JPH0772183B2 - ベンゾチアジン誘導体の製法 - Google Patents
ベンゾチアジン誘導体の製法Info
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- JPH0772183B2 JPH0772183B2 JP2241065A JP24106590A JPH0772183B2 JP H0772183 B2 JPH0772183 B2 JP H0772183B2 JP 2241065 A JP2241065 A JP 2241065A JP 24106590 A JP24106590 A JP 24106590A JP H0772183 B2 JPH0772183 B2 JP H0772183B2
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- group
- compound
- formula
- substituent
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、血小板凝集抑制作用、カルシウム拮抗作用及
び抗不整脈作用を有する式（III） ［式中、R1は低級アルコキシ基を意味し、R2は低級アル
キル基を意味し、R3は低級アルキレンジオキシ基を意味
し、R4は低級アルキル基を意味し、ＡおよびＢは同一か
又は異なって１〜６個の炭素原子を有する低級アルキレ
ン基を意味する］で表わされる化合物及びその塩の改良
製法に関し、更に詳しくは式（Ｉ） ［式中、R1,R2,R4,A及びＢは前記に同じであり、Ｘはハ
ロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキルスルホ
ニルオキシ基又は置換基を有してもよいアリールスルホ
ニルオキシ基を意味する］で表わされる化合物又はその
塩を相間移動触媒の存在下一般式（II） ［式中、R3は前記に同じであり、Ｑは水素原子、アルカ
リ金属又はアルカリ土類金属を意味する］で表わされる
化合物と反応させることを特徴とする式（III）の化合
物及びその塩の製造法に関する。
び抗不整脈作用を有する式（III） ［式中、R1は低級アルコキシ基を意味し、R2は低級アル
キル基を意味し、R3は低級アルキレンジオキシ基を意味
し、R4は低級アルキル基を意味し、ＡおよびＢは同一か
又は異なって１〜６個の炭素原子を有する低級アルキレ
ン基を意味する］で表わされる化合物及びその塩の改良
製法に関し、更に詳しくは式（Ｉ） ［式中、R1,R2,R4,A及びＢは前記に同じであり、Ｘはハ
ロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキルスルホ
ニルオキシ基又は置換基を有してもよいアリールスルホ
ニルオキシ基を意味する］で表わされる化合物又はその
塩を相間移動触媒の存在下一般式（II） ［式中、R3は前記に同じであり、Ｑは水素原子、アルカ
リ金属又はアルカリ土類金属を意味する］で表わされる
化合物と反応させることを特徴とする式（III）の化合
物及びその塩の製造法に関する。
［従来の技術］ 式（III）の化合物の製造法としては、以下の四製法が
知られている（特開昭62-123181号公報参照）。
知られている（特開昭62-123181号公報参照）。
（式中、R1,R2,R3,R4,A及びＢは前記に同じであり、Y,Y
1,Y2及びY3は独立してハロゲン原子又はメタンスルホニ
ルオキシ基を意味する） 上記の製法は、式（III）の製法としてそれなりに優れ
たものと云えるが、工業的製造法の観点からすると、以
下の点で必ずしも満足し得るものとは言い難い。
1,Y2及びY3は独立してハロゲン原子又はメタンスルホニ
ルオキシ基を意味する） 上記の製法は、式（III）の製法としてそれなりに優れ
たものと云えるが、工業的製造法の観点からすると、以
下の点で必ずしも満足し得るものとは言い難い。
ａ） （１）及び（３）の製法においてはアミン成分を
原料化合物として用いており、該原料化合物、目的物及
び副生物として得られる四級塩化合物の分離が困難であ
り、カラムクロマト等の繁雑な分離・精製手段を必要と
する。
原料化合物として用いており、該原料化合物、目的物及
び副生物として得られる四級塩化合物の分離が困難であ
り、カラムクロマト等の繁雑な分離・精製手段を必要と
する。
ｂ） （２）の製法においては、製造が困難な式（II）
の化合物を初期の原料化合物として用い数工程を経た後
に、本製法の原料化合物とせねばならず、特殊性の高い
式（II）の化合物を効率良く活用しているとは言い難
い。
の化合物を初期の原料化合物として用い数工程を経た後
に、本製法の原料化合物とせねばならず、特殊性の高い
式（II）の化合物を効率良く活用しているとは言い難
い。
［発明が解決しようとする問題点］ 本発明者等は上記問題点を解決すべく鋭意検討した結
