JPH0883866A - 片面樹脂封止型半導体装置の製造方法及びこれに用いるキャリアフレーム - Google Patents

片面樹脂封止型半導体装置の製造方法及びこれに用いるキャリアフレーム

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JPH0883866A
JPH0883866A JP7056861A JP5686195A JPH0883866A JP H0883866 A JPH0883866 A JP H0883866A JP 7056861 A JP7056861 A JP 7056861A JP 5686195 A JP5686195 A JP 5686195A JP H0883866 A JPH0883866 A JP H0883866A
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Masakuni Tokida
政邦 常田
Mitsutoshi Azuma
光敏 東
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 片面樹脂封止型半導体装置の製造コストの低
減化を図り、既存設備を利用して効率的な製造を可能に
する。 【構成】 両面に配線パターンを設けた回路基板10の
半導体素子搭載面側に半導体素子20を搭載し、半導体
素子搭載部を樹脂封止した後、他面側の配線パターンに
はんだボール30等の外部接続端子を接合して半導体装
置とする片面樹脂封止型半導体装置の製造方法におい
て、個片に形成した回路基板10を、貫通孔13が形成
された矩形状のキャリアフレーム12の前記貫通孔に対
応して位置決めして配置し、前記回路基板10を前記キ
ャリアフレーム12に支持して搬送し、半導体素子の搭
載、半導体素子と配線パターンとの電気的接続、半導体
素子搭載部の樹脂封止、配線パターンと外部接続端子と
の接合等の所要の一連の加工を施すことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はBGA(Ball Grid Arra
y)等、回路基板を用いた片面樹脂封止型半導体装置の製
造方法及びこれに用いるキャリアフレームに関する。
【0002】
【従来の技術】BGAはプリント基板上に半導体素子を
搭載し、半導体素子を搭載した片面を樹脂封止した後、
基板の裏面にはんだボールを取り付けて製品とする。従
来のBGAの製造にあっては、両面に所定の配線パター
ンを設けた大判のプリント基板を図23に示すように短
冊状に切断し、この短冊状に形成したプリント基板5を
半導体素子の搭載、ワイヤボンディング、樹脂封止、は
んだボールの接合等の各工程に搬送して製品を製造して
いる。7が樹脂封止部である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のように短冊状に
形成したプリント基板を各工程に搬送してBGAを製造
する方法は、通常のリードフレームを用いる半導体装置
の製造装置が利用できるという利点があるが、図23に
示すように短冊状のプリント基板5を使用した場合は、
プリント基板の無駄部分が多くなるという問題点があ
る。すなわち、図23でA線は短冊状のプリント基板5
を切断して最終的に製品となる位置を示すが、図のよう
に、プリント基板5を短冊状に形成した関係上、製品で
必要とするよりも大きなプリント基板5を用意しなけれ
ばならない。
【0004】短冊状のプリント基板5を用いてBGAを
製造する場合は、プリント基板5に半導体素子6を搭載
して樹脂モールドし、プリント基板5の裏面にはんだボ
ールなどの外部接続端子を接合した後、図のA線で切断
して製品とするから、切断位置よりも外側部分は製品に
使用されない部分であり、短冊状のプリント基板5の周
縁部分の材料が無駄になる。また、大判のプリント基板
から短冊状のプリント基板を作成する際にもプリント基
板の切り代を取る必要があることから、この加工の際に
もプリント基板の材料が無駄になっていた。
【0005】このような基板材料の無駄をなくす方法と
しては、基板を製品サイズの個片に分離して形成し、個
片を一つずつ搬送して半導体素子の搭載や樹脂モールド
を行うことが考えられる。しかしながら、個片にしたプ
リント基板を取り扱うのは煩雑であり、リードフレーム
を用いた通常の半導体装置の製造に使用する設備が使用
できないといった問題点があった。そこで、本発明はこ
れら問題点を解消すべくなされたものであり、その目的
とするところは、プリント基板の製造コストの無駄を省
くことができ、かつ既存の設備をそのまま利用して半導
体素子の搭載やワイヤボンディング、樹脂封止といった
処理を効率的に行うことを可能にする片面樹脂封止型半
導体装置の製造方法及びこれに用いるキャリアフレーム
を提供するにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、次の構成を備える。すなわち、両面に配線パ
ターンを設けた回路基板の半導体素子搭載面側に半導体
素子を搭載し、半導体素子搭載部を樹脂封止した後、他
面側の配線パターンにはんだボール等の外部接続端子を
接合して半導体装置とする片面樹脂封止型半導体装置の
製造方法において、個片に形成した回路基板を、貫通孔
が形成された矩形状のキャリアフレームの前記貫通孔に
対応して位置決めして配置し、前記回路基板を前記キャ
リアフレームに支持して搬送し、半導体素子の搭載、半
導体素子と配線パターンとの電気的接続、半導体素子搭
載部の樹脂封止、配線パターンと外部接続端子との接合
等の所要の一連の加工を施すことを特徴とする。また、
前記貫通孔が所定の間隔で複数形成されたキャリアフレ
ームの下面に、両面に配線パターンが設けられた個片の
回路基板を、該回路基板の半導体素子搭載面を前記貫通
孔内に露出させ、かつ該半導体素子搭載面側の周縁部を
前記キャリアフレームと当接させて複数個支持し、前記
半導体素子搭載面に半導体素子を搭載し、該半導体素子
と配線パターンとを電気的に接続した後、前記貫通孔の
領域内で半導体素子搭載部を樹脂封止し、前記回路基板
の他面側に設けられた配線パターンと外部接続端子とを
接合することを含むことを特徴とする。また、半導体素
子搭載面に半導体素子を搭載し、該半導体素子と配線パ
ターンとを電気的に接続した後、キャリアフレームの上
下面を反転して半導体素子搭載部の樹脂封止および配線
パターンと外部接続端子との接合を行うことを特徴とす
る。また、前記貫通孔の領域内で半導体素子搭載部を樹
脂封止した後、キャリアフレームの上下面を反転して配
線パターンと外部接続端子との接合を行うことを特徴と
する。また、前記半導体素子搭載部の樹脂封止は、樹脂
成形あるいはポッティング等の樹脂コーティングによる
ことを特徴とする。また、前記キャリアフレームの回路
