JPH08239655A - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス素子

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JPH08239655A
JPH08239655A JP7045504A JP4550495A JPH08239655A JP H08239655 A JPH08239655 A JP H08239655A JP 7045504 A JP7045504 A JP 7045504A JP 4550495 A JP4550495 A JP 4550495A JP H08239655 A JPH08239655 A JP H08239655A
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久洋 東
Chishio Hosokawa
地潮 細川
Yoshio Hironaka
義雄 弘中
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 発光効率が高く、かつ色純度の高い青色光を
発する有機エレクトロルミネッセンス素子を提供するこ
と。 【構成】 一分子中に、両端が芳香環に、又は芳香環と
芳香族性複素環に結合したビニレン基1個以上を有する
電子供与性スチリル化合物、特に一般式(I) 【化1】 〔各記号は明細書に定義したとおりである。〕で表され
るスチリルアミン化合物の中から選ばれた少なくとも二
種を同一機能層に含有させてなる有機エレクトロルミネ
ッセンス素子である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は有機エレクトロルミネッ
センス(以下、ELと略記する)素子に関し、さらに詳
しくは、電子供与性スチリル化合物を二種以上組み合わ
せて同一機能層に含有させてなる高効率で、かつ色純度
の高い青色光を発する有機EL素子に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】電界発光を利用したEL素子は、自己発
光のため視認性が高く、また完全固体素子であるため耐
衝撃性に優れるという特徴を有しており、薄型ディスプ
レイ素子,液晶ディスプレイのバックライト,平面光源
などに用いられている。現在実用化されているEL素子
は、分散型EL素子である。この分散型EL素子は、数
10V,10kHz以上の交流電圧を必要とするため駆
動回路が複雑である上、製造コストが高く、かつ輝度や
耐久性が不充分であるなどの欠点を有している。一方、
有機薄膜EL素子は、駆動電圧が10V程度まで低下さ
せることができ、高輝度に発光するため近年盛んに研究
が行われ、多くの有機薄膜EL素子が開発されており、
例えば、「Appl. Phys. Lett. 」第151巻,第913
〜915ページ(1987年)、特開昭59−1943
93号公報、米国特許第4,539,507号明細書、
特開昭63−295695号公報、米国特許第4,72
0,432号明細書、特開昭63−264692号公報
などが報告又は提案されている。これらにおいては、陽
極,正孔注入輸送層,発光層及び陰極からなる電界発光
素子が開示されており、具体的には、正孔注入輸送材料
として芳香族第三級アミンが、また発光材料としてアル
ミニウムキレート錯体が代表的な例として挙げられてい
る。また、この他にも正孔輸送性の発光材料も知られて
おり、このようなものの代表例として、トリフェニルア
ミン骨格を有するスチリルアミン化合物を挙げることが
できる。具体的な例としては、特開平3−35083号
公報,特開平3−54289号公報,特開平3−163
188号公報,特開平3−200889号公報,特開平
4−348183号公報などに記載されているものが挙
げられる。しかしながら、これらの化合物は正孔輸送性
に優れているものの、結晶化しやすく、薄膜性に優れる
有機EL素子が得られにくいという欠点を有している。
【0003】その他、8−ヒドロキシキノリンアルミニ
ウム錯体をホストとして、これに蛍光物質を微量ドープ
してなる有機発光層を有する素子(特開昭63−264
692号公報)、8−ヒドロキシキノリンアルミニウム
錯体をホストとして、これにキナクリドン系色素をドー
プしてなる有機発光層を有する素子(特開平3−255
170号公報)があるが、これらの素子は、性能面で必
ずしも充分に満足しうるものではない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、発光効率が高く、かつ色純度の高い青色光を
発する有機EL素子を提供することを目的とするもので
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有する有機EL素子を開発すべく鋭意研究
を重ねた結果、特定の電子供与性スチリル化合物の中か
ら選ばれた少なくとも二種を組み合わせ、発光層や正孔
輸送層などの同一機能層に含有させることにより、その
目的を達成しうることを見出した。本発明はかかる知見
に基づいて完成したものである。すなわち、本発明は、
一対の電極の間に、少なくとも発光層を含む有機機能層
を挟持する有機EL素子において、一分子中に、両端が
芳香環及び芳香族性複素環のいずれかに結合したビニレ
ン基1個以上を有する電子供与性スチリル化合物の中か
ら選ばれた少なくとも二種を組み合わせ、同一機能層に
含有させたことを特徴とする有機EL素子を提供するも
のである。
【0006】また、本発明の特に好ましい態様は、電子
供与性スチリル化合物として、一般式(I)
【0007】
【化3】
【0008】〔式中のR1 〜R12は、それぞれ独立に水
素原子,ハロゲン原子,炭素数1〜10のアルキル基,
炭素数1〜10のアルコキシ基,炭素数6〜18のアリ
ールオキシ基,フェニル基,アミノ基,置換アミノ基,
水酸基又は一般式(II)
【0009】
【化4】
【0010】で表される芳香環に置換基を有していても
よいスチリル基を示し、その中の隣接する2つがたがい
に結合して飽和若しくは不飽和の5員環又は6員環を形
成してもよい。Z1 ,Z2 及びEは、それぞれ独立に水
素原子,炭素数1〜10のアルキル基,置換基を有する
若しくは有しない炭素数6〜20のアリール基,置換基
を有する若しくは有しない炭素数7〜20のアラルキル
基又は隣接するベンゼン環に結合する結合手を示し、A
rは置換基を有する若しくは有しない炭素数6〜20の
アリーレン基,炭素数4〜20の2価の芳香族性複素環
式基又は置換基を有する若しくは有しない2価のトリア
リールアミノ基を示す。また、該置換基とは炭素数1〜
10のアルキル基,炭素数1〜10のアルコキシ基,炭
素数6〜18のアリールオキシ基,フェニル基,アミノ
基,シアノ基,ニトロ基,水酸基又はハロゲン原子を示
し、これらの置換基は単一でも複数置換されていてもよ
い。点線1,2及び3はそれぞれ連結することにより複
素環構造をとりうることを示す。nは0,1又2を示
し、Arが2個ある場合、各Arは同じでも異なってい
てもよい。〕で表されるスチリルアミン化合物の中から
選ばれた少なくとも二種を組み合わせ、同一機能層に含
有させてなる有機EL素子である。
【0011】本発明の有機EL素子において用いられる
電子供与性スチリル化合物は、一分子中に、両端が芳香
