JPH08235884A - 基準回路 - Google Patents

基準回路

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JPH08235884A
JPH08235884A JP29704095A JP29704095A JPH08235884A JP H08235884 A JPH08235884 A JP H08235884A JP 29704095 A JP29704095 A JP 29704095A JP 29704095 A JP29704095 A JP 29704095A JP H08235884 A JPH08235884 A JP H08235884A
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JP
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circuit
current
transistor
cell
signal
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JP29704095A
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English (en)
Inventor
Charles Hammick Michael
マイケル、チャールズ、ハミック
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S G S THOMSON MICROELECTRON Ltd
SGS THOMSON MICROELECTRONICS
STMicroelectronics Ltd Great Britain
Original Assignee
S G S THOMSON MICROELECTRON Ltd
SGS THOMSON MICROELECTRONICS
STMicroelectronics Ltd Great Britain
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Filing date
Publication date
Application filed by S G S THOMSON MICROELECTRON Ltd, SGS THOMSON MICROELECTRONICS, STMicroelectronics Ltd Great Britain filed Critical S G S THOMSON MICROELECTRON Ltd
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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is dc
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/24Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only
    • GPHYSICS
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    • G05F3/247Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only with compensation for device parameters, e.g. channel width modulation, threshold voltage, processing, or external variations, e.g. temperature, loading, supply voltage producing a voltage or current as a predetermined function of the supply voltage
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    • G05F3/26Current mirrors
    • G05F3/262Current mirrors using field-effect transistors only

Abstract

(57)【要約】 【課題】 積分ゲートトランジスタによって形成された
メモリセルを有する記憶装置に適した基準回路を提供す
る。 【解決手段】 基準回路は、制御電圧に応答して基準電
流を生成するための基準セルと、基準電流を受けるよう
に接続された第1の分岐と、整合された電流を生成する
第2の分岐とを有する第1の電流ミラー回路と、整合さ
れた電流を受け取り、整合された電流から生じる基準レ
ベルを供給するように接続された出力装置と、第1の整
合された電流から生じた基準レベルを第1の全基準レベ
ルから第2の低下した基準レベルに選択的に低下させる
ように接続された分割回路とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基準回路、特にメ
モリ内での検知用の基準レベルを提供するように配列さ
れた基準回路に関するが、しかしこれのみに関するもの
ではない。本発明は特に、PROM、EPROMまたは
フラッシュEPROM等の絶縁ゲートトランジスタによ
ってメモリセルを形成する記憶装置での検知に関する
が、しかしこれのみに関するものではない。基準回路は
基準レベルを必要とするあらゆる状況で使用することが
できる。
【0002】
【従来の技術】検知用の基準レベルを提供する時に、適
合しなければならない1つの基準は、基準レベルを変更
することなく複数の検知回路に基準レベルを適用するこ
とが出来るということである。フラッシュメモリの場合
には、読み込み操作中の検知に要求されるレベルは、通
常プログラムされたセル、および消去されたセルに依っ
て生成した全信号の一部、例えば2分の1に設定され
る。この基準レベルは他の同一のフラッシュメモリセル
の特性に依存しているので、このレベルを生成すること
が有利である。例えば、プログラムされたセルと消去さ
れたセルとによって生成した信号の間の中間にある信号
レベルを得るように変更されたしきい値電圧を有する基
準フラッシュメモリセルを得ることが可能であるが、斯
かるセルはプログラムされたセルと消去されたセルの双
方を検知するための基準電流を発生するためには使用す
ることが出来ず、電源レベルVccが、従って基準セル
のゲートに加えられる電圧が、正規の変動をする場合に
は、正確には維持されない。従って、十分な検知電流を
保証するようにゲート電圧よりも十分に低いしきい値電
圧を有するセル、即ち消去されたセルを、基準セルとし
て、使用することが望ましい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明に従えば、制御
電圧に応答して基準電流を発生するための少なくとも1
