JPH09138977A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JPH09138977A
JPH09138977A JP7298596A JP29859695A JPH09138977A JP H09138977 A JPH09138977 A JP H09138977A JP 7298596 A JP7298596 A JP 7298596A JP 29859695 A JP29859695 A JP 29859695A JP H09138977 A JPH09138977 A JP H09138977A
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Sumio Hirose
Yoshiteru Taniguchi
Hideki Umehara
Masatoshi Yanagimachi
純夫 広瀬
昌俊 柳町
英樹 梅原
義輝 谷口
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Mitsui Toatsu Chem Inc
三井東圧化学株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the C/N of the ATIP signals in a ROM region and to lower the jitter of prepit parts by forming wobbling tracks consisting of pregrooves in a RAM region to an approximately sinusoidal curve. SOLUTION: This optical recording medium is formed with a dyestuff layer 2 on the front surface of a substrate 1 consisting of plastic, is formed with a reflection layer 3 consisting of a metal on this dyestuff layer 2 and is further formed with a protective layer 4 on this reflection layer 3. Prepits 6 and pregrooves 5 are formed on the substrate 1. The wobbling amplitude of the pregrooves in the ROM region and RAM region of this optical recording medium is preferably in a range of >=25 to <=100nm.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光による情報の記録及び再生が可能な光記録媒体であって、特に基板上に設けられたプリピット部及びプリグルーブ部からなる光記録媒体に関する。 The present invention relates to is an optical recording medium capable of recording and reproducing information by laser beam, an optical recording medium, in particular consisting of a pre-pit portion and the pre-groove portion provided on the substrate.

【0002】 [0002]

【従来の技術】基板上に予めプリピットが形成されたR Pre prepits formed BACKGROUND ART substrate R
OM領域と、プリグルーブが形成された追記可能なRA And OM region, appendable RA where the pre-grooves are formed
M領域とからなる光記録媒体(ハイブリッドディスク) Optical recording medium comprising a M area (hybrid disc)
については、例えば、特開平4−243019や特開平5−36087に記載されている。 For, for example, described in JP-A-4-243019 and JP-A-5-36087. 上記公報に記載されているように、ROM領域におけるプリピット列からなるトラックと、RAM領域におけるプリグルーブとからなるトラックは、絶対時間情報等を記録しておくために周波数変調したウォブリング・トラックになっている。 As described in the above publication, the track comprising a pre-pit string in the ROM area, the track consisting of a pre-groove in the RAM area, become wobbling tracks frequency modulated for recording the absolute time information and the like ing.

【0003】ハイブリッドディスクの記録装置は、この絶対時間情報(ATIPと呼ぶ)を読み取り、追記可能領域の記録開始位置から記録を行うしくみになっている。 [0003] hybrid disc recording apparatus reads the absolute time information (referred to as ATIP), has a mechanism for performing recording from the recording start position of the recordable region. 従って、前記ハイブリッドディスクにおいてはRO Thus, in the hybrid disc RO
M領域でも追記可能なRAM領域でも同様にATIP情報を読み取れるようにしなければならない。 Must be able to read the ATIP information as well in the write-once available RAM area is also in the M area.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プリピット領域ではウォブルが断続的であるために、記録可能領域と同じだけウォブリングさせても追記可能領域と同様なC/Nが得られずに、ATIP情報の読み取りエラーが生じるといった問題があり、解決が望まれていた。 However [0007], for the pre-pit region wobble is intermittent, not obtained similar C / N and as much wobbled not be recordable in area and the recordable area, ATIP information There is a problem reading error occurs, resolution has been desired.
その目的のためにいくつかの提案がされている。 Are some suggestions for that purpose.

【0005】例えば、特開平4−243019では、プリピット列のトラックのウォブリング振幅をプリグルーブのトラックのウォブリング振幅よりも大きく設定することによりC/Nを向上させ、ATIP情報の読み取りエラーをなくすとする。 [0005] For example, in JP-A-4-243019, to improve the C / N by the wobbling amplitude of the track of the pre-pit string is set larger than the wobbling amplitude of the track of the pre-groove, and eliminating reading error of the ATIP information . また、特開平5−36087では、ROM領域のプリピット列のウォブリングトラックに沿って、プリピットより浅いウォブリング・プリグルーブを設けることによりC/Nを向上させている。 Further, in JP-A-5-36087, along wobbling track prepit row of the ROM area, thereby improving the C / N by providing a shallow wobbling pregroove than prepits.

【0006】即ち、両提案はいずれもプリピットをウォブリングさせていることに特徴がある。 [0006] In other words, both the proposal is characterized in that it both is wobbled pre-pit. しかしながら、 However,
再生用の光ヘッドはウォブリング・プリピットのうねり(一般に22.05kHz)に追従できず、まっすぐに進むことことにより、ウォブリング・プリピットを斜めに横切ったりするために、再生信号に時間軸方向のゆらぎを生じさせてしまうといった欠点がある。 An optical head for reproduction can not follow undulation of the wobbling pre-pits (typically 22.05 kHz), by to proceed straight, to or across the wobbling prepits obliquely, the fluctuation in the time axis direction in the reproduction signal there is a drawback would cause. 通常、この時間軸方向のゆらぎのことをジッターと呼んでおり、ジッターが大きいと、再生信号のデータ読み取りエラーが生じてしまい、最悪の場合、再生不能になる恐れがある。 Usually, is called a jitter that the time axis direction of the fluctuation, the jitter is large, would occur is data read error of the reproduced signal, in the worst case, it may become unreproducible. そこで、プリピット領域でのATIP情報が読み取れて、且つ、信号のジッターが低く、データ読み取りエラーの小さいハイブリッドディスクが望まれているのである。 Therefore, it read the ATIP information in the pre-pit region and the jitter of the signal is low, it is the small hybrid disc having data read error is desired. 本発明は前記問題点を解決するものであり、RO The present invention is made to solve the above problems, RO
M領域のATIP信号のC/Nを向上させるとともにプリピット部のジッターを低く抑えたハイブリッドディスクを提供することにある。 It is to provide a hybrid disc suppressing the jitter of the pre-pit portion improves the C / N of the ATIP signal M region.

【0007】 [0007]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、以下の技術的事項により特定される。 Means for Solving the Problems That is, the present invention is specified by the following technical matters. (1) 予めプリピットが形成されたROM領域と、プリグルーブが形成された追記可能なRAM領域とからなる基板の上に、色素層、反射層、保護層がこの順に設けられている光記録媒体において、前記RAM領域にプリグルーブからなるウォブリング・トラックが略正弦曲線状に形成され、且つ、前記ROM領域には、ウォブリングしていないプリピットのトラック上に重ねて該プリピットよりも浅いプリグルーブからなるウォブリング・トラックが略正弦曲線状に形成されていることを特徴とする光記録媒体。 (1) in advance and pre-pits are formed ROM region, on a substrate made of an additionally recordable RAM area pregroove is formed, the dye layer, reflective layer, an optical recording medium protective layer are provided in this order in wobbling track consisting of a pre-groove is formed in a substantially sinusoidal in the RAM area, and, in the ROM region is shallow pregroove than the pre-pits superimposed on the track of the pre-pit which is not wobbling optical recording medium, characterized in that the wobbling track is formed in a substantially sinusoidal. (2) ROM領域のプリピットの半価幅が0.4μm (2) the half-width of the pre-pit in the ROM area is 0.4μm
以上0.7μm以下、深さが200nm以上450nm 0.7μm or less, 200nm or more depth 450nm or more
以下、プリグルーブの半価幅が0.2μm以上0.6μ Below, the half-value width of the pre-groove is 0.2μm or more 0.6μ
m以下、深さが50nm以上250nm以下であり、R m or less, 250nm or less is 50nm or more depths, R
AM領域のプリグルーブの半価幅が0.3μm以上0. Full width at half maximum of the pre-groove of the AM region more than 0.3μm 0.
7μm以下、深さが170nm以上250nm以下である(1)記載の光記録媒体。 7μm or less, the depth is 250nm or less than 170 nm (1), wherein the optical recording medium. (3) ROM領域のプリグルーブのウォブリング・トラックの振幅が25nm以上100nm以下であり、R (3) the amplitude of the wobbling track of the pre-groove in the ROM area is at 25nm or more 100nm or less, R
AM領域のプリグルーブのウォブリング・トラックの振幅が25nm以上100nm以下であることを特徴とする(1)または(2)記載の光記録媒体。 Wherein the amplitude of the wobbling track of the pre-groove in the AM region is 25nm or more 100nm or less (1) or (2) above, wherein the optical recording medium. (4) 色素層がフタロシアニン色素よりなる(1)〜 (4) the dye layer is formed of a phthalocyanine dye (1) to
(3)の何れかに記載の光記録媒体。 The optical recording medium according to any one of (3). (5) 反射層がAuを主成分とする金属からなる(1)〜(4)の何れかに記載の光記録媒体。 (5) reflection layer is made of metal mainly composed of Au (1) The optical recording medium according to any one of - (4).