環に、又は芳香環と芳香族性複素環に結合したビニレン
基1個以上を有するものであり、かつ電子供与性基を有
することが必要である。この電子供与性基としては、例
えば炭素数1〜10のアルコキシ基,炭素数6〜18の
アリールオキシ基,及び炭素数1〜30の炭化水素基を
もつ置換アミノ基の中から選ばれた少なくとも一種が好
ましく挙げられる。このような電子供与性スチリル化合
物としては、上記条件を満たすものであればよく、特に
制限されず、様々な化合物を用いることができるが、次
に示す一般式(I)
【0012】
【化5】
【0013】で表されるスチリルアミン化合物が好適で
ある。上記一般式(I)において、R1 〜R12は、それ
ぞれ独立に水素原子,ハロゲン原子,炭素数1〜10の
アルキル基,炭素数1〜10のアルコキシ基,炭素数6
〜18のアリールオキシ基,フェニル基,アミノ基,置
換アミノ基,水酸基又は一般式(II)
【0014】
【化6】
【0015】で表される芳香環に置換基を有していても
よいスチリル基を示す。該炭素数1〜10のアルキル基
としては、例えばメチル基,エチル基,n−プロピル
基,イソプロピル基,n−ブチル基,イソブチル基,s
ec−ブチル基,t−ブチル基,イソペンチル基,t−
ペンチル基,ネオペンチル基,n−ヘキシル基,イソヘ
キシル基などが、炭素数1〜10のアルコキシ基として
は、例えばメトキシ基,エトキシ基,n−プロポキシ
基,イソプロポキシ基,n−ブチルオキシ基,イソブチ
ルオキシ基,sec−ブチルオキシ基,イソペンチルオ
キシ基,t−ペンチルオキシ基,n−ヘキシルオキシ基
などが、炭素数6〜18のアリールオキシ基としては、
例えばフェノキシ基やナフチルオキシ基などが挙げられ
る。また、置換アミノ基としては、例えばジメチルアミ
ノ基,メチルアミノ基,アニリノ基,ジフェニルアミノ
基などが挙げられる。さらに、上記一般式(II)で表さ
れるスチリル基としては、例えばN,N−ビス(フェニ
ル)−4−アミノスチリル基,N,N−ビス(トリル)
−4−アミノスチリル基などが挙げられる。
【0016】また、該R1 〜R12は、その中の隣接する
2つがたがいに結合して飽和若しくは不飽和の5員環又
は6員環を形成してもよい。Z1 ,Z2 及びEは、それ
ぞれ独立に水素原子,炭素数1〜10のアルキル基,置
換基を有する若しくは有しない炭素数6〜20のアリー
ル基,置換基を有する若しくは有しない炭素数7〜20
のアラルキル基又は隣接するベンゼン環に結合する結合
手を示す。該炭素数1〜10のアルキル基としては、例
えばメチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピ
ル基,n−ブチル基,イソブチル基,ネオペンチル基,
n−ヘキシル基,イソヘキシル基などが、該炭素数6〜
20のアリール基としては、例えばフェニル基,ナフチ
ル基,タ−フェニル基,アントラニル基,ピレニル基,
ペリレニル基などが、該炭素数7〜20のアラルキル基
としては、例えばベンジル基やフェネチル基などが挙げ
れらる。Arは、置換基を有する若しくは有しない炭素
数6〜20のアリーレン基,炭素数4〜20の2価の芳
香族性複素環式基又は置換基を有する若しくは有しない
2価のトリアリールアミノ基を示す。ここで、炭素数6
〜20のアリーレン基としては、例えばフェニレン基,
ビフェニレン基,ナフタレンジイル基,ターフェニレン
ジイル基,クオーターフェニレンジイル基,アントラセ
ンジイル基,ピレンジイル基,ペリレンジイル基などが
挙げられ、炭素数4〜20の芳香族性複素環式基として
は、例えばチオフェンジイル基,ビチオフェンジイル
基,ピリジンジイル基,ピラジンジイル基,キノリンジ
イル基,キノキサリンジイル基,カルバゾールジイル
基,ターチオフェンジイル基などが挙げれらる。前記置
換基としては、メチル基,エチル基,n−プロピル基,
イソプロピル基,n−ブチル基,イソブチル基,sec
−ブチル基,t−ブチル基,イソペンチル基,t−ペン
チル基,ネオペンチル基,n−ヘキシル基,イソヘキシ
ル基などの炭素数1〜10のアルキル基,メトキシ基,
エトキシ基,n−プロポキシ基,イソプロポキシ基,n
−ブチルオキシ基,イソブチルオキシ基,sec−ブチ
ルオキシ基,イソペンチルオキシ基,t−ペンチルオキ
シ基,n−ヘキシルオキシ基などの炭素数1〜10のア
ルコキシ基,フェノキシ基,ナフチルオキシ基などの炭
素数6〜18のアリールオキシ基,フェニル基,アミノ
基,シアノ基,ニトロ基,水酸基又はハロゲン原子が挙
げられ、これらの置換基は単一でも複数置換されていて
もよい。さらに、点線1,2及び3は、それぞれ連結す
ることにより複素環構造をとりうることを示し、例え
ば、点線1又は2の場合では、一般式(III)
【0017】
【化7】
【0018】で表されるアクリジン環構造、あるいは、
一般式(IV)
【0019】
【化8】
【0020】で表されるカルバゾール環構造をとりうる
ことを示す。なお、一般式(III)及び(IV)におけるR
1 〜R12,Z1 及びZ2 は上記と同じである。また、該
1 及びR7 が上記一般式(II)で表されるスチリル基
である場合、例えば、一般式(V)
【0021】
【化9】
【0022】〔式中、R2 〜R6 ,R8 〜R12,Z1
2 及びEは上記と同じである。〕で表される構造をと
りうる。なお、R1 ,R7 に対応するN−置換アミノス
チリル基の芳香環には、前述した置換基の中から選ばれ
た適当な置換基が1個以上導入されていてもよい。nは
0,1又は2を示し、nが0の場合は、一般式(I)の
化合物は、一般式(VI)
【0023】
【化10】
【0024】で表され、nが1の場合、一般式(I)の
化合物は、一般式(VII)
【0025】
【化11】
【0026】で表され、nが2の場合、一般式(I)の
化合物は、一般式(VIII)
【0027】
【化12】
【0028】で表される。なお、一般式(VI),(VII)
及び(VIII) において、R1 〜R12,Z1 ,Z2 ,A
r,点線1及び点線2は上記と同じである。また、一般
式(VIII) において、2つのArはたがいに同一でも異
なっていてもよい。本発明の有機EL素子は、一対の電
極の間に、少なくとも発光層をもつ有機機能層を挟持し
たものであって、この有機機能層としては、例えば発光
層と、正孔輸送層及び/又は電子注入層とからなるもの
が好ましく挙げられる。本発明の有機EL素子において
は、前記の電子供与性スチリル化合物の中から選ばれた
少なくとも二種を組み合わせて、上記有機機能層の中の
同一機能層へ含有させることが必要であり、特に発光層
又は正孔輸送層へ含有させるのが望ましい。この場合、
少なくとも二種の電子供与性スチリル化合物で機能層を
形成してもよく、あるいは該化合物を機能層へドープし
てもよい。この際、少なくとも二種の化合物の使用比率
については、電子供与性スチリル化合物として、前記一
般式(I)で表されるスチリルアミン化合物を用いる場
合、一般式(VI)で表される化合物(n=0)を〔V
I〕、一般式(VII)で表される化合物(n=1)を〔VII
〕、一般式(VIII) で表される化合物(n=2)を〔V
III〕とすると、 〔VI〕と〔VII 〕は同等量若しくは〔VI〕<〔VII 〕
の比率 〔VII 〕と〔VIII〕は同等量若しくは〔VIII〕<〔VI
I 〕の比率 〔VI〕と〔VIII〕は同等量若しくは〔VI〕<〔VIII〕
