JPH0791052B2 - 表面がアルコキシ化された多孔質シリカ粒子とその製造方法 - Google Patents
表面がアルコキシ化された多孔質シリカ粒子とその製造方法Info
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- JPH0791052B2 JPH0791052B2 JP63229331A JP22933188A JPH0791052B2 JP H0791052 B2 JPH0791052 B2 JP H0791052B2 JP 63229331 A JP63229331 A JP 63229331A JP 22933188 A JP22933188 A JP 22933188A JP H0791052 B2 JPH0791052 B2 JP H0791052B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、プラスチックレンズのハードコートや繊維処
理剤として有用な、アルコール分散媒中での安定性に優
れた、表面がアルコシキ化された多孔質シリカ粒子およ
びその製造方法に関するものである。
理剤として有用な、アルコール分散媒中での安定性に優
れた、表面がアルコシキ化された多孔質シリカ粒子およ
びその製造方法に関するものである。
（従来の技術） 従来、表面にアルコキシ基を持つシリカゾルは、その殆
どが水分散シリカゾルとアルコールとを原料として製造
されている。すなわち、アルコールを水分散シリカゾル
中に加えた後、共沸により水を除去し、最終的にアルコ
ール分散シリカゾルとする、シリカ表面のSi−OHとROM
とからSi−ORを形成する方法である。
どが水分散シリカゾルとアルコールとを原料として製造
されている。すなわち、アルコールを水分散シリカゾル
中に加えた後、共沸により水を除去し、最終的にアルコ
ール分散シリカゾルとする、シリカ表面のSi−OHとROM
とからSi−ORを形成する方法である。
通常水分散シリカゾルの表面は非常に多くの親水性のシ
ラノール基で覆われている。この水分散シリカゾルから
表面がアルコシキ化されたシリカを製造する場合、シリ
カ表面のシラノール基は次の式で示されるように、アル
コールと反応して疎水性のけい素に直結したアルコキシ
基（≡Si−OR）を形成する。
ラノール基で覆われている。この水分散シリカゾルから
表面がアルコシキ化されたシリカを製造する場合、シリ
カ表面のシラノール基は次の式で示されるように、アル
コールと反応して疎水性のけい素に直結したアルコキシ
基（≡Si−OR）を形成する。
≡S:−OH＋Ｒ−OH→≡Si−OR＋H2O このアルコキシ基がシリカ表面を覆い、シリカ粒子の性
質を親水性から疎水性に変えるので、シリガゾルはアル
コール中でも凝集しにくくなる。
質を親水性から疎水性に変えるので、シリガゾルはアル
コール中でも凝集しにくくなる。
しかし原料の水分散シリカゾル中のシリカ粒子表面に
は、余りにも多くのシラノール基が存在するので、すべ
てのシラノール基がけい素に直結したアルコキシ基の変
わる訳ではなく、その殆どはシリカ粒子の表面にそのま
ま残存し、両者の割合は概ねシラノール基で５〜10μmo
l/m2、上記アルコキシ基で１〜３μmol/m2となる。
は、余りにも多くのシラノール基が存在するので、すべ
てのシラノール基がけい素に直結したアルコキシ基の変
わる訳ではなく、その殆どはシリカ粒子の表面にそのま
ま残存し、両者の割合は概ねシラノール基で５〜10μmo
l/m2、上記アルコキシ基で１〜３μmol/m2となる。
（発明が解決しようとする課題） このように水分散シリカゾルを原料として用い、これを
アルコキシ化して製造したシリカゾルでは、アルコシキ
基の密度が低く表面になお多くのシラノール基が残存す
るので、アルコール中での安定性が低く、シラノール基
同志の再結合反応が起こり、シリカの凝集、沈殿を起こ
し、アルコール分散シリカゾルの安定性を低下させてい
