JPH08165349A - シリコーン基含有ポリオキシアルキレン化合物 - Google Patents

シリコーン基含有ポリオキシアルキレン化合物

Info

Publication number
JPH08165349A
JPH08165349A JP30897094A JP30897094A JPH08165349A JP H08165349 A JPH08165349 A JP H08165349A JP 30897094 A JP30897094 A JP 30897094A JP 30897094 A JP30897094 A JP 30897094A JP H08165349 A JPH08165349 A JP H08165349A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
compound
carbon atoms
silicone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30897094A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Kono
雅章 河野
Toyohisa Kobayashi
豊久 小林
Akinori Suginaka
昭典 杉中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NOF Corp
Original Assignee
Nippon Oil and Fats Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Oil and Fats Co Ltd filed Critical Nippon Oil and Fats Co Ltd
Priority to JP30897094A priority Critical patent/JPH08165349A/ja
Publication of JPH08165349A publication Critical patent/JPH08165349A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polyethers (AREA)
  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ポリオキシアルキレン骨格の側鎖に1以上の
シリコーン基を持つ新規かつ有用なポリオキシアルキレ
ン化合物を得る。 【構成】 式(1)で示されるシリコーン基含有ポリオキ
シアルキレン化合物。 【化1】 〔Zは2〜8個の水酸基を持つ化合物の残基;R1は炭素数
1〜24のアルキル、アラルキル、アリールまたはアシル
基;A1O、A2Oは炭素数2〜22のオキシアルキレン基、B
1O、B2Oは式(2)、C1O、C2Oは式(3)で示される基で、A
1OとB1OとC1O、A2OとB2OとC2Oは各々任意の順序でブロ
ック状またはランダムに付加していても良い。m、nは
0〜8でm+n=2〜8を満たし、a、b、i、j、
p、qは各々0以上で、かつam+bn=1〜1500、i
m+jn=0〜100、pm+qn=1〜100を満たす。〕 【化2】 〔R2は炭素数2〜5のアルケニル基;Xは炭素数2〜5のア
ルキレン基;Yは-(Si(R3)2O)r-Si(R3)3(R3
炭素数1〜24の炭化水素基;rは0〜3000)で示される
シリコーン基〕

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はポリオキシアルキレンの
骨格の側鎖にシリコーン基を持つポリオキシアルキレン
化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリオキシアルキレン化合物は、付加す
るアルキレンオキシドの種類や組合わせおよび分子量の
違いによって、低粘度から高粘度、低融点から高融点、
油溶性から水溶性等、種々の性質を持った重合体を得る
ことができる。一方、シリコーン化合物も、その基本骨
格の構造およびその分子量、ケイ素に直接結合した有機
基の種類等により、油状、ゴム状、固形樹脂状と極めて
広範囲の性状を有している。また、耐熱性、耐寒性、酸
化安定性、耐候性、離型性、撥水性、柔軟性に優れた化
合物であり、各種の用途に幅広く用いられている。
【0003】ポリオキシアルキレン化合物の特徴を生か
しつつさらにシリコーン化合物が有する特性を付与する
ため、ポリオキシアルキレン鎖のシリコーン変性が行わ
れる。この方法としては、ポリオキシアルキレン鎖の末
端にシリコーン基を導入する方法がある(特開昭55−
123620号公報、特開昭55−125121号公
報、特開昭62−225533号公報)。この場合、下
記式(5)に示すように、ポリオキシアルキレン鎖の、
不飽和炭化水素基のみを有する末端に対しシリコーン化
合物が付加した構造となる。
【0004】
【化5】 POA−O−Ra−CH2−CH2−SiRb 2−PS (5) (ただし、POAはポリオキシアルキレン鎖、Raは2
価の炭化水素基、Rbは1価の炭化水素基、PSはシリ
コーン基である。)
【0005】他の方法としては、ケイ素原子に直結した
アルコキシル基と水酸基の反応(特開昭51−2820
0号公報)、エポキシ基と1,2級アミンの反応(特開
昭62−181320号公報)、カルボン酸のアルカリ
金属塩とピロリジニウム環の反応(特開平4−1372
7号公報)によってポリオキシアルキレンとシリコーン
を結合させ共重合体を得る方法が知られている。それぞ
れの方法によるポリオキシアルキレン鎖とシリコーンの
結合部分の構造を式(6)〜(8)に示す。
【0006】
【化6】 POA−O−SiRb 2−PS (6) POA−Ra−CH(OH)−CH2−NRc−Ra−SiRb 2−PS (7) POA−N(CH3)−(CH24−OCO−Ra−SiRb 2−PS (8) (ただし、POAはポリオキシアルキレン鎖、PSはシ