の比率 〔VI〕と〔VII 〕と〔VIII〕は同等量若しくは〔V
I〕,〔VIII〕<〔VII 〕の比率 が特に好ましい。
【0029】また、同一機能層へドープする場合には、
上記組み合わせの化合物を、上記比率にてホストに対
し、それぞれ蒸着速度の割合から、10重量%以下、特
にそれぞれ1〜5重量%の割合でドープするのが望まし
い。上記一般式(VI)〜(VIII) のスチリルアミン化合
物は、蛍光増白剤として知られているものが多く、その
製造方法については、例えば“Bulletin”第3
5巻,第135ページ(1962年)や、“Synth
esis”第341ページ(1982年)などに記載さ
れている。以下、一般式(VI)〜(VIII) のスチリルア
ミン化合物の具体的な製造方法について説明する。 (1)一般式(VI)で表されるスチリルアミン化合物の
製法 一般式(IX)
【0030】
【化13】
【0031】〔式中、R1 〜R6 ,Z1 及び点線1は上
記と同じであり、Rは炭素数1〜4のアルキル基又はフ
ェニル基を示す。〕で表されるホスホン酸エステルと、
一般式(X)
【0032】
【化14】
【0033】〔式中、R7 〜R12,Z2 及び点線2は上
記と同じである。〕で表されるアルデヒドとをカップリ
ングさせることにより、一般式(VI)で表されるスチリ
ルアミン化合物が得られる。 (2)一般式(VII)で表されるスチリルアミン化合物の
製法 一般式(XI)
【0034】
【化15】
【0035】〔式中、Ar及びRは上記と同じであ
る。〕で表されるホスホン酸エステルと、上記一般式
(X)又は一般式(XII)
【0036】
【化16】
【0037】〔式中、R1 〜R6 ,Z1 及び点線1は上
記と同じである。〕で表されるアルデヒドとをカップリ
ングさせることにより、一般式(VII)で表されるスチリ
ルアミン化合物が得られる。また、一般式(XIII) OHC−Ar−CHO ・・・(XIII) 〔式中、Arは上記と同じである。〕で表されるアルデ
ヒドと、上記一般式(IX)又は一般式(XIV)
【0038】
【化17】
【0039】〔式中、R7 〜R12,Z2 ,点線2及びR
は上記と同じである。〕で表されるホスホン酸エステル
とをカップリングさせることによっても、一般式(VII)
で表されるスチリルアミン化合物が得られる。 (3)一般式(VIII) で表されるスチリルアミン化合物
の製法 一般式(XV)
【0040】
【化18】
【0041】〔式中、Ar及びRは上記と同じであ
る。〕で表されるホスホン酸エステルと、上記一般式
(X)又は一般式(XII)で表されるアルデヒドとをカッ
プリングさせることにより、一般式(VIII) で表される
スチリルアミン化合物が得られる。また、一般式(XVI) OHC−Ar−CH=CH−Ar−CHO ・・・ (XVI) 〔式中、Arは上記と同じである。〕で表されるアルデ
ヒドと、上記一般式(IX) 又は(XIV) で表されるホスホ
ン酸エステルとをカップリングさせることによっても、
一般式(VIII) で表されるスチリルアミン化合物が得ら
れる。その他、種々の方法が知られているが、上記した
ようなWittig反応を用いる方法が有利である。
【0042】前記製造方法においては、通常反応溶媒が
用いられる。該反応溶媒としては、炭化水素類,アルコ
ール類,エーテル類が好ましく、具体的には、メタノー
ル;エタノール;イソプロパノール;ブタノール;2−
メトキシエタノール;1,2−ジメトキシエタン;ビス
(2−メトキシエチル)エーテル;ジオキサン;テトラ
ヒドロフラン;トルエン;キシレン;ジメチルスルホキ
シド;N,N−ジメチルホルムアミド;N−メチルピロ
リドン;1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンなど
が挙げられる。特に、テトラヒドロフラン及びジメチル
スルホキシドが好適である。また、縮合剤として、例え
ば水酸化ナトリウム,水酸化カリウム,ナトリウムアミ
ド,水素化ナトリウム,n−ブチルリチウム,ナトリウ
ムメチラート,カリウムt−ブトキシドなどが好ましく
用いられ、特にn−ブチルリチウム及びカリウムt−ブ
トキシドが好適である。反応温度は、使用する原料の種
類などにより異なり、一概に定めることはできないが、
通常は0〜100℃の範囲、好ましくは0℃〜室温の範
囲で選ばれる。上記一般式(I)〔一般式(VI),(VII),
(VIII)〕で表されるスチリルアミン化合物の具体例とし
ては、以下に示す化合物を挙げることができるが、もち
ろんこれらに限定されるものではない。 一般式(VI)で表されるスチリルアミン化合物の例
【0043】
【化19】
【0044】
【化20】
【0045】
【化21】
【0046】一般式(VII) で表されるスチリルアミン化
合物の例
【0047】
【化22】
【0048】
【化23】
【0049】
【化24】
【0050】
【化25】
【0051】一般式(VIII)で表されるスチリルアミン化
合物の例
【0052】
【化26】
【0053】
【化27】
【0054】上記一般式(I)〔一般式(VI),(VII),(V
III)〕で表されるスチリルアミン化合物は、EL素子に
おける発光材料又は正孔輸送材料として有効である。こ
のスチリルアミン化合物を発光層とする場合は、例えば
蒸着法,スピンコート法,キャスト法などの公知の方法
によって、一般式(I)のスチリルアミン化合物の中か
ら選ばれた少なくとも二種を薄膜化することにより形成
することができるが、特に分子堆積膜とすることが好ま
しい。ここで、分子堆積膜とは、該化合物の気相状態か
ら沈着され形成された薄膜や、該化合物の溶液状態又は
液相状態から固体化され形成された膜のことであり、例
えば蒸着膜などを示すが、通常この分子堆積膜はLB法
により形成された薄膜(分子累積膜)とは区別すること
ができる。また、該発光層は、特開昭59−19439
3号公報などに開示されているように、樹脂などの結着
剤と該化合物とを、溶剤に溶かして溶液としたのち、こ
れをスピンコート法などにより薄膜化し、形成すること
ができる。
【0055】また、該スチリルアミン化合物を発光層に
ドープする場合は、例えば発光材料と、一般式(I)の
スチリルアミン化合物の中から選ばれた少なくとも二種
とを共蒸着させて発光層を形成するのが有利である。こ
のようにして形成された発光層の膜厚については特に制
限はなく、適宜状況に応じて選ぶことができるが、通常
5nm〜5μmの範囲で選定される。
【0056】このEL素子における発光層は、(1)電
界印加時に、陽極又は正孔輸送層により正孔を注入する
ことができ、かつ陰極又は電子注入層より電子を注入す
ることができる注入機能、(2)注入した電荷(電子と
正孔)を電界の力で移動させる輸送機能、(3)電子と
正孔の再結合の場を発光層内部に提供し、これを発光に
つなげる発光機能などを有している。なお、正孔の注入
されやすさと、電子の注入されやすさに違いがあっても
よいし、正孔と電子の移動度で表される輸送能に大小が
あってもよいが、どちらか一方の電荷を移動することが
好ましい。この発光層に用いる前記一般式(I)で表さ
れる化合物は、一般にイオン化エネルギーが6.0eV程
度より小さいので、適当な陽極金属又は陽極化合物を選
べば、比較的正孔を注入しやすい。また電子親和力は2.
