JPH09147754A - Plasma display device substrate and manufacture thereof - Google Patents

Plasma display device substrate and manufacture thereof

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JPH09147754A
JPH09147754A JP30468895A JP30468895A JPH09147754A JP H09147754 A JPH09147754 A JP H09147754A JP 30468895 A JP30468895 A JP 30468895A JP 30468895 A JP30468895 A JP 30468895A JP H09147754 A JPH09147754 A JP H09147754A
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JP
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substrate
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Kouji Hamada
Toshikazu Kishino
Hisamitsu Sakai
Kiyohiro Sakasegawa
敏和 岸野
浩児 濱田
清浩 逆瀬川
久満 酒井
Original Assignee
Kyocera Corp
京セラ株式会社
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    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2211/00Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
    • H01J2211/20Constructional details
    • H01J2211/34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J2211/36Spacers, barriers, ribs, partitions or the like

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily form fine bulkheads on a plasma display device substrate with high accuracy.
SOLUTION: A mixture 21 of ceramic or glass powder, a solvent, and an organic additive is filled in the recesses 20a of a molding die 20, the projections 20b of the molding die 20 are coated with an electrode material 22, and a plasma display device substrate is manufactured in the process for connecting the mixture 21 and the electrode material 22 to one face of a back plate 10 made of ceramic or glass.
COPYRIGHT: (C)1997,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高精度かつ安価な薄型の大画面用カラー表示装置等に用いられるプラズマ表示装置用基板及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to relates to a plasma display device substrate and a manufacturing method thereof, for use in high accuracy and inexpensive large-screen color display device such as a thin.

【0002】 [0002]

【従来の技術】薄型の大画面用カラー表示装置等に用いられるプラズマ表示装置は、微小な表示セルと呼ばれる隔壁で囲まれた空間に、対向する電極を設け、前記空間に希ガス等の放電可能なガスを封入した構造を成しており、対向する電極間に放電によりプラズマを発生させ、 Plasma display device used in the Prior Art Large-screen color display device such as a thin is to surrounded by the partition called small display cell space, the opposite electrode is provided, the discharge of the rare gas or the like into the space possible gas and form a structure enclosing, a plasma is generated by discharge between opposing electrodes,
該プラズマにより蛍光体を発光させて画面の発光素子として利用するものである。 By the plasma is to utilize by the phosphor to emit light as a light emitting element of the screen.

【0003】具体的な構造を図3に示すように、背面板10の一面に多数の隔壁11を形成して各隔壁11間をセル13とし、このセル13の底面に電極12を備えたものを基板1とする。 [0003] The concrete structure, as shown in FIG. 3, which forms a large number of partition walls 11 on one side of the back plate 10 and the partition wall 11 between the cells 13, with electrodes 12 on the bottom of the cell 13 It is referred to as substrate 1. この基板1に対して、セル13の内壁面13aに蛍光体を塗布し、一方電極15を備えた正面板14を基板1の隔壁11上に接合して、セル13 For this substrate 1, a phosphor coated on the inner wall surface 13a of the cell 13, whereas the front plate 14 with electrodes 15 bonded on the barrier ribs 11 of the substrate 1, the cell 13
にガスを封入することにより、プラズマ表示装置を構成することができる。 By encapsulating the gas, it is possible to construct a plasma display device.

【0004】ところで、前記プラズマ表示装置用の基板1を製造する際には、予め背面板10上に多数の電極1 Meanwhile, when manufacturing the substrate 1 for the plasma display device includes a plurality of electrodes 1 on previously rear plate 10
2を形成した後で各電極12間に隔壁11を形成するが、この隔壁11の製造方法としては、印刷積層法やグリーンシート多層積層法等が知られている。 Forming the partition wall 11 between the electrodes 12 after forming the 2 but, as the production method of the partition wall 11, such as a printing lamination method or the green sheet multilayer lamination method is known.

【0005】印刷積層法は、隔壁11を成す材料のペーストを用いて厚膜印刷法により背面板10上に所定パターンの隔壁11を印刷形成するもので、1回の印刷で形成できる厚さが約10〜15μm程度であることから、 [0005] printing lamination method is for printing forming the partition wall 11 having a predetermined pattern on the back plate 10 by a thick film printing method using a material paste forming the partition wall 11, the thickness can be formed in one printing since it is about 10~15μm,
印刷・乾燥を繰り返しながら約100〜200μm程度の高さを必要とする隔壁11を形成するものである(特開平2−213020号公報等参照)。 And forms a partition wall 11 that requires about 100~200μm as high as while repeating printing and drying (see JP-A-2-213020 Publication).

【0006】また、前記グリーンシート多層積層法は、 [0006] In addition, the green sheet multilayer lamination method,
所定形状に穿孔した複数枚のグリーンシートを前述の隔壁11として必要な高さとなるように積層固着して隔壁11を形成するものである(特開平1−213936号公報参照)。 In which a plurality of green sheets perforated in a predetermined shape by laminating fixed so that the required height as the partition wall 11 described above to form a partition wall 11 (see Japanese Patent Laid-Open No. 1-213936).

