JPH08279134A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH08279134A JPH08279134A JP7917495A JP7917495A JPH08279134A JP H08279134 A JPH08279134 A JP H08279134A JP 7917495 A JP7917495 A JP 7917495A JP 7917495 A JP7917495 A JP 7917495A JP H08279134 A JPH08279134 A JP H08279134A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording medium
- film
- magnetic recording
- lubricant
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高記録密度に対応する為、低浮上量を容易に
する表面粗さが極めて小さなディスクであっても、耐久
性に優れた磁気記録媒体を提供することにある。 【構成】 最大突起高さＲｐから５０Åの深さで切った
時の山の数ＰＣ50が３０〜２００本／ｍｍの表面特性を
有する磁気記録媒体。
する表面粗さが極めて小さなディスクであっても、耐久
性に優れた磁気記録媒体を提供することにある。 【構成】 最大突起高さＲｐから５０Åの深さで切った
時の山の数ＰＣ50が３０〜２００本／ｍｍの表面特性を
有する磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク等の磁気
記録媒体に関する。
記録媒体に関する。
【０００２】
【発明の背景】コンピュータ等の外部記憶装置に使用さ
れる磁気ディスクにおいては、磁気ディスクと磁気ヘッ
ドとの間の距離、すなわち磁気ヘッドの浮上高さを低く
することが再生出力などの点から求められている。従っ
て、磁気ディスクの表面は平滑であることが好ましいと
言える。しかし、表面が平滑すぎると、磁気ヘッドが磁
気ディスクに貼り付き、磁気ディスクや磁気ヘッドに損
傷の恐れが有る。よって、表面を適度な粗さにする為、
テクスチャ処理が基板（支持体）に施されることにな
る。
れる磁気ディスクにおいては、磁気ディスクと磁気ヘッ
ドとの間の距離、すなわち磁気ヘッドの浮上高さを低く
することが再生出力などの点から求められている。従っ
て、磁気ディスクの表面は平滑であることが好ましいと
言える。しかし、表面が平滑すぎると、磁気ヘッドが磁
気ディスクに貼り付き、磁気ディスクや磁気ヘッドに損
傷の恐れが有る。よって、表面を適度な粗さにする為、
テクスチャ処理が基板（支持体）に施されることにな
る。
【０００３】このテクスチャ処理として、従来より幾つ
かの手法が提案されている。例えば、アルミニウム基板
に対しては機械的研磨法が提案されている。ガラス基板
に対しては、化学的エッチング法や、微粒子含有塗料の
塗布法が提案されている。又、カーボン基板に対して
は、熱酸化法などが提案されている。そして、テクスチ
ャ処理の基準として、テクスチャの粗さ曲線の中心線を
基準とした高さＸμｍ以上の凹凸の、該粗さ曲線２５０
０μｍ当たりの数をＰc2（Ｘ）とした場合、Ｐc2(0.01)
は１００以上で、Ｐc2(0.035) は０となるよう支持体に
テクスチャ処理を行う技術（特開平４−２５１４３６号
公報）や、半径方向における表面粗さが、基準長さ２５
０μｍの間においてＰｃ（＋１００Å）≧３０（ここ
で、Ｐｃ（＋１００Å）とは、粗さ曲線の中心線に対し
上側に１００Åの位置に、中心線に対して平行な１本の
ピークカウントレベルを設けた時、中心線と粗さ曲線が
交差する２点間においてピークカウントレベルと粗さ曲
線が交差する点が１回以上存在する場合一山とし、基準
長さにおいての山の合計数を表す）となるよう支持体に
テクスチャ処理を行う技術（特開平６−２２３３５４号
公報）が提案されている。
かの手法が提案されている。例えば、アルミニウム基板
に対しては機械的研磨法が提案されている。ガラス基板
に対しては、化学的エッチング法や、微粒子含有塗料の
塗布法が提案されている。又、カーボン基板に対して
は、熱酸化法などが提案されている。そして、テクスチ
ャ処理の基準として、テクスチャの粗さ曲線の中心線を
基準とした高さＸμｍ以上の凹凸の、該粗さ曲線２５０
０μｍ当たりの数をＰc2（Ｘ）とした場合、Ｐc2(0.01)
は１００以上で、Ｐc2(0.035) は０となるよう支持体に
テクスチャ処理を行う技術（特開平４−２５１４３６号
公報）や、半径方向における表面粗さが、基準長さ２５
０μｍの間においてＰｃ（＋１００Å）≧３０（ここ
で、Ｐｃ（＋１００Å）とは、粗さ曲線の中心線に対し
上側に１００Åの位置に、中心線に対して平行な１本の
ピークカウントレベルを設けた時、中心線と粗さ曲線が
交差する２点間においてピークカウントレベルと粗さ曲
線が交差する点が１回以上存在する場合一山とし、基準
長さにおいての山の合計数を表す）となるよう支持体に
テクスチャ処理を行う技術（特開平６−２２３３５４号
公報）が提案されている。
【０００４】しかし、これらの技術は、磁気記録媒体に
注目した技術であり、磁気ヘッドに対する考察がなされ
ていない為、低浮上量化と耐久性向上の両立が十分では
なかった。
注目した技術であり、磁気ヘッドに対する考察がなされ
ていない為、低浮上量化と耐久性向上の両立が十分では
なかった。
【０００５】
【発明の開示】本発明者らは、鋭意研究を行った結果、
磁気ヘッドの浮上高さや吸着性を決める因子は磁気ディ
スク側の凹凸のみではなく、磁気ヘッド側の凹凸にもよ
ることを見出した。そこで、現在、市販されている複数
の磁気ヘッドについてのヘッド表面粗さを調べ、低浮上
量化と耐久性向上の両立を達成するのには、磁気記録媒
体に対して最大突起高さＲｐから５０Åの深さで切った
時の山の数ＰＣ50が３０〜２００本／ｍｍの表面特性を
有するようにテクスチャ処理を行っておけば良いことが
判って来た。
磁気ヘッドの浮上高さや吸着性を決める因子は磁気ディ
スク側の凹凸のみではなく、磁気ヘッド側の凹凸にもよ
ることを見出した。そこで、現在、市販されている複数
の磁気ヘッドについてのヘッド表面粗さを調べ、低浮上
量化と耐久性向上の両立を達成するのには、磁気記録媒
体に対して最大突起高さＲｐから５０Åの深さで切った
時の山の数ＰＣ50が３０〜２００本／ｍｍの表面特性を
有するようにテクスチャ処理を行っておけば良いことが
判って来た。
【０００６】本発明は上記知見を基にして達成されたも
のであり、その目的は、高記録密度に対応する為、低浮
上量を容易にする表面粗さが極めて小さなディスクであ
っても、耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することに
ある。この本発明の目的は、最大突起高さＲｐから５０
Åの深さで切った時の山の数ＰＣ50が３０〜２００本／
ｍｍの表面特性を有することを特徴とする磁気記録媒体
によって達成される。
のであり、その目的は、高記録密度に対応する為、低浮
