JPH0878159A - Sealing method of organic el element, and organic el element - Google Patents

Sealing method of organic el element, and organic el element

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JPH0878159A JP6214718A JP21471894A JPH0878159A JP H0878159 A JPH0878159 A JP H0878159A JP 6214718 A JP6214718 A JP 6214718A JP 21471894 A JP21471894 A JP 21471894A JP H0878159 A JPH0878159 A JP H0878159A
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Abstract

PURPOSE: To strongly suppress the growth of a dark spot by sealing the outer circumference of an organic EL element with an inert liquid metal having a dissolved oxygen concentration less than 1ppm and, preferably, a contained moisture less than 10ppm. CONSTITUTION: An organic EL element 10 is preferably covered with a housing member 18 consisting of an electric insulating material such as glass, and the element 10 is housed in the recessed part of the housing member 18. The base 11 of the element 10 is stuck to the housing member 18 by an adhesive 17. An inert liquid 20 is filled and sealed in the space among the base 11, the element 10 and the housing member 18 through an injection port on the bottom part. As the liquid 20, a one having a dissolved oxygen concentration less than 1ppm is used, and a liquefied carbon fluoride having a contained moisture less than 10ppm and a vapor pressure at 25 deg.C, less than 10<-2> Torr is preferably used. As the liquid 20, in general, a commercially available product is treated by means of ordinary temperature vacuum deaeration, freezing vacuum deaeration, or inert gas substitution, and used.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子と略記する)の封止方法と、封止された有機EL素子とに関する。 The present invention relates to an organic electroluminescent device (hereinafter, abbreviated as organic EL device) and the sealing method, and to a sealed organic EL device.

【0002】 [0002]

【従来の技術】EL素子は自己発光のため視認性が高く、また、完全固体素子であるため耐衝撃性に優れている。 BACKGROUND ART EL devices visibility for self emission is high, also excellent in impact resistance because it is a complete solid element. このような特徴を有していることから、現在では、 Since having such a feature, at present,
発光材料として無機化合物を用いた種々の無機EL素子や、発光材料として有機化合物(以下、この化合物を有機発光材料という)を用いた種々の有機EL素子が提案されており、かつ実用化が試みられている。 Various and inorganic EL element using an inorganic compound as a light-emitting material, an organic compound as a luminescent material (hereinafter, this compound as an organic light emitting material) various organic EL device has been proposed which uses, and practical attempts It is. なかでも有機EL素子は、無機EL素子に比べて印加電圧を大幅に低下させることができるため、より高性能の有機EL素子を得るための開発が活発に進められている。 Of these organic EL element, it is possible to greatly reduce the applied voltage as compared with inorganic EL devices, and development has been actively promoted in order to obtain a higher performance organic EL device.

【0003】有機EL素子の基本構成は陽極、発光層、 [0003] The basic configuration of the organic EL element is an anode, the light emitting layer,
陰極が順次積層された構成であり、この有機EL素子は多くの場合、基板上に形成される。 A cathode is sequentially stacked configuration, the organic EL device often formed on the substrate. このとき、陽極と陰極の位置は逆転することもある。 At this time, the position of the anode and the cathode also be reversed. また、性能を向上させるために、陽極と発光層の間に正孔輸送層を設けたり、 Further, in order to improve performance, or a hole transporting layer disposed between the anode and the light-emitting layer,
陰極と発光層との間に電子注入層を設けたり、陰極と発光層の間または電子注入層と発光層との間に接着層を設けたりする場合がある。 Or an electron injection layer between the cathode and the light-emitting layer, which may or providing an adhesive layer between the cathode and the between the light emitting layer or an electron injection layer and the light emitting layer. 発光層は、通常、1種または複数種の有機発光材料により形成するが、有機発光材料と正孔輸送材料および/または電子注入材料との混合物により形成する場合もある。 Emitting layer is usually formed by one or more organic light emitting materials, and in some cases forming a mixture of an organic luminescent material and a hole transporting material and / or an electron injection material.

【0004】また、有機EL素子を構成する1対の電極(陽極および陰極)のうち、光取出し面側に位置する電極は、光の取出し効率を向上させるため、また、面発光素子としての構成上、透明ないし半透明の薄膜からなる。 [0004] Also, among the pair of electrodes constituting the organic EL element (anode and cathode), the electrode located on the light extraction surface side, for improving the light extraction efficiency, also configured as a surface emitting element Moreover, consisting of transparent or semi-transparent thin film. 一方、光取出し面とは反対の側に位置する電極(以下、対向電極という)は、特定の金属薄膜(金属、合金、混合金属等の薄膜)からなる。 On the other hand, the electrode positioned on the opposite side to the light extraction surface (hereinafter, referred to as the counter electrode) is made of a specific metal thin film (metal, alloy, a thin film of mixed metal, etc.).

【0005】上記の構成を有する有機EL素子は電流駆動型の発光素子であり、発光させるためには陽極と陰極との間に高電流を流さなければならない。 [0005] The organic EL device having the above configuration is a light emitting element of a current drive type, in order to emit light must flow high current between the anode and the cathode. その結果、発光時において素子が発熱し、素子の周囲に酸素や水分があった場合にはこれらの酸素や水分による素子構成材料の酸化が促進されて素子が劣化する。 As a result, the element is heated at the time of light emission, deterioration of the oxidation is promoted element device structure material by these oxygen and moisture when there is oxygen or moisture around the device. 酸化や水による素子の劣化の代表的なものはダークスポットの発生およびその成長である。 Representative of degradation of the device due to oxidation or water is generated and growth of dark spots. ダークスポットとは発光欠陥点のことである。 The dark spot is that of the light-emitting defect point. そして、有機EL素子の駆動に伴って当該素子の構成材料の酸化が進むと、既存のダークスポットの成長が起こり、ついには発光面全体にダークスポットが拡がる。 When the oxidation of the material of the element progresses along with the driving of the organic EL element, it occurs growth of existing dark spots, finally dark spots spread throughout the light emitting surface.

【0006】上記の劣化を抑えるため、従来より種々の方法が提案されている。 [0006] To suppress the deterioration, various methods have been proposed. 例えば特開平5−41281号公報には、劣化原因の一つである水分を取り除く方法として、液状フッ素化炭素に合成ゼオライト等の脱水剤を含有させてなる不活性液状化合物中に有機EL素子を保持する方法が開示されている。 For example, Japanese Patent Laid-Open No. 5-41281, as a method of removing moisture, which is one of the degradation causes the organic EL element in the inert liquid compounds formed by incorporating a dehydrating agent such as a liquid fluorinated carbon to synthetic zeolite method of holding is disclosed. また、特開平5−114 In addition, JP-A-5-114
486号公報には、陽極と陰極の少なくとも一方の上にフルオロカーボン油を封入した放熱層を設け、素子駆動の際に発生する熱を前記の放熱層より放熱することで素子の発光寿命を長くする方法が開示されている。 The 486 discloses a heat dissipating layer encapsulating fluorocarbon oil on at least one of the anode and the cathode is provided, a longer light emission life of the device by the heat radiation from the heat dissipation layer of the heat generated during the element driving method is disclosed.

【0007】 [0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述した従来の方法よっても、ダークスポットの生成や成長を十分に抑えることは困難であった。 The object of the invention is to be Solved] However, even by the conventional method described above, it is difficult to sufficiently suppress the generation and growth of dark spots. その理由は次のように推察される。 The reason for this is inferred as follows. すなわち、そもそも脱水剤は水の捕獲、 In other words, the first place dehydrating agent capture of water,
放出を常に行いながら平衡状態を保っているので、液状フッ素化炭素に脱水剤を含有させたとしても水分を十分に除去することはできない。 Since always maintains the equilibrium while the release can not be sufficiently removed moisture even contain a dehydrating agent in a liquid fluorinated carbon. また、ダークスポットの生成や成長の原因は水のみでなく、液状フッ素化炭素中に溶存している酸素の方がむしろ大きく影響していることを本願発明者らは見いだした。 Moreover, the cause of the generation and growth of dark spots not only water, the present inventors found that the direction of oxygen are dissolved in the liquid fluorinated carbon has rather large effects were found. 液状フッ素化炭素は非常に良く気体を溶解し、例えばパーフルオロアミン(住友スリーエム社製のフロリナートFC−70(商品名)) Liquid fluorinated carbon dissolves very well gas, for example perfluoro amines (manufactured by Sumitomo 3M Fluorinert FC-70 (trade name))
は100ml中に最大22mlもの空気を溶解する(溶存酸素濃度63ppm)。 Dissolves the maximum 22ml ones air in 100 ml (dissolved oxygen concentration 63 ppm).

【0008】本発明の目的は、有機EL素子におけるダークスポットの成長を強く抑制することができる有機E An object of the present invention, the organic can be strongly suppressed the growth of dark spots in organic EL element E
L素子の封止方法およびダークスポットの成長が起こりにくい有機EL素子を提供することにある。 Sealing methods and dark spots growth L element is to provide a hardly organic EL element.

【0009】 [0009]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する本発明の有機EL素子の封止方法は、陽極と陰極とが少なくとも発光層を介して積層されてる有機EL素子の外周に、溶存酸素濃度が1ppm以下の不活性液体層を設けることを特徴とするものである。 Method of sealing an organic EL device of the present invention to achieve the object of the Means for Solving the Problems] is on the outer periphery of the organic EL element anode, a cathode are laminated through at least an emission layer, dissolved oxygen concentration is characterized in providing the following inert liquid layer 1 ppm.

【0010】また、上記の目的を達成する本発明の有機EL素子は、上述した本発明の方法により封止されていることを特徴とするものである。 Further, the organic EL device of the present invention to achieve the above object, is characterized in that it is sealed by the method of the present invention described above.

