JPH08162385A - Stage device and driving method thereof - Google Patents

Stage device and driving method thereof

Info

Publication number
JPH08162385A
JPH08162385A JP29814094A JP29814094A JPH08162385A JP H08162385 A JPH08162385 A JP H08162385A JP 29814094 A JP29814094 A JP 29814094A JP 29814094 A JP29814094 A JP 29814094A JP H08162385 A JPH08162385 A JP H08162385A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
acceleration
guide
output section
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29814094A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kaoru Omori
薫 大森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP29814094A priority Critical patent/JPH08162385A/en
Publication of JPH08162385A publication Critical patent/JPH08162385A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

Abstract

PURPOSE: To enhance a stage device in device or wafer processing throughput by a method wherein a Y stage is changed in acceleration depending on the direction in which it is accelerated. CONSTITUTION: The output section 13 of a stage device outputs a power to accelerate a Y stage 5 in a first direction, and an output section 14 outputs a power to accelerate the Y stage in a second direction. A main control system 9 selects either the output section 13 or the output section 14 by a switch 15 in accordance with the direction in which the Y stage 5 is driven to drive a Y axis drive section 10 to accelerate and move the Y stage 5. Next, the power outputted from the output section 13 or the output section 14 is so set as to accelerate the Y stage 5 to such an extent that an X stage 4 is restrained from jumping up from the surface of a V guide 11. As the V guide 11 is located out of the center of gravity of the X stage 4, the upper limit of the acceleration of the Y stage 5 in the first direction is smaller than that in the second direction, and the acceleration of the Y stage 5 is capable of being set relatively higher in the second direction.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、V−フラットガイド面
を持ち、水平面内を直交する2方向にそれぞれ移動する
X、Yステージを積み重ねてなるステージ装置に関す
る。この装置は、特に半導体露光装置に有用である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stage device having a V-flat guide surface and stacking X and Y stages which move in two directions orthogonal to each other in a horizontal plane. This apparatus is particularly useful for a semiconductor exposure apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体露光装置や各種検査装置は、感光
基板(ウェハ)やデバイス等を載置して水平面内を自由
に移動させるステージ装置を有している。これにより、
例えばステップアンドリピート方式、又はステップアン
ドスキャン方式によりウェハ上の複数のショット領域に
マスク又はレチクルのパターンを順次露光していく。
2. Description of the Related Art A semiconductor exposure apparatus and various inspection apparatuses have a stage device on which a photosensitive substrate (wafer), devices, etc. are mounted and which is freely movable in a horizontal plane. This allows
For example, a pattern of a mask or a reticle is sequentially exposed on a plurality of shot areas on a wafer by a step-and-repeat method or a step-and-scan method.

【0003】図5は、ステージ装置の構造と制御系を示
す。マスク1上のパターンは、投影光学系2を介してウ
ェハ3上のレジスト層に露光される。ウェハ3はXステ
ージ4上に載置されている。Xステージ4は、Vガイド
11とフラットガイド12を介してYステージ5上に載
置されている。Yステージ5は、Vガイド11とフラッ
トガイド12を介してベース6上に載置されている。Y
ステージ5はY軸駆動部10によって、Vガイド11に
沿ってY軸方向(図5の紙面内左右方向)に移動する事
ができる。また、Xステージ4は、X軸駆動部(不図
示)によってVガイド11に沿ってX軸方向(図5の紙
面に垂直な方向)に移動することができる。
FIG. 5 shows the structure and control system of the stage device. The pattern on the mask 1 is exposed on the resist layer on the wafer 3 via the projection optical system 2. The wafer 3 is placed on the X stage 4. The X stage 4 is mounted on the Y stage 5 via the V guide 11 and the flat guide 12. The Y stage 5 is placed on the base 6 via the V guide 11 and the flat guide 12. Y
The stage 5 can be moved along the V guide 11 in the Y-axis direction (left-right direction on the paper surface of FIG. 5) by the Y-axis drive unit 10. Further, the X stage 4 can be moved along the V guide 11 in the X axis direction (direction perpendicular to the paper surface of FIG. 5) by the X axis drive unit (not shown).