つの基準セルと、第1の電流ミラー回路であってその第
1の分岐に於いて前記基準電流を受けるように、またそ
の第2の分岐に於いて第1の整合された電流を受けるよ
うに接続された電流ミラー回路と、前記第1の整合電流
を受け、前記第1の整合電流を供給するように接続され
た出力装置と、前記第1の整合電流から誘導された基準
レベルを第1の全基準レベルから第2の低下基準レベル
に選択的に低下させるための分割回路とを有する基準回
路が提供される。
【0004】
【課題を解決するための手段】ここに説明する実施例に
おいて、分割回路は第1の全基準レベルの2分の1であ
る第2の低下基準レベルを発生するための2分割回路で
ある。従って、この基準レベルはフラッシュメモリ中で
の読み込み操作用に使用される。
【0005】分割回路は、出力トランジスタと並列に接
続されたトランジスタと、出力トランジスタの制御端子
と並列接続のトランジスタとの間に接続された制御可能
な経路を有する制御トランジスタとを含んでいる。制御
トランジスタは2分割信号によって制御可能な制御端子
を有し、出力トランジスタと並列トランジスタの両方を
同時に作動せしめ、その結果第1の整合電流の2分の1
が出力トランジスタに流れる。
【0006】複数の基準レベルを提供するために、基準
回路は異なる基準電流を提供するように配列された複数
の基準セルと、前記基準セルの所要の1つを選択するた
めの選択回路とを含むことができる。基準セルは種々の
しきい値電圧でプログラムすることができる。
【0007】フラッシュメモリ内では、各基準セルは所
要の基準電流を供給するために予め選択したしきい値電
圧を有する単一のトランジスタフロートゲートセルであ
る。正規の読み取りのための単一基準レベルが要求され
る場合に於いても、これを2つの基準セルで1つは最大
の消去しきい値電圧に調整され、他のセルは最低のプロ
グラムされたしきい値電圧に調節されている2つの基準
セルの電流の合計の2分の1として生ぜしめることが有
利となることがある。後者では、Vccがプログラムさ
れたセルの最低しきい値電圧よりも大きいとき、即ち配
列内のプログラムされたセルが作動し始めるときに、比
較的大きな検知マージンが得られる。
【0008】プログラムパルスがプログラムされるセル
に加えられたのち、そのセルのプログラミングを、分割
回路を使用禁止にした状態で、そのプログラムされるべ
きセルのトランジスタのゲートに相当する電圧を印加す
ること、およびそのセルを通過した電流を、プログラム
されたセルの最低しきい値電圧に等しいしきい値電圧を
有し、且つプログラムされているセルに対して印加され
る電圧と等しい、基準セル中のトランジスタのゲートに
印加される電圧を有する基準セルを通過した電流と、比
較することによって確認することができる。印加される
電圧の量は、基準セル中に相当の検知電流を発生するに
十分でなければならず、典型的には約7Vである。
【0009】同様に、消去パルスが消去されるべきセル
に加えられるた後、そのセルの消去を、分割回路を使用
不能にした状態で、その消去されるセルのトランジスタ
のゲートに電圧を印加し、また消去されたセルの最大し
きい値電圧に等しいしきい値電圧を有し、且つ消去中の
セルに印加される電圧と同じ、基準セル中のゲートに印
加される電圧を有する基準セルによって通過した電流を
比較することによって確認することができる。印加され
る電圧の量は、基準セル中に相当の検知電流を発生する
に十分でなければならず、典型的には約5Vである。
【0010】選択回路は主選択段と選択段の2段階を備
えていてもよい。その場合、選択回路は第1の電流ミラ
ー回路の第1分岐中に配置してもよく、また第1の電流
ミラー回路の第2の分岐には選択回路の前記第1段と第
2段との選択的整合を行なうための回路を含めることも
できる。抵抗性整合回路は、整合を出来るだけ良好にす
るように同一状態に置かれた同一の装置を含むこともで
きる。
【0011】本発明はまた複数のメモリセルを有する記
憶装置用の検知回路を提供するが、検知回路は、制御電
圧に応答して基準電流を発生するための少なくとも1つ
の基準セルと、第1の電流ミラー回路であってその第1
の分岐中に前記基準電流を受けて第1の整合電流を発生
するように接続された第1の電流ミラー回路と、前記第
1の整合電流を受けて前記第1の整合電流から誘導され
る基準レベルを供給するように接続された出力装置と、
前記第1の整合電流から誘導された基準レベルを第1の
全基準レベルから第2の低下基準レベルに選択的に低下
させるための低下回路とを有し、更に前記検知回路は電
流ミラー構成に於いて前記基準レベルから基準信号を生
成するように接続された入力トランジスタと、前記基準
信号を受け取るための入力および前記複数のメモリセル
の選択された1つから信号を受け取るための別の入力
と、前記基準信号および前記メモリセルの選択された1
つからの前記信号との間の差分状態に応じて検知レベル
を発生するための出力とを有する検知増幅器とを有す
る。
【0012】好ましくは検知増幅器は動的検知増幅器で
ある。しかし本発明はまた静的検知増幅器用の基準レベ
ルの提供に適用することができる。
【0013】基準回路にはまた検知操作前に基準レベル
を迅速にプリチャージするための高速プリチャージ回路
を含めることができる。これは特に、基準レベルが送ら
れる複数の検知増幅器があり、基準レベルに接続された
キャパシタンスを増加せしめる。
【0014】本発明をより良く理解するために、また本
発明を実施する方法について示すために、以下に添付図
面を参照して実施の形態を示す。
【0015】
【発明の実施の形態】図1に、制御ゲートCGを有する
単一のフロートゲートトランジスタ4と、フロートゲー
トFG、ソースSおよびドレインDとを含んでいる。フ
ロートゲートトランジスタ4のソースSは線10の配列
接地信号に接続される。この線10はソース電圧スイッ
チング回路14により接地電圧VGNDまたは高電圧V
ppにあることができる。電圧Vppはプログラミング
電位(典型的には12V)を表わし、また電圧VGND
は装置の接地を表わしている。Vppは通常アレー接地
に、直接または抵抗器(図示されていない)を介して、
接続されている。ソース電圧スイッチ14は線34によ
りVppに接続され、また線36により電圧VGNDに
接続されている。フロートゲートトランジスタ4の制御
ゲートCGはワード線(WL)8によりゲート電圧スイ
ッチ12の出力Vccxに接続されている。ゲート電圧
スイッチ12は更に線26、24および22のそれぞれ
の電圧Vcc、VppおよびVGNDに接続されてい
る。Vccは5V部分に対しては5V、また3V部分に
対しては3Vである。これらのスイッチ14および12
は、それぞれ線28の消去信号ERASEを受信し、更
にまたゲート電圧スイッチ12は線30のプログラム信
号PROGRAMを受信する。フロートゲートトランジ
スタ4のドレインDは、ビット線(BL)6によりビッ
ト線スイッチ31に接続されている。ビット線スイッチ
は更に書き込み線27のプログラムロード32の出力、
読み取り線25の検知増幅器回路29、および線17の