【0007】 [0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の製造方法により得られたプラズマ表示装置用基板1は、隔壁1 [0006] However, the plasma display device substrate 1 obtained by the above method of production, the partition walls 1
1と電極12の形成工程が別であるため、隔壁11と電極12との位置ずれが生じやすく、高精度の基板1が得られないという問題があった。 For step of forming the 1 and the electrode 12 are separate, positional deviation is likely to occur between the partition 11 and the electrode 12, the substrate 1 with high accuracy can not be obtained. しかも図3に示すように、電極12と隔壁11の間には隙間が存在することを避けられず、セル13の底面の一部にしか電極12が備えられていないことから放電領域が狭く、発光効率が低いという問題があった。 Moreover, as shown in FIG. 3, inevitable that there is a gap between the electrode 12 and the partition wall 11, narrow discharge region since no electrodes 12 are provided only on a part of the bottom of the cell 13, the light-emitting efficiency is low.

【0008】また、隔壁11を製造する際に、前記印刷積層法では、所定の高さの隔壁11を形成するために何回も印刷・乾燥工程を繰り返して積層しなければならず、極めて工程数が多くなり、その上、積層毎に精度よく印刷する必要があるため、非常に歩留りが悪かった。 [0008] Also, when manufacturing the partition wall 11, in the printing lamination method, it must be stacked repeatedly be printed and drying times in order to form a partition wall 11 having a predetermined height, very step the number is increased, Furthermore, because of the need to print accurately for each lamination, poor very yield.
更に、印刷時の位置ズレにより隔壁11が変形し易く、 Furthermore, the partition wall 11 is easily deformed by misalignment during printing,
かつ印刷製版の伸び等のために、隔壁11の寸法精度としては、1000セル分の寸法を45列測定した時の測定値の最大差が0.35mm程度あり、高精細度化の要求を満足することができなかった。 And to such as elongation of the printing plate-making, as the dimensional accuracy of the partition wall 11, there maximum difference of about 0.35mm measurements when measuring dimensions of 1000 cells fraction 45 rows, satisfying the requirements of high definition of it could not be.

【0009】一方、前記グリーンシート多層積層法では、穿孔した複数枚のグリーンシートを一括して積層固着して隔壁11を形成することはできるものの、セル1 On the other hand, in the green sheet multilayer lamination method, although laminated fixed collectively a plurality of green sheets drilled can be formed a partition wall 11, the cell 1
3のピッチを微細化して、画面を高精細度化するためにセル13の開口部に対して隔壁11部を狭くすると、開孔面積が増大してグリーンシートの強度が低下し、そのために積層時に高精度な位置決めが困難であるという課題があった。 3 pitch and finer, when narrowing the partitions 11 parts relative to the opening of the cell 13 to high definition of the screen and reduces the strength of the green sheet opening area is increased, laminated to the sometimes highly accurate positioning there is a problem that it is difficult.

【0010】また、この他にサンドブラスト法による製造方法もあるが、高精度に隔壁11を形成することは困難であった。 Moreover, there is a manufacturing method according to sandblasting In addition, it is difficult to form partition walls 11 with high accuracy.

【0011】従って、前記いずれの製造方法でも、高精度で微細なピッチを有する大型のプラズマ表示装置用の基板1を簡単な工程で安価に製造することは困難であった。 Accordingly, the In either manufacturing method, it is difficult to inexpensively manufacture the substrate 1 for a large plasma display device having a fine pitch with high precision in a simple process.

【0012】 [0012]

【発明の目的】本発明は上記課題に鑑みてなされたもので、その目的は、プラズマ表示装置用基板を、1回の簡単な成形工程で、歩留り良く製造するとともに、変形のない平滑表面を有する高精度な隔壁を所定高さで得られ、40インチ以上の大画面化が容易に実現できるプラズマ表示装置用基板及びその製造方法を提供することにある。 THE INVENTION An object of the present invention has been made in view of the above problems, a substrate for a plasma display device, in one simple molding process, as well as high yield, free from deformation smooth surface having obtained a highly accurate barrier ribs with a predetermined height, it is to provide a plasma display device substrate and a manufacturing method thereof larger screens of 40 inches or more can be easily realized.

【0013】 [0013]

【課題を解決するための手段】本発明のプラズマ表示装置用基板は、セラミックス又はガラスから成る背面板に、セラミックス又はガラスからなる複数の隔壁を備え、各隔壁間に形成されたセルの底面全面に電極を備えたことを特徴とするものである。 Means for Solving the Problems] The plasma display device substrate of the present invention, the rear plate made of ceramic or glass, provided with a plurality of partition walls made of ceramic or glass, the entire bottom surface of the cells formed between the barrier ribs it is characterized in further comprising an electrode on.

【0014】また、本発明のプラズマ表示装置用基板の製造方法は、セラミックス又はガラスの粉体と溶媒及び有機性添加物との混合物を成形型の凹部中に充填するとともに、該成形型の凸部に電極材を塗布し、これら混合物と電極材をセラミックス又はガラスからなる背面板に接合する工程からなることを特徴とする。 [0014] The method of manufacturing a plasma display device substrate of the present invention is to fill the mixture of powder and solvent and organic additives ceramics or glass in the recess of the mold, the molding mold convex the electrode material is applied to the part, these mixtures and the electrode material characterized by comprising the step of bonding the rear plate made of ceramic or glass.

【0015】 [0015]

【作用】本発明のプラズマ表示装置用基板によれば、セルの底面全体に電極を形成することによって、電極と隔壁との位置ずれをなくすとともに、放電領域を広くして発光効率を高めることができる。 According to the plasma display device substrate of the present invention, by forming the electrodes on the entire bottom surface of the cell, along with eliminating the positional deviation between the electrode and the partition wall, to increase the luminous efficiency discharge area wider to it can.

