JPH0815688A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
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- JPH0815688A JPH0815688A JP6144626A JP14462694A JPH0815688A JP H0815688 A JPH0815688 A JP H0815688A JP 6144626 A JP6144626 A JP 6144626A JP 14462694 A JP14462694 A JP 14462694A JP H0815688 A JPH0815688 A JP H0815688A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 透過形液晶パネルにおいて、アクティブマト
リックス基板での光の反射を防止し、透過光量を増加さ
せて画面の鮮明度を向上させる。 【構成】 アクティブマトリックス基板のＴＦＴ能動素
子を設けた面とは反対側の面に、対向基板のＲ、Ｇ、Ｂ
の各カラーフィルターに対応した特定の膜厚の光反射防
止膜を設ける。
リックス基板での光の反射を防止し、透過光量を増加さ
せて画面の鮮明度を向上させる。 【構成】 アクティブマトリックス基板のＴＦＴ能動素
子を設けた面とは反対側の面に、対向基板のＲ、Ｇ、Ｂ
の各カラーフィルターに対応した特定の膜厚の光反射防
止膜を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置およびそ
の製造方法に関する。さらに詳しくは、透過形カラー液
晶パネルにおける画面の鮮明度を向上せしめてなる液晶
表示装置およびそれを得る製造方法に関する。
の製造方法に関する。さらに詳しくは、透過形カラー液
晶パネルにおける画面の鮮明度を向上せしめてなる液晶
表示装置およびそれを得る製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３に従来のカラー液晶表示装置の断面
図を示す。
図を示す。
【０００３】前記カラー液晶表示装置は、ＴＦＴ能動素
子１とＩＴＯの駆動電極２を形成したアクティブマトリ
ックス基板１ａとガラス基板７にＲ、ＧおよびＢの３色
のカラーフィルター５と透明電極４とを形成した対向基
板４ａを貼合せて液晶３を封入した構造からなり、さら
に両面に偏光板６を設置して、ガラス基板７のＴＦＴ能
動素子１を形成した面に対して反対側の面から白色光９
を照射し、ＴＦＴ能動素子１をオンオフスイッチングす
ることにより、液晶３を配向させて対応するカラーフィ
ルター５を透過させカラー表示を行なわせるものであ
る。この場合、コントラストを向上させるために、白色
光９の入射する側に反射防止膜８を形成する構造がたと
えば特開昭５４−４１５６号公報に記載されているが、
同質、同膜厚の反射防止膜８を設けた場合、対象となっ
ている以外の波長では逆に反射の増加を引き起すなどの
問題があった。
子１とＩＴＯの駆動電極２を形成したアクティブマトリ
ックス基板１ａとガラス基板７にＲ、ＧおよびＢの３色
のカラーフィルター５と透明電極４とを形成した対向基
板４ａを貼合せて液晶３を封入した構造からなり、さら
に両面に偏光板６を設置して、ガラス基板７のＴＦＴ能
動素子１を形成した面に対して反対側の面から白色光９
を照射し、ＴＦＴ能動素子１をオンオフスイッチングす
ることにより、液晶３を配向させて対応するカラーフィ
ルター５を透過させカラー表示を行なわせるものであ
る。この場合、コントラストを向上させるために、白色
光９の入射する側に反射防止膜８を形成する構造がたと
えば特開昭５４−４１５６号公報に記載されているが、
同質、同膜厚の反射防止膜８を設けた場合、対象となっ
ている以外の波長では逆に反射の増加を引き起すなどの
問題があった。
【０００４】すなわち、透過形カラー液晶パネルにおい
ては、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各カラーフィル
ターで構成されているので従来のように、反射防止膜８
を設けると、対象となっている以外の波長、たとえばＲ
の波長で干渉反射を抑えたい場合、ＧまたはＢの波長で