基板が当接する面側で、かつ前記キャリアフレームに形
成した貫通孔から前記回路基板の側面が位置する部位に
まで延出して設けた溝に、半導体素子搭載部を封止する
樹脂を流入させ、前記半導体素子搭載部の封止と同時に
前記回路基板の側面を樹脂封止することを特徴とする。
また、前記貫通孔が所定の間隔で複数形成されたキャリ
アフレームの上面に、両面に配線パターンが設けられた
個片の回路基板を、配線パターンと外部接続端子との接
合面を前記貫通孔内に露出させ、かつ、該接合面側の周
縁部を前記キャリアフレームと当接させて複数個支持
し、前記回路基板の他面側に設けられた半導体素子搭載
面に半導体素子を搭載し、該半導体素子と配線パターン
とを電気的に接続した後、半導体素子搭載部を樹脂封止
し、前記接合面の配線パターンに外部接続端子を接合す
ることを含むことを特徴とする。また、半導体素子搭載
面に半導体素子を搭載し、該半導体素子と配線パターン
とを電気的に接続した後、キャリアフレームの上下面を
反転して半導体素子搭載部の樹脂封止および配線パター
ンと外部接続端子との接合を行うことを特徴とする。ま
た、半導体素子搭載部を樹脂封止した後、キャリアフレ
ームの上下面を反転して配線パターンと外部接続端子と
の接合を行うことを特徴とする。また、半導体素子搭載
部の樹脂封止は、樹脂成形あるいはポッティング等の樹
脂コーティングによることを特徴とする。
【0007】個片に形成され両面に配線パターンが設け
られた回路基板を支持して、半導体素子の搭載、半導体
素子と配線パターンとの電気的接続、半導体素子搭載部
の樹脂封止、配線パターンと外部接続端子との接合等の
所要の一連の加工を施す際に共通して使用するキャリア
フレームであって、前記回路基板を一方の面に支持可能
に矩形状に形成され、前記回路基板の半導体素子搭載面
または外部接続端子の接合面が他方の面に露出するよう
に、該回路基板を配置する位置に所定形状の貫通孔が設
けられ、該貫通孔の周囲に、前記回路基板を所定位置に
位置決めして支持する支持手段が設けられたことを特徴
とする。また、前記貫通孔の周囲の少なくとも前記回路
基板を当接する部位に弾性体層が設けられたことを特徴
とし、前記貫通孔が所定の間隔で複数形成されたことを
特徴とする。また、前記支持手段は前記貫通孔の周囲の
前記回路基板を当接する部位に設けた接着層であること
を特徴とする。また、前記支持手段が、キャリアフレー
ムを形成する板材を切り起こして形成され、前記回路基
板の側面に当接して回路基板をキャリアフレームに位置
決めするための係止片と、該係止片との間で回路基板を
挟圧しキャリアフレームに押接する係止部とから成るこ
とを特徴とする。また、前記係止部が、キャリアフレー
ムを形成する板材を切り起こして形成した立ち上がり片
部と、該立ち上がり片部の端部に設けられ、前記回路基
板を押接可能に押接面を斜めに曲げ形成した押圧片部と
から形成されたものであることを特徴とする。また、前
記係止片が、先端をやや外開き状に形成するとともに、
回路基板の厚みに合わせて係止可能に中間にくびれ部を
設けたものであることを特徴とする。
【0008】
【作用】本発明に係る片面樹脂封止型半導体装置の製造
方法では、所定形状の貫通孔が形成されたキャリアフレ
ームに、製品寸法の個片に形成した回路基板を貫通孔に
対応させて配置し、キャリアフレームごと回路基板を各
工程に搬送して半導体素子の搭載、ワイヤボンディン
グ、樹脂封止といった所要の加工を施すことを特徴とす
る。回路基板には半導体素子搭載面と外部接続端子を接
合するための配線パターンが設けられ、回路基板をキャ
リアフレームに支持した状態で半導体素子の搭載、ワイ
ヤボンディング、樹脂封止、外部接続端子の接合が可能
である。キャリアフレームは個片の回路基板を複数個支
持可能に短冊状に形成され、支持手段によってキャリア
フレームに位置決めして支持される。係止片、係止部に
よって回路基板をキャリアフレームに係止することによ
ってキャリアフレームを上下反転等して回路基板を搬送
して加工することができる。
【0009】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例を添付図面に基
づいて詳細に説明する。図1は片面樹脂封止型半導体装
置の製造方法の実施例としてBGAのアセンブリ工程を
示す。図はBGAの本体である回路基板10に半導体素
子20を搭載し、ワイヤボンディングした後、樹脂封止
し、はんだボール30を接合してBGA製品とする一連
の工程を示す。実施例はあらかじめ製品寸法に合わせた
個片の回路基板10を使用し、この回路基板10を複数
個キャリアフレーム12に配置し、キャリアフレーム1
2ごと各工程に搬送して所要の加工を施すものである。
キャリアフレーム12は鉄系の金属や耐熱性樹脂などで
形成されている。
【0010】回路基板10は一方の面に半導体素子搭載
面10aと搭載した半導体素子とワイヤボンディングす
る配線パターンが設けられ他方の面に外部接続端子を接
合する配線パターンが設けられているから、キャリアフ
レーム12に回路基板10を取り付けた状態で所要の加
工を施すことができるようキャリアフレーム12の回路
基板10を配置する部位に加工用の貫通孔13を設け
る。回路基板10はキャリアフレーム12の上側にも下
側にも取り付けて加工できるが、図1に示す実施例はキ
ャリアフレーム12の下面に回路基板10を支持して加
工する例である。この場合、回路基板10は半導体素子
搭載面10a側を当接面としてキャリアフレーム12に
取り付ける。
【0011】図4に回路基板10をキャリアフレーム1
2で支持した状態を示す。図示例ではキャリアフレーム
12に回路基板10を3枚支持し、回路基板10の配置
位置に各々矩形の貫通孔13を設けている。なお、実施
例の貫通孔13は半導体素子搭載面10aに半導体素子
20を搭載し、半導体素子20と配線パターンとをワイ
ヤボンディングにより電気的に接続するためであると同
時に、半導体素子20を樹脂封止する際の樹脂封止領域
を規定する作用を有する。
【0012】図5はキャリアフレーム12に回路基板1
0を位置決めして支持する支持手段を説明するための説
明図、図6は支持手段の平面配置を示す説明図である。
実施例のキャリアフレーム12は図6に示すように支持
手段として回路基板10の3辺を支持するための係止片
14と回路基板10の残りの1辺を支持する係止部16
とを有する。図5に示すように係止片14はキャリアフ
レーム12を形成する板材を切り起こして形成し、先端
をやや外開き状にして回路基板10を配置しやすくする
とともに、回路基板10の厚みに合わせて中間にわずか
なくびれ部を形成して回路基板10をキャリアフレーム
12に係止しやすくしている。係止片14は回路基板1
0を係止する作用とキャリアフレーム12に位置決めす
る作用をなす。
【0013】また、係止部16は係止片14と同様にキ