リコーン基、Raは2価の炭化水素基、Rbは1価の炭化
水素基、Rcは水素原子または1価の炭化水素基であ
る。)
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、主鎖が
ポリオキシアルキレンであり、側鎖がシリコーン基であ
るようなポリオキシアルキレン化合物は知られていな
い。本発明の目的は、主鎖がポリオキシアルキレンであ
り、側鎖に1つ以上のシリコーン基を有するポリオキシ
アルキレン化合物を提供することであり、これにより、
従来のものと異なる特性を有する新規かつ有用なシリコ
ーン基含有ポリオキシアルキレン化合物を得ることがで
きる。
【0008】
【課題を解決するための手段】オルガノヒドロシランは
不飽和炭化水素基と付加反応し、炭素−ケイ素結合が生
成することが知られている。本発明者らは、予め主鎖で
あるポリオキシアルキレンの側鎖に炭素−炭素不飽和結
合を導入した後、このオルガノヒドロシランの反応を利
用して、容易かつ高収率で側鎖にシリコーン基の導入が
可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0009】すなわち、本発明は、下記式(1)で示さ
れるシリコーン基含有ポリオキシアルキレン化合物であ
る。
【化7】 〔ただし、Zは2〜8個の水酸基を持つ化合物の残基、
1は炭素数1〜24のアルキル基、炭素数7〜24の
アラルキル基、炭素数6〜24のアリール基、または炭
素数2〜24のアシル基、A1O、A2Oは炭素数2〜2
2の1種または2種以上のオキシアルキレン基、B
1O、B2Oは式(2)で示される1種または2種以上の
基、
【化8】 (ただし、R2は炭素数2〜5のアルケニル基であ
る。)C1O、C2Oは式(3)で示される1種または2
種以上の基であり、
【化9】 (ただし、Xは炭素数2〜5のアルキレン基、Yは式
(4)で示されるシリコーン基である。)
【化10】 (ただし、R3は炭素数1〜24の炭化水素基で同一で
も異なっていても良く、0≦r≦3000である。) A1OとB1OとC1OおよびA2OとB2OとC2Oはそれ
ぞれ任意の順序でブロック状に付加していてもランダム
状に付加していても良い。mは0〜8の整数、nは0〜
8の整数でm+n=2〜8を満足し、0≦a,0≦b,
0≦i,0≦j,0≦p,0≦qで、かつam+bn=
1〜1500,im+jn=0〜100,pm+qn=
1〜100を満足する。〕
【0010】式(1)において、Zを残基とする2〜8
個の水酸基を持つ化合物としては、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチ
レングリコール、ドデシレングリコール、オクタデシレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、
ジグリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン、1,3,5−ペンタント
リオール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジ
ペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビタン、ソ
ルバイド、ソルビトール−グリセリン縮合物、アドニト
ール、アラビトール、キシリトール、マンニトール等の
多価アルコール;キシロース、アラビノース、リボー
ス、ラムノース、グルコース、フルクトース、ガラクト
ース、マンノース、ソルボース、セロビオース、マルト
ース、イソマルトース、トレハロース、シュークロー
ス、ラフィノース、ゲンチアノース、メレジトース等の
糖類:さらにそれらの部分エーテル化物や部分エステル
化物;カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、フロロ
グルシン等の多価フェノール、スチレングリコール等の
芳香族系アルコール等があげられる。
【0011】式(1)においてR1で示される炭素数1
〜24のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第
三ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル
基、イソヘプチル基、2−エチルヘキシル基、オクチル
基、イソノニル基、デシル基、ドデシル基、イソトリデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、イソセチル
基、オクタデシル基、イソステアリル基、オクチルドデ
シル基、ドコシル基、デシルテトラデシル基等があげら
れる。またR1で示される炭素数7〜24のアラルキル
基としてはベンジル基、フェネチル基等があげられる。
またR1で示される炭素数6〜24のアリール基として
はフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル
基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピ
ルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ブチルフェニ
ル基、ジブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニ
ルフェニル基、ドデシルフェニル基、ジオクチルフェニ
ル基、ジノニルフェニル基等があげられる。さらにR1
で示される炭素数2〜24のアシル基としては、酢酸、
プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、カプリル酸、2−エチ
ルヘキシル酸、イソノナン酸、カプリン酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、イソパルミチン酸、