上量を容易にする表面粗さが極めて小さなディスクであ
っても、耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することに
ある。この本発明の目的は、最大突起高さＲｐから５０
Åの深さで切った時の山の数ＰＣ50が３０〜２００本／
ｍｍの表面特性を有することを特徴とする磁気記録媒体
によって達成される。
【０００７】特に、最大突起高さＲｐから５０Åの深さ
で切った時の山の数ＰＣ50が３０〜２００本／ｍｍの表
面特性を有する支持体の上に磁性膜が設けられてなるこ
とを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。尚、
上記ＰＣ50は３０〜８０本／ｍｍが好ましく、特に４０
〜７０本／ｍｍが一層好ましい。又、上記発明の磁気記
録媒体におけるＲｐは５０〜３００Åであることが好ま
しい。より好ましくは５０〜１００Åである。又、径方
向および周方向の凹凸が等方的であって、径方向と周方
向の中心線平均粗さＲａ1 ，Ｒａ2の比（Ｒａ1 ／Ｒａ
2 ）が０．８〜２．０であることが好ましい。より好ま
しくは０．８〜１．４である。
で切った時の山の数ＰＣ50が３０〜２００本／ｍｍの表
面特性を有する支持体の上に磁性膜が設けられてなるこ
とを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。尚、
上記ＰＣ50は３０〜８０本／ｍｍが好ましく、特に４０
〜７０本／ｍｍが一層好ましい。又、上記発明の磁気記
録媒体におけるＲｐは５０〜３００Åであることが好ま
しい。より好ましくは５０〜１００Åである。又、径方
向および周方向の凹凸が等方的であって、径方向と周方
向の中心線平均粗さＲａ1 ，Ｒａ2の比（Ｒａ1 ／Ｒａ
2 ）が０．８〜２．０であることが好ましい。より好ま
しくは０．８〜１．４である。
【０００８】本発明で用いる支持体は、磁性を有するも
のでも非磁性のものでも良いが、一般的には非磁性のも
のが用いられる。例えば、カーボン、強化ガラス、結晶
化ガラス、アルミニウム及びアルミニウム合金、チタン
及びチタン合金、セラミックス、樹脂、あるいは前記材
料の複合材料が用いられる。中でも、カーボン、更にガ
ラス状カーボン、特に曲げ強度が２４ｋｇｆ／ｍｍ2 以
上、弾性率が２５００ｋｇｆ／ｍｍ2 以上、密度が１．
４〜１．８ｇ／ｃｍ3 のガラス状カーボンが好ましい。
のでも非磁性のものでも良いが、一般的には非磁性のも
のが用いられる。例えば、カーボン、強化ガラス、結晶
化ガラス、アルミニウム及びアルミニウム合金、チタン
及びチタン合金、セラミックス、樹脂、あるいは前記材
料の複合材料が用いられる。中でも、カーボン、更にガ
ラス状カーボン、特に曲げ強度が２４ｋｇｆ／ｍｍ2 以
上、弾性率が２５００ｋｇｆ／ｍｍ2 以上、密度が１．
４〜１．８ｇ／ｃｍ3 のガラス状カーボンが好ましい。
【０００９】このような支持体、例えばカーボン製の支
持体の表面に微粒子を噴射し、テクスチャ処理を施し、
上記した表面特性を有するものにする。表面に微粒子を
噴射してテクスチャ処理する方法は、パウダービーム加
工方法と呼ばれ、平均粒径が数十μｍ以下の微粒子を気
体と共に噴射し、被加工物の表面に衝突させる方法であ
る。この方法で、被加工物の表面に微小な凹凸を形成し
たり、被加工物の表面を削ることで形状を変えることが
出来る。本発明者は、ガラス状カーボン基板で、ＣＳＳ
特性が充分で、かつ、低グライドハイトの記録媒体を製
造する為、ガラス状カーボン基板の表面に上記した表面
特性の凹凸を形成する為のテクスチャ処理方法としてパ
ウダービーム加工方法が適切なことを見出した。尚、パ
ウダービーム加工方法によるテクスチャ処理は、ガラス
状カーボン基板の表面に磁性膜などを設ける前に行う。
そして、テクスチャ処理後、洗浄し、処理時に付いた微
粒子などを除去してから、磁性膜などを設ける。本処理
に用いられる微粒子の材質は、パウダービーム加工方法
に不適切な大きさ、硬さ、形状のものでなければ、何で
も良い。例えば、研磨砥粒として一般的に用いられてい
る炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化タングステン等の炭化
物系、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の窒化物系、アルミナ
系、ダイヤモンド系のものが用いられる。この他にも、
適度な硬さや大きさを持つ金属酸化物、金属、セラミッ
クスを使用できる。又、研磨砥粒に限らず、適当な大き
さ、硬さ、形状を持つものであれば、自由に用いること
が出来る。尚、好ましくは炭化ケイ素系砥粒やアルミナ
系砥粒である。
持体の表面に微粒子を噴射し、テクスチャ処理を施し、
上記した表面特性を有するものにする。表面に微粒子を
噴射してテクスチャ処理する方法は、パウダービーム加
工方法と呼ばれ、平均粒径が数十μｍ以下の微粒子を気
体と共に噴射し、被加工物の表面に衝突させる方法であ
る。この方法で、被加工物の表面に微小な凹凸を形成し
たり、被加工物の表面を削ることで形状を変えることが
出来る。本発明者は、ガラス状カーボン基板で、ＣＳＳ
特性が充分で、かつ、低グライドハイトの記録媒体を製
造する為、ガラス状カーボン基板の表面に上記した表面
特性の凹凸を形成する為のテクスチャ処理方法としてパ
ウダービーム加工方法が適切なことを見出した。尚、パ
ウダービーム加工方法によるテクスチャ処理は、ガラス
状カーボン基板の表面に磁性膜などを設ける前に行う。
そして、テクスチャ処理後、洗浄し、処理時に付いた微
粒子などを除去してから、磁性膜などを設ける。本処理
に用いられる微粒子の材質は、パウダービーム加工方法
に不適切な大きさ、硬さ、形状のものでなければ、何で
も良い。例えば、研磨砥粒として一般的に用いられてい
る炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化タングステン等の炭化
物系、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の窒化物系、アルミナ
系、ダイヤモンド系のものが用いられる。この他にも、
適度な硬さや大きさを持つ金属酸化物、金属、セラミッ
クスを使用できる。又、研磨砥粒に限らず、適当な大き
さ、硬さ、形状を持つものであれば、自由に用いること
が出来る。尚、好ましくは炭化ケイ素系砥粒やアルミナ
系砥粒である。
【００１０】パウダービーム加工方法以外にも、Ａｌ−
Ｍ（Ｍはカーバイドを形成し得る金属）系合金粒子をス
パッタ等のＰＶＤ（フィジカルベーパーデポジション）
によって堆積させる方法を採用することも出来る。Ａｌ
−Ｍ系合金の具体例としては、ＭがＳｉ，Ｃｒ，Ｔａ，
Ｔｉ，Ｚｒ，Ｙ，Ｍｏ，Ｗ，Ｖ等の元素の中から選ばれ
る少なくとも一種以上を含むＡｌ−Ｍ系合金が挙げられ
る。例えば、Ａｌ−Ｓｉ系合金（好ましくはＳｉが０．
２〜１５ｗｔ％、より好ましくはＳｉが１〜１０ｗｔ
％）、Ａｌ−Ｃｒ系合金（好ましくはＣｒが０．１〜１
０ｗｔ％、より好ましくはＣｒが１〜５ｗｔ％）、Ａｌ
−Ｔａ系合金（好ましくはＴａが０．１〜３ｗｔ％、よ
