JPH08172047A - Rotary treater for substrate - Google Patents

Rotary treater for substrate

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Publication number
JPH08172047A
JPH08172047A JP33492494A JP33492494A JPH08172047A JP H08172047 A JPH08172047 A JP H08172047A JP 33492494 A JP33492494 A JP 33492494A JP 33492494 A JP33492494 A JP 33492494A JP H08172047 A JPH08172047 A JP H08172047A
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JP
Japan
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substrate
suction
spin chuck
rotary shaft
hollow rotary
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Application number
JP33492494A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Mizohata
Katsuji Yoshioka
勝司 吉岡
保廣 溝畑
Original Assignee
Dainippon Screen Mfg Co Ltd
大日本スクリーン製造株式会社
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE: To prevent the adhesion of particles on the underside side of a substrate generated with the release of the vacuum suction operation of the substrate by a spin chuck completely after rotary treatment.
CONSTITUTION: A filter 50 capturing dust flowing in the direction of a substrate W through the suction path of a hollow shaft and the suction hole 12 of a spin chuck 10 from the inside of a suction chamber at the time of the release of atmospheric air in the suction chamber 32 is interposed in the suction path 16 of the hollow shaft 14.
COPYRIGHT: (C)1996,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置(LCD)用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板等の基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに回転させながらフォトレジスト液の塗布、現像、洗浄などの表面処理を行なう基板の回転処理装置、特に、基板をスピンチャック上に載置してその下面側を真空吸引することにより基板を保持する型式の基板の回転処理装置に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION This invention relates to a semiconductor wafer, a liquid crystal display (LCD) glass substrate, the photoresist solution while rotating around a vertical axis to hold the substrate such as a glass substrate for a photomask in a horizontal posture coating, development, rotation processing apparatus of the substrate to perform surface treatment such as cleaning, in particular, relates to a rotary processor of the substrate of the type holding the substrate by vacuum suction the lower surface by placing the substrate on a spin chuck .

【0002】 [0002]

【従来の技術】この種の基板回転処理装置、例えば、フォトレジスト液を基板の表面に塗布して基板を回転させることにより基板表面に所望厚さのフォトレジスト膜を形成させる基板回転塗布装置(スピンコータ)は、従来、図7に概略図を示すような構成を有していた。 BACKGROUND ART This kind of substrate rotating apparatus, for example, photoresist liquid substrate spin coating apparatus for forming a photoresist film of desired thickness on the substrate surface by rotating the substrate by coating the surface of the substrate ( spin coater) has traditionally had a configuration as shown a schematic diagram in FIG. すなわち、この装置は、上面側に基板Wを吸着保持するスピンチャック100、このスピンチャック100の下面側中央部に上端部が連接され、スピンチャック100を水平姿勢に保持する中空回転軸102、この中空回転軸1 That is, this apparatus is a spin chuck 100 for attracting and holding the substrate W on the upper surface, the upper end portion is connected to the lower surface center portion of the spin chuck 100, a hollow rotation shaft 102 which holds the spin chuck 100 in a horizontal posture, the hollow rotary shaft 1
02の下端部を回転自在に支持する軸受部104、中空回転軸102を鉛直軸回りに回転駆動させるスピンモータ106などを備えて構成されている。 Bearing portion 104 for rotatably supporting the lower end portion 02, it is configured to include a spin motor 106 which rotates the hollow rotary shaft 102 about a vertical axis. スピンチャック100の中心部には、吸着孔108が貫通して形成されており、また、中空回転軸102には、その軸心部に吸引路110が貫通するように形成されていて、吸着孔1 At the center of the spin chuck 100, are formed through the suction holes 108, also, the hollow rotary shaft 102, the suction passage 110 is formed so as to penetrate into the axial center portion, the suction hole 1
08と吸引路110とが連通している。 08 and the suction passage 110 is communicated. 軸受部104には、バキュームシール112が配設されており、中空回転軸102は、バキュームシール112を介して外部に対し気密に支持されている。 The bearing portion 104, and vacuum seal 112 is disposed, the hollow rotary shaft 102 is supported by a gas-tight relative to the outside through the vacuum seal 112. また、中空回転軸102の下端部を気密に取り囲むようにシールハウジング114 Moreover, sealing the lower end portion of the hollow rotary shaft 102 so as to surround the airtight housing 114
が配設されており、そのシールハウジング114の吸引室116に中空回転軸102の吸引路110が連通している。 There is disposed, the suction path 110 of the hollow rotary shaft 102 to the suction chamber 116 of the seal housing 114 is communicated. シールハウジング114の吸引室116には、接続管路118が連通接続されており、この接続管路11 The suction chamber 116 of seal housing 114, connecting line 118 are communicatively connected, this connection conduit 11
8にフィルター120及び切替え弁122が介挿接続されている。 Filter 120 and the switching valve 122 is connected interposed to 8. そして、接続管路118は、切替え弁122 The connecting line 118, the switching valve 122
を介して、真空源に流路接続された吸引管路124及び先端が大気開放された空気管路126にそれぞれ接続されており、切替え弁122を切替え操作することにより吸引管路124又は空気管路126に択一的に連通接続されるように構成されている。 Via a passage connected to a suction conduit 124 and the tip to a vacuum source is connected to the air line 126 open to the atmosphere, the suction channel 124 or air pipe by operating switches the switching valve 122 It is configured to be alternatively connected communication with the road 126.