【0011】以下、本発明を詳細に説明する。 [0011] In the following, the present invention will be described in detail. まず、本発明の有機EL素子の封止方法について説明すると、この方法では上述のように有機EL素子の外周に溶存酸素濃度が1ppm以下の不活性液体層を設ける。 First, to describe the method of sealing an organic EL device of the present invention, in this way the outer peripheral dissolved oxygen concentration of the organic EL device as described above provide the following inert liquid layer 1 ppm. ここで、 here,
前記の不活性液体の溶存酸素濃度を1ppm以下に限定する理由は、溶存酸素濃度が1ppmを超える不活性液体を用いたのではダークスポットの成長を強く抑制することが困難であるからである。 The reason for limiting the dissolved oxygen concentration of the inert liquid 1ppm or less, than the dissolved oxygen concentration with an inert liquid exceeding 1ppm is because it is difficult to strongly inhibit the growth of dark spots. 溶存酸素濃度は低ければ低いほど好ましいが、実用上は0.01〜1ppmの範囲内が好ましく、特に0.1ppm以下が好ましい。 Dissolved oxygen concentration is preferably as low as possible, but practically preferably in the range of 0.01~1Ppm, especially 0.1ppm or less.

【0012】また、本発明の方法で言う不活性液体とは、化学的、物理的に安定な液体のことであり、例えば他物質と接触しても化学反応や溶解を起こさない等の安定性を持つ液体を意味する。 Further, the inert liquid as referred to in the methods of the present invention, chemical refers to a physically stable liquid, for example the stability of such be in contact with other materials does not cause a chemical reaction or dissolution It means a liquid that has a. このような不活性液体の具体例としてはパーフルオロアルカン,パーフルオロアミン,パーフルオロポリエーテル等の液状フッ素化炭素等が挙げられる。 Such perfluoroalkane Specific examples of the inert liquid, a perfluoroalkyl amine, a liquid fluorinated carbon such as perfluoro polyethers. 液状フッ素化炭素は、(1)電気絶縁性に優れている(例えば後掲の表1に示すデムナムS−2 Liquid fluorinated carbon, Demnum S-2 shown in the (1) in Table 1 are excellent in electrical insulating properties (e.g. infra
0の絶縁破壊電圧は試料厚が2.5mmの場合72kV If the breakdown voltage of zero sample thickness of 2.5 mm 72 kV
である)、(2)水にも油にも溶解しない性質があることから有機EL素子を構成している層を溶解することが実質的にない、(3)金属やガラス表面に対する濡れ性が低いため、有機EL素子が基板上に設けられている場合でも基板面とその直上の電極(有機EL素子を構成しているもの)との隙間に入り込んで電極の剥離を起こすことが実質的にない、等の利点を有していることから、 In a), (2) dissolving the layer constituting the organic EL device because it has a property that does not dissolve in the oil is substantially free to water, wettability to (3) metal or glass surface low, the organic EL device (which constitutes an organic EL element) electrode directly above the substrate surface, even if provided on the substrate to cause exfoliation of the electrode intrudes into the gap between the substantially not, since it has the advantage of equal,
特に好適な不活性液体である。 Particularly suitable inert liquid.

【0013】上述した不活性液体は市販されているが、 [0013] While the inert liquid as described above are commercially available,
本発明の方法で使用する不活性液体の溶存酸素濃度は前述のように1ppm以下に限定され、市販品の溶存酸素濃度は1ppmより遥かに高いので、そのままでは本発明の方法に使用することができない。 Dissolved oxygen concentration of the inert liquid used in the methods of the present invention are limited to 1ppm, as described above, since the dissolved oxygen concentration in the commercially available products is much higher than 1ppm, it is as it can be used in the methods of the present invention Can not. そこで、常温真空脱気法、凍結真空脱気法、不活性ガス置換法等の方法により溶存酸素濃度を1ppm以下に減じてから本発明の方法に供する。 Therefore, room temperature vacuum degassing method, freeze vacuum degassing method, providing the dissolved oxygen concentration by a method such as an inert gas replacement method from reduced to 1ppm or less the method of the present invention. どのような方法によって溶存酸素濃度を減じるかは、使用する不活性液体の種類に応じて適宜選択される。 What reduce the dissolved oxygen concentration by the method is appropriately selected depending on the kind of the inert liquid used.

【0014】例えば、パーフルオロアルカンやパーフルオロアミンでは25℃における蒸気圧が10 -2 Torrを超えるものが多いが、25℃における蒸気圧が10 -2 Torr [0014] For example, in the perfluoroalkanes or perfluoro amines often those vapor pressure at 25 ° C. is more than 10 -2 Torr, vapor pressure at 25 ° C. is 10 -2 Torr
を超えるものについて常温真空脱気を行おうとしてもその蒸気圧以下にまで真空度を上げることができず、また、常温下でその蒸発が容易に進行することから、常温真空脱気法により溶存酸素濃度を減じることは極めて困難である。 Also can not be increased vacuum until under its vapor pressure as attempting to room temperature vacuum degassing for in excess of dissolved, also because its evaporation at room temperature proceeds readily, by cold vacuum degassing reducing the oxygen concentration is extremely difficult. したがって、25℃における蒸気圧が10 -2 Thus, vapor pressure at 25 ° C. is 10-2
Torrを超えるものについては凍結真空脱気法や不活性ガス置換法により溶存酸素濃度を減じることが好ましい。 It is preferable for those exceeding Torr is to reduce the dissolved oxygen concentration by freeze vacuum degassing method or the inert gas replacement method.

【0015】凍結真空脱気法により溶存酸素濃度を減じる場合には、例えば、液体窒素等を用いて脱気対象物(溶存酸素濃度を減じようとする不活性液体)を凍結させる工程と、凍結状態にある脱気対象物を10 -2 Torr以下で真空引きする工程と、凍結状態にある脱気対象物を融解させる工程とからなる一連の操作を、脱気対象物中の溶存酸素濃度が1ppm以下になるまで所望回数行う。 [0015] When reducing the dissolved oxygen concentration by freeze vacuum degassing method, for example, a step of freeze-deaerated object (the inert liquid to be Genjiyo dissolved oxygen concentration) using liquid nitrogen or the like, frozen a step of evacuating the degassing object in the state following 10 -2 Torr, a series of operations comprising the step of melting the degassing object in a frozen state, the dissolved oxygen concentration in the degassed object perform the desired number of times until the 1ppm or less. 脱気対象物が住友スリーエム社製のフロリナートF Fluorinert F degassing object is manufactured by Sumitomo 3M Ltd.
C−72,フロリナートFC−84,フロリナートFC C-72, Fluorinert FC-84, Fluorinert FC
−77,フロリナートFC−75(いずれも商品名であり、これらは全てパーフルオロアルカンの1種である) -77, Fluorinert FC-75 (both are trade names, which are one of all perfluoroalkanes)
や同社のフロリナートFC−40,フロリナートFC− And the company's Fluorinert FC-40, Fluorinert FC-
43,フロリナートFC−70(いずれも商品名であり、これらは全てパーフルオロアミンの1種である)である場合には、上記の操作を概ね5回以上繰り返すことにより目的物が得られる。 43, Fluorinert FC-70 (both are trade names, all are one perfluoro amines) If it is, the target compound can be obtained by repeating substantially more than 5 times the above operation. また、不活性ガス置換法により溶存酸素濃度を減じる場合には、例えば、脱気対象物50ccに対して0.1〜1リットル/分の不活性ガス(アルゴンガス、窒素ガス、ヘリウムガス、ネオンガス等)を供給して、脱気対象物中の溶存酸素濃度が1pp Further, in the case of reducing the dissolved oxygen concentration by inert gas substitution method, for example 0.1 to 1 l / min of inert gas (argon gas with respect to the degassing object 50 cc, nitrogen gas, helium gas, neon gas etc.) by supplying, dissolved oxygen concentration in the degassing object 1pp
m以下になるまで概ね4〜8時間バブリングすることにより目的物を得ることができる。 The desired product can be obtained by generally 4-8 hours bubbling until below m. これら2つの方法の中では、比較的短時間の操作で溶存酸素濃度を減じることができるという点から、凍結真空脱気法が好ましい。 These Among the two methods, from the viewpoint that it is possible to reduce the dissolved oxygen concentration in a relatively short period of operation, freeze vacuum degassing method is preferred.

【0016】一方、パーフルオロポリエーテルでは25 [0016] On the other hand, in the perfluoropolyether 25
℃における蒸気圧が10 -2 Torr以下のものが多く、25 Vapor pressure at ℃ is much the following 10 -2 Torr, 25
℃における蒸気圧が10 -2 Torr以下のものについては常温下での蒸気圧が低いことと常温下での蒸発量が少ないこととから、真空凍結脱気法や不活性ガス置換法以外に常温真空脱気法によっても溶存酸素濃度を減じることができる。 ℃ and a possible small amount of evaporation at room temperature and the low vapor pressure at room temperature for vapor pressure 10 -2 Torr or less of those in the normal temperature in addition to vacuum freeze degassing and the inert gas replacement method also it is possible to reduce the dissolved oxygen concentration by vacuum degassing.

【0017】25℃における蒸気圧が10 -2 Torr以下である不活性液体の溶存酸素濃度を常温真空脱気法により減じる場合には、例えば、160℃以下に保持した脱気対象物を当該脱気対象物中の溶存酸素濃度が1ppm以下になるまで10 -2 Torr以下で真空引きする。 [0017] When the dissolved oxygen concentration of the inert liquid having a vapor pressure at 25 ° C. is at 10 -2 Torr or less reduced by cold vacuum degassing method, for example, the de-degassing object held at 160 ° C. or less dissolved oxygen concentration in the vapor object in the evacuated at 10 -2 Torr or less until 1ppm or less. 脱気対象物の動粘度が脱気操作時に65cSt以下であれば比較的容易に溶存酸素を脱気することができる。 Can kinematic viscosity of degassing object is degassed relatively easily dissolved oxygen if 65cSt or less during degassing. 脱気操作時の脱気対象物の動粘度が高いと、酸素や水分が分子間に強固にかみ込んでいるために十分な脱気が困難になるので、加熱する等して脱気対象物の動粘度を低下させることが好ましいが、この場合には脱気操作が煩雑になる。 When the kinematic viscosity of the degassing object during degassing is high, so sufficient deaeration to oxygen and moisture are caught up firmly between the molecules becomes difficult, the like for heating deaerated object Although it is preferable to lower the kinematic viscosity of the degassed operation becomes complicated in this case.
また、脱気時には必要に応じて脱気対象物の撹拌および/または脱気対象物中への沸石の投入を行ってもよい。 Further, the stirring and / or introduction of zeolite to degassing object in degassed object may be performed as necessary at degassing.
沸石を使用する場合、この沸石としては素焼き、ガラス、ポリテトラフルオロカーボン(テフロン)等、多孔質な材料からなるものを使用することが好ましい。 When using zeolites, unglazed As the zeolite, glass, polytetrafluorocarbon (Teflon) and the like, it is preferred to use those made of a porous material. 常温真空脱気法により目的物を得る場合、脱気対象物の動粘度が脱気操作時に65cSt以下であれば、脱気操作に要する時間は概ね0.1〜2時間である。 To obtain the intended product cold vacuum degassing, if 65cSt or less when the kinematic viscosity of the degassing object degassing, the time required for deaeration is generally 0.1 to 2 hours.