ャリアフレーム12を形成する板材を切り起こして形成
するもので、板材を切り起こした立ち上がり片部16a
と立ち上がり片部16aの端部に設けた押圧片部16b
から成る。押圧片部16bは回路基板10をキャリアフ
レーム12に押さえ付けるようにして支持する作用をな
す。図6に示すように押圧片部16bは立ち上がり片部
16aの両側に一つずつ配置し、回路基板10の取り付
け、取り外しが容易にできるように回路基板10を押接
する面側を外方に斜めに曲げて形成している。なお、1
8は加工の際にキャリアフレーム12を定寸送りし、か
つ装置に位置決めするためのパイロット孔である。
【0014】次に、図1に示すBGAの製造工程につい
て説明する。図1(a) は上述した支持手段により回路基
板10の半導体素子搭載面10aを当接面側にしてキャ
リアフレーム12に回路基板10を位置決めして支持し
た状態で、半導体素子20を半導体素子搭載面10aに
ダイ付けする工程を示す。ダイ付け工程では回路基板1
0の下面にヒータブロック22を当接し、ダイ付け部を
加熱しAu−Si共晶接合、はんだ接合などで行う。な
お、常温で熱硬化性樹脂によりダイ付けしてもよい。
【0015】次いで、図1(b) に示すように半導体素子
20と配線パターンとをワイヤボンディングにより電気
的に接続する。24はワイヤボンディング用のボンダー
である。なお、半導体素子20と回路基板10の配線パ
ターンとの電気的接続はワイヤボンディングに限るもの
ではなく、TABテープを使用する方法、フリップチッ
プ法による方法等が可能である。
【0016】次に、樹脂封止工程において半導体素子2
0を樹脂封止する。図1(c) はモールド金型26a、2
6bにより回路基板10およびキャリアフレーム12を
クランプして樹脂封止する様子を示す。樹脂封止操作は
半導体素子20を搭載した回路基板10の片面側につい
て行うから、上型側のモールド金型26aにキャビティ
凹部を形成し、キャリアフレーム12の上面にランナー
路28を配置してキャビティに樹脂を充填する。図1
(c) に示すようにモールド金型26aで回路基板10を
クランプして樹脂を充填すると、樹脂はモールド金型2
6aに設けたキャビティ凹部とキャリアフレーム12の
貫通孔13部分(キャリアフレーム12の厚み分)に充
填されて樹脂成形される。
【0017】なお、回路基板10は後工程でキャリアフ
レーム12から取り外すから、樹脂封止する際の樹脂成
形範囲は貫通孔13の領域よりも大きくならないように
モールド金型26aを設計する必要がある。本実施例の
ように回路基板10をキャリアフレーム12の下側に配
置して樹脂モールドする方法による場合は、図1(c)に
示すようにランナー路28がキャリアフレーム12に付
着するだけで、回路基板10に樹脂を付着させずに樹脂
封止できるという利点がある。
【0018】樹脂封止した後、図1(d) に示すように回
路基板10の下面に実装基板などと接続する外部接続端
子としてはんだボール30を取り付ける。回路基板10
は支持手段によってキャリアフレーム12に弾性的に支
持しているだけであるからキャリアフレーム12から簡
単に取り外すことができて単体のBGA製品として得ら
れる。29が樹脂封止部である。なお、BGAの場合は
外部接続端子としてはんだボールを使用するが、片面樹
脂封止型半導体装置としてはんだボールの他にリードピ
ン等を外部接続端子として使用することが可能である。
【0019】また、一般に片面樹脂封止型半導体装置に
用いられる回路基板10にはプリント基板が使用され、
その性質上吸水性や吸湿性がセラミックパッケージなど
より高く、回路基板10の側面が露出していることによ
って側面部分から吸湿されやすく、これが問題となるこ
とがある。これを防止する方法として、図2、3に示す
ように、キャリアフレーム12として回路基板10を支
持する面上に貫通孔13のコーナー部から回路基板10
の縁部にまで通じる溝15を形成したものを使用し、下
型側のモールド金型26bとしては回路基板10をセッ
トするセット凹部の寸法を回路基板10の外形寸法より
も若干大きく形成したものを使用することによって、樹
脂封止時に溝15からモールド金型26bのセット凹部
の側壁と回路基板10の側面との間に樹脂が回り込むよ
うにして樹脂封止するとよい。
【0020】この樹脂封止方法によれば回路基板10の
側面全体が樹脂によって封止されることにより、回路基
板10の側面からの吸水性、吸湿性を防止することがで
きる。なお、キャリアフレーム12に設ける溝15は回
路基板10の側面に樹脂を回り込ませるようにするため
のものであるから、貫通孔13と回路基板10の縁部と
を連絡できればよく、設置位置も貫通孔13のコーナー
部に限らず適宜位置とすることができ、設置数もとくに
限定されるものではない。図2は図3でのA−A線断面
図を示す。
【0021】キャリアフレーム12に回路基板10を複
数個支持して一連のアセンブリ工程を経過させる場合、
上記実施例では回路基板10を常に上向きにしてキャリ
アフレーム12を搬送したが、装置によってはキャリア
フレーム12を工程中で上下反転して加工した方が都合
がよい場合がある。図7は回路基板10に半導体素子2
0を搭載しワイヤボンディング工程が完了した後、キャ
リアフレーム12を上下反転させて樹脂封止とはんだボ
ール30の接合を行う実施例を示す。この実施例の場合
は樹脂封止の際に回路基板10がキャリアフレーム12
の上側にあることから回路基板10の支持がより確実に
できることと、はんだボール30を接合する回路基板1
0の面が上側にあることではんだボール30を容易に接
合できるという利点がある。
【0022】図8は樹脂封止工程までは回路基板10を
キャリアフレーム12の下面に支持し、樹脂封止後にキ
ャリアフレーム12を上下反転してはんだボール30の
接合を行う実施例を示す。上記実施例では半導体素子1
2を封止する方法としてモールド金型26a、26bを
用いた樹脂成形によっているが、半導体素子12の封止
は必ずしも樹脂成形に限定されるものではなく、たとえ
ば、封止材をポッティングするといった樹脂コーティン
グによることも可能である。このような場合は、図8に
示すように樹脂封止工程までは回路基板10の半導体素
子搭載部を上向きにしておく必要がある。
【0023】図7、6に示した例はいずれもキャリアフ
レーム12を加工工程中で1回のみ上下反転させて加工
する場合であるが、キャリアフレーム12をさらに反転
して加工することも可能である。たとえば、図7、6に
示す例で、樹脂封止した後、キャリアフレーム12を再
度反転し、はんだボール30の接合面を下向きにしては
んだボール30を接合することも可能である。本実施例
で使用する短冊状のキャリアフレーム12は図4、3、
4で示したように回路基板10をキャリアフレーム12
で係止して支持するから、キャリアフレーム12を反転