は逆に反射の増加を引き起こしてしまうことになる。こ
のため反射防止膜８として１層を設けることは少なく、
各波長領域での干渉反射を抑えるために２層以上の多層
膜にすることが一般的である。しかし、異なる膜を多層
に成膜するため、プロセスが複雑になり、かつ膜のハガ
レなどの問題があった。
ては、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各カラーフィル
ターで構成されているので従来のように、反射防止膜８
を設けると、対象となっている以外の波長、たとえばＲ
の波長で干渉反射を抑えたい場合、ＧまたはＢの波長で
は逆に反射の増加を引き起こしてしまうことになる。こ
のため反射防止膜８として１層を設けることは少なく、
各波長領域での干渉反射を抑えるために２層以上の多層
膜にすることが一般的である。しかし、異なる膜を多層
に成膜するため、プロセスが複雑になり、かつ膜のハガ
レなどの問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記のような
問題点を解決するためになされたもので、対向基板上の
Ｒ、Ｇ、Ｂの各カラーフィルターに対応するアクティブ
マトリックス基板上にそれぞれ異なる膜厚で形成された
光反射防止膜により、また該カラーフィルターのＲ、
Ｇ、Ｂのそれぞれに対応して該アクティブマトリックス
基板上に順次薄くするように構成してなる該光反射防止
膜によりアクティブマトリックス基板面での光の反射に
よる透過光量の損失を抑え、選択的に透過光量を増加さ
せて画面の鮮明度を向上せしめてなる液晶表示装置およ
びそれを得る製造方法を提供することを目的とする。
問題点を解決するためになされたもので、対向基板上の
Ｒ、Ｇ、Ｂの各カラーフィルターに対応するアクティブ
マトリックス基板上にそれぞれ異なる膜厚で形成された
光反射防止膜により、また該カラーフィルターのＲ、
Ｇ、Ｂのそれぞれに対応して該アクティブマトリックス
基板上に順次薄くするように構成してなる該光反射防止
膜によりアクティブマトリックス基板面での光の反射に
よる透過光量の損失を抑え、選択的に透過光量を増加さ
せて画面の鮮明度を向上せしめてなる液晶表示装置およ
びそれを得る製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、絶縁性透明基
板上に駆動電極および該電極に接続された能動素子を配
列してなるアクティブマトリックス基板と、このアクテ
ィブマトリックス基板に対向している異なる波長の光を
透過させるカラーフィルター並びに透明電極が形成され
た対向基板と、前記アクティブマトリックス基板および
対向基板間に注入された液晶と、前記アクティブマトリ
ックス基板における能動素子を形成した面の反対側の面
に前記カラーフィルターの各色に対応してそれぞれ異な
る膜厚に形成された光反射防止膜とを備えてなることを
特徴とするものである。
板上に駆動電極および該電極に接続された能動素子を配
列してなるアクティブマトリックス基板と、このアクテ
ィブマトリックス基板に対向している異なる波長の光を
透過させるカラーフィルター並びに透明電極が形成され
た対向基板と、前記アクティブマトリックス基板および
対向基板間に注入された液晶と、前記アクティブマトリ
ックス基板における能動素子を形成した面の反対側の面
に前記カラーフィルターの各色に対応してそれぞれ異な
る膜厚に形成された光反射防止膜とを備えてなることを
特徴とするものである。
【０００７】また、前記カラーフィルターを赤、緑、青
で構成するとともに、前記光反射防止膜の膜厚を該カラ
ーフィルターの赤、緑、青に対応して順次薄くするよう
に構成したものである。
で構成するとともに、前記光反射防止膜の膜厚を該カラ
ーフィルターの赤、緑、青に対応して順次薄くするよう
に構成したものである。
【０００８】さらに、本発明は、絶縁性透明基板の一方
の面に駆動電極および該電極に接続された能動素子をパ
ターン形成して得られるアクティブマトリックス基板
と、該アクティブマトリックス基板に対向している異な
る波長の光を透過させる３種類のカラーフィルター並び
に透明電極が形成された対向基板と、該アクティブマト
リックス基板と該対向基板との間に注入する液晶とを組