【0016】また、本発明のプラズマ表示装置用基板の製造方法によれば、セラミックス又はガラスの粉体とバインダーの混合物を成形型に充填して隔壁を成形することから、隔壁の表面状態が良好で、かつ成形型の寸法精度がそのまま成形体に反映され、1回の成形工程で大型の基板を容易に製造できる。 Further, according to the plasma display manufacturing method of the device substrate of the present invention, since the mixture of powder and binder in the ceramic or glass is filled into the mold for molding the septum, good surface condition of the partition wall in, and the mold size accuracy of is directly reflected in the molded body, a large-sized substrate can be easily manufactured in a single molding step.

【0017】また、隔壁と電極を一体成形するため、工程を簡略化できるとともに、セルの底面全体に電極を有する基板を容易に製造することができ、隔壁と電極の位置ずれをなくすことができる。 Further, in order to integrally mold the partition wall and the electrode, with the process can be simplified, a substrate having an electrode can be easily produced on the entire bottom surface of the cell, it is possible to eliminate the positional deviation of the partition wall and the electrode .

【0018】 [0018]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施形態を説明する。 An embodiment of the DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter the present invention will be described.

【0019】図1に示すように、プラズマ表示装置用の基板1はセラミックス又はガラスから成る背面板10の一面にセラミックス又はガラスから成る複数の隔壁11 As shown in FIG. 1, a plurality of partition walls 11 substrate 1 is made of ceramic or glass on one side of the back plate 10 made of ceramic or glass for a plasma display device
を備え、各隔壁11間にセル13が形成される。 Includes a cell 13 is formed between the partition wall 11. そして、このセル13の底面全面に電極12を備え、この電極12と隔壁11には隙間のない密着した状態となっている。 Then, an electrode 12 on the entire bottom surface of the cell 13, in a state of close contact without gap to the electrode 12 and the partition 11.

【0020】この基板1には、セル13の内壁面13a [0020] The substrate 1, the inner wall surface 13a of the cell 13
に蛍光体が塗布された後、図3に示すように電極15を備えた正面板14で隔壁11の上端を覆い、セル13にガスを封入することでプラズマ表示装置を構成することができる。 After the phosphor is applied to, can form a plasma display device by covering the upper end of the partition wall 11 in the front plate 14 having an electrode 15 as shown in FIG. 3, and a gas is sealed cell 13. そして、電極12、15間で放電することにより、セル13の内壁面13aに塗布した蛍光体を発光させることができる。 Then, by discharge between electrodes 12 and 15, it can emit phosphors coated on the inner wall surface 13a of the cell 13.

【0021】この時、上記電極12がセル13の底面全面に備えられているため、放電領域が広くなり発光効率を高められる。 [0021] At this time, since the electrode 12 is provided on the entire bottom surface of the cell 13, the discharge region is enhanced widens luminous efficiency. また、隔壁11と電極12との位置ずれをなくすことができ、高精度の基板1を得ることができる。 Further, it is possible to eliminate the misalignment between the partition wall 11 and the electrode 12, it is possible to obtain a substrate 1 with high accuracy.

【0022】次に、上記基板1の製造方法を説明する。 Next, a manufacturing method of the substrate 1.

【0023】まず、図2(a)に示すように、隔壁11 [0023] First, as shown in FIG. 2 (a), the partition wall 11
の形状に合致した凹部20aを有する成形型20を用意し、この成形型20の凹部20aの間の凸部20bに電極12を成す電極材22を塗布する。 Providing a mold 20 having a recess 20a that matches the shape of, applying the electrode material 22 forming the electrodes 12 on the convex portion 20b between the recess 20a of the mold 20. 具体的には、電極材22を成す金属ペーストまたは金属粉末と溶媒及び有機性添加物からなるバインダーとの混合物を塗布する。 Specifically, applying a mixture of a metal paste or a metal powder and a solvent and a binder made of an organic additive which forms an electrode member 22.
塗布方法としては、別の平板等に電極材22を塗布しておいて、これに成形型20の凸部20bを当てて転写したり、あるいは成形型20の凸部20bにスクリーン印刷やローラ塗布などで電極材22を塗布すれば良い。 As the coating method, in advance by applying an electrode material 22 to another flat plate or the like, transferring or, or screen printing or roller coating to the convex portion 20b of the mold 20 against the protrusion 20b of the mold 20 to the electrode material 22 may be coated with such.

【0024】次に、成形型20の凹部20aに、隔壁1 Next, the concave portion 20a of the mold 20, the partition walls 1
1を成す材質としてセラミックス又はガラス粉末と溶媒及び有機性添加物のバインダーとの混合物21を充填する。 Filling the mixture 21 of ceramic or glass powder and a binder in a solvent and organic additives as the material forming the 1. この時、図2(a)では電極材22の表面と混合物21の表面を同一面としてあるが、混合物21で電極材22上を覆っても良く、いずれの場合も混合物21と電極材22の間に隙間のない状態としておく。 In this case, although the surface and the surface of the mixture 21 in FIGS. 2 (a) the electrode member 22 as the same surface may cover the upper electrode member 22 in a mixture 21, in any case the mixture 21 and the electrode member 22 keep a state where there is no gap in between.