8eV程度より大きいので、適当な陰極金属又は陰極化
合物を選べば、比較的電子を注入しやすい上、電子,正
孔の輸送能力も優れている。さらに固体状態の蛍光性が
強いため、該化合物やその会合体又は結晶などの電子と
正孔の再結合時に形成された励起状態を光に変換する能
力が大きい。
【0057】このスチリルアミン化合物を用いたEL素
子の構成は、各種の態様があるが、基本的には、一対の
電極(陽極と陰極)間に、前記発光層を挟持した構成と
し、これに必要に応じて、正孔輸送層や電子注入層を介
在させればよい。介在方法としては、ポリマーへの混ぜ
込みや同時蒸着がある。具体的には、(1)陽極/発光
層/陰極,(2)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極,
(3)陽極/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極,
(4)陽極/発光層/電子注入層/陰極などの構成を挙
げることができる。該正孔輸送層や電子注入層は、必ず
しも必要ではないが、これらの層があると発光性能が一
段と向上する。また、前記構成の素子においては、いず
れも基板に支持されていることが好ましく、該基板につ
いては特に制限はなく、従来EL素子に慣用されている
もの、例えば、ガラス,透明プラスチック,石英などか
らなるものを用いることができる。
【0058】なお、本発明においては、一般式(I)の
スチリルアミン化合物を発光層に用いる代わりに、発光
層の場合と同様に、正孔輸送層に用いてもよい。このE
L素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4e
V以上)金属,合金,電気伝導性化合物及びこれらの混
合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。この
ような電極物質の具体例としてはAuなどの金属,Cu
I,インジウムチンオキシド(以下、ITOと略記す
る),SnO2 ,ZnOなどの誘電性透明材料が挙げら
れる。該陽極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリ
ングなどの方法により、薄膜を形成させることにより作
製することができる。この電極より発光を取り出す場合
には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、
また、電極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ま
しい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1
μm,好ましくは10〜200nmの範囲で選ばれる。
【0059】一方、陰極としては、仕事関数の小さい
(4eV以下)金属,合金,電気伝導性化合物及びこれ
らの混合物を電極物質とするものが用いられる。このよ
うな電極物質の具体例としては、ナトリウム,ナトリウ
ム−カリウム合金,マグネシウム,リチウム,マグネシ
ウム−銅合金,Al/AlO2 ,インジウムなどが挙げ
られる。該陰極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタ
リングなどの方法により、薄膜を形成させることによ
り、作製することができる。また、電極としてのシート
抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm
〜1μm,好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれ
る。なお、このEL素子においては、該陽極又は陰極の
いずれか一方が透明又は半透明であることが、発光を透
過するため、発光の取出し効率がよく好都合である。
【0060】本発明の化合物を用いるEL素子の構成
は、前記したように、各種の態様があり、前記(2)又
は(3)の構成のEL素子における正孔輸送層は、正孔
伝達化合物からなる層であって、陽極より注入された正
孔を発光層に伝達する機能を有し、この正孔輸送層を陽
極と発光層との間に介在させることにより、より低い電
界で多くの正孔が発光層に注入される。その上、発光層
に陰極又は電子注入層より注入された電子は、発光層と
正孔輸送層の界面に存在する電子の障壁により、この発
光層内の界面付近に蓄積されEL素子の発光効率を向上
させ、発光性能の優れたEL素子とする。前記正孔輸送
層に用いられる正孔伝達化合物は、電界を与えられた2
個の電極間に配置されて陽極から正孔が注入された場
合、該正孔を適切に発光層へ伝達しうる化合物であっ
て、例えば104 〜106 V/cmの電界印加時に、少
なくとも10-6cm2 /(V・秒)の正孔移動度をもつ
ものが好適である。このような正孔伝達化合物について
は、前記の好ましい性質を有するものであれば特に制限
はなく、従来、光導電材料において、正孔の電荷輸送材
として慣用されているものやEL素子の正孔輸送層に使
用される公知のものの中から任意のものを選択して用い
ることができる。該電荷輸送材としては、例えばトリア
ゾール誘導体(米国特許第3,112,197号明細書など
に記載のもの)、オキサジアゾール誘導体(米国特許第
3,189,447号明細書などに記載のもの)、イミダゾ
ール誘導体(特公昭37−16096号公報などに記載
のもの)、ポリアリールアルカン誘導体(米国特許第
3,615,402 号明細書,同3,820,989 号明細書,
同3,542,544 号明細書,特公昭45−555号公
報,同51−10983号公報,特開昭51−9322
4号公報,同55−17105号公報,同56−414
8号公報,同55−108667号公報,同55−15
6953号公報,同56−36656号公報などに記載
のもの)、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体(米
国特許第3,180,729 号明細書,同4,278,746 号
明細書,特開昭55−88064号公報,同55−88
065号公報,同49−105537号公報,同55−
51086号公報,同56−80051号公報,同56
−88141号公報,同57−45545号公報,同5
4−112637号公報,同55−74546号公報な
どに記載のもの)、フェニレンジアミン誘導体(米国特
許第3,615,404 号明細書,特公昭51−10105
号公報,同46−3712号公報,同47−25336
号公報,特開昭54−53435号公報,同54−11
0536号公報,同54−119925号公報などに記
載のもの)、アリールアミン誘導体(米国特許第3,56
7,450 号明細書,同3,180,703 号明細書,同3,2
40,597 号明細書,同3,658,520 号明細書,同
4,232,103 号明細書,同4,175,961 号明細書,
同4,012,376号明細書,特公昭49−35702号
公報,同39−27577号公報,特開昭55−144
250号公報,同56−119132号公報,同56−
22437号公報,西独特許第1,110,518 号明細書
などに記載のもの)、アミノ置換カルコン誘導体(米国
特許第3,526,501 号明細書などに記載のもの)、オ
キサゾール誘導体(米国特許第3,257,203 号明細書
などに記載のもの)、スチリルアントラセン誘導体(特
開昭56−46234号公報などに記載のもの)、フル
オレノン誘導体(特開昭54−110837号公報など
に記載のもの)、ヒドラゾン誘導体(米国特許第3,71
7,462 号明細書,特開昭54−59143号公報,同
55−52063号公報,同55−52064号公報,
同55−46760号公報,同55−85495号公
報,同57−11350号公報,同57−148749
号公報などに記載されているもの)、スチルベル誘導体