み合わせて液晶表示装置を製造するに際して、該アクテ
ィブマトリックス基板を、絶縁性透明基板上に駆動電極
および該電極に接続された能動素子をパターン形成した
のち、該電極および該能動素子が形成された絶縁性透明
基板の反対側の面にレジストを塗布するレジスト塗布工
程、該カラーフィルターの第１の色に対応した部分を抜
き取るレジスト抜き取り工程、さらにこの抜き取り部分
に空気とガラスとの間の屈折率を有する第１の光反射防
止膜を形成する光反射防止膜形成工程およびレジストを
除去するレジスト除去工程を施して第１の光反射防止膜
を形成し、ついで該カラーフィルターの第２の色に対応
した該絶縁性透明基板上の部分に対して該レジスト塗布
工程、該レジスト抜き取り工程、該光反射防止膜形成工
程および該レジスト除去工程を施して第１の光反射防止
膜の膜厚とは異なる膜厚を有する第２の光反射防止膜を
形成し、さらに該カラーフィルターの第３の色に対応し
た該絶縁性透明基板上の部分に対して該レジスト塗布工
程、該レジスト抜き取り工程、該光反射防止膜形成工程
および該レジスト除去工程を施して第１の光反射防止膜
および第２の光反射防止膜のそれぞれの膜厚とは異なる
膜厚を有する第３の光反射防止膜を形成するようにした
ものである。
の面に駆動電極および該電極に接続された能動素子をパ
ターン形成して得られるアクティブマトリックス基板
と、該アクティブマトリックス基板に対向している異な
る波長の光を透過させる３種類のカラーフィルター並び
に透明電極が形成された対向基板と、該アクティブマト
リックス基板と該対向基板との間に注入する液晶とを組
み合わせて液晶表示装置を製造するに際して、該アクテ
ィブマトリックス基板を、絶縁性透明基板上に駆動電極
および該電極に接続された能動素子をパターン形成した
のち、該電極および該能動素子が形成された絶縁性透明
基板の反対側の面にレジストを塗布するレジスト塗布工
程、該カラーフィルターの第１の色に対応した部分を抜
き取るレジスト抜き取り工程、さらにこの抜き取り部分
に空気とガラスとの間の屈折率を有する第１の光反射防
止膜を形成する光反射防止膜形成工程およびレジストを
除去するレジスト除去工程を施して第１の光反射防止膜
を形成し、ついで該カラーフィルターの第２の色に対応
した該絶縁性透明基板上の部分に対して該レジスト塗布
工程、該レジスト抜き取り工程、該光反射防止膜形成工
程および該レジスト除去工程を施して第１の光反射防止
膜の膜厚とは異なる膜厚を有する第２の光反射防止膜を
形成し、さらに該カラーフィルターの第３の色に対応し
た該絶縁性透明基板上の部分に対して該レジスト塗布工
程、該レジスト抜き取り工程、該光反射防止膜形成工程
および該レジスト除去工程を施して第１の光反射防止膜
および第２の光反射防止膜のそれぞれの膜厚とは異なる
膜厚を有する第３の光反射防止膜を形成するようにした
ものである。
【０００９】
【作用】本発明における、前記光反射防止膜は、前記対
向基板上の前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各カラーフィルターの波長
に応じて、前記アクティブマトリックス基板上の光反射
防止膜の膜厚を最適化して形成したので選択的に光の透
過率を向上させることができ、画像の鮮明度を高める働
きがある。
向基板上の前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各カラーフィルターの波長
に応じて、前記アクティブマトリックス基板上の光反射
防止膜の膜厚を最適化して形成したので選択的に光の透
過率を向上させることができ、画像の鮮明度を高める働
きがある。
【００１０】
【実施例】つぎに本発明の一実施例を図に基づいて説明
する。
する。
【００１１】図１は、本発明の液晶表示装置の断面図で
ある。
ある。
【００１２】図１において、１はＴＦＴ能動素子、２は
ＩＴＯからなる駆動電極、１ａはアクティブマトリック
ス基板、３は液晶、４は透明電極、４ａは対向基板、５
はカラーフィルター、６は偏光板、７はガラス基板、８
は光反射防止膜および９は白色光（バックライト）であ
る。前記カラーフィルター５は、Ｒ用カラーフィルター
５１、Ｇ用カラーフィルター５２、Ｂ用カラーフィルタ