【0025】一方、セラミックス又はガラスから成る背面板10を別に用意し、この背面板10を上記成形型2 On the other hand, the rear plate 10 made of ceramic or glass separately prepared, the mold of this rear plate 10 2
0に充填した混合物21と電極材22の上面に押し当てて乾燥し、混合物21及び電極材22を固化させる。 0 against dry pressing the upper surface of the mixture 21 and the electrode material 22 filled in, to solidify the mixture 21 and the electrode member 22. その後、図2(b)に上下を逆にして示すように成形型2 Thereafter, the mold 2 as shown in the upside down in FIG. 2 (b)
0を離型することによって、背面板10上に隔壁11及び電極12を転写する。 By releasing the 0 to transfer the partition wall 11 and the electrode 12 on the back plate 10. 最後に全体を同時焼成することにより、図1に示すプラズマ表示装置用基板1を製造することができる。 By co-firing the entire Finally, it is possible to manufacture the plasma display device substrate 1 shown in FIG.

【0026】なお、以上の例では未焼成の状態で背面板10に隔壁11と電極12を接合し、最後に同時焼成したが、予め隔壁11及び電極12を固化して別に焼成した後で、背面板10に熱圧着や接着により接合することもできる。 [0026] Incidentally, after joining the partition wall 11 and the electrode 12 on the rear plate 10 in a state of unfired, was finally co-fired and fired separately by solidifying the pre-partition wall 11 and the electrode 12 in the above example, It may also be joined by thermocompression bonding or adhesion to the back plate 10. 即ち、背面板10に隔壁11と電極12を接合するのは、互いの部材が未焼成体、脱バインダー状態、焼結体のいずれの段階であっても良い。 That is, to join the partition wall 11 and the electrode 12 on the rear panel 10, mutual member green body, debinder conditions, may be any stage of the sintered body.

【0027】このような本発明の製造方法によれば、一回で隔壁11と電極12を同時に形成できるため製造工程を極めて簡略化できる。 According to the manufacturing method of the present invention, it can be extremely simplified manufacturing process because it can form a barrier rib 11 and the electrode 12 at the same time in one. しかも、隔壁11は成形型2 Moreover, the partition wall 11 forming mold 2
0の凹部20aの形状が転写されるため、微細形状を高精度に成形できる。 The shape of the 0 of the recess 20a is transferred, can be formed fine features with high precision. その結果、本発明の製造方法では、 As a result, in the production method of the present invention,
1000セル分の寸法を45列測定した時の測定値の最大差が0.05mm以下となるように高精度とすることができる。 1000 maximum difference measurements when the dimensions of the cell content was measured 45 columns can be highly accurate so that 0.05mm or less.

【0028】ここで、隔壁11を成すセラミックス粉体とは、アルミナ(Al 23 )、ジルコニア(Zr [0028] Here, the ceramic powder forming the partition wall 11, an alumina (Al 2 O 3), zirconia (Zr
2 )等の酸化物系セラミックスや、窒化珪素(Si 3 O 2) oxide ceramics or silicon nitride such as (Si 3
4 )、窒化アルミニウム(AlN)、炭化珪素(Si N 4), aluminum nitride (AlN), silicon carbide (Si
C)等の非酸化物系セラミックス等のいずれをも用いることができ、これらのセラミックス粉体には各種焼結助剤を所望量添加させることができる。 Both can be used, such as non-oxide ceramics C) or the like, and various sintering aids can be added the desired amount of these ceramic powder.

【0029】前記焼結助剤としては、アルミナ粉末にはシリカ(SiO 2 )、カルシア(CaO)、イットリア(Y 23 )及びマグネシア(MgO)等を、ジルコニア粉末にはイットリア(Y 23 )やセリウム(C [0029] As the sintering aid is silica (SiO 2) to alumina powder, calcia (CaO), yttria (Y 2 O 3) and magnesia (MgO) or the like, the zirconia powder yttria (Y 2 O 3) and cerium (C
e)、ジスプロシウム(Dy)、イッテルビウム(Y e), dysprosium (Dy), ytterbium (Y
b)等の希土類元素の酸化物を、また窒化珪素粉末にはイットリア(Y 23 )とアルミナ(Al 23 )等を、窒化アルミニウム粉末には周期律表第3a族元素酸化物(RE 23 )等を、炭化珪素粉末にはホウ素(B)とカーボン(C)等を所望量添加することができる。 oxides of rare earth elements such as b), also in the silicon nitride powder and yttria (Y 2 O 3) and alumina (Al 2 O 3) or the like, the aluminum nitride powder Periodic Table Group 3a element oxide ( the RE 2 O 3) or the like, the silicon carbide powder may be desired amount adding boron (B) and carbon (C) or the like.

【0030】また、隔壁11をガラス粉体で作る場合は、ケイ酸塩を主成分とし、鉛(Pb)、硫黄(S)、 Further, when making the partition wall 11 with a glass powder, a main component silicate, lead (Pb), sulfur (S),
セレン(Se)、明礬等の一種以上を含有した各種ガラスを用いることができる。 Can be used selenium (Se), various glasses containing one or more such alum.

【0031】尚、これらセラミックス又はガラス粉体の粒径は、数十ミクロンからサブミクロンのものが好適に用いることができ、具体的には0.2〜10μm、好ましくは0.2〜5μmの範囲のものが良い。 [0031] The particle diameter of these ceramics or glass powders, several tens of microns can be suitably used for those sub-microns, specifically 0.2 to 10 [mu] m, preferably of 0.2~5μm scope of what is good.