(特開昭61−210363号公報,同61−2284
51号公報,同61−14642号公報,同61−72
255号公報,同62−47646号公報,同62−3
6674号公報,同62−10652号公報,同62−
30255号公報,同60−93445号公報,同60
−94462号公報,同60−174749号公報,同
60−175052号公報などに記載のもの)などを挙
げることができる。
【0061】これらの化合物を正孔伝達化合物として使
用することができるが、次に示すポルフィリン化合物
(特開昭63−295695号公報などに記載のもの)
及び芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合
物(米国特許第4,127,412号明細書,特開昭53−
27033号公報,同54−58445号公報,同54
−149634号公報,同54−64299号公報,同
55−79450号公報,同55−144250号公
報,同56−119132号公報,同61−29555
8号公報,同61−98353号公報,同63−295
695号公報などに記載のもの)、特に該芳香族第三級
アミン化合物を用いることが好ましい。
【0062】該ポルフィリン化合物の代表例としては、
ポルフィリン;5,10,15,20−テトラフェニル
−21H,23H−ポルフィリン銅(II);5,10,
15,20−テトラフェニル−21H,23H−ポルフ
ィリン亜鉛(II);5,10,15,20−テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)−21H,23H−ポルフ
ィリン;シリコンフタロシアニンオキシド;アルミニウ
ムフタロシアニンクロリド;フタロシアニン(無金
属);ジリチウムフタロシアニン;銅テトラメチルフタ
ロシアニン;銅フタロシアニン;クロムフタロシアニ
ン;亜鉛フタロシアニン;鉛フタロシアニン;チタニウ
ムフタロシアニンオキシド;マグネシウムフタロシアニ
ン;銅オクタメチルフタロシアニンなどが挙げられる。
また該芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化
合物の代表例としては、N,N,N’,N’−テトラフ
ェニル−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミ
ン;N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’
−ジフェニル−〔1,1’−ビフェニル〕−4,4’−
ジアミン;2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフ
ェニル)プロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリル
アミノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N’,N’
−テトラ−p−トリル−(1,1’−ビフェニル)−
4,4’−ジアミン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリ
ルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン;ビ
ス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニ
ルメタン;ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)
フェニルメタン;N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ
(4−メトキシフェニル)−(1,1’−ビフェニル)
−4,4’−ジアミン;N,N,N’,N’−テトラフ
ェニル−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル;4,
4’−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル;
N,N,N−トリ(p−トリル)アミン;4−(ジ−p
−トリルアミン)−4’−〔4(ジ−p−トリルアミ
ン)スチリル〕スチルベン;4−N,N−ジフェニルア
ミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−メトキ
シ−4’−N,N−ジフェニルアミノスチルベン;N−
フェニルカルバゾールなどが挙げられる。
【0063】上記EL素子における該正孔輸送層は、こ
れらの正孔伝達化合物一種又は二種以上からなる一層で
構成されてもよく、あるいは、前記層とは別種の化合物
からなる正孔輸送層を積層したものであってもよい。一
方、前記(3)の構成のEL素子における電子注入層
(電子注入輸送層)は、電子伝達化合物からなるもので
あって、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機
能を有している。このような電子伝達化合物について特
に制限はなく、従来公知の化合物の中から任意のものを
選択して用いることができる。該電子伝達化合物の好ま
しい例としては、
【0064】
【化28】
【0065】などのニトロ置換フルオレノン誘導体、
【0066】
【化29】
【0067】などのチオピランジオキシド誘導体,
【0068】
【化30】
【0069】などのジフェニルキノン誘導体〔「ポリマ
ー・プレプリント( Polymer Preprints),ジャパン」第
37巻,第3号,第681ページ(1988年)などに
記載のもの〕、あるいは
【0070】
【化31】
【0071】などの化合物〔“J.Apply.Phys.”第27
巻,第269頁(1988年)などに記載のもの〕や、
アントラキノジメタン誘導体(特開昭57−14925
9号公報,同58−55450号公報,同61−225
151号公報,同61−233750号公報,同63−
104061号公報などに記載のもの)、フレオレニリ
デンメタン誘導体(特開昭60−69657号公報,同
61−143764号公報,同61−148159号公
報などに記載のもの)、アントロン誘導体(特開昭61
−225151号公報,同61−233750号公報な
どに記載のもの)また、次の一般式(XVII) 又は(XVII
I)
【0072】
【化32】
【0073】〔式中、Ar1 〜Ar3 及びAr5 は、そ
れぞれ独立に置換又は無置換のアリール基を示し、Ar
4 は置換又は無置換のアリーレン基を示す。〕で表され
る電子伝達化合物が挙げられる。ここで、アリール基と
してはフェニル基,ナフチル基,ビフェニル基,アント
ラニル基,ペリレニル基,ピレニル基などが挙げられ、
アリーレン基としてはフェニレン基,ナフチレン基,ビ
フェニレン基,アントラセニレン基,ペリレニレン基,
ピレニレン基などが挙げられる。また、置換基としては
炭素数1〜10のアルキル基,炭素数1〜10のアルコ
キシ基又はシアノ基などが挙げられる。この一般式(XV
II) 又は(XVIII)で表される化合物は、薄膜形成性のも
のが好ましい。一般式(XVII) 又は(XVIII)で表される
化合物の具体例としては、
【0074】
【化33】
【0075】
【化34】
【0076】
【化35】
【0077】など、“Appl. Phys. Lett. ”第55巻、
第1489ページ(1989年)に開示されているオキ
サジアゾール誘導体などを挙げることができる。なお、
正孔輸送層及び電子注入層は電荷の注入性,輸送性,障
壁性のいずれかを有する層であり、上記した有機材料の
他にSi系,SiC系,CdS系などの結晶性ないし非
結晶性材料などの無機材料を用いることもできる。有機
材料を用いた正孔輸送層及び電子注入層は、発光層と同
様にして形成することができ、無機材料を用いた正孔輸
送層及び電子注入層は真空蒸着法やスパッタリングなど