【0008】 [0008]

【発明の実施の形態】本発明に従えば、プリピット部とプリグルーブ部のウォブリング再生信号のC/Nが均一で、且つ、プリピット部の再生信号のジッターが低いハイブリッドディスクを提供することが可能となる。 According to the embodiment of the present invention, a uniform C / N of the wobbling reproduction signal of the pre-pit portion and the pre-groove portion, and, can jitter of the reproduced signal of the pre-pit portion to provide a lower hybrid disc to become.

【0009】以下、本発明の実施の形態について説明する。 [0009] The following describes embodiments of the present invention. 本発明の光記録媒体は、基本的に、ウォブリングしていないプリピットのトラック上に重ねてプリグルーブからなるウォブリング・トラックが形成されているRO Optical recording medium of the present invention, basically, RO wobbling track consisting of a pre-groove superimposed on the track of the pre-pit which is not wobbled are formed
M領域と、プリグルーブからなるウォブリング・トラックのみが形成されているRAM領域とが設けられた基板上に記録層、反射層、保護層がこの順に形成された構造を有していることを特徴とする。 Features and M region, a recording layer on a substrate provided with a RAM region where only wobbling track consisting of a pre-groove is formed, a reflective layer, a protective layer has a structure formed in this order to. ROM領域とRAM領域は必要に応じて2つ以上設けてもよく、ROM領域が外周側にRAM領域が内周側にあってもよい。 ROM and RAM areas may be provided two or more if necessary, the ROM area may be in the inner peripheral side RAM area on the outer peripheral side.

【0010】プリグルーブからなるウォブリング・トラックは周波数変調信号を示すようにウォブリングされており、内周から絶対時間の管理を行うようにしている。 [0010] wobbling track consisting of a pre-groove is wobbled to indicate frequency modulation signal, and from the inner periphery to perform absolute time management.

【0011】本発明におけるROM領域及びRAM領域のプリグルーブのウォブリング振幅は特定の条件を満足することが好ましい。 [0011] wobbling amplitude of the pre-groove in the ROM area and the RAM area in the present invention preferably satisfy the specific conditions. 即ち、ROM領域及びRAM領域のプリグルーブのウォブリング振幅は25nm以上10 In other words, the wobbling amplitude of the pre-groove in the ROM area and RAM area are 25nm or more 10
0nm以下の範囲にあることである。 0nm is that in the following range. より好ましくは、 More preferably,
プリグルーブのウォブリング振幅が30〜80nmの範囲にある。 Wobbling amplitude of the pre-groove is in the range of 30~80nm. さらに好ましくは30〜40nmの範囲にある。 More preferably in the range of 30 to 40 nm.

【0012】プリグルーブのウォブリング振幅が25n [0012] The wobbling amplitude of the pre-groove 25n
mよりあまり小さくなると、再生信号のC/Nが小さすぎて、絶対時間のデータの読み取りエラーが生じ易くなり、最悪の場合、読み取り不能になる恐れがある。 Becomes too smaller than m, too small reproduction signal C / N is liable to occur is error reading data of the absolute time, in the worst case, may become unreadable. また、プリグルーブのウォブリング振幅が100nmよりあまり大きくなると、ピット列のうねりが大きいことにより再生信号のジッターが大きくなり、データの読み取りエラーが発生し、最悪の場合、信号再生不能になる恐れがある。 Further, the wobbling amplitude of the pre-groove is too larger than 100 nm, the jitter of the reproduced signal by undulation of the pit row is large is increased, a read error of data occurs, in the worst case, it may become signal unplayable .

【0013】本発明におけるプリピット及びプリグルーブは、特定の形状を有するものであることが好ましい。 [0013] prepits and pregrooves in the present invention is preferably one having a specific shape.
即ち、ROM領域のプリピットの半価幅(ピット深さの1/2の深さにおけるピットの幅)が0.4μm以上0.7μm以下、深さが200nm以上450nm以下、プリグルーブの半価幅が0.2μm以上0.6μm That is, the half-width of the pre-pit of the ROM area (the width of the pits in half the depth of the pit depth) is 0.4μm or more 0.7μm or less, the depth is 200nm or 450nm or less, the pre-groove half width 0.6μm but 0.2μm or more
以下、深さが50nm以上250nm以下であるものが好ましく、RAM領域のプリグルーブの半価幅が0.3 Or less, preferably not more 50nm or 250nm or less depth, the half width of the pregroove RAM region 0.3
μm以上0.7μm以下、深さが170nm以上250 μm more than 0.7μm or less and a depth of more than 170nm 250
nm以下であるものが好ましい。 Those nm is equal to or less than is preferred. より好ましくは、RO More preferably, RO
M領域のプリピットの半価幅が0.5μm以上0.6μ Full width at half maximum of the pre-pit of M area is 0.5μm or more 0.6μ
m以下、深さが250nm以上350nm以下、プリグルーブの半価幅が0.2μm以上0.3μm以下、深さが50nm以上100nm以下であり、RAM領域のプリグルーブの半価幅が0.4μm以上0.6μm以下、 m or less, 250nm or 350nm or less depth, the half width of the pregroove is 0.2μm or more 0.3μm or less, is not less 50nm or 100nm or less depth, the half width of the pregroove is 0.4μm RAM area more than 0.6μm or less,
深さが180nm以上230nm以下である。 Depth is 180nm more than 230nm or less. プリグルーブの半価幅や深さが上記範囲外であるとプリピットと同様に変調度やサーボ信号が小さくなり、オレンジブック規格を満足できない場合がある。 Half width and depth of the pregroove is prepits as well as modulation degree and a servo signal to be outside the above range becomes small, there may not be satisfied the Orange Book standard.

【0014】上記プリピットの断面形状は略台形であることが望ましい。 [0014] It is desirable cross-sectional shape of the pre-pit is substantially trapezoid. これは上記プリグルーブより深くなるためレジスト膜厚でプリピットの深さの設定が可能であり、スタンパー製造が容易なことによる。 It is possible to set the depth of the prepit in the resist film thickness to become deeper than the pre-groove, due to the stamper manufacturing is easy. 一方、上記プリグルーブの断面形状は略V字形であることが望ましい。 On the other hand, it is desirable that the cross-sectional shape of the pregroove is substantially V-shaped. これはプリグルーブが深溝であるとオレンジブック規格を満足する反射率が得られないため、プリピットの深さよりも浅くする必要がある。 This is because the pre-groove reflectance satisfying the Orange Book standard can not be obtained If it is deep grooves, it is necessary to shallower than the depth of the prepit. そのため、スタンパー製造上、プリグルーブ形状は略V字形であることが好ましい。 Therefore, the stamper manufacturing, it is preferred pre-groove shape is substantially V-shaped.

【0015】このような基板を作製するためのスタンパー製造におけるスタンパー原盤は次のように作るのが望ましい。 The stamper master disc of the stamper manufacturing for producing such a substrate is desirably made as follows. 即ち、ガラス基板上にフォトレジスト膜をプリピットの深さに相当する厚さに形成する。 That is, a photoresist film on a glass substrate to a thickness corresponding to the depth of the prepits. これにレーザー光を露光することによりプリピットまたはプリグルーブをカッティングする。 To this, cutting the pre-pit or pre-groove by exposing a laser beam. プリピットのカッティングにおいてはフォトレジスト膜の厚さ方向全部に照射されるように強いレーザーパワーで露光する。 In the cutting of the pre-pit is exposed with a strong laser power to be irradiated to the whole thickness direction of the photoresist film. 一方、プリグルーブのカッティングにおいてはプリグルーブの深さに対応するようにフォトレジスト膜の厚さ方向の途中まででレーザー光強度が減衰してしまうように弱いパワーで露光を行う。 On the other hand, perform exposure with a weak power as the laser beam intensity to the middle of the thickness direction of the photoresist film so as to correspond to the depth of the pregroove is attenuated in the cutting of the pregroove. 露光後、現像を行うことによりプリピットはガラス基板面が露出し、断面形状が略台形をしており、プリグルーブはガラス基板面まで現像されず、レーザービームの強度分布に対応した断面形状が略V字形になっている。 After exposure, the pre-pit by performing development to expose the glass substrate surface, the cross-sectional shape has a substantially trapezoidal, the pre-groove will not be developed until the glass substrate surface, the laser beam cross-sectional shape corresponding to the intensity distribution of approximately It has become a V-shape.