果、本発明を完成した。
果、本発明を完成した。
［発明の構成］ 本発明は、式（Ｉ）の化合物又はその塩を（塩基及び）
相間移動触媒の存在下式（II）の化合物と反応させるこ
とからなる式（III）の化合物の製造法に関する。
相間移動触媒の存在下式（II）の化合物と反応させるこ
とからなる式（III）の化合物の製造法に関する。
本発明の原料及び目的物にかかわる置換基について以下
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
低級アルキル基とはメチル基、エチル基、プロピル基、
ヘキシル基等の１〜６個の炭素原子を有するアルキル基
を示し、ハロゲン原子とはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素
を示し、低級アルコキシ基とはメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ヘキシルオキシ基等の１〜６個の炭
素原子を有するアルコキシ基を示し、低級アルキレンジ
オキシ基とはメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基
等の２個の酸素原子の間に１〜６個の炭素原子を有する
アルキレン基が存在する基を示す。低級アルキルスルホ
ニルオキシ基が有してもよい置換基としてはハロゲン原
子をあげることができ、置換基を有してもよい低級アル
キルスルホニルオキシ基の好適な例としてはメタンスル
ホニルオキシ基等をあげることができる。アリールスル
ホニルオキシ基にかかわるアリール基としては、フェニ
ル基、ナフチル基等をあげることができ、該アリールス
ルホニルオキシ基が有してもよい置換基としては低級ア
ルキル基、ハロゲン原子等をあげることができ、置換基
を有してもよいアリールスルホニルオキシ基の好適な例
としてはベンゼンスルホニルオキシ基、Ｐ−トルエンス
ルホニルオキシ基等をあげることができる。アルカリ金
属としては、ナトリウム、カリウム、リチウムをあげる
ことができ、アルカリ土類金属としてはカルシウム、マ
グネシウムをあげることができる。
ヘキシル基等の１〜６個の炭素原子を有するアルキル基
を示し、ハロゲン原子とはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素
を示し、低級アルコキシ基とはメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ヘキシルオキシ基等の１〜６個の炭
素原子を有するアルコキシ基を示し、低級アルキレンジ
オキシ基とはメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基
等の２個の酸素原子の間に１〜６個の炭素原子を有する
アルキレン基が存在する基を示す。低級アルキルスルホ
ニルオキシ基が有してもよい置換基としてはハロゲン原
子をあげることができ、置換基を有してもよい低級アル
キルスルホニルオキシ基の好適な例としてはメタンスル
ホニルオキシ基等をあげることができる。アリールスル
ホニルオキシ基にかかわるアリール基としては、フェニ
ル基、ナフチル基等をあげることができ、該アリールス
ルホニルオキシ基が有してもよい置換基としては低級ア
ルキル基、ハロゲン原子等をあげることができ、置換基
を有してもよいアリールスルホニルオキシ基の好適な例
としてはベンゼンスルホニルオキシ基、Ｐ−トルエンス
ルホニルオキシ基等をあげることができる。アルカリ金
属としては、ナトリウム、カリウム、リチウムをあげる
ことができ、アルカリ土類金属としてはカルシウム、マ
グネシウムをあげることができる。
式（III）の化合物の塩としては塩酸塩、硫酸塩、リン
酸塩、乳酸塩、マンデル酸塩、マレイン酸塩、フマル酸
塩、シュウ酸塩、メタンスルホン酸塩等をあげることが
できる。
酸塩、乳酸塩、マンデル酸塩、マレイン酸塩、フマル酸
塩、シュウ酸塩、メタンスルホン酸塩等をあげることが
できる。
式（Ｉ）の原料化合物及び式（III）の目的化合物は光
学異性体を有し、それらは本発明の範囲に含まれる。
学異性体を有し、それらは本発明の範囲に含まれる。
次に、本発明の製法について説明する。
本製法について使用される相間移動触媒としては、テト
ラブチルアンモニウムハライド、テトラブチルアンモニ
ウム硫酸水素塩、ベンジルトリエチルアンモニウムハラ
イド、トリオクチルメチルアンモニウムハライド、トリ
カプリルメチルアンモニウムハライドの如き四級アンモ
ニウム塩、テトラフェニルホスホニウムハライド、テト
ラブチルホスホニウムハライド、トリオクチルエチルホ
スホニウムハライドの如きホスホニウム塩を、好ましく
はラウリルトリメチルアンモニウムブロミド等をあげる
ことができ、その使用量は、式（Ｉ）の化合物に対し通
常２〜10モル％が好適である。