により形成できるが、有機及び無機のいずれの材料を用
いた場合でも発光層のときと同様の理由から真空蒸着法
により形成することが好ましい。次に、本発明のEL素
子を作製する好適な方法の例を、各構成の素子それぞれ
について説明する。前記の陽極/発光層/陰極からなる
EL素子の作製法について説明すると、まず適当な基板
上に、所望の電極物質、例えば陽極用物質からなる薄膜
を、1μm以下、好ましくは10〜200nmの範囲の
膜厚になるように、蒸着やスパッタリングなどの方法に
より形成させ、陽極を作製したのち、この上に発光材料
である一般式(I)で表されるスチリルアミン化合物を
含む薄膜を形成させ、発光層を設ける。該発光材料の薄
膜化の方法としては、例えばスピンコート法,キャスト
法,蒸着法などがあるが、均質な膜が得られやすく、か
つピンホールが生成しにくいなどの点から、蒸着法が好
ましい。該発光材料の薄膜化に、この蒸着法を採用する
場合、その蒸着条件は、使用する発光層に用いる有機化
合物の種類,分子堆積膜の目的とする結晶構造,会合構
造などにより異なるが、一般にボート加熱温度50〜4
00℃,真空度10-5〜10-3Pa,蒸着速度0.01〜
50nm/sec,基板温度−50〜+300℃,膜厚
5nm〜5μmの範囲で適宜選ぶことが望ましい。次に
この発光層の形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜
を、1μm以下、好ましくは50〜200nmの範囲の
膜厚になるように、例えば蒸着やスパッタリングなどの
方法により形成させ、陰極を設けることにより、所望の
EL素子が得られる。なお、このEL素子の作製におい
ては、作製順序を逆にして、陰極,発光層,陽極の順に
作製することも可能である。
【0078】また、一対の電極間に正孔輸送材料,発光
材料,電子注入材料を混合させた形で電極間に挟持させ
発光層とした、陽極/発光層/陰極からなる素子の場合
の作製方法としては、例えば適当な基板の上に、陽極用
物質からなる薄膜を形成し、正孔輸送材料,発光材料,
電子注入材料,ポリビニルカルバゾールなどの結着剤な
どからなる溶液を塗布するか、又はこの溶液から浸漬塗
工法により薄膜を形成させ発光層とし、その上に陰極用
物質からなる薄膜を形成させるものがある。ここで、作
製した発光層上に、さらに発光層の材料となる素子材料
を真空蒸着し、その上に陰極用物質からなる薄膜を形成
させてもよい。あるいは、正孔輸送材料,電子注入材料
及び発光材料を同時蒸着させ発光層とし、その上に陰極
用物質からなる薄膜を形成させてもよい。
【0079】次に、陽極/正孔輸送層/発光層/陰極か
らなるEL素子の作製法について説明すると、まず、陽
極を前記のEL素子の場合と同様にして形成したのち、
その上に、正孔伝達化合物からなる薄膜をスピンコート
法などにより形成し、正孔輸送層を設ける。この際の条
件は、前記発光材料の薄膜形成の条件に準じればよい。
次に、この正孔輸送層の上に、順次発光層及び陰極を、
前記EL素子の作製の場合と同様にして設けることによ
り、所望のEL素子が得られる。なお、このEL素子の
作製においても、作製順序を逆にして、陰極,発光層,
正孔輸送層,陽極の順に作製することも可能である。さ
らに、陽極/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極か
らなるEL素子の作製法について説明すると、まず、前
記のEL素子の作製の場合と同様にして、陽極,正孔輸
送層,発光層を順次設けたのち、この発光層の上に、電
子伝達化合物からなる薄膜をスピンコート法などにより
形成して、電子注入層を設け、次いでこの上に、陰極を
前記EL素子の作製の場合と同様にして設けることによ
り、所望のEL素子が得られる。なお、このEL素子の
作製においても、作製順序を逆にして、陽極,電子注入
層,発光層,正孔輸送層,陽極の順に作製してもよい。
【0080】このようにして得られた本発明の有機EL
素子に、直流電圧を印加する場合には、陽極を+,陰極
を−の極性として電圧1〜30V程度を印加すると、発
光が透明又は半透明の電極側より観測できる。また、逆
の極性で電圧を印加しても電流は流れず発光は全く生じ
ない。さらに、交流電圧を印加する場合には、陽極が
+,陰極が−の状態になったときのみ発光する。なお、
印加する交流の波形は任意でよい。
【0081】
【実施例】次に、本発明を製造例及び実施例によりさら
に詳しく説明するが、本発明はこれらの例によってなん
ら限定されるものではない。 製造例1 1,2−ビス(4−トリフェニルアミノ)エ
チレン(BTPAE)の 製造 以下に示す反応式に従ってBTPAEを製造した。
【0082】
【化36】
【0083】(1)ヒドロキシメチルトリフェニルアミ
ン〔2〕の製造 N,N−ジフェニル−4−アミノベンズアルデヒド
〔1〕52g(0.19モル)及びメタノール1140ミ
リリットルからなるスラリーに、室温でNaBH42.5
g(0.066モル)と10重量%炭酸カリウム水溶液9.
7ミリリットルとの混合物を滴下した。TLC(薄層ク
ロマトグラフィー)で原料がなくなった時点で、水3リ
ットルに注加し、酢酸エチル2リットルで抽出した。水
洗後、乾燥してから溶媒を留去し、ヒドロキシメチルト
リフェニルアミン〔2〕の淡緑色固体53.8gが得られ
た。
【0084】(2)臭化メチルトリフェニルアミン
〔3〕の製造 上記(1)と同様な操作で得られたヒドロキシメチルト
リフェニルアミン〔2〕60g(0.22モル),塩化メ
チレン1.6リットル及びトリエチルアミン6ミリリット
ルからなる溶液に0℃以下で三臭化リン30g(0.11
モル)と塩化メチレン150ミリリットルからなる溶液
を滴下した。原料がなくなるまで同温度で攪拌したの
ち、氷水1.5リットル中に注加したのち、分液して得ら
れた油層を水洗し、さらに酸性炭酸ナトリウム水溶液で
洗浄後、水洗してから乾燥し、次いで溶媒を留去するこ
とにより、臭化メチルトリフェニルアミン〔3〕の暗緑
色固体55.8gが得られた。このものは、NMR(核磁
気共鳴スペクトル)純度は悪いが、そのまま次反応原料
に供した。 (3)化合物〔4〕の製造 上記(2)で得られた臭化メチルトリフェニルアミン5
4g(0.16モル)及びトリフェニルホスフィン43g
(0.164モル)を乾燥ジメチルホルムアミド162ミ
リリットルに溶解したのち、150℃で3時間攪拌し
た。冷却後、酢酸エチル2.5リットル中に注加し、生成
した固体をろ取したのち、酢酸エチルで洗浄後、減圧乾
燥して、化合物〔4〕の微黄色固体36gを得た。
【0085】(4)BTPAEの製造 乾燥エタノール1リットル中に、上記(3)で得られた
化合物〔4〕7g(10.6ミリモル)及びN,N−ジフ
ェニル−4−アミノベンズアルデヒド〔1〕3.39g
(12.5ミリモル)を加えて30分間攪拌したのち、不
溶物をろ別した溶液に、0.212モル/リットル濃度の
エトキシリチウムエタノール溶液59ミリリットルを加
え、室温で一夜攪拌した。生成した淡黄色固体をろ取
し、エタノールから再結晶することにより、HPLC
(高速液体クロマトグラフィー)純度99.3%の淡黄色
固体3.1gが得られた。このものの融点は234〜23
5.5℃であった。この化合物を質量分析(FD−MS)
したところ、BTPAEに由来するm/z=514(z
=1)のみのピークが得られたことにより、目的物のB
TPAEであることが確認された。
【0086】製造例2 4,4’−ビス〔2−{4−(N,N−ジフェニルアミ
ノ)フェニル}ビニル〕ビフェニル(DPAVBi)の
製造 以下に示す反応式に従って製造した。
【0087】
【化37】
【0088】200ミリリットルの三つ口フラスコに,
4,4’−ビス〔(ジエチルホスホリル)メチル〕ビフ
ェニル〔2〕1.91g(0.0042モル)と、N,N−
ジフェニル−4−アミノベンズアルデヒド〔1〕2.98
