JPH08125347A - 多層のプリント配線板の製造方法 - Google Patents

多層のプリント配線板の製造方法

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JPH08125347A
JPH08125347A JP26473894A JP26473894A JPH08125347A JP H08125347 A JPH08125347 A JP H08125347A JP 26473894 A JP26473894 A JP 26473894A JP 26473894 A JP26473894 A JP 26473894A JP H08125347 A JPH08125347 A JP H08125347A
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wiring board
printed wiring
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resin composition
multilayer printed
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JP26473894A
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Eiichiro Saito
英一郎 斉藤
Masayuki Ishihara
政行 石原
Shuji Maeda
修二 前田
Hiroaki Fujiwara
弘明 藤原
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Panasonic Electric Works Co Ltd
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Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 内層回路が形成された絶縁基板の表面に絶縁
層を形成する多層プリント配線板の製造方法であって、
高位な寸法安定性を有し、信頼性の優れた多層のプリン
ト配線板の製造方法を提供する。 【構成】 内層回路3が形成された絶縁基板6の表面
に、樹脂組成物を塗布し、上記樹脂組成物中の樹脂を硬
化させて絶縁層1を形成する多層プリント配線板の製造
方法であって、上記樹脂組成物の粘度が10〜1000
cpsの範囲であり、かつ、上記樹脂層1を熱硬化で形
成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は多層のプリント配線板の
製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子機器、電気機器に、絶縁層と導体層
を交互に配設した多層のプリント配線板が多用されてい
る。近年、高密度化、軽量化、薄型化の要求に伴って、
内層回路を形成した内層基板上に樹脂組成物を塗布し、
上記樹脂組成物中の樹脂を硬化させて絶縁層を形成する
方法が採用されている。この場合、内層基板上に樹脂層
を形成し、この樹脂層に孔明け加工し、めっき処理を施
し、回路を形成することにより、内層回路と絶縁層上に
形成した回路を導通する。これを逐次行うことにより多
層化するという方法が知られている。なお、上記内層回
路と外層回路や内層回路どうしを導通する孔をバイアホ
ールと称する。上記樹脂層は、低粘度の樹脂組成物を、
先ず光硬化させた後に、熱硬化させて形成している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記方式で絶縁層を形
成した多層のプリント配線板は、絶縁層が光硬化の際
に、収縮率が大きく高位な寸法安定性が得られない欠点
があり、高位な寸法安定性を有する樹脂組成物を塗布し
た多層のプリント配線板の製造方法が求められている。
この対策として、絶縁層を熱硬化のみで形成することが
試みられるが、均一な厚さの絶縁層を形成することが困
難のため、熱衝撃を繰り返し受けると上記バイアホール
内の導回路に断線が起きやすく、多層のプリント配線板
として十分な信頼性を得ることができない。
【0004】本発明は上記事実に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、内層回路が形成された絶