等して加工する操作にまったく支障なく使用することが
できる。
【0024】上記各実施例で使用したキャリアフレーム
12は半導体素子搭載面10aをキャリアフレーム12
に当接させて回路基板10を支持するものである。図9
はこのように半導体素子搭載面10aをキャリアフレー
ム12に当接して支持するキャリアフレーム12の他の
実施例を示す。この実施例のキャリアフレーム12はキ
ャリアフレーム12の基材の表裏面に弾性体層12a、
12bを設けたことを特徴とする。
【0025】図10は弾性体層12a、12bを設けた
キャリアフレーム12に回路基板10を装着し、モール
ド金型26a、26bでクランプして樹脂封止する様子
を示す。回路基板10はキャリアフレーム12ごとモー
ルド金型26a、26bによってクランプされて樹脂封
止されるが、本実施例のキャリアフレーム12はその表
裏面に弾性体層12a、12bを設けたことによってモ
ールド金型26a、26bにより回路基板10を好適に
クランプして樹脂封止することができる。
【0026】キャリアフレーム12の表裏面に設けた弾
性体層12a、12bはモールド金型26a、26bに
よって回路基板10をクランプする際に挟圧力が的確に
回路基板10に作用して樹脂封止領域から樹脂漏れが生
じることを防止し、その緩衝作用によってモールド金型
26a、26bがキャリアフレーム12を介して強く回
路基板10をクランプした際に回路基板10の表面に設
けたレジスト膜層にクラックや圧痕が生じたり、回路基
板10の配線パターンが傷むといったことを防止するこ
とができる。
【0027】なお、弾性体層12a、12bはとくに材
質が限定されるものではなく、耐熱シリコン等の弾性を
有する素材であれば適宜使用できる。また、本実施例で
はキャリアフレーム12の基材の両面に弾性体層12
a、12bを設けたが、弾性体層12a、12bはキャ
リアフレーム12の少なくとも回路基板10が当接する
面に設けることにより、樹脂漏れ防止、レジスト層ある
いは配線パターンを傷めるといったことを防止すること
ができる。また、弾性体層12a、12bはキャリアフ
レーム12の全面に設けてもよいし、図9に示すように
回路基板10とモールド金型26aが当接する部位にの
み設けるようにしてもよい。
【0028】図11はキャリアフレーム12の他の実施
例を示す。この実施例はキャリアフレーム12で回路基
板10を支持する面の貫通孔13の周縁部に接着層12
cを設けて回路基板10をキャリアフレーム12に接着
して支持するように構成したことを特徴とする。前記図
5に示すキャリアフレーム12では係止片14を設けて
回路基板10を支持したが、本実施例のように接着層1
2cを設ける方法によれば回路基板10を簡単に支持で
きるとともにキャリアフレーム12を製造する場合も係
止片14を切り起こして成形することが必要なくなり、
容易にキャリアフレーム12を作成することができると
いう利点がある。また、接着層12cは上記実施例の弾
性体層12a、12bと同様な緩衝作用も有するという
利点がある。
【0029】接着層12cはキャリアフレーム12の表
面に接着剤を塗布する方法、あるいは接着性を有するフ
ィルムを貼着する方法等によって形成することができ
る。接着性を有するフィルムとしてはたとえば、紫外線
硬化フィルム、半硬化エポキシフィルム等が利用でき
る。なお、アセンブリ後にはキャリアフレーム12から
回路基板10を分離するから接着層12cはアセンブリ
後に回路基板12が容易に取り外しできる性質のものが
好適である。
【0030】次に、回路基板10をキャリアフレーム1
2の上面で支持して所要のアセンブリ工程を経過させて
製造する実施例を示す。上記各実施例ではいずれも半導
体素子搭載面をキャリアフレーム12に当接するように
回路基板10を装着して樹脂封止したが、以下の実施例
ははんだボール30を接合する接合面をキャリアフレー
ム12に当接して回路基板10を支持する場合である。
【0031】図12にキャリアフレーム12の上面に回
路基板10を装着する様子を示す。キャリアフレーム1
2に貫通孔13を設けること、係止片14によって回路
基板10を位置決めして支持するようにすることも前述
した実施例と同様である。図13、12、13は短冊状
のキャリアフレーム12の上面に回路基板10を支持す
る他の実施例を示す。
【0032】図13に示す例は、キャリアフレーム12
を形成する板材を切り起こして係止片14を形成し、こ
の係止片14に回路基板10の側面を当接させることに
よってキャリアフレーム12に対し回路基板10を位置
決めをするとともに、キャリアフレーム12とは別体で
形成したバネ性を有する可動係止片32をキャリアフレ
ーム12の下面にろう付けして固定し、可動係止片32
によって回路基板10をキャリアフレーム12に押接し
て支持するように構成したものである。回路基板10を
脱着する場合は可動係止片32を押し開いて操作する。
このキャリアフレーム12は可動係止片32を別体で形
成するから部品点数が多くなるが、弾性を有する可動係
止片32を設けたことによって回路基板10を確実に支
持できるという利点がある。
【0033】図14に示す例は、回路基板10をキャリ
アフレーム12に押接する可動係止片33をキャリアフ
レーム12の板材を比較的長く切り起こして形成し、可
動係止片33の内面で回路基板10の側面の上縁を押接
することにより回路基板10をキャリアフレーム12に
支持するよう構成した例である。可動係止片33の上端
縁を若干外開き状に曲げ形成し、可動係止片33を押し
開く操作を容易にするとともに回路基板10の装着を容
易にしている。この例では可動係止片33をキャリアフ
レーム12と一体形成しているからキャリアフレーム1
2の構成が単純になるという利点がある。
【0034】図15に示す例は、回路基板10をキャリ
アフレーム12に係止するためキャリアフレーム12を
形成する板材をバーリング加工して回路基板10の係止
位置に係止用ピン34を立設し、係止用ピン34にすり
割りを設けてバネ性を持たせたものである。係止用ピン
34はその上端縁を外開き状に広げ、回路基板10をセ
ットした際に係止用ピン34の側面で回路基板10の側
面を係止してキャリアフレーム12に押接するように構
成した。
【0035】図16は図12に示すキャリアフレーム1
2に回路基板10を装着してアセンブリする工程を示
す。キャリアフレーム12に回路基板10を装着した後
(図16(a) )、回路基板10の半導体素子搭載面10
aに半導体素子20を搭載し、ワイヤボンディングによ
って半導体素子20と回路基板10の配線パターンとを
電気的に接続する(図16(b) )。次いで、モールド金
型26a、26bで回路基板10とキャリアフレーム1
2をクランプして樹脂封止する(図16(c) )。この場
合の樹脂封止操作では回路基板10にじかにモールド金