【0032】さらに、これらのセラミックス粉末又はガラス粉末に添加する有機性添加物としては、尿素樹脂、 Furthermore, as the organic additive to be added to these ceramic powder or glass powder, urea resin,
メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂、エボナイト、ポリシロキ酸シリケート等が挙げられる。 Melamine resins, phenol resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, alkyd resins, urethane resins, ebonite, polysiloxane-phosphosilicate, and the like. そして、これらの有機性添加物を加熱硬化、紫外線照射硬化、X線照射硬化等の手段で硬化させることにより、隔壁材21を固化させることが可能である。 Then, heat curing these organic additives, ultraviolet radiation curable, by curing by a means such as X-ray radiation curable, it is possible to solidify the barrier rib material 21. なお作業、装置上の点からは加熱硬化が最適であり、とりわけポットライフの点からは有機性添加物として不飽和ポリエステル樹脂を用いることが好適である。 Incidentally work, in terms of the device is best heat curing, from inter alia the pot life point it is preferable to use unsaturated polyester resin as the organic additive.

【0033】前記有機性添加物の含有量は、セラミックス又はガラス粉体と焼結助剤等との混合物の流動性及び成形性を維持するためには、粘性が高くならないようする必要があり、一方、硬化時には十分な保形性を有していることが望ましい。 The content of the organic additive, in order to maintain the flowability and moldability of the mixture of the ceramic or glass powder and the sintering aids, etc., should be such that the viscosity does not increase, on the other hand, it is desirable to have sufficient shape retention during curing. このような点から、セラミックス又はガラス粉体100重量部に対して0.5重量部以上で、かつ硬化による成形体の収縮という点からは35重量部以下が望ましく、なかでも焼成時の収縮を考慮すると、1〜15重量部が最も好適である。 From this point of view, at least 0.5 part by weight relative to the ceramic or glass powder 100 parts by weight, and preferably less 35 parts by weight from the viewpoint of shrinkage of the molded body due to curing, inter alia shrinkage during sintering considering, 1-15 parts by weight being most preferred.

【0034】また、混合物21中に加えられる溶媒とは、前記有機性添加物を相溶するものであれば特に限定するものではなく、例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン、フタル酸エステル等の芳香族溶剤や、ヘキサノール、オクタノール、デカノール、オキシアルコール等の高級アルコール類、あるいは酢酸エステル、グリセライド等のエステル類を用いることができる。 Further, the solvent added in the mixture 21, not particularly limited as long as it is compatible with the organic additives, for example, toluene, xylene, benzene, aromatic such as phthalic acid esters solvent and, hexanol, octanol, decanol, higher alcohols such as oxy alcohol or acetate, may be used esters such as glyceride.

【0035】とりわけ、前記フタル酸エステル、オキシアルコール等は好適に使用でき、更に、溶媒を緩やかに揮発させるために、前記溶媒を2種類以上併用することも可能であるまた、前記溶媒の含有量は、成形性の点からは成形体の保形性を維持するためにセラミックス又はガラス粉体100重量部に対して0.1重量部以上必要であり、一方セラミックス又はガラス粉体と有機性添加物の混合物の粘性を低くすることが望ましいことから、 [0035] Especially, the phthalates, oxyalcohol, etc. can be preferably used, further, in order to slowly volatilize the solvent, it is also possible to use the solvent of two or more, the content of the solvent is in terms of formability is required at least 0.1 parts by weight based on ceramic or glass powder 100 parts by weight in order to maintain the shape retention of the molded article, whereas ceramic or glass powder and an organic additive since it is desirable to lower the viscosity of the mixture of the object,
35重量部以下が望ましく、乾燥時と焼成時の収縮を考慮すると1〜15重量部であることが最も望ましい。 Desirably 35 parts by weight or less, and most preferably 1 to 15 parts by weight in consideration of the shrinkage during the time between firing dried.

【0036】さらに、本発明における電極材22は、A Furthermore, the electrode member 22 in the present invention, A
g,Pd,Pt,Au,W等の単体もしくは複数の組合せによるペースト、あるいはこれらの金属粉末と溶媒及び有機性添加物からなるバインダーとの混合物で作製することができる。 g, can be made with a mixture of Pd, Pt, Au, pastes according alone or a plurality of combinations of W or the like, or these metal powder and a solvent and a binder made of an organic additive.

【0037】なお、本発明における成形型20は、有機性添加物を硬化させる時に何ら支障無きものであれば良く、材質は特に限定されないが、例えば、金属や樹脂、 [0037] Incidentally, the mold 20 in the present invention may be any any one interfering defunct when curing the organic additive, but the material is not particularly limited, for example, metal or resin,
あるいはゴム等が使用でき、必要ならば、離型性向上や磨耗防止のために、表面被覆等の表面処理を行ってもよい。 Or rubber and the like can be used, if necessary, in order to improve and antiwear releasability, may be subjected to surface treatment such as surface coating.

【0038】また、上記背面板10は、未焼成のグリーンシートあるいは焼結体で、材質は特に限定しないが、 Further, the rear panel 10, in an unfired green sheet or sintered body, but the material is not particularly limited,
例えば各種セラミックグリーンシートや各種ガラス基板、磁器基板等で前記隔壁材21と熱膨張率が近似していることが望ましい。 For example, various ceramic green sheets and various glass substrates, it is desirable that the porcelain substrate such partition wall member 21 and the thermal expansion coefficient is approximate.