【0016】また、ROM領域においてプリピットのトラック上にプリグルーブからなるウォブリング・トラックを設けるには2つの露光用レーザービームを用いる。 Further, in the ROM area is provided wobbling track consisting of a pre-groove on the track of the pre-pit is used two exposure laser beam.
即ち、プリピットをカッティングするための強いパワーのレーザービーム (1) とウォブリング・プリグルーブをカッティングするための弱いパワーのレーザービーム That is, the laser beam of low power for cutting laser beam (1) and wobbling pregroove of strong power for cutting the pre-pit
(2) をスタンパー原盤露光面上で重ねるように光学系を調整し、レーザービーム (2) をROM領域及びRA (2) adjusting the optical system to overlap on the stamper master exposure surface, the laser beam (2) the ROM area and RA
M領域の全域にわたってウォブリングさせながら連続照射することによりプリグルーブを形成し、ROM領域においてはプリグルーブに重ねてレーザービーム (1) をEFM変調に対応してパルス照射することによりプリピットを形成する。 The pre-groove is formed by continuous irradiation while wobbling all over the M areas, the ROM region forms a pre-pit by pulse irradiation corresponds to the laser beam (1) to overlap the pregroove to the EFM modulation. このようなスタンパーのカッティング方法はそれ自身既に技術的には確立されているものである。 Cutting methods such stamper are those established itself already art.

【0017】基板の材質としては、基本的には記録光及び再生光の波長で透明なものであればよい。 [0017] As material of the substrate is essentially as long as transparent at the wavelength of recording light and reproducing light. 例えば、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。 For example, polycarbonate resins, vinyl chloride resins, acrylic resins polymethyl methacrylate, polystyrene resin, an inorganic material such as a polymeric material or glass, such as epoxy resin is used. これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成形される。 These substrate materials are molded into a substrate in a disc shape by injection molding or the like. 透明性や基板成形性などを考慮するとポリカーボネート樹脂が最も適している。 Consideration of a polycarbonate resin and the like transparency and substrate formability is most suitable.

【0018】基板の上には膜厚10〜200nmの記録層を形成する。 [0018] On the substrate to form a recording layer having a thickness of 10 to 200 nm. 本発明における記録層はプリピット部及びプリグルーブ部において特定の形状を有するものである。 Recording layer in the present invention are those having a specific shape in pre-pit portion and the pre-groove portion. 以下に図1を用いて詳しく説明する。 It will be described in detail with reference to FIG. 1 below. 図1においてプラスチックからなる基板1の表面に色素からなる色素層2が形成され、色素層2の上に金属からなる反射層3、さらに反射層3の上に保護層4が形成されている。 Dye layer 2 made of a dye on the surface of the substrate 1 made of plastic is formed in FIG. 1, the reflective layer 3 made of a metal on the dye layer 2 is further protective layer 4 is formed on the reflective layer 3.
基板1上にはプリピット6及びプリグルーブ5が形成されている。 On the substrate 1 are formed prepits 6 and pregrooves 5. 色素層2は通常色素を有機溶剤に溶解して調製した色素塗布溶液をスピンコーティング法により塗布し乾燥することにより形成されたものである。 The dye layer 2 is one formed by coating and drying by a conventional dye spin coating a dye coating solution prepared by dissolving in an organic solvent. 前述したように色素溶液を塗布する方法を用いるとプリピット6 With the method of applying the dye solution as described above prepit 6
及びプリグルーブ5に色素が埋まるためにプリピット6 And the pre-pit 6 for the dye is filled in pre-groove 5
のピット底部7の色素層2の膜厚t pは基板1のプリピット間部8の色素層2の膜厚t plよりも大きくなっている。 Thickness t p of the dye layer 2 of the pit bottom 7 is larger than the thickness t pl dye layer 2 of the pre-pit space portion 8 of the substrate 1. プリピットの深さをd pとすると反射層3と色素層2の界面におけるプリピットの深さδ pは、以下〔数1〕のように表される。 The depth of the pre-pit depth [delta] p of the pre-pit at the interface of the reflective layer 3 and the dye layer 2 and the d p is expressed as follows equation (1).

【0019】 [0019]

【数1】δ p =d p +t pl −t pプリピット底部7とプリピット間部8での光路長の差(L p )は、以下の式〔数2〕で表される。 [Number 1] difference in optical path length in δ p = d p + t pl -t p prepit bottom 7 and the pre-pit inter section 8 (L p) is represented by the formula [Equation 2] below.

【0020】 [0020]

【数2】 L p =n sp +n d (t pl −t p ) =n sp +n d (δ p −d p ) 但し、n sは基板1の屈折率であり、n dは色素層2の屈折率である。 [Number 2] L p = n s d p + n d (t pl -t p) = n s d p + n d (δ p -d p) where, n s is the refractive index of the substrate 1, n d is it is the refractive index of the dye layer 2.

【0021】通常、色素層の屈折率(n d )は基板の屈折率(n s )より大きく、プリピットの深さ(d p )が従来のものよりも深くなるため、プリピット底部7とプリピット間部8での光路長の差(L p )は大きくなる。 [0021] Usually, the refractive index of the dye layer (n d) is the refractive index of the substrate (n s) from the large, since the depth of the prepit (d p) is deeper than the conventional pre-pit bottom 7 and between the pre-pit the optical path length difference in parts 8 (L p) is increased.

【0022】本発明における光記録媒体では、プリピット底部7とプリピット間部8での光路長の差(L p [0022] In the optical recording medium of the present invention, the optical path length difference in the pre-pit bottom 7 and the pre-pit inter section 8 (L p)
は、0.20λ以上0.40λ以下、好ましくは0.2 Is, 0.20Ramuda than 0.40λ or less, preferably 0.2
5λ以上0.35λ以下になるように構成されている。 0.35λ and is configured to be less than or 5 [lambda].
pが小さすぎ0.20λ未満ではピット底部とピット間部の光路長差が小さすぎ、また、L pが大きすぎて0.40λを越えると逆にピット底部とピット間部の光路長差が大きすぎて、変調度が小さくなりオレンジブック(CD−R)規格を満足する良好な信号特性が得られない。 L p is too small optical path length difference between the pit bottom and the pit space portion is less than 0.20λ too small, also the optical path length difference between the pit bottom on the contrary L p is too large exceeds 0.40λ and the pit between the portion is too large, no good signal characteristics satisfying the degree of modulation decreases Orange book (CD-R) standard was obtained.

【0023】一方、プリグルーブ底部9とプリグルーブ間部10での光路長の差(L g )は以下の式〔数3〕で表される。 On the other hand, the difference (L g) in the optical path length in the pre-groove bottom portion 9 and the pre-groove between the portion 10 is represented by the formula Formula 3 below.

【0024】 [0024]

【数3】 L g =n sg +n d (t gl −t g ) =n sg +n d (δ g −d g ) 但し、d gはプリグルーブの深さ、δ gは反射層3と色素層2の界面におけるプリグルーブの深さ(δ g =d g +t Equation 3] L g = n s d g + n d (t gl -t g) = n s d g + n d (δ g -d g) However, d g is the pre-groove depth, [delta] g is the reflective layer 3 and depth of the pregroove in the interface of the dye layer 2 (δ g = d g + t
gl −t g )、t glはプリグルーブ間部10での色素層2 gl -t g), t gl dye layer 2 between the pre-groove portion 10
の膜厚、t gはプリグルーブ底部9での色素層2の膜厚である。 The film thickness, t g is the thickness of the dye layer 2 in the pre-groove bottom 9.

【0025】本発明における光記録媒体では、プリグルーブ底部9とプリグルーブ間部10での光路長の差(L [0025] In the optical recording medium of the present invention, the optical path length difference in the pre-groove bottom portion 9 and the pre-groove between the portions 10 (L
g )は、0.15λ以下、好ましくは0.10λ以下小さくなるように構成されている。 g) is, 0.15Ramuda less, preferably configured to be smaller or less 0.10Ramuda. gが大きすぎて0. L g is too large 0.
15λを越えると光路長が大きすぎて、反射率が低下し、オレンジブック(CD−R)規格を満足することができない。 Over- the optical path length is too large to 15Ramuda, reflectance decreases, it can not satisfy the Orange Book (CD-R) standard.