型26aが当接し、ランナー路28からキャビティに樹
脂を充填する際に回路基板10の側面に樹脂が接触す
る。
【0036】樹脂封止した後、図16(d) に示すように
回路基板10の下面にはんだボール30を接合する。キ
ャリアフレーム12から回路基板10を取り外し単体の
製品として得られる。本実施例の場合も貫通孔13を設
けたキャリアフレーム12に回路基板10を装着して搬
送することにより所要のアセンブリ工程を効率的に行う
ことができる。なお、図16に示すような製造工程で
は、キャリアフレーム12に設けた支持手段は単に回路
基板10をキャリアフレーム12に位置合わせする位置
合わせ用ピンのみの構成であってもよい。
【0037】図17ははんだボールの接合面をキャリア
フレーム12に当接して回路基板10を支持した状態で
アセンブリ工程を経過させる他の実施例を示す。この実
施例では回路基板10に半導体素子20を搭載してワイ
ヤボンディングした後、キャリアフレーム12の上下面
を反転した状態で樹脂封止し(図17(b) )、次いでは
んだボール30を接合して製品とする。図18はさらに
他の実施例を示す。この実施例では回路基板10をキャ
リアフレーム12の上にした状態で樹脂封止した後(図
18(a) )、キャリアフレーム12の上下面を反転して
はんだボール30を接合する。
【0038】これら図16、15、16で示す実施例に
おいても前述した実施例と同様にモールド金型26a、
26bを用いた樹脂成形によるかわりに、ポッティング
等の樹脂コーティングによって半導体素子20を封止す
る方法によることもできる。また、実施例では外部接続
端子としてははんだボール30を使用した例を示すが、
外部接続端子としてリードピンを使用することも可能で
ある。また、上記各実施例ではキャリアフレーム12に
複数の貫通孔13を設けたものを使用したが、1つのキ
ャリアフレーム12に1つの回路基板10を装着する場
合にも適用でき、貫通孔13を縦横に複数列で設けて回
路基板10を縦横に複数列で装着するキャリアフレーム
を使用することもできる。
【0039】図19および図20は回路基板10を装着
するキャリアフレーム12のさらに他の実施例を示す。
これらの実施例のキャリアフレーム12ではキャリアフ
レーム12上に突設した固定ピン40を回路基板10の
樹脂封止範囲の外側に設けたスルーホール11に嵌入し
て回路基板10を係止することを特徴とする。図21は
キャリアフレーム12に回路基板10を装着した状態の
平面図を示す。実施例では回路基板10の四隅にスルー
ホール11を設け、各々のスルーホール11に固定ピン
40を嵌入して固定した。
【0040】図19はキャリアフレーム12の上面に回
路基板10を装着して樹脂封止した状態、図20はキャ
リアフレーム12の下面に回路基板10を装着して樹脂
封止した状態を示す。いずれの場合も固定ピン40の突
端部をスルーホール11の内径よりも大径な球状とし、
スルーホール11に固定ピン40を嵌入した際に回路基
板10を確実にキャリアフレーム12に固定できるよう
にしている。
【0041】図22はキャリアフレーム12に設ける固
定ピン40の他の形状を示す。図22(a) は固定ピン4
0の突端部を楕円体状としたもの、図22(b) は固定ピ
ン40の先端部を円錐状(断面菱形)としたものであ
る。また、図22(a) ではスルーホール11の内面にめ
っき42を施し、図22(b) ではスルーホール11の内
面にフッ素樹脂コーティング44を施した例を示す。ス
ルーホール11にこれらの処理を施すことによって固定
ピン40を抜き差しした際にスルーホール11を傷めな
いようにすることができる。
【0042】これら実施例のようにキャリアフレーム1
2に固定ピン40を設けて回路基板10を装着する方法
は、図5に示すキャリアフレーム12のように回路基板
10の側縁部を係止片14や係止部16で係止して装着
する場合にくらべて回路基板10の位置決め精度を高め
ることができて確実に固定でき、また回路基板10の側
縁部を傷めたりせずに装着できるという利点がある。ま
た、キャリアフレーム12の再利用が容易に可能になる
という利点もある。
【0043】
【発明の効果】本発明に係る片面樹脂封止型半導体装置
の製造方法によれば、上述したように片面樹脂封止型半
導体装置の製造コストの低減化を有効に図ることがで
き、また、キャリアフレームで回路基板を支持して搬送
するように構成したことによって既存設備を利用して効
率的な製造を行うことが可能になる。また、本発明に係
るキャリアフレームによれば片面樹脂封止型半導体装置
を好適に製造することができる等の著効を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】片面樹脂封止型半導体装置の製造方法を示す説
明図である。
【図2】片面樹脂封止型半導体装置の製造方法を示す説
明図である。
【図3】溝を設けたキャリアフレームに回路基板を装着
した状態の説明図である。
【図4】キャリアフレームに回路基板を装着した状態を
示す説明図である。
【図5】キャリアフレームで回路基板を支持する支持手
段を示す説明図である。
【図6】回路基板を支持する支持手段の平面配置を示す
説明図である。
【図7】片面樹脂封止型半導体装置の製造方法の実施例
を示す説明図である。
【図8】片面樹脂封止型半導体装置の製造方法の実施例
を示す説明図である。
【図9】弾性体層を設けたキャリアフレームの実施例を
示す断面図である。
【図10】弾性体層を設けたキャリアフレームに回路基
板を装着して樹脂封止した状態を一部拡大して示す断面
図である。
【図11】接着層を設けたキャリアフレームに回路基板
を装着した状態を示す断面図である。
【図12】キャリアフレームに回路基板を装着した状態
の説明図である。
【図13】キャリアフレームで回路基板を支持する支持
手段を示す説明図である。
【図14】キャリアフレームで回路基板を支持する支持
手段を示す説明図である。
【図15】キャリアフレームで回路基板を支持する支持
手段を示す説明図である。
【図16】片面樹脂封止型半導体装置の製造方法の実施
例を示す説明図である。
【図17】片面樹脂封止型半導体装置の製造方法の実施
例を示す説明図である。
【図18】片面樹脂封止型半導体装置の製造方法の実施
例を示す説明図である。
【図19】固定ピンを有するキャリアフレームに回路基
板を装着して樹脂封止した状態を示す断面図である。
【図20】固定ピンを有するキャリアフレームに回路基
板を装着して樹脂封止した状態を示す断面図である。
【図21】キャリアフレームに回路基板を装着した状態
の平面図である。
【図22】キャリアフレームの形成する固定ピンの他の
形成例を示す断面図である。
【図23】プリント基板を片面樹脂封止した状態を示す
説明図である。
【符号の説明】