【0039】なお、前記混合物21や電極材22と背面板10との接合は、その間に何も介在させずに圧着すれば良いが、無機系、有機系のいずれかの接着剤を用いることも可能である。 [0039] The bonding between the back plate 10 and the mixture 21 and the electrode member 22, may be crimped without anything interposed therebetween, inorganic, also be used either adhesive organic possible it is.

【0040】また、前記混合物21や電極材22と背面板10とを圧着する際の接着性向上のために、シランカップリング剤やチタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等の各種カップリング剤を使用することができ、なかでも反応性が高いことからシランカップリング剤が好適である。 Further, the order of the mixture 21 and improving adhesion when bonding the electrode member 22 and a rear plate 10, a silane coupling agent or a titanate coupling agent, aluminate coupling agent of various coupling agents can be used, it is preferable silane coupling agent since among them is highly reactive.

【0041】さらに、混合物21や電極材22と背面板10との圧着は、均一に圧力を加えるという点からは静水圧の装置を用いるのが望ましく、加圧条件としては、 [0041] In addition, pressure contact between the mixture 21 and the electrode member 22 and the rear plate 10, uniform is desirable to use a device of the hydrostatic pressure from the viewpoint of applying pressure, as the pressure condition,
成形型を変形させない圧力範囲となり、該圧力範囲は成形型の強度に左右されるが、例えばシリコンゴム製の成形型を用いた場合、約100g/cm 2程度の加圧条件で行うのが望ましい。 Becomes a pressure range not to deform the mold, the pressure range is dependent on the strength of the mold, for example, when using a silicon rubber mold, it carried out under a pressure condition of about 100 g / cm 2 preferably .

【0042】また、混合物21において、セラミックス又はガラス粉体の分散性の向上のために、例えば、ポリエチレングリコールエーテル、アルギルスルホン酸塩、 Further, in the mixture 21, in order to improve the dispersibility of the ceramic or glass powder, for example, polyethylene glycol ethers, Al Gill sulfonate,
ポリカルボン酸塩、アルキルアンモニウム塩等の界面活性剤を添加しても良く、その含有量としては分散性の向上及び熱分解性の点から、セラミックス又はガラス粉体100重量部に対して0.05〜5重量部が望ましい。 Polycarboxylates may be added a surfactant such as an alkyl ammonium salt, from the viewpoint of improving the dispersibility and the thermal degradability as its content, with respect to a ceramic or glass powder 100 parts by weight 0. 05-5 parts by weight is desirable.

【0043】さらに、混合物21中のバインダーには硬化反応促進剤または重合開始剤等と称される硬化触媒を添加することができる。 [0043] Further, the binder in the mixture 21 can be added called curing catalyst and the curing reaction accelerator or polymerization initiator and the like. 前記硬化触媒としては、有機過酸化物やアゾ化合物を使用することができ、例えば、ケトンパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシケタール、パーオキシエステル、ハイドロパーオキサイド、パーオキシカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジクミルパーオキサイド等の有機過酸化物や、アゾビス、イソブチロニトリル等のアゾ化合物が挙げられる。 As the curing catalyst, it is possible to use an organic peroxide or azo compound, for example, a ketone peroxide, diacyl peroxide, peroxy ketal, peroxy ester, hydroperoxide, peroxycarbonate, t-Buchirupa oxy-2-ethylhexanoate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, and organic peroxides such as dicumyl peroxide, azobis, azo compounds such as azobisisobutyronitrile and the like.

【0044】なお、図1、2には台形状の隔壁11を示したが、本発明はこの例に限るものではない。 [0044] Although in FIG. 1 and 2 show the partition wall 11 of the trapezoidal, the present invention is not limited to this example.

【0045】 [0045]

【実施例】 実施例1まず、平板上に電極材22としてAgペーストを塗布し、成形型20の凸部20bを上記平板に押し当てて、 EXAMPLE 1 First, an Ag paste is applied as the electrode material 22 on a flat plate, the convex portion 20b of the mold 20 is pressed against the above flat plate,
電極材22を塗布し、乾燥した。 The electrode material 22 was applied, and dried. 一方、隔壁11を成す混合物21として、表1に示すように平均粒径0.2〜 On the other hand, as a mixture 21 forming the partition wall 11, the average particle diameter of 0.2 as shown in Table 1
10μm(好ましくは0.2〜5μm)のガラス粉体と各種溶媒、有機性添加物と若干の分散剤を加えたスラリーを作製し、この混合物21を成形型20の凹部20a 10 [mu] m (preferably 0.2 to 5 .mu.m) to prepare a slurry obtained by adding glass powder and various solvents, organic additives and some dispersing agents, recess 20a of the mixture 21 the mold 20
に充填し、脱泡した。 It was filled in, and degassed.

【0046】この表面にガラス製の背面板10を載せて加圧、乾燥後、混合物21及び電極材22が固化し背面板10に接合したことを確認して成形型20を離型した。 The pressure put the rear plate 10 made of glass on the surface, after drying, the mixture 21 and the mold 20 to confirm that the electrode member 22 is bonded to the rear plate 10 and solidified and release. その後、全体を500〜700℃で焼成し、プラズマ表示装置用基板1を作製した。 Thereafter, by baking the whole 500 to 700 ° C., to produce a plasma display device substrate 1.

