセット
受台2にウェーハカセット6がカセット受渡し手段1に
よりウェーハ7の垂直状態で供給されると、ウェーハカ
セット6が置かれたことが検出され、ウェーハカセット
6の左右位置決めがなされる。左右位置決めが完了した
らウェーハカセット6の前後位置決めがなされ、前後位
置決めが完了したらウェーハカセット6は、カセット受
台2が回転されて垂直状態から水平状態にされる。
Next, the operation of this embodiment will be described. FIG. 3 is a flow chart for explaining the operation of this embodiment. When the wafer cassette 6 is supplied to the cassette pedestal 2 by the cassette delivery means 1 in the vertical state of the wafer 7, the placement of the wafer cassette 6 is detected, and the wafer cassette 6 is laterally positioned. When the left-right positioning is completed, the wafer cassette 6 is front-back positioned, and when the front-back positioning is completed, the wafer cassette 6 is rotated from the vertical state to the horizontal state by rotating the cassette support 2.

【0012】この水平状態にする回転が完了したらウェ
ーハカセット6がカセット受台2,カセット回転手段3
及びカセット水平送り手段4と共にエレベータ5により
受渡し位置から所定収納位置まで上方又は下方へ移動さ
れ、所定収納位置になったら、ウェーハカセット6がカ
セット水平送り手段4によりカセット収納部へ水平送り
される。
When the rotation to bring the wafer into the horizontal state is completed, the wafer cassette 6 is placed in the cassette receiving table 2 and the cassette rotating means 3.
Also, the wafer cassette 6 is moved upward or downward from the delivery position to a predetermined storage position by the elevator 5 together with the cassette horizontal feed means 4, and when the predetermined storage position is reached, the wafer cassette 6 is horizontally fed to the cassette storage portion by the cassette horizontal feed means 4.

【0013】水平送りが完了したらカセット左右位置決
めが解除され、解除したら、エレベータ5により上記と
同様にウェーハカセット6が微小下降され、微小下降が
完了したら、ウェーハカセット6がカセット収納部に正
しく収納されたかどうか判断される。正しく収納されて
いなければアラームを発してその旨、知らせる。正しく
収納されていたらカセット水平送りが元に戻り、元に戻
ったらエレベータ5をカセット受渡し位置まで戻し、カ
セット受渡し位置のときはカセット回転を元に戻し、元
に戻ったら、カセット前後位置決めを解除し、解除され
たとき、一連の動作が終了したことになる。
When the horizontal feeding is completed, the left and right positioning of the cassette is released, and when released, the wafer cassette 6 is slightly lowered by the elevator 5 in the same manner as described above. It is judged whether or not. If it is not stored correctly, an alarm will be issued to inform that effect. If it is correctly stored, the cassette horizontal feed will return to its original position, and if it returns to its original position, the elevator 5 will return to the cassette delivery position. When released, the series of operations is completed.

【0014】本実施例では第1図,第2図示のようにカ
セット受渡し手段1,カセット受台2,カセット回転手
段3及びカセット水平送り手段4を2つずつ並設すれば
ウェーハカセット6を2個同時に処理でき、ウェーハカ
セット6が1個でも勿論可能である。
In this embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, two wafer cassettes 6 are provided by arranging two cassette delivering means 1, one cassette receiving stand 2, two cassette rotating means 3 and two horizontal cassette feeding means 4. One wafer cassette 6 can be processed simultaneously, and one wafer cassette 6 is of course possible.