【0004】Xステージ4上には、XステージのY軸方
向の位置を検出するために移動鏡7が設置されている。
移動鏡7に干渉計8のレーザを照射して、反射光を干渉
計8が検出することによって、Y軸方向の位置が検出さ
れる。X軸方向の位置も同様に移動鏡(不図示)が設け
られており、干渉計(不図示)によって位置検出が行わ
れる。干渉計の位置情報は、主制御系9に入力される。
主制御系9は、目標位置の座標位置が入力されるとXス
テージ4の現在位置との偏差を演算し、その偏差に応じ
て、主制御系9はY軸駆動部10、X軸駆動部を制御し
て、Xステージ4を目標位置に移動させる。主制御系9
は、目標位置への移動中も随時、干渉計からXステージ
4の位置をモニターして、Xステージ4の速度を制御す
る。
A movable mirror 7 is installed on the X stage 4 to detect the position of the X stage in the Y-axis direction.
The position of the moving mirror 7 in the Y-axis direction is detected by irradiating the moving mirror 7 with the laser beam of the interferometer 8 and detecting the reflected light by the interferometer 8. Similarly, a movable mirror (not shown) is also provided at the position in the X-axis direction, and the position is detected by an interferometer (not shown). The position information of the interferometer is input to the main control system 9.
When the coordinate position of the target position is input, the main control system 9 calculates the deviation from the current position of the X stage 4, and the main control system 9 determines the deviation between the Y position and the X axis driving unit 10 according to the deviation. Is controlled to move the X stage 4 to the target position. Main control system 9
Controls the speed of the X stage 4 by monitoring the position of the X stage 4 from the interferometer at any time during the movement to the target position.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】Yステージ5を移動す
るべく加速(本明細書では減速は逆向きの加速と考え
る)時に、ある値以上の加速度を加えるとYステージ5
上に載置されたXステージ4が図6、図7に示すように
飛び上がる。紙面内左向き(第1の向き)にYステージ
5を加速(減速)した時、Xステージ4が、Yステージ
5の溝の右の面(左の面)に沿って飛び上がる。紙面内
右向き(第2の向き)にYステージ5を加速(減速)し
た時、Xステージ4がYステージ5の溝の左の面(右の
面)に沿って飛び上がる。そのため、目標位置付近では
でYステージを止めてもXステージが振動していて、正
確な位置決めができない。結局、振動が治まるまで待っ
て計測する事になる。このことは、XステージをY軸方
向の目標位置に位置決めするのに要する時間を長びかす
欠点を招く。かかる理由から、Xステージ4が飛び上が
らないような加速度の上限でYステージ5を移動させて
いる。
When accelerating to move the Y stage 5 (deceleration is considered to be acceleration in the opposite direction in this specification), if the acceleration of a certain value or more is applied, the Y stage 5
The X stage 4 placed on the top jumps up as shown in FIGS. When the Y stage 5 is accelerated (decelerated) to the left (first direction) in the paper surface, the X stage 4 jumps up along the right surface (left surface) of the groove of the Y stage 5. When the Y stage 5 is accelerated (decelerated) in the right direction (second direction) in the paper surface, the X stage 4 jumps up along the left surface (right surface) of the groove of the Y stage 5. Therefore, even if the Y stage is stopped near the target position, the X stage vibrates and accurate positioning cannot be performed. In the end, you have to wait until the vibration has subsided before measuring. This leads to the drawback of increasing the time required to position the X stage at the target position in the Y axis direction. For this reason, the Y stage 5 is moved at the upper limit of acceleration so that the X stage 4 does not jump up.