【0003】上記した構成の基板回転塗布装置では、基板Wが搬入されてスピンチャック100上に載置されると、切替え弁122が吸引管路124側に切り替えられ、真空源により、吸引管路124、接続管路118、 [0003] In the substrate rotating coating apparatus with the above arrangement, when the conveyed substrate W is placed on the spin chuck 100, the switching valve 122 is switched to the suction channel 124 side, by the vacuum source, the suction channel 124, connecting line 118,
シールハウジング114の吸引室116、中空回転軸1 The suction chamber 116 of seal housing 114, a hollow rotary shaft 1
02の吸引路110並びにスピンチャック100の吸着孔108を介し基板Wの下面を真空吸引して、スピンチャック100に基板Wが吸着保持される。 02 lower surface of the substrate W through the suction holes 108 of the suction passage 110 and the spin chuck 100 and vacuum suction, the substrate W is held by suction on the spin chuck 100. 次に、余剰フォトレジスト液の飛散を防止するための図示しないカップが上昇してスピンチャック100の周囲を囲う。 Then, surrounding the spin chuck 100 cups (not shown) for preventing the scattering of the excess photoresist solution is increased. そして、図示しない吐出ノズルが基板Wの回転中心の上方位置へ移動する。 Then, a discharge nozzle (not shown) is moved into position above the rotation center of the substrate W. 次に、スピンモータ106が回転駆動され、これにより、中空回転軸102がその外周面をバキュームシール112に摺接させながら回転し、スピンチャック100に保持された基板Wが所定速度で回転させられる。 Next, the spin motor 106 is rotated, thereby, the hollow rotary shaft 102 is rotated while sliding the outer peripheral surface to the vacuum seal 112, substrate W held by the spin chuck 100 is rotated at a predetermined speed . 続いて、回転中の基板Wの表面へ吐出ノズルから所定量のフォトレジスト液が吐出され、その後、引き続いて所定時間基板Wが回転させられることにより、基板Wの表面から余剰フォトレジスト液が周囲へ飛散し、 Subsequently, a predetermined amount of photoresist liquid is discharged from the discharge nozzle to the surface of the substrate W during rotation, then, by a predetermined time the substrate W is rotated subsequently, excess photoresist liquid from the surface of the substrate W around scattered to,
基板Wの表面に所定膜厚のフォトレジスト膜が形成される。 A predetermined thickness of the photoresist film is formed on the surface of the substrate W. そして、スピンモータ106の駆動を停止させた後、切替え弁122が空気管路126側へ切り替えられ、スピンチャック100による基板Wの真空吸着が解除される。 Then, after stopping the drive of the spin motor 106, the switching valve 122 is switched to the air line 126 side, the vacuum suction of the substrate W by the spin chuck 100 is released.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする課題】以上のような構成を有し動作する基板の回転処理装置においては、中空回転軸102がバキュームシール112を介して回転自在に軸受部104に支持されているが、シール材としては一般にゴム材が用いられているため、スピンモータ106によって中空回転軸102が高速回転させられ、中空回転軸102の外周面がバキュームシール112に摺接した際に、シール材が削られてゴムなどの塵埃128が発生する。 In rotating the substrate processing apparatus to operate as to have the above [0008] structure is hollow rotary shaft 102 is rotatably supported by the bearing portion 104 via a vacuum seal 112 , since the general rubber material used as a sealing material, a hollow rotary shaft 102 is rotated at high speed by the spin motor 106, when the outer peripheral surface of the hollow rotary shaft 102 is in sliding contact with the vacuum seal 112, sealing material scraped dust 128 such as rubber is generated. また、中空回転軸102との摺接面にはグリス等の潤滑剤が塗布されており、この潤滑剤も前記塵埃と混在することになる。 Further, the sliding contact surface between the hollow rotary shaft 102 and a lubricant such as grease is applied, the lubricant also will be mixed with the dust. この塵埃128等は、基板の回転処理中はシールハウジング114の吸引室116の内部などに付着して残留することになる。 The dust 128 and the like, so that the rotating processing of the substrate remain attached like the interior of the suction chamber 116 of seal housing 114. ところが、回転処理が終了して切替え弁122を切り替えることにより、吸引室116内の減圧状態を解除して吸引室116内を大気開放した時に、吸引室116内から負圧となっている中空回転軸102の吸引路110内へ空気が流入することになるが、前記塵埃128等は、中空回転軸102の吸引路110内へ流入する空気に巻き上げられ、その空気の流れに乗って中空回転軸102の吸引路110内からスピンチャック100の吸着孔108を通り基板Wの下面側に到達し、基板Wの下面側にパーティクルとして付着して基板Wを汚染してしまう。 However, by switching the switching valve 122 rotation processing is completed, the suction chamber suction chamber 116 by releasing the vacuum of 116 when opened to the atmosphere, the hollow rotation and has a negative pressure from the suction chamber 116 Although air to shaft 102 of the suction passage 110 will flow into, such as the dust 128 is wound up to the air flowing into the suction path 110 of the hollow rotary shaft 102, a hollow rotation shaft on stream of air the suction holes 108 of the spin chuck 100 from 102 suction path 110. of reaching the lower surface side of the street the substrate W, resulting in contamination of the substrate W adheres as particles to the lower surface of the substrate W. この結果、基板の処理品質が低下し、製品の歩留りが低下することとなる。 As a result, the processing quality of the substrate is reduced, the product yield is lowered.