縁基板の表面に絶縁層を形成する多層プリント配線板の
製造方法であって、高位な寸法安定性を有し、熱衝撃に
より断線の起きにくい信頼性の優れた多層のプリント配
線板の製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
多層のプリント配線板の製造方法は、内層回路が形成さ
れた絶縁基板の表面に、樹脂組成物を塗布し、上記樹脂
組成物中の樹脂を硬化させて絶縁層を形成する多層プリ
ント配線板の製造方法であって、上記樹脂組成物の粘度
が10〜1000cpsの範囲であり、かつ、上記樹脂
層が熱硬化のみで形成されることを特徴とする。
【0006】本発明の請求項2に係る多層のプリント配
線板の製造方法は、請求項1記載の多層のプリント配線
板の製造方法において、上記絶縁基板の表面に、樹脂組
成物をフローコート方式で塗布することを特徴とする。
【0007】本発明の請求項3に係る多層のプリント配
線板の製造方法は、請求項1又は請求項2記載の多層の
プリント配線板の製造方法において、上記樹脂組成物中
の樹脂が、この樹脂の数平均分子量(Mn)に対する重
量平均分子量(Mw)の比率(Mw/Mn)が1.0〜
2.5の範囲であることを特徴とする。
【0008】本発明の請求項4に係る多層のプリント配
線板の製造方法は、請求項1乃至請求項3いずれか記載
の多層のプリント配線板の製造方法において、上記樹脂
組成物が、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシ
ジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、スチレンオ
キサイド、グルシジルメタクリレート、ビニルシクロヘ
キセンジオキサイド、ジグリシジルアニリンのうちの少
なくとも1種からなる反応希釈剤を含み、この反応希釈
剤の含有量が上記樹脂100重量部に対し2〜30重量
部の範囲であることを特徴とする。
【0009】以下、本発明を詳細に説明する。図1は本
発明によって得られる多層のプリント配線板の要部断面
図の一例である。
【0010】本発明に用いられる絶縁基板6は表面に内
層回路3を形成する。上記絶縁基板6は、基材に樹脂を
含浸して得られるプリプレグの樹脂を硬化させた基板で
ある。上記樹脂としてはエポキシ樹脂、ポリイミド樹
脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、PPO樹脂等の単
独、変性物、混合物等が挙げられる。上記基材として
は、特に限定しないが、ガラス繊維等の無機材料の方が
耐熱性、耐湿性に優れて好ましい。また、耐熱性に優れ
る有機繊維布基材及びこれらの混合物を用いることもで
きる。上記内層回路3は、上記絶縁基板6の表面に配設
された銅等の金属箔をエッチングすることにより形成さ
れる。
【0011】本発明においては、上記絶縁基板6の表面
に樹脂組成物を塗布し、上記樹脂組成物中の樹脂を硬化
させて絶縁層1を形成する。この樹脂組成物を構成する
樹脂は熱硬化性樹脂である。上記熱硬化性樹脂として
は、制限しないが、得られる絶縁層1の耐熱性、寸法安
定性が良好な点から、エポキシ樹脂、及び、その変性物
が適する。上記エポキシ樹脂は、例えば、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、
グリシジルエーテル化エポキシ樹脂、イソシアヌレート
型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、多官能
型エポキシ樹脂、グリシジル化エポキシ樹脂、脂環式エ
ポキシ樹脂、及び、それらの臭素化した難燃化エポキシ
樹脂等が挙げられ、これらは単独、または併用して用い
られる。本発明においては、樹脂が熱硬化性樹脂である
ので、熱硬化のみで硬化し、絶縁層1が形成される。上
記硬化が熱のみであるため、硬化の際の収縮率が小さく
なり、絶縁層1の寸法安定性が良好となる。
【0012】上記樹脂組成物は樹脂と共に硬化剤を含
み、上記硬化剤としては、例えば、アミン系硬化剤、フ
ェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤等が挙げられる。
【0013】本発明においては、上記樹脂組成物の粘度
が10〜1000cpsの範囲に制限される。なお、上