【0026】本発明における記録層は、フタロシアニン色素、特に置換基を有し、中心に金属原子をもつ有機溶媒に可溶なフタロシアニン色素を用いることが好ましい。 The recording layer in the present invention, phthalocyanine dye, in particular having a substituent, it is preferable to use a soluble phthalocyanine dye in an organic solvent with a metal atom at the center. この置換基としては、水素や塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、置換または無置換のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、不飽和アルコキシル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、不飽和アルキルチオ基、カルボン酸エステル基、カルボン酸アミド基、シリル基、アミノ基等が挙げられる。 As the substituent, a hydrogen, chlorine, bromine, halogen such as iodine, substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, an unsaturated alkyl group, an alkoxyl group, an aryloxy group, an unsaturated alkoxyl group, an alkylthio group, an arylthio group , unsaturated alkylthio, carboxylic acid ester group, a carboxylic acid amide group, a silyl group, an amino group, and the like. これらは、対応するフタロジニトリル誘導体を有機溶媒中で対応する中心金属化合物とそれ自体公知の方法により反応させて得られる。 These can be obtained by reacting the corresponding central metal compound in a manner known per se the corresponding phthalonitrile derivative in an organic solvent.

【0027】前記置換基のより具体的な例としては、アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、イソアミル基、2−メチルブチル基、n [0027] Examples of more specific examples of the substituents is the alkyl group, methyl group, ethyl group, n- propyl group, n- butyl group, an isobutyl group, n- pentyl group, neopentyl group, isoamyl group, 2-methylbutyl group, n
−ヘキシル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、2−エチルブチル基、 - hexyl, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, 2-ethylbutyl group,
n−ヘプチル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルペンチル基、n n- heptyl, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, a 2-ethylhexyl group, 3-ethylpentyl radical, n
−オクチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、n - octyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5-methylheptyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl radical, n
−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基等の一級アルキル基;イソプロピル基、sec−ブチル基、1−エチルプロピル基、1−メチルブチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−メチルヘプチル基、1−エチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、1−メチルヘキシル基、1−エチルヘプチル基、1−プロピルブチル基、1−イソプロピル−2−メチルプロピル基、1 - nonyl, n- decyl group, n- dodecyl primary alkyl group such as a group; an isopropyl group, sec- butyl group, 1-ethylpropyl group, 1-methylbutyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-methylheptyl group, 1-ethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, 1-methylhexyl group, 1-ethyl-heptyl group, 1-propyl butyl group 1-isopropyl-2-methylpropyl group, 1
−エチル−2−メチルブチル基、1−プロピル−2−メチルプロピル基、1−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、1−プロピルペンチル基、1−イソプロピルペンチル基、1−イソプロピル−2−メチルブチル基、 - ethyl-2-methylbutyl group, 1-propyl-2-methylpropyl group, 1-methylheptyl group, 1-ethylhexyl group, 1-propyl pentyl group, 1-isopropyl pentyl group, 1-isopropyl-2-methylbutyl group,
1−イソプロピル−3−メチルブチル基、1−メチルオクチル基、1−エチルヘプチル基、1−プロピルヘキシル基、1−イソブチル−3−メチルブチル基等の二級アルキル基;tert−ブチル基、tert−ヘキシル基、tert−アミノ基、tert−オクチル基等の三級アルキル基;シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−エチルシクロヘキシル基、4−tert 1-isopropyl-3-methylbutyl group, 1-methyl octyl group, 1-ethyl-heptyl group, 1-propyl-hexyl group, 1-isobutyl-3-secondary alkyl group such as methylbutyl group; tert-butyl group, tert- hexyl group, tert- amino group, a tertiary alkyl group such as tert- octyl group; a cyclohexyl group, 4-methylcyclohexyl group, 4-ethyl cyclohexyl group, 4-tert
−ブチルシクロヘキシル基、4−(2−エチルヘキシル)シクロヘキシル基、ボルニル基、イソブルニル基、 - butylcyclohexyl, 4- (2-ethylhexyl) cyclohexyl group, bornyl group, Isoburuniru group,
アダマンタン基等のシクロアルキル基等が;アリール基としては、フェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、ノニルフェニル基、ナフチル基、ブチルナフチル基、ノニルナフチル基等が;また、不飽和アルキル基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキセン基、オクテン基、ドデセン基、シクロヘキセン基、ブチルヘキセン基等が挙げられる。 Examples of the aryl group include a phenyl group, ethylphenyl group, butylphenyl group, nonylphenyl group, naphthyl group, butylnaphthyl group, Nonirunafuchiru group etc.; cycloalkyl group and the like such as adamantane group also unsaturated alkyl group are ethylene, propylene, butylene, hexene group, octene group, dodecene group, cyclohexene group, butyl hexene group, and the like.

【0028】なお、これらのアルキル基、アリール基、 It should be noted that these alkyl groups, an aryl group,
不飽和アルキル基はヒドロキシル基やハロゲン基等で置換されてもよく、また、酸素、硫黄、窒素等の原子を介して前記アルキル基、アリール基で置換されても良い。 Unsaturated alkyl groups may be substituted with a hydroxyl group or a halogen group, etc., and, oxygen, sulfur, through said atomic nitrogen such as an alkyl group may be substituted with an aryl group.
酸素を介して置換されているアルキル基やアリール基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ポリオキシエチレン基、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基等が;硫黄を介して置換されているアルキル基やアリール基としてはメチルチオエチル基、エチルチオエチル基、エチルチオプロピル基、フェニルチオエチル基、メチルチオフェニル基、ブチルチオフェニル基等が;窒素を介して置換されているアルキル基やアリール基としてはジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、ジ The alkyl group or an aryl group substituted through an oxygen, methoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxymethyl group, ethoxyethyl group, butoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, phenoxyethyl group, methoxypropyl group, ethoxy propyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group, a polyoxyethylene group, a polyoxyethylene group, a polyoxypropylene group, or the; methylthioethyl group as an alkyl group or an aryl group substituted through a sulfur, ethylthioethyl group, an ethyl thio propyl group, phenylthioethyl group, methylthiophenyl group, butyl thio phenyl group is, dimethylaminoethyl group as an alkyl group or an aryl group substituted through a nitrogen, diethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group , di チルアミノフェニル基、ジブチルアミノフェニル基等が挙げられる。 Chill aminophenyl group, dibutyl amino phenyl group.

【0029】一方、フタロシアニン色素の中心金属としては、2価の金属が好ましく、具体的には、Ca、M On the other hand, as the central metal of the phthalocyanine dye, a divalent metal is preferred, and specifically, Ca, M
g、Zn、Cu、Ni、Pd、Fe、Pb、Co、P g, Zn, Cu, Ni, Pd, Fe, Pb, Co, P
t、Cd、Ru等が挙げられる。 t, Cd, Ru, and the like.

【0030】また、上記フタロシアニン色素は必要に応じて、該フタロシアニンの作用を害しない範囲において、2種類以上のフタロシアニン色素を混合して用いてもよく、同じく、光吸収剤や燃焼促進剤、消光剤、紫外線吸収剤、接着剤、樹脂バインダー等の添加剤を混合あるいは置換基として導入してもよい。 Further, the phthalocyanine dye is optionally within a range not impair the effect of the phthalocyanine may be used by mixing two or more kinds of phthalocyanine dyes, likewise, light absorbing or combustion promoter, quenching agents, ultraviolet absorbers, adhesives, may be introduced as a mixing or a substituent an additive such as a resin binder.

【0031】光吸収剤は、記録光の波長に吸収があり、 [0031] The light-absorbing agent, there is absorption in the wavelength of the recording light,
フタロシアニン色素膜の感度を高めるためのものであり、有機色素が望ましい。 Is intended to increase the sensitivity of the phthalocyanine dye film, an organic dye is preferable. 例えば、ナフタロシアニン系色素、ポルフィリン系色素、アゾ系色素、ペンタメチンシアニン系色素、スクアリリウム系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、インダンスレン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサジン系色素などがよく用いられているが、中でもナフタロシアニン系色素、は吸収波長領域の面から特に望ましい。 For example, naphthalocyanine dyes, porphyrin dyes, azo dyes, pentamethinecyanine cyanine dye, squarylium dye, pyrylium dye, thiopyrylium dye, azulenium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, indanthrene dyes, indigo dyes, thioindigo dyes, merocyanine dyes, thiazine dyes, acridine dyes, but such oxazine dyes is often used, inter alia Na phthalocyanine dyes, particularly preferred from the viewpoint of the absorption wavelength region. これらの色素は、さらに複数混合して用いることも可能である。 These dyes may be used to further plurality mixed.