【0018】また、25℃における蒸気圧が10 -2 Torr Further, the vapor pressure at 25 ° C. is 10 -2 Torr
以下である不活性液体中の溶存酸素濃度を凍結真空脱気法や不活性ガス置換法により減じる場合には、25℃における蒸気圧が10 -2 Torrを超えるものに対する操作と同様の操作を行う。 When the reduced by freeze vacuum degassing method or the inert gas replacement method the dissolved oxygen concentration in the inert liquid or less, performs the procedure similar to what a vapor pressure at 25 ° C. is more than 10 -2 Torr . 25℃における蒸気圧が10 -2 Torr Vapor pressure at 25 ° C. is 10 -2 Torr
以下である不活性液体につては、上述した3つの方法の中でも短時間の操作で溶存酸素濃度を減じることができ、かつ脱気操作が簡単であるという点から、常温真空脱気法により溶存酸素濃度を減じることが好ましい。 Connexion The inert liquid which is below dissolved terms can reduce the dissolved oxygen concentration at even a short time operation of the three methods described above, and degassing operation is simple, the ordinary temperature vacuum degassing method it is preferable to reduce the oxygen concentration.

【0019】常温真空脱気法により溶存酸素濃度が1p [0019] The dissolved oxygen concentration by the room temperature vacuum degassing method 1p
pm以下のものが容易に得られる不活性液体の具体例としては、表1に示す各種パーフルオロポリエーテルが挙げられる。 Examples of the inert liquid pm following can be easily obtained, and a variety of perfluoropolyether shown in Table 1.

【表1】 [Table 1]

【0020】なお、上記の表1中のデムナムS−20は平均分子量が2700であり、絶縁破壊電圧は2.5m The Incidentally, Demnum S-20 in Table 1 above an average molecular weight of 2700, the breakdown voltage is 2.5m
m厚の試料で72kV、体積固有抵抗は約20℃下で1 m in thick sample 72 kV, the specific volume resistivity under about 20 ° C. 1
13 Ωcmである。 0 13, which is a Ωcm. そして、その構造式は下式(1)で表される。 Then, the formula represented by the following formula (1).

【化1】 [Formula 1]

【0021】また、表1中のフォンブリンZ03の構造式は下式(2)で表される。 Further, the structural formula of Fomblin Z03 in Table 1 is expressed by the following formula (2).

【化2】 ## STR2 ##

【0022】そして、表1中のガルデンH250の構造式は下式(3)で表される。 [0022] Then, the structural formula of Galden H250 in Table 1 is expressed by the following formula (3).

【化3】 [Formula 3]

【0023】本発明の方法では、溶存酸素濃度が1pp [0023] In the method of the present invention, the dissolved oxygen concentration is 1pp
m以下である上述の不活性液体の層を有機EL素子の外周に設けるわけであるが、前記の不活性液体は溶存酸素濃度を1ppm以下にしたものであるとともに、水分量を10ppm以下にしたものであることが特に好ましい。 A layer of inert liquid described above is m or less is not provided on the outer periphery of the organic EL element, but together with the inert liquid is obtained by the concentration of dissolved oxygen 1ppm or less, and the water content to 10ppm or less particularly preferably one. 不活性液体中の溶存酸素濃度を常温真空脱気法により1ppm以下にする場合には、この方法により溶存酸素濃度を1ppm以下にすると同時に、または脱気操作を更に数回繰り返すことにより、溶存酸素濃度が1pp When the 1ppm or less by the dissolved oxygen concentration in the inert liquid normal temperature vacuum degassing method, by repeating several more times and at the same time the dissolved oxygen concentration in 1ppm or less, or the degassing operation by this method, the dissolved oxygen concentration is 1pp
m以下であるとともに水分量が10ppm以下である不活性液体を得ることができる。 The water content with m or less can be obtained inert liquid which is 10ppm or less. また、不活性液体中の溶存酸素濃度を不活性ガス置換法により1ppm以下にする場合には、この方法により溶存酸素濃度を1ppm以下にすると同時に、またはバブリング時間を若干長めにすことにより、溶存酸素濃度1ppm以下、水分量10 Further, in the case of the 1ppm or less by inert gas replacement method the dissolved oxygen concentration in the inert liquid, by to and simultaneously the dissolved oxygen concentration in 1ppm or less, or the bubbling time slightly longer by this method, the dissolved oxygen concentration 1ppm or less, water content 10
ppm以下の目的物が得られる。 ppm or less desired product is obtained. そして、不活性液体中の溶存酸素濃度を凍結真空脱気法により1ppm以下にする場合には、この方法により溶存酸素濃度を1ppm Then, when the 1ppm or less by freeze vacuum degassing method the dissolved oxygen concentration in the inert liquid, 1ppm dissolved oxygen concentration by this method
以下にする前、または1ppm以下にした後に、不活性液体を真空中で蒸留して初留、本留、後留に分け、初留と後留を除くことにより、溶存酸素濃度1ppm以下、 After before or 1ppm or less to below, initial distillate was distilled in vacuo to inert liquid, the distillate is divided into a rear cut, by removing distillate after initial distillate and the dissolved oxygen concentration 1ppm or less,
水分量10ppm以下の目的物が得られる。 The purpose of the following water content 10ppm is obtained. 溶存酸素濃度が1ppm以下であるとともに水分量が10ppm以下である不活性液体を用いることにより、ダークスポットの成長を更に強く抑制することが可能になる。 By water content with the dissolved oxygen concentration is 1ppm or less an inert liquid which is 10ppm or less, it is possible to more strongly suppress the growth of dark spots.

【0024】上述した不活性液体の層を有機EL素子の外周に設けるにあたっては、容器に充填された不活性液体中に有機EL素子全体を浸漬することにより前記の有機EL素子の外周に不活性液体層を設けてもよいが、有機EL素子が基板上に形成されている場合には次のようにして不活性液体層を設けることがより好ましい。 [0024] In the provided on the outer periphery of the organic EL element a layer of inert liquid described above, the outer periphery of the organic EL element by immersing the entire organic EL device in an inert liquid filled in the container inactive the liquid layer may be provided, but the organic EL device it is more preferable to provide the inert liquid layer in the following manner in the case of being formed on the substrate. すなわち、基板上に形成されている有機EL素子の外側に、 That is, on the outside of the organic EL elements formed on the substrate,
当該有機EL素子との間に空隙を形成しつつ前記の基板と共同して有機EL素子を覆うハウジング材を設け、前記の基板と前記のハウジング材とによって形成された空間内に不活性液体を充填することにより不活性液体層を形成することが好ましい。 The in cooperation with the substrate while forming a space between the organic EL element provided with a housing member covering the organic EL element, the inert liquid in the space formed with said substrate by said housing member it is preferable to form the inert liquid layer by filling. 不活性液体の充填は、ハウジング材または基板に予め設けられている注入口から前記の空間内に不活性液体を注入することで行われ、前記の注入口は不活性液体の注入後に封止される。 Filling of the inert liquid is performed by injecting an inert liquid to said space from the inlet provided beforehand on the housing material or substrate, wherein the injection port is sealed after injecting the inert liquid that.

【0025】この場合、前記のハウジング材は封止しようとする有機EL素子の外寸よりも内寸が大きい凹部を有するキャップ状物、板状物(例えば座ぐり基板)、シート状物あるいはフィルム状物であり、このハウジング材は前記の基板と共同して実質的な密閉空間を形成するようにして基板上に固着される。 [0025] In this case, a cap-like having a recess inside dimension greater than the outer dimensions of the organic EL element in which said housing member attempts to seal, plate-like material (e.g., counterbore substrate), sheet or film is Jo was the housing material is fixed on the substrate so as to form a substantially enclosed space in cooperation with the substrate. このとき、封止対象の有機EL素子は前記の凹部内に収納された状態となる。 At this time, the organic EL element of the sealing object is in a state of being housed in the recess of.
基板上に複数個の有機EL素子が形成されている場合、 When a plurality of organic EL elements are formed on a substrate,
前記のハウジング材は有機EL素子毎に設けてもよいし、全ての有機EL素子に共通するものを1枚のみ設けてもよいし、全ての有機EL素子のうちの複数個に共通するものを複数枚設けてもよい。 The housing material may be provided for each organic EL element, to those that are common to all the organic EL elements may be provided only one, those that are common to a plurality of all organic EL elements it may be provided in plurality. 同様に、ハウジング材に形成される前記の凹部は、個々の有機EL素子に対応したものであってもよいし、全ての有機EL素子を収納し得る大きさのものであってもよいし、全ての有機EL Similarly, the recess formed in the housing material, may be one corresponding to each of the organic EL element, it may be of a size capable of accommodating all the organic EL elements, all of the organic EL
素子のうちの複数個を収納し得る大きさのものであってもよい。 Plurality may be of such a size as to be able to house the one of the elements.

【0026】基板上へのハウジング材の固着は、エポキシ樹脂系接着剤やアクリレート樹脂系接着剤等、種々の接着剤を用いて行うことができる。 The fixing of the housing member on the substrate can be carried out using an epoxy resin adhesive or acrylate resin based adhesive, the various adhesives. 中でも水や酸素を透過しにくいものが好ましく、その具体例としてはアラルダイトAR−R30(チバガイギー社製のエポキシ樹脂系接着剤の商品名)が挙げられる。 Among these, the water and oxygen hardly transmitted preferably include ARALDITE AR-R30 (trade name manufactured by Ciba-Geigy epoxy resin adhesive). Specific examples thereof. また、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等、種々の樹脂を上記の接着剤の代わりに用いることもできる。 Further, thermosetting resin or photocurable resin or the like, various resins can be used instead of the adhesive.