フロート接続部とに接続されている。1つの配列に於い
て複数の選択されたビット線bを読み取り操作中に同時
に検知増幅器回路29に接続して、線25をb線として
正規に実行させることもできることは評価されることで
ある。同様に、プログラム操作中に複数の選択されたビ
ットbを同時にプログラムロード32に接続して線27
をb線として正規に実行させることもできる。説明した
実施例に於いてはb=8である。スイッチ31は、線3
0および28のそれぞれのプログラム信号および消去信
号に加えて、読み取り信号を受信する。
【0016】フラッシュメモリは、プログラム、消去お
よび読み取りの3種の主要な操作モードを持っている。
これらの各モードを以下に於いて図1を参照して説明す
る。その他の、例えばプログラム検査等の数種の操作モ
ードもまた存在することは当業者により理解されるとこ
ろである。しかし、本説明は背景説明のためのみであっ
て、従ってこれらの3種のモードについてのみ説明す
る。プログラムモードは、1つのメモリセルまたはメモ
リセルのグループへの“0”の書き込みに関係してお
り、消去モードは“0”を記憶したセルから“0”を除
去して、全てのセルが有効に“1”を記憶するようにす
ることに関係しており、また読み取りモードはセルを読
み取って、それをプログラムすべきかまたは消去すべき
かをか、即ち“0”または“1”のいずれを含むかを確
立することに関係している。
【0017】プログラムモード中、線30のプログラム
信号は、ワード線8によりトランジスタ4の制御ゲート
CGに線24の電圧Vppを接続するためのゲート電圧
スイッチ12を構成するように、設定される。線28の
消去信号は設定されていないので、ソース電圧スイッチ
14は、線36の電圧VGNDを配列接地信号線10に
よりトランジスタ4のソースに接続するように構成され
ている。ビット線スイッチ31は、線6のビット線が線
27によってプログラムロードに接続されるように設定
されている。プログラムロードは、4Vと8Vの間の電
圧がビット線6によりトランジスタ4のドレインDにか
かるように設定される。これらの信号がトランジスタ4
に加えられるので、フロートゲートトランジスタFGは
負に充電される。この負の荷電によりフロートゲートト
ランジスタのしきい値電圧が増加し、トランジスタは導
通しなくなる。フロートゲートに溜まる負の電荷量は、
プログラム信号を設定する期間、ゲートおよびドレイン
端子に加えられる電圧、およびフロートゲートをトラン
ジスタのチャネルから分離する酸化物の厚さ等の若干の
要因によって決まる。更に、セルがプログラムされると
きに、フロートゲートの負電荷の累積によって電界酸化
物を通る電界が減少して、もはや負電荷が浮動ゲートに
引き付けられなくなりフロートゲートトランジスタのし
きい値電圧がある限界まで飽和する点に達する。このよ
うにして、“0”がセルに書き込まれる。通常数個のプ
ログラムパルスが必要であるが、各パルスの後に検査サ
イクルが後続する。
【0018】消去モード中は、線28の消去信号の設定
は、線22の電圧VGNDをワード線8を経てトランジ
スタ4の制御ゲートCGに接続するようにゲート電圧ス
イッチ12が構成され、また線34の電圧Vppを配列
接地線10を経てトランジスタ4のソースSに接続する
ようにスイッチ14が構成されるように行なわれる。ビ
ット線スイッチ431は、ビット線16がフローティン
グ接続部に接続されてフローティング状態になるように
設定される。フロートゲートトランジスタは基板内のソ
ース領域がフロートゲートの下に在るように製作されて
いるので、フロートゲート上の負の電荷は減少する。フ
ロートゲートFGから除去される負の電荷量はプログラ
ム操作を参照して上で説明したような種々の要因に依存
している。負電荷が減少するとフロートゲートトランジ
スタを導通させるフロートゲートトランジスタのしきい
値電圧が低下する。このようにしてセルの状態は“1”
に戻る。通常、数個の消去パルスを要求して、各パルス
に検査周期を後続させることができる。
【0019】読み取りモード中は、線28の消去信号お
よび線30のプログラム信号は設定されず、線21の読
み取り信号が設定される。線26のVcc信号はソース
電圧スイッチ12によって線Vccxおよびワード線8
を経てトランジスタ4の制御ゲートに接続される。Vc
cが3Vであるときには、ワード線は読み取り操作用に
約5Vに昇圧される。線36の電圧VGNDは信号線1
0のARRAY GROUND信号線10を経てトラン
ジスタ4のソースに接続される。ビット線6は検知増幅
回路内のビット線負荷による読み取り操作中は約1Vに
バイアスされる、読み取り操作中は、消去されたセル
(その中に“1”が記憶された状態にある)について
は、セルの導電率はビット線が検知用に接続されている
とき電流がセルを通過する程度である。プログラムされ
たセル(その中に“0”が記憶された状態にある)の場
合には、電流は実質的にはセル中を流れない。セルを流
れる(または流れない)電流は、以下に詳細に説明する
ように、そのセルの状態を検出するために基準電流と比
較される。
【0020】メモリアレイ中のフラッシュセルの操作に
ついて図2を参照してここに説明する。図1と共通の信
号線または回路は図2に同一の参照番号を用いて示し
た。図2では電源は分かり易くするために図示されてい
ないが、どの電圧が回路の各部分で要求されているか
は、図1を参照すれば理解できる。
【0021】図2には行と列に配列された複数のフラッ
シュメモリセルFMoo...FMnmを有するフラッ
シュメモリアレイ50が図示されており、そのおのおの
は図1に示したセル2と同一であることができる。1つ
の行内の各メモリセル中のトランジスタのゲートは、行
アドレス64を受け取る行線デコード回路によりアドレ
ス指定可能なそれぞれのワード線WLo...WLmに
共通接続されている。ゲート電圧スイッチ12は線30
および28のそれぞれの制御信号PROGRAMおよび
ERASEに対応しており、行デコード回路56により
アドレスされたワード線に切り換えるように線29に適
当なゲート電圧Vccxを供給する。1つの列中の各ト
ランジスタのドレインはビット線BLo...BLmに
より列線デコード回路58に共通接続される。行線デコ
ード回路は、複数b個(この実施例ではb=8)のビッ
ト線BLoからBLmまでを選択し、図2にビット線ス
イッチ57のブロックとして示したように複数b個のビ
ット線スイッチに接続する。従って、m個のビット線B
Lo...BLmの8個のが列アドレス38により選択
され8個のビット線スイッチ回路に接続される。線25
のビット線スイッチ57の出力は読み取り出力であっ
て、検知増幅回路29に接続されている。検知増幅回路
29は、複数の検知増幅器(本説明の実施例では共通周
期中に8ビットを読み取ることができるように8個)を
含んでおり、従って線25の出力は実際に複数ビット幅
(本説明の実施例では8個)である。ビット線スイッチ
はプログラムロード32から線27の書き込み出力を受
け取る。プログラム操作中はビット線BLoからBLm