た。
アルコキシ化して製造したシリカゾルでは、アルコシキ
基の密度が低く表面になお多くのシラノール基が残存す
るので、アルコール中での安定性が低く、シラノール基
同志の再結合反応が起こり、シリカの凝集、沈殿を起こ
し、アルコール分散シリカゾルの安定性を低下させてい
た。
本発明の目的はアルコール分散シリカゾルの安定性を向
上した、表面がアルコキシ化された多孔質シリカ粒子お
よびその製造方法を提供するにある。
上した、表面がアルコキシ化された多孔質シリカ粒子お
よびその製造方法を提供するにある。
（課題を解決するための手段） 本発明は、表面のけい素に直結したアルコキシ基の密度
が3.5μmol/m2以上、シラノール基の密度が２μmol/m2
以下で、比表面積Ｓ（m2/g）と平均粒子径Ｄ（nm）との
関係がＳ×Ｄ≧5,000である表面がアルコキシ化された
多孔質シリカ粒子、およびこれを溶媒中でコロイド状に
分散したシリカゾル、さらには、この多孔質シリカ粒子
を得るための、0.1〜５モル／の濃度のテトラアルコ
キシシランを、その2.5〜5.0倍モルの水と0.1〜10倍モ
ルのアルカリ触媒とを含有するアルコール中で加水分解
する方法に関するものである。
が3.5μmol/m2以上、シラノール基の密度が２μmol/m2
以下で、比表面積Ｓ（m2/g）と平均粒子径Ｄ（nm）との
関係がＳ×Ｄ≧5,000である表面がアルコキシ化された
多孔質シリカ粒子、およびこれを溶媒中でコロイド状に
分散したシリカゾル、さらには、この多孔質シリカ粒子
を得るための、0.1〜５モル／の濃度のテトラアルコ
キシシランを、その2.5〜5.0倍モルの水と0.1〜10倍モ
ルのアルカリ触媒とを含有するアルコール中で加水分解
する方法に関するものである。
本発明者らは、上記多孔質シリカ粒子では、従来のアル
コキシ基が３μmol/m2以下のものに比べ、アルコール中
での安定性が非常に良好であることを見出し、本発明を
完成した。
コキシ基が３μmol/m2以下のものに比べ、アルコール中
での安定性が非常に良好であることを見出し、本発明を
完成した。
これをさらに詳細に説明すると、本発明の多孔質シリカ
粒子の製造に際し出発物質として用いられるテトラアル
コキシシランは一般式Si（OR）４で示される低級脂肪族
化合物で、Ｒで定義されるアルキル基が炭素原子数４以
下のメチル、エチル、プロピル、ブチル等のものが好ま
しい。このアルキル基の炭素数が増加すると、メチル基
では５〜500nm、エチル基では100〜1,800nm、プロピル
基では250〜2,500nm、ブチル基では500〜3,000nmという
ように、反応により生成するシリカの粒径が大きくな
る。そこで求める粒径に応じてアルキル基の炭素数の異
なるテトラアルコキシシラを選択使用するのがよい。
粒子の製造に際し出発物質として用いられるテトラアル
コキシシランは一般式Si（OR）４で示される低級脂肪族
化合物で、Ｒで定義されるアルキル基が炭素原子数４以
下のメチル、エチル、プロピル、ブチル等のものが好ま
しい。このアルキル基の炭素数が増加すると、メチル基
では５〜500nm、エチル基では100〜1,800nm、プロピル
基では250〜2,500nm、ブチル基では500〜3,000nmという
ように、反応により生成するシリカの粒径が大きくな
る。そこで求める粒径に応じてアルキル基の炭素数の異
なるテトラアルコキシシラを選択使用するのがよい。
テトラアルコキシシランの、反応媒体としてのアルコー
ルに対する濃度は0.1〜5mol/、とくには0.2〜2mol/
であることが好ましい。濃度がこの範囲よりも低いと、
過大な反応容積を必要とし生産性が低く経済的に劣る。
また5mol/を越えると、濃すぎるために粒子間の解合
が起こり、分散性の低下、さらには凝集によるシリカの
分相を生ずる。
ルに対する濃度は0.1〜5mol/、とくには0.2〜2mol/
であることが好ましい。濃度がこの範囲よりも低いと、