【0027】ハウジング材の材質はガラス、ポリマー等の電気絶縁性物質であることが好ましく、その具体例としてはソーダ石灰ガラス、硼硅酸塩ガラス、硅酸塩ガラス、シリカガラス、無蛍光ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂等が挙げられる。 [0027] Preferably the material of the housing material glass, an electrically insulating material such as a polymer, soda lime glass and specific examples thereof include borosilicate glass, silicate salt glass, silica glass, nonfluorescent glass, quartz, acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyethylene, polyester, and silicone resins. また、封止対象の有機EL素子が絶縁被覆された電極線を電極取出しに使用したものである場合や、基板上へのハウジング材の固着を電気絶縁性の接着剤あるいは電気絶縁性の樹脂により行った場合には、ハウジング材としてステンレス鋼やアルミニウム合金等の導電性金属からなるものを用いてもよい。 Further, when the organic EL element of the sealing object is obtained by using the electrode lead-out electrode lines which are insulating coating or, by an electrically insulating adhesive or an electrically insulating resin sticking of the housing material onto a substrate when done, it may be used made of a conductive metal such as stainless steel or aluminum alloy or the like as a housing material.

【0028】有機EL素子が設けられている前記の基板と前記のハウジング材とによって形成された空間内に不活性液体を充填することにより不活性液体層を形成する場合、前記の空間内への不活性液体の注入は大気中で行ってもよいが、注入操作時に不活性液体中に酸素や水分が溶解するのを防止するうえからは、窒素ガス雰囲気、 [0028] When forming the inert liquid layer by filling the inert liquid organic EL element in the space formed by said substrate which is provided with the housing material, to said space injection of the inert liquid may be carried out in air, but the terms of oxygen and moisture upon injection operation in an inert liquid is prevented from dissolving a nitrogen gas atmosphere,
アルゴンガス雰囲気等の不活性ガス雰囲気中で行うほうがより好ましい。 Better carried out in an inert gas atmosphere such as an argon gas atmosphere is more preferred. また、いわゆる真空注入法により行ってもよい。 It may also be carried out by a so-called vacuum injection method.

【0029】ここで、前記の真空注入法とは、注入しようとする液(以下、注入液という)が注入されるべき空間内を脱気した状態に保ち、この状態下で当該空間内に注入液を注入する方法、または注入液が注入されるべき空間内を脱気し、当該空間内の圧力と注入液の供給源を取り巻く雰囲気の圧力との差(前者の方が低い)を利用して前記の空間内に注入液を注入する方法を意味する。 [0029] Here, the the vacuum injection method, the liquid to be injected (hereinafter, injectate hereinafter) is kept in a state of evacuating the interior space to be injected, implanted into the space under this condition how to inject liquid or infusion solution was degassed is the space to be injected, making use of the difference (the former is lower in) the pressure and the injection fluid pressure of the atmosphere surrounding the source of the space Te refer to a method of injecting an infusion liquid into said space.
具体例としては下記(i)〜(iii) の方法が挙げられる。 Specific examples thereof include the following methods (i) ~ (iii).

【0030】(i)注入しようとする液が入った槽中に対象物(注入液が注入されべきる空間を有しているもの全体)を浸漬し、この状態下で加温および減圧を行って前記の空間内の脱気を行うと共に注入液の注入を行う(特公昭57−47559号公報第6欄第13〜18行参照)。 [0030] (i) injection trying to liquid is vessel containing the object into (whole that infusate has a injected Bekir space) was immersed, warming and reduced pressure carried out under this condition performing injection of the infusate performs degassing in the space of the Te (see 57-47559 JP column 6 13-18 line JP).

【0031】(ii)注入液が入った容器(注入液の供給源)と対象物(注入液が注入されべきる空間を有しているもの全体)とを真空槽内に入れ、この真空槽内を減圧した後に前記の空間と注入液の供給源との間に管等を用いて流路を形成し、この後に系全体を大気中にさらすことにより大気圧を利用して対象物中に注入液を注入する(特公昭57−47559号公報第7欄第15〜26行参照)。 [0031] (ii) injecting liquid enters the container with the object (infusate sources) and (whole that infusate has a injected Bekir space) placed in a vacuum chamber, the vacuum chamber the flow path formed by a tube or the like between the source of the space and the injection solution after the depressurized inner, the whole system after this in the object by using the atmospheric pressure by exposure to the atmosphere injecting the injection fluid (see 57-47559 JP column 7 15-26 line JP).

【0032】(iii) まず、無蓋の容器の中に対象物(注入液が注入されべきる空間を有しているもの全体)を入れ、これを真空容器内に置いて当該真空容器内を減圧する。 The (iii) The first, put the object in the container no lid (the whole what infusate has a Bekir space is injected), vacuum the vacuum vessel With this in a vacuum chamber to. このとき、前記の対象物は注入液用の注入口が前記の容器の底に近い所に位置するように入れられる。 At this time, the object of said inlet for injecting liquid is placed so as to be positioned near the bottom of the container. 次いで、前記の真空容器の外部から前記の容器内に注入液を導入し、前記の注入口が十分に浸かるまで当該容器内に注入液を注ぐ。 Then, by introducing injectate from the outside of the vacuum vessel to the container, pour the infusate to the containers until the inlet is immersed sufficiently. この後、真空容器内に乾燥ガスを導入して当該真空容器内の圧力を大気圧に戻し、前記の容器に入っている注入液を取り巻く雰囲気の圧力(=大気圧) Thereafter, by introducing a dry gas into the vacuum vessel back pressure of the vacuum chamber to the atmospheric pressure, the pressure of the atmosphere surrounding the infusate contained in the container (= atmospheric pressure)
と注入液が注入されべきる空間内の圧力との差を利用して前記の空間内に注入液を注入する(特開昭64−57 And injection fluid by using the difference between the pressure in the injected Bekir space for injecting an infusion liquid into said space (JP 64-57
590号公報第2頁左下欄第4行〜第3頁左上欄第9行参照)。 590 JP page 2, left lower column line 4 to third pages upper left column reference line 9).

【0033】なお、不活性液体の注入に際しては、注入方法の種類を問わず、当該不活性液体を加熱してその流動性を高めてもよい。 [0033] Note that when the injection of an inert liquid, regardless of the type of injection method may increase its fluidity by heating the inert liquid. また、不活性液体の注入後に行われる注入口の封止についても、大気中で行うよりは窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等の不活性ガス雰囲気中で行うほうがより好ましい。 Also, for the sealing of the injection port to be performed after the injection of an inert liquid, a nitrogen gas atmosphere than performed in the atmosphere, it should more preferably be performed in an inert gas atmosphere such as an argon atmosphere. 注入口の封止は、ハウジング材を基板に固着させる際に使用するものとして例示した前記の接着剤あるいは前記の樹脂により注入口を塞ぐことにより行うことができる。 Sealing the inlet may be carried out by closing the inlet by way of example to the adhesive or the resin was as for use in fixing the housing member to the substrate.

【0034】上述のようにして有機EL素子の外周に溶存酸素濃度が1ppm以下の不活性液体層を設けることにより、目的とする本発明の封止を行うことができる。 [0034] By the outer periphery to the dissolved oxygen concentration of the organic EL device as described above is provided below the inert liquid layer 1 ppm, it is possible to perform the sealing of the present invention of interest.
また同時に、目的とする本発明の有機EL素子を得ることができる。 At the same time, it is possible to obtain an organic EL device of the present invention of interest. 本発明の方法で封止の対象となる有機EL The organic EL in which the process of the invention are subject to sealing
素子の素子構成は特に限定されるものではなく、種々の素子構成の有機EL素子を対象とすることができる。 Element structure of the device is not particularly limited, and may be directed to organic EL elements of the various elements constituting. したがって、本発明の有機EL素子の素子構成も種々の構成をとる。 Therefore, a device configuration of an organic EL device of the present invention also have various configurations.

【0035】有機EL素子の素子構成の具体例としては、(1)陰極/発光層/正孔輸送層/陽極、(2)陰極/電子注入層/発光層/正孔輸送層/陽極、(3)陰極/接着層/発光層/正孔輸送層/陽極、(4)陰極/ [0035] Specific examples of the device structure of the organic EL element, (1) a cathode / light-emitting layer / hole transport layer / anode, (2) cathode / electron injecting layer / light emitting layer / hole transport layer / anode, ( 3) a cathode / an adhesive layer / emitting layer / hole transport layer / anode, (4) a cathode /
発光層/陽極、等が挙げられる。 Emitting layer / anode, and the like. ここで、前記の発光層は、通常、1種または複数種の有機発光材料により形成されるが、有機発光材料と正孔輸送材料および/または電子注入材料との混合物により形成される場合もある。 Here, the light-emitting layer is usually formed by one or more organic light emitting materials, also be formed by a mixture of an organic luminescent material and a hole transporting material and / or electron injection material .
また、陰極と発光層の間または電子注入層と発光層との間に接着層を設ける場合もある。 There is also a case of providing an adhesive layer between the cathode and the between the light emitting layer or an electron injection layer and the light emitting layer. さらに、上述した層構成の素子の外周に当該素子を覆うようにして素子への水分の侵入を防止するための樹脂製保護層が設けられる場合もある。 Furthermore, there is a case where the resin protective layer for preventing moisture from entering the device so as to cover the element on the outer periphery of the element of the above-described layer structure is provided.

【0036】これらの有機EL素子は、通常、陽極および陰極を含めた各層を基板上に順次積層することで形成されるが、基板を使用しない場合もある。 [0036] These organic EL element is usually a layers including an anode and a cathode is formed by sequentially laminating on a substrate, it may not use a substrate. 基板上に形成された有機EL素子では、基板側を光の取り出し面(発光面)とする場合には、基板の直上に陽極がくるようにして各層が順次積層される。 The organic EL element formed on the substrate, when the substrate side the light extraction surface (the emitting surface), the layers are sequentially laminated such come anode directly above the substrate. この場合の基板は少なくとも有機EL素子からの発光(EL光)に対して高い透過性を与える物質からなり、具体的には透明ガラス、透明プラスチック、石英等からなる板状物やシート状物、あるいはフィルム状物が利用される。 The substrate in this case is made of a material giving high transparency to the light emitting (EL light) from at least an organic EL element, specifically, transparent glass, transparent plastic, platelet or sheet made of quartz or the like, or film-like material is used. 基板側を光の取り出し面(発光面)としない場合には、有機EL素子からの発光の透過性を考慮する必要はない。 If no board-side extraction surface of the light (the light emitting surface), it is not necessary to consider the permeability of light emitted from the organic EL element.