り好ましくはＴａが１〜２ｗｔ％）、Ａｌ−Ｔｉ系合金
（好ましくはＴｉが０．５〜１５ｗｔ％、より好ましく
はＴｉが１〜１０ｗｔ％）、Ａｌ−Ｚｒ系合金（好まし
くはＺｒが０．１〜９ｗｔ％、より好ましくはＺｒが１
〜５ｗｔ％）、Ａｌ−Ｙ系合金（好ましくはＹが０．１
〜１０ｗｔ％、より好ましくはＹが１〜５ｗｔ％）、Ａ
ｌ−Ｍｏ系合金（好ましくはＭｏが０．２〜１０ｗｔ
％、より好ましくはＭｏが１〜５ｗｔ％）、Ａｌ−Ｗ系
合金（好ましくはＷが０．２〜１０ｗｔ％、より好まし
くはＷが１〜８ｗｔ％）、Ａｌ−Ｖ系合金（好ましくは
Ｖが０．５〜１０ｗｔ％、より好ましくはＶが１〜５ｗ
ｔ％）等が挙げられる。又、Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−５ｗ
ｔ％Ｃｒ系合金、Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−３ｗｔ％Ｍｏ系
合金、Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−３ｗｔ％Ｗ系合金などの三
元以上の系のＡｌ合金も挙げられる。尚、中でも好まし
いものはＡｌ−Ｓｉ系合金、Ａｌ−Ｃｒ系合金である。
Ｍ（Ｍはカーバイドを形成し得る金属）系合金粒子をス
パッタ等のＰＶＤ（フィジカルベーパーデポジション）
によって堆積させる方法を採用することも出来る。Ａｌ
−Ｍ系合金の具体例としては、ＭがＳｉ，Ｃｒ，Ｔａ，
Ｔｉ，Ｚｒ，Ｙ，Ｍｏ，Ｗ，Ｖ等の元素の中から選ばれ
る少なくとも一種以上を含むＡｌ−Ｍ系合金が挙げられ
る。例えば、Ａｌ−Ｓｉ系合金（好ましくはＳｉが０．
２〜１５ｗｔ％、より好ましくはＳｉが１〜１０ｗｔ
％）、Ａｌ−Ｃｒ系合金（好ましくはＣｒが０．１〜１
０ｗｔ％、より好ましくはＣｒが１〜５ｗｔ％）、Ａｌ
−Ｔａ系合金（好ましくはＴａが０．１〜３ｗｔ％、よ
り好ましくはＴａが１〜２ｗｔ％）、Ａｌ−Ｔｉ系合金
（好ましくはＴｉが０．５〜１５ｗｔ％、より好ましく
はＴｉが１〜１０ｗｔ％）、Ａｌ−Ｚｒ系合金（好まし
くはＺｒが０．１〜９ｗｔ％、より好ましくはＺｒが１
〜５ｗｔ％）、Ａｌ−Ｙ系合金（好ましくはＹが０．１
〜１０ｗｔ％、より好ましくはＹが１〜５ｗｔ％）、Ａ
ｌ−Ｍｏ系合金（好ましくはＭｏが０．２〜１０ｗｔ
％、より好ましくはＭｏが１〜５ｗｔ％）、Ａｌ−Ｗ系
合金（好ましくはＷが０．２〜１０ｗｔ％、より好まし
くはＷが１〜８ｗｔ％）、Ａｌ−Ｖ系合金（好ましくは
Ｖが０．５〜１０ｗｔ％、より好ましくはＶが１〜５ｗ
ｔ％）等が挙げられる。又、Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−５ｗ
ｔ％Ｃｒ系合金、Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−３ｗｔ％Ｍｏ系
合金、Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−３ｗｔ％Ｗ系合金などの三
元以上の系のＡｌ合金も挙げられる。尚、中でも好まし
いものはＡｌ−Ｓｉ系合金、Ａｌ−Ｃｒ系合金である。
【００１１】又、上記パウダービーム法やＰＶＤ法以外
にも、研磨テープを用いる方法を採用することも出来
る。例えば、テープ種日本ミクロコーティング社製のＷ
Ａ♯４０００フラットタイプ、テープ送り速度４００ｍ
ｍ／分、加工圧力２．２ｋｇ／ｃｍ2 、テープ揺動４６
０往復／分、ローラゴム硬度６０度、ワーク回転数５０
ｒｐｍ、加工時間１０〜４０秒、ジョンソン社製ＪＳ６
０２の３ｗｔ％研磨液と言った条件下で支持体にテクス
チャ加工を施して良い。尚、研磨テープの種類や遊離砥
粒の種類、研磨時間、研磨時の圧力などの条件を適宜変
更することが可能である。
にも、研磨テープを用いる方法を採用することも出来
る。例えば、テープ種日本ミクロコーティング社製のＷ
Ａ♯４０００フラットタイプ、テープ送り速度４００ｍ
ｍ／分、加工圧力２．２ｋｇ／ｃｍ2 、テープ揺動４６
０往復／分、ローラゴム硬度６０度、ワーク回転数５０
ｒｐｍ、加工時間１０〜４０秒、ジョンソン社製ＪＳ６
０２の３ｗｔ％研磨液と言った条件下で支持体にテクス
チャ加工を施して良い。尚、研磨テープの種類や遊離砥
粒の種類、研磨時間、研磨時の圧力などの条件を適宜変
更することが可能である。
【００１２】尚、いずれのテクスチャ処理によるも、本
発明が規定する表面特性のものにすることが肝要であ
る。上記表面特性を有する支持体の上に、必要に応じて
ＰＶＤ手段によりＣｒ膜などの下地膜を設ける。尚、こ
の下地膜を設けた後に、上記テクスチャ処理を行い、本
発明が規定する表面特性のものにしても良い。
発明が規定する表面特性のものにすることが肝要であ
る。上記表面特性を有する支持体の上に、必要に応じて
ＰＶＤ手段によりＣｒ膜などの下地膜を設ける。尚、こ
の下地膜を設けた後に、上記テクスチャ処理を行い、本
発明が規定する表面特性のものにしても良い。
【００１３】本発明が規定する表面特性を有する支持体
の上に、金属薄膜型の磁性膜がＰＶＤ手段により２０〜
５０ｎｍ厚さ設けられる。磁性膜を形成する材料は、例
えばＣｏＣｒ，ＣｏＮｉ，ＣｏＣｒＸ，ＣｏＣｒＰｔ
Ｘ，ＣｏＳｍ，ＣｏＳｍＸ，ＣｏＮｉＸ，ＣｏＷＸ（Ｘ
としては、Ｔａ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｎｉ，
Ｗ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｌ
ｉ，Ｓｉ，Ｂ，Ｃａ，Ａｓ，Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｒ
ｕ，Ｒｈ，Ａｇ，Ｓｂ，Ｈｆ等から選ばれる一種あるい
は二種以上）等で表されるＣｏを主成分とするＣｏ系の
磁性合金あるいはバリウムフェライト系の磁性合金が挙
げられる。
の上に、金属薄膜型の磁性膜がＰＶＤ手段により２０〜
５０ｎｍ厚さ設けられる。磁性膜を形成する材料は、例
えばＣｏＣｒ，ＣｏＮｉ，ＣｏＣｒＸ，ＣｏＣｒＰｔ
Ｘ，ＣｏＳｍ，ＣｏＳｍＸ，ＣｏＮｉＸ，ＣｏＷＸ（Ｘ
としては、Ｔａ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｎｉ，
Ｗ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｌ
ｉ，Ｓｉ，Ｂ，Ｃａ，Ａｓ，Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｒ
ｕ，Ｒｈ，Ａｇ，Ｓｂ，Ｈｆ等から選ばれる一種あるい
は二種以上）等で表されるＣｏを主成分とするＣｏ系の
磁性合金あるいはバリウムフェライト系の磁性合金が挙
げられる。
【００１４】金属薄膜型の磁性膜上に保護膜が設けられ
る。この保護膜は、耐磨耗性の観点から硬度の高いもの
が選ばれる。例えば、Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｚｒ，
Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ等の金属の酸化物、窒化物、炭化
物、あるいはカーボンやボロンナイトライド等が挙げら