【0006】このことは、ウェハやデバイス等の処理に
おけるスループットを制限し、そのため、大量に処理す
る場合、問題となっていた。本発明は、かかるスループ
ットの向上を目的とする。
This limits the throughput in processing wafers, devices, etc., and therefore poses a problem when processing a large amount. The present invention aims to improve such throughput.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】従来、Yステージを加速
する時の加速度は、Y軸方向のどちらの向き(第1の向
き、第2の向き)に移動する場合も同一であった。とこ
ろが、一般にVガイドの位置は、Y軸方向で見た時、X
ステージの重心から外れた位置にある。この場合、本発
明者の研究によれば、Xステージが飛び上がる加速度
は、移動する向きによって異なる事がわかった。つま
り、Xステージの重心からY軸方向を見てVガイドのあ
る向きを第1の向き、無い向きを第2の向きとすると、
Yステージを第1の向きに移動する時、Xステージが飛
び上がり易く、第2の向きに移動する時、Xステージが
飛び上がり難い事がわかった。従来は、飛び上がり易い
方(第1の向き)を見て、加速度の上限を決定してい
た。つまり、第2の向きの場合は、まだ加速度を高めて
も、飛び上がりは起きないのである。逆にいえば、ここ
にスループットの改善の余地があった。そこで、本発明
者は、第1の向きと第2の向きで加速度を変え、第2の
向きの時には、相対的に高くする事を着想し、本発明を
なすに至った。
Conventionally, the acceleration when accelerating the Y stage has been the same when moving in either of the Y-axis directions (first direction and second direction). However, in general, the position of the V guide is X when viewed in the Y-axis direction.
It is out of the center of gravity of the stage. In this case, according to the research by the present inventor, it was found that the acceleration at which the X stage jumps up differs depending on the moving direction. That is, when the direction with the V guide is the first direction and the direction without the V guide is the second direction when viewing the Y-axis direction from the center of gravity of the X stage,
It was found that when the Y stage was moved in the first direction, the X stage was easy to jump up, and when it was moved in the second direction, the X stage was difficult to jump up. Conventionally, the upper limit of the acceleration is determined by looking at the person who easily jumps up (first direction). That is, in the case of the second direction, jumping does not occur even if the acceleration is increased. Conversely, there was room for improvement in throughput here. Therefore, the present inventor has conceived that the acceleration is changed between the first direction and the second direction, and the acceleration is relatively increased in the second direction, and the present invention has been completed.

【0008】即ち、本発明の第1は、「Yステージと、
その上にVガイドとフラットガイドを介して載置された
Xステージと、YステージをY軸方向に移動させるY軸
駆動部とからなり、Vガイドの位置がY軸方向で見た
時、Xステージの重心から外れた位置にあるステージ装
置の駆動方法において、重心からY軸方向を見てVガイ
ドのある向きを第1の向き、無い向きを第2の向きとす
る時、Yステージを第2の向きに加速する時は、その加
速度を、第1の向きに加速する時の加速度より大きくす
る方法(請求項1)。」である。
That is, the first aspect of the present invention is to provide a "Y stage,
It is composed of an X stage mounted on it via a V guide and a flat guide, and a Y axis drive unit for moving the Y stage in the Y axis direction. When the position of the V guide is viewed in the Y axis direction, In a method of driving a stage device at a position deviated from the center of gravity of the stage, when the direction with the V guide is the first direction and the direction without the V guide is the second direction when the Y-axis direction is viewed from the center of gravity, the Y stage is moved to the second direction. A method of increasing the acceleration when accelerating in the direction 2 is larger than the acceleration when accelerating in the first direction (claim 1). ".