【0047】 [0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】 実施例2表2に示す組成の混合物21を用い、この混合物21を成形型20に充填する際に電極材22を覆うように充填し、他は実施例1と同様にしてプラズマ表示装置用基板1を作製した。 [0048] with a mixture 21 of composition shown in Example 2 in Table 2 were filled so as to cover the electrode member 22 when filling the mixture 21 in the mold 20, the other in the same manner as in Example 1 Plasma Display the device substrate 1 was prepared.

【0049】 [0049]

【表2】 [Table 2]

【0050】 実施例3電極材22としてWペーストを用い、混合物21として表3に示すように平均粒径0.2〜5μmのアルミナ、 [0050] Example 3 using the W paste as an electrode material 22, alumina having an average particle diameter of 0.2~5μm As shown in Table 3 as a mixture 21,
ジルコニアを用いて、焼成温度を1450〜1600℃ Using zirconia, from 1450 to 1,600 ° C. The sintering temperature
とし、他は実施例1と同様にしてプラズマ表示装置用基板1を作製した。 And then, the other in the same manner as in Example 1 to prepare a plasma display device substrate 1.

【0051】 [0051]

【表3】 [Table 3]

【0052】 比較例一方、比較例として、従来の印刷方式により、ガラス製の背面板10上にスクリーン印刷で電極12を形成し、 [0052] Comparative Example As a comparative example, the conventional printing method, the electrode 12 was formed by screen printing on the rear plate 10 made of glass,
その間に隔壁11を形成すべくスクリーン印刷、乾燥を10回繰り返した後、500〜700℃で焼成してプラズマ表示装置用基板1を作製した(No.19)。 Screen printing to form a partition wall 11 therebetween, after repeating 10 times the dry, to produce a plasma display device substrate 1 was calcined at 500~700 ℃ (No.19).

【0053】以上のようにして得られたNo. [0053] was obtained in the manner described above No. 1〜19 1-19
の試料について、隔壁11の形状、クラックの有無、電極12との位置ずれを双眼顕微鏡で観察した結果を表4 For samples, Table 4 the shape of the partition wall 11, the presence of cracks, results of the positional deviation between the electrode 12 was observed with a binocular microscope
に示す。 To show. この結果より、比較例であるNo. This result, which is a comparative example No. 19は隔壁11の形状が不明確であり、電極12との位置ずれが認められた。 19 is unclear shape of the partition wall 11, the displacement between the electrode 12 was observed. これに対し、本発明実施例(No.1〜1 In contrast, the present invention embodiment (Nanba1~1
8)は電極12と隔壁11の位置ずれがなく、隔壁11 8) has no positional deviation of the electrode 12 and the partition 11, partition 11
の形状も良好であった。 It was also of the shape better. なお、No. In addition, No. 6,12,18は溶媒量が多いために若干隔壁11に潰れが発生していた。 6, 12, 18 may collapse slightly septum 11 due to the large amount of solvent has occurred.

【0054】なお、上記実施例ではガラス製の背面板1 [0054] Incidentally, the rear plate 1 made of glass in the above examples
0を用いたが、アルミナ等の各種セラミックス製のものを用いても同様の結果であった。 0 was used, but with similar results also be used as made various ceramics such as alumina.

【0055】 [0055]

【表4】 [Table 4]

【0056】 [0056]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、セラミックス又はガラスから成る背面板の一面に、セラミックス又はガラスからなる複数の隔壁を備え、各隔壁間に形成されたセルの底面全面に電極を備えてプラズマ表示装置用基板を構成したことによって、放電領域を大きくして発光効率を高めるとともに、隔壁と電極の位置ずれをなくすことができる。 According to the present invention as described above, according to the present invention, on one surface of the rear plate made of ceramic or glass, provided with a plurality of partition walls made of ceramic or glass, the entire bottom surface to the electrode of cells formed between the respective partition walls by configuring the substrate for a plasma display apparatus comprises a, to increase the luminous efficiency discharge region increases, it is possible to eliminate the positional displacement of the partition wall and the electrode.

【0057】また、本発明によれば、セラミックス又はガラスの粉体と溶媒及び有機性添加物との混合物を成形型の凹部中に充填するとともに、該成形型の凸部に電極材を塗布し、これら混合物と電極材をセラミックス又はガラスからなる背面板の一面に接合する工程からプラズマ表示装置用基板を製造することによって、高精度で微細な形状の隔壁を容易に形成することができ、しかも電極と隔壁を同時に形成できることから製造工程を簡略化することが可能で、低コストとすることができる。 Furthermore, according to the present invention, to fill the mixture of powder and solvent and organic additives ceramics or glass in the recess of the mold, the electrode material is applied to the convex portion of the forming die by producing a substrate for plasma display device the step of bonding the one surface of the rear plate made of these mixtures and the electrode material of a ceramic or glass, the partition wall of the fine shape can be easily formed with high precision, moreover it is possible to simplify the manufacturing process because it can form the electrodes and the partition wall at the same time, can be low-cost.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明のプラズマ表示装置用基板を示す断面図である。 1 is a cross-sectional view showing a substrate for a plasma display device of the present invention.