【0005】この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、回転処理後においてスピンチャックによる基板の真空吸着動作の解除に伴って起こる基板下面側へのパーティクルの付着を完全に防止することができる基板の回転処理装置を提供することを目的とする。 [0005] The present invention has been made in view of the circumstances as described above, completely the adhesion of particles to the substrate lower surface that occurs along with the release of the vacuum suction operation of the substrate by the spin chuck after rotation processing and an object thereof is to provide a rotary apparatus of the substrate can be prevented.

【0006】 [0006]

【課題を解決するための手段】この発明は、吸着孔を有し、上面側に基板を吸着保持するスピンチャックと、このスピンチャックの前記吸着孔に連通する吸引路が形成され、スピンチャックの下面側中央部に上端部が連接されて、スピンチャックを水平姿勢に保持する中空回転軸と、この中空回転軸を、バキュームシールを介して外部に対し気密にかつ鉛直軸回りに回転自在に支持する軸受部と、前記中空回転軸を回転駆動させる回転駆動手段と、前記中空回転軸の下端側に配設され、中空回転軸の前記吸引路に連通するとともに吸引管路を介して真空吸引手段に連通される吸引室を有したシールハウジングと、このシールハウジングの吸引室内の減圧状態を解除して吸引室内を大気開放する減圧解除手段とからなる基板の回転処理装置にお SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has a suction hole, a spin chuck for attracting and holding the substrate on the upper surface, the suction path communicating with the suction holes of the spin chuck is formed, the spin chuck the lower surface central portion is connected is the upper end, a hollow rotation shaft which holds the spin chuck in a horizontal position, the hollow rotary shaft rotatably supported in and around a vertical axis airtightly to the outside through the vacuum seal a bearing portion for the rotational driving means for rotationally driving said hollow rotary shaft is disposed at the lower end of said hollow rotary shaft, the vacuum suction means through the suction conduit communicates with the said suction passage of the hollow rotary shaft Contact a seal housing having a suction chamber in communication with, the release to the suction chamber a reduced pressure of the suction chamber of the seal housing to rotate the substrate processing apparatus comprising a vacuum release means for air release in て、前記シールハウジングの前記吸引室と前記中空回転軸の前記吸引路との連通個所から前記スピンチャックに保持された基板の下面側へ到るまでの経路の何れかの位置、すなわち、中空回転軸の吸引路の端部もしくは途中、又はスピンチャックの前記吸着孔の端部もしくは途中に、前記減圧解除手段による前記シールハウジングの吸引室内の大気開放時に中空回転軸の下端開口から吸引路内へ流入してスピンチャックに保持された基板の方向へ流動する塵埃を捕獲するフィルターを介挿したことを特徴とする。 Te, any position of the path from the communication point between the suction passage of the suction chamber and the hollow rotary shaft of the seal housing until reaching the lower surface of the substrate held by the spin chuck, namely, the hollow rotary the end of the shaft suction path or course, or to an end or the middle of the suction holes of the spin chuck, the lower end opening of the hollow rotary shaft when the atmosphere opening of the suction chamber of the seal housing by the vacuum releasing means into the suction channel inflow to, characterized in that interposed a filter to capture the dust to flow in the direction of the substrate held by the spin chuck.

【0007】上記構成の基板回転処理装置に、シールハウジングの吸引室内へ強制的に加圧気体を送り込む加圧気体送給手段と、スピンチャック上の基板の有無を検知する基板検知手段と、この基板検知手段によって前記スピンチャック上に基板の無いことが確認されたときに、 [0007] substrate rotating processing apparatus having the above structure, the pressurized gas feed means for feeding the forced pressurized gas to the suction chamber of the seal housing, a substrate detection means for detecting the presence or absence of a substrate on a spin chuck, the when it is confirmed no substrate on said spin chuck by the substrate detection means,
前記シールハウジングの吸引室内へ加圧気体を送り込むように前記加圧気体送給手段を制御する制御手段とを設けた構成としてもよい。 It may be configured to provide a control means for controlling the pressurized gas feeding means to feed the suction chamber to the pressurized gas of the seal housing.

【0008】 [0008]

【作用】上記した構成を有する基板の回転処理装置では、基板の回転処理が終了し、減圧解除手段によりシールハウジングの吸引室内の減圧状態が解除されて吸引室内が大気開放され、吸引室内から負圧となっている中空回転軸の下端開口から吸引路内へ空気が流入し、その空気と一緒にシールハウジングの吸引室内からスピンチャック上の基板の下面側へ向かって塵埃が流動しようとしても、その塵埃は、中空回転軸の吸引路の端部、例えば上端部、もしくは吸引路の途中、或いは、スピンチャックの吸着孔の端部もしくは途中に介挿されたフィルターによって捕獲され、基板の下面まで到達することがない。 [Action] In rotating the substrate processing apparatus having the above structure, the rotation processing of the substrate is finished, the suction chamber of a reduced pressure suction chamber is released the seal housing by vacuum release means is opened to the atmosphere, negative from the suction chamber air flows from the lower end opening of the hollow rotary shaft that is the pressure to the suction path, from the suction chamber of the seal housing with its air trying dust flows toward the lower surface side of the substrate on the spin chuck, As dust, the end of the suction passage of the hollow rotary shaft, for example the upper end, or of the suction passage way, or is captured by the end or filter interposed in the middle of the suction holes of the spin chuck, to a lower surface of the substrate not be reached. 従って、基板下面に塵埃が付着することはない。 Thus, no dust is attached to the substrate lower surface.