【0032】燃焼促進剤の例としては、金属系アンチノッキング剤である四エチル鉛、四メチル鉛などの鉛系化合物やシマントレン(Mn(C 55 )(CO) 3 )などのMn系化合物、また、メタロセン化合物である鉄ビスシクロペンタジエニル錯体(フェロセン)をはじめ、T [0032] Examples of burn promoting agent is a metal-based anti-knock agent tetraethyl lead, the four lead-based compounds such as methyl lead and Shimantoren (Mn (C 5 H 5) (CO) 3) Mn compounds such , also including iron biscyclopentadienyl complex (ferrocene) is a metallocene compound, T
i、V、Mn、Cr、Co、Ni、Mo、Ru、Rh、 i, V, Mn, Cr, Co, Ni, Mo, Ru, Rh,
Zr、Lu、Ta、W、Os、Ir、Sc、Yなどのビスシクロペンタジエニル金属錯体が挙げられる。 Zr, Lu, Ta, W, Os, Ir, Sc, include bis cyclopentadienyl metal complexes, such as Y. 中でもフェロセン、ルテノセン、オスモセン、ニッケロセン、 Among these, ferrocene, ruthenocene, Osumosen, nickelocene,
チタノセン及びそれらの誘導体は良好な燃焼促進効果がある。 Titanocene and their derivatives have excellent effect to promote combustion. 鉄系金属化合物としては、メタロセンの他にギ酸鉄、シュウ酸鉄、ラウリル酸鉄、ナフテン酸鉄、ステアリン酸鉄、酪酸鉄などの有機酸鉄化合物、アセチルアセトナート鉄錯体、フェナントロリン鉄錯体、ビスピリジン鉄錯体、エチレンジアミン鉄錯体、エチレンジアミン四酢酸鉄錯体、ジエチレントリアミン鉄錯体、ジエチレングリコールジメチルエーテル鉄錯体、ジホスフィノ鉄錯体、ジメチルグリオキシマート鉄錯体などのキレート鉄錯体、カルボニル鉄錯体、シアノ鉄錯体、アンミン鉄錯体などの鉄錯体、塩化第一、第二鉄、臭化第一、第二鉄などのハロゲン化鉄、あるいは、硝酸鉄、硫酸鉄などの無機鉄塩類、さらには、酸化鉄などが挙げられる。 The iron-based metal compound, in addition to iron formic acid metallocene, oxalate, lauryl iron, iron naphthenate, iron stearate, organic iron compounds such as butyric iron acetylacetonate iron complex, phenanthroline iron complex, bispyridine iron complex, ethylenediamine iron complex, ethylenediaminetetraacetic acid iron complex, diethylenetriamine iron complex, diethylene glycol dimethyl ether iron complex, diphosphino iron complex, chelate iron complexes such as dimethylglyoxime oximate iron complexes, carbonyl iron complex, cyano iron complex, ammine iron complex such as iron complex, a first chloride, ferric bromide first, iron halide, such as ferric or iron nitrate, inorganic iron salts such as iron sulfate, furthermore, like iron oxide. ここで用いる鉄系金属化合物は有機溶剤に可溶で、且つ、 Iron-based metal compounds for use herein is soluble in an organic solvent, and,
耐湿熱性及び耐光性の良好なものが望ましい。 Having good wet heat resistance and light resistance are desirable. 特にアセチルアセトナート鉄錯体や鉄カルボニル錯体などは良好な溶解性が得られるという点で非常に好ましい。 In particular such acetylacetonate iron complex or iron carbonyl complexes are highly preferred in that good solubility is obtained. 上記燃焼促進剤は、必要に応じて置換基を導入したり、複数混合したり、バインダー等の添加物質を加えてもよい。 The burn promoting agent, or by introducing a substituent if necessary, a mixture of a plurality or, may be added substances such as a binder. これらの色素はスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法、真空蒸着法等によって基板上に成膜される。 These dyes coating method, a sputtering method or a chemical vapor deposition method such as spin coating or casting, is deposited on the substrate by vacuum deposition or the like. 本発明において、ピット部及びグルーブ部において特定の形状の色素膜を形成するためにはスピンコート法が最も適している。 In the present invention, a spin-coating method is most suitable in order to form a dye film of a specific shape at the pit portion and the groove portion.

【0033】スピンコート法においては色素を溶解あるいは分散させた塗布溶液を用いるが、この際溶媒は基板にダメージを与えないものを選ばなくてはならない。 [0033] In the spin coating method using a coating solution prepared by dissolving or dispersing the dye, but this time the solvent must be chosen those which do not damage the substrate. 例えば、n−ヘキサン、n−オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、プロピルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ジエチルシクロヘキサン等の環状炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、2,2,3, For example, n- hexane, n- octane, aliphatic hydrocarbon solvents isooctane; cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, propylcyclohexane, dimethylcyclohexane, cyclic hydrocarbon solvents such as diethyl cyclohexane; benzene, toluene, xylene, aromatic hydrocarbon solvents ethylbenzene; chloroform, carbon tetrachloride, dichloromethane, 2,2,3,
3−テトラフロロ−1−プロパノール等のハロゲン化炭化水素系溶媒;メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ジアセトンアルコール等のアルコール系溶媒;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒などが挙げられる。 3 Tetorafuroro 1-halogenated hydrocarbon solvents propanol; methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, alcohol solvents such as diacetone alcohol; dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, dibutyl ether, diisopropyl ether ether solvents; methyl cellosolve, cellosolve solvents such as ethyl cellosolve; acetone, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, methyl acetate, ester solvents such as butyl acetate. これらの有機溶剤は単独でも、あるいは2種類以上混合して用いてもよいことはもちろんである。 These organic solvents alone or it may also be used as a mixture of two or more of course.

【0034】フタロシアニン系色素膜の形成においては、上記塗布溶媒の中では、n−オクタン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンなど、沸点が12 [0034] In the formation of the phthalocyanine dye film, in the aforementioned coating solvent, n- octane, ethylcyclohexane, dimethyl cyclohexane, boiling point 12
0〜140℃程度の有機溶媒を単独で用いたり、あるいはこれらにジオキサンやキシレン、トルエン、プロピルシクロヘキサンなどを体積比率で0.1〜10%程度混合した塗布溶剤が好ましく用いられる。 Or using a 0 to 140 ° C. of about organic solvents alone, or they dioxane, xylene, toluene, coating solvent prepared by mixing about 0.1 to 10% of such propyl cyclohexane volume ratio is preferably used.

【0035】好ましい塗布条件としては、例えば、温度24℃±1℃の環境下で最初に低速回転(100〜10 [0035] Preferred coating conditions, for example, first low-speed rotation in an environment of temperature 24 ℃ ± 1 ℃ (100~10
00rpm)で1〜10秒間色素溶液を塗布した後、直ちに高速回転(2000〜5000rpm)で10〜6 After application of the 10 seconds the dye solution in rpm), immediately at a high speed rotation (2000~5000rpm) 10~6
0秒間乾燥することである。 And to dry 0 seconds. これにより、均一な色素膜が形成できる。 Thereby, a uniform dye film can be formed. また、必要に応じて記録層は1層だけでなく複数の色素を多層形成させることもある。 The recording layer if necessary also be multi-layered form a plurality of dye not only one layer.

【0036】記録層の上には厚さ50〜300nm、好ましくは100〜150nmの反射層を形成する。 The thickness of 50~300nm on the recording layer is preferably formed a reflective layer of 100 to 150 nm. 反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、N As the material of the reflective layer, sufficiently high reflectance at a wavelength of reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, N
i、Pt、Ta、Cr及びPdの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。 i, can be used by Pt, Ta, singly or an alloy of metals of Cr and Pd. このなかでもAuやAlは反射率が高く反射層の材料として適している。 Au and Al Among this is suitable as a material of high reflection layer reflectance. これ以外でも下記のものを含んでいてもよい。 Any other may include those of the following. 例えば、M For example, M
g、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、F g, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, F
e、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、Cd、Ga、I e, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, Cd, Ga, I
n、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属及び半金属を挙げることができる。 n, it can be cited Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, and metals and semi-metals such as Bi. また、Auを主成分としているものは反射率の高い反射層が容易に得られるため好適である。 Also, what is the main component of Au is suitable for readily obtained highly reflective reflector layer. ここで主成分とは、含有率が50 Here, the main component, the content of 50
%以上のものをいう。 It says% or more of the thing. 金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。 A material other than metal stacked alternately a low refractive index film and a high refractive index film to form a multilayer film, it can be used as the reflective layer.

【0037】反射層を形成する方法としては、例えば、 [0037] As a method for forming the reflective layer, for example,
スパッタリング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。 Sputtering, chemical vapor deposition, and vacuum deposition. 中でもスパッタリング法は、最もよく用いられている手法である。 Among these sputtering is a technique that has been used most often. また、反射率を高めるためや密着性をよくするために記録層と反射層の間に反射増幅層や接着層などの中間層を設けることもできる。 Further, an intermediate layer may be provided, such as reflective amplifying layer or an adhesive layer between the recording layer and the reflective layer in order to improve the adhesion property to enhance the reflectivity.