【0015】[0015]

【発明の効果】上述のように本発明によれば、垂直状態
のウェーハカセットが供給される受渡し位置とウェーハ
カセットの収納位置との間でウェーハカセットを搬送す
る縦型処理装置におけるウェーハカセット搬送方法にお
いて、ウェーハカセットの受渡し位置に供給された垂直
状態のウェーハカセットを水平状態に回転した後、回転
されたウェーハカセットを収納位置まで上下方向に搬送
する、ことを特徴とするので、 (1) 受渡し位置と収納位置との間でウェーハカセット
が上下方向に搬送される際に、ウェーハがウェーハカセ
ット内でガタつくことがない。従って、パーティクルや
歩留まり低下を伴うことなく、ロード・アンロードの自
動化を行うことができ、半導体製造ラインの全自動化に
対応することができる。人間が介在する必要がなく、自
動的に行うので、ウェーハカセットのロード・アンロー
ドを短時間ででき、スループットを向上できると共に半
導体製造ラインの全自動化に対応することができる。 (2) 最大の発塵源の人間が介在しないため、パーティ
クルを減少する(10個以内/ウェーハ, 0.28μ) こと
ができる。 (3) ウェーハカセットの複数個同時搬送が可能なの
で、スループットの向上を一層高めることができると共
に、半導体工場内のAGV などのカセット搬送装置の負荷
を軽減することができる。
As described above, according to the present invention, the wafer cassette transfer method in the vertical processing apparatus for transferring the wafer cassette between the delivery position where the wafer cassette in the vertical state is supplied and the storage position of the wafer cassette. In (1), the wafer cassette in the vertical state supplied to the delivery position of the wafer cassette is rotated to the horizontal state, and then the rotated wafer cassette is conveyed vertically to the storage position. The wafer does not rattle in the wafer cassette when the wafer cassette is vertically transferred between the position and the storage position. Therefore, it is possible to automate loading and unloading without causing particles and a decrease in yield, and it is possible to cope with full automation of the semiconductor manufacturing line. Since it is performed automatically without human intervention, loading and unloading of the wafer cassette can be performed in a short time, the throughput can be improved, and the semiconductor manufacturing line can be fully automated. (2) Particles can be reduced (up to 10 particles / wafer, 0.28μ) because there is no human intervention of the largest dust source. (3) Since a plurality of wafer cassettes can be simultaneously transferred, the throughput can be further improved and the load on the cassette transfer device such as AGV in the semiconductor factory can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明方法の一実施例の構成を示すブロック図
である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an embodiment of a method of the present invention.

【図2】本実施例の斜視説明図である。FIG. 2 is a perspective explanatory view of the present embodiment.

【図3】本実施例の動作説明用フローチャートである。FIG. 3 is a flowchart for explaining the operation of this embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 カセット受渡し手段 2 カセット受台 3 カセット回転手段 4 カセット水平送り手段 5 カセット上下搬送手段(エレベータ) 6 ウェーハカセット 7 ウェーハ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 cassette delivery means 2 cassette receiving stand 3 cassette rotation means 4 cassette horizontal feeding means 5 cassette vertical transport means (elevator) 6 wafer cassette 7 wafer

フロントページの続き (72)発明者 吉田 徹 東京都西多摩郡羽村町神明台2−1−1 国際電気株式会社羽村工場内Front page continuation (72) Inventor Toru Yoshida 2-1-1 Shinmeidai, Hamura-cho, Nishitama-gun, Tokyo Kokusai Electric Co., Ltd. Hamura Factory