【0009】この場合、第1と第2加速度がXステージ
が飛び上がらない加速度を上限とすること(請求項2)
が好ましい。第2は、本発明(請求項1)の駆動方法に
使用されるステージ装置(請求項3)である。この装置
(請求項3)は、Yステージと、Yステージ上にVガイ
ドとフラットガイドを介して載置されたXステージと、
YステージをY軸方向に移動させるY軸駆動部(Y軸駆
動部10)とを備え、Vガイドの位置が前記Y軸方向で
見た時、Xステージの重心から外れた位置にある。この
装置(請求項3)はさらに、重心からY軸方向を見てV
ガイドのある向きを第1の向き、無い向きを第2の向き
とする時、第1の向きに加速する加速度を出力する第1
出力部(第1出力部13)と、第2の向きに加速する、
第1出力部(第1出力部13)より大きい加速度を出力
する第2出力部(第2出力部14)と、第1の向きに加
速する時、第1出力部(第1出力部13)を選択し、第
2の向きに加速する時、第2出力部(第2出力部14)
を選択する選択部と、選択部によって選択された第1と
第2出力部から出力された加速度によって、Yステージ
をY軸駆動部(Y軸駆動部10)を介して加速させる制
御部とを備える。
In this case, the upper limits of the first and second accelerations are such that the X stage does not jump up (claim 2).
Is preferred. The second is a stage device (claim 3) used in the driving method of the present invention (claim 1). This apparatus (claim 3) includes a Y stage, an X stage mounted on the Y stage via a V guide and a flat guide,
A Y-axis drive unit (Y-axis drive unit 10) for moving the Y-stage in the Y-axis direction is provided, and the position of the V guide is located outside the center of gravity of the X-stage when viewed in the Y-axis direction. This device (Claim 3) is further provided with V when viewed in the Y-axis direction from the center of gravity.
When the direction with the guide is the first direction and the direction without the guide is the second direction, the acceleration that accelerates to the first direction is output.
Output part (first output part 13) and accelerate in the second direction,
A second output section (second output section 14) that outputs a larger acceleration than the first output section (first output section 13), and a first output section (first output section 13) when accelerating in a first direction. Is selected, and when accelerating in the second direction, the second output section (second output section 14)
And a control unit that accelerates the Y stage via the Y-axis drive unit (Y-axis drive unit 10) by the accelerations output from the first and second output units selected by the selection unit. Prepare

【0010】この場合、第1と第2出力部(出力部1
3、14)は、Xステージが飛び上がらない加速度の上
限を出力すること(請求項4)が好ましい。
In this case, the first and second output sections (output section 1
It is preferable that (3, 14) output the upper limit of acceleration at which the X stage does not jump up (claim 4).

【0011】[0011]

【作用】既述の通り、Xステージが飛び上りをおこす加
速度は、Y軸方向の第1の向きと第2の向きによって異
なる。予め、第1の向きに加速する時に飛び上りをおこ
す加速度と、第2の向きに移動する時に飛び上りをおこ
す加速度とをそれぞれ予め測定しておく。こうすること
により、それぞれの向きに飛び上がりを起こさない加速
度を設定することができる。飛び上りが起きなければ、
加速度は大きい方がスループットが高くなるので、飛び
上がらない加速度の上限とすることが好ましい(請求項
2、4)。それぞれの向きに設定した加速度は、第1、
第2出力部に記憶しておく(請求項3、4)。第1、第
2のそれぞれの向きに加速しステージを移動する時、選
択部により出力部を選択し、記憶した加速度で加速しス
テージを移動する。
As described above, the acceleration at which the X stage jumps up differs depending on the first direction and the second direction in the Y axis direction. The acceleration that causes jumping up when accelerating in the first direction and the acceleration that causes jumping up when moving in the second direction are measured in advance. By doing so, it is possible to set the acceleration that does not cause jumping in each direction. If there is no jump,
Since the larger the acceleration, the higher the throughput, it is preferable to set the upper limit of the acceleration that does not jump up (claims 2 and 4). The acceleration set for each direction is
It is stored in the second output section (claims 3 and 4). When the stage is accelerated and moved in each of the first and second directions, the output unit is selected by the selection unit, and the stage is accelerated by the stored acceleration to move the stage.