【0038】中間層に用いられる材料としては再生光の波長で屈折率が大きいものが望ましい。 [0038] a refractive index at the wavelength of the reproduction light as the material used for the intermediate layer is large is desirable. 例えば、無機材料としては、Si 34 、AlN、ZnS、ZnSとSi For example, as the inorganic material, Si 3 N 4, AlN, ZnS, ZnS and Si
2の混合物、SiO 2 、TiO 2 、CeO 2 、Al 23などがあり、これらの材料を単独であるいは複数混合して用いてもよい。 A mixture of O 2, include SiO 2, TiO 2, CeO 2 , Al 2 O 3, may be used in these materials alone or in mixture of a plurality. 有機材料としては、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ポルフィリン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、 As the organic material, cyanine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, porphyrin dyes, azo dyes, squarylium dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, azulenium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes,
インドフェノール系色素、トリフェニルメタン系色素、 Indophenol dyes, triphenylmethane dyes,
キサンテン系色素、インダンスレン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサジン系色素などの色素やポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、スチレンーアクリロニトリル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルピロリドン、ポリパラヒドロキシスチレンなどの高分子化合物が挙げられる。 Xanthene dyes, indanthrene dyes, indigo dyes, thioindigo dyes, merocyanine dyes, thiazine dyes, acridine dyes, pigments, polystyrene, such as oxazine dyes, polyvinyl acetate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, poly acrylic acid esters, polymethacrylic acid esters, styrene-acrylonitrile copolymer, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl pyrrolidone, high molecular compounds such as poly-para-hydroxy styrene.

【0039】さらに、反射層の上に保護層を形成させることもできる。 [0039] Further, it is also possible to form a protective layer on the reflective layer. 保護層の材料としては反射層を外力から保護するものであれば特に限定しない。 Not particularly limited as long as it protects the reflective layer from an external force as the material of the protective layer. 有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることができる。 The organic material include thermoplastic resins, thermosetting resins, UV-curable resin or the like. なかでもUV硬化性樹脂が好ましい。 Among these UV curable resins are preferred. 又、無機物質としては、SiO 2 、SiN 4 、MgF As the inorganic materials, SiO 2, SiN 4, MgF
2 、SnO 2等が挙げられる。 2, SnO 2 and the like. 熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。 Thermoplastic resins, thermosetting resins, etc. can be formed by a coating liquid was applied dissolved in a suitable solvent, and dried. UV硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによって保護層を形成することができる。 UV curable resin may be a coating liquid is applied after the preparation of the intact or coating liquid was dissolved in a suitable solvent, to form a protective layer by curing by irradiation with UV light.
UV硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート樹脂を用いることができる。 The UV-curable resin, for example, urethane acrylate, epoxy acrylate, and acrylate resins such as polyester acrylates. これらの材料は単独であるいは混合して用いても良いし、1層だけでなく多層膜にして用いてもいっこうに差し支えない。 It These materials may be used alone or in combination, at all no problem be used in the multi-layer film as well as one layer.

【0040】保護層の形成の方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、このなかでもスピンコート法が好ましい。 [0040] As a method for forming the protective layer, a method such as coating method, a sputtering method or a chemical vapor deposition method such as a recording layer and a spin coating method or a casting method in the same manner are used, a spin coating method is preferred among the .

【0041】以上のごとくして作製された光記録媒体は、オレンジブック(CD−R)規格を満足する信号特性が得られ、従来より市販されているCDプレーヤーやCD−ROMプレーヤーでも良好に再生することが可能となる。 The above as to the optical recording medium which is manufactured, the signal characteristics are obtained which satisfy the Orange Book (CD-R) standard, also satisfactorily reproduced by the CD player or CD-ROM player which is commercially available from conventional it is possible to become.

【0042】 [0042]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明の技術的範囲はこれによりなんら限定的に解釈されるものではない。 EXAMPLES Examples of the present invention below, the technical scope of the present invention is not intended to be construed limitatively interpreted by this. 〔実施例1〕直径46mm〜80mmのROM領域にトラックピッチ1.6μm、プリピット(半価幅(W p ):0.60μm、深さ(d p ):400nm)、 Example 1 diameter 46mm~80mm track pitch 1.6μm in the ROM area of the pre-pit (half width (W p): 0.60 .mu.m, the depth (d p): 400nm),
プリピット・トラック上に重ねてウォブリング・プリグルーブ(半価幅(W p ):0.30μm、深さ(d p ): Superimposed on the pre-pits, on the track wobbling pre-groove (half-value width (W p): 0.30μm, depth (d p):
100nm、振幅:35nm)が形成され、直径80m 100 nm, amplitude: 35 nm) is formed, the diameter 80m
m〜118mmのRAM領域にトラックピッチ1.6μ Track pitch 1.6μ in the RAM area of ​​m~118mm
m、ウォブリング・プリグルーブ(半価幅(W g ): m, wobbled pre-groove (half-value width (W g):
0.40μm、深さ(d g ):210nm、ウォブリング振幅:30nm)が形成された円盤状のポリカーボネート基板(外径120mm、厚さ1.2mm、屈折率(n s )1.58)を用いた。 0.40 .mu.m, the depth (d g): use 30 nm) is disc-shaped polycarbonate substrate is formed (outer diameter 120 mm, thickness 1.2 mm, refractive index (n s) of 1.58): 210 nm, the wobbling amplitude It had.

【0043】一方、下記式(1)〔化1〕に示されるフタロシアニン色素( 但し、X=4.0 )0.25gをエチルシクロヘキサンに3%o−キシレンを添加した塗布溶媒10mlに溶解し、色素溶液を調製した。 On the other hand, phthalocyanine dyes (where, X = 4.0) represented by the following formula (1) [Chemical 1] to 0.25g were dissolved in a coating solvent 10ml supplemented with 3% o-xylene ethylcyclohexane, dye solution It was prepared.

【0044】 [0044]

【化1】 [Formula 1] この色素溶液を上記基板上にスピンコート法により、基板の回転数750rpmで5秒間塗布した後、回転数3 By spin coating the dye solution on the substrate was applied for 5 seconds at a rotation speed 750rpm substrate, the rotation number 3
000rpmで10秒間乾燥して、色素層を形成した後、70℃で2時間加熱乾燥し残留溶媒を除去した。 And dried for 10 seconds at 000 rpm, after the formation of the dye layer to remove the 2-hour heat dried residual solvent at 70 ° C.. このときの色素膜の屈折率(n d )は2.20であった。 Refractive index of the dye film at this time (n d) was 2.20.
このときの色素の平均膜厚は約100nmであった。 The average thickness of the dye at this time was about 100 nm.

【0045】この色素層の上にバルザース社製スパッタ装置(CDI−900)を用いてAuをスパッタし、厚さ100nmの反射層を形成した。 [0045] was sputtered Au with Balzers Ltd. sputtering apparatus (CDI-900) on top of the dye layer to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. スパッタガスには、 The sputtering gas,
アルゴンガスを用いた。 Argon gas was used. スパッタ条件は、スパッタパワー2.5kW、スパッタガス圧1.0×10 -2 Torr The sputtering conditions were a sputtering power 2.5 kW, a sputtering gas pressure of 1.0 × 10 -2 Torr
で行った。 It was carried out in. さらに反射層の上に紫外線硬化樹脂SD−1 Further ultraviolet curing resin SD-1 on the reflective layer
7(大日本インキ化学工業製)をスピンコートした後、 7 (produced by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was spin-coated,
紫外線照射して厚さ6μmの保護層を形成した。 To form a protective layer having a thickness of 6μm by ultraviolet irradiation.

【0046】サンプルのグルーブ部を市販のCDライター(フィリップス社製CDD521)を用いて、EFM [0046] the groove portion of the sample by using a commercially available CD writer (Philips CDD521), EFM
信号を記録した。 It was recorded signal. 記録後、780nm赤色半導体レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置DDU−1000を用いて、信号を再生し、デジタルオシロスコープにより反射率と11T信号の変調度を測定し、KENWOOD製CDデコーダーを用いて、エラー率を測定した。 After recording, using a Pulstec Industrial Ltd. optical disc evaluation device DDU-1000 equipped with a 780nm red semiconductor laser head, reproduces the signal, to measure the degree of modulation of the reflectivity and 11T signal by a digital oscilloscope, the KENWOOD made CD decoder used to measure the error rate. また、ヒューレット−パッカード社製タイム・インターバル・アナライザー(TIA)を用いてジッター測定を行った。 In addition, Hewlett - was jitter measured using the Packard time interval analyzer (TIA). また、トラッキングエラー信号をスペクトラム・アナライザーに入力して、ROM Furthermore, by entering the tracking error signal to a spectrum analyzer, ROM
領域及びRAM領域のC/N(C:キャリヤー、N:ノイズ)を測定した。 Region and the RAM region C / N (C: carrier, N: noise) were measured. また、KENWOOD製ATIPデコーダーを用いて、絶対時間の読み取りエラー率を測定した。 Further, by using the KENWOOD made ATIP decoder was measured read error rate of the absolute time.

【0047】〔実施例2〕実施例1において、ROM領域のプリピット幅を0.70μm、深さを450nm、 [0047] In Example 2 Example 1, 0.70 .mu.m prepits width of ROM area, depth 450 nm,
ウォブリング・プリグルーブ幅を0.60μm、深さを150nmにし、RAM領域のウォブリング・プリグルーブ幅を0.35μm、深さを220nmにすること以外は同様にして媒体を作製し、信号特性評価を行った。 0.60μm wobbling pre-groove width, depth to 150 nm, 0.35 .mu.m a wobbling pre-groove width of the RAM area, except that the depth 220nm was prepared medium in the same manner, the signal characterization went.
作製したサンプルのプリグルーブ部を市販のCDライター(フィリップス社製CDD521)を用いて、EFM The pre-groove portion of the sample was prepared using a commercially available CD writer (Philips CDD521), EFM
信号を記録した。 It was recorded signal. 記録後、実施例1と同様の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反射率と11T After recording, in the same manner as in Example 1, the pre-pit and the reflectance of the pregroove portion after recording the 11T
信号の変調度、エラー率、ジッター、ROM領域及びR Signal modulation, error rate, jitter, ROM region and R
AM領域の再生信号のC/N及びWCNRa、ATER C / N and WCNRa of the reproduced signal of the AM region, ATER
を測定した。 It was measured.

【0048】〔実施例3〕実施例1において、ROM領域のプリピット幅を0.55μm、深さを350nm、 [0048] In Example 3 Example 1, 0.55 .mu.m prepits width of ROM area, depth 350 nm,
ウォブリング・プリグルーブ幅を0.30μm、深さを100nmにし、RAM領域のウォブリング・プリグルーブ幅を0.35μm、深さを200nmにすること以外は同様にして媒体を作製し、信号特性評価を行った。 0.30μm wobbling pre-groove width, depth to 100 nm, 0.35 .mu.m a wobbling pre-groove width of the RAM area, except to 200nm depth is to prepare a medium in the same manner, the signal characterization went.
作製したサンプルのRAM領域を市販のCDライター(フィリップス社製CDD521)を用いて、EFM信号を記録した。 The RAM area of ​​the sample prepared using a commercially available CD writer (Phillips CDD521), EFM signals were recorded. 記録後、実施例1と同様の方法で、RO After recording, in the same manner as in Example 1, RO
M領域及びRAM領域の反射率と11T信号の変調度、 Modulation of the reflectivity and 11T signal M area and the RAM area,
エラー率、ジッター、ROM領域及びRAM領域の再生信号のC/N及びWCNRa、ATERを測定した。 Error rate, jitter, C / N and WCNRa of the reproduced signal in the ROM area and the RAM area, the ATER was measured.

【0049】〔実施例4〕実施例1において、ROM領域のプリピット幅を0.50μm、深さを300nm、 [0049] In Example 4 Example 1, 0.50 .mu.m prepits width of ROM area, depth 300 nm,
ウォブリング・プリグルーブ幅を0.30μm、深さを100nmにし、RAM領域のウォブリング・プリグルーブ幅を0.32μm、深さを170nmにすること以外は同様にして媒体を作製し、信号特性評価を行った。 0.30μm wobbling pre-groove width, depth to 100 nm, 0.32 [mu] m a wobbling pre-groove width of the RAM area, except that the depth 170nm was prepared medium in the same manner, the signal characterization went.
作製したサンプルのRAM領域を市販のCDライター(フィリップス社製CDD521)を用いて、EFM信号を記録した。 The RAM area of ​​the sample prepared using a commercially available CD writer (Phillips CDD521), EFM signals were recorded. 記録後、実施例1と同様の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反射率と11T信号の変調度、エラー率、ジッター、ROM領域及びRA After recording, in the same manner as in Example 1, pre-pits and the modulation of the reflectivity and 11T signal of the pregroove portion after recording, error rate, jitter, ROM region and RA
M領域の再生信号のC/N及びWCNRa、ATERを測定した。 C / N and WCNRa of the reproduced signal of M regions, was measured ATER.

【0050】〔比較例1〕実施例1において、ROM領域のプリピット幅を0.60μm、深さを400nmにし、プリグルーブを設けずにプリピット列を振幅35n [0050] In Comparative Example 1 Example 1, 0.60 .mu.m prepits width of the ROM area, the depth to 400 nm, the amplitude 35n prepit train without providing the pregroove
mでウォブリングさせた。 It was wobbled by m. また、RAM領域のプリグルーブ幅を0.30μm、深さを110nmにすること以外は同様にして媒体を作製し、信号特性評価を行った。 Further, to prepare a medium 0.30μm pregroove width of the RAM area, except that the depth 110nm was similarly subjected to signal characterization.
作製したサンプルのRAM領域を市販のCDライター(フィリップス社製CDD521)を用いて、EFM信号を記録した。 The RAM area of ​​the sample prepared using a commercially available CD writer (Phillips CDD521), EFM signals were recorded. 記録後、実施例1と同様の方法で、RO After recording, in the same manner as in Example 1, RO
M領域及びRAM領域の反射率と11T信号の変調度、 Modulation of the reflectivity and 11T signal M area and the RAM area,
エラー率、ジッター、ROM領域及びRAM領域の再生信号のC/N及びWCNRa、ATERを測定した。 Error rate, jitter, C / N and WCNRa of the reproduced signal in the ROM area and the RAM area, the ATER was measured.

【0051】〔比較例2〕実施例1において、ROM領域のプリピット幅を0.60μm、深さを200nm、 [0051] In Comparative Example 2 Example 1, 0.60 .mu.m prepits width of ROM area, depth 200 nm,
ウォブリング・プリグルーブ幅を0.30μm、深さを100nmにし、RAM領域のウォブリング・プリグルーブ幅を0.40μm、深さを80nmにすること以外は同様にして媒体を作製し、信号特性評価を行った。 0.30μm wobbling pre-groove width, depth to 100 nm, 0.40 .mu.m a wobbling pre-groove width of the RAM area, except to 80nm depth was prepared medium in the same manner, the signal characterization went. 作製したサンプルのRAM領域を市販のCDライター(フィリップス社製CDD521)を用いて、EFM信号を記録した。 The RAM area of ​​the sample prepared using a commercially available CD writer (Phillips CDD521), EFM signals were recorded. 記録後、実施例1と同様の方法で、ROM領域及びRAM領域の反射率と11T信号の変調度、エラー率、ジッター、ROM領域及びRAM領域の再生信号のC/N及びWCNRa、ATERを測定した。 After recording, in the same manner as in Example 1, measuring the modulation of the reflectivity and 11T signal in the ROM area and the RAM area, the error rate, jitter, C / N and WCNRa of the reproduced signal in the ROM area and the RAM area, the ATER did.

【0052】〔比較例3〕実施例1において、ROM領域のプリピット幅を0.60μm、深さを200nmにし、プリグルーブを設けずにプリピット列を振幅35n [0052] In Comparative Example 3 Example 1, 0.60 .mu.m prepits width of the ROM area, the depth to 200 nm, the amplitude 35n prepit train without providing the pregroove
mでウォブリングさせた。 It was wobbled by m. また、RAM領域のプリグルーブ幅を0.35μm、深さを50nmにすること以外は同様にして媒体を作製し、信号特性評価を行った。 Further, to prepare a medium 0.35μm pregroove width of the RAM area, except that the depth 50nm was similarly subjected to signal characterization. 作製したサンプルのRAM領域を市販のCDライター(フィリップス社製CDD521)を用いて、EFM信号を記録した。 The RAM area of ​​the sample prepared using a commercially available CD writer (Phillips CDD521), EFM signals were recorded. 記録後、実施例1と同様の方法で、ROM領域及びRAM領域の反射率と11T信号の変調度、エラー率、ジッター、ROM領域及びRAM領域の再生信号のC/N及びWCNRa、ATERを測定した。 After recording, in the same manner as in Example 1, measuring the modulation of the reflectivity and 11T signal in the ROM area and the RAM area, the error rate, jitter, C / N and WCNRa of the reproduced signal in the ROM area and the RAM area, the ATER did. これらの結果を〔表1〕にまとめた。 It summarizes these results in Table 1.

【0053】 [0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】 [0054]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、予めプリピットが形成されたROM領域と、プリグルーブが形成された追記可能なRAM領域とからなる基板の上に、色素層、反射層、保護層がこの順に設けられている光記録媒体において、前記RAM領域にプリグルーブからなるウォブリング・トラックが略正弦曲線状に形成され、且つ、前記ROM領域には、ウォブリングしていないプリピットのトラック上に重ねて該プリピットよりも浅いプリグルーブからなるウォブリング・トラックが略正弦曲線状に形成されているものとすることにより、さらに、 According to the present invention as described above, according to the present invention, pre-pre-pit is formed ROM region, on a substrate made of an additionally recordable RAM area pregroove is formed, the dye layer, reflective layer, in the optical recording medium in which a protective layer are provided in this order, the wobbling track consisting of a pre-groove in the RAM area is formed in a substantially sinusoidal, and, in the ROM area, the track of the pre-pit which is not wobbling Again the by assumed to be formed in a substantially sinusoidal wobbling track consisting of shallow pregroove than the pre-pit, further,
より好ましくは、該ROM領域のプリピットの半価幅が0.4μm以上0.7μm以下、深さが200nm以上450nm以下にし、プリピット・トラック上に重ねてウォブリング・プリグルーブの半価幅が0.2μm以上0.6μm以下、深さが50nm以上250nm以下にし、該RAM領域のウォブリング・プリグルーブの半価幅を0.3μm以上0.7μm以下、深さが170nm More preferably, the half-width of the pre-pit of the ROM area is 0.4μm or more 0.7μm or less, and within 200nm or 450nm or less depth, the half value width of the wobbling pregroove superimposed on the pre-pit tracks 0. 2μm above 0.6μm or less, the depth is in the 50nm or 250nm or less, 0.7 [mu] m and half width 0.3μm or more wobbling pregroove of the RAM area below the depth 170nm
以上250nm以下にすることにより、オレンジブック規格を満足する良好な信号特性を有するハイブリッドディスクを提供することが可能となる。 By the 250nm inclusive, it is possible to provide a hybrid disk having good signal characteristics satisfying the Orange Book standard.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】光記録媒体の断面構造図 FIG. 1 is a cross-sectional structural diagram of an optical recording medium

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 基板 2 記録層 3 反射層 4 保護層 5 プリグルーブ 6 プリピット 7 プリピット底部 8 プリピット間部 9 プリグルーブ底部 10 プリグルーブ間部 d pプリピットの深さ t pプリピット底部上の色素膜厚 t plプリピット間部上の色素膜厚 δ p反射層3と色素層2の界面におけるプリピットの深さ d gプリグルーブの深さ t gプリグルーブ底部上の色素膜厚 t glプリグルーブ間部上の色素膜厚 δ g反射層3と色素層2の界面におけるプリグルーブの深さ Dye thickness t pl prepits 1 substrate 2 recording layer 3 reflecting layer 4 protective layer 5 the pregroove 6 prepit 7 prepit bottom 8 prepit between 9 pregroove bottom 10 on the depth t p prepit bottom between the pre-groove portions d p prepit the inter above dye film thickness [delta] p reflective layer 3 and the pre-pit at the interface between the dye layer 2 depth d g pregroove depth t g pregroove bottom on the dye film thickness t gl pigment film on the pre-groove between the portions the depth of the pregroove in the interface thickness [delta] g reflective layer 3 and the dye layer 2

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 梅原 英樹 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Hideki Umehara Yokohama-shi, Kanagawa-ku Sakae Kasama-cho, 1190 address Mitsui East pressure chemical within Co., Ltd.

Claims (5)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 予めプリピットが形成されたROM領域と、プリグルーブが形成された追記可能なRAM領域とからなる基板の上に、色素層、反射層、保護層がこの順に設けられている光記録媒体において、前記RAM領域にプリグルーブからなるウォブリング・トラックが略正弦曲線状に形成され、且つ、前記ROM領域には、ウォブリングしていないプリピットのトラック上に重ねて該プリピットよりも浅いプリグルーブからなるウォブリング・トラックが略正弦曲線状に形成されていることを特徴とする光記録媒体。 And 1. A pre-pre-pit is formed ROM region, on a substrate made of an additionally recordable RAM area pregroove is formed, light dye layer, reflective layer, protective layer are provided in this order in the recording medium, the wobbling track consisting of a pre-groove in the RAM area is formed in a substantially sinusoidal, and the ROM in the region, the shallow pre-grooves than the pre-pits superimposed on the track of the pre-pit which is not wobbling optical recording medium comprising a wobbling track consisting of is formed in a substantially sinusoidal.
  2. 【請求項2】 ROM領域のプリピットの半価幅が0. 2. A half-width of the pre-pit in the ROM area is 0.
    4μm以上0.7μm以下、深さが200nm以上45 4μm more than 0.7μm or less, is 200nm or more depth 45
    0nm以下、プリグルーブの半価幅が0.2μm以上0.6μm以下、深さが50nm以上250nm以下であり、RAM領域のプリグルーブの半価幅が0.3μm 0nm below, the half width of the pregroove is 0.2μm or more 0.6μm or less, is not less 50nm or 250nm or less depth, the half width of the pregroove is 0.3μm RAM area
    以上0.7μm以下、深さが170nm以上250nm 0.7μm or less and a depth of more than 170nm 250nm or more
    以下である請求項1記載の光記録媒体。 Less optical recording medium according to claim 1, wherein.
  3. 【請求項3】 ROM領域のプリグルーブのウォブリング・トラックの振幅が25nm以上100nm以下であり、RAM領域のプリグルーブのウォブリング・トラックの振幅が25nm以上100nm以下であることを特徴とする請求項1または2記載の光記録媒体。 Wherein is the amplitude of the wobbling track of the pre-groove in the ROM area is 25nm or 100nm or less, according to claim 1 in which the amplitude of the wobbling track of the pre-groove of the RAM area is equal to or is 25nm or more 100nm or less or 2, wherein the optical recording medium.
  4. 【請求項4】 色素層がフタロシアニン色素よりなる請求項1〜3の何れかに記載の光記録媒体。 4. An optical recording medium according to claim 1 in which the dye layer is formed of a phthalocyanine dye.
  5. 【請求項5】 反射層がAuを主成分とする金属からなる請求項1〜4の何れかに記載の光記録媒体。 5. The optical recording medium according to claim 1, the reflective layer is made of a metal mainly composed of Au.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6167022A (en) * 1996-10-25 2000-12-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical disc having oscillating land and grooves
WO2001018802A1 (en) * 1999-09-08 2001-03-15 Mitsubishi Chemical Corporation Rewritable compact disk and method for manufacturing the same
US6724717B2 (en) * 2000-11-15 2004-04-20 Ricoh Company, Ltd. Optical recording disc
US7236448B2 (en) 2001-09-10 2007-06-26 Ricoh Company, Ltd. Optical information recording medium and information recording method using the recording medium
US7359299B2 (en) 2001-12-06 2008-04-15 Ricoh Company, Ltd. Recording medium and reading system
JP2009104785A (en) * 2009-02-16 2009-05-14 Victor Co Of Japan Ltd Information recording medium, information recording medium reproducing device, information recording medium reproducing method, information recording medium recording device, and information recording medium recording method
JP2009110659A (en) * 2009-01-23 2009-05-21 Victor Co Of Japan Ltd Information recording medium, information recording medium playback device, information recording medium playback method, information recording medium recording device, information recording medium recording method

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6167022A (en) * 1996-10-25 2000-12-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical disc having oscillating land and grooves
WO2001018802A1 (en) * 1999-09-08 2001-03-15 Mitsubishi Chemical Corporation Rewritable compact disk and method for manufacturing the same
US6580678B2 (en) 1999-09-08 2003-06-17 Mitsubishi Chemical Corporation Rewritable compact disk and manufacturing method thereof
US6724717B2 (en) * 2000-11-15 2004-04-20 Ricoh Company, Ltd. Optical recording disc
US7236448B2 (en) 2001-09-10 2007-06-26 Ricoh Company, Ltd. Optical information recording medium and information recording method using the recording medium
US7359299B2 (en) 2001-12-06 2008-04-15 Ricoh Company, Ltd. Recording medium and reading system
JP2009110659A (en) * 2009-01-23 2009-05-21 Victor Co Of Japan Ltd Information recording medium, information recording medium playback device, information recording medium playback method, information recording medium recording device, information recording medium recording method
JP2009104785A (en) * 2009-02-16 2009-05-14 Victor Co Of Japan Ltd Information recording medium, information recording medium reproducing device, information recording medium reproducing method, information recording medium recording device, and information recording medium recording method

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