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 垂直状態のウェーハカセットが供給され
る受渡し位置とウェーハカセットの収納位置との間でウ
ェーハカセットを搬送する縦型処理装置におけるウェー
ハカセット搬送方法において、 ウェーハカセットの受渡し位置に供給された垂直状態の
ウェーハカセットを水平状態に回転した後、回転された
ウェーハカセットを収納位置まで上下方向に搬送する、
ことを特徴とする縦型処理装置におけるウェーハカセッ
ト搬送方法。
1. A wafer cassette transfer method in a vertical processing apparatus for transferring a wafer cassette between a delivery position where a wafer cassette in a vertical state is supplied and a storage position of the wafer cassette, wherein the wafer cassette is supplied at a delivery position of the wafer cassette. After vertically rotating the wafer cassette in the vertical state, the rotated wafer cassette is conveyed vertically to the storage position.
A wafer cassette transfer method in a vertical processing apparatus, comprising:
【請求項2】 請求項1記載の縦型処理装置におけるウ
ェーハカセット搬送方法において、 前記縦型処理装置は、前記ウェーハカセットが載置され
るカセット受台と、前記カセット受台を回転させる回転
手段と、前記カセット受台を上下させる上下搬送手段と
を具備したウェーハカセット搬送装置を有しており、 前記回転手段が、ウェーハカセットの受渡し位置に供給
され、垂直状態でカセット受台に載置されたウェーハカ
セットを水平状態に回転し、 前記上下搬送手段が、回転されたウェーハカセットを収
納位置まで上下方向に搬送する、縦型処理装置における
ウェーハカセット搬送方法。
2. The wafer cassette transfer method in the vertical processing apparatus according to claim 1, wherein the vertical processing apparatus has a cassette pedestal on which the wafer cassette is placed, and a rotation unit that rotates the cassette pedestal. And a wafer cassette transfer device including an up-and-down transfer means for moving the cassette pedestal up and down, and the rotation means is supplied to the delivery position of the wafer cassette and placed on the cassette pedestal in a vertical state. A wafer cassette transfer method in a vertical processing apparatus, wherein the wafer cassette is rotated horizontally and the vertical transfer means transfers the rotated wafer cassette up and down to a storage position.
JP34980696A 1996-12-27 1996-12-27 Method for transferring wafer cassette in vertical processing apparatus Pending JPH09172051A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34980696A JPH09172051A (en) 1996-12-27 1996-12-27 Method for transferring wafer cassette in vertical processing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34980696A JPH09172051A (en) 1996-12-27 1996-12-27 Method for transferring wafer cassette in vertical processing apparatus

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29830090A Division JPH088290B2 (en) 1990-11-02 1990-11-02 Wafer cassette loading / unloading equipment for vertical diffusion / CVD equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09172051A true JPH09172051A (en) 1997-06-30

Family

ID=18406249

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34980696A Pending JPH09172051A (en) 1996-12-27 1996-12-27 Method for transferring wafer cassette in vertical processing apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09172051A (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03261161A (en) * 1990-03-09 1991-11-21 Tokyo Electron Sagami Ltd Vertical heat treating method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03261161A (en) * 1990-03-09 1991-11-21 Tokyo Electron Sagami Ltd Vertical heat treating method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1640293B1 (en) Article storage facility and system for the same
US6318944B1 (en) Semiconductor fabricating apparatus, method for modifying positional displacement of a wafer in a wafer cassette within the semiconductor fabricating apparatus and method for transferring the wafer cassette
JP2000331922A (en) Substrate processor
JP2002540620A (en) Equipment for manufacturing semiconductor products
JPH09172051A (en) Method for transferring wafer cassette in vertical processing apparatus
JPH088290B2 (en) Wafer cassette loading / unloading equipment for vertical diffusion / CVD equipment
JP2007305862A (en) Method and device for conveying cassette
JPH05338728A (en) Wafer carrying method and device thereof
JP3098547B2 (en) Carrier stocker
JP2688623B2 (en) Dicing equipment
JP3275299B2 (en) Dicing apparatus and dressing method for cutting blade
JP5001133B2 (en) Wafer transfer device
JP2005197761A (en) Bay of semiconductor wafer production line, the semiconductor wafer production line, bay of liquid crystal production line and the liquid crystal production line
JP2876250B2 (en) Vertical heat treatment equipment
JP4229497B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP4942359B2 (en) Work processing equipment
JP5643019B2 (en) Chuck table
JPH07153720A (en) Wafer-self-feed device of dicing equipment
JP2003266266A (en) Semiconductor wafer carrying device
JP3434014B2 (en) Stacker robot
JPH0751797Y2 (en) Wafer transfer device for vertical plasma processing machine
JPH10313196A (en) Substrate feeder
KR20060109183A (en) Cassette transfer conveyor with wafer aligning device
JPH06329209A (en) Wafer cassette carrying device of semiconductor manufacturing device
JP3766450B2 (en) Semiconductor substrate supply device in semiconductor substrate processing equipment