ステアリン酸、イソステアリン酸、アラキン酸、ベヘン
酸、パルミトレイン酸、安息香酸、ヒドロキシ安息香
酸、桂皮酸、没食子酸等に由来するアシル基があげられ
る。
【0012】式(1)においてA1O、A2Oで示される
炭素数2〜22のオキシアルキレン基としては、オキシ
エチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン基、
オキシトリメチレン基、オキシテトラメチレン基、オキ
シスチレン基、オキシノニレン基、オキシデシレン基、
オキシウンデシレン基、オキシドデシレン基、オキシト
リデシレン基、オキシテトラデシレン基、オキシペンタ
デシレン基、オキシオクタデシレン基、オキシイコシレ
ン基、オキシドコシレン基等があげられる。
【0013】式(2)においてR2で示される炭素数2
〜5のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、3
−ブテニル基、メタリル基、2−メチル−3−ブテニル
基、3−メチル−3−ブテニル基、1,1−ジメチル−
2−プロペニル基等の重合性不飽和結合を有するものが
あげられる。
【0014】式(3)においてXで示される炭素数2〜
5のアルキレン基としては、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、2−メチルトリメチレン基、2
−メチルテトラメチレン基、1,1−ジメチルトリメチ
レン基等があげられる。これらの中で好ましいのは、ト
リメチレン基、2−メチルトリメチレン基である。式
(3)で表わされる基としては、前記式(2)のR2
示されるアルケニル基の不飽和結合に、後述の式(1
0)のジオルガノヒドロポリシロキサンが付加したもの
があげられる。
【0015】式(4)においてR3で示される炭素数1
〜24の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、
第三ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル
基、イソヘプチル基、2−エチルヘキシル基、オクチル
基、イソノニル基、デシル基、ドデシル基、イソトリデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、イソセチル
基、オクタデシル基、イソステアリル基、オクチルドデ
シル基、ドコシル基、デシルテトラデシル基、ベンジル
基、フェネチル基、フェニル基、メチルフェニル基、ジ
メチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェ
ニル基、プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、ジブチルフェニル基、オクチル
フェニル基、ノニルフェニル基、ドデシルフェニル基、
ジオクチルフェニル基、ジノニルフェニル基等があげら
れる。この中では炭素数1〜20のアルキル基または炭
素数6〜20のアリール基が好ましく、より好ましいの
はメチル基およびフェニル基、最も好ましいのはメチル
基である。
【0016】式(1)において、A1O、A2Oの炭素数
は2〜22の範囲で任意に選択でき、これにより化合物
の親水性、油溶性を調節することができる。また式
(1)において、A1O、B1O、C1O、A2O、B
2O、C2Oはそれぞれ同一のものでもよく、また2種以
上の異なるものが混在していてもよい。
【0017】式(4)において、R3は同一のもので
も、異なるものでもよい。またrは、0≦r≦3000
を満足するが、好ましくは1≦r≦800、より好まし
くは2≦r≦150である。rの値が3000を超える
と化合物の粘度が高くなり、また疎水性が強くなりすぎ
るので好ましくない。本発明においては、r=0および
1の場合も含めて、式(4)の基をシリコーン基と総称
する。
【0018】式(1)において、am+bnは1〜15
00を満足するが、好ましくは1〜850、より好まし
くは2〜220である。am+bnの値が1500を超
えると化合物の粘度が高くなり、また、シリコーン基の
特長である撥水性、柔軟性等が発現しにくくなるので好
ましくない。im+jnは0〜100を満足するが、好
ましくは0〜30、より好ましくは0〜10である。i
m+jnの値が100を超えると化合物の経時安定性が
低下するので好ましくない。pm+qnは1〜100を
満足するが、好ましくは1〜50、より好ましくは2〜
25である。pm+qnの値が100を超えると化合物
の粘度が高くなり、また疎水性が強くなりすぎるので好
ましくない。
【0019】本発明の化合物は、下記式(9)の化合物
と式(10)の化合物を溶媒の存在下あるいは無溶媒に
おいて、公知の方法で反応させることにより製造するこ
とができる。
【化11】 (ただし、Z、R1、A1O、B1O、A2O、B2O、
a、b、i、j、p、q、m、nは前記と同じものを示
し、A1OとB1OおよびA2OとB2Oはそれぞれ任意の
順序でブロック状に付加していてもランダム状に付加し
ていても良い。)
【化12】 (ただし、R3、rは前記と同じものを示す。)
【0020】式(10)で示される化合物はオルガノヒ
ドロ(ポリ)シロキサンであり、その中にはr=0のト
リオルガノシラン、r=1のペンタオルガノジシロキサ
ン、r=2以上のポリオルガノポリシロキサンを含む。
式(10)の化合物の具体的な例としては、トリメチル
シラン、トリフェニルシラン、ジメチルフェニルシラ
ン、ペンタメチルジシロキサン、1,1,1−トリメチ
ル−3,3−ジフェニルジシロキサン、1,1,1,3
−テトラメチル−3−フェニルジシロキサン、ヘプタメ
チルトリシロキサン、1,1,1,5,5−ペンタメチ
ル−3,3−ジフェニルトリシロキサン、ヘプタフェニ
ルトリシロキサン、ノナメチルテトラシロキサン、ノナ
フェニルテトラシロキサン、r=14のシリリジン基片
末端ポリジメチルシロキサン、r=14のシリリジン基