【0009】ところで、以上のように、中空回転軸の吸引路の上端部等にフィルターを介挿した場合、真空吸引手段によってシールハウジングの吸引室内を真空吸引したときに、スピンチャックの吸着孔を通してスピンチャック周囲の空気が吸い込まれる際に浮遊している塵埃も同時に吸い寄せられ(スピンチャック上に基板が無いとき)、また、基板に付着して回転処理装置内へ持ち込まれたごみが吸い寄せられ(スピンチャック上に基板があるとき)、それらの塵埃がフィルターの上面側(基板側)に捕捉されてしまうことになる。 By the way, as described above, when inserted through the filter to the suction passage upper portion or the like of the hollow rotary shaft, when the suction chamber of the seal housing to vacuum suction by the vacuum suction means, through the suction holes of the spin chuck dust floating in the air around the spin chuck is drawn also sucked simultaneously (when there is no substrate on a spin chuck), also waste brought to the rotary processing device adhering to the substrate is attracted ( when there is a substrate on a spin chuck), so that their dust from being caught on the upper surface side of the filter (substrate side). この塵埃は、真空吸引後大気開放した時に、フィルターから離れるが、スピンチャック上に載置された基板の下面とフィルターの上面との間の閉ざされた狭い空間内に滞留し、装置を長期間稼働させて多くの基板を処理し真空吸引及び大気開放を繰り返しているうちに、前記空間内に次第に塵埃が溜まってくる。 This dust is, when exposed to the atmosphere after vacuum aspiration, but away from the filter, retained in an enclosed narrow space between the lower surface and the filter of the upper surface of the substrate placed on the spin chuck, a long time device while not operate repeatedly the vacuum suction and air release handles many substrates, gradually dust comes accumulated in the space. そして、真空吸引手段によってシールハウジングの吸引室内を真空吸引した際にフィルターの上面側に吸着された比較的多量の塵埃が、大気開放した際にフィルターの上面から吹き飛ばされて、基板の下面に付着して二次汚染が起こる、といった心配がある。 Then, a relatively large amount of dust is adsorbed suction chamber of the seal housing on the upper surface side of the filter when the vacuum suction by the vacuum suction means, is blown from the upper surface of the filter when it opened to the atmosphere, adheres to the lower surface of the substrate secondary contamination occurs in, there is a concern, such as.

【0010】しかしながら、加圧気体送給手段及び基板検知手段を設け、基板検知手段によりスピンチャック上の基板の有無を検知し、これによってスピンチャック上に基板の無いことが確認されたときに、制御手段により加圧気体送給手段を制御して、シールハウジングの吸引室内へ加圧気体を送り込むようにしたときは、スピンチャック上に基板が無い状態において、中空回転軸の吸引路を通りスピンチャックの吸着孔から吹き出す加圧気体により、フィルターの上面或いはその周辺に付着した塵埃が吹き飛ばされて周囲に飛散する。 [0010] However, the pressurized gas feed means and the substrate detecting means provided to detect the presence or absence of a substrate on a spin chuck by the substrate detection means, whereby when it is confirmed no substrate on a spin chuck, and controls the pressurized gas feeding means by the control means, when so to the suction chamber of the seal housing feeding the pressurized gas, in a state the substrate is not on the spin chuck, through spin the suction passage of the hollow rotary shaft the pressurized gas blown out from the suction hole of the chuck, dust attached to the top or around the filter is blown scattered around. 飛散した塵埃は、 Scattered dust,
スピンチャックを取り囲むように設けられたカップの排気系などを通して回転処理装置外へ排出される。 It is discharged to the rotary processing device outside such as through an exhaust system of a cup which surrounds the spin chuck. 従って、加圧気体送給手段による塵埃の吹き飛ばし操作を定期的に行なうようにすることにより、上記した基板の二次汚染の問題は解消される。 Therefore, by such periodically perform blowing operation of the dust by pressurized gas feed means, the secondary pollution problem of the substrate described above is eliminated.

【0011】 [0011]

【実施例】以下、この発明の好適な実施例について図面を参照しながら説明する。 EXAMPLES Hereinafter, with reference to the accompanying drawings preferred embodiments of the present invention.