【0012】[0012]

【実施例】図1は、本発明の実施例にかかるステージ装
置の構成を示している。本実施例のステージ装置は、マ
スク1のパターンを投影光学系2を介してウェハ3に露
光する露光装置に組み込んである。ベース6上にYステ
ージ5が載置され、ベース6に形成されたVガイド(不
図示)とフラットガイド(不図示)でYステージが接触
している。このガイドに沿ってYステージ5が移動す
る。Yステージ5の上にXステージ4が載置され、両者
はVガイド11とフラットガイド12を介して接触して
いる。Xステージ4はYステージ5上をガイド11、1
2に沿って移動することができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows the structure of a stage device according to an embodiment of the present invention. The stage device of the present embodiment is incorporated in an exposure device that exposes the pattern of the mask 1 onto the wafer 3 via the projection optical system 2. The Y stage 5 is placed on the base 6, and the V stage (not shown) and the flat guide (not shown) formed on the base 6 contact the Y stage. The Y stage 5 moves along this guide. The X stage 4 is placed on the Y stage 5, and both are in contact with each other via the V guide 11 and the flat guide 12. The X stage 4 guides the Y stage 5 on the guides 11, 1
Can move along 2.

【0013】Xステージ4には、移動鏡7が設置され、
干渉計8から移動鏡7に照射された光ビームを移動鏡7
が反射する。反射された光ビームを干渉計8が検出する
ことによってXステージ4のY軸方向の位置が主制御系
9に出力される。主制御系9は干渉計8からの出力と移
動目標位置に基づいて、Y軸駆動部10を駆動させる。
Xステージ4の駆動の構成も、不図示ではあるが、Yス
テージの駆動と同様の構成である。
A movable mirror 7 is installed on the X stage 4.
The light beam emitted from the interferometer 8 to the moving mirror 7 is moved to the moving mirror 7.
Is reflected. When the interferometer 8 detects the reflected light beam, the position of the X stage 4 in the Y axis direction is output to the main control system 9. The main control system 9 drives the Y-axis drive unit 10 based on the output from the interferometer 8 and the movement target position.
Although not shown, the driving configuration of the X stage 4 is similar to that of the Y stage.

【0014】ステージ装置は第1出力部13と第2出力
部14とが備えられている。第1出力部13は、Yステ
ージ5の紙面内左向き(第1の向き)の加速度を出力
し、第2出力部14は、Yステージ5の紙面内右向き
(第2の向き)の加速度を出力する。主制御系9は、Y
ステージ5を駆動(加速)する向きに基づいて、スイッ
チ15(選択部の一例)によって、第1出力部13、ま
たは第2出力部14が選択される。選択された出力部か
らの加速度に従って、主制御系9がY軸駆動部10を駆
動させる。これによりYステージが加速され移動する。
The stage device has a first output section 13 and a second output section 14. The first output unit 13 outputs the acceleration toward the left (first direction) in the plane of the Y stage 5, and the second output unit 14 outputs the acceleration toward the right (second direction) in the plane of the Y stage 5. To do. The main control system 9 is Y
The switch 15 (an example of a selection unit) selects the first output unit 13 or the second output unit 14 based on the direction in which the stage 5 is driven (accelerated). The main control system 9 drives the Y-axis drive unit 10 according to the acceleration from the selected output unit. This accelerates and moves the Y stage.

【0015】つぎに、出力部13、14から出力される
加速度について説明する。ここでは、加速度は、Yステ
ージ5を駆動した時に、Xステージ4がVガイド11の
面を飛び上がらない上限の加速度に設定される。飛び上
がる加速度は、Yステージ5を第1の向きへ加速する時
と第2の向きへ加速する時とで異なる。これは、Vガイ
ド11がXステージ4の重心から外れた位置にあるの
で、加速したときの回転モーメントの働きが異なるから
である。
Next, the acceleration output from the output units 13 and 14 will be described. Here, the acceleration is set to an upper limit acceleration at which the X stage 4 does not jump over the surface of the V guide 11 when the Y stage 5 is driven. The jumping acceleration is different when the Y stage 5 is accelerated in the first direction and when it is accelerated in the second direction. This is because the V guide 11 is located at a position deviated from the center of gravity of the X stage 4, so that the action of the rotational moment upon acceleration is different.

【0016】加速度を決定する方法は、一つの方法とし
ては、実験によって求めることである。Yステージを移
動開始位置から目標位置まで移動する時、その加速度を
換えて移動を何度も繰り返す。このとき、加速度を徐々
に大きくし、Xステージ4を位置決めするのに要する時
間が所定の許容値より大きくなる直前の値を上限とする
方法である。
One method of determining the acceleration is to obtain it by experiment. When the Y stage is moved from the movement start position to the target position, the acceleration is changed and the movement is repeated many times. At this time, the acceleration is gradually increased, and the upper limit is set to a value immediately before the time required to position the X stage 4 exceeds a predetermined allowable value.