過大な反応容積を必要とし生産性が低く経済的に劣る。
また5mol/を越えると、濃すぎるために粒子間の解合
が起こり、分散性の低下、さらには凝集によるシリカの
分相を生ずる。
このアルコールは一般式ROHで示される低級脂肪族アル
コールで、Ｒで定義されるアルキル基が炭素原子数で４
以下のメタノール、エタノール、２−プロパノール、１
−ブタノールなどが好ましい。これらは通常市販品で充
分間に合うが、このアルコールの炭素原子数が増加する
と、生成するシリカの粒径が大きくなるので、希望する
シリカの粒径に応じてアルコールの種類を選択するのが
望ましい。
コールで、Ｒで定義されるアルキル基が炭素原子数で４
以下のメタノール、エタノール、２−プロパノール、１
−ブタノールなどが好ましい。これらは通常市販品で充
分間に合うが、このアルコールの炭素原子数が増加する
と、生成するシリカの粒径が大きくなるので、希望する
シリカの粒径に応じてアルコールの種類を選択するのが
望ましい。
反応媒体系に添加使用されるアルカリ触媒としてはアン
モニア、またはそのアルキル基がメチル、エチル、プロ
ピル、ブチルなどであるアルキルアミン類、例えばモノ
アルキルアミン、ジアルキルアミン、トリアルキルアミ
ンなどが使用可能である。しかしアルキルアミンは加水
分解速度が遅く濃度によっては凝集剤としてシリカ粒子
の解合を促進する働きもあるため、このような作用を持
たず反応性に優れ揮発性が高く後工程での除去のし易い
アンモニアが好適である。
モニア、またはそのアルキル基がメチル、エチル、プロ
ピル、ブチルなどであるアルキルアミン類、例えばモノ
アルキルアミン、ジアルキルアミン、トリアルキルアミ
ンなどが使用可能である。しかしアルキルアミンは加水
分解速度が遅く濃度によっては凝集剤としてシリカ粒子
の解合を促進する働きもあるため、このような作用を持
たず反応性に優れ揮発性が高く後工程での除去のし易い
アンモニアが好適である。
このアルカリ触媒のテトラアルコキシシランに対する濃
度、すなわちシリカに対するモル比（例えばアルカリ/S
i）は0.1〜10であり、とくには0.3〜５が好ましい。こ
れが0.1以下ではシリカがごく微細な粒子として分散
し、安定に存在し得るに必要な電荷を粒子表面に付与す
ることができず、反応中あるいは反応後しばらくして、
粒子同志が解合してゲル化してしまい、また10以上の添
加では触媒効果の向上が望めず経済的でない。
度、すなわちシリカに対するモル比（例えばアルカリ/S
i）は0.1〜10であり、とくには0.3〜５が好ましい。こ
れが0.1以下ではシリカがごく微細な粒子として分散
し、安定に存在し得るに必要な電荷を粒子表面に付与す
ることができず、反応中あるいは反応後しばらくして、
粒子同志が解合してゲル化してしまい、また10以上の添
加では触媒効果の向上が望めず経済的でない。
しかし、この触媒濃度を上記の範囲内で変化させると、
シリカの粒子径が変化するので、この性質を利用してシ
リカ粒子の大きさを調整することができる。
シリカの粒子径が変化するので、この性質を利用してシ
リカ粒子の大きさを調整することができる。
加水分解に必要な水の理論量（化学量論値）は、H2O/ア
ルコキシシラン＝２である。本発明では表面にアルコシ
キ基を持つシリカを製造するため、水の量は理論値に近
い量でよい。その量はテトラアルコキシシランに対し2.
5〜5.0倍モルであり、3.0〜4.0倍モルが好ましい。これ
が2.5倍モル未満ではテトラアルコキシシランが充分に
加水分解されないため、未反応のモノマー（テトラアル
コキシシラン）が残存したり、部分加水分解物である可
溶性ポリマーが生成するので好ましくない。また5.0倍
モルを超えると、加水分解が充分に行われるため、表面
のシラノール基が増加し好ましくない。
ルコキシシラン＝２である。本発明では表面にアルコシ
キ基を持つシリカを製造するため、水の量は理論値に近
い量でよい。その量はテトラアルコキシシランに対し2.