【0012】図1は、この発明の1実施例を示し、基板の回転処理装置の要部の構成を示す一部縦断面図である。 [0012] Figure 1 illustrates an embodiment of the present invention, is a longitudinal sectional view of a portion showing a structure of a main portion of the rotary processor of the substrate. この装置の基本構成は、従来の装置と同様である。 The basic structure of this device is similar to the conventional device.
すなわち、上面側に基板Wを吸着保持するスピンチャック10には、その回転中心部を貫通するように吸着孔1 That is, the spin chuck 10 for attracting and holding the substrate W on the upper surface, the suction hole 1 so as to pass through the center of rotation
2が形成され、スピンチャック10の下面側中央部に、 2 is formed, on the lower surface center portion of the spin chuck 10,
軸心部に軸線方向に貫通した吸引路16が形成された中空回転軸14の上端部が一体的に連接され、スピンチャック10の吸着孔12と中空回転軸14の吸引路16とが連通している。 The upper end of the hollow rotating shaft 14 in which the suction passage 16 penetrating in the axial direction in the axial portion is formed is connected integrally communicates with the suction passage 16 of the suction hole 12 and the hollow rotary shaft 14 of the spin chuck 10 ing. 中空回転軸14の下端近くは、フッ化樹脂で形成された環状摺接部材22及びその外側に配設されゴム材で形成された環状支持部材24により構成されたバキュームシール20を介して円筒スリーブ18 Lower end near the hollow rotary shaft 14, the cylindrical sleeve via a vacuum seal 20 which is constituted by an annular support member 24 made of rubber is disposed in the annular sliding member 22 and the outside formed in the fluorinated resin material 18
に、気密にかつ回転自在に支持されている。 To have and is rotatably supported in the airtight. バキュームシール20は、止め輪26によって円筒スリーブ18の内周面に係止されている。 Vacuum seal 20 is engaged to the inner circumferential surface of the cylindrical sleeve 18 by a retaining ring 26. そして、スピンモータ28を駆動させて中空回転軸14を回転させることにより、スピンチャック10に保持された基板Wを回転させるようになっている。 By rotating the hollow rotary shaft 14 by driving the spin motor 28, and is adapted to rotate the substrate W held by the spin chuck 10.

【0013】また、円筒スリーブ18の下面側には、真空漏れをしないようにOリング11を挾んで底板30がねじ止めにより固着されている。 Further, on the lower surface side of the cylindrical sleeve 18, are secured by a bottom plate 30 is screwed by sandwiching the O-ring 11 so as not to vacuum leak. 底板30には、中空回転軸14の下端部が一部挿入され、中空回転軸14の下端部と干渉しないように形成された吸引室32、並びに、この吸引室32に連通する吸引通路34が設けられており、この底板30と円筒スリーブ18とによりシールハウジング36が構成される。 The bottom plate 30 is inserted the lower end portion of the hollow rotary shaft 14 is partially hollow rotating shaft 14 of the lower end portion formed so as not to interfere with aspiration chamber 32, as well, the suction passage 34 communicating with the suction chamber 32 provided, the seal housing 36 is constituted by a bottom plate 30 and the cylindrical sleeve 18. また、底板30の吸引通路34には、管継手38を介して接続管路40が連通接続されており、この接続管路40にフィルター42及び切替え弁44が介挿接続され、その接続管路40が、 Further, the suction passage 34 of the bottom plate 30, connecting line 40 via the pipe joint 38 are connected in communication with, the filter 42 and the switching valve 44 in the connecting line 40 is connected interposed, the connecting line 40,
切替え弁44により真空源に流路接続された吸引管路4 Suction conduit is flow path connected to a vacuum source by the switching valve 44 4
6又は先端が大気開放された空気管路48に択一的に連通接続されるようになっている。 6 or tip is adapted to be alternatively connected communication with the air duct 48 open to the atmosphere.

【0014】以上の構成は従来の装置と同様であるが、 [0014] The above configuration but is similar to the conventional device,
この装置では、中空回転軸14の上端部にフィルター5 In this apparatus, a filter 5 at the upper end portion of the hollow rotary shaft 14
0が介挿されている。 0 is inserted. フィルター50は、樹脂材、セラミック材、金属繊維の焼結体などで形成されている。 Filter 50, a resin material, a ceramic material, and is formed in such a sintered body of metal fibers. このフィルター50は、それが配設されている中空回転軸14が高速で回転するため、空回りせず中空回転軸14 The filter 50 is, for hollow rotating shaft 14 to which it is disposed to rotate at a high speed, the hollow rotary shaft without idle 14
と一体に回転するように、かつ、その配設部位におけるシール性が保持されるように、中空回転軸14の上端部に取着される。 So as to rotate integrally with, and as sealability is retained at the disposed position of, is attached to the upper end portion of the hollow rotary shaft 14.

【0015】図2及び図3は、フィルターが空回りせず中空回転軸と一体に回転するようにした構成例をそれぞれ示す。 [0015] Figures 2 and 3 show a configuration example in which so as to rotate the hollow rotary shaft integrally without idling filters respectively. 図2に一部拡大斜視図を示した例は、フィルター56を、平面形状が四角形の板状部とその下面中央部に連接した円柱部との一体形成物として構成し、吸引路54が形成された中空回転軸52の上端部に、フィルター56が密嵌する形状の嵌め込み凹部58を形成し、中空回転軸52の嵌め込み凹部58にフィルター56を差し込むようにしたものである。 Example showing partially enlarged perspective view in FIG. 2, the filter 56, configured as an integral formation of a cylindrical portion which has a planar shape and connected to the lower surface of the central portion and the plate-like portion of the square, the suction passage 54 formed the upper end portion of the hollow rotary shaft 52 which is to form the fitting concave portion 58 having a shape filter 56 is fitted tightly, in which so as to insert the filter 56 to the fitting concave portion 58 of the hollow rotary shaft 52. また、図3に一部拡大正面図を示した例は、フィルター64を、ねじ回しの操作用溝66が形成されたねじ形状とし、吸引路62が形成された中空回転軸60の上端部に、フィルター64が螺合するめねじ68を形成し、中空回転軸60の上端部にフィルター64をねじ込むようにしたものである。 Also, the example shown a partially enlarged front view in FIG. 3, the filter 64, and a screw-shaped operating groove 66 of the screwdriver is formed on the upper end portion of the hollow rotary shaft 60 to the suction passage 62 is formed to form an internal thread 68 which filters 64 is screwed, it is obtained so as to screw the filter 64 to the upper end portion of the hollow rotary shaft 60. この場合、ねじの方向は、中空回転軸60の回転方向と逆の方向とする。 In this case, the direction of the screw, the rotational direction opposite to the direction of the hollow rotary shaft 60. 図3に示した構成では、特に、中空回転軸60の上端部にフィルター64を取り付けたときのシール性が高くなる。 In the configuration shown in FIG. 3, in particular, sealing property is high when the filter 64 attached to the upper end portion of the hollow rotary shaft 60.