ー５３からなり、これらに対応して光反射防止膜８もＲ
に対する光反射防止膜８１、Ｇに対する光反射防止膜８
２、Ｂに対する光反射防止膜８３のように膜厚を変えて
形成されている。
ＩＴＯからなる駆動電極、１ａはアクティブマトリック
ス基板、３は液晶、４は透明電極、４ａは対向基板、５
はカラーフィルター、６は偏光板、７はガラス基板、８
は光反射防止膜および９は白色光（バックライト）であ
る。前記カラーフィルター５は、Ｒ用カラーフィルター
５１、Ｇ用カラーフィルター５２、Ｂ用カラーフィルタ
ー５３からなり、これらに対応して光反射防止膜８もＲ
に対する光反射防止膜８１、Ｇに対する光反射防止膜８
２、Ｂに対する光反射防止膜８３のように膜厚を変えて
形成されている。
【００１３】図２は、前記図１における本発明の液晶表
示装置のうちの光反射防止膜を備えてなるアクティブマ
トリックス基板の作製方法を示す断面図である。ガラス
基板７の一面にＴＦＴ能動素子１および駆動電極２を成
膜−写真−エッチング−洗浄などのプロセスを複数回繰
り返して形成してアクティブマトリックス基板１ａを作
製したのち、該面とは反対側の面の前記Ｒ用カラーフィ
ルター、前記Ｇ用カラーフィルター、前記Ｂ用カラーフ
ィルターに対応した部分に特定の膜厚の光反射防止膜８
１、８２、８３を順次形成する。
示装置のうちの光反射防止膜を備えてなるアクティブマ
トリックス基板の作製方法を示す断面図である。ガラス
基板７の一面にＴＦＴ能動素子１および駆動電極２を成
膜−写真−エッチング−洗浄などのプロセスを複数回繰
り返して形成してアクティブマトリックス基板１ａを作
製したのち、該面とは反対側の面の前記Ｒ用カラーフィ
ルター、前記Ｇ用カラーフィルター、前記Ｂ用カラーフ
ィルターに対応した部分に特定の膜厚の光反射防止膜８
１、８２、８３を順次形成する。
【００１４】まず、図２（ａ）のように、アクティブマ
トリックス基板１ａのＴＦＴ能動素子１とは反対側の面
にレジスト１０を塗布したのち、写真製版工程によりＲ
用カラーフィルターに対応した部分を抜き取る。
トリックス基板１ａのＴＦＴ能動素子１とは反対側の面
にレジスト１０を塗布したのち、写真製版工程によりＲ
用カラーフィルターに対応した部分を抜き取る。
【００１５】つぎに、図２（ｂ）のように、空気の屈折
率（１．０）とガラスの屈折率（２．０）との間の屈折
率をもつ化合物を成膜する。
率（１．０）とガラスの屈折率（２．０）との間の屈折
率をもつ化合物を成膜する。
【００１６】さらに、図２（ｃ）のように、レジストを
除去することにより、Ｒ用カラーフィルターに対応した
部分の前記化合物のみを残しＲに対応する光反射防止膜
８１を形成する。
除去することにより、Ｒ用カラーフィルターに対応した
部分の前記化合物のみを残しＲに対応する光反射防止膜
８１を形成する。
【００１７】つぎに、アクティブマトリックス基板１ａ
のＴＦＴ能動素子１とは反対側の面にレジスト１０を塗
布したのち、写真製版工程によりＧ用カラーフィルター
に対応した部分を抜き取る。
のＴＦＴ能動素子１とは反対側の面にレジスト１０を塗
布したのち、写真製版工程によりＧ用カラーフィルター
に対応した部分を抜き取る。
【００１８】つぎに、空気の屈折率（１．０）とガラス
の屈折率（２．０）との間の屈折率をもつ化合物を成膜
する。
の屈折率（２．０）との間の屈折率をもつ化合物を成膜
する。
【００１９】さらに、レジストを除去することにより、
Ｇ用カラーフィルターに対応した部分の前記化合物のみ
を残しＧに対応する光反射防止膜を形成する。
Ｇ用カラーフィルターに対応した部分の前記化合物のみ
を残しＧに対応する光反射防止膜を形成する。
【００２０】つぎに、アクティブマトリックス基板１ａ
のＴＦＴ能動素子１とは反対側の面にレジスト１０を塗
布したのち、写真製版工程によりＢ用カラーフィルター
に対応した部分を抜き取る。
のＴＦＴ能動素子１とは反対側の面にレジスト１０を塗
布したのち、写真製版工程によりＢ用カラーフィルター
に対応した部分を抜き取る。
【００２１】つぎに、空気の屈折率（１．０）とガラス
の屈折率（２．０）との間の屈折率をもつ化合物を成膜
する。
の屈折率（２．０）との間の屈折率をもつ化合物を成膜
する。
【００２２】さらに、レジストを除去することにより、