記粘度の値は25℃での測定値である。樹脂組成物の粘
度が10〜1000cpsの範囲であると、塗布面の凹
凸ができにくく、均一な厚さの絶縁層1を容易に形成す
ることができる。上記樹脂組成物の絶縁基板6への塗布
はフローコート方式で塗布することが、上記粘度範囲の
樹脂組成物の塗布には望ましい。
【0014】上記範囲の粘度を有する樹脂組成物を得る
ために、用いられる希釈剤について説明する。希釈剤と
しては、硬化の際に樹脂と反応する、反応性希釈剤を用
いることが好ましい。上記反応性希釈剤としては、フェ
ニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、
アリルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、グル
シジルメタクリレート、ビニルシクロヘキセンジオキサ
イド、ジグリシジルアニリン等が挙げられる。これら反
応性希釈剤は単独、及び、併用して用いられる。希釈に
アセトン、トルエン等の溶剤を用いると熱硬化する際に
収縮が生じやすいが、上記反応性希釈剤を用いると、熱
硬化する際の収縮を抑えることができる。上記反応性希
釈剤の含有量は上記樹脂100重量部に対し2〜30重
量部が好ましい。上記範囲より多いと絶縁層1の耐熱性
が低下し、上記範囲より少ないと樹脂組成物の粘度調製
が困難となる。
【0015】さらに、上記樹脂の数平均分子量(Mn)
に対する重量平均分子量(Mw)の比率(Mw/Mn)
が1.0〜2.5の範囲であることが、好ましい。上記
比率(Mw/Mn)が上記範囲内であると絶縁層1の信
頼性が向上する。
【0016】上述の如くして形成された絶縁層1の表面
にセミアディティブ等により外層回路2を形成し多層の
プリント配線板を得る。さらに、必要により上記絶縁層
1に、この絶縁層1を貫通するバイアール5を設け、こ
のバイアーホール5に金属メッキを施し導回路4を形成
することができる。
【0017】本発明の製造方法によると、絶縁層1の厚
さが均一に形成されるので、熱衝撃を受けても回路に断
線が起きにくく、優れた信頼性を有する多層のプリント
配線板を得ることができる。
【0018】
【作用】本発明の請求項1乃至請求項4に係る多層のプ
リント配線板の製造方法によると、熱硬化のみで形成さ
れるので、硬化の際の収縮率を小さくすることができ、
絶縁層の寸法安定性が良好となる。さらに、樹脂組成物
の粘度が10〜1000cpsの範囲であるので、塗布
面の凹凸ができにくく、均一な厚さの絶縁層を容易に形
成することができる。
【0019】特に、本発明の請求項2に係る多層のプリ
ント配線板の製造方法によると、粘度が10〜1000
cpsの樹脂組成物を、均一な厚さに容易に塗布でき
る。
【0020】
【実施例】
実施例1 樹脂組成物を次の配合で作製した。エポキシ樹脂とし
て、メチルエチルケトンで希釈し不揮発分が80wt%
のビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成株式会社
製:YDB−500)を125重量部(以下部と記
す)、及び、メチルエチルケトンで希釈し不揮発分が7
5wt%のノボラック型エポキシ樹脂(東都化成株式会
社製:YDCN−220)を13部、硬化剤としてジシ
アンジアミドを2部、ジメチルホルムアミドを60部配
合した。上記エポキシ樹脂の全量の平均分子量の比率は
Mw/Mn=3.8であった。得た樹脂組成物の粘度は
400cpsであった。
【0021】絶縁基板として、18μmの銅箔を片面に
配設した厚さ0.8mmのガラス基材エポキシ樹脂積層
板(NEMA規格FR−4タイプ)を用い、ランド径
1.0mm、導体回路幅0.2mm、ランドの中心間隔
2.54mmピッチで格子状の内層回路をエッチングに
より作製した。ランドは200個作製した。
【0022】次に、上記内層回路を形成した絶縁基板の
表面に、上記樹脂組成物をフローコート方式で塗布し、
170℃で60分乾燥したところ、厚さ45μmの絶縁
層が形成された。上記絶縁層の凹凸の最大差は2.5μ
mと小さかった。
【0023】その後、ドリルを用い、上記絶縁層を貫通
して内層回路のランドに達する直径0.3mmのバイア
ホールを明け、銅メッキを施し導回路を形成した。上記
絶縁層の表面にセミアディティブ方式で銅メッキを施
し、この絶縁層の表面に穴径0.3mm、ランド径1.