【0016】上記した各実施例では、フィルターを中空回転軸の上端部に取り付けるようにしたが、フィルターの配設位置は、底板30の吸引室32と中空回転軸14 [0016] In each of the embodiments described above, but to attach the filter to the upper end portion of the hollow rotary shaft, the arrangement position of the filter, the suction chamber 32 of the bottom plate 30 and the hollow rotary shaft 14
の吸引路16との連通個所からスピンチャック10に保持された基板Wの下面側へ到るまでの経路の何れかの位置であればよく、中空回転軸14の吸引路16の下端部或いは吸引路16の途中でもよい。 May be a any position of the path from the communication point ranging to the lower side of the substrate W held by the spin chuck 10 and the suction passage 16 of the lower end portion of the suction passage 16 of the hollow rotary shaft 14 or suction good even in the middle of the road 16. 但し、出来るだけ基板に近い位置にフィルターを配置する方が好ましい。 However, those who place the filter in a position close to the substrate as possible is preferred. また、スピンチャックの吸着孔の端部もしくは途中にフィルターを配設するようにしてもよい。 Further, it is also possible to dispose the filter end or middle of the suction holes of the spin chuck. 図4は、スピンチャック70の上面側の回転中心部に、中空回転軸74の吸引路76と連通した吸着孔72に連通する凹部78を形成し、その凹部78にフィルター80を取着した例を示し、図5は、スピンチャック82の内部の、中空回転軸74の上端部との連接用孔部86の上端部にフィルター88を取着した例を示す。 4, the rotation center portion of the upper surface of the spin chuck 70, a recess 78 communicating with the suction holes 72 communicating with the suction passage 76 of the hollow rotary shaft 74 is formed, and attach the filter 80 in the concave portion 78 cases are shown, FIG. 5 shows the interior of the spin chuck 82, an example of attaching the filter 88 to the upper end portion of the connecting hole 86 of the upper end portion of the hollow rotary shaft 74.

【0017】以上の各実施例に示したように、中空回転軸の吸引路或いはスピンチャックの内部にフィルターが配設された基板の回転処理装置では、基板の回転処理が終了した後、切替え弁44を空気管路48側に切り替え、吸引室32内の減圧状態を解除して吸引室32内を大気開放した時に、吸引室32内から負圧となっている中空回転軸14の吸引路16内へ空気が流入し、中空回転軸14の回転動作に伴って発生した塵埃が、空気と一緒に吸引室32内からスピンチャック10上の基板Wの下面側へ向かって流動しようとしても、その塵埃は、中空回転軸14の吸引路16の上端部等に配設されたフィルター50、56、64、80、88によって捕獲され、基板Wの下面まで到達することがない。 [0017] As shown in each embodiment described above, in the rotation processing unit board filter is disposed within the suction path or the spin chuck of the hollow rotary shaft, after the rotation processing of the substrate is finished, the switching valve 44 to switch the air duct 48 side, the suction chamber suction chamber 32 by releasing the vacuum of 32 when air opening, the suction passage 16 of the hollow rotary shaft 14 which is a negative pressure from the suction chamber 32 air flows into the inner dust generated along with the rotation of the hollow rotary shaft 14, even if an attempt is flowing toward the lower surface side of the substrate W on the spin chuck 10 from the suction chamber 32 with air, its dust is captured by the filter 50,56,64,80,88 disposed on an upper end portion or the like of the suction passage 16 of the hollow rotary shaft 14, never reaches the lower surface of the substrate W. 従って、基板Wの下面側に塵埃がパーティクルとして付着して基板Wを汚染してしまう、といったことが完全に防止される。 Thus, dust on the lower surface side of the substrate W contaminate the substrate W adheres as particles, is completely prevented such.