片末端ポリジフェニルシロキサン、r=68のシリリジ
ン基片末端ポリジメチルシロキサン、r=68のシリリ
ジン基片末端ポリメチルフェニルシロキサンであって、
3=メチル/フェニル=1/1(モル比)の化合物、
r=135のシリリジン基片末端ポリジメチルシロキサ
ン、r=135のシリリジン基片末端ポリメチルフェニ
ルシロキサンであって、R3=メチル/フェニル=3/
2(モル比)の化合物、r=150のシリリジン基片末
端ポリジメチルシロキサン、r=150のシリリジン基
片末端ポリメチルフェニルシロキサンであって、R3
メチル/フェニル=7/3(モル比)の化合物、r=5
00のシリリジン基片末端ポリジメチルシロキサン、r
=800のシリリジン基片末端ポリジメチルシロキサ
ン、r=800のシリリジン基片末端ポリメチルフェニ
ルシロキサンであって、R3=メチル/フェニル=4/
1(モル比)の化合物、r=1500のシリリジン基片
末端ポリジメチルシロキサン、r=2000のシリリジ
ン基片末端ポリジメチルシロキサン、r=2000のシ
リリジン基片末端ポリメチルフェニルシロキサンであっ
て、R3=メチル/フェニル=9/1(モル比)の化合
物、r=3000のシリリジン基片末端ポリジメチルシ
ロキサン等があげられる。
【0021】本発明の化合物を製造する際に、式(9)
の化合物と式(10)の化合物との反応比は任意の割合
が可能であり、式(9)のi+p,j+qにより不飽和
基数が変化するため特定できないが、一般的には式
(9)の化合物のアルケニル基を基準とした当量数当た
り、式(10)の化合物の当量比が0.1〜10、好ま
しくは0.17〜5の範囲内とするのが適当である。当
量比が1未満の場合、得られる式(1)の化合物のB1
OとC1OおよびB2OとC2Oの順序はそれぞれランダ
ム状となる。またさらにA1O、A2Oを付加した後、B
1O、B2Oを予めブロック状に付加し、続いて式(1
0)のシリコーン化合物を反応させて、B1O、B2Oを
全てC1OおよびC2Oとした後、酸触媒等を用いて末端
の水酸基に対して例えば、アルケニルグリシジルエーテ
ルをブロック状に付加させることにより、ブロック状の
式(1)の化合物を得ることができる。また、ブロック
状にB1OおよびB2Oを付加した物質と、ブロック状に
1OおよびC2Oを付加した物質とを予め合成してお
き、どちらか一方の物質の末端水酸基をp−トルエンス
ルホニルクロリドでトシル化し、もう一方の物質の末端
水酸基と反応させてエーテル結合を形成することによ
り、B1OとC1OおよびB2OとC2Oをブロック状に付
加させることもできる。
【0022】式(10)の化合物の当量比が0.1未満
の場合にはシリコーン基の含有率が低下し、10を越え
ると未反応の式(10)の化合物が過剰に存在するよう
になるので精製が困難になり好ましくない。また、式
(9)の化合物の分子量、およびi+p,j+qの値す
なわちアルケニル基の割合、ならびに式(10)の化合
物の仕込み当量比を調節することにより、得られる式
(1)の化合物の分子量およびシリコーン基の含有率を
調節することができる。すなわち、式(9)の化合物の
分子量を低くし、アルケニル基の割合を多くし、式(1
0)の化合物の仕込み当量比を多くすれば、分子量が低
くシリコーン基含有率が高い式(1)の化合物が得ら
れ、式(9)の化合物の分子量を高くし、アルケニル基
の割合を少なくし、式(10)の化合物の仕込み当量比
を少なくすれば、分子量が高くシリコーン基含有率が低
い式(1)の化合物が得られ、式(9)の化合物の分子
量を低くし、アルケニル基の割合を少なくし、式(1
0)の化合物の仕込み当量比を少なくすれば、分子量が
小さくシリコーン基含有率が低い式(1)の化合物が得
られ、式(9)の化合物の分子量を高くし、アルケニル
基の割合を多くし、式(10)の化合物の仕込み当量比
を多くすれば、分子量が高くシリコーン基含有率が高い
式(1)の化合物が得られる。
【0023】式(9)の化合物は、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム等のアルカリ金属の水酸化物;ナトリウ
ムメトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド;三フッ
化硼素、四塩化錫等のルイス酸触媒を用いて、1分子当
たり2〜8個の水酸基を持つ化合物に対してアリルグリ
シジルエーテル等のアルケニルグリシジルエーテルとア
ルキレンオキシドをブロック状あるいはランダム状に開
環重合させることにより得ることができる。この時、ア
ルケニルグリシジルエーテルとアルキレンオキシドの混
合比を調節することにより、式(9)のアルケニル基の
数を調節することができる。
【0024】式(9)の化合物中には、式(10)の化
合物と反応するために少なくとも1個以上のR2が必要
である。R2の炭素数は2〜5であり、式(10)の化
合物のシリリジン基との反応性に関係があり、5より大
きいと反応性は乏しくなるので好ましくない。式(9)
におけるA1O、A2Oは炭素数2〜22の範囲で任意に
選択でき、これにより化合物の親水性、油溶性を調節す
ることができる。
【0025】式(9)の化合物の炭素−炭素二重結合と
式(10)の化合物のシリリジン基を容易に反応させ高
収率で式(1)の化合物を得るため、通常は触媒を使用
する。触媒としては、ニッケル、ルテニウム、ロジウ
ム、パラジウム、イリジウム、白金等の第VIII族遷移金
属あるいはそれらの化合物が用いられる。化合物の具体
的な例としては、クロロ錯体、オレフィン錯体、アルデ
ヒド錯体、ケトン錯体、ホスフィン錯体、スルフィド錯
体、ニトリル錯体があげられる。その他、過酸化物、ア
ミン、ホスフィン等も用いられる。また、紫外線やγ線
を用いることもできる。これらのうち好ましいのは白金
黒、塩化白金酸、あるいは白金のオレフィン錯体、アル
デヒド錯体、ケトン錯体等の白金系触媒であり、最も好
ましいのは塩化白金酸である。その理由は、塩化白金酸