【図2】(a)(b)は本発明のプラズマ表示装置用基板の製造方法を説明するための図である。 Figure 2 (a) (b) is a diagram for explaining a manufacturing method of a plasma display device substrate of the present invention.

【図3】従来のプラズマ表示装置用基板を示す断面図である。 3 is a cross-sectional view showing a conventional substrate for a plasma display device.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1:基板 10:背面板 11:隔壁 12:電極 13:セル 14:電極 15:正面板 20:成形型 20a:凹部 20b:凸部 21:混合物 22:電極材 1: substrate 10: back plate 11: partitions 12: electrode 13: Cell 14: electrode 15: front plate 20: mold 20a: recess 20b: protrusion 21: Mixture 22: electrode material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 酒井 久満 京都府京都市山科区東野北井ノ上町5番地 の22 京セラ株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Hisamitsu Sakai Kyoto-shi, Kyoto Yamashina-ku, Higashinokitainoue-cho address 5 22 Kyocera within the Corporation

Claims (2)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】セラミックス又はガラスから成る背面板に、セラミックス又はガラスからなる複数の隔壁を備え、各隔壁間に形成されたセルの底面全面に電極を備えたことを特徴とするプラズマ表示装置用基板。 A back plate made of 1. A ceramic or glass, provided with a plurality of partition walls made of ceramic or glass, for a plasma display apparatus comprising the entire bottom surface to the electrode of cells formed between the respective partition walls substrate.
  2. 【請求項2】セラミックス又はガラスの粉体と溶媒及び有機性添加物との混合物を成形型の凹部中に充填するとともに、該成形型の凸部に電極材を塗布し、これら混合物と電極材をセラミックス又はガラスからなる背面板に接合する工程からなるプラズマ表示装置用基板の製造方法。 Together wherein the mixture is filled with powder and solvent and organic additives ceramics or glass in the recess of the mold, the electrode material is applied to the convex portion of the forming die, these mixtures and the electrode member plasma display device substrate manufacturing method comprising the the step of joining the rear plate made of ceramic or glass.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001133758A (en) * 1999-11-09 2001-05-18 Toppan Printing Co Ltd Rear side plate for plasma addressed liquid crystal panel and its manufacturing method
US6247986B1 (en) 1998-12-23 2001-06-19 3M Innovative Properties Company Method for precise molding and alignment of structures on a substrate using a stretchable mold
US6352763B1 (en) 1998-12-23 2002-03-05 3M Innovative Properties Company Curable slurry for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold
US6632116B2 (en) 1999-02-12 2003-10-14 Toppan Printing Co., Ltd. Plasma display panel, manufacturing method and manufacturing apparatus of the same
US6821178B2 (en) 2000-06-08 2004-11-23 3M Innovative Properties Company Method of producing barrier ribs for plasma display panel substrates
US7033534B2 (en) 2001-10-09 2006-04-25 3M Innovative Properties Company Method for forming microstructures on a substrate using a mold
US7176492B2 (en) 2001-10-09 2007-02-13 3M Innovative Properties Company Method for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold and articles formed by the method
JPWO2010030032A1 (en) * 2008-09-12 2012-02-02 日本碍子株式会社 3D part production method

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE40967E1 (en) * 1998-12-23 2009-11-10 3M Innovative Properties Company Curable slurry for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold
US6247986B1 (en) 1998-12-23 2001-06-19 3M Innovative Properties Company Method for precise molding and alignment of structures on a substrate using a stretchable mold
US6325610B2 (en) 1998-12-23 2001-12-04 3M Innovative Properties Company Apparatus for precise molding and alignment of structures on a substrate using a stretchable mold
US6352763B1 (en) 1998-12-23 2002-03-05 3M Innovative Properties Company Curable slurry for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold
US6616887B2 (en) 1998-12-23 2003-09-09 3M Innovative Properties Company Method for precise molding and alignment of structures on a substrate using a stretchable mold
US6713526B2 (en) 1998-12-23 2004-03-30 3M Innovative Properties Company Curable slurry for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold
US6802754B2 (en) 1998-12-23 2004-10-12 3M Innovative Properties Company Method for precise molding and alignment of structures on a substrate using a stretchable mold
US6984935B2 (en) 1998-12-23 2006-01-10 3M Innovative Properties Company Method for precise molding and alignment of structures on a substrate using a stretchable mold
US6632116B2 (en) 1999-02-12 2003-10-14 Toppan Printing Co., Ltd. Plasma display panel, manufacturing method and manufacturing apparatus of the same
JP2001133758A (en) * 1999-11-09 2001-05-18 Toppan Printing Co Ltd Rear side plate for plasma addressed liquid crystal panel and its manufacturing method
JP4590664B2 (en) * 1999-11-09 2010-12-01 凸版印刷株式会社 Back plate and a manufacturing method thereof of the plasma address liquid crystal panel
US6821178B2 (en) 2000-06-08 2004-11-23 3M Innovative Properties Company Method of producing barrier ribs for plasma display panel substrates
US7429345B2 (en) 2001-10-09 2008-09-30 3M Innovative Properties Company Method for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold
US7176492B2 (en) 2001-10-09 2007-02-13 3M Innovative Properties Company Method for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold and articles formed by the method
US7033534B2 (en) 2001-10-09 2006-04-25 3M Innovative Properties Company Method for forming microstructures on a substrate using a mold
JPWO2010030032A1 (en) * 2008-09-12 2012-02-02 日本碍子株式会社 3D part production method

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