【0018】次に、図6に概略構成を示した基板の回転処理装置は、図1に示した基板の回転処理装置の構成において、切替え弁44を介して接続管路40に切替え的に連通接続される空気管路48を給気管路90に代え、 Next, the rotation processing unit board showing a schematic configuration in Figure 6, rotation processing in the configuration of the device, the switching valve 44 communicates the manner switching the connection conduit 40 via the substrate shown in FIG. 1 instead the air line 48 connected to the supply duct 90,
その給気管路90に第2の切替え弁92を介して、先端が大気開放された空気管路94と、加圧不活性ガス、例えば加圧窒素ガスの供給源に流路接続された加圧ガス送給管路96とをそれぞれ接続し、第2の切替え弁92を切替え操作することにより空気管路94と加圧ガス送給管路96とを給気管路90に択一的に連通接続させることができるようにしている。 Via the second switching valve 92 to the supply duct 90, the air line 94 leading end is opened to the atmosphere, a pressurized inert gas, for example, the channel connected to a pressurized supply source of pressurized nitrogen gas and a gas feed line 96 connected respectively, alternatively communicating connection between the air conduit 94 and the pressure gas feed line 96 to the supply duct 90 by operating switching the second switching valve 92 so that it is possible to. 第2の切替え弁92は、コントローラ98によって切替え操作され、コントローラ98には基板センサ99から、スピンチャック10上の基板Wの有無を検知する信号が送られるように構成されている。 The second switching valve 92 is operated switching by the controller 98, the substrate sensor 99 to the controller 98, the signal for detecting the presence or absence of the substrate W on the spin chuck 10 is configured to be sent.

【0019】図6に示した基板の回転処理装置は、通常は第2の切替え弁92を空気管路94側へ切り替えた状態にして、図1に示した装置と全く同様に駆動される。 The rotation processing unit substrate shown in FIG. 6 is normally in a state where the second switching valve 92 is switched to the air line 94 side is exactly the same driven the apparatus shown in FIG.
そして、基板の処理を行なっていない時に定期的に、例えば1ロット処理終了後に、切替え弁44が給気管路9 Then, on a regular basis when not subjected to processing of the substrate, for example after one lot processing ends, the switching valve 44 supply duct 9
0側へ切り替えられた状態において、基板センサ99によってスピンチャック10上に基板Wが無いことを確認した上で、コントローラ98により第2の切替え弁92 In switched state to 0 side, after confirming that the substrate W is not on the spin chuck 10 by the substrate sensor 99, the second switching valve by the controller 98 92
を制御して加圧ガス送給管路96側へ切り替えるようにする。 Controls are to be switched to the pressurized gas feed line 96 side. これにより、シールハウジング36の吸引室32 Thereby, the suction chamber of the seal housing 36 32
内へ加圧窒素ガスが送り込まれ、その加圧窒素ガスが、 The inner is pressurized nitrogen gas fed, its pressurized nitrogen gas,
中空回転軸14の吸引路16を通り、フィルター50内部を吹き抜けて、スピンチャック10の吸着孔12から吹き出すことになる。 Through the suction passage 16 of the hollow rotary shaft 14, blowing through the inner filter 50, it will be blown from the suction holes 12 of the spin chuck 10. このため、装置を繰り返し稼働させて多くの基板を処理しているうちに、フィルター50 Thus, while processing a number of substrates by running repeatedly device, filter 50
の上面或いはその周辺に比較的多量の塵埃が付着するようなことがあったとしても、加圧窒素ガスによってフィルターの上面等に付着した塵埃は吹き飛ばされて周囲に飛散し、飛散した塵埃は、スピンチャック10を取り囲むように設けられたカップの排気系などを通して回転処理装置外へ排出されることとなる。 The top or even a relatively large amount of dust was sometimes as to adhere to the periphery thereof, the dust attached to the upper surface or the like of the filter being blown up and scattered around the pressurized nitrogen gas was scattered dust, and it is discharged to the rotary processing device outside such as through an exhaust system of a cup which surrounds the spin chuck 10. 従って、フィルター50の上面側等に付着した塵埃によって基板の下面が二次汚染される、といった心配は無くなる。 Therefore, the lower surface of the substrate is secondarily contaminated by dust attached to the upper surface side or the like of the filter 50, such concern is eliminated.

【0020】 [0020]

【発明の効果】この発明は以上説明したように構成されかつ作用するので、この発明に係る基板の回転処理装置を使用するようにしたときは、回転処理後においてスピンチャックによる基板の真空吸着動作の解除に伴って起こる基板下面側へのパーティクルの付着を完全に防止することができ、従来の装置を使用した場合に比べ、基板の処理品質を高め、製品の歩留りを向上させることができる。 Since [Effect of the Invention The present invention is constructed and operates as described above, when to use a rotary processing device substrate according to the present invention, a vacuum suction operation of the substrate by the spin chuck after rotation processing the adhesion of particles to the substrate lower surface that occurs along with the release can be completely prevented, compared with the case of using the conventional equipment, improve the processing quality of the substrate, thereby improving the yield of products.

【0021】また、請求項2に記載された構成によると、装置を繰り返し稼働させて多くの基板を処理しているうちに、フィルターの上面或いはその周辺に比較的多量の塵埃が付着するようなことがあったとしても、フィルターの上面側等に付着した塵埃による基板の二次汚染を防止することができる。 [0021] According to the configuration described in claim 2, while processing a number of substrates by running repeatedly device, such as a relatively large amount of dust on the upper surface or the vicinity thereof of the filter is attached it even if it is possible to prevent secondary contamination of the substrate by the dust attached to the upper surface side or the like of the filter.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】この発明の1実施例を示し、基板の回転処理装置の要部の構成を示す一部縦断面図である。 [1] shows one embodiment of the present invention, it is a longitudinal sectional view of a portion showing a structure of a main portion of the rotary processor of the substrate.

【図2】この発明に係る基板回転処理装置において、フィルターが空回りせず中空回転軸と一体に回転するようにした構成の1例を示す一部拡大斜視図である。 [2] In the substrate rotating apparatus according to the present invention, it is a partially enlarged perspective view showing an example of a configuration the filter has to rotate the hollow rotary shaft integrally without idling.