10 回路基板 11 スルーホール 12 キャリアフレーム 12a、12b 弾性体層 12c 接着層 13 貫通孔 14 係止片 15 溝 16 係止部 18 パイロット孔 20 半導体素子 22 ヒータブロック 24 ボンダー 26a、26b モールド金型 28 ランナー路 30 はんだボール 32、33 可動係止片 34 係止用ピン 40 固定ピン 42 めっき 44 フッ素樹脂コーティング

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 両面に配線パターンを設けた回路基板の
    半導体素子搭載面側に半導体素子を搭載し、半導体素子
    搭載部を樹脂封止した後、他面側の配線パターンにはん
    だボール等の外部接続端子を接合して半導体装置とする
    片面樹脂封止型半導体装置の製造方法において、 個片に形成した回路基板を、貫通孔が形成された矩形状
    のキャリアフレームの前記貫通孔に対応して位置決めし
    て配置し、 前記回路基板を前記キャリアフレームに支持して搬送
    し、半導体素子の搭載、半導体素子と配線パターンとの
    電気的接続、半導体素子搭載部の樹脂封止、配線パター
    ンと外部接続端子との接合等の所要の一連の加工を施す
    ことを特徴とする片面樹脂封止型半導体装置の製造方
    法。
  2. 【請求項2】 貫通孔が所定の間隔で複数形成されたキ
    ャリアフレームの下面に、両面に配線パターンが設けら
    れた個片の回路基板を、該回路基板の半導体素子搭載面
    を前記貫通孔内に露出させ、かつ該半導体素子搭載面側
    の周縁部を前記キャリアフレームと当接させて複数個支
    持し、 前記半導体素子搭載面に半導体素子を搭載し、該半導体
    素子と配線パターンとを電気的に接続した後、 前記貫通孔の領域内で半導体素子搭載部を樹脂封止し、 前記回路基板の他面側に設けられた配線パターンと外部
    接続端子とを接合することを含むことを特徴とする片面
    樹脂封止型半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 半導体素子搭載面に半導体素子を搭載
    し、該半導体素子と配線パターンとを電気的に接続した
    後、キャリアフレームの上下面を反転して半導体素子搭
    載部の樹脂封止および配線パターンと外部接続端子との
    接合を行うことを特徴とする請求項2記載の片面樹脂封
    止型半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 貫通孔の領域内で半導体素子搭載部を樹
    脂封止した後、キャリアフレームの上下面を反転して配
    線パターンと外部接続端子との接合を行うことを特徴と
    する請求項2記載の片面樹脂封止型半導体装置の製造方
    法。
  5. 【請求項5】 半導体素子搭載部の樹脂封止は、樹脂成
    形あるいはポッティング等の樹脂コーティングによるこ
    とを特徴とする請求項2記載の片面樹脂封止型半導体装
    置の製造方法。
  6. 【請求項6】 キャリアフレームの回路基板が当接する
    面側で、かつ前記キャリアフレームに形成した貫通孔か
    ら前記回路基板の側面が位置する部位にまで延出して設
    けた溝に、半導体素子搭載部を封止する樹脂を流入さ
    せ、前記半導体素子搭載部の封止と同時に前記回路基板
    の側面を樹脂封止することを特徴とする請求項2記載の
    片面樹脂封止型半導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 貫通孔が所定の間隔で複数形成されたキ
    ャリアフレームの上面に、両面に配線パターンが設けら
    れた個片の回路基板を、配線パターンと外部接続端子と
    の接合面を前記貫通孔内に露出させ、かつ、該接合面側
    の周縁部を前記キャリアフレームと当接させて複数個支
    持し、 前記回路基板の他面側に設けられた半導体素子搭載面に
    半導体素子を搭載し、該半導体素子と配線パターンとを
    電気的に接続した後、 半導体素子搭載部を樹脂封止し、 前記接合面の配線パターンに外部接続端子を接合するこ
    とを含むことを特徴とする片面樹脂封止型半導体装置の
    製造方法。
  8. 【請求項8】 半導体素子搭載面に半導体素子を搭載
    し、該半導体素子と配線パターンとを電気的に接続した
    後、キャリアフレームの上下面を反転して半導体素子搭
    載部の樹脂封止および配線パターンと外部接続端子との
    接合を行うことを特徴とする請求項7記載の片面樹脂封
    止型半導体装置の製造方法。
  9. 【請求項9】 半導体素子搭載部を樹脂封止した後、キ
    ャリアフレームの上下面を反転して配線パターンと外部
    接続端子との接合を行うことを特徴とする請求項7記載
    の片面樹脂封止型半導体装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 半導体素子搭載部の樹脂封止は、樹脂
    成形あるいはポッティング等の樹脂コーティングによる
    ことを特徴とする請求項7記載の片面樹脂封止型半導体
    装置の製造方法。
  11. 【請求項11】 個片に形成され両面に配線パターンが
    設けられた回路基板を支持して、半導体素子の搭載、半
    導体素子と配線パターンとの電気的接続、半導体素子搭
    載部の樹脂封止、配線パターンと外部接続端子との接合
    等の所要の一連の加工を施す際に共通して使用するキャ
    リアフレームであって、 前記回路基板を一方の面に支持可能に矩形状に形成さ
    れ、 前記回路基板の半導体素子搭載面または外部接続端子の
    接合面が他方の面に露出するように、該回路基板を配置
    する位置に所定形状の貫通孔が設けられ、 該貫通孔の周囲に、前記回路基板を所定位置に位置決め
    して支持する支持手段が設けられたことを特徴とするキ
    ャリアフレーム。
  12. 【請求項12】 前記貫通孔の周囲の少なくとも前記回
    路基板を当接する部位に弾性体層が設けられたことを特
    徴とする請求項11記載のキャリアフレーム。
  13. 【請求項13】 貫通孔が所定の間隔で複数形成された
    ことを特徴とする請求項11または12記載のキャリア
    フレーム。
  14. 【請求項14】 前記支持手段は前記貫通孔の周囲の前
    記回路基板を当接する部位に設けた接着層であることを
    特徴とする請求項11または13記載のキャリアフレー
    ム。
  15. 【請求項15】 支持手段が、キャリアフレームを形成
    する板材を切り起こして形成され、前記回路基板の側面
    に当接して回路基板をキャリアフレームに位置決めする