れる。この他にも、例えば特開平５−２１７１５４号公
報、特開平５−２１７１５６号公報、特開平５−２２５
５５５号公報、特開平５−２２５５５７号公報、特開平
５−２８２６６１号公報、特開平６−２５８４０号公
報、特願平４−２６８９５２号明細書、特願平５−１７
２０号明細書、特願平５−２１７１５６号明細書、特願
平５−４０１４２号明細書に開示されているものを用い
ることが出来る。中でも好ましいものは炭素、炭化ケイ
素、炭化ホウ素、炭化タングステン、酸化ケイ素、酸化
ジルコニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、あるいはこれ
らの材料の複合されたものである。特に好ましいものは
カーボン、特にダイヤモンドライクカーボンである。こ
の保護膜は、厚さが５〜２５ｎｍが好ましい。保護膜
は、スパッタ等のＰＶＤ手段により形成できる。
る。この保護膜は、耐磨耗性の観点から硬度の高いもの
が選ばれる。例えば、Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｚｒ，
Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ等の金属の酸化物、窒化物、炭化
物、あるいはカーボンやボロンナイトライド等が挙げら
れる。この他にも、例えば特開平５−２１７１５４号公
報、特開平５−２１７１５６号公報、特開平５−２２５
５５５号公報、特開平５−２２５５５７号公報、特開平
５−２８２６６１号公報、特開平６−２５８４０号公
報、特願平４−２６８９５２号明細書、特願平５−１７
２０号明細書、特願平５−２１７１５６号明細書、特願
平５−４０１４２号明細書に開示されているものを用い
ることが出来る。中でも好ましいものは炭素、炭化ケイ
素、炭化ホウ素、炭化タングステン、酸化ケイ素、酸化
ジルコニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、あるいはこれ
らの材料の複合されたものである。特に好ましいものは
カーボン、特にダイヤモンドライクカーボンである。こ
の保護膜は、厚さが５〜２５ｎｍが好ましい。保護膜
は、スパッタ等のＰＶＤ手段により形成できる。
【００１５】上記保護膜上に潤滑剤膜が設けられる。例
えば、厚さが５〜１００Å程度の潤滑剤膜が設けられ
る。潤滑剤としては、分子中に極性基を持つ潤滑剤と極
性基を持たない潤滑剤とを単独で用いても良いが、併用
することが好ましい。例えば、極性基を持つ潤滑剤溶液
を塗布した後、極性基を持たない潤滑剤溶液を塗布した
り、極性基を持つ潤滑剤と極性基を持たない潤滑剤との
混合溶液を塗布し、主として保護膜側に近い下層側に極
性基を持つ潤滑剤を、上層側に極性基を持たない潤滑剤
を存在させるようにしても良い。用いられる極性基を持
つ潤滑剤は、分子量が２０００〜４０００のパーフロロ
ポリエーテル系のものであり、末端に芳香族環を持つも
のが好ましい。すなわち、−（ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ）n −
（ＣＦ2 Ｏ） m −の骨格を有し、末端に芳香族環を持
ち、分子量が２０００〜４０００であるものが好まし
い。具体例としては、フォンブリンＡＭ２００１（モン
テカチーニ社製）やデムナムＳＰ（ダイキン工業社製）
等が挙げられる。末端に極性基を持たない潤滑剤は、分
子量が２０００〜１００００のパーフロロポリエーテル
系のものが好ましい。すなわち、ＣＦ3 −（ＣＦ2 ＣＦ
2 Ｏ）n −（ＣＦ2 Ｏ）m −ＣＦ3 で表され、分子量が
２０００〜１００００であるものが好ましい。具体例と
しては、フォンブリンＺ０３（モンテカチーニ社製）等
が挙げられる。
えば、厚さが５〜１００Å程度の潤滑剤膜が設けられ
る。潤滑剤としては、分子中に極性基を持つ潤滑剤と極
性基を持たない潤滑剤とを単独で用いても良いが、併用
することが好ましい。例えば、極性基を持つ潤滑剤溶液
を塗布した後、極性基を持たない潤滑剤溶液を塗布した
り、極性基を持つ潤滑剤と極性基を持たない潤滑剤との
混合溶液を塗布し、主として保護膜側に近い下層側に極
性基を持つ潤滑剤を、上層側に極性基を持たない潤滑剤
を存在させるようにしても良い。用いられる極性基を持
つ潤滑剤は、分子量が２０００〜４０００のパーフロロ
ポリエーテル系のものであり、末端に芳香族環を持つも
のが好ましい。すなわち、−（ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ）n −
（ＣＦ2 Ｏ） m −の骨格を有し、末端に芳香族環を持
ち、分子量が２０００〜４０００であるものが好まし
い。具体例としては、フォンブリンＡＭ２００１（モン
テカチーニ社製）やデムナムＳＰ（ダイキン工業社製）
等が挙げられる。末端に極性基を持たない潤滑剤は、分
子量が２０００〜１００００のパーフロロポリエーテル
系のものが好ましい。すなわち、ＣＦ3 −（ＣＦ2 ＣＦ
2 Ｏ）n −（ＣＦ2 Ｏ）m −ＣＦ3 で表され、分子量が
２０００〜１００００であるものが好ましい。具体例と
しては、フォンブリンＺ０３（モンテカチーニ社製）等
が挙げられる。
【００１６】又、塗布手段で潤滑剤膜を形成する代わり
に、気相反応で形成しても良い。例えば、プラズマ重合
で形成される潤滑剤膜、ＣＶＤ（ケミカルベーパーデポ
ジション）を用いた表面重合で形成される潤滑剤膜、Ｃ
ＶＤを用いた気相重合で形成される潤滑剤膜などが考え
られる。中でも好ましい潤滑剤膜は気相重合で形成され
たものである。例えば、潤滑剤分子が当該媒体の最表面
に固定された固定潤滑剤分子と潤滑剤分子が当該媒体の
最表面には固定されていないフリー潤滑剤分子との混成
でなり、この混成潤滑剤膜が気相重合で形成されたもの
が好ましい。この場合、潤滑剤膜の厚さは２〜２００Å
が好ましい。又、混成潤滑剤膜おけるフリー潤滑剤分子
／固定潤滑剤分子が重量比で１／１０〜１０／１（より
好ましくは、２／５〜５／１）の割合のものが好まし
い。ここで、固定潤滑剤分子とは、保護膜に化学的また
は物理的に強固に固着されているものを意味し、例えば
商品名「フロン１１３（フッ素系溶剤）」を用いて洗浄
しても洗い流されないものを言う。一方、フリー潤滑剤
分子とは、「フロン１１３」を用いて洗浄した場合に洗
い流されてしまうものを言う。気相重合にはフッ化炭素
系の化合物を用いる。フッ化炭素系化合物としては、Ｃ
＝Ｃ（Ｃ−Ｃ二重結合）を有するものが好ましい。特
に、下記一般式（Ｉ），（ＩＩ），（ＩＩＩ）で表され
る化合物群の中から選択されるものが好ましい。
に、気相反応で形成しても良い。例えば、プラズマ重合
で形成される潤滑剤膜、ＣＶＤ（ケミカルベーパーデポ
ジション）を用いた表面重合で形成される潤滑剤膜、Ｃ
ＶＤを用いた気相重合で形成される潤滑剤膜などが考え
られる。中でも好ましい潤滑剤膜は気相重合で形成され
たものである。例えば、潤滑剤分子が当該媒体の最表面
に固定された固定潤滑剤分子と潤滑剤分子が当該媒体の
最表面には固定されていないフリー潤滑剤分子との混成
でなり、この混成潤滑剤膜が気相重合で形成されたもの
が好ましい。この場合、潤滑剤膜の厚さは２〜２００Å