5〜5.0倍モルであり、3.0〜4.0倍モルが好ましい。これ
が2.5倍モル未満ではテトラアルコキシシランが充分に
加水分解されないため、未反応のモノマー（テトラアル
コキシシラン）が残存したり、部分加水分解物である可
溶性ポリマーが生成するので好ましくない。また5.0倍
モルを超えると、加水分解が充分に行われるため、表面
のシラノール基が増加し好ましくない。
アルコキシシランからシリカ粒子へ成長するときの加水
分解反応機構は次式で示される。
分解反応機構は次式で示される。
Si（OR）４＋XH2O→Si（OH）ｘ（OR）4-x＋XROH … ≡Si−OH＋HO−Si≡→≡Si−Ｏ−Si≡＋H2O …… ≡Si−OH＋HO−Si≡→≡Si−Ｏ−Si≡＋ROH … 式で生成した加水分解モノマーが、そのシラノール基
同志（式）あるいはシラノール基とけい素に直結した
アルコキシ基とが（式）縮合することで、オリゴマー
→ポリマー→微細粒子と次第に分子量（縮合度）を高
め、最終的に粒子にまで成長する。このときの加水分解
温度は10〜50℃、とくには20〜40℃が好ましい。これが
10℃未満では加水分解反応速度や縮合反応速度を低下さ
せる以上にシリカ粒子表面へのアルカリイオンの配位速
度を低下させ、粒子のイオン的安定性を減少させ、粒子
同志の融合を促進するので好ましくなく、また50℃を超
えると加水分解反応速度や縮合反応速度を増加させる以
上にシリカ粒子表面へのアルカリイオンの配位速度を増
加し、縮合度の低い状態で安定化してしまい、小さすぎ
るシリカ粒子が生成し好ましくない。
同志（式）あるいはシラノール基とけい素に直結した
アルコキシ基とが（式）縮合することで、オリゴマー
→ポリマー→微細粒子と次第に分子量（縮合度）を高
め、最終的に粒子にまで成長する。このときの加水分解
温度は10〜50℃、とくには20〜40℃が好ましい。これが
10℃未満では加水分解反応速度や縮合反応速度を低下さ
せる以上にシリカ粒子表面へのアルカリイオンの配位速
度を低下させ、粒子のイオン的安定性を減少させ、粒子
同志の融合を促進するので好ましくなく、また50℃を超
えると加水分解反応速度や縮合反応速度を増加させる以
上にシリカ粒子表面へのアルカリイオンの配位速度を増
加し、縮合度の低い状態で安定化してしまい、小さすぎ
るシリカ粒子が生成し好ましくない。
しかし、この範囲内で反応温度を変化させると、シリカ
の粒子径を変えることができるので、この条件によって
もシリカ粒子の大きさの調整が可能である。
の粒子径を変えることができるので、この条件によって
もシリカ粒子の大きさの調整が可能である。
以上のように、本発明では原料として用いられるテトラ
アルコキシシランおよびアルコールの炭素原子数、アル
カリ触媒の濃度、反応系への水の添加量、および反応温
度により、シリカ粒子径の制御が可能である。この制御
は一般には求める粒子径に応じて、まずテトラアルコキ
シシランの中から適当な炭素数を持つものを選び、これ
によって前述したシリカ粒子径の範囲、例えばテトラメ
トキシシランでは５〜500nmの範囲を決める。この範囲
内での、より精密な粒径制御が要求される場合には、第
１表の諸条件での傾向にしたがって各条件を選択すれ
ば、任意の粒子径のシリカを製造することができる。
アルコキシシランおよびアルコールの炭素原子数、アル
カリ触媒の濃度、反応系への水の添加量、および反応温
度により、シリカ粒子径の制御が可能である。この制御
は一般には求める粒子径に応じて、まずテトラアルコキ
シシランの中から適当な炭素数を持つものを選び、これ
によって前述したシリカ粒子径の範囲、例えばテトラメ
トキシシランでは５〜500nmの範囲を決める。この範囲
内での、より精密な粒径制御が要求される場合には、第
１表の諸条件での傾向にしたがって各条件を選択すれ
ば、任意の粒子径のシリカを製造することができる。
無孔質、真球状、単分散シリカ粒子の比表面積Ｓ（m2/
g）と平均粒子径Ｄ（nm）との関係は、Watson〔Anal.Ch
em.20,576（1948）〕によれば、Ｓ×Ｄ＝2,720である。
このときＳ×Ｄ≧2,720である場合、このシリカは細孔
を持つ多孔質体である。そして、この数値（Ｓ×Ｄ）が
大きいほど、より多孔質である。
g）と平均粒子径Ｄ（nm）との関係は、Watson〔Anal.Ch
em.20,576（1948）〕によれば、Ｓ×Ｄ＝2,720である。
このときＳ×Ｄ≧2,720である場合、このシリカは細孔
を持つ多孔質体である。そして、この数値（Ｓ×Ｄ）が
大きいほど、より多孔質である。
従来の水ガラスから合成されているアルコール分散シリ