g(0.011モル)を入れ、モレキュラ−シーブで乾燥
させたジメチルスルホキシド50ミリリットルに溶解さ
せた。これをアルゴンガス雰囲気下、室温(20℃)に
てマグネチックスターラーにて攪拌しながら、カリウム
t−ブトキシド(関東化学社製)1.04g(0.0093
モル)を粉末の状態で少量ずつ加えた。反応液はただち
に赤黒色を呈し、やがて退色し、緑黄色後に黄土色の析
出物を得た。反応は発熱を伴うので、20℃前後を保つ
ように氷冷した。反応物は、室温のままさらに3時間攪
拌した。一晩放置後、80wt%メタノール水溶液50
ミリリットルを除々に加えたのち、生成した黄色沈殿を
ろ取し、80wt%メタノール水溶液50ミリリットル
にて2回洗浄し、さらにメタノール50ミリリットルに
て2回洗浄した。これを50℃にて3時間真空乾燥を行
ったところ、黄色粉末2.8gが得られた。
【0089】次に、シリカゲル(富士デヴィンソン化学
社製、BW−820MH)140gをトルエンにて充填
したカラムに、上記黄色粉末をトルエンにて展開した。
最初に展開する画分を集めた。TLC(展開溶媒トルエ
ン:n−ヘキサン=2:1V/V,シリカゲル薄層)で
は、Rf=0.8であった。目的物の含まれる画分を集
め、溶媒をエバポレーターにて留去し、乾固させた。次
に、このようにして得られた黄色粉末をトルエン60ミ
リリットルに熱溶解させ、不溶解物はメンブランフィル
ター(ADVANTEC,1μm,25mm)にてろ去
した。このトルエン溶液を室温にて放置し、得られた析
出物をろ取し、50℃で2時間乾燥することにより、黄
色粉末2.36g(収率81%)を得た。このものの融点
は224〜226℃であった。この化合物を質量分析
(FD−MS)したところ、DPAVBiに由来するm
/z=692(z=1),m/z=346(z=2)の
みのピークが得られたことにより、目的物のDPAVB
iであることが確認された。
【0090】製造例3 DPAVBEの製造 以下に示す反応式に従って、DPAVBEを製造した。
【0091】
【化38】
【0092】製造例2において4,4’−ビス〔(ジエ
チルホスホリル)メチル〕ビフェニルの代わりに4,
4’−ビス〔(ジエチルホスホリル)メチル〕ビフェニ
ルエチレン〔2〕2.6g(0.0042モル)を用いた以
外は、製造例2と同様に操作し、黄色粉末2.0g(収率
55%)を得た。このものの融点は300℃以上であっ
た。この化合物を質量分析(FD−MS)したところ、
DPAVBEに由来するm/z=870(z=1),m
/z=435(z=2)のみのピークが得られたことに
より、DPAVBEであることが確認された。
【0093】実施例1 25mm×75mm×1.1mmのガラス基板(HOYA
社製,NA40)上に、ITOを蒸着法にて100nm
の厚さで製膜したもの(HOYA製)を透明支持基板と
した。なお、この基板は、イソプロピルアルコール中で
5分間超音波洗浄後、窒素を吹きつけて乾燥し、UVオ
ゾン洗浄(UV300,サムコインターナショナル社
製)を10分間行ったものである。この透明支持基板を
市販の蒸着装置(日本真空技術(株)製)の基板ホルダ
ーに固定し、モリブデン製抵抗加熱ボートにN,N’−
ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル
(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(TP
D)を200mg入れ、他のモリブデン製抵抗加熱ボー
トに4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビ
フェニル(DPVBi)を200mgを入れ、さらに他
の2つのモリブデン製抵抗加熱ボートに発光層ドープ剤
として、それぞれ製造例1で得られたBTPAE200
mg及び製造例2で得られたDPAVBi200mgを
入れ、真空槽を1×10-4Paまで減圧した。その後T
PDの入った前記ボートを215〜220℃まで加熱
し、蒸着速度0.1〜0.3nm/秒で透明支持基板上に蒸
着して、膜厚45nmの正孔輸送層を製膜させた。この
とき、基板の温度は室温であった。これを真空槽より取
り出すことなく、正孔輸送層にDPVBiをホスト材料
として55nm積層した。このとき同時にBTPAE及
びDPAVBiのボートを加熱し、発光層にBTPAE
及びDPAVBiを混合した。このときの蒸着速度はD
PVBiの蒸着速度(第1表に示す(B))に対して、
BTPAE及びDPAVBiの蒸着速度を(C)(第1
表に示す)とした。したがって、混合比〔ホスト材料に
対するBTPAE及びDPAVBiの割合〕は(D)
(第1表に示す)となった。
【0094】その後、真空槽を大気圧に戻し、新たにモ
リブデン製抵抗加熱ボートに接着層の材料である8−ヒ
ドロキシキノリン・アルミニウム錯体を入れ、さらにモ
リブデン製抵抗加熱ボートにマグネシウムリボン1gを
入れタングステン製バスケットに銀ワイヤーを500m
g入れて、真空槽を1×10-4Paまで減圧した。次い
で、蒸着速度0.01〜0.03nm/秒で8−ヒドロキシ
キノリン・アルミニウム錯体を蒸着し接着層を20nm
形成した。さらに、銀を蒸着速度0.1nm/秒,マグネ
シウムを蒸着速度1.4nm/秒で同時蒸着して銀:マグ
ネシウム混合電極を陰極とした。膜厚は150nmであ
った。得られた素子に、第1表に示す電圧を印加し、電
流量,素子の輝度を測定して発光効率を算出した。得ら
れた結果を第1表に示す。
【0095】実施例2 実施例1において、発光層ドープ剤として、製造例1で
得られたBTPAE及び製造例3で得られたDPAVB
Eを用いた以外は、実施例1と同様に実施した。結果を
第1表に示す。
【0096】実施例3 実施例1において、発光層ドープ剤として、製造例2で
得られたDPAVBi及び製造例3で得られたDPAV
BEを用いた以外は、実施例1と同様に実施した。結果
を第1表に示す。
【0097】実施例4 実施例1と同様に処理した透明支持基板を市販の蒸着装
置(日本真空技術(株)製)の基板ホルダーに固定し、
モリブテン製抵抗加熱ボートにN,N’−ビス(3−メ
チルフェニル)−N,N’−ジフェニル(1,1’−ビ
フェニル)−4,4’−ジアミン(TPD)を200m
g入れ、他のモリブテン製抵抗加熱ボートに4,4’−
ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DP
VBi)を200mgを入れ、さらに、他の3つのモリ
ブテン製抵抗加熱ボートに、発光層ドープ剤として、そ
れぞれ製造例1で得られたBTPAE200mg,製造
例2で得られたDPAVBi200mg及び製造例3で
得られたDPAVBE200mgを入れ、以下、実施例
1と同様に実施した。結果を第1表に示す。
【0098】比較例1 実施例1において、発光層ドープ剤を用いなかったこと
以外は、実施例1と同様に実施した。結果を第1表に示
す。
【0099】比較例2 実施例1において、発光層ドープ剤として、製造例1で
得られたBTPAEのみを用いた以外は、実施例1と同
様に実施した。結果を第1表に示す。
【0100】比較例3 実施例1において、発光層ドープ剤として、製造例2で
得られたDPAVBiのみを用いた以外は、実施例1と
同様に実施した。結果を第1表に示す。
【0101】比較例4 実施例1において、発光層ドープ剤として、製造例3で
得られたDPAVBEのみを用いた以外は、実施例1と
同様に実施した。結果を第1表に示す。
【0102】
【表1】
【0103】
【表2】
【0104】第1表から明らかなように、比較例2及び
3のように発光層に単一ドープした場合の効率に比べ
て、実施例1で示されるように、発光層に混合ドープし
た場合の方が、発光効率は向上し、またEL発光もより
青色味が強くなった。比較例2及び4のように発光層に
単一ドープした場合は、それぞれ0.6lm/Wの発光効