    ための係止片と、該係止片との間で回路基板を挟圧しキ
    ャリアフレームに押接する係止部とから成ることを特徴
    とする請求項11、12または13記載のキャリアフレ
    ーム。
  16. 【請求項16】 係止部が、キャリアフレームを形成す
    る板材を切り起こして形成した立ち上がり片部と、該立
    ち上がり片部の端部に設けられ、前記回路基板を押接可
    能に押接面を斜めに曲げ形成した押圧片部とから形成さ
    れたものであることを特徴とする請求項15記載のキャ
    リアフレーム。
  17. 【請求項17】 係止片が、先端をやや外開き状に形成
    するとともに、回路基板の厚みに合わせて係止可能に中
    間にくびれ部を設けたものであることを特徴とする請求
    項15記載のキャリアフレーム。
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DE69528421T DE69528421T2 (de) 1994-07-15 1995-07-14 Träger und Verfahren zur Herstellung einseitig mit Harz versiegelter Halbleiteranordnungen mittels des genannten Trägers
EP95304933A EP0692820B1 (en) 1994-07-15 1995-07-14 Carrier and method of manufacturing one sided resin sealed semiconductor devices using said carrier
US08/502,811 US5732465A (en) 1994-07-15 1995-07-14 Method of manufacturing one side resin sealing type semiconductor devices
US08/960,336 US5918746A (en) 1994-07-15 1997-10-29 Carrier frame used for circuit boards

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100401148B1 (ko) * 2001-02-06 2003-10-10 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지 제조용 부재

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0964244A (ja) * 1995-08-17 1997-03-07 Hitachi Ltd 半導体装置およびその製造方法
US5859475A (en) * 1996-04-24 1999-01-12 Amkor Technology, Inc. Carrier strip and molded flex circuit ball grid array
US5852870A (en) * 1996-04-24 1998-12-29 Amkor Technology, Inc. Method of making grid array assembly
DE19729179C2 (de) * 1997-01-08 2001-09-13 Orient Semiconductor Elect Ltd Verfahren und Vorrichtungen zum Vergießen einer Halbleiteranordnung mit Kunststoff
US6081997A (en) * 1997-08-14 2000-07-04 Lsi Logic Corporation System and method for packaging an integrated circuit using encapsulant injection
US6064117A (en) * 1997-12-05 2000-05-16 Intel Corporation Plastic ball grid array assembly
FR2772987A1 (fr) * 1997-12-23 1999-06-25 Orient Semiconductor Elect Ltd Procede et appareil de moulage de puces a semi-conducteurs
US6574858B1 (en) 1998-02-13 2003-06-10 Micron Technology, Inc. Method of manufacturing a chip package
US6372553B1 (en) * 1998-05-18 2002-04-16 St Assembly Test Services, Pte Ltd Disposable mold runner gate for substrate based electronic packages
US5927504A (en) * 1998-06-23 1999-07-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus for carrying plural printed circuit boards for semiconductor module
US6062799A (en) * 1998-06-23 2000-05-16 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for automatically loading or unloading printed circuit boards for semiconductor modules
JP3391282B2 (ja) * 1998-07-02 2003-03-31 株式会社村田製作所 電子部品の製造方法
JP3455685B2 (ja) * 1998-11-05 2003-10-14 新光電気工業株式会社 半導体装置の製造方法
FR2795520B1 (fr) * 1999-06-24 2001-09-07 Remy Kirchdoerffer Procede de fabrication d'un dispositif du type instrument ou appareil de mesure ou de detection et dispositifs resultants
NL1012488C2 (nl) * 1999-07-01 2001-01-03 Fico Bv Inrichting en werkwijze voor het omhullen van op een drager bevestigde elektronische componenten.