が入手しやすく、またそのアルコール溶液が均一系触媒
のため取扱いが簡便であり、しかも反応時の収率が良い
ためである。
【0026】式(9)の化合物と(10)の化合物の反
応温度は特に限定されないが、20〜160℃の範囲、
好ましくは60〜120℃の範囲である。20℃より低
いと反応時間が長くなり、160℃より高いと反応時の
圧力が高くなって操作が煩雑になるので好ましくない。
反応時間は仕込みモル比や反応温度により異なるが、3
0分〜40時間の範囲で行うのが通常である。また、反
応圧力は温度にもよるが、通常常圧で行うのが好まし
い。
【0027】この反応に際して溶媒は特に必要としない
が、原料や製品の化合物の粘度を下げて攪拌を容易にし
たり、取扱いやすくしたりして、反応をより円滑に行う
ため溶媒を用いることができる。溶媒としては、メタノ
ール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノー
ル、1−ブタノール等の脂肪族アルコール系溶媒;トル
エン、キシレン等の芳香族系溶媒;ジクロロエタン、ク
ロロホルム等のハロゲン系溶媒;メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒;N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等
のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド等の含硫黄溶媒
など、種々の溶媒が使用できる。これらの溶媒を使用す
る場合、溶媒量は反応温度、式(9)の化合物および式
(10)の化合物の構造、溶媒の種類により異なるが、
多すぎると精製に時間がかかるため、通常、式(9)の
化合物と式(10)の化合物の合計量に対して0〜50
0重量%の範囲とするのが好ましい。
【0028】本発明の化合物は、式(9)におけるZ、
1、A1O、B1O、A2O、B2O、m、n、a、b、
i、j、p、q、および式(10)におけるR3、r、
ならびに式(9)の化合物のアルケニル基基準当量当た
りの式(10)の化合物のモル比などを適当に変化させ
ることにより、低粘度から高粘度、低融点から高融点、
油溶性から水溶性等、種々の形態の用途に使用できる。
【0029】
【発明の効果】本発明の化合物は骨格中の側鎖に1つ以
上のシリコーン基を持つ新規なポリオキシアルキレン化
合物であり、同一分子内にオキシアルキレン基部分とシ
リコーン基部分を分散した状態で持ち、しかもこれらの
比および分布を自由に調節できるため、種々の物性を有
する化合物を得ることができる。そのため、洗浄剤、乳
化分散剤、建材シーリング用原料、医療用原料、ポリウ
レタンフォーム用整泡剤、化粧品原料、繊維処理剤、塗
料添加剤、インク用添加剤、プラスチック添加剤、防曇
剤、消泡剤、潤滑剤等に利用することができ、有用であ
る。
【0030】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明する。 製造例1 ジエチレングリコール53.0g(0.5mol)と水
酸化カリウム4.0gを5リットル容オートクレーブに
仕込み、系内で窒素で置換した後、攪拌しつつ100℃
まで昇温した。次いで、アリルグリシジルエーテル67
3g(5.9mol)とエチレンオキシド1470g
(33.4mol)を計量槽に計り取り、均一になるま
で混合した。100〜150℃、10kg/cm2以下
の条件で、計量槽よりアリルグリシジルエーテルとエチ
レンオキシド混合物を8時間かけて圧入した後、さらに
1時間反応を続けた。次に、窒素を通じながら減圧下
(100mmHg)で2時間、未反応のアリルグリシジ
ルエーテルとエチレンオキシドを除去した後、60℃ま
で冷却した。その後、10%塩酸で系のpHを7.0に
調整し、100℃、100mmHg以下で1時間脱水を
行った。系を80℃まで冷却し、析出した塩を濾別して
化合物2072gを得た。得られた化合物の水酸基価は
26.8mgKOH/g、不飽和度は2.57meq.
/gであった。出発原料、反応条件、分析値より、表1
のNo.1に示す式(9)の化合物であることを確認し
た。分析値を表2に示す。
【0031】
【表1】
【0032】
【表2】
【0033】なお、水酸基価はJIS K 1557
6.4(1970)に、不飽和度はJIS K 155
7 6.7(1970)に準じて分析を行った。なお、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの測定条件は
次の通りである。 機種 :Shodex GPC SYSTEM−11 サンプル量:0.15%×100μl カラム :Shodex KF−801,KF−803,KF−804 カラム寸法:内径8mm×長さ30cm×3本 展開溶媒 :テトラヒドロフラン 流速 :1.0ml/min カラム温度:40℃ 検出器 :示差屈折率検出器 Shodex RI−71
【0034】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
による測定結果は次の通りであった。 数平均分子量(Mn) =約3900 重量平均分子量(Mw)=約4100 多分散度(Mw/Mn)=1.04 赤外吸収スペクトルによる測定結果は次の通りであっ
た。 1100cm-1 C−O−C 1640cm-1 C=C1 H−核磁気共鳴スペクトルによる測定結果は次の通り
であった。 δ=5.2 =CH2 δ=5.9 −CH=
【0035】製造例2 グリセリン92.1g(1.0mol)と水酸化ナトリ
ウム6.0gを5リットル容オートクレーブに仕込み、
系内を窒素で置換した後、攪拌しつつ100℃まで昇温
した。次いで、エチレンオキシド696g(15.8m
ol)を100〜150℃、10kg/cm2以下の条
件で4時間かけて圧入した後、さらに1時間反応を続け
た。続いて、アリルグリシジルエーテル718g(6.