カゾルでは、Ｓ×Ｄ＝3,000〜4,000と多孔質性が低い。
しかし本発明で得られるシリカではＳ×Ｄ≧5,000とな
り、非常に多孔質なシリカが得られる。
カゾルでは、Ｓ×Ｄ＝3,000〜4,000と多孔質性が低い。
しかし本発明で得られるシリカではＳ×Ｄ≧5,000とな
り、非常に多孔質なシリカが得られる。
本発明によるシリカの製造は、所定の温度に保持され充
分に撹拌されている、水−アルコール−アルカリ触媒混
合溶液中に、テトラアルコキシシランまたはこれのアル
コール溶液を、徐々に導入することによって行われる。
このとき撹拌が不足すると、沈降性のシリカ粒子が生成
するので好ましくない。また水−アルコール−アルカリ
触媒混合溶液は開放しておくと、アルコールやアルカリ
触媒が揮発し、それらの濃度が時々刻々と変化し再現性
のある製品を製造しにくくなるので密閉系で行うのが望
ましい。テトラアルコキシシラン導入後15〜30分、シリ
カが求める最終粒子径になるまでの間、温度と撹拌を維
持するのが望ましい。
分に撹拌されている、水−アルコール−アルカリ触媒混
合溶液中に、テトラアルコキシシランまたはこれのアル
コール溶液を、徐々に導入することによって行われる。
このとき撹拌が不足すると、沈降性のシリカ粒子が生成
するので好ましくない。また水−アルコール−アルカリ
触媒混合溶液は開放しておくと、アルコールやアルカリ
触媒が揮発し、それらの濃度が時々刻々と変化し再現性
のある製品を製造しにくくなるので密閉系で行うのが望
ましい。テトラアルコキシシラン導入後15〜30分、シリ
カが求める最終粒子径になるまでの間、温度と撹拌を維
持するのが望ましい。
以上の手順により、表面のけい素に直結したアルコキシ
基の密度が3.5μmol/m2以上、シラノール基の密度が２
μmol/m2以下で、比表面積Ｓ（m2/g）と平均粒子径Ｄ
（nm）との関係がＳ×Ｄ≧5,000である、本発明による
表面がアルコキシ化された多孔質シリカ粒子が得られ
る。
基の密度が3.5μmol/m2以上、シラノール基の密度が２
μmol/m2以下で、比表面積Ｓ（m2/g）と平均粒子径Ｄ
（nm）との関係がＳ×Ｄ≧5,000である、本発明による
表面がアルコキシ化された多孔質シリカ粒子が得られ
る。
（作 用） 本発明によって得られる表面がアルコキシ化された多孔
質シリカ粒子は、テトラアルコキシシランを出発原料と
し、反応系に加える水に対して圧倒的にアルコールの多
い系で加水分解されるため、表面にシラノール基は少し
しか存在せず、多量のけい素に直結したアルコキシ基で
覆われたシリカが得られる。このシリカの表面は表面密
度で3.5μmol/m2以上の上記アルコキシ基と、２μmol/m
2以下のシラノール基で覆われ、比表面積Ｓ（m2/g）と
平均粒子径Ｄ（nm）との関係がＳ×Ｄ≧5,000のもので
ある。このシリカはシラノール基が少なく多孔質である
ため、アルコール分散媒中においても均一に分散し、非
常に安定なシリカゾルを形成する。
質シリカ粒子は、テトラアルコキシシランを出発原料と
し、反応系に加える水に対して圧倒的にアルコールの多
い系で加水分解されるため、表面にシラノール基は少し
しか存在せず、多量のけい素に直結したアルコキシ基で
覆われたシリカが得られる。このシリカの表面は表面密
度で3.5μmol/m2以上の上記アルコキシ基と、２μmol/m
2以下のシラノール基で覆われ、比表面積Ｓ（m2/g）と
平均粒子径Ｄ（nm）との関係がＳ×Ｄ≧5,000のもので
ある。このシリカはシラノール基が少なく多孔質である
ため、アルコール分散媒中においても均一に分散し、非
常に安定なシリカゾルを形成する。
（実施例） つぎに、本発明の具体的態様を実施例および比較例によ
り説明する。なお各例においてシラノール基および上記
アルコキシ基の定量は以下の方法で行った。
り説明する。なお各例においてシラノール基および上記
アルコキシ基の定量は以下の方法で行った。
シラノール基： シリカ表面のシラノール基にメタノールをオートクレー
ブ中で反応させ、得られたシリカの炭素量を測定し、そ
の増加分からシラノール基の量を次式で求めた。
ブ中で反応させ、得られたシリカの炭素量を測定し、そ
の増加分からシラノール基の量を次式で求めた。
ΔC0:反応前後の炭素量の差（重量％） S:N2吸着による比表面積（m2/g） けい素に直結したアルコキシ基： シリカに含まれている炭素量と比表面積から上記アルコ
キシ基の量を次式で求めた。
キシ基の量を次式で求めた。
ΔC1:シリカに含まれている炭素量（重量％） S:N2吸着による比表面積（m2/g） n:シリカ表面に結合しているアルコキシ基に含まれて