【0017】また、もう一つの方法としては、Xステー
ジ4の形状に基づいて、Xステージ4が飛び上がり始め
る時の力のつりあいとXステージ4の重心のまわりの回
転モーメントのつりあいから演算によって求める方法が
ある。具体的に、力のつりあいとは、Yステージの加速
によってVガイドの面に沿って生じる力とVガイドに生
じる摩擦力とのつりあいである。重心まわりの回転モー
メントのつりあいとは、Yステージの加速によってVガ
イドの面に生じるXステージの重心を中心とした回転方
向の力のつりあいである。
As another method, a method of calculating from the balance of the force when the X stage 4 starts to jump up and the balance of the rotational moment around the center of gravity of the X stage 4 is calculated based on the shape of the X stage 4. There is. Specifically, the force balance is the balance between the force generated along the surface of the V guide and the frictional force generated on the V guide due to the acceleration of the Y stage. The balance of the rotational moment around the center of gravity is the balance of the force in the direction of rotation about the center of gravity of the X stage generated on the surface of the V guide due to the acceleration of the Y stage.

【0018】こうして求めたそれぞれの加速度の上限値
を出力部13、14に記憶させる。本ステージ装置の場
合、Yステージ5を第1の向きに加速した時の加速度上
限の方が、第2の向きに加速した時のそれよりも小さ
い。こうして設定された加速度で所定位置から目標位置
まで第1の向きに移動を行なった時の、時間と速度の関
係を図2に示す。この場合、加速時と減速時で、加速度
の向きが違う。向きにより加速度を変えており定速にな
るまでに時間が減速時の方が短い。
The upper limits of the respective accelerations thus obtained are stored in the output units 13 and 14. In the case of this stage apparatus, the upper limit of acceleration when the Y stage 5 is accelerated in the first direction is smaller than that when it is accelerated in the second direction. FIG. 2 shows the relationship between time and speed when moving in the first direction from the predetermined position to the target position with the acceleration thus set. In this case, the direction of acceleration is different between acceleration and deceleration. The acceleration is changed depending on the direction, and the time required to reach a constant speed is shorter when decelerating.

【0019】図3と図4は、第2の向きに移動を始めた
時の時間と速度の関係(図3)と第1の向きに移動を始
めた時の時間と速度の関係(図4)を示している。この
場合、Xステージ4が定速になるまでの時間が、第1の
向きより第2の向きに移動を始めた時の方が短くなる。
本発明のために試作したステージでは、実験の結果、
第1の向きでのXステージ4が飛び上がらない上限の加
速度は約6m/sec、第2の向きでのXステージ4が飛び
上がらない上限の加速度は約10m/secであった。
3 and 4 show the relationship between time and speed when starting to move in the second direction (FIG. 3) and the relationship between time and speed when starting to move in the first direction (FIG. 4). ) Is shown. In this case, the time until the X stage 4 reaches a constant speed is shorter when the movement starts in the second direction than in the first direction.
On the stage prototyped for the present invention, as a result of the experiment,
The upper limit acceleration at which the X stage 4 did not jump up in the first direction was about 6 m / sec, and the upper limit acceleration at which the X stage 4 did not jump up in the second direction was about 10 m / sec.