までのうち8個が選択的にプログラムロード32に接続
される。プログラムロード32は同様に複数の(本実施
例では8個の)プログラムロードを有し、従って線27
の入力もまた8ビット幅である。読み取り操作中は、選
択されたビット線(複数のこともある)は検知増幅回路
29に接続される。検知増幅回路29はまた線72の基
準信号REFを受けてデータバス(DB)23に出力信
号を発生するが、このデータバスは本説明の実施例では
8ビットバスである。それぞれの出力信号は、各ビット
線の信号を基準信号REFと比較することによって発生
される。
【0022】特殊なセルをプログラムするために選ばれ
るときに、そのプログラムロードが選択された列に適用
されるに過ぎず、従って選択されたセルと同じ行中の他
のセルは不注意にプログラムされることがないことは評
価される。選択されない列は、隣接する選択されたビッ
ト線からのカップリングを避けるために接地クランプさ
れる。種々の操作用に配列内のセルの種々のノードに存
在する信号の概要を図3に示す。消去操作中はメモリ配
列内の全てのセルは消去されるが、ここで1つの配列が
消去用の複数のセクタに分割され、従って配列の一部の
みが任意の時に消去されることは、当業者によって評価
されることである。消去操作中は、ビット線は、ソース
に非常に高い電圧がかかるのでソース/ドレイン端子に
かかるストレスを低下させるためにフロートすることが
できる。
【0023】検知増幅回路29が電流を検知する検知増
幅器である時には、線72の基準信号REFは電流基準
信号である。しかし、検知が良好であるには容量性の平
衡化が必要となるので、電流基準信号REFについてソ
ースと関係するキャパシタンスが、選択されたセルを接
続するビット線のキャパシタンスと十分に異なるかどう
かという問題がある。しかしこれは単一のトランジスタ
フラッシュEPROMで達成されるものではない。各セ
ルは1つのトランジスタのみを含んでいるので、一般に
ダイナミックRAM(DRAM)で実行されるような折
り返しビット線構成を使用することは不可能である。更
に、原則的には8つのダミービット線を1列ごとの各ビ
ット線との関連に於いて使用することができるが、これ
はレイアウト上での所要スペースを増加させることにな
り、チップが大きくなる。動的検知増幅器の利点は現在
まで実現されていないが、これは多くの設計基準、例え
ば容量性入力平衡化、装置のマッチング、検知の一貫
性、入力に対するノイズを最低限に減少させることが必
要なこと等によるものである。
【0024】図4に動的電流検知増幅器を提供すること
のできるメモリ構造の一部を図示する。図4のメモリは
2つの副配列、第1の副配列300および第2の副配列
302を有する。これらの各副配列は図2の配列50と
同様に、n個の行とm個の列を持っていてもよい、図2
のゲート電圧スイッチ12、ソース電圧スイッチ52お
よびプログラム可能な負荷回路32は図4では分かりや
すくするために省略されているが、かかる回路の分布が
特異な実施に基づくものであることに注目すべきであ
る。本発明は種々のアーキテクチャをもつ記憶装置にお
いて実施することができる。
【0025】第1の副配列300はそれに関連する第1
の行デコード回路314および関連する第1の列デコー
ド回路304とを有する。第2の副配列302は関連す
る第2の行デコード回路316および関連する第2の列
デコード回路306とを有する。それぞれの行デコード
回路はそれぞれの配列のn個のワード線を駆動する。行
デコード回路に対するアドレス指定および制御の回路は
説明を明瞭にするために図示されていない。それぞれの
列デコード回路はそれぞれの配列の2方向のm個の列線
をアドレス指定する。同様に列デコード回路に対するア
ドレス指定および制御の回路は説明を明瞭にするために
図示されていない。メモリ構造もまた8つの検知増幅器
312a〜323h、スイッチ回路310および基準回
路308を含む検知増幅回路29を有している。各検知
増幅器312a〜312hは、第1の列デコード回路3
04からの読み取り線の第1のセット320a〜320
hのそれぞれ1つからの入力と、第2の列デコード回路
306からの読み取り線の第2のセット322a〜32
2hのそれぞれ1つからの入力とを受信する。各検知増
幅器312a〜312hはそれぞれのデータ線324a
〜324hの出力を発生する。スイッチ回路310は、
入力として、基準回路308から線72の基準信号RE
Fを受信する。
【0026】スイッチ回路310は選択的に基準信号を
1組のスイッチ323a〜323hの1つの端子に共通
接続される。これらの各スイッチは読み取り線320a
〜320hの各1つに接続されたそれぞれの第2の端子
を持っている。スイッチ回路310はまた選択的に基準
信号REFを1組のスイッチ線321a〜321hの1
つの端子に接続する。これらの各スイッチは読み取り線
322a〜322hのそれぞれの1つに接続されたそれ
ぞれの別の端子を持っている。スイッチ回路310およ
びスイッチ321a〜321hおよび323a〜323
hは選択的に、信号REFが線328に印加されたとき
にスイッチ321a〜321hのすべてが開状態にあ
り、またスイッチ323a〜323hのすべてが線32
8の信号REFをそれぞれの読み取り線320a〜32
0hに接続するように、制御される。
【0027】各配列300および302は能動配列であ
って、“疑似”配列ではない。即ち各配列はデータビッ
トを記憶するアドレス指定可能なメモリセルを含んでい
る。しかし行デコード回路314および316は、第1
の配列300中のワード線が選択されると第2の配列3
02中のワード線は選択されず、またその反対に第2の
配列302中のワード線が選択されると第1の配列30
0中のワード線が選択されないように、独立にアドレス
指定可能である。
【0028】行デコード回路304および306は、検
知増幅器312a〜312hを、第1の配列および第2
の配列300および302の1つ中のアドレス指定され
たメモリセルに関連したビット線と、第1の配列および
第2の配列300および302のうちの別の1つ中の対
応するビット線(ここではセルはすべてアドレス指定さ
れていない)とに、接続する。列デコード回路304
は、第1の配列300のm個のビット線の8つを読み取
り線320a〜320hに接続し、また列デコード回路
は、第2の配列302のm個のビット線の対応する8つ
を読み取り線322a〜322hに接続する。この文脈
に於いて’対応するビット線”とは、アドレス指定され
たメモリセルに接続されたビット線の垂直下(または場
合によっては、上)にあるビット線、即ちアドレス指定
されたメモリセルと同じ列アドレスを持っている別の副
配列中のビット線を意味している。
【0029】上述したように、各検知増幅器はアドレス
指定されたセルのビット線の信号を基準回路308から
の基準信号と比較する。
【0030】第1の配列300中のアドレス指定された
メモリセルに対しては、第2の配列302の対応するビ
ット線に接続されたセルが、そのアドレス指定されたセ