【0037】陽極、陰極、発光層、正孔輸送層、電子注入層、接着層、保護層の材料としては、それぞれ従来公知の材料を用いることができる。 The anode, cathode, light-emitting layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an adhesive layer, the material of the protective layer, respectively it is possible to use conventionally known materials. 例えば、陽極材料としては仕事関数が大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物が好ましく用いられる。 For example, a large work function as the anode material (4 eV or more) metals, alloys, electrically conductive compounds, or mixtures thereof are preferably used. 具体例としてはAu等の金属や、CuI,IT And metals such as Au, specific examples, CuI, IT
O,SnO 2 ,ZnO等の誘電性透明材料等が挙げられる。 O, SnO 2, and dielectric transparent materials such as ZnO, and the like. 特にITOが、生産性、制御性の点から好ましい。 Especially ITO has productivity from the viewpoint of controllability.

【0038】また、陰極材料としては仕事関数の小さい(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物等が好ましく用いられる。 Further, a small work function as a cathode material (4 eV or less) metal, alloy, electrically conductive compound, or mixtures thereof are preferably used. 具体例としてはナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウムと銀との合金または混合金属、Al/AlO 2 、インジウム、希土類金属等が挙げられる。 Specific examples include sodium, sodium - potassium alloy, magnesium, lithium, alloys or mixed metals of magnesium and silver, Al / AlO 2, indium, and rare earth metals. 陽極および陰極のいずれにおいても、そのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。 In either of the anode and the cathode also the sheet resistance is preferably several hundreds Omega / □ or less. なお、陽極材料および陰極材料を選択する際に基準とする仕事関数の大きさは4eVに限定されるものではない。 It is not intended to be limited to 4eV the magnitude of the work function as a reference in selecting the anode material and the cathode material.

【0039】発光層の材料(有機発光材料)の具体例としては、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、 [0039] Specific examples of the light emitting layer material (organic light emitting material), benzothiazole, benzimidazole,
ベンゾオキサゾール系等の系の蛍光増白剤や、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリジン化合物等が挙げられる。 Optical brighteners and systems of benzoxazole, etc., metal chelated oxinoid compounds, styrylbenzene compounds, distyrylpyrazine derivatives, aromatic Jimechirijin compounds.

【0040】正孔輸送層の材料(正孔輸送材料)の具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、 [0040] Specific examples of the hole transport layer material (the hole transport material), triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives , amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styryl anthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives,
スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系化合物、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の特定の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。 Stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilane-based compounds, aniline-based copolymers, such as the particular conductive polymer oligomers such as thiophene oligomers and the like.

【0041】電子注入層の材料(電子注入材料)の具体例としては、ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、8−キノリノール誘導体、その他特定の電子伝達性化合物等が挙げられる。 [0041] Specific examples of the electron injection layer material (electron injection material), nitro-substituted fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenyl derivatives, thiopyran dioxide derivatives, heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as naphthalene perylene things, carbodiimide, deflection distyrylpyrazine derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, 8-quinolinol derivatives, certain other electron transfer compounds, and the like.

【0042】接着層の材料の具体例としては、8−キノリノールまたはその誘導体の金属錯体、例えばトリス(8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)マグネシウム、ビス(ベンゾ−8−キノリノール)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリラート)アルミニウムオキシド、トリス(8−キノリノール)インジウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、8−キノリノールリチウム、トリス(5−クロロ−8−キノリノール)ガリウム、ビス(5−クロロ− [0042] Specific examples of the material of the adhesive layer, 8-quinolinol or metal complexes of its derivatives, such as tris (8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) magnesium, bis (benzo-8-quinolinol) zinc, bis (2-methyl-8-Kinorirato) aluminum oxide, tris (8-quinolinol) indium, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, 8-quinolinol lithium, tris (5-chloro-8-quinolinol) gallium, bis (5-chloro -
8−キノリノール)カルシウム、トリス(5,7−ジクロル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5, 8- quinolinol) calcium, tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,
7−ジブロモ−8−ヒドロキシキノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)ベリリウム、ビス(2 7-dibromo-8-hydroxy quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) beryllium, bis (2
−メチル−8−キノリノール)ベリリウム、ビス(8− - methyl-8-quinolinol) beryllium, bis (8
キノリノール)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノール)亜鉛、ビス(8−キノリノール)スズ、トリス(7−プロピル−8−キノリノール)アルミニウム等が挙げられる。 Quinolinol) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinol) zinc, bis (8-quinolinol) tin, tris (7-propyl-8-quinolinol) aluminum and the like.

【0043】そして、保護層の材料の具体例としては、 [0043] Then, specific examples of the material of the protective layer,
テトラフルオロエチレンと少なくとも1種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、 Copolymer obtained the tetrafluoroethylene monomer mixture containing at least one comonomer are copolymerized, the fluorine-containing copolymer having a cyclic structure in the copolymerization main chain,
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリユリア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、吸水率1% Polyethylene, polypropylene, polymethyl methacrylate, polyimide, polyurea, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, poly-dichloro-difluoroethylene, a copolymer of chlorotrifluoroethylene and dichlorodifluoroethylene, water absorption of 1%
以上の吸水性物質および吸水率0.1%以下の防湿性物質等が挙げられる。 By weight of the water absorbing material and water absorption of 0.1% or less of moisture-proof material, and the like.

【0044】また、封止対象の有機EL素子を構成する各層(陽極および陰極を含む)の形成方法についても特に限定されるものではない。 [0044] Further, there is no particular limitation on the method of forming the respective layers (including an anode and a cathode) of the organic EL element be sealed. 陽極、陰極、発光層、正孔輸送層、電子注入層、接着層の形成方法としては、例えば真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、スパッタリング法、LB法等を適用することができるが、発光層についてはスパッタリング法以外の方法(真空蒸着法、 An anode, a cathode, a light emitting layer, a hole transport layer, an electron injection layer, a method of forming the adhesive layer, for example, vacuum deposition, spin coating, casting method, a sputtering method, can be applied to LB method, the method (vacuum evaporation method other than the sputtering method for the light emitting layer,
スピンコート法、キャスト法、LB法等)を適用することが好ましい。 A spin coating method, a casting method, it is preferable to apply the LB method). 発光層は、特に分子堆積膜であることが好ましい。 It is preferable that the emitting layer be a molecular deposit film. ここで分子堆積膜とは、気相状態の材料化合物から沈着され形成された薄膜や、溶液状態または液相状態の材料化合物から固化され形成された膜のことであり、通常この分子堆積膜は、LB法により形成された薄膜(分子累積膜)とは凝集構造、高次構造の相違や、それに起因する機能的な相違により区分することができる。 Here, the molecular deposit film, and formed by the deposition of a material compound in a gaseous state formed thin film is that the film is solidified to form a material compound in a solution state or a liquid state, usually the molecular deposit film can be partitioned in aggregation structure and thin film formed by LB method (molecular accumulation film), differences in aggregation structures and higher order structures, by functional difference originating in it. スピンコート法等により発光層を形成する場合には、樹脂等の結着剤と材料化合物とを溶剤に溶かすことにより溶液を調製する。 When the EML is formed by spin coating or the like, to prepare a solution by dissolving a binder such as a resin and a material compound in a solvent. 発光層の膜厚については特に制限はなく、状況に応じて適宜選択することができるが、 The thickness of the light-emitting layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the situation,
通常5nm〜5μmの範囲内が好ましい。 Within the range of normal 5nm~5μm it is preferable.

【0045】また、保護層については真空蒸着法、スピンコート法、スパッタリング法、キャスト法、MBE [0045] In addition, the vacuum deposition method for the protective layer, the spin coating method, a sputtering method, a casting method, MBE
(分子線エピタキシ)法、クラスターイオンビーム法、 (Molecular beam epitaxy) method, a cluster ion beam method,
イオンプレーティング法、プラズマ重合法(高周波励起イオンプレーティング法)、反応性スパッタリング法、 An ion plating method, plasma polymerization method (high frequency excitation ion plating method), a reactive sputtering method,
プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、ガスソースCVD法等を適用することができる。 Plasma CVD method, a laser CVD method, thermal CVD method, it is possible to apply the gas source CVD method, or the like.

【0046】各層の形成方法は、使用する材料に応じて適宜変更可能である。 The forming method of each layer can be appropriately changed depending on the material used. 有機EL素子を構成する各層の形成にあたって真空蒸着法を用いれば、この真空蒸着法だけによって封止対象の有機EL素子を形成することができるため、設備の簡略化や生産時間の短縮を図るうえで有利である。 Using the vacuum deposition method in forming the layers constituting the organic EL element, since this vacuum deposition method only can form the organic EL element be sealed, after shortening the simplification and production time facilities in is advantageous.

【0047】上述した封止対象の有機EL素子の外周に前述した不活性液体層を設けることにより封止してなる本発明の有機EL素子では、前記の不活性液体層の存在によりダークスポットの発生やダークスポットの成長が強く抑制されるので、素子寿命が長い。 [0047] In the organic EL element of the outer circumference by encapsulating by providing the inert liquid layer described above in the present invention the organic EL element of the sealing object described above, the dark spots due to the presence of the inert liquid layer since the growth of generation and dark spots are strongly suppressed, a long element life.