いる炭素数 実施例 1. 撹拌モーター、滴下ロート、および温度計の付いた10
のガラス製反応フラスコに、29％アンモニア水182ml、
イオン交換水110ml、およびエタノール5542mlをそれぞ
れ仕込み、激しく撹拌しながら反応フラスコ内温を38℃
に保ちながら、テトラメトキシシラン518mlとエタノー
ル648mlの溶液を約１時間で滴下した。反応終了後、ロ
ータリーエバポレーターでシリカ濃度が10％になるよう
に45℃、80mmHgで濃縮した。得られたエタノール分散シ
リカゾルの粒径をサブミクロンアナライザー（N4−64SD
型、コールター）で測定したところ40nmであった。この
シリカゾルを乾燥させた後、比表面積を比表面積自動測
定装置（2200型、島津製作所）で測定したところ256m2/
gであった。また、これをCP−MAS法による13CのNMRをFT
−NMR測定装置（GSX−270型、日本電子）で測定した結
果を第１図に示す。
いる炭素数 実施例 1. 撹拌モーター、滴下ロート、および温度計の付いた10
のガラス製反応フラスコに、29％アンモニア水182ml、
イオン交換水110ml、およびエタノール5542mlをそれぞ
れ仕込み、激しく撹拌しながら反応フラスコ内温を38℃
に保ちながら、テトラメトキシシラン518mlとエタノー
ル648mlの溶液を約１時間で滴下した。反応終了後、ロ
ータリーエバポレーターでシリカ濃度が10％になるよう
に45℃、80mmHgで濃縮した。得られたエタノール分散シ
リカゾルの粒径をサブミクロンアナライザー（N4−64SD
型、コールター）で測定したところ40nmであった。この
シリカゾルを乾燥させた後、比表面積を比表面積自動測
定装置（2200型、島津製作所）で測定したところ256m2/
gであった。また、これをCP−MAS法による13CのNMRをFT
−NMR測定装置（GSX−270型、日本電子）で測定した結
果を第１図に示す。
この結果より、多量のけい素に直結したエトキシ基がシ
リカ表面で結合していることが判明した。このときの上
記エトキシ基の量は12μmol/m2、シラノール基は1.8μm
ol/m2であった。
リカ表面で結合していることが判明した。このときの上
記エトキシ基の量は12μmol/m2、シラノール基は1.8μm
ol/m2であった。
比較例 1. 前例と同じ装置に29％アンモニア水182ml、イオン交換
水1358ml、およびエタノール4294mlを仕込んで同様に反
応させ、粒径130nmのエタノール分散シリカゾルを得
た。このときの上記エトキシ基の量は3.1μmol/m2、シ
ラノール基は10μmol/m2であった。
水1358ml、およびエタノール4294mlを仕込んで同様に反
応させ、粒径130nmのエタノール分散シリカゾルを得
た。このときの上記エトキシ基の量は3.1μmol/m2、シ
ラノール基は10μmol/m2であった。
比較例 2. 市販のメタノールシリカゾルおよびイソブチルアルコー
ルシリカゾル（以上いずれも日産化学工業（株）製）の
けい素に直結したアルコキシ基とシラノール基を測定し
た。メタノールシリカゾルでは上記メトキシ基が2.5μm
ol/m2、シラノール基が8.0μmol/m2であり、イソブチル
アルコールゾルでは上記ブトキシ基が2.0μmol/m2、シ
ラノール基が5.8μmol/m2であった。
ルシリカゾル（以上いずれも日産化学工業（株）製）の
けい素に直結したアルコキシ基とシラノール基を測定し
た。メタノールシリカゾルでは上記メトキシ基が2.5μm
ol/m2、シラノール基が8.0μmol/m2であり、イソブチル
アルコールゾルでは上記ブトキシ基が2.0μmol/m2、シ
ラノール基が5.8μmol/m2であった。
各例の以上の結果とシリカの比表面積の測定結果を第２
表に示す。
表に示す。
（発明の効果） 本発明による表面がアルコキシ化されたシリカは、シラ
ノール基が少なく多孔質であるため、アルコール分散媒
中においても均一に分散し、非常に安定なシリカゾルを
形成する。
ノール基が少なく多孔質であるため、アルコール分散媒
中においても均一に分散し、非常に安定なシリカゾルを
形成する。
第１図は実施例１において得られたシリカを、CP−MAS
法により13C−NMRで測定した結果を示すグラフである。
法により13C−NMRで測定した結果を示すグラフである。
Claims (3)
- 【請求項１】表面のけい素に直結したアルコキシ基の密
度が3.5μmol/m2以上、シラノール基の密度が２μmol/m
2以下で、比表面積Ｓ（m2/g）と平均粒子径Ｄ（nm）と
の関係がＳ×Ｄ≧5,000である表面がアルコキシ化され