ルのビット線に接続されているのと同じ検知増幅器に列
デコード回路306を介して接続されており、検知用の
完全な容量性の整合が得られる。基準回路308は、線
72の電流基準信号REFを供給するためのスイッチ3
10を介して第2の配列302中の対応するビット線、
即ちセルがアドレス指定されていないビット線に接続さ
れている。
【0031】上記説明から、2つの配列の1つのみが能
動化されたワード線を有し、一方各配列と関連した列デ
コード回路304および306が能動化されていること
は明らかである。アドレス指定されたセルが消去される
かプログラムされるかによって、電流が流れるが、もし
プログラムされないと電流は実質的に流れない。対応す
るビット線には、ワード線が選択されていない(すべて
接地されている)ので、電流は流れない。
【0032】基準回路308は、スイッチ323aから
323h、又はスイッチ321aから321hの組合せ
により、基準電流を発生する。この基準電流は、センス
増幅器312aから321hのそれぞれに、第1入力又
は第2入力のいずれか一方において等しいものが流れ
る。
【0033】上記の構成に於いて理解できるように、検
知増幅器312a〜312hのそれぞれ2つの入力と関
連したキャパシタンスは、各ビット線に接続された同数
のメモリセルがあるので、平衡化される。従って、アド
レス指定された配列中のアドレス指定されたセルがプロ
グラムされるか消去されるかによって、検知増幅器の2
つの入力から取り出される電流の差が小さい電圧差を生
じるが、この電圧差は検知増幅器によって検知すること
ができる。オンチップノイズ(例えば列デコード回路内
の結合による)が両ビット線に同等に影響を与える。検
知増幅器は差分検知に依存しており、またこのノイズは
共通モードである。
【0034】図5は図4の基準回路308を構成するた
めに使用される本発明に従う基準回路を含むブロック線
図である。この基準回路は線72のREFと記された基
準レベルを提供する。図5に於いて、参照数字2は(図
1に於けるように)検知用に選択されているフラッシュ
メモリセルを示している。スイッチ回路310は分かり
易くするために図5では省略されている。図5の右側の
残りのブロックは、図4の列デコード回路304(また
は306)の一部を形成する列選択スイッチ31を有す
る検知増幅回路312の主構成要素を示している。図5
に於いて、参照数字400は、列選択スイッチ31の抵
抗を整合するように設けられた列選択整合回路を示して
いる。この回路はまた線404の制御電圧Vrefによ
って制御されるソースフォローワバイアス回路402を
含んでいる。列選択回路31および列整合回路400は
ソースフォローワバイアス回路402のそれぞれの入力
に接続されている。線72の基準レベルREFから得ら
れた線401の基準信号Srefが、ソースフォローワ
バイアス回路402を経て検知増幅器408の1つの入
力に入る。検知されるべき信号である、選択されたメモ
リセル2からの信号Ssenseは、ソースフォローワ
バイアス回路402を経て検知増幅器408の第2の入
力に入る。検知された信号は線324に出力される。図
5の右側の検知回路の構造および作動の更に詳細な説明
は本発明者らの名称“DynamicSense Am
plifier”の同時係属出願(Page Whit
e& Farrer Ref.76218)に与えられ
ており、その内容は引用することによってこの明細書に
組み入れられる。
【0035】図5はまた電流基準回路308の要素を示
している。この基準回路は基準ブロック412を示す複
数の点線内に図示した複数のフラッシュ基準セルを含ん
でいる。図5に示した実施例に於いて、複数のフラッシ
ュ基準セルFR1、FR2、FR3の各々はそれぞれの
フラッシュ基準セルのゲートを制御するためのそれぞれ
の基準ワード線RWL1、RWL2、RWL3、を有す
る。別の構成に於いては、フラッシュ基準セルは共通の
ワード線を持つこともできる。基準回路308は選択さ
れたメモリセル中に記憶されたデータを読み取るための
基準レベルREFを生成するためにのみ要求されるとき
には、原則的に1つのフラッシュ基準セルが要求され
る。しかし下記の説明から明らかなように、2つ以上の
基準セルを有することは著しく有利である。複数のセル
を有するときには、それらの各セルは、線RWL1、R
WL2、RWL3のそれぞれの線のゲート電圧が、それ
ぞれのセルをONにして検知用に充分なセル電流を供給
するのに適当なレベルにあるときに基準電流を発生する
ように選択されたしきい値電圧VTHを有する。図5に
は、その配列のメモリセルと同一であるが併し最大の消
去しきい値電圧と最低のプログラムしきい値電圧とを表
わすように調整されたしきい値電圧を有する基準トラン
ジスタを含む3つのセルが示されている。しかし提供す
べき種々の基準電圧レベルに応じて要求されるだけの適
当な数のセルを使用することもできることは容易に理解
できることである。上記の説明から理解されるように、
線72には別の基準レベルがメモリの種々の動作をする
ために要求される。所要のゲート電圧(上に説明した)
が、基準ブロック412の基準トランジスタにそれぞれ
の基準ワード線を介して印加される。選択されたメモリ
セル2にはワード線8を介して適当なゲート電圧が印加
される。
【0036】選択されたメモリセル2に記憶されたデー
タビットを読み取るために、基準電流は、正常なプログ
ラムされたセルを通過した電流と2分割回路460(解
かりやすくするために図5から省略されている)によっ
て消去された正常なセルを通過した電流との和の2分の
1に設定されている。読み取りのためのレベルはここで
は所謂“正常の読み取り”レベルとして引用されてい
る。しかし、以上の説明から、プログラム操作と消去操
作中にデータは各プログラムパルスまたは消去パルス後
に検査される。これは選択されたメモリセルからのデー
タを、セルを通る電流と、上で説明したように最大消去
しきい値電圧または最低プログラムしきい値電圧を使用
して発生されたプログラム化レベルまたは消去レベルに
匹敵する基準レベルとを比較することによって、“読み
取る”ことによって行なわれる。またこの理由により、
基準ブロック412内の基準トランジスタはそれぞれ異
なるしきい値電圧VTHを持っている。
【0037】プログラムされるべきセルにプログラムパ
ルスが加えられた後は、分割回路を不能にした状態で、
そのプログラムされるべきセルのトランジスタのゲート
に等価の電圧を印加し、そのセルを通過する電流を、プ
ログラムされたセルの最低しきい値電圧に等しいしきい
値電圧を有し且つプログラムされているセルに加えられ
た電圧と同じ電圧を基準セルのトランジスタのゲートに
印加されている基準セルを通過する電流とを比較するこ
とによって、そのセルのプログラミングを検査すること
ができる。印加される電圧の大きさは基準セル内に相当
な検知電流を発生するに十分でなければならず、典型的
には約7Vである。プログラム中のセルを流れる電流が
基準セルを通過する電流よりも大きいと、その時にはプ