が好ましい。又、混成潤滑剤膜おけるフリー潤滑剤分子
／固定潤滑剤分子が重量比で１／１０〜１０／１（より
好ましくは、２／５〜５／１）の割合のものが好まし
い。ここで、固定潤滑剤分子とは、保護膜に化学的また
は物理的に強固に固着されているものを意味し、例えば
商品名「フロン１１３（フッ素系溶剤）」を用いて洗浄
しても洗い流されないものを言う。一方、フリー潤滑剤
分子とは、「フロン１１３」を用いて洗浄した場合に洗
い流されてしまうものを言う。気相重合にはフッ化炭素
系の化合物を用いる。フッ化炭素系化合物としては、Ｃ
＝Ｃ（Ｃ−Ｃ二重結合）を有するものが好ましい。特
に、下記一般式（Ｉ），（ＩＩ），（ＩＩＩ）で表され
る化合物群の中から選択されるものが好ましい。
【００１７】 ＣＦ2 ＝ＣＦＲf 1 （Ｉ） 〔式（Ｉ）中、Ｒf 1 はフッ素原子、パーフルオロアル
キル基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アル
キル基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリ
ール基、又は部分フッ素化アリール基を表す。〕 ＣＦ2 ＝Ｃ（Ｒf 2 ）（Ｒf 3 ） （ＩＩ） 〔式（ＩＩ）中、Ｒf 2 ，Ｒf 3 は水素原子、フッ素原
子、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルケニル
基、部分フッ素化アルキル基、部分フッ素化アルケニル
基、パーフルオロアリール基、又は部分フッ素化アリー
ル基を表す。
キル基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アル
キル基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリ
ール基、又は部分フッ素化アリール基を表す。〕 ＣＦ2 ＝Ｃ（Ｒf 2 ）（Ｒf 3 ） （ＩＩ） 〔式（ＩＩ）中、Ｒf 2 ，Ｒf 3 は水素原子、フッ素原
子、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルケニル
基、部分フッ素化アルキル基、部分フッ素化アルケニル
基、パーフルオロアリール基、又は部分フッ素化アリー
ル基を表す。
【００１８】Ｒf 2 とＲf 3 とは同一でも、異なってい
ても良い。〕 ＣＦ2 ＝ＣＦＯ（Ｒf 4 ） （ＩＩＩ） 〔式（ＩＩＩ）中、Ｒf 4 はフッ素原子、パーフルオロ
アルキル基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化
アルキル基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロ
アリール基、部分フッ素化アリール基、又はパーフルオ
ロアルコキシアルキル基を表す。〕 又、上記フッ化炭素系化合物の他にも酸素を用いること
が好ましい。上記フッ化炭素系化合物と酸素との使用割
合は、フッ化炭素系化合物／酸素（モル比）が、好まし
くは１／０．５〜１／１００であり、更に好ましくは１
／１〜１／１０であり、最も好ましくは１／２〜１／８
である。
ても良い。〕 ＣＦ2 ＝ＣＦＯ（Ｒf 4 ） （ＩＩＩ） 〔式（ＩＩＩ）中、Ｒf 4 はフッ素原子、パーフルオロ
アルキル基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化
アルキル基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロ
アリール基、部分フッ素化アリール基、又はパーフルオ
ロアルコキシアルキル基を表す。〕 又、上記フッ化炭素系化合物の他にも酸素を用いること
が好ましい。上記フッ化炭素系化合物と酸素との使用割
合は、フッ化炭素系化合物／酸素（モル比）が、好まし
くは１／０．５〜１／１００であり、更に好ましくは１
／１〜１／１０であり、最も好ましくは１／２〜１／８
である。
【００１９】上記フッ化炭素系化合物と酸素との気相重
合により得られた重合体は、主として−（ＣＦ2 Ｏ）−
の構造単位を有する重合体であり、その分子量は、好ま
しくは１５００〜３００００である。上記重合体の構造
は必ずしも明確でないが、下記構造式が推定される。 Ｘ-(ＣＦ2 Ｏ) l -(ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ) m -(ＣＦ
（ＣＦ3)ＣＦＯ) n Ｘ’ 〔ここで、ｌ，ｍ，ｎは、ｌ≫ｍ，ｌ≫ｎを満たす正の
整数。Ｘ，Ｘ’はアルコール、エーテル結合、エステル
結合、又はウレタン結合などを含む末端基であり、Ｘと
Ｘ’とは同じでも異なっていても良い。〕 上記重合体における−（ＣＦ2 Ｏ）−の構造単位の含有
率は、全構造単位中７０％以上であることが好ましく、
上記構造式で表される重合体においては、〔ｌ／（ｌ＋
ｍ＋ｎ）〕×１００が７０以上であることが好ましい。
合により得られた重合体は、主として−（ＣＦ2 Ｏ）−
の構造単位を有する重合体であり、その分子量は、好ま
しくは１５００〜３００００である。上記重合体の構造
は必ずしも明確でないが、下記構造式が推定される。 Ｘ-(ＣＦ2 Ｏ) l -(ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ) m -(ＣＦ
（ＣＦ3)ＣＦＯ) n Ｘ’ 〔ここで、ｌ，ｍ，ｎは、ｌ≫ｍ，ｌ≫ｎを満たす正の
整数。Ｘ，Ｘ’はアルコール、エーテル結合、エステル
結合、又はウレタン結合などを含む末端基であり、Ｘと
Ｘ’とは同じでも異なっていても良い。〕 上記重合体における−（ＣＦ2 Ｏ）−の構造単位の含有
率は、全構造単位中７０％以上であることが好ましく、
上記構造式で表される重合体においては、〔ｌ／（ｌ＋
ｍ＋ｎ）〕×１００が７０以上であることが好ましい。
【００２０】そして、上記のような表面特性の支持体上
に磁性膜、そして必要に応じて保護膜や潤滑剤膜が設け
られた磁気記録媒体は、再生エラーや消去エラーが少な
く、記録・再生特性が優れたものである。かつ、ヘッド
浮上量が低く、更にはＣＳＳ耐久性に優れた特長を奏す
る。以下、実施例により本発明を更に具体的に説明す
る。
に磁性膜、そして必要に応じて保護膜や潤滑剤膜が設け
られた磁気記録媒体は、再生エラーや消去エラーが少な
く、記録・再生特性が優れたものである。かつ、ヘッド
浮上量が低く、更にはＣＳＳ耐久性に優れた特長を奏す
る。以下、実施例により本発明を更に具体的に説明す
る。
【００２１】
〔実施例１〜６及び比較例１〕密度１．５ｇ／ｃｍ3 、
曲げ強度２９．８ｋｇ／ｍｍ2 、弾性率２５００ｋｇｆ
／ｍｍ2 のガラス状カーボン製の基板（サイズ１．８イ
ンチ、厚さ２５ミル）を、中心線平均粗さＲａが１．０
ｎｍに鏡面研磨し、そして微粒子（アルミナ）を用いた
表−１に示す条件でテクスチャ処理（パウダービーム加
工）した。
曲げ強度２９．８ｋｇ／ｍｍ2 、弾性率２５００ｋｇｆ
／ｍｍ2 のガラス状カーボン製の基板（サイズ１．８イ
ンチ、厚さ２５ミル）を、中心線平均粗さＲａが１．０
ｎｍに鏡面研磨し、そして微粒子（アルミナ）を用いた