ラブチルアンモニウムハライド、テトラブチルアンモニ
ウム硫酸水素塩、ベンジルトリエチルアンモニウムハラ
イド、トリオクチルメチルアンモニウムハライド、トリ
カプリルメチルアンモニウムハライドの如き四級アンモ
ニウム塩、テトラフェニルホスホニウムハライド、テト
ラブチルホスホニウムハライド、トリオクチルエチルホ
スホニウムハライドの如きホスホニウム塩を、好ましく
はラウリルトリメチルアンモニウムブロミド等をあげる
ことができ、その使用量は、式（Ｉ）の化合物に対し通
常２〜10モル％が好適である。
本製法において使用される溶媒としては、通常水と混和
しにくい有機溶媒及び水もしくは水と混和しやすい溶媒
を混合した二相系の溶媒をあげることができ、その混合
比は通常1:1程度でよい。該溶媒においては水及び水と
混和しやすい有機溶媒を混合して均一なものとし、これ
に水と混和しにくい有機溶媒を添加したものを使用して
もよい。水と混和しにくい溶媒としては、塩化メチレ
ン、ジクロロエタンの如きハロゲン系有機溶媒、ベンゼ
ン、トルエンの如き芳香族系有機溶媒、ベンジルアルコ
ール、オクタノールの如きアルコール類等をあげること
ができる。一方、水と混和しやすい有機溶媒としては、
メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、ジ
メチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ヘキサメ
チルホスホノアミド等をあげることができる。このよう
な二相系の溶媒の使用量は式（Ｉ）の化合物１重量部に
対し通常５〜10容量部程度である。
しにくい有機溶媒及び水もしくは水と混和しやすい溶媒
を混合した二相系の溶媒をあげることができ、その混合
比は通常1:1程度でよい。該溶媒においては水及び水と
混和しやすい有機溶媒を混合して均一なものとし、これ
に水と混和しにくい有機溶媒を添加したものを使用して
もよい。水と混和しにくい溶媒としては、塩化メチレ
ン、ジクロロエタンの如きハロゲン系有機溶媒、ベンゼ
ン、トルエンの如き芳香族系有機溶媒、ベンジルアルコ
ール、オクタノールの如きアルコール類等をあげること
ができる。一方、水と混和しやすい有機溶媒としては、
メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、ジ
メチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ヘキサメ
チルホスホノアミド等をあげることができる。このよう
な二相系の溶媒の使用量は式（Ｉ）の化合物１重量部に
対し通常５〜10容量部程度である。
又式（II）の化合物は、式（Ｉ）の化合物に対し通常等
モル以上使用される。
モル以上使用される。
本製法においては、一般に塩基の共存下で反応を行うこ
とが好ましく、その例としては、通常水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウムの如きアルカリ金
属の水酸化物を好適なものとしてあげることができ、そ
の使用量は、式（Ｉ）の化合物に対し、通常１〜５倍モ
ルである。反応は通常20〜100℃、好ましくは35〜80℃
で１〜20時間行なわれる。
とが好ましく、その例としては、通常水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウムの如きアルカリ金
属の水酸化物を好適なものとしてあげることができ、そ
の使用量は、式（Ｉ）の化合物に対し、通常１〜５倍モ
ルである。反応は通常20〜100℃、好ましくは35〜80℃
で１〜20時間行なわれる。
反応終了後、有機層を分取し、水洗して溶媒を留去する
ことにより、容易に高純度の式（III）の目的化合物を
単離することができる。
ことにより、容易に高純度の式（III）の目的化合物を
単離することができる。
次に、式（Ｉ）の原料化合物の製造法について説明す
る。
る。
（式中、R1,R2,R4,A及びＢは前記に同じであり、X1はハ
ロゲン原子を意味する。） 即ち、式（Ｖ）の化合物を不活性な有機溶媒中塩基の存
在下式（VI）で表されるアミン類と反応させることによ
り（IV）の化合物を製造することができる。これを不活
性な有機溶媒中炭酸ナトリウム、炭酸カリウムの如き無
機塩基、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミ
ン、トリ−ｎ−ブチルアミン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリンの如き有機塩基の存在下又
は、式（IV）の化合物を過剰に用いてチオニルクロリド
等のハロゲン化剤、メタンスルホニルクロリドの如き置
換基を有してもよい低級アルキルスルホニル化剤、トル
エンスルホニルクロリドの如き置換基を有してもよいