JPH09120897A - X線管フィラメント加熱回路 - Google Patents
X線管フィラメント加熱回路Info
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- JPH09120897A JPH09120897A JP30047195A JP30047195A JPH09120897A JP H09120897 A JPH09120897 A JP H09120897A JP 30047195 A JP30047195 A JP 30047195A JP 30047195 A JP30047195 A JP 30047195A JP H09120897 A JPH09120897 A JP H09120897A
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Abstract
ることで,X線管電流の調整時に経験や熟練した技術を
必要せず,しかも調整を容易にすることができるX線管
フィラメント加熱回路を提供することにある。 【解決手段】直流電圧源,インバータ,フィラメント加
熱変圧器から成るX線管フィラメント加熱回路におい
て,X線管電流検出値,フィラメント電流検出値,X線
管電流目標値,フィラメント加熱条件データの各データ
をディジタルデータとしてディジタル回路部に取り込
み,各々の目標値と検出値との差分をとり,差分が零に
なるように修正データを作り,インバータの動作を制御
する。ディジタル回路部,若しくはその外部にはX線管
電流値とその時のフィラメント加熱条件データをもとに
各X線管電流値におけるフィラメント加熱条件データを
生成するフィラメント加熱条件データ生成部をもたせる
ことで,X線管電流の調整を容易にできる。
Description
X線管電流の調整に係わり,特に調整を容易にできるX
線管フィラメント加熱回路に関する。
高温に加熱した陰極であるフィラメントから放出した熱
電子が陽極に衝突することにより得られる。前記フィラ
メントを高温に加熱し,X線管電流を制御する電源回路
がX線管フィラメント加熱回路である。フィラメントの
温度はフィラメントに流れる電流にて制御している。つ
まり,X線管電流はフィラメント電流を制御すること
で,変化させることができる。
ータを用いて、商用電源より高周波の交流電流を用いる
のが主であり,前記インバータに与えるフィラメント加
熱条件データを変化させることで,X線管電流を変化さ
せる。前記フィラメント加熱条件データは,X線管電流
値と一対一の対応関係にあり,フィラメント加熱条件デ
ータの数はX線装置の種類により多少異なるが,50点
程度あり,実際にX線を曝射してフィラメント加熱条件
データを1つ1つ求めて,X線管電流を調整する方法が
とられている。
ためには,実際にX線を曝射しなければならず,しか
も,その調整点数が50点程度と非常に多い。また,X
線管電流の調整には指標がなく,実際に調整する場合は
経験と熟練した技術を必要としている。
て調整点を大幅に低減し,しかも,調整時に経験と熟練
した技術を必要とせずに,容易にX線管電流の調整が可
能なフィラメント加熱回路を提供することにある。
め,本発明では,直流電圧源と,該直流電圧源に接続さ
れた高周波の交流電流に変換するインバータと,該イン
バータの出力部に接続され,且つ低電位側(1次側)の
前記インバータと高電位側(2次側)のX線管のフィラ
メントとを絶縁し,前記X線管フィラメントに加熱電圧
を供給するためのフィラメント加熱変圧器とを含むX線
管フィラメント加熱回路において,前記X線管に流れる
X線管電流を検出する手段と,前記X線管電流検出手段
の出力をA/D変換する第1のA/D変換手段と,前記X線管
フィラメントに流れるフィラメント電流を検出する手段
と,前記フィラメント電流検出手段の出力をA/D変換す
る第2のA/D変換手段と,外部から入力されたX線管電
流の目標値データとX線管フィラメントの加熱条件デー
タと第1のA/D変換手段からのX線管電流検出値データ
と第2のA/D変換手段からのフィラメント電流検出値デ
ータとをディジタルデータとして取り込み,前記X線管
電流の目標値及びX線管フィラメントの加熱条件データ
と,X線管電流検出値及びフィラメント電流検出値との
比較を行い,フィラメント電流を変更するための修正デ
ータを出力するディジタル回路により構成された制御回
路部と,制御回路部の修正データに基づき前記インバー
タの出力電流を変更するインバータ制御手段とを具備す
るものである。(請求項1)
ンバータとの間に直流電圧調整回路を具備し,前記イン
バータ制御手段が前記制御回路部の修正データに基づき
前記直流電圧調整回路のデューティー若しくは周波数を
制御して前記インバータの出力電圧を変更するものであ
る。(請求項2)
X線管電流の目標値と前記X線管電流検出値との差分を
とり,該差分値を零にするための第1の補正値を出力す
るX線管電流フィードバック制御手段と,前記X線管フ
ィラメントの加熱条件データと前記フィラメント電流検
出値との差分をとり,該差分値を零にするための第2の
補正値を出力するフィラメント電流フィードバック制御
手段とを具備するものである。(請求項3)
より入力した最小X線管電流の目標値とこれに対応する
フィラメント加熱条件データ,及び最大X線管電流の目
標値とこれに対応するフィラメント加熱条件データに基
づき,前記最小X線管電流の目標値と前記最大X線管電
流の目標値との間の各X線管電流に対応するフィラメン
ト加熱条件データを生成する手段を具備するものであ
る。(請求項4)
件データ生成手段により生成された各X線管電流のフィ
ラメント加熱条件データを制御回路部の外部,若しくは
内部に格納する格納手段を具備するものである。(請求
項5)
線管電流の目標値とこれに対応するフィラメント加熱条
件データ,及び最大X線管電流の目標値とこれに対応す
るフィラメント加熱条件データの他に,前記最小X線管
電流の目標値と前記最大X線管電流の目標値との間にあ
るX線管電流値とそれに対応するフィラメント加熱条件
データの1つ以上を外部より入力し,該入力値より各X
線管電流に対応するフィラメント加熱条件データを生成
する手段を具備するものである。(請求項6)
グ回路により構成され,外部に設けたCPU等のディジタ
ル回路により生成されたフィラメント加熱条件データ,
若しくは外部に設けたフィラメント加熱条件データを格
納した格納手段内のフィラメント加熱条件データをアナ
ログ値に変換するD/A変換手段を具備するものである。
(請求項7)
を関数により求めることで,X線管電流の調整時に経験
や熟練した技術を必要せず,しかも調整を容易にするこ
とが可能となる。
に基づいて詳細に説明する。 (実施例1)図1は,本発明によるX線管フィラメント
加熱回路の第1の実施例を示す図である。フィラメント
加熱回路は,X線管の陰極であるフィラメントを高温に
加熱し,陽極であるターゲットに衝突する熱電子を放出
させると共に,その熱電子電流を制御する電源回路であ
る。
で,例えば商用交流電圧源とダイオードブリッジ整流回
路との組み合わせによって構成されている。インバータ
2は,直流電圧源1の出力電圧を高周波の交流電圧に変
換するもので,MOS型の電界効果トランジスタ(以下,M
OSFETと略す)からなるスイッチング素子3a〜3dをブ
リッジ状に組み合わせたものである。また,スイッチン
グ素子3a〜3d に対応してフライホイールダイオード
4a〜4dがそれぞれ内蔵されている。
圧は,共振用コンデンサ5の静電容量とフィラメント加
熱変圧器6の1次漏れインダクタンス7と高電圧ケーブ
ル9の1次側に換算したインダクタンス8で構成された
共振回路に出力されるため,その電流は正弦波状の交流
電流となる。前記共振回路により,フィラメント加熱変
圧器6の1次側漏れインダクタンス7と高電圧ケーブル
9のインダクタンス8は打ち消され,1次側漏れインダ
クタンス7によるフィラメント電流の立ち遅れを低減す
ると共に,十分なフィラメント電流を供給することがで
きる。
えるフィラメント加熱条件データ12にて制御してい
る。フィラメント加熱条件データ12は加算器A19に
入力される。電流センサ20にて検出された交流のフィ
ラメント電流を交流―実効値変換回路21にて実効値に
変換され,A/D変換器A22にてディジタル値に変換され
た後,ディジタル回路部23に入力され,加算器A19
にて前記フィラメント加熱条件データ12との差分がと
られる。
バック部24に入力され,係数を乗じた後にフィラメン
ト加熱条件データ12との和がとられ,新しいフィラメ
ント加熱条件データとして出力される。この新しいフィ
ラメント加熱条件データは前記差分値で補正されたもの
であり、前記差分値が零になるように補正が行われてい
る。上記の新しいフィラメント加熱条件データはD/A変
換器25に入力され,インバータ2の制御量に相当する
幅をもつパルス状の信号φに変換される。
号生成部26にてインバータ2の各スイッチング素子3
a〜3dの駆動信号に変換され,ゲート駆動回路27にて
絶縁,増幅等を施された後,インバータ2の各スイッチ
ング素子3a〜3dに入力され,インバータ2の出力電圧
の位相を制御し,これによってインバータ2の出力電
圧,即ち出力電流を制御するフィラメント電流フィード
バックが行われる。
は,フィラメント加熱回路のインバータ2における直流
電圧源1の時間的変動を補償するものである。これに対
し,X線の曝射中にX線管電流が変動するのを補償する
ためには,X線管電流フィードバックを必要とする。
信号28がディジタル回路部23内のX線管電流フィー
ドバック部29に入力される。この信号28を受けて,
操作卓等から供給される目標X線管電流値13と,X線
管電流の検出値をA/D変換器B30にてディジタル値に変
換した実X線管電流値とが,ディジタル回路部23の加
算器B31に入力され,両者の差分がとられる。この差
分はX線管電流フィードバック部29に入力され,ここ
で差分に係数を乗じた後出力する。この出力値はフィラ
メント加熱条件データをX線管電流の差分値で補正する
ためのもので,加算器A19においてはX線管電流の差
分値が零になるように加算補正が行われる。X線管電流
フィードバック部29の出力は加算器A19に入力さ
れ,ここでフィラメント電流の実効値,フィラメント加
熱条件データ12と加減算を行い,その結果をフィラメ
ント電流フィードバック部24に入力する。それ以降の
インバータ2の制御は上述のフィラメント加熱条件デー
タ12の制御の場合と同様に行われる。
にフィラメント加熱条件データ生成部18を含ませてい
る。フィラメント加熱条件データ生成部18は各X線管
電流におけるフィラメント加熱条件データを生成するた
めのもので,構成としては図2の如くなっている。フィ
ラメント加熱条件データ生成部18には,最小X線管電
流値14,そのときのフィラメント加熱条件データであ
る最小フィラメント加熱条件データ15,最大X線管電
流値16,そのときのフィラメント加熱条件データであ
る最大フィラメント加熱条件データ17を入力する。前
記4つのデータをもとに,その装置のX線管電流値とフ
ィラメント加熱条件データの関係を示す関数をフィラメ
ント加熱条件データ生成部18で生成する。
タの間には図3(a)に示す関係があり,上記4つのデ
ータより図3(b)に示す関数を生成する。ここで操作
卓等より入力された目標X線管電流値13に対応するフ
ィラメント加熱条件データ12を出力し,これは,ディ
ジタル回路部23に入力される。それ以降は上述のフィ
ラメント加熱条件データ12の制御の場合と同様に行わ
れる。
値13が入力された場合には,フィラメント加熱条件デ
ータ生成部18は新たに入力された目標X線管電流値1
3に対応した新しいフィラメント加熱条件データ12を
出力する。このようにして,各X線管電流値におけるフ
ィラメント加熱条件データを入力することなくX線管電
流を調整することが可能となる。
例を示す。本実施例では,第1の実施例と比して直流電
圧源1とインバータ2との間に直流電圧調整回路32と
電圧平滑用コンデンサ33を挿入したこと,ゲート駆動
回路27の出力を直流電圧調整回路32に入力したこと
が異なる。この場合,ディジタル回路部23にてX線管
電流フィードバック及びフィラメント電流フィードバッ
クの各々の制御を受けたパルス状の信号φは直流電圧調
整回路32に含まれるチョッパーのデューティー又は周
波数(動作頻度)を変化させ,それにより平滑用コンデ
ンサ33の電圧値を調整し,インバータ2の出力電流を
変化させる。前記のチョッパーの制御としては、信号φ
に基づき,動作頻度一定でON時間を制御するとか,O
N時間を一定にして動作頻度を制御するとかして行うこ
とができる。
例の要部ブロック図を示す。本実施例はフィラメント加
熱条件データ生成部18の構成に特徴がある。第1及び
第2の実施例ではフィラメント加熱条件データ生成部1
8では最小X線管電流値14,最小フィラメント加熱条
件データ15,最大X線管電流値16,最大フィラメン
ト加熱条件データ17により,X線管電流値とフィラメ
ント加熱条件データの関数を構成し,外部より入力され
た任意の目標X線管電流値13をもとにフィラメント加
熱条件データを計算し,フィラメント加熱条件データを
出力していたが,本実施例ではフィラメント加熱条件デ
ータ生成部18で構成した関数をもとに各X線管電流値
におけるフィラメント加熱条件データをあらかじめ計算
しておき,その結果をフィラメント加熱条件データ格納
部34に入力しておく。外部より入力された任意の目標
X線管電流値13はフィラメント加熱条件データ格納部
34に入力され,それに対応するフィラメント加熱条件
データ12を出力する。
例の要部ブロック図を示す。本実施例も第3の実施例と
同様フィラメント加熱条件データ生成部18に特徴があ
る。本実施例では図6に示すように,フィラメント加熱
条件データ生成部18に最小X線管電流値14,最小フ
ィラメント加熱条件データ15,最大X線管電流値1
6,最大フィラメント加熱条件データ17の他に任意の
X線管電流値35とそのときのフィラメント加熱条件デ
ータ36を入力する。これらは1つないし,それ以上を
入力するとして,入力する数値はすくなくとも,最小X
線管電流値14,最小フィラメント加熱条件データ15
以上,最大X線管電流値16,最大フィラメント加熱条
件データ17以下とする。
て,スイッチング素子にはMOSFETを用い,フィラメント
電流フィードバック部,X線管電流フィードバック部に
はディジタル回路を用いたが,インバータ方式は共振型
に限らず,スイッチング素子にはバイポーラトランジス
タ,IGBT等の使用が可能で,フィラメント電流フィード
バック部,X線管電流フィードバック部はOPアンプ等の
アナログ回路でも実現が可能である。
フィラメント加熱条件データを関数により求めること
で,X線管電流の調整時に経験や熟練した技術を必要せ
ず,しかも調整を容易にすることが可能となる。
示す回路図。
生成部を示す図。
関係を示す図。
生成部を示す図。
生成部を示す図。
生成部を示す図。
Claims (7)
- 【請求項1】直流電圧源と,該直流電圧源に接続された
高周波の交流電流に変換するインバータと,該インバー
タの出力部に接続され,且つ低電位側(1次側)の前記
インバータと高電位側(2次側)のX線管のフィラメン
トとを絶縁し,前記X線管フィラメントに加熱電圧を供
給するためのフィラメント加熱変圧器とを含むX線管フ
ィラメント加熱回路において,前記X線管に流れるX線
管電流を検出する手段と,前記X線管電流検出手段の出
力をA/D変換する第1のA/D変換手段と,前記X線管フィ
ラメントに流れるフィラメント電流を検出する手段と,
前記フィラメント電流検出手段の出力をA/D変換する第
2のA/D変換手段と,外部から入力されたX線管電流の
目標値データとX線管フィラメントの加熱条件データと
第1のA/D変換手段からのX線管電流検出値データと第
2のA/D変換手段からのフィラメント電流検出値データ
とをディジタルデータとして取り込み,前記X線管電流
の目標値及びX線管フィラメントの加熱条件データと,
X線管電流検出値及びフィラメント電流検出値との比較
を行い,フィラメント電流を変更するための修正データ
を出力するディジタル回路により構成された制御回路部
と,制御回路部の修正データに基づき前記インバータの
出力電流を変更するインバータ制御手段とを具備するこ
とを特徴とするX線管フィラメント加熱回路。 - 【請求項2】請求項1記載のX線管フィラメント加熱回
路において,前記直流電圧源と前記インバータとの間に
直流電圧調整回路を具備し,前記インバータ制御手段が
前記制御回路部の修正データに基づき前記直流電圧調整
回路のデューティー若しくは周波数を制御して前記イン
バータの出力電圧を変更することを特徴とするX線管フ
ィラメント加熱回路。 - 【請求項3】請求項1及び2記載のX線管フィラメント
加熱回路において,前記制御回路部が,前記X線管電流
の目標値と前記X線管電流検出値との差分をとり,該差
分値を零にするための第1の補正値を出力するX線管電
流フィードバック制御手段と,前記X線管フィラメント
の加熱条件データと前記フィラメント電流検出値との差
分をとり,該差分値を零にするための第2の補正値を出
力するフィラメント電流フィードバック制御手段とを具
備することを特徴とするX線管フィラメント加熱回路。 - 【請求項4】請求項3記載のX線管フィラメント加熱回
路において,前記制御回路部が,外部より入力した最小
X線管電流の目標値とこれに対応するフィラメント加熱
条件データ,及び最大X線管電流の目標値とこれに対応
するフィラメント加熱条件データに基づき,前記最小X
線管電流の目標値と前記最大X線管電流の目標値との間
の各X線管電流に対応するフィラメント加熱条件データ
を生成する手段を具備することを特徴とするX線管フィ
ラメント加熱回路。 - 【請求項5】請求項4記載のX線管フィラメント加熱回
路において,前記フィラメント加熱条件データ生成手段
により生成された各X線管電流に対応するフィラメント
加熱条件データを制御回路部の外部,若しくは内部に格
納する格納手段を具備することを特徴とするX線管フィ
ラメント加熱回路。 - 【請求項6】請求項4記載のX線管フィラメント加熱回
路において,前記制御回路部が,最小X線管電流の目標
値とこれに対応するフィラメント加熱条件データ,及び
最大X線管電流の目標値とこれに対応するフィラメント
加熱条件データの他に,前記最小X線管電流の目標値と
前記最大X線管電流の目標値との間にあるX線管電流値
とそれに対応するフィラメント加熱条件データの1つ以
上を外部より入力し,該入力値より各X線管電流におけ
るフィラメント加熱条件データを生成する手段を具備す
ることを特徴とするX線管フィラメント加熱回路。 - 【請求項7】請求項1〜6記載のX線管フィラメント加
熱回路において,前記制御回路部がアナログ回路により
構成され,外部に設けたCPU等のディジタル回路により
生成されたフィラメント加熱条件データ,若しくは外部
に設けたフィラメント加熱条件データを格納した格納手
段内のフィラメント加熱条件データをアナログ値に変換
するD/A変換手段を具備することを特徴とするX線管フ
ィラメント加熱回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30047195A JP3678818B2 (ja) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | X線管フィラメント加熱回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30047195A JP3678818B2 (ja) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | X線管フィラメント加熱回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09120897A true JPH09120897A (ja) | 1997-05-06 |
JP3678818B2 JP3678818B2 (ja) | 2005-08-03 |
Family
ID=17885199
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP30047195A Expired - Fee Related JP3678818B2 (ja) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | X線管フィラメント加熱回路 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP3678818B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006120544A (ja) * | 2004-10-25 | 2006-05-11 | Hitachi Medical Corp | X線管のフィラメント加熱装置 |
JP2011124107A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Shimadzu Corp | X線撮影装置およびx線撮影装置におけるフィラメント加熱電流の制御方法 |
JP2019203739A (ja) * | 2018-05-22 | 2019-11-28 | 株式会社島津製作所 | エネルギー分散型蛍光x線分析装置 |
-
1995
- 1995-10-26 JP JP30047195A patent/JP3678818B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2011124107A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Shimadzu Corp | X線撮影装置およびx線撮影装置におけるフィラメント加熱電流の制御方法 |
JP2019203739A (ja) * | 2018-05-22 | 2019-11-28 | 株式会社島津製作所 | エネルギー分散型蛍光x線分析装置 |
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