DE19935441A1 (de) * 1999-07-28 2001-03-01 Siemens Ag Verfahren und Moldwerkzeug zum Umhüllen von elektronischen Bauelementen
US6415505B1 (en) * 1999-11-15 2002-07-09 Amkor Technology, Inc. Micromachine package fabrication method
JP3784597B2 (ja) * 1999-12-27 2006-06-14 沖電気工業株式会社 封止樹脂及び樹脂封止型半導体装置
US6398034B1 (en) * 2000-02-29 2002-06-04 National Semiconductor Corporation Universal tape for integrated circuits
US7161239B2 (en) * 2000-12-22 2007-01-09 Broadcom Corporation Ball grid array package enhanced with a thermal and electrical connector
TW558919B (en) * 2001-10-24 2003-10-21 Wistron Corp Method of making member for dual connection plate of circuit board
US7550845B2 (en) * 2002-02-01 2009-06-23 Broadcom Corporation Ball grid array package with separated stiffener layer
TW559960B (en) * 2002-09-19 2003-11-01 Siliconware Precision Industries Co Ltd Fabrication method for ball grid array semiconductor package
US7127805B2 (en) * 2002-11-20 2006-10-31 Intel Corporation Electronic device carrier and manufacturing tape
US7432586B2 (en) * 2004-06-21 2008-10-07 Broadcom Corporation Apparatus and method for thermal and electromagnetic interference (EMI) shielding enhancement in die-up array packages
US7482686B2 (en) 2004-06-21 2009-01-27 Braodcom Corporation Multipiece apparatus for thermal and electromagnetic interference (EMI) shielding enhancement in die-up array packages and method of making the same
TWI244145B (en) * 2004-06-24 2005-11-21 Siliconware Precision Industries Co Ltd Method for fabricating semiconductor package
US8183680B2 (en) * 2006-05-16 2012-05-22 Broadcom Corporation No-lead IC packages having integrated heat spreader for electromagnetic interference (EMI) shielding and thermal enhancement
US20080284045A1 (en) * 2007-05-18 2008-11-20 Texas Instruments Incorporated Method for Fabricating Array-Molded Package-On-Package
US7944034B2 (en) * 2007-06-22 2011-05-17 Texas Instruments Incorporated Array molded package-on-package having redistribution lines
US7989950B2 (en) * 2008-08-14 2011-08-02 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system having a cavity
TWI393494B (zh) * 2010-06-11 2013-04-11 Unimicron Technology Corp 具有線路的基板條及其製造方法
CN102315202B (zh) * 2010-07-02 2016-03-09 欣兴电子股份有限公司 具有线路的基板条及其制造方法
US8683674B2 (en) * 2010-12-07 2014-04-01 Centipede Systems, Inc. Method for stacking microelectronic devices
US8453843B1 (en) 2012-07-27 2013-06-04 International Business Machines Corporation Tray for transporting semiconductor devices of a BGA type
US11516926B2 (en) * 2018-11-30 2022-11-29 Innolux Corporation Method for manufacturing flexible circuit board
TWI754577B (zh) * 2021-04-12 2022-02-01 頎邦科技股份有限公司 載盤

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3171535A (en) * 1962-01-12 1965-03-02 Western Electric Co Belt conveyor for transporting electrical components
US3858721A (en) * 1971-10-01 1975-01-07 Western Electric Co Loading of compliant tape
DE3061383D1 (en) * 1979-02-19 1983-01-27 Fujitsu Ltd Semiconductor device and method for manufacturing the same
FR2511549A1 (fr) * 1981-08-14 1983-02-18 Comatel Perfectionnements apportes aux ensembles de contacts a souder
US4617708A (en) * 1982-12-23 1986-10-21 At&T Technologies, Inc. Component module for piggyback mounting on a circuit package having dual-in-line leads, and methods of fabricating same
US4611262A (en) * 1984-05-11 1986-09-09 Amp Incorporated Electrical circuit package for greeting cards
US4600971A (en) * 1984-05-11 1986-07-15 Amp Incorporated Lead frames with dielectric housings molded thereon
JPS62160734A (ja) * 1986-01-09 1987-07-16 Toshiba Corp Tab式ボンデイングシステム
WO1990000813A1 (en) * 1988-07-08 1990-01-25 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor device
JPH0256940A (ja) * 1988-08-22 1990-02-26 Nec Corp ダイボンディング装置
JPH0724273B2 (ja) * 1988-11-09 1995-03-15 三菱電機株式会社 Icカード用のモジュールの製造方法
JP2596615B2 (ja) * 1989-02-08 1997-04-02 沖電気工業株式会社 樹脂封止用回路基板
JP2855673B2 (ja) * 1989-07-14 1999-02-10 セイコーエプソン株式会社 搬送テープ
JP2957227B2 (ja) * 1990-04-24 1999-10-04 日本板硝子株式会社 光学素子と光ファイバとの結合構造
US5085362A (en) * 1991-01-16 1992-02-04 Atmel Corporation Gravity-held alignment member for manufacture of a leadless chip carrier
US5218759A (en) * 1991-03-18 1993-06-15 Motorola, Inc. Method of making a transfer molded semiconductor device
JPH04291737A (ja) * 1991-03-20 1992-10-15 Toshiba Corp Tabフィルムキャリアテープ
JPH0547836A (ja) * 1991-08-09 1993-02-26 Seiko Epson Corp 半導体装置の実装構造
US5309332A (en) * 1991-12-20 1994-05-03 Evans Majorie L Light table quilting/craft system
US5297331A (en) * 1992-04-03 1994-03-29 Hewlett-Packard Company Method for aligning a substrate with respect to orifices in an inkjet printhead
US5334857A (en) * 1992-04-06 1994-08-02 Motorola, Inc. Semiconductor device with test-only contacts and method for making the same
US5349236A (en) * 1992-07-21 1994-09-20 Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated Reusable fixture for carrier tape
US5309322A (en) * 1992-10-13 1994-05-03 Motorola, Inc. Leadframe strip for semiconductor packages and method
JP3319825B2 (ja) * 1993-07-07 2002-09-03 エヌオーケー株式会社 中空糸膜モジュールの欠陥検出方法
US5472085A (en) * 1994-05-16 1995-12-05 Gpax International, Inc. Gated-pocket tape-form packaging system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100401148B1 (ko) * 2001-02-06 2003-10-10 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지 제조용 부재

Also Published As

Publication number Publication date
EP0692820A1 (en) 1996-01-17
US5918746A (en) 1999-07-06
KR100190981B1 (ko) 1999-06-15
DE69528421D1 (de) 2002-11-07
EP0692820B1 (en) 2002-10-02
US5732465A (en) 1998-03-31
DE69528421T2 (de) 2003-06-18

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