【図3】同じく、別の構成例を示す一部拡大正面図である。 [3] Also, a partially enlarged front view showing another configuration example.

【図4】この発明に係る基板回転処理装置において、フィルターの取付け位置の、図1ないし図3に示したものと異なる例を示す一部縦断面図である。 [4] In the substrate rotating apparatus according to the present invention, the mounting position of the filter, is a longitudinal sectional view of a portion showing a different example that shown in FIGS.

【図5】同じく、さらに別の例を示す一部縦断面図である。 [5] Also, a longitudinal sectional view of a portion of yet another example.

【図6】請求項2に記載の発明の1実施例を示す基板回転処理装置の概略図である。 6 is a schematic view of a substrate rotating apparatus showing one embodiment of the invention described in claim 2.

【図7】従来の基板回転処理装置の構成の1例を示す概略図である。 7 is a schematic diagram showing an example of a structure of a conventional substrate rotating apparatus.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

10、70、82 スピンチャック 12、72、84 スピンチャックの吸着孔 14、52、60、74 中空回転軸 16、54、62、76 中空回転軸の吸引路 18 円筒スリーブ 20 バキュームシール 28 スピンモータ 32 吸引室 36 シールハウジング 40 接続管路 44、92 切替え弁 46 吸引管路 48、94 空気管路 50、56、64、80、88 フィルター 90 給気管路 96 加圧ガス送給管路 98 コントローラ 99 基板センサ W 基板 10,70,82 spin chuck 12,72,84 suction passage 18 cylindrical sleeve 20 vacuum seal of the suction holes 14,52,60,74 hollow rotary shaft 16,54,62,76 hollow rotary shaft of the spin chuck 28 spin motor 32 the suction chamber 36 to seal housing 40 connection conduit 44, 92 switching valve 46 suction conduit 48,94 air channel 50,56,64,80,88 filter 90 supply duct 96 the pressurized gas feed line 98 the controller 99 substrate sensor W board

Claims (2)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 吸着孔を有し、上面側に基板を吸着保持するスピンチャックと、 このスピンチャックの前記吸着孔に連通する吸引路が形成され、スピンチャックの下面側中央部に上端部が連接されて、スピンチャックを水平姿勢に保持する中空回転軸と、 この中空回転軸を、バキュームシールを介して外部に対し気密にかつ鉛直軸回りに回転自在に支持する軸受部と、 前記中空回転軸を回転駆動させる回転駆動手段と、 前記中空回転軸の下端側に配設され、中空回転軸の前記吸引路に連通するとともに吸引管路を介して真空吸引手段に連通される吸引室を有したシールハウジングと、 このシールハウジングの吸引室内の減圧状態を解除して吸引室内を大気開放する減圧解除手段とからなる基板の回転処理装置において、 前記中空回転軸の前 Has 1. A suction holes, a spin chuck for attracting and holding the substrate on the upper surface, the said suction passage communicating with the suction holes of the spin chuck is formed, the upper portion to the lower surface side central portion of the spin chuck is connected, a hollow rotation shaft which holds the spin chuck in a horizontal position, the hollow rotary shaft, a bearing portion for rotatably supporting the and the vertical axis airtight to the outside through the vacuum seal, the hollow rotary Yes a rotation driving means for rotating the shaft, is arranged on the lower side of the hollow rotary shaft, a suction chamber communicated with the vacuum suction means through the suction conduit communicates with the said suction passage of the hollow rotary shaft a seal housing which is, in the rotation processing apparatus of a substrate made of a suction chamber by releasing the vacuum of the suction chamber of the seal housing and vacuum release means for atmospheric release, before the hollow rotary shaft 記吸引路の端部もしくは途中又は前記スピンチャックの前記吸着孔の端部もしくは途中に、 End portions of the serial suction path or the middle or the suction holes of the spin chuck or in the middle,
    前記減圧解除手段による前記シールハウジングの吸引室内の大気開放時に中空回転軸の下端開口から吸引路内へ流入してスピンチャックに保持された基板の方向へ流動する塵埃を捕獲するフィルターを介挿したことを特徴とする基板の回転処理装置。 It was interposed a filter to capture the dust flowing into the vacuum release means by said seal housing direction of the suction chamber substrate held by the spin chuck and flows from the lower end opening of the hollow rotary shaft into the suction passage at the time of atmospheric release of rotation processing device substrate, characterized in that.
  2. 【請求項2】 シールハウジングの吸引室内へ強制的に加圧気体を送り込む加圧気体送給手段と、 スピンチャック上の基板の有無を検知する基板検知手段と、 この基板検知手段によって前記スピンチャック上に基板の無いことが確認されたときに、前記シールハウジングの吸引室内へ加圧気体を送り込むように前記加圧気体送給手段を制御する制御手段とを備えた請求項1記載の基板の回転処理装置。 2. A feeding force the pressurized gas to the suction chamber of the seal housing pressurized gas feed means, a substrate detection means for detecting the presence or absence of a substrate on a spin chuck, the spin chuck by the substrate detection means when the absence of substrate on top has been confirmed, the substrate according to claim 1, further comprising a control means for controlling the pressurized gas feeding means to feed the pressurized gas to the suction chamber of the seal housing rotating processor.
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