0mm、外層導体回路幅0.2mm、ランドの中心間隔
2.54mmピッチで格子状の外層回路をエッチングに
より作製し、内層回路、外層回路、及び、バイアホール
の導回路を連結した回路を作製した。
【0024】得られた多層のプリント配線板の信頼性を
評価した。上記信頼性の試験は次のように行った。上記
回路に40Vの電圧で通電しながら、温度260℃のオ
イルに10秒、温度20℃の水に10秒、温度20℃の
フッソ系不活性水素(スリーエム株式会社製:フロリナ
ート)に10秒の順に浸漬し、これを1サイクルとする
熱衝撃試験を行った。この熱衝撃試験で回路が断線する
迄のサイクル数を測定した。結果は表1に示すとおり、
断線までに245サイクルを要した。
【0025】実施例2 樹脂組成物を次の配合で作製した。エポキシ樹脂とし
て、メチルエチルケトンで希釈し不揮発分が80wt%
のビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成株式会社
製:YDB−500)を125重量部(以下部と記
す)、及び、メチルエチルケトンで希釈し不揮発分が7
5wt%のノボラック型エポキシ樹脂(東都化成株式会
社製:YDCN−220)を13部、硬化剤としてジシ
アンジアミドを2部、反応性希釈剤としてブチルグリシ
ジルエーテルを20部配合した。上記エポキシ樹脂の全
量の平均分子量の比率はMw/Mn=3.8であった。
得た樹脂組成物の粘度は580cpsであった。以下実
施例1と同様にして多層のプリント配線板を作製した。
絶縁層は厚さ47μmであり、凹凸の最大差は2.7μ
mと小さかった。得られた多層のプリント配線板の信頼
性を実施例1と同様に評価した。結果は表1に示すとお
り、断線までに287サイクルを要した。
【0026】実施例3 実施例2の反応性希釈剤としてスチレンオキサイドを2
0部配合し、樹脂組成物の粘度が760cpsであった
以外は実施例2と同様にして多層のプリント配線板を作
製した。絶縁層は厚さ51μmであり、凹凸の最大差は
2.9μmと小さかった。得られた多層のプリント配線
板の信頼性を実施例1と同様に評価した。結果は表1に
示すとおり、断線までに265サイクルを要した。
【0027】実施例4 実施例2の反応性希釈剤としてビニルシクロヘキセンジ
オキサイドを20部配合し、樹脂組成物の粘度が880
cpsであった以外は実施例2と同様にして多層のプリ
ント配線板を作製した。絶縁層は厚さ50μmであり、
凹凸の最大差は2.9μmと小さかった。得られた多層
のプリント配線板の信頼性を実施例1と同様に評価し
た。結果は表1に示すとおり、断線までに296サイク
ルを要した。
【0028】実施例5 実施例2の反応性希釈剤としてブチルグリシジルエーテ
ルを30部配合し、樹脂組成物の粘度が55cpsであ
った以外は実施例2と同様にして多層のプリント配線板
を作製した。絶縁層は厚さ44μmであり、凹凸の最大
差は2.2μmと小さかった。得られた多層のプリント
配線板の信頼性を実施例1と同様に評価した。結果は表
1に示すとおり、断線までに242サイクルを要した。
【0029】実施例6 実施例1のジメチルホルムアミドに代わり、メチルエチ
ルケトンを80部配合し、樹脂組成物の粘度が15cp
sであった以外は実施例1と同様にして多層のプリント
配線板を作製した。絶縁層は厚さ43μmであり、凹凸
の最大差は3.0μmと小さかった。得られた多層のプ
リント配線板の信頼性を実施例1と同様に評価した。結
果は表1に示すとおり、断線までに240サイクルを要
した。
【0030】実施例7 樹脂組成物を次の配合で作製した。エポキシ樹脂とし
て、ビスフェノールA型エポキシ樹脂である東都化成株
式会社製のYDB−500を100部とエポキシ当量1
80のビスフェノールA型エポキシ樹脂を20部、及
び、ノボラック型エポキシ樹脂(東都化成株式会社製:
YDCN−220)を10部、硬化剤としてジシアンジ
アミドを2部配合した。上記エポキシ樹脂の全量の平均
分子量の比率はMw/Mn=2.2であった。得た樹脂
組成物の粘度は980cpsであった。以下実施例1と
同様にして多層のプリント配線板を作製した。絶縁層は
厚さ51μmであり、凹凸の最大差は3.0μmと小さ
かった。得られた多層のプリント配線板の信頼性を実施
例1と同様に評価した。結果は表1に示すとおり、断線
までに387サイクルを要した。