【0048】 [0048]

【実施例】以下、本発明の実施例を比較例と対比しながら説明するが、各実施例および各比較例で封止の対象として用いた有機EL素子の製造方法を予め説明しておく。 EXAMPLES As follows is a described in comparison with a comparative example embodiment of the present invention, previously described a method of manufacturing an organic EL device using as an object of sealing in Examples and Comparative Examples in advance. 封止対象の有機EL素子を作製するにあたっては、 Order to produce an organic EL element of the sealing object,
まず、25mm×75mm×1.1mmのガラス基板上に膜厚100nmのITO膜を蒸着法により成膜したものを透明支持基板として用意した。 First, it was prepared as a transparent support substrate which was formed by vapor deposition ITO film having a thickness of 100nm to 25 mm × 75 mm × 1.1 mm glass substrate. この基板の光透過率を島津製作所社製のUV−3100PCで測定したところ、400〜600nmの波長域で約80%であった。 Measurement of the light transmittance of the substrate in UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation, was about 80% in the wavelength range of 400 to 600 nm.
この基板をイソプロピルアルコール中で5分間、次いで純水中で5分間、それぞれ超音波洗浄し、さらに、 5 minutes The substrate with isopropyl alcohol, followed by 5 minutes in pure water, each ultrasonic cleaning, and further,
(株)サムコインターナショナル研究所製の装置用いてUVオゾン洗浄を10分間行った。 (Ltd.) was subjected to UV ozone cleaning for 10 minutes using Samco International Research Laboratory of the device.

【0049】次に、この基板を市販の蒸着装置(日本真空技術(株)製)の基板ホルダーに固定する一方で、モリブデン製の抵抗加熱ボートにN,N′−ビス(3−メチルフェニル−N,N′−ジフェニル[1,1′−ビフェニル]−4,4′−ジアミン(以下、TPDと略記する)を200mg入れ、また、違うモリブデン製の抵抗加熱ボートに4,4′−ビス(2,2′−ジフェニルビニル)ビフェニル(以下、DPVBiと略記する)を2 Next, while fixing the substrate to the substrate holder of a commercially available vapor deposition apparatus (ULVAC Co., Ltd.), N the molybdenum resistance heating boat, N'- bis (3-methylphenyl - N, N'-diphenyl [1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine (hereinafter, TPD as abbreviated) was placed 200mg, also in different molybdenum resistive heating boats of 4,4'-bis ( 2,2'-diphenyl vinyl) biphenyl (hereinafter abbreviated as DPVBi) 2
00mg入れた後、真空槽を1×10 -4 Paまで減圧した。 Was put 200 mg, pressure in the vacuum tank was reduced to 1 × 10 -4 Pa.

【0050】この後、TPD入りの前記ボートを215 [0050] After this, the boat containing TPD 215
〜220℃まで加熱し、TPDを蒸着速度0.1〜0. It was heated to to 220 ° C., the deposition rate from 0.1 to 0 the TPD.
3nm/sで前記ITO膜上に蒸着させて、膜厚60n It is evaporated onto the ITO film 3 nm / s, film thickness 60n
mの正孔輸送層を形成した。 To form a hole transport layer of m. このときの基板温度は室温であった。 The substrate temperature at this time was room temperature. これを真空槽より取り出すことなく、正孔輸送層の成膜に引き続きDPVBi入りの前記ボートを2 This without taking out of the vacuum tank, the boat continues DPVBi containing the formation of the hole-transporting layer 2
40℃まで加熱し、DPVBiを蒸着速度0.1〜0. It was heated to 40 ° C., depositing DPVBi rate from 0.1 to 0.
3nm/sで前記正孔輸送層上に蒸着させて、膜厚40 Wherein at 3 nm / s is evaporated on the hole transport layer, the thickness 40
nmの発光層を形成した。 It was formed nm light-emitting layer. このときの基板温度も室温であった。 Substrate temperature at this time was also at room temperature.

【0051】これを真空槽より取出し、上記発光層の上にステンレススチール製のマスクを設置し、再び基板ホルダーに固定した。 [0051] This extraction from the vacuum chamber, established a stainless steel mask on the light emitting layer was fixed again substrate holder. 次いで、モリブデン製ボートにトリス(8−キノリノール)アルミニウム(以下、Alq 3 Then, the boat made of molybdenum tris (8-quinolinol) aluminum (hereinafter, Alq 3
と略記する)を200mg入れ、また、違うモリブデン製ボートにマグネシウムリボン1gを入れ、さらに、タングステン製バスケットに銀ワイヤー500mgを入れて、これらのボートを真空槽に装着した。 And the abbreviated) placed 200mg, also placed magnesium ribbon 1g in different molybdenum boat, further putting silver wire 500mg in a tungsten basket, equipped with these boats the vacuum chamber.

【0052】次に、真空槽を1×10 -4 Paまで減圧してからAlq 3入りの前記ボートを230℃まで加熱し、Alq 3を蒸着速度0.01〜0.03nm/sで前記発光層上に蒸着させて、膜厚20nmの接着層を形成した。 Next, heat from the vacuum chamber was evacuated to 1 × 10 -4 Pa the boat Alq 3 containing up to 230 ° C., the emission of Alq 3 at a vapor deposition rate 0.01~0.03nm / s It is evaporated onto the layer to form an adhesive layer having a thickness of 20 nm. さらに、銀を蒸着速度0.1nm/sで前記接着層上に蒸着させると同時に、マグネシウムを蒸着速度1.4nm/sで前記接着層上に蒸着させて、マグネシウムと銀の混合金属からなる膜厚150nmの対向電極を形成した。 Further, simultaneously with the deposition of silver onto the adhesive layer at a deposition rate 0.1 nm / s, it is evaporated onto the adhesive layer of magnesium at a deposition rate 1.4 nm / s, a mixed metal of magnesium and silver film to form a counter electrode having a thickness 150 nm. この対向電極の反射率を島津製作所社製のUV−3100PCで測定したところ、400〜600 Measurement of the reflectance of the counter electrode in UV-3100PC of Shimadzu Corporation, 400-600
nmの波長域で80%であった。 nm was 80% in the wavelength region of.

【0053】上述のようにして対向電極まで形成することにより、目的とする封止対象の有機EL素子が得られた。 [0053] By forming to the opposite electrode as described above, the organic EL element of the sealing object of interest is obtained. この有機EL素子は、ガラス基板の一主表面上に陽極としてのITO膜、正孔輸送層としてのTPD層、発光層としてのDPVBi層、接着層としてのAlq The organic EL device, ITO film as an anode on one major surface of a glass substrate, TPD layer as a hole transport layer, DPVBi layer as a light emitting layer, Alq as an adhesive layer
3層、および対向電極としてのマグネシウム−銀混合金属層が順次積層されてなるものである。 3-layer, and magnesium as the counter electrode - in which silver mixed metal layer are sequentially stacked. ITO膜の一部とマグネシウム−銀混合金属層の一部はそれぞれ電極取り出し用の電極線を兼ねており、発光層の平面視上の大きさは6mm×10mmである。 Some magnesium of the ITO film - portion of silver mixed metal layer is respectively serve as the electrode wire for electrode extraction, the size of the plan view of the light emitting layer is 6 mm × 10 mm.

【0054】実施例1 (1)溶存酸素濃度が1ppm以下の不活性液体の調製 まず、溶存酸素濃度を調整する前の不活性液体としてパーフルオロポリエーテル(ダイキン工業株式会社製のデムナムS−20(商品名;25℃における蒸気圧10 -6 [0054] Example 1 (1) Preparation of dissolved oxygen concentration of less inert liquid 1ppm First, Demnum as inert liquid before the adjustment of the dissolved oxygen concentration perfluoropolyether (manufactured by Daikin Industries, Ltd. S-20 (trade name; vapor at 25 ° C. pressure 10 -6
Torr,25℃における動粘度53cSt))を用意し、 Providing a kinematic viscosity 53cSt)) in Torr, 25 ° C.,
このデムナムS−20の適当量を真空コック付きガラス製試料容器に入れ、この試料容器と拡散ポンプ付き真空ポンプ(日本真空技術(株)製のULVAC VPC− The Demnum S-20 an appropriate amount placed in a glass sample container with a vacuum cock of made this sample container diffusion pump with a vacuum pump (ULVAC (Ltd.) ULVAC VPC-
050)とをフランジを用いて接続した。 050) and the with flanges connected. 次に、上記の試料容器に入ったデムナムS−20中にポリテトラフルオロカーボン(テフロン)製の沸石を挿入し、常温にて撹拌しながら当該試料容器内を10 -4 Torrにまで真空引きして、発泡がなくなるまで約30分間、常温真空脱気法により溶存酸素を排出した。 Then, during Demnum S-20 that has entered the sample vessel of the insert the polytetrafluorocarbon (Teflon) made of zeolite and stirring at room temperature the sample vessel was evacuated to the 10 -4 Torr , about 30 minutes until bubbling disappeared, it was drained dissolved oxygen by cold vacuum degassing.

【0055】このようにして調製された不活性液体の溶存酸素濃度は0.05ppmであり、当該不活性液体中の水分量は5ppmであった。 [0055] dissolved oxygen concentration of the inert liquid prepared in this way is 0.05 ppm, the water content of the inert liquid was 5 ppm. なお、溶存酸素濃度の測定にはセントラル科学株式会社製のSUD−1(測定装置の商品名)を使用し、雰囲気を窒素ガスで置換したグローブボックス中で前記の装置のセンサー部分に不活性液体を50ミリリットル/分の一定流量で流し、約20 Incidentally, the dissolved oxygen in the measurement of concentrations using a SUD-1 manufactured by Central Scientific Corporation (trade name of a measuring apparatus), an inert liquid sensor portion of the device to atmosphere in a glove box purged with nitrogen gas the flow at a constant flow rate 50 ml / min, about 20
秒後、表示数値が安定した後に測定値を読み取った。 After seconds, it reads the measured value after the display value is stable. また、不活性液体中の水分量の測定は、カールフィッシャー滴定法により行った。 The measurement of water content in the inert liquid was performed by Karl Fischer titration.

【0056】(2)封止 まず、ガラス製のキャップ型ハウジング材(豊和産業社製の座グリ基板)を用意した。 [0056] (2) sealing was first prepared glass cap-shaped housing material (Howa Sangyo Co. counterbore substrate). このハウジング材は、内寸が13mm×13mm×1mmの凹部を1個有し、その外寸は15mm×15mm×1.8mmである。 The housing material, the inner dimension has one recess of 13 mm × 13 mm × 1 mm, its external dimensions are 15mm × 15mm × 1.8mm. また、このハウジング材の凹部の底には不活性液体を注入するための注入口が設けられている。 Also provided is an inlet for injecting an inert liquid in the bottom of the recess of the housing member. 次に、封止対象の有機EL素子が前記の凹部内に納まるようにして、前記の有機EL素子が形成されているガラス基板と上記のハウジング材とをエポキシ樹脂系接着剤(チバガイギー社製のアラルダイトAR−R30)により貼り合わせた。 Next, the organic EL element of the sealing target as fit into the recess, the glass substrate and the organic EL element is formed of the housing member and the epoxy resin adhesive (made by Ciba-Geigy of It was bonded by Araldite AR-R30).
このとき、有機EL素子はハウジング材の凹部と基板とによって形成された空間内に在り、有機EL素子とハウジング材とは非接触の状態にある。 At this time, the organic EL element lies in a space formed by the recess and the substrate in the housing member, the organic EL device and the housing material in a non-contact state.