表−１に示す条件でテクスチャ処理（パウダービーム加
工）した。
【００２２】尚、このテクスチャ処理は、図１に示すよ
うに行われる。図１中、１はガラス状カーボン製の基板
であり、この基板１は回転する駆動軸１１の端部に固定
されており、一定の回転数（５００ｒｐｍ）で、あるい
はノズル１２の位置に合わせて回転数をコントロールし
ながら回転する。ノズル１２は、その噴出口が基板１に
対向すると共に、基板１の半径方向に細長い形状をして
おり、装置本体から供給される微粒子を基板１の表面に
向けて噴射する。そして、ノズル１２は、基板１の半径
方向に移動することで、基板１の全面に微粒子を衝突さ
せる。尚、この処理は表と裏とで繰り返されるが、ノズ
ルを複数設けて表と裏とを同時に処理しても良い。
うに行われる。図１中、１はガラス状カーボン製の基板
であり、この基板１は回転する駆動軸１１の端部に固定
されており、一定の回転数（５００ｒｐｍ）で、あるい
はノズル１２の位置に合わせて回転数をコントロールし
ながら回転する。ノズル１２は、その噴出口が基板１に
対向すると共に、基板１の半径方向に細長い形状をして
おり、装置本体から供給される微粒子を基板１の表面に
向けて噴射する。そして、ノズル１２は、基板１の半径
方向に移動することで、基板１の全面に微粒子を衝突さ
せる。尚、この処理は表と裏とで繰り返されるが、ノズ
ルを複数設けて表と裏とを同時に処理しても良い。
【００２３】 表−１ 微粒子平均粒径 微粒子噴出圧力 処理時間 （μｍ） （ｋｇ／ｃｍ2 ） （ｓｅｃ） 実施例１ １．０ ２ １０ 実施例２ １．０ １ １６ 実施例３ ２．０ ２ １６ 実施例４ ０．５ １ １６ 比較例１ ０．２ １ １６ このテクスチャ処理によって得られたカーボン製基板１
の表面特性は表−２に示す通りであった。
の表面特性は表−２に示す通りであった。
【００２４】 表−２ ＰＣ50（本／mm） Ｒｐ（Å） 径方向のＲａ／周方向のＲａ 実施例１ ４３ ９５ １．３ 実施例２ １０１ ９３ １．１ 実施例３ ４０ １１０ １．１ 実施例４ １８０ ８１ １．２ 実施例５ ６３ ８４ １．３ 実施例６ ５１ ６４ １．２ 比較例１ ２７ ５１ １．１ この後、ＤＣマグネトロンスパッタによりＡｒガス雰囲
気中で１００ｎｍ厚さのＴｉ膜及び５０ｎｍ厚さのＣｒ
下地膜２をカーボン製基板表面に設け、次いで４０ｎｍ
厚さのＣｏＣｒＴａ系の磁性膜３を設けた。続いて、ガ
ラス状カーボン製ターゲットを装着した対向ターゲット
型のスパッタ装置を用い、室内を排気し、そして２ｍＴ
ｏｒｒのガス圧となるようＡｒガスを導入し、磁性膜上
に１５０Å厚のガラス状カーボンからなる保護膜４を設
けた。
気中で１００ｎｍ厚さのＴｉ膜及び５０ｎｍ厚さのＣｒ
下地膜２をカーボン製基板表面に設け、次いで４０ｎｍ
厚さのＣｏＣｒＴａ系の磁性膜３を設けた。続いて、ガ
ラス状カーボン製ターゲットを装着した対向ターゲット
型のスパッタ装置を用い、室内を排気し、そして２ｍＴ
ｏｒｒのガス圧となるようＡｒガスを導入し、磁性膜上
に１５０Å厚のガラス状カーボンからなる保護膜４を設
けた。
【００２５】この後、ＣＶＤ装置のチャンバ内に所定の
間隔を設けて立設し、チャンバ内を５×１０-2Ｔｏｒｒ
に排気した後、分圧が１０Ｔｏｒｒのヘキサフルオロプ
ロペンと６０Ｔｏｒｒの酸素とを導入し、ＡｒＦエキシ
マレーザ（波長１９３ｎｍ）からのレーザ光（パワー１
５０ｍＪ、繰り返し速度２Ｈｚ）を１２．５分間かけて
１５００パルス照射した。尚、この間、磁気ディスクを
回転していた。
間隔を設けて立設し、チャンバ内を５×１０-2Ｔｏｒｒ
に排気した後、分圧が１０Ｔｏｒｒのヘキサフルオロプ
ロペンと６０Ｔｏｒｒの酸素とを導入し、ＡｒＦエキシ
マレーザ（波長１９３ｎｍ）からのレーザ光（パワー１
５０ｍＪ、繰り返し速度２Ｈｚ）を１２．５分間かけて
１５００パルス照射した。尚、この間、磁気ディスクを
回転していた。
【００２６】この後、チャンバ内に１００Ｔｏｒｒの大
気（湿度６０％）を導入した。大気導入後、再び、チャ
ンバ内を１×１０-2Ｔｏｒｒに排気した後、分圧が１０
Ｔｏｒｒのヘキサフルオロプロペンと６０Ｔｏｒｒの酸
素とを導入し、上記と同じレーザ光を１２．５分間かけ
て１５００パルス照射した。合計３０００パルスのレー
ザ光照射を行った。
気（湿度６０％）を導入した。大気導入後、再び、チャ
ンバ内を１×１０-2Ｔｏｒｒに排気した後、分圧が１０
Ｔｏｒｒのヘキサフルオロプロペンと６０Ｔｏｒｒの酸
素とを導入し、上記と同じレーザ光を１２．５分間かけ
て１５００パルス照射した。合計３０００パルスのレー
ザ光照射を行った。
【００２７】尚、レーザ光は磁気ディスクに直接照射さ
れないように照射した。又、上記光ＣＶＤ処理に際し
て、磁気ディスクの温度は室温（２２℃）であった。以
上の工程により、保護膜４表面に化学結合により分子の
一部が固定された固定潤滑剤分子（１８Å）と、潤滑剤
分子が表面には固定されていないフリー潤滑剤分子（１
１Å）との混成からなる厚さ２９Åの混成潤滑剤膜５が
形成された。
れないように照射した。又、上記光ＣＶＤ処理に際し
て、磁気ディスクの温度は室温（２２℃）であった。以
上の工程により、保護膜４表面に化学結合により分子の
一部が固定された固定潤滑剤分子（１８Å）と、潤滑剤
分子が表面には固定されていないフリー潤滑剤分子（１
１Å）との混成からなる厚さ２９Åの混成潤滑剤膜５が
形成された。
【００２８】尚、混成潤滑剤膜５が固定潤滑剤分子とフ
リー潤滑剤分子との混成からなることは、フッ素系溶剤
で１０分間超音波洗浄することによる重量減少により確
認された。かつ、潤滑剤分子が残存していることはＥＳ
ＣＡ（ＶＧサイエンス社製のＥＳＣＡＬＡＢ ２００
Ｃ、ＡｌＫα線使用）分析により確認された。フリー潤
滑剤分子／固定潤滑剤分子の割合は重量比で９／２０で
あった。又、混成潤滑剤膜５についてのＥＳＣＡ分析に
よればＣ1sについて２９４．８〜２５０ｅＶにピークが
認められ、これは市販の潤滑剤の−（CF2O）n −（CF2C
F2O)m −の（CF2O）n ユニットのＣ1sスペクトルと一致
したので、潤滑剤分子は−（CF2O）n −の構造単位を有
するものであると考えられる。但し、−CF2O−由来と考
えられるＣ1s，Ｆ1s，Ｏ1sのスペクトル強度比は、Ｃ：
Ｆ：Ｏ＝１．０：５．２１：２．８６なので、−（CF
2O）n −の構造単位以外のものが存在する可能性もあ
る。
リー潤滑剤分子との混成からなることは、フッ素系溶剤
で１０分間超音波洗浄することによる重量減少により確
認された。かつ、潤滑剤分子が残存していることはＥＳ
ＣＡ（ＶＧサイエンス社製のＥＳＣＡＬＡＢ ２００
Ｃ、ＡｌＫα線使用）分析により確認された。フリー潤
滑剤分子／固定潤滑剤分子の割合は重量比で９／２０で
あった。又、混成潤滑剤膜５についてのＥＳＣＡ分析に
よればＣ1sについて２９４．８〜２５０ｅＶにピークが
認められ、これは市販の潤滑剤の−（CF2O）n −（CF2C
F2O)m −の（CF2O）n ユニットのＣ1sスペクトルと一致
したので、潤滑剤分子は−（CF2O）n −の構造単位を有
するものであると考えられる。但し、−CF2O−由来と考