【0020】また、Xステージ、Yステージの意味は任
意であり、逆にしても本発明の範囲内である。
Further, the meanings of the X stage and the Y stage are arbitrary, and even if they are reversed, they are within the scope of the present invention.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明は、Yステージを加速する向きに
よって、加速度を変えたので、加速度の大きな向きの時
にYステージの移動速度を目的地(ゼロを含む)にする
のに要する時間を従来より短くすることができる。この
ため、Xステージを複数の目標位置に順に移動させる時
の合計時間を大幅に短縮する。このことは、デバイスや
ウェハの処理のスループットを向上させる。
According to the present invention, since the acceleration is changed depending on the direction of accelerating the Y stage, the time required to set the moving speed of the Y stage to the destination (including zero) in the direction of large acceleration is conventionally. Can be shorter. Therefore, the total time required to move the X stage to a plurality of target positions in sequence is significantly reduced. This improves the throughput of processing devices and wafers.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明における実施例のステージ装置の構造と
制御系を示す概略図
FIG. 1 is a schematic diagram showing a structure and a control system of a stage device according to an embodiment of the present invention.

【図2】実施例でYステージを移動した時の時間と速度
の関係を示したグラフ
FIG. 2 is a graph showing the relationship between time and speed when the Y stage is moved in the embodiment.

【図3】実施例でYステージを第1の向きに移動を開始
した時の時間と速度の関係を示したグラフ
FIG. 3 is a graph showing the relationship between time and speed when moving the Y stage in the first direction in the example.

【図4】実施例でYステージを第2の向きに移動を開始
した時の時間と速度の関係を示したグラフ
FIG. 4 is a graph showing the relationship between time and speed when moving the Y stage in the second direction in the example.

【図5】従来のステージ装置の構造と制御系を示す概略
FIG. 5 is a schematic diagram showing a structure and a control system of a conventional stage device.

【図6】Yステージを第1の向きの加速した時のXステ
ージの飛び上がりを示した説明図
FIG. 6 is an explanatory diagram showing jumping up of the X stage when the Y stage is accelerated in the first direction.

【図7】Yステージを第2の向きに加速した時のXステ
ージの飛び上がりを示した説明図
FIG. 7 is an explanatory diagram showing jumping up of the X stage when the Y stage is accelerated in the second direction.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4 Xステージ 5 Yステージ 7 移動鏡 8 干渉計 9 主制御系 11 Vガイド 12 フラットガイド 13 第1出力部 14 第2出力部 15 スイッチ(選択部の一例) 4 X stage 5 Y stage 7 Moving mirror 8 Interferometer 9 Main control system 11 V guide 12 Flat guide 13 First output section 14 Second output section 15 Switch (an example of selection section)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】Yステージと、その上にVガイドとフラッ
トガイドを介して載置されたXステージと、前記Yステ
ージをY軸方向に移動させるY軸駆動部とからなり、前
記Vガイドの位置が前記Y軸方向で見た時、Xステージ
の重心から外れた位置にあるステージ装置の駆動方法に
おいて、 前記重心から前記Y軸方向を見てVガイドのある向きを
第1の向き、無い向きを第2の向きとする時、前記Yス
テージを前記第1の向きに加速する時は、その加速度
を、前記第2の向きに加速する時の加速度より大きくす
る事を特徴とするステージ装置の駆動方法。
1. A Y stage, an X stage mounted on the Y stage via a V guide and a flat guide, and a Y axis drive unit for moving the Y stage in the Y axis direction. In a driving method of a stage device, which is located at a position deviated from the center of gravity of the X stage when viewed in the Y-axis direction, a direction in which the V guide is seen from the center of gravity in the Y-axis direction is a first direction, When the direction is the second direction, when accelerating the Y stage in the first direction, the acceleration thereof is made larger than the acceleration when accelerating in the second direction. Driving method.
【請求項2】前記加速度を前記Xステージが飛び上がら
ない加速度の上限とする事を特徴とする請求項第1項記
載のステージ装置の駆動方法。
2. The method of driving a stage apparatus according to claim 1, wherein the acceleration is set to an upper limit of acceleration at which the X stage does not jump up.
【請求項3】Yステージと、 前記Yステージ上にVガイドとフラットガイドを介して
載置されたXステージと、 前記YステージをY軸方向に移動させるY軸駆動部と、
を備え、 前記Vガイドの位置が前記Y軸方向で見た時、Xステー
ジの重心から外れた位置にあるステージ装置において、 前記重心から前記Y軸方向を見てVガイドのある向きを
第1の向き、無い向きを第2の向きとする時、前記第1
の向きに加速する加速度を出力する第1出力部と、 前記第2の向きに加速する、前記第1出力部より大きい
加速度を出力する第2出力部と、 前記第1の向きに加速する時、第1出力部を選択し、前
記第2の向きに加速する時、第2出力部を選択する選択
部と、 前記選択部によって選択された前記第1又は第2出力手
段から出力された加速度によって、前記Yステージを前
記Y軸駆動手段を介して加速させる制御部と、を備えた
事を特徴とするステージ装置。
3. A Y stage, an X stage mounted on the Y stage via a V guide and a flat guide, a Y axis drive unit for moving the Y stage in the Y axis direction,
In the stage device in which the position of the V guide is deviated from the center of gravity of the X stage when the position of the V guide is viewed in the Y axis direction, the direction in which the V guide is located is the first direction when the Y direction is viewed from the center of gravity. When the second direction is the direction of the
A first output unit that outputs an acceleration that accelerates in the first direction, a second output unit that accelerates in the second direction, and a second output unit that outputs an acceleration greater than the first output unit, and an acceleration time in the first direction. A first output unit is selected and a second output unit is selected when accelerating in the second direction; and an acceleration output from the first or second output unit selected by the selection unit. And a control unit for accelerating the Y stage via the Y-axis drive means.
【請求項4】前記第1と第2出力手段は、前記Xステー
ジが飛び上がらない加速度の上限を出力する事を特徴と
する請求項第3項記載のステージ装置。
4. The stage apparatus according to claim 3, wherein said first and second output means output an upper limit of acceleration at which said X stage does not jump up.
JP29814094A 1994-12-01 1994-12-01 Stage device and driving method thereof Pending JPH08162385A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29814094A JPH08162385A (en) 1994-12-01 1994-12-01 Stage device and driving method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29814094A JPH08162385A (en) 1994-12-01 1994-12-01 Stage device and driving method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08162385A true JPH08162385A (en) 1996-06-21