Ｂ用カラーフィルターに対応した部分の前記化合物のみ
を残しＢに対応する光反射防止膜を形成する。
Ｂ用カラーフィルターに対応した部分の前記化合物のみ
を残しＢに対応する光反射防止膜を形成する。
【００２３】このようにして作製されたアクティブマト
リックス基板と前記対向基板と前記液晶とを組み合わせ
て本発明の液晶表示装置が得られる。
リックス基板と前記対向基板と前記液晶とを組み合わせ
て本発明の液晶表示装置が得られる。
【００２４】なお、本発明における液晶としては、たと
えばＴＮ形のネマチック液晶が好ましい。
えばＴＮ形のネマチック液晶が好ましい。
【００２５】また、本発明におけるレジストとしては、
たとえばノボラック−ナフトキノンジアジド系ポジ形フ
ォトレジストや環化ポリイソプレンゴムと芳香族ビスア
ジドからなるネガ形フォトレジストなどがあげられる
が、プロセスが容易である点からポジ形フォトレジスト
が好ましい。前記レジストを前記ガラス基板に塗布する
方法としては、たとえばスピン塗布法、ローラコータ
法、スプレー塗布法などがあげられるが、膜厚のコント
ロールが容易である点からスピン塗布法が好ましく、該
レジストの膜厚としては、０．５〜１０μｍ、好ましく
は１．０〜１．５μｍであり、該膜厚が０．５μｍ未満
であると膜厚の制御が困難となる傾向があり、１０μｍ
を超えるとパターンニングが困難となる傾向がある。
たとえばノボラック−ナフトキノンジアジド系ポジ形フ
ォトレジストや環化ポリイソプレンゴムと芳香族ビスア
ジドからなるネガ形フォトレジストなどがあげられる
が、プロセスが容易である点からポジ形フォトレジスト
が好ましい。前記レジストを前記ガラス基板に塗布する
方法としては、たとえばスピン塗布法、ローラコータ
法、スプレー塗布法などがあげられるが、膜厚のコント
ロールが容易である点からスピン塗布法が好ましく、該
レジストの膜厚としては、０．５〜１０μｍ、好ましく
は１．０〜１．５μｍであり、該膜厚が０．５μｍ未満
であると膜厚の制御が困難となる傾向があり、１０μｍ
を超えるとパターンニングが困難となる傾向がある。
【００２６】さらに、本発明における写真製版工程とし
ては、たとえばＵＶ露光、Ｘ線、電子線などがあげられ
るが、コストが安いプロセスであるという点からＵＶ露
光が好ましい。
ては、たとえばＵＶ露光、Ｘ線、電子線などがあげられ
るが、コストが安いプロセスであるという点からＵＶ露
光が好ましい。
【００２７】また、本発明における前記屈折率は、ガラ
スと空気との間の屈折率であるという点から１．０〜
２．０、好ましくは１．０〜１．５であり、そのような
屈折率を有する化合物としては、たとえばフッ化マグネ
シウム、フッ化ナトリウム、フッ化リチウムなどがあげ
られるが、材料が安価であるという点からフッ化マグネ
シウムが好ましい。
スと空気との間の屈折率であるという点から１．０〜
２．０、好ましくは１．０〜１．５であり、そのような
屈折率を有する化合物としては、たとえばフッ化マグネ
シウム、フッ化ナトリウム、フッ化リチウムなどがあげ
られるが、材料が安価であるという点からフッ化マグネ
シウムが好ましい。
【００２８】また、前記化合物を前記成膜する方法とし
ては、たとえばスパッタ法や、蒸着法により、成膜時間
をコントロールして、膜厚を制御する方法があげられる
が、組成のコントロールが容易な点から蒸着法が好まし
い。
ては、たとえばスパッタ法や、蒸着法により、成膜時間
をコントロールして、膜厚を制御する方法があげられる
が、組成のコントロールが容易な点から蒸着法が好まし
い。
【００２９】また、前記特定の膜厚としては、５０〜１
０００ｎｍ好ましくは５０〜４００ｎｍであり、該膜厚
が５０ｎｍ未満であると膜厚のコントロールが困難とな
る傾向があり、４００ｎｍを超えると吸収が大きくな
り、透過光量が少なくなる傾向がある。
０００ｎｍ好ましくは５０〜４００ｎｍであり、該膜厚
が５０ｎｍ未満であると膜厚のコントロールが困難とな
る傾向があり、４００ｎｍを超えると吸収が大きくな
り、透過光量が少なくなる傾向がある。
【００３０】さらに、本発明におけるレジストを抜き取
る方法およびレジストを除去する方法としては、たとえ
ばウェット酸化法や酸素プラズマによるドライ酸化法が
あげられるが、コストの点からウェット酸化法が好まし