えられるＣ1s，Ｆ1s，Ｏ1sのスペクトル強度比は、Ｃ：
Ｆ：Ｏ＝１．０：５．２１：２．８６なので、−（CF
2O）n −の構造単位以外のものが存在する可能性もあ
る。
【００２９】〔実施例７〜１２及び比較例２〜５〕密度
１．５ｇ／ｃｍ3 、曲げ強度２９．８ｋｇ／ｍｍ2 、弾
性率２５００ｋｇｆ／ｍｍ2 のガラス状カーボン製の基
板（サイズ１．８インチ、厚さ２５ミル）を、中心線平
均粗さＲａが１．０ｎｍに鏡面研磨し、このカーボン製
基板上に、Ａｒガス圧２〜３ｍＴｏｒｒ、カーボン基板
温度を２２５〜３００℃の条件でＤＣマグネトロンスパ
ッタリングにより２０〜６０Å厚さのＡｌ−１ｗｔ％Ｓ
ｉ合金層を設けた。尚、このＡｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層
は、下層部分が連続し、表面は多島海状の表−３に示す
表面特性のものであった。
１．５ｇ／ｃｍ3 、曲げ強度２９．８ｋｇ／ｍｍ2 、弾
性率２５００ｋｇｆ／ｍｍ2 のガラス状カーボン製の基
板（サイズ１．８インチ、厚さ２５ミル）を、中心線平
均粗さＲａが１．０ｎｍに鏡面研磨し、このカーボン製
基板上に、Ａｒガス圧２〜３ｍＴｏｒｒ、カーボン基板
温度を２２５〜３００℃の条件でＤＣマグネトロンスパ
ッタリングにより２０〜６０Å厚さのＡｌ−１ｗｔ％Ｓ
ｉ合金層を設けた。尚、このＡｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層
は、下層部分が連続し、表面は多島海状の表−３に示す
表面特性のものであった。
【００３０】 表−３ ＰＣ50（本／mm） Ｒｐ（Å） 径方向のＲａ／周方向のＲａ 実施例７ ７３ ８５ １．０ 実施例８ １１５ １２８ １．１ 実施例９ ８４ ２２５ ０．９ 実施例１０ １８０ ７８ １．０ 実施例１１ ３３ ６１ １．０ 実施例１２ ５３ ６３ １．０ 比較例２ ２４３ ８９ １．１ 比較例３ ２８ １５５ １．０ 比較例４ ２４８ ５３ ０．９ 比較例５ ２７ ８５ １．０ この後、実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。
【００３１】尚、保護膜は、ＳｉＣを２５ａｔ．％含有
したガラス状カーボンターゲットを用いて、磁性膜上に
１５０Å厚さ設けたＳｉＣ複合材からなる。 〔実施例１３〜１６及び比較例６，７〕密度１．５ｇ／
ｃｍ3 、曲げ強度２９．８ｋｇ／ｍｍ2 、弾性率２５０
０ｋｇｆ／ｍｍ2 のガラス状カーボン製の基板（サイズ
１．８インチ、厚さ２５ミル）を、中心線平均粗さＲａ
が１．０ｎｍに鏡面研磨し、表−４に示す条件でテープ
テクスチャ処理を施した。
したガラス状カーボンターゲットを用いて、磁性膜上に
１５０Å厚さ設けたＳｉＣ複合材からなる。 〔実施例１３〜１６及び比較例６，７〕密度１．５ｇ／
ｃｍ3 、曲げ強度２９．８ｋｇ／ｍｍ2 、弾性率２５０
０ｋｇｆ／ｍｍ2 のガラス状カーボン製の基板（サイズ
１．８インチ、厚さ２５ミル）を、中心線平均粗さＲａ
が１．０ｎｍに鏡面研磨し、表−４に示す条件でテープ
テクスチャ処理を施した。
【００３２】表−４ テープ；日本ミクロコーティング社製♯３０００〜♯８
０００フラットタイプ テープ送り速度；１００〜６００ｍｍ／分 加工圧力；１〜２ｋｇ／ｃｍ2 テープ揺動；０〜５００往復／分 ローラゴム硬度；６０度 ワーク回転数；５０〜数百ｒｐｍ 加工時間；５〜６０秒 研磨液；ジョンソン製のＪＳ６０２ ３ｗｔ％研磨液 このテープテクスチャ処理によって得られたカーボン製
基板の表面特性は表−５に示す通りであった。
０００フラットタイプ テープ送り速度；１００〜６００ｍｍ／分 加工圧力；１〜２ｋｇ／ｃｍ2 テープ揺動；０〜５００往復／分 ローラゴム硬度；６０度 ワーク回転数；５０〜数百ｒｐｍ 加工時間；５〜６０秒 研磨液；ジョンソン製のＪＳ６０２ ３ｗｔ％研磨液 このテープテクスチャ処理によって得られたカーボン製
基板の表面特性は表−５に示す通りであった。
【００３３】 表−５ ＰＣ50（本／mm） Ｒｐ（Å） 径方向のＲａ／周方向のＲａ 実施例１３ ５１ ２３５ １．４ 実施例１４ ３７ １７８ １．３ 実施例１５ １９５ ２１０ １．３ 実施例１６ ６２ ７３ １．０ 比較例６ １２ ２０５ １．３ 比較例７ ４２６ １８１ １．２ この後、実施例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。
【００３４】〔特性〕上記各例で得た磁気ディスクにつ
いて、ＣＳＳテスト、グライドハイトテストＧＨＴ、及
びエラー特性について調べたので、その結果を表−６に
示す。 表−６ ＣＳＳテスト １．５μインチのＧＨＴ エラー特性 実施例１ ０．４ Ｓ Ｓ 実施例２ ０．６ Ｓ Ｓ 実施例３ ０．６ Ｓ Ｓ 実施例４ ０．６ Ｓ Ｓ 実施例５ ０．５ Ｓ Ｓ 実施例６ ０．４ Ｓ Ｓ 比較例１ １．８ Ｓ Ｓ 実施例７ ０．６ Ｓ Ｓ 実施例８ ０．５ Ａ Ｓ 実施例９ ０．４ Ｂ Ａ 実施例１０ ０．６ Ｓ Ｓ 実施例１１ ０．６ Ｓ Ａ 実施例１２ ０．５ Ｓ Ｓ 比較例２ １．８ Ｓ Ｓ 比較例３ １．８ Ｂ Ａ 比較例４ １．６ Ｓ Ｓ 比較例５ １．８ Ｓ Ｓ 実施例１３ ０．５ Ａ Ａ 実施例１４ ０．７ Ａ Ａ 実施例１５ ０．６ Ａ Ａ 実施例１６ ０．４ Ｓ Ｓ 比較例６ ２．０以上 Ｂ Ａ 比較例７ ２．０以上 Ａ Ｃ ＊ＣＳＳテスト；ヤマハ社製の薄膜ヘッドを用い、ヘッ
ド荷重３．５ｇ、ヘッド浮上量２．８μインチ、４５０
０ｒｐｍで５秒間稼働、５秒間停止のサイクルを２万回
繰り返して行い、その際の静摩擦係数の増加を調べた。
いて、ＣＳＳテスト、グライドハイトテストＧＨＴ、及
びエラー特性について調べたので、その結果を表−６に
示す。 表−６ ＣＳＳテスト １．５μインチのＧＨＴ エラー特性 実施例１ ０．４ Ｓ Ｓ 実施例２ ０．６ Ｓ Ｓ 実施例３ ０．６ Ｓ Ｓ 実施例４ ０．６ Ｓ Ｓ 実施例５ ０．５ Ｓ Ｓ 実施例６ ０．４ Ｓ Ｓ 比較例１ １．８ Ｓ Ｓ 実施例７ ０．６ Ｓ Ｓ 実施例８ ０．５ Ａ Ｓ 実施例９ ０．４ Ｂ Ａ 実施例１０ ０．６ Ｓ Ｓ 実施例１１ ０．６ Ｓ Ａ 実施例１２ ０．５ Ｓ Ｓ 比較例２ １．８ Ｓ Ｓ 比較例３ １．８ Ｂ Ａ 比較例４ １．６ Ｓ Ｓ 比較例５ １．８ Ｓ Ｓ 実施例１３ ０．５ Ａ Ａ 実施例１４ ０．７ Ａ Ａ 実施例１５ ０．６ Ａ Ａ 実施例１６ ０．４ Ｓ Ｓ 比較例６ ２．０以上 Ｂ Ａ 比較例７ ２．０以上 Ａ Ｃ ＊ＣＳＳテスト；ヤマハ社製の薄膜ヘッドを用い、ヘッ
ド荷重３．５ｇ、ヘッド浮上量２．８μインチ、４５０
０ｒｐｍで５秒間稼働、５秒間停止のサイクルを２万回
繰り返して行い、その際の静摩擦係数の増加を調べた。
【００３５】＊ＧＨＴ ；ＰＲＯＱＵＩＰ社製ＭＧ
１５０Ｔを用い、５０％スライダヘッドを用いて行っ
た。１．５μインチの浮上高さの通過率が９０％以上の
ものをＳ、通過率が５０〜９０％のものをＡ、通過率が
３０〜５０％のものをＢ、通過率が３０％以下のものを
Ｃで表示した。 ＊エラー特性；ＰＲＯＱＵＩＰ社製のＭＧ−１５０Ｔ装