ログラム中のセルに更に追加のプログラムパルスを与え
た後追加のプログラム検査操作を行なうことが必要であ
る。しかし、プログラム中のセルを通過する電流が基準
セルを通過する電流よりも小さいと、プログラム中のセ
ルはプログラムされたとして検査される。
【0038】同様に、消去パルスが消去されるべきセル
に加えられた後は、そのセルの消去は、分割回路を使用
不能にした状態で、その消去されるべきセルのトランジ
スタのゲートの電圧を印加すること、および消去された
セルの最大しきい値電圧に等しいしきい値電圧を有し且
つ消去中のセルに印加された電圧と同一の電圧を基準セ
ル内のトランジスタのゲートに印加された基準セルを通
過する電流を比較することによって、検査することがで
きる。プログラム中のセルを流れる電流が基準セルを通
過する電流より小さいと、その時には消去中のセルに更
に追加の消去パルスを与えた後追加の消去検査操作を行
なうことが必要である。しかし、消去中のセルを通過す
る電流が基準セルを通過する電流よりも大きいと、消去
中のセルは消去されたとして検査される。印加される電
圧の大きさは、基準セル内に相当な検知電流を発生する
に十分でなければならず、典型的には約5Vである。
【0039】図7はフラッシュ基準セルにより引かれた
電流と、セルのゲートに印加されるゲート電圧とのグラ
フである。セル電流とゲート電圧との関係が、消去され
たセル、プログラムされたセルおよびその2つの中間で
選択されたしきい値を有するセルについて示されてい
る。曲線(a)は消去されたセルについての曲線であ
り、曲線(b)はプログラムされたセルについての曲線
であり、また曲線(c)は中間レベルのセルについての
曲線である。第1に図7は、所謂中間レベルセルを有す
ることは、例えば4.5Vのゲート電圧に対しては実際
には電流は供給されないので、有用ではないことを図示
している。このことは、中間レベル曲線(c)上の点A
によって図示されている。曲線(d)は実際の基準レベ
ルである。曲線(d)の傾斜は、プログラムされたセル
がONになるまでは、2分割回路により正常の傾斜の2
分の1であり、セルがONになった場合には傾斜は正常
傾斜と同じになる。この傾斜の変化は、図7に曲線
(d)上のD点で示されている。曲線(d)にはゲート
電圧4.5VのB点に検知用に十分な電流があること
は、容易に理解できる。基準ブロック412は少なくと
も曲線(a)および(b)を与えるしきい値電圧を有す
るトランジスタを含んでいることは容易に明らかであ
る。
【0040】図7はまた基準回路に消去されたセルとプ
ログラムされたセルの両方を使用することが望ましい理
由について説明している。プログラムされたセルを使用
しなかったとすると、曲線(d)は直線DCに沿って連
続し、C点に於いてプログラムされたセル直線(b)と
交差することになる。ゲート電圧がC点に於けるゲート
電圧の価よりも大きいときは、プログラムセルは消去セ
ルとして検知されることになる。実際にはこの点は、基
準セルに対して通常期待されるゲート電圧である5Vよ
りもかなり上にある。しかし電源電圧が増加するに従っ
て検知限界を広くすることが望ましいことがある。
【0041】消去作動中は、2分割回路を不能とした状
態で、基準として消去基準セル線を利用する消去検査処
置が要求される。この検査動作中は、しきい値電圧の低
いほうのセルは通過され、またセルを通過できないとき
には更に消去作動が実行される。同様に、プログラミン
グ動作中は、検知増幅器用の基準電流がプログラムされ
たセル線(b)によって供給された状態で、更にまた2
分割回路が不能とされた状態で、プログラム検査処置が
実行される。しきい値電圧の高いほうのセルは通過さ
れ、また更に通過出来ないセルについてプログラム操作
が実行される。
【0042】ブロック412中の基準トランジスタ間の
選択は、それぞれの基準トランジスタに関連した異なる
ワード線RWL1、RWL2、RWL3の選択に加え
て、基準列選択回路414によって実行される。存在す
る基準トランジスタが1つのみであるときには、基準列
選択は要求されない。しかしなお抵抗値を列選択回路3
1および列選択整合回路400と整合させるための回路
がなければならない。基準回路308は線418の制御
電圧Vrefによって制御されるソースフォローワバイ
アス回路416を含んでいる。線404の制御電圧Vr
efおよび線418の制御電圧Vrefは同一の電圧で
なければならず、これは共通の信号を使用することによ
って保証されることは容易に理解されよう。基準回路も
また電流ミラー回路420を含んでいる。基準ブロック
412から選択された基準トランジスタからとられた基
準信号Irefは、列選択回路414により選択され
て、ソースフォローワバイアス回路416を経て電流ミ
ラー回路の1つの入力422に供給される。この入力は
ダイオード接続されたp−チャネルトランジスタ424
に接続されている。ダイオード接続されたp−チャネル
トランジスタ424のゲートは別のp−チャネルトラン
ジスタ426に接続されている。容易に明らかになるよ
うに、p−チャネルトランジスタ424、426は飽和
状態に維持され、その結果トランジスタ424中の電流
はトランジスタ426に鏡映される。この電流は、ソー
スフォローワバイアス回路416および基準列選択整合
回路415を経てトランジスタ430に流れる。出力ト
ランジスタを流れる電流は、基準レベルREFを経て、
出力トランジスタ430と電流ミラー構成に於いて接続
された複数のトランジスタに鏡映される。トランジスタ
432を図5に示す。図4中で各検知増幅器回路312
a〜312hと関連したトランジスタ432のあること
は、評価されよう。トランジスタ430と432との間
で電流ミラーを形成するには、通常トランジスタ430
のダイオード接続を必要とする。しかしこれは、この場
合n−チャネルトランジスタ430および432のドレ
インのバイアス電圧がソースフォローワバイアス回路4
16および402によって同一レベルに維持されるの
で、必要ではない。図5の回路に於いて、ブロック41
2から選択された基準セルからの基準電流Irefが出
力トランジスタ430のドレインに鏡映され、またそこ
から電流ミラートランジスタ432のドレインに鏡映さ
れ、各検知増幅器回路での基準信号Srefとして使用
される。
【0043】更に、出力トランジスタ430のゲートを
電流ミラー回路の第1の分岐428に復帰接続すること
は、フィードバックによる回路のパワーアップの速度に
とって有利になる。
【0044】図5の回路はまた線436のイネーブル信
号ENABLEに応答して制御される高速プリチャージ
回路434を含んでいる。
【0045】図6に図5の基準回路308のトランジス
タレベルの実施例を示す。図6から分かるように、ソー
スフォローワバイアス回路416は第1および第2のn
−チャネルトランジスタ444、446を有し、これら
トランジスタは線418の制御電圧Vrefを受け取る
ように接続されたゲートを有し、またそれぞれダイオー
ド接続されたトランジスタ424および電流ミラー回路