【0057】3時間放置して接着剤を固化させた後、真空デシケータを用いて真空乾燥した。 [0057] After 3 hours left to solidify the adhesive, and vacuum dried with a vacuum desiccator. 真空乾燥後のものを雰囲気を窒素ガスで置換したグローブボックス内に移し、このグローブボックス中で、ハウジング材に設けられている注入口から上記(1)で調製した不活性液体を注入して、ハウジング材の凹部と基板とによって形成されている空間内に前記の不活性液体を充填した。 The atmosphere that following vacuum drying was transferred into a glove box purged with nitrogen gas, in this glove box, the injection port provided in the housing member by injecting the inert liquid prepared in the above (1), It was filled with the inert liquid in the space formed by the concave portion and the substrate in the housing member. 不活性液体の充填後、前記のグローブボックス内において前記の注入口をエポキシ系接着剤(チバガイギー社製のアラルダイトAR−R30)により塞ぎ、接着剤が固化するまで3時間ほどグローブボックス中に放置した。 After filling the inert liquid, and the said inlet in said glove box closing with an epoxy adhesive (Araldite AR-R30 of Ciba-Geigy Corp.), and allowed to stand in 3 hours as a glove box until the adhesive is solidified .

【0058】ハウジング材の凹部と基板とによって形成されている空間内に上記(1)で調製した不活性液体を充填したことにより封止対象の有機EL素子の外周には不活性液体層が形成され、これにより目的とする封止がなされた。 [0058] The outer periphery of the organic EL element be sealed by filling the inert liquid prepared in the space formed by the recess and the substrate in the housing member in the above (1) inert liquid layer is formed It is, thereby sealing the intended been made. また同時に、目的とする有機EL素子が得られた。 At the same time, obtain an organic EL device of interest. この有機EL素子(封止されたもの)の断面の概略を図1に示す。 A schematic cross section of the organic EL device (which was sealed) shown in FIG. 図1に示したように、上で得られた本発明の有機EL素子1は、封止対象の有機EL素子10 As shown in FIG. 1, the organic EL device 1 of the present invention obtained above may be sealed of the organic EL element 10
の外周に上記(1)で調製した不活性液体からなる不活性液体層20を設けてなる。 The outer circumference formed by providing the above (1) made of inert liquid prepared in an inert liquid layer 20. 封止対象の有機EL素子1 The organic EL element of the sealing target 1
0はガラス基板11上に陽極としてのITO膜12、正孔輸送層としてのTPD層13、発光層としてのDPV 0 ITO film 12 as an anode on a glass substrate 11, TPD layer 13 as a hole transport layer, DPV as a light emitting layer
Bi層14、接着層としてのAlq 3層15、および対向電極(陰極)としてのマグネシウム−銀混合金属層1 Bi layer 14, magnesium as Alq 3 layer 15, and the counter electrode as the adhesive layer (negative electrode) - silver mixed metal layer 1
6を順次積層したものである。 6 is obtained by sequentially laminated. そして、ITO膜12の一部12aとマグネシウム−銀混合金属層16の一部1 A part 12a and magnesium ITO film 12 - portion of silver mixed metal layer 16 1
6aはそれぞれ電極取り出し用の電極線となっている。 6a is respectively a electrode wire for electrode extraction.
この有機EL素子10は、ガラス基板11上にエポキシ樹脂系17によって固着されたハウジング材18の凹部と前記のガラス基板11とによって形成された空間内に在り、この空間内には上記(1)で調製した不活性液体が充填されている。 The organic EL element 10 is located in a space formed by the concave portion of the housing member 18 secured by epoxy resin 17 on the glass substrate 11 and the glass substrate 11, in this space (1) in an inert liquid prepared it is filled. その結果として、有機EL素子1の外周には不活性液体層20が形成されている。 As a result, the outer periphery of the organic EL element 1 is formed with an inert liquid layer 20. 不活性液体は、ハウジング材18に設けられていた注入口19から注入されたものであり、前記の注入口19は不活性液体の注入後にエポキシ樹脂系接着剤17aにより封止されている。 Inert liquid has been injected from the injection port 19 which is provided in the housing member 18, the inlet 19 is sealed by an epoxy resin adhesive 17a after the injection of an inert liquid.

【0059】(3)評価 上記(2)で得られた有機EL素子(封止されたもの) [0059] (3) Evaluation (2) In the obtained organic EL device (which was sealed)
に当該有機EL素子の2つの電極線を介して直流定電流電源を接続し、25℃、大気圧下で初期輝度が100c Via two electrode lines of the organic EL element connected to the DC constant current power supply, 25 ° C., initial luminance 100c at atmospheric pressure
d/m 2になるように通電した。 energized so as to d / m 2. このときの電流値は0.56mA、電圧値は9Vであった。 Current value at this time 0.56MA, voltage value was 9V. なお、輝度の測定はミノルタカメラ社製の色彩色差計(商品名CS−1 It should be noted that the measurement of brightness Minolta Camera Co., Ltd. of a color difference meter (trade name: CS-1
00)を用いて行った。 00) was performed using. 上記の通電に引き続いて発光面の拡大写真(倍率10倍)を撮影し、この写真から発光面の平面視上の面積に対するダークスポットの平面視上の総面積の比(以下、無発光面積比という)を求めたところ、0.43%であった。 The above subsequent to energization taking enlarged photograph of the light emitting surface (10X magnification), the ratio of the total area of ​​the plan view of the dark spot to the area of ​​the plan view of the light emitting surface from the photo (hereinafter, no-light emission area ratio was asked for) that, it was 0.43%. また、ある1つのダークスポットの直径を求めたところ18.4μmであった。 In addition, it was 18.4μm was determined the diameter of a certain one of the dark spots.

【0060】次に、通電開始から139時間後に上記と同一手法で無発光面積比を求めたところ0.51%であり、初期の値から殆ど変化していないことが確認された。 Next, 0.51% as was determined no-light emission area ratio with the same method from start of energization after 139 hours, it hardly changed from the initial value was confirmed. また、上記のものと同じダークスポットの直径を求めたところ20.1μmであり、初期の直径から殆ど変化していないことが確認された。 In addition, a 20.1μm was determined the diameter of the same dark spot as those of the above, it was confirmed that almost no change from the initial diameter. ダークスポットの成長速度を1時間当たりの直径増大値と定義すると、本実施例1の場合は(20.1−18.4)/139=1.2 Defining the growth rate of dark spots the diameter increase value per hour, in the case of the first embodiment (20.1-18.4) /139=1.2
2×10 -2 μm/時間となる。 A 2 × 10 -2 μm / time. この値は、後述する比較例での値に比べて極めて小さい。 This value is very small compared to the value of the comparative example described later. これらのことから、上記(1)で調製した不活性液体からなる不活性液体層は、ダークスポットの成長を強く抑制していることがわかる。 From these, the (1) made of inert liquid prepared in inert liquid layer, it can be seen that the strongly suppressed the growth of dark spots.

【0061】実施例2 まず、溶存酸素濃度を調整する前の不活性液体としてパーフルオロポリエーテル(モンテカチーニ社製のフォンブリンZ03(商品名;25℃における蒸気圧10 -4 To [0061] Example 2 First, the dissolved oxygen concentration perfluoropolyether as an inert liquid prior to adjust (Montecatini Co. Fomblin Z03 (trade name: 25 vapor pressure 10 -4 the To at ℃
rr,25℃における動粘度30cSt))を用いた以外は実施例1(1)と同条件で常温真空脱気を行って、溶存酸素濃度が0.1ppm、水分量が5ppmである不活性液体を調製した。 rr, 25 except for the use of kinematic viscosity 30 cSt)) at ℃ went cold vacuum degassing under the same conditions as in Example 1 (1), the dissolved oxygen concentration is 0.1 ppm, the inert liquid water content is 5ppm It was prepared. 次に、この不活性液体により封止対象の有機EL素子の外周に不活性液体層を形成した以外は実施例1と同条件で、目的とする封止を行った。 Then, in this except for forming the outer periphery inert liquid layer of the organic EL element it is sealed with an inert liquid as in Example 1 under the same conditions, were subjected to sealing of interest. また同時に、目的とする有機EL素子(封止されたもの) At the same time, the organic EL element of interest (that is sealed)
を得た。 It was obtained.

【0062】この有機EL素子に実施例1と同条件で通電し、初期の無発光面積比と、ある1つのダークスポットの初期の直径とを実施例1と同一手法で求めたところ、無発光面積比は0.43%、ダークスポットの直径は18.4μmであった。 [0062] energized under the same conditions as in Example 1 to the organic EL device, the initial no-light emission area ratio, where the initial diameter of a single dark spot obtained in Example 1 and the same approach, no-light emission area ratio 0.43% the diameter of dark spots was 18.4Myuemu. また、通電開始から152時間後の無発光面積比と前記のものと同じダークスポットの直径を実施例1と同一手法で求めたところ、無発光面積比は0.59%、ダークスポットの直径は19.1μ Moreover, when the diameter of the same dark spot as no-light emission area ratio of 152 hours after the start of energization and the obtained in Example 1 and the same approach, no-light emission area ratio 0.59%, and the diameter of dark spots 19.1μ
mであった。 It was m. そして、ダークスポットの成長速度は4. Then, the growth rate of dark spots 4.
61×10 -3 μm/時間であった。 Was 61 × 10 -3 μm / time. この値は、後述する比較例での値に比べて極めて小さい。 This value is very small compared to the value of the comparative example described later. これらのことから、本実施例2で調製した不活性液体からなる不活性液体層は、ダークスポットの成長を強く抑制していることがわかる。 From these, the inert liquid layer consisting of inert liquid prepared in this Example 2, it can be seen that the strongly suppressed the growth of dark spots.