置を用い、７０％スライダーヘッドを使用し、記録密度
５１ＫＦＣＺの条件で評価した。スライスレベルは７０
％とし、１６ビット未満のミッシングエラーの個数をカ
ウントした。面当たり５個以内をＳ、６〜１５個をＡ、
１６〜４５個をＢ、４６個以上をＣとした。この表−６
から、本発明になるものは、１．５μインチの極めて厳
しいＧＨＴ特性を満たし、かつ、ＣＳＳテストに優れた
結果を示していることが判る。すなわち、ヘッドと磁性
層との間のスペーシングロスを少なく出来、電磁変換特
性に優れているのみならず、耐久性にも優れたものであ
る。又、再生エラーや消去エラーが少なく、記録・再生
特性が優れたものであった。
１５０Ｔを用い、５０％スライダヘッドを用いて行っ
た。１．５μインチの浮上高さの通過率が９０％以上の
ものをＳ、通過率が５０〜９０％のものをＡ、通過率が
３０〜５０％のものをＢ、通過率が３０％以下のものを
Ｃで表示した。 ＊エラー特性；ＰＲＯＱＵＩＰ社製のＭＧ−１５０Ｔ装
置を用い、７０％スライダーヘッドを使用し、記録密度
５１ＫＦＣＺの条件で評価した。スライスレベルは７０
％とし、１６ビット未満のミッシングエラーの個数をカ
ウントした。面当たり５個以内をＳ、６〜１５個をＡ、
１６〜４５個をＢ、４６個以上をＣとした。この表−６
から、本発明になるものは、１．５μインチの極めて厳
しいＧＨＴ特性を満たし、かつ、ＣＳＳテストに優れた
結果を示していることが判る。すなわち、ヘッドと磁性
層との間のスペーシングロスを少なく出来、電磁変換特
性に優れているのみならず、耐久性にも優れたものであ
る。又、再生エラーや消去エラーが少なく、記録・再生
特性が優れたものであった。
【００３６】尚、表−６からすると、ＰＣ50が３０〜２
００本／ｍｍの表面特性を有するようにするテクスチャ
処理はパウダービーム法かＰＶＤ法（スパッタ法）が好
ましい。
００本／ｍｍの表面特性を有するようにするテクスチャ
処理はパウダービーム法かＰＶＤ法（スパッタ法）が好
ましい。
【００３７】
【効果】極めて安定した高レベルのＣＳＳ耐久性を示
し、又、超低グライドハイト特性を達成できる。
し、又、超低グライドハイト特性を達成できる。
【図１】パウダービーム加工によるテクスチャ処理の概
略図
略図
【図２】磁気ディスクの概略図
１ カーボン製基板 ２ 下地膜 ３ 磁性膜 ４ 保護膜 ５ 潤滑剤膜
Claims (4)
- 【請求項１】 最大突起高さＲｐから５０Åの深さで切
った時の山の数ＰＣ50が３０〜２００本／ｍｍの表面特
性を有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 最大突起高さＲｐから５０Åの深さで切
った時の山の数ＰＣ50が３０〜２００本／ｍｍの表面特
性を有する支持体の上に磁性膜が設けられてなることを
特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】 Ｒｐが５０〜１００Åであることを特徴
とする請求項１または請求項２の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 磁気記録媒体が磁気ディスクであり、径
方向および周方向の凹凸が等方的であって、径方向の中
心線平均粗さＲａ／周方向の中心線平均粗さＲａが０．
８〜２．０であることを特徴とする請求項１〜請求項３
いずれかの磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7917495A JPH08279134A (ja) | 1995-04-04 | 1995-04-04 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7917495A JPH08279134A (ja) | 1995-04-04 | 1995-04-04 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08279134A true JPH08279134A (ja) | 1996-10-22 |
Family
ID=13682625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7917495A Pending JPH08279134A (ja) | 1995-04-04 | 1995-04-04 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08279134A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5903531B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2016-04-13 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、及び磁気ディスクドライブ装置 |
| JP2019521020A (ja) * | 2016-06-30 | 2019-07-25 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | フルオロカーボン剥離コーティング |
-
1995
- 1995-04-04 JP JP7917495A patent/JPH08279134A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5903531B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2016-04-13 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、及び磁気ディスクドライブ装置 |
| US9711175B2 (en) | 2013-12-26 | 2017-07-18 | Hoya Corporation | Magnetic-disk substrate having a small waviness, for use as a magnetic disk, and a magnetic-disk drive device for use with the magnetic disk |
| US9865293B2 (en) | 2013-12-26 | 2018-01-09 | Hoya Corporation | Magnetic-disk substrate having a small waviness, for use as a magnetic disk, and a magnetic-disk drive device for use with the magnetic disk |
| JP2019521020A (ja) * | 2016-06-30 | 2019-07-25 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | フルオロカーボン剥離コーティング |
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