420のトランジスタ426に接続されている。列選択
回路414は、ソースフォローワバイアス回路416の
トランジスタ444に接続され且つそのゲートの主選択
信号YMrefによって選択される主選択トランジスタ
448を有している。主選択トランジスタ448は、複
数の従属選択トランジスタ452に接続されているが、
これらのトランジスタはそれらのゲートの選択信号YN
refー0...YNrefnによってそれぞれ別個に
選択可能である。従属選択トランジスタ452の数は基
準ブロック412中の基準フラッシュセルの数に等し
い。“主”および“従属”なる用語は、従属段が不必要
であるかまたは主段よりも重要度が低いことを含意して
いるものではないことは、評価されるところである。図
6に於いて、2つの基準セルが2つの関連する従属選択
トランジスタ452で示されている。基準列選択整合回
路415は、主平衡化トランジスタ450、および主平
衡化トランジスタ450に接続された従属平衡化トラン
ジスタ454を含んでいる。図6には従属平衡化トラン
ジスタ454に接続された出力トランジスタ430が図
示されている。図6にはまた、図5には示されていない
2分割回路460が示されている。この2分割回路に
は、出力トランジスタ430に整合され、且つそれに並
列に接続されたn−チャネルとら462が含まれてい
る。2分割回路460にはまた、制御トランジスタ46
4が含まれているが、このトランジスタはそのゲートが
線466の2分割信号を受け取るように接続されたn−
チャネルトランジスタであり、そのソース/ドレイン経
路は出力トランジスタ430およびこれと対をなすトラ
ンジスタ462のゲート間に接続されている。2分割回
路460はまた位相反転器を含んでおり、位相反転器は
線466の2分割信号を受け取り、また対結合のトラン
ジスタのゲートおよび接地Vssの間に接続されたソー
ス/ドレイン経路を有するn−チャネルトランジスタで
あるプルダウントランジスタ462に、その出力を供給
する。線466の2分割信号が高いと、制御トランジス
タ464はONになり、その結果出力トランジスタ43
0およびその対結合トランジスタ462のゲート電圧を
一括結合する。その結果両方のトランジスタ430と4
62はONになり、従って基準電流の鏡映されている脚
中の電流は2分され、その2分された電流は出力トラン
ジスタ430を通って取り出され、また別の2分の1は
対結合トランジスタ462を通って取り出される。その
結果、回路72の基準レベルは2分されている出力トラ
ンジスタ430を通る電流に従って変調される。この状
態で、プルダウントランジスタ470がOFFになる。
更に、プルダウントランジスタ470がONになり、対
結合のトランジスタ462のゲートをプルダウンし、O
FFに保持する。この状態で列選択回路414からの電
流のすべてが出力トランジスタ430より供給され、そ
れに従ってまた線72の基準レベルが上昇する。
【0046】図6はまた高速プリチャージ回路434の
実施例を示している。高速プリチャージ回路はNAND
ゲート471を含んでいる。NANDゲートの第1の入
力472は線436のENABLE信号を受け取るよう
に接続されている。NANDゲートの第2の入力474
はp−チャネルトランジスタ476のドレインに接続さ
れており、そのトランジスタのゲートはENABL信号
を受信するように接続され、またソースは電源電圧Vc
cに接続されている。NANDゲートの出力478は第
2のp−チャネルトランジスタ480のゲートに接続さ
れているが、このトランジスタも同様にそのドレインは
NANDゲート471の第2の入力474に接続されて
おり、またそのソースは電源電圧Vccに接続されてい
る。NANDゲート471の出力はまた第3のp−チャ
ネルトランジスタ482のゲートに接続され、そのトラ
ンジスタのドレインはn−チャネルトランジスタ484
に接続され、またそのソースは電源電圧Vccに接続さ
れている。n−チャネルトランジスタ484は、そのソ
ースがGROUND Vccに接続され、そのドレイン
は第3のp−チャネルトランジスタ482に接続されて
おり、またそのゲートはイネーブル信号ENABLEの
逆バージョンを受けるように接続されている。n−チャ
ネルトランジスタ484はまたそのドレインが電流ミラ
ー回路420の出力482、従って線72の信号REF
に接続されている、高速プリチャージ回路434はまた
n−チャネルトランジスタ486を含んでいるが、その
トランジスタのゲートは電流ミラー回路420の出力4
28に接続され、そのミラー回路は順に線72の信号R
EFに接続され、またトランジスタのソース/ドレイン
経路はGROUND VssとNANDゲート471の
第2の入力474との間に接続されている。
【0047】図6の回路が使用可能にされる前には、そ
の回路へ電圧は供給されておらず、またイネーブル信号
は低レベルにある。イネーブル信号が低レベルにあると
トランジスタ484は(これはイネーブル信号の反転に
よって制御されるので)ONになり、その結果線42
8、従ってまた線72のREF信号が接地接続される。
低レベルにあるイネーブル信号によりNANDゲート4
71の出力は高レベルになり、従ってまた第2のp−チ
ャネルトランジスタ480と第3のp−チャネルトラン
ジスタ482が共にOFFになる。第2のp−チャネル
トランジスタ480は弱いフィードバック装置であり、
またと第3のp−チャネルトランジスタ482はプリチ
ャージ装置である。p−チャネルトランジスタ476は
ONであり、従ってNANDゲート471の第2の入力
474は高レベルにある。
【0048】高レベルにあるイネーブル信号によって線
が使用可能にされると、n−チャネルトランジスタ48
4がOFFになり、線72のREF信号を解除する。高
レベルにあるイネーブル信号によってNANDゲート4
71への第1の入力は高レベルになり、その結果NAN
Dゲート471の両入力は高レベルになり、従ってNA
NDゲートの出力は低レベルになり、またp−チャネル
トランジスタ482はONになる。p−チャネル・プリ
チャージトランジスタはかなり大きいので、線72のR
EF信号を迅速にプルアップすることができる。p−チ
ャネルトランジスタ480は、NANDゲート471の
第2の入力474を、この段で高レベルに保持する。R
EF信号がn−チャネルトランジスタ486をONにす
るのに十分なレベルにまで上昇すると、このn−チャネ
ルトランジスタが動作を開始してNANDゲート471
の第2の入力474を接地させる。n−チャネルトラン
ジスタ486はp−チャネルトランジスタ480の動作
を抑制するように十分に大きい。トランジスタ486お
よび480の相対的寸法に応じた時間後に、NANDゲ
ート471の第2の入力474は十分に低レベルまで低
下し、NANDゲートの出力は高レベルとなり、その結
果p−チャネル482はOFFとなる。このようにし
て、REF信号はプリチャージパルスに従属する。この
回路中のフィードバックは、好ましくは線72のREF
信号をほぼその最終値である約1.5Vにプリチャージ