た多孔質シリカ粒子。 - 【請求項２】請求項１記載の多孔質シリカ粒子が、溶媒
中でコロイド状に分散してなるシリカゾル。 - 【請求項３】0.1〜５モル／の濃度のテトラアルコシ
シランを、その2.5〜5.0倍モルの水と0.1〜10倍モルの
アルカリ触媒とを含有するアルコール中で加水分解する
ことを特徴とする請求項１記載の表面がアルコキシ化さ
れた多孔質シリカ粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63229331A JPH0791052B2 (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | 表面がアルコキシ化された多孔質シリカ粒子とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63229331A JPH0791052B2 (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | 表面がアルコキシ化された多孔質シリカ粒子とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0280317A JPH0280317A (ja) | 1990-03-20 |
| JPH0791052B2 true JPH0791052B2 (ja) | 1995-10-04 |
Family
ID=16890477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63229331A Expired - Lifetime JPH0791052B2 (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | 表面がアルコキシ化された多孔質シリカ粒子とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0791052B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003012320A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-15 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | シリカ系無機化合物オルガノゾル |
| JP5324109B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2013-10-23 | 株式会社日本触媒 | シリカ粒子溶媒分散体 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6287409A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-04-21 | Tama Kagaku Kogyo Kk | 合成シリカの製造方法 |
| JPS62269933A (ja) * | 1986-05-19 | 1987-11-24 | Toray Ind Inc | 液晶表示板用スペ−サ |
| JPS6374905A (ja) * | 1986-09-15 | 1988-04-05 | ソルベイ エ コンパニー（ソシエテ アノニム） | 球状の金属酸化物粉末及び製造方法 |
-
1988
- 1988-09-13 JP JP63229331A patent/JPH0791052B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6287409A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-04-21 | Tama Kagaku Kogyo Kk | 合成シリカの製造方法 |
| JPS62269933A (ja) * | 1986-05-19 | 1987-11-24 | Toray Ind Inc | 液晶表示板用スペ−サ |
| JPS6374905A (ja) * | 1986-09-15 | 1988-04-05 | ソルベイ エ コンパニー（ソシエテ アノニム） | 球状の金属酸化物粉末及び製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0280317A (ja) | 1990-03-20 |
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