【0031】比較例1 樹脂組成物を次の配合で作製した。エポキシ樹脂とし
て、メチルエチルケトンで希釈し不揮発分が80wt%
のビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成株式会社
製:YDB−500)を125重量部(以下部と記
す)、及び、メチルエチルケトンで希釈し不揮発分が7
5wt%のノボラック型エポキシ樹脂(東都化成株式会
社製:YDCN−220)を13部、硬化剤としてジシ
アンジアミドを2部、ジメチルホルムアミドを5部配合
した。この樹脂組成物の粘度は5780cpsであっ
た。以下実施例1と同様にして多層のプリント配線板を
作製した。絶縁層は厚さ58μmであり、凹凸の最大差
は5.2μmと大きかった。得られた多層のプリント配
線板の信頼性を実施例1と同様に評価した。結果は表1
に示すとおり、128サイクルで断線した。
【0032】
【表1】
【0033】
【発明の効果】本発明の請求項1乃至請求項4に係る多
層のプリント配線板の製造方法によると、熱硬化のみで
形成されるので、硬化の際の収縮率を小さくすることが
でき、絶縁層の寸法安定性が良好となる。さらに、樹脂
組成物の粘度が10〜1000cpsの範囲であるの
で、塗布面の凹凸ができにくく、均一な厚さの絶縁層を
容易に形成することができるため、熱衝撃を受けても回
路に断線が起きにくく、優れた信頼性を有する多層のプ
リント配線板を得ることができる。
【0034】また、本発明の請求項2に係る多層のプリ
ント配線板の製造方法によると、特に、フローコート方
式で塗布するので、粘度が10〜1000cpsの樹脂
組成物を、均一な厚さに容易に塗布できる。
【0035】また、本発明の請求項3に係る多層のプリ
ント配線板の製造方法によると、特に、樹脂の平均分子
量の比率(Mw/Mn)が1.0〜2.5の範囲である
ため、回路の信頼性の優れた多層のプリント配線板を得
ることができる。
【0036】また、本発明の請求項4に係る多層のプリ
ント配線板の製造方法によると、特に、樹脂組成物が反
応希釈剤を含むので、溶剤を用いた場合に比較し、硬化
の際の収縮をより小さくすることができるため、回路の
信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によって得られる多層のプリント配線板
の要部断面図の一例である。
【符号の説明】
1 絶縁層 2 外層回路 3 内層回路 4 導回路 5 バイアホール 6 絶縁基板
フロントページの続き (72)発明者 藤原 弘明 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内層回路が形成された絶縁基板の表面
    に、樹脂組成物を塗布し、上記樹脂組成物中の樹脂を硬
    化させて絶縁層を形成する多層プリント配線板の製造方
    法であって、上記樹脂組成物の粘度が10〜1000c
    psの範囲であり、かつ、上記樹脂層が熱硬化のみで形
    成されることを特徴とする多層のプリント配線板の製造
    方法。
  2. 【請求項2】 上記絶縁基板の表面に、樹脂組成物をフ
    ローコート方式で塗布することを特徴とする請求項1記
    載の多層のプリント配線板の製造方法。
  3. 【請求項3】 上記樹脂組成物中の樹脂が、この樹脂の
    数平均分子量(Mn)に対する重量平均分子量(Mw)
    の比率(Mw/Mn)が1.0〜2.5の範囲であるこ
    とを特徴とする請求項1又は請求項2記載の多層のプリ
    ント配線板の製造方法。
  4. 【請求項4】 上記樹脂組成物が、フェニルグリシジル
    エーテル、ブチルグリシジルエーテル、アリルグリシジ
    ルエーテル、スチレンオキサイド、グルシジルメタクリ
    レート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、ジグリシ
    ジルアニリンのうちの少なくとも1種からなる反応希釈
    剤を含み、この反応希釈剤の含有量が上記樹脂100重
    量部に対し2〜30重量部の範囲であることを特徴とす
    る請求項1乃至請求項3いずれか記載の多層のプリント
    配線板の製造方法。
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