するように最適化される。
【0049】本明細書に於いて上に説明したような高速
プリチャージ回路がないと、セル装置を流れる電流が低
いので、REF信号は約1.5Vの最終値まで徐々に上
昇する。VREF信号もまた上に説明したと同様の回路
によって高速プリチャージすることが出来るであろう。
斯かる付加回路は、電流ミラー回路の出力ノード428
をプリチャージする上述したプリチャージ回路との組み
合わせに於いて、基準回路全体を最終状態にまで迅速に
駆動させることになるが、これは高速メモリアクセス時
間には望ましいことである。
【図面の簡単な説明】
【図1】基本的フラッシュメモリセルにおいてセルに適
用することのできる種々の信号レベルを示す説明図。
【図2】フラッシュメモリ配列の全体構造のブロック説
明図。
【図3】作動中のフラッシュメモリ配列内の各種のセル
に適用される信号の図表形式での説明図。
【図4】本発明を適用することのできるフラッシュメモ
リ配列の全体構造の略図。
【図5】電流基準回路のブロック図。
【図6】図5の電流基準回路のトランジスタレベルの実
施例を示す図。
【図7】基準回路に対する基準セルの選択を示すグラ
フ。
【符号の説明】
2 フラッシュメモリセル 4 フロートゲートトランジスタ 6 ビット線 12 ゲート電圧スイッチ 14 ソース電圧スイッチ回路 25 書き込み線 29 検知増幅回路 31、57 ビット線スイッチ 32 プログラム負荷 38 列アドレス 50 メモリ配列 300、302 メモリ副配列 314、316 行デコード回路 304、306 列デコード回路 308 基準回路 310 スイッチ回路 312a〜312h 検知増幅器 320a〜320h 読み取り線 322a〜322h 読み取り線 328、330 出力線 400 列整合回路 402 ソースフォローワバイアス回路 408 検知増幅器 412 基準ブロック 414、415 基準列選択回路 416 ソースフォローワバイアス回路 420 電流ミラー回路 424、426 ダイオード接続p−チャネルトランジ
スタ 430、432、444、446 n−チャネルトラン
ジスタ 452 従属選択トランジスタ 462 対結合トランジスタ 464 制御トランジスタ472 NANDゲートの入

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】制御電圧に応答して基準電流を発生するた
    めの少なくとも1つの基準セルと、 第1の分岐で前記基準電流を受けて、第2の分岐で第1
    の整合電流を発生するように接続された第1の電流ミラ
    ー回路と、 前記第1の整合電流を受けて、前記第1の整合電流によ
    って生じる基準レベルを供給するように接続された出力
    装置と、 前記第1の整合電流から生じた基準レベルを、第1の全
    基準レベルから第2の低下基準レベルに選択的に低下さ
    せるための分割回路とを備えることを特徴とする基準回
    路。
  2. 【請求項2】請求項1記載の基準回路に於いて、前記分
    割回路が前記第1の全基準レベルの2分の1である第2
    の低下基準レベルを生成するための2分割回路であるこ
    とを特徴とする基準回路。
  3. 【請求項3】請求項2記載の基準回路に於いて、前記出
    力装置が出力トランジスタを有し、また前記分割回路が
    前記出力トランジスタに並列接続されたトランジスタ
    と、並列トランジスタと出力トランジスタの制御端子間
    に接続された制御可能な経路を有する制御トランジスタ
    とを有し、前記制御トランジスタは減少した信号を受け
    取るように接続された制御端子を有し、これにより、前
    記減少した信号が有効な場合に、前記第1の整合電池の
    半分は前記出力トランジスタを流れ、半分は前記並列ト
    ランジスタを流れることを特徴とする基準回路。
  4. 【請求項4】請求項1ないし3のいずれかに記載の基準
    回路であって、基準セルが単一トランジスタフロートゲ
    ートセルであることを特徴とする基準回路。
  5. 【請求項5】請求項1ないし4のいずれかに記載の基準
    回路であって、異なる基準電流を発生するように操作可
    能な複数の基準セルと、前記基準セルのうちの1つを選
    択するための選択回路とを有することを特徴とする基準
    回路。
  6. 【請求項6】請求項4又は5に記載の基準回路に於い
    て、前記基準セルが異なるしきい値電圧を有することを
    特徴とする基準回路。
  7. 【請求項7】請求項5または6に記載の基準回路であっ
    て、前記選択回路が主選択段と、従属選択段とを有する
    ことを特徴とする基準回路。
  8. 【請求項8】請求項1ないし7のいずれかに記載の基準
    回路であって、前記第1の電流ミラー回路にバイアスを
    かけるためのバイアス回路を有することを特徴とする基
    準回路。
  9. 【請求項9】請求項1ないし8のいずれかに記載の基準
    回路であって、前記基準レベルの生成前に前記第1の電
    流ミラー回路の第2の分岐をプリチャージするための予
    備のプリチャージ回路を有することを特徴とする基準回
    路。
  10. 【請求項10】複数の記憶セルを有する記憶装置用の検
    知回路であって、この検知回路が基準回路を有し、この
    基準回路が、 制御電圧に応答して基準電流を発生するための少なくと
    も1つの基準セルと、 第1の電流ミラー回路であって、その第1の分岐中に於
    いて前記基準電流を受けて、その第2の分岐中で第1の
    整合電流を発生するように接続された前記第1の電流ミ
    ラー回路と、 前記第1の整合電流を受けて、前記第1の整合電流から
    生じた基準レベルを供給するように接続された出力装置
    と、 前記第1の整合電流から生じた基準レベルを第1の全基
    準レベルから第2の低下基準レベルに選択的に低下させ
    るための分岐回路とを有し、 前記検知回路が更に、前記基準レベルから基準信号を発
    生するために電流ミラー回路内に於いて前記出力装置と
    接続されたトランジスタと、 前記基準信号を受信するための1つの入力端子と、前記
    複数の記憶セルの選択された1つから信号を受信するた
    めの別の入力端子と、および前記基準信号と前記記憶セ
    ルの選択された1つからの信号との間の差の状態に依存
    する検知レベルを発生するための出力端子とを有する検
    知増幅器とを有することを特徴とする基準回路。
  11. 【請求項11】前記請求項10に記載の検知回路に於い
    て、前記検知増幅器が動的検知増幅器であることを特徴
    とする検知回路。
  12. 【請求項12】前記請求項10または11に記載の検知
    回路であって、請求項2乃至9のいずれかにおける基準
    回路を有することを特徴とする検知回路。
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