い。
る方法およびレジストを除去する方法としては、たとえ
ばウェット酸化法や酸素プラズマによるドライ酸化法が
あげられるが、コストの点からウェット酸化法が好まし
い。
【００３１】なお、前記カラーフィルターの透過光の波
長は、Ｒでは６４０ｎｍ、Ｇでは５５０ｎｍ、Ｂでは４
５０ｎｍであり、各々のカラーフィルターに対応する光
反射防止膜の膜厚は、該膜の屈折率と該膜の膜厚の積が
λ／４になるように、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ１１
６ｎｍ、１００ｎｍ、８１ｎｍとなるように光反射防止
膜８１、８２、８３を形成する。
長は、Ｒでは６４０ｎｍ、Ｇでは５５０ｎｍ、Ｂでは４
５０ｎｍであり、各々のカラーフィルターに対応する光
反射防止膜の膜厚は、該膜の屈折率と該膜の膜厚の積が
λ／４になるように、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ１１
６ｎｍ、１００ｎｍ、８１ｎｍとなるように光反射防止
膜８１、８２、８３を形成する。
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば、アクティブマトリック
ス基板の能動素子を形成した面と反対側の面に、対向基
板のＲ、Ｇ、Ｂの各カラーフィルターに対応した膜厚の
異なる光反射防止膜を形成することにより、また、カラ
ーフィルターのＲ、Ｇ、Ｂに対応して該アクティブマト
リックス基板上に順次膜厚の異なる光反射防止膜を形成
することにより、アクティブマトリックス基板面での光
の反射を防止して透過光量の損失を抑え、各カラーごと
に画面の鮮明度を向上せしめてなる液晶表示装置および
それを得る製造方法を提供することができる。
ス基板の能動素子を形成した面と反対側の面に、対向基
板のＲ、Ｇ、Ｂの各カラーフィルターに対応した膜厚の
異なる光反射防止膜を形成することにより、また、カラ
ーフィルターのＲ、Ｇ、Ｂに対応して該アクティブマト
リックス基板上に順次膜厚の異なる光反射防止膜を形成
することにより、アクティブマトリックス基板面での光
の反射を防止して透過光量の損失を抑え、各カラーごと
に画面の鮮明度を向上せしめてなる液晶表示装置および
それを得る製造方法を提供することができる。
【図１】 本発明の一実施例による液晶表示装置の断面
図である。
図である。
【図２】 本発明の一実施例による光反射防止膜の形成
方法を示す断面図である。
方法を示す断面図である。
【図３】 従来の液晶表示装置の断面図である。
１ ＴＦＴ能動素子、 １ａ アクティブマトリック
ス基板、２ 駆動電極、 ３ 液晶、 ４
透明電極、 ４ａ 対向基板、５ カラーフィルター、
６ 偏光板、 ７ ガラス基板、８ 光反射防止膜、
９ 白色光、 １０ レジスト、５１ Ｒ用カラ
ーフィルター、 ５２ Ｇ用カラーフィルター、５３
Ｂ用カラーフィルター、 ８１ Ｒに対応する光反射
防止膜、８２ Ｇに対応する光反射防止膜、８３ Ｂに
対応する光反射防止膜。
ス基板、２ 駆動電極、 ３ 液晶、 ４
透明電極、 ４ａ 対向基板、５ カラーフィルター、
６ 偏光板、 ７ ガラス基板、８ 光反射防止膜、
９ 白色光、 １０ レジスト、５１ Ｒ用カラ
ーフィルター、 ５２ Ｇ用カラーフィルター、５３
Ｂ用カラーフィルター、 ８１ Ｒに対応する光反射
防止膜、８２ Ｇに対応する光反射防止膜、８３ Ｂに
対応する光反射防止膜。
Claims (3)
- 【請求項１】 絶縁性透明基板上に駆動電極および該電
極に接続された能動素子を配列してなるアクティブマト
リックス基板と、このアクティブマトリックス基板に対
向して配置され、異なる波長の光を透過させるカラーフ
ィルター並びに透明電極が形成された対向基板と、前記
アクティブマトリックス基板および対向基板間に注入さ
れた液晶と、前記アクティブマトリックス基板における
能動素子を形成した面の反対側の面に前記カラーフィル
ターの各色に対応してそれぞれ異なる膜厚に形成された
光反射防止膜とを備えてなることを特徴とする液晶表示
装置。 - 【請求項２】 前記カラーフィルターを赤、緑、青で構
成するとともに、前記光反射防止膜の膜厚を該カラーフ
ィルターの赤、緑、青に対応して順次薄くするように構
成してなることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装
置。 - 【請求項３】 絶縁性透明基板の一方の面に駆動電極お
よび該電極に接続された能動素子をパターン形成して得
られるアクティブマトリックス基板と、該アクティブマ
トリックス基板に対向している異なる波長の光を透過さ
せる３種類のカラーフィルター並びに透明電極が形成さ
れた対向基板と、該アクティブマトリックス基板と該対
向基板との間に注入する液晶とを組み合わせて液晶表示
装置を製造するに際して、該アクティブマトリックス基
板を、絶縁性透明基板上に駆動電極および該電極に接続
された能動素子をパターン形成したのち、該電極および
該能動素子が形成された絶縁性透明基板の反対側の面に
レジストを塗布するレジスト塗布工程、該カラーフィル
ターの第１の色に対応した部分を抜き取るレジスト抜き
取り工程、さらにこの抜き取り部分に空気とガラスとの
間の屈折率を有する第１の光反射防止膜を形成する光反
射防止膜形成工程およびレジストを除去するレジスト除
去工程を施して第１の光反射防止膜を形成し、ついで該
カラーフィルターの第２の色に対応した該絶縁性透明基
板上の部分に対して該レジスト塗布工程、該レジスト抜
き取り工程、該光反射防止膜形成工程および該レジスト
除去工程を施して第１の光反射防止膜の膜厚とは異なる
膜厚を有する第２の光反射防止膜を形成し、さらに該カ
ラーフィルターの第３の色に対応した該絶縁性透明基板
上の部分に対して該レジスト塗布工程、該レジスト抜き
取り工程、該光反射防止膜形成工程および該レジスト除
去工程を施して第１の光反射防止膜および第２の光反射
防止膜のそれぞれの膜厚とは異なる膜厚を有する第３の
光反射防止膜を形成して作製することを特徴とする液晶
表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6144626A JPH0815688A (ja) | 1994-06-27 | 1994-06-27 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6144626A JPH0815688A (ja) | 1994-06-27 | 1994-06-27 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0815688A true JPH0815688A (ja) | 1996-01-19 |
Family
ID=15366419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6144626A Pending JPH0815688A (ja) | 1994-06-27 | 1994-06-27 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0815688A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100463854B1 (ko) * | 1996-07-19 | 2005-04-06 | 삼성전자주식회사 | 표시장치 |
| EP2813534A2 (en) | 2001-01-15 | 2014-12-17 | Daicel-Evonik Ltd. | Composite and process for producing the same |
-
1994
- 1994-06-27 JP JP6144626A patent/JPH0815688A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100463854B1 (ko) * | 1996-07-19 | 2005-04-06 | 삼성전자주식회사 | 표시장치 |
| EP2813534A2 (en) | 2001-01-15 | 2014-12-17 | Daicel-Evonik Ltd. | Composite and process for producing the same |
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