3mol)とプロピレンオキシド1648g(28.4
mol)を計量槽に計り取り、均一になるまで混合し
た。100〜150℃、10kg/cm2以下の条件
で、計量槽よりアリルグリシジルエーテルとプロピレン
オキシド混合物を8時間かけて圧入した後、さらに1時
間反応を続けた。次に、窒素を通じながら減圧下(10
0mmHg)で2時間、未反応のアリルグリシジルエー
テルとエチレンオキシドを除去した後、60℃まで冷却
した。その後、10%塩酸で系のpHを7.0に調整
し、100℃、100mmHg以下で1時間脱水を行っ
た。系を80℃まで冷却し、析出した塩を濾別して化合
物2970gを得た。得られた化合物の水酸基価は5
7.2mgKOH/g、不飽和度は1.98meq./
gであり、同様に表1のNo.2に示す式(9)の化合
物であることを確認した。分析値は表2に示す。
【0036】製造例3 製造例2の化合物2100g(0.71mol)とナト
リウムメトキシド230g(4.3mol)を5リット
ル容オートクレーブに仕込んだ。系内を窒素で置換した
後、攪拌しつつ100℃まで昇温し、100mmHg以
下で1時間アルコラート化を行った。窒素によって系内
を常圧にした後、系内の圧力が1kg/cm2になるよ
うに調節してボンベより塩化メチルを圧入しながら、1
00℃で7時間保持した。次に、窒素を通じながら60
℃まで冷却しつつ過剰の塩化メチルを留去した。その
後、10%塩酸で系のpHを7.0に調製し、100
℃、100mmHg以下で1時間脱水を行った。系を8
0℃まで冷却し、析出した塩を濾別して化合物1900
gを得た。得られた化合物の水酸基価は1.3mgKO
H/g、不飽和度は1.95meq./gであり、同様
に表1のNo.3に示す式(9)の化合物であることを
確認した。分析値は表2に示す。
【0037】製造例4 ジエチレングリコール21.2g(0.2mol)、水
酸化カリウム4.8g、メタリルグリシジルエーテル8
07g(6.3mol)、エチレンオキシド1832g
(41.6mol)を用いて、製造例1と同様の手法に
より、表1に示すNo.4の化合物を得た。分析値は表
2に示す。
【0038】製造例5 ジグリセリン16.6g(0.1mol)、水酸化カリ
ウム5.5g、アリルグリシジルエーテル240g
(2.1mol)、エチレンオキシド2775g(6
3.0mol)を用いて、製造例1と同様の手法によ
り、表1のNo.5に示す式(9)の化合物を得た。分
析値は表2に示す。
【0039】製造例6 ノニルフェノール440.7g(2.0mol)、水酸
化カリウム4.6g、アリルグリシジルエーテル119
8g(10.5mol)、エチレンオキシド897g
(20.4mol)を用いて、製造例1と同様の手法に
より、表1のNo.6に示す式(9)の化合物を得た。
分析値は表2に示す。
【0040】製造例7 ジエチレングリコール159.2g(1.5mol)、
テトラヒドロフラン730.1g(10.1mol)、
トルエン260g、および三フッ化ホウ素−ジエチルエ
ーテル錯体8.3gを仕込み、系内を窒素で置換した
後、攪拌しつつ40℃まで昇温した。次いで、アリルグ
リシジルエーテル899g(7.9mol)とエチレン
オキシド555g(12.6mol)を計量槽に計り取
り、均一になるまで混合した。40〜60℃、10kg
/cm2以下の条件で、計量槽よりアリルグリシジルエ
ーテルとエチレンオキシド混合物を8時間かけて圧入し
た後、さらに2時間反応を続けた。酸吸着剤(商品名キ
ョーワード500、協和化学工業(株)社製、商標)3
7gを加えてから、窒素を通じながら減圧下(100m
mHg)で4時間、トルエン、未反応のテトラヒドロフ
ラン、アリルグリシジルエーテルおよびエチレンオキシ
ドを除去し、続いて吸着剤を濾別した。生成物を2リッ
トル容4つ口フラスコに入れ、酢酸ナトリウム17.1
g、無水酢酸337g(3.3mol)を仕込んだ。系
内を窒素で置換した後、攪拌しつつ70〜80℃で3時
間エステル化を行った。その後、48%水酸化ナトリウ
ム水溶液で生成した酢酸および過剰の無水酢酸を中和
し、100℃、100mmHg以下で1時間脱水を行っ
た。系を80℃まで冷却し、析出した塩を濾別して化合
物1850gを得た。得られた化合物の水酸基価は0.
3mgKOH/g、不飽和度は3.40meq./gで
あり、同様に表1のNo.7に示す式(9)の化合物で
あることを確認した。分析値は表2に示す。
【0041】実施例1 1リットル容四ツ口フラスコに攪拌装置、冷却管、滴下
漏斗および窒素導入管を取り付け、式(9)の化合物と
して製造例1の化合物119.9g(0.029mo
l)、2−プロパノール140.0g、および塩化白金
酸の2−プロパノール溶液(1×10-3mol/l)1
3.36mlを仕込んだ。窒素雰囲気下で攪拌しつつ8
0℃まで昇温し、式(10)の化合物としてシリリジン
基片末端ポリジメチルシロキサン(H当量=1087g
/mol)363.0g(0.33mol)を2時間か
けて滴下した。滴下終了後、80℃で4時間反応を行っ
た。反応終了後、酸吸着剤(商品名キョーワード30
0、協和化学工業(株)社製)2.0gを加えてから揮
発分を減圧留去し、続いて吸着剤を濾別することによっ
て目的の化合物421.5gを得た。得られた化合物の
水酸基価は6.7mgKOH/g、不飽和度は0.00
meq./g、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーにより測定した数平均分子量(Mn)は約1510
0、重量平均分子量(Mw)=約16700、多分散度
(Mw/Mn)は1.11であった。反応条件、分析
値、赤外吸収スペクトル、生成物の構造をそれぞれ表
3、表4、表5、表6に示す。
【0042】
【表3】
【0043】
【表4】
【0044】
【表5】
【0045】
【表6】
【0046】
【表7】
【0047】
【表8】
【0048】
【表9】
【0049】
【表10】
【0050】実施例2 1リットル容四ツ口フラスコに攪拌装置、冷却管、滴下
漏斗および窒素導入管を取り付け、式(9)の化合物と
して製造例1の化合物38.9g(0.0093mo
l)、2−プロパノール165.0g、および塩化白金
酸の2−プロパノール溶液(1×10-3mol/l)
4.00mlを仕込んだ。窒素雰囲気下で攪拌しつつ8
0℃まで昇温し、式(10)の化合物としてシリリジン
基片末端ポリジメチルシロキサン(H当量=5150g
/mol)515.0g(0.10mol)を1時間か
けて滴下した。滴下終了後、80℃で6時間反応を行っ
た。反応終了後、酸吸着剤(商品名キョーワード30
0、協和化学工業(株)社製)2.0gを加えてから揮
発分を減圧留去し、続いて吸着剤を濾別することによっ
て目的の化合物509.5gを得た。得られた化合物の
水酸基価は1.9mgKOH/g、不飽和度は0.01
meq./gであった。反応条件、分析値、赤外吸収ス
ペクトル、生成物の構造を表3〜6に示す。
【0051】実施例3 1リットル容四ツ口フラスコに攪拌装置、冷却管、滴下
漏斗および窒素導入管を取り付け、式(9)の化合物と
して製造例1の化合物22.3g(0.0053mo
l)、2−プロパノール180.0g、および塩化白金
酸の2−プロパノール溶液(1×10-3mol/l)
2.29mlを仕込んだ。窒素雰囲気下で攪拌しつつ8
0℃まで昇温し、式(10)の化合物としてシリリジン
基片末端ポリジメチルシロキサン(H当量=10100
g/mol)577.7g(0.057mol)を1時
間かけて滴下した。滴下終了後、80℃で6時間反応を
行った。反応終了後、酸吸着剤(商品名キョーワード3
00、協和化学工業(株)社製)2.0gを加えてから
揮発分を減圧留去し、続いて吸着剤を濾別することによ
って目的の化合物534.3gを得た。得られた化合物
の水酸基価は0.9mgKOH/g、不飽和度は0.0
1meq./gであった。反応条件、分析値、赤外吸収
スペクトル、生成物の構造を表3〜6に示す。
【0052】実施例4〜9 以下同様にして、式(9)の化合物として表1に示す製
造例No.2〜7の各化合物を、表3に示す反応条件
で、式(10)の化合物としてのシリリジン基片末端ポ
リジメチルシロキサンと塩化白金酸触媒存在下で反応さ
せた。反応条件、分析値、赤外吸収スペクトル、生成物
の構造を表3〜6に示す。実施例1〜9より、側鎖にシ
リコーン基を含有するポリオキシアルキレン化合物が得
られたことがわかる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記式(1)で示されるシリコーン基含
    有ポリオキシアルキレン化合物。 【化1】 〔ただし、Zは2〜8個の水酸基を持つ化合物の残基、
    1は炭素数1〜24のアルキル基、炭素数7〜24の
    アラルキル基、炭素数6〜24のアリール基、または炭
    素数2〜24のアシル基、A1O、A2Oは炭素数2〜2
    2の1種または2種以上のオキシアルキレン基、B
    1O、B2Oは式(2)で示される1種または2種以上の
    基、 【化2】 (ただし、R2は炭素数2〜5のアルケニル基であ
    る。) C1O、C2Oは式(3)で示される1種または2種以上
    の基であり、 【化3】 (ただし、Xは炭素数2〜5のアルキレン基、Yは式
    (4)で示されるシリコーン基である。) 【化4】 (ただし、R3は炭素数1〜24の炭化水素基で同一で
    も異なっていても良く、0≦r≦3000である。) A1OとB1OとC1OおよびA2OとB2OとC2Oはそれ
    ぞれ任意の順序でブロック状に付加していてもランダム
    状に付加していても良い。mは0〜8の整数、nは0〜
    8の整数でm+n=2〜8を満足し、0≦a,0≦b,
    0≦i,0≦j,0≦p,0≦qで、かつam+bn=
    1〜1500,im+jn=0〜100,pm+qn=
    1〜100を満足する。〕
  2. 【請求項2】 R3が炭素数1〜20のアルキル基また
    は炭素数6〜20のアリール基である請求項1記載のシ
    リコーン基含有ポリオキシアルキレン化合物。
JP30897094A 1994-12-13 1994-12-13 シリコーン基含有ポリオキシアルキレン化合物 Pending JPH08165349A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30897094A JPH08165349A (ja) 1994-12-13 1994-12-13 シリコーン基含有ポリオキシアルキレン化合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30897094A JPH08165349A (ja) 1994-12-13 1994-12-13 シリコーン基含有ポリオキシアルキレン化合物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08165349A true JPH08165349A (ja) 1996-06-25

Family

ID=17987417

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30897094A Pending JPH08165349A (ja) 1994-12-13 1994-12-13 シリコーン基含有ポリオキシアルキレン化合物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08165349A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090238781A1 (en) * 2008-03-21 2009-09-24 Koji Sakuta Polyglycerin-modified silicone and a cosmetic comprising the same
JP2013028745A (ja) * 2011-07-29 2013-02-07 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 新規なブロック型オルガノポリシロキサン及びこれを含有する化粧料
JP2015515514A (ja) * 2012-03-22 2015-05-28 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド 親水性マクロマーおよびそれを含むヒドロゲル

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090238781A1 (en) * 2008-03-21 2009-09-24 Koji Sakuta Polyglycerin-modified silicone and a cosmetic comprising the same
JP2013028745A (ja) * 2011-07-29 2013-02-07 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 新規なブロック型オルガノポリシロキサン及びこれを含有する化粧料
JP2015515514A (ja) * 2012-03-22 2015-05-28 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド 親水性マクロマーおよびそれを含むヒドロゲル

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1167453B1 (en) Curable fluoropolyether rubber compositions
EP1033387B1 (en) Curable fluoropolyether base rubber compositions
US8283422B2 (en) Polyethersiloxanes carrying alkoxysilyl groups and method for production thereof
CN112011061A (zh) 基于SiOC的聚醚硅氧烷
US20020091219A1 (en) Certain silicone polyethers, methods for making them and uses
CA2818441A1 (en) Silicone polyethers and preparation thereof from polythers bearing methylidene groups
JP2009532524A (ja) シリコーンポリエーテルの製造方法
EP1170320B1 (en) Curable fluoropolyether base rubber compositions
EP1217025B1 (en) Curable fluoropolyether base rubber compositions
EP1172415B1 (en) Curable fluoropolyether rubber compositions
EP0688762B1 (en) Organic fluorine compounds and curable compositions containing them
JPH08165349A (ja) シリコーン基含有ポリオキシアルキレン化合物
JP7306334B2 (ja) パーフルオロポリエーテルブロックを有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及びその製造方法
JP2954602B2 (ja) 加水分解性珪素基含有ポリオキシアルキレン重合体の製造方法
JP3700250B2 (ja) ポリオキシアルキレントリグリセリルエーテル化合物及び変性シリコーン化合物並びにそれらの製造方法
JPH10279692A (ja) シロキサンブロックコポリマー及びその使用
US20020137842A1 (en) Curable fluoropolyether base rubber compositions
KR19980033364A (ko) 반응성 불포화 관능성을 갖는 폴리부틸렌
JPH10279691A (ja) ブロックコポリマーおよびその使用
JP3537525B2 (ja) アミノ基含有ポリオキシアルキレン化合物
JPH09328540A (ja) アルケニル基含有ポリオキシアルキレン化合物
JP4718044B2 (ja) 有機変性シリコーンからなる摩擦低減剤およびその製造方法
JP3525810B2 (ja) 硬化性液状フルオロポリエーテル系ゴム組成物の製造方法
JP3529951B2 (ja) カチオン化含フッ素ポリエーテル及びその製造方法
JPH08134203A (ja) ポリアルキレンオキシド誘導体の製造法および組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040422

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040427

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040831