率であったのに対し、実施例2で示されるように、発光
層に混合ドープした場合は、1.0lm/Wと発光効率は
向上し、また色純度のよい青色発光が得られた。比較例
3及び4のように単一ドープした場合は青緑発光であっ
たのに対し、実施例3で示されるように混合ドープする
と、青色味が増した。また、比較例2〜4と実施例4と
比較すると、3種混合ドープした方が青色味が増加し
た。このように、単一ドープに比較して、二種以上の化
合物をドープすることにより、発光効率が向上するとと
もに、より青色に近い(短波長化した)EL発光が得ら
れた。
【0105】実施例5 25mm×75mm×1.1mmのガラス基板(HOYA
社製,NA40)上に、ITOを蒸着法にて100nm
の厚さで製膜したもの(HOYA製)を透明支持基板と
した。なお、この基板は、イソプロピルアルコール中で
5分間超音波洗浄後、窒素を吹きつけて乾燥し、UVオ
ゾン洗浄(UV300,サムコインターナショナル社
製)を10分間行ったものである。この透明支持基板を
市販の蒸着装置(日本真空技術(株)製)の基板ホルダ
ーに固定し、モリブデン製抵抗加熱ボートにN,N’−
ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル
(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(TP
D)を200mg入れ、また、他の2つのモリブテン製
抵抗加熱ボートに、正孔輸送層ドープ剤として、それぞ
れ製造例1で得られたBTPAE200mg及び製造例
2で得られたDPAVBi200mgを入れ、さらに他
のモリブデン製抵抗加熱ボートに4,4’−ビス(2,
2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)2
00mgを入れ、真空槽を1×10-4Paまで減圧し
た。その後TPDの入った前記ボートを215〜220
℃まで加熱して蒸着速度1〜3nm/秒で透明支持基板
上に蒸着し、このとき同時にBTPAE及びDPAVB
iのボートを加熱して、正孔輸送槽のTPDにBTPA
E及びDPAVBiを混合した。このときの蒸着速度
は、TPDの蒸着速度(第2表に示すB)に対し、BT
PAE及びDPAVBiの蒸着速度を(C)(第2表に
示す)とした。したがって、混合比はD(第2表に示
す)となった。最終的に膜厚45nmの正孔輸送槽を製
膜した。次に発光層として、DPVBiを50nm積層
した。
【0106】その後、真空槽を大気圧に戻し、新たにモ
リブデン製抵抗加熱ボートに接着層の材料である8−ヒ
ドロキシキノリン・アルミニウム錯体を入れ、さらにモ
リブデン製抵抗加熱ボートにマグネシウムリボン1gを
入れタングステン製バスケットに銀ワイヤーを500m
g入れて、真空槽を1×10-4Paまで減圧した。次い
で、蒸着速度0.01〜0.03nm/秒で8−ヒドロキシ
キノリン・アルミニウム錯体を蒸着し接着層を20nm
形成した。さらに、銀を蒸着速度0.1nm/秒,マグネ
シウムを蒸着速度1.4nm/秒で同時蒸着して銀:マグ
ネシウム混合電極を陰極とした。膜厚は150nmであ
った。得られた素子に、第2表に示す電圧を印加し、電
流量,素子の輝度を測定して発光効率を算出した。得ら
れた結果を第2表に示す。
【0107】比較例5 実施例5において、正孔輸送層ドープ剤を用いなかった
こと以外は、実施例5と同様にして実施した。結果を第
2表に示す。
【0108】比較例6 実施例5において、正孔輸送層ドープ剤として、製造例
2で得られたDPAVBiのみを用いた以外は、実施例
5と同様に実施した。結果を第2表に示す。
【0109】
【表3】
【0110】
【表4】
【0111】第2表から分かるように、正孔輸送層へ二
種の化合物をドープした実施例5は、正孔輸送層へ無ド
ープの比較例5及び正孔輸送層へ一種の化合物をドープ
した比較例6に比べて、発光効率が向上した。
【0112】
【発明の効果】本発明の有機EL素子は、電荷注入性ス
チリル化合物を二種以上組み合わせて、発光層や正孔輸
送層などの同一機能層へ含有させたものであって、発光
効率が高く、かつ色純度の高い青色光を発するなどの特
徴を有し、各種表示装置の発光素子として好適に用いら
れる。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の電極の間に、少なくとも発光層を
    含む有機機能層を挟持する有機エレクトロルミネッセン
    ス素子において、一分子中に、両端が芳香環及び芳香族
    性複素環のいずれかに結合したビニレン基1個以上を有
    する電子供与性スチリル化合物の中から選ばれた少なく
    とも二種を組み合わせ、同一機能層に含有させたことを
    特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
  2. 【請求項2】 電子供与性スチリル化合物が、電子供与
    性基として、炭素数1〜10のアルコキシ基,炭素数6
    〜18のアリールオキシ基及び炭素数1〜30の炭化水
    素基をもつ置換アミノ基の中から選ばれた少なくとも一
    種を有するものである請求項1記載の有機エレクトロル
    ミネッセンス素子。
  3. 【請求項3】 電子供与性スチリル化合物が、一般式
    (I) 【化1】 〔式中のR1 〜R12は、それぞれ独立に水素原子,ハロ
    ゲン原子,炭素数1〜10のアルキル基,炭素数1〜1
    0のアルコキシ基,炭素数6〜18のアリールオキシ
    基,フェニル基,アミノ基,置換アミノ基,水酸基,又
    は一般式(II) 【化2】 で表される芳香環に置換基を有していてもよいスチリル
    基を示し、その中の隣接する2つがたがいに結合して飽
    和若しくは不飽和の5員環又は6員環を形成してもよ
    い。Z1 ,Z2 及びEは、それぞれ独立に水素原子,炭
    素数1〜10のアルキル基,置換基を有する若しくは有
    しない炭素数6〜20のアリール基,置換基を有する若
    しくは有しない炭素数7〜20のアラルキル基又は隣接
    するベンゼン環に結合する結合手を示し、Arは置換基
    を有する若しくは有しない炭素数6〜20のアリーレン
    基,炭素数4〜20の2価の芳香族性複素環式基又は置
    換基を有する若しくは有しない2価のトリアリールアミ
    ノ基を示す。また、該置換基とは炭素数1〜10のアル
    キル基,炭素数1〜10のアルコキシ基,炭素数6〜1
    8のアリールオキシ基,フェニル基,アミノ基,シアノ
    基,ニトロ基,水酸基又はハロゲン原子を示し、これら
    の置換基は単一でも複数置換されていてもよい。点線
    1,2及び3はそれぞれ連結することにより複素環構造
    をとりうることを示す。nは0,1又2を示し、Arが
    2個ある場合、各Arは同じでも異なっていてもよ
    い。〕で表されるスチリルアミン化合物である請求項1
    又は2記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  4. 【請求項4】 有機機能が、発光層と、正孔輸送層及び
    /又は電子注入層とからなるものである請求項1,2又
    は3記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  5. 【請求項5】 同一機能層が、正孔輸送層である請求項
    1,2又は3記載の有機エレクトロルミネッセンス素
    子。
  6. 【請求項6】 同一機能層が、発光層である請求項1,
    2又は3記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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