Family

ID=17855715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29814094A Pending JPH08162385A (en) 1994-12-01 1994-12-01 Stage device and driving method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08162385A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020174846A1 (en) * 2019-02-26 2020-09-03 村田機械株式会社 Transfer device and ceiling carrier

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020174846A1 (en) * 2019-02-26 2020-09-03 村田機械株式会社 Transfer device and ceiling carrier
JPWO2020174846A1 (en) * 2019-02-26 2021-12-23 村田機械株式会社 Transfer device and ceiling carrier
TWI818152B (en) * 2019-02-26 2023-10-11 日商村田機械股份有限公司 Transfer devices and overhead trucks

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6359677B2 (en) Stage apparatus, exposure apparatus using the same, and a device manufacturing method
JP3363662B2 (en) Scanning stage apparatus and exposure apparatus using the same
KR100383699B1 (en) Stage apparatus, exposure apparatus, and device production method
US7982852B2 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
KR101584827B1 (en) Moving device and exposure device
US7586218B2 (en) Moving apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2008010643A (en) Stage apparatus
US20100002212A1 (en) Scanning exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US6094255A (en) Projection exposure apparatus and method that floats a plate
JP3679776B2 (en) Drive apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JPH03212925A (en) Aligner
JP3286184B2 (en) Scanning exposure apparatus and method
JPH08162385A (en) Stage device and driving method thereof
JP2006013090A (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
JPH11142556A (en) Controlling method for stage, stage device and exposing device thereof
US5838443A (en) Exposure apparatus implementing priority speed setting arrangement
JPH10144603A (en) Stage device and aligner using the same
JPH10149974A (en) Stage device, aligner, and manufacture of device
JPH1022203A (en) Aligner
JP4011919B2 (en) Moving apparatus, exposure apparatus, and semiconductor device manufacturing method
JP3823417B2 (en) Exposure apparatus and exposure method
JPH10144601A (en) Command value determining method and stage device
JP2015082559A (en) Stage device and exposure equipment
JP2001102288A (en) Projection aligner
JPWO2003010802A1 (en) Stage apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method