【0063】比較例1 まず、溶存酸素濃度を調整する前の不活性液体としてパーフルオロアミン(住友スリーエム社製のフロリナートFC−70(商品名;25℃における蒸気圧0.1Tor [0063] Comparative Example 1 First, Fluorinert FC-70 (trade name as an inert liquid perfluoro amines (manufactured by Sumitomo 3M before the adjustment of the dissolved oxygen concentration; vapor pressure at 25 ℃ 0.1Tor
r))を用いた以外は実施例1(1)と同条件で常温真空脱気を行ったところ、前記の不活性液体の25℃における蒸気圧が10 -2 Torrより高いことから十分な脱気がなされず、調製された不活性液体の溶存酸素濃度は本発明の限定範囲外の2ppmであった。 When except for using r)) was subjected to ordinary temperature vacuum degassing under the same conditions as in Example 1 (1), sufficient removal since the vapor pressure at 25 ° C. of the inert liquid is higher than 10 -2 Torr air is not made, the dissolved oxygen concentration in the inert liquid prepared was 2ppm outside the limited range of the present invention. また、この不活性液体の水分量は20ppmであった。 Further, water content of the inert liquid was 20 ppm. 次に、この不活性液体により封止対象の有機EL素子の外周に不活性液体層を形成した以外は実施例1と同条件で封止を行い、封止された有機EL素子を得た。 Next, the sealing in the Example 1 and the same conditions except for forming the inert liquid layer on the outer periphery of the organic EL element be sealed by the inert liquid, to obtain a sealed organic EL device.

【0064】この有機EL素子に実施例1と同条件で通電し、初期の無発光面積比と、ある1つのダークスポットの初期の直径とを実施例1と同一手法で求めたところ、無発光面積比は0.45%、ダークスポットの直径は18.3μmであった。 [0064] energized under the same conditions as in Example 1 to the organic EL device, the initial no-light emission area ratio, where the initial diameter of a single dark spot obtained in Example 1 and same approach, no-light emission area ratio 0.45%, the diameter of dark spots was 18.3Myuemu. また、通電開始から124時間後の無発光面積比と前記のものと同じダークスポットの直径を実施例1と同一手法で求めたところ、無発光面積比は3.9%、ダークスポットの直径は45.7μm Moreover, when the diameter of the same dark spot as no-light emission area ratio of 124 hours after the start of energization and the obtained in Example 1 and the same approach, no-light emission area ratio 3.9%, the diameter of dark spots 45.7μm
であった。 Met. そして、ダークスポットの成長速度は2.2 Then, the growth rate of dark spots 2.2
1×10 -1 μm/時間であった。 Was 1 × 10 -1 μm / time. この値は、実施例1および実施例2での値に比べて極めて大きい。 This value is very large compared to the value in Example 1 and Example 2.

【0065】比較例2 まず、溶存酸素濃度を調整する前の不活性液体としてパーフルオロアミン(住友スリーエム社製のフロリナートFC−43(商品名;25℃における蒸気圧1.3Tor [0065] Comparative Example 2 First, Fluorinert FC-43 (trade name as an inert liquid perfluoro amines (of Sumitomo 3M before adjusting the dissolved oxygen concentration; vapor pressure at 25 ℃ 1.3Tor
r))を用いた以外は実施例1(1)と同条件で常温真空脱気を行ったところ、前記の不活性液体の25℃における蒸気圧が10 -2 Torrより高いことから十分な脱気がなされず、調製された不活性液体の溶存酸素濃度は本発明の限定範囲外の10ppmであった。 When except for using r)) was subjected to ordinary temperature vacuum degassing under the same conditions as in Example 1 (1), sufficient removal since the vapor pressure at 25 ° C. of the inert liquid is higher than 10 -2 Torr air is not made, the dissolved oxygen concentration in the inert liquid prepared was 10ppm outside the limited range of the present invention. また、この不活性液体の水分量は50ppmであった。 Further, water content of the inert liquid was 50 ppm. 次に、この不活性液体により封止対象の有機EL素子の外周に不活性液体層を形成した以外は実施例1と同条件で封止を行い、 Next, the sealing in the Example 1 and the same conditions except for forming the inert liquid layer on the outer periphery of the organic EL element be sealed by the inert liquid,
封止された有機EL素子を得た。 To obtain a sealed organic EL device.

【0066】この有機EL素子に実施例1と同条件で通電し、初期の無発光面積比と、ある1つのダークスポットの初期の直径とを実施例1と同一手法で求めたところ、無発光面積比は0.42%、ダークスポットの直径は18.5μmであった。 [0066] energized under the same conditions as in Example 1 to the organic EL device, the initial no-light emission area ratio, where the initial diameter of a single dark spot obtained in Example 1 and the same approach, no-light emission area ratio 0.42% the diameter of dark spots was 18.5. また、通電開始から136時間後の無発光面積比と前記のものと同じダークスポットの直径を実施例1と同一手法で求めたところ、無発光面積比は12.3%、ダークスポットの直径は121.9 Moreover, when the diameter of the same dark spot as no-light emission area ratio of 136 hours after the start of energization and the obtained in Example 1 and the same approach, no-light emission area ratio 12.3%, the diameter of dark spots 121.9
μmであった。 It was μm. そして、ダークスポットの成長速度は7.60×10 -1 μm/時間であった。 Then, the growth rate of dark spots was 7.60 × 10 -1 μm / time. この値は、実施例1および実施例2での値に比べて極めて大きい。 This value is very large compared to the value in Example 1 and Example 2.

【0067】比較例3 不活性液体として、実施例1で用いたパーフルオロポリエーテル(ダイキン工業株式会社製のデムナムS−20 [0067] Comparative Example 3 as an inert liquid, Demnum perfluoropolyether (manufactured by Daikin Industries, Ltd. was used in Example 1 S-20
(商品名))を真空脱気せずにそのまま用い、この不活性液体により封止対象の有機EL素子の外周に不活性液体層を形成した以外は実施例1と同条件で封止を行い、 (Trade name)) as used without vacuum degassing, subjected to sealing in Example 1 under the same conditions except for forming the inert liquid layer on the outer periphery of the organic EL element be sealed by the inert liquid ,
封止された有機EL素子を得た。 To obtain a sealed organic EL device. なお、上記の不活性液体の溶存酸素濃度は本発明の限定範囲外の8.0ppm Incidentally, 8.0 ppm out of the limited range of the dissolved oxygen concentration of the inert liquid present invention
であった。 Met.

【0068】この有機EL素子に実施例1と同条件で通電し、初期の無発光面積比と、ある1つのダークスポットの初期の直径とを実施例1と同一手法で求めたところ、無発光面積比は0.46%、ダークスポットの直径は18.8μmであった。 [0068] energized under the same conditions as in Example 1 to the organic EL device, the initial no-light emission area ratio, where the initial diameter of a single dark spot obtained in Example 1 and the same approach, no-light emission area ratio 0.46% the diameter of dark spots was 18.8Myuemu. また、通電開始から115時間後の無発光面積比と前記のものと同じダークスポットの直径を実施例1と同一手法で求めたところ、無発光面積比は12.4%、ダークスポットの直径は82.5μ Moreover, when the diameter of the same dark spot as no-light emission area ratio of 115 hours after the start of energization and the obtained in Example 1 and the same approach, no-light emission area ratio 12.4%, the diameter of dark spots 82.5μ
mであった。 It was m. そして、ダークスポットの成長速度は5. Then, the growth rate of dark spots 5.
55×10 -1 μm/時間であった。 Was 55 × 10 -1 μm / time. この値は、実施例1 This value Example 1
および実施例2での値に比べて極めて大きい。 And very large compared to the value in Example 2.

【0069】 [0069]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の方法によれば有機EL素子におけるダークスポットの成長を強く抑制することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to strongly suppress the growth of dark spots in organic EL devices according to the method of the present invention. したがって、本発明を実施することにより素子寿命の長い有機EL素子を提供することが可能になる。 Therefore, it is possible to provide a long organic EL element of element life by practice of the invention.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】実施例1で得た有機EL素子(封止されたもの)の断面の概略図である。 1 is a schematic view of a cross section of an organic EL device obtained in Example 1 (which was sealed).

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 本発明の有機EL素子 10 封止対象の有機EL素子 11 ガラス基板 17,17a エポキシ樹脂系接着剤 18 ハウジング材 19 注入口 20 不活性液体層 One organic EL element 10 be sealed of the organic EL element 11 a glass substrate 17,17a epoxy resin adhesive 18 housing member 19 inlet 20 inert liquid layer of the invention

Claims (5)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 陽極と陰極とが少なくとも発光層を介して積層されてる有機EL素子の外周に、溶存酸素濃度が1ppm以下の不活性液体層を設けることを特徴とする有機EL素子の封止方法。 1. A on the outer periphery of the organic EL element anode, a cathode are laminated through at least an emission layer, sealing the organic EL elements dissolved oxygen concentration and providing a less inert liquid layer 1ppm Method.
  2. 【請求項2】 不活性液体に含まれている水分が10p Wherein the water content in the inert liquid 10p
    pm以下である、請求項1に記載の方法。 pm or less The method of claim 1.
  3. 【請求項3】 不活性液体が、25℃における蒸気圧が10 -2 Torr以下の液状フッ素化炭素である、請求項1または請求項2に記載の方法。 Wherein the inert liquid, vapor pressure at 25 ° C. is less liquid fluorinated carbon 10 -2 Torr, the method according to claim 1 or claim 2.
  4. 【請求項4】 基板上に形成されている有機EL素子の外側に、前記有機EL素子との間に空隙を形成しつつ前記基板と共同して前記有機EL素子を覆うハウジング材を設け、前記基板と前記ハウジング材とによって形成された空間内に不活性液体を充填することにより不活性液体層を形成する、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の方法。 Outside of 4. The organic EL element formed on a substrate, provided with a housing member for covering the organic EL device in cooperation with the substrate while forming a space between the organic EL element, wherein forming an inert liquid layer by filling the inert liquid in the space formed by the substrate and said housing member, the method according to any one of claims 1 to 3.
  5. 【請求項5】 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の方法により封止されていることを特徴とする有機E 5. The organic E, characterized by being sealed by a method according to any one of claims 1 to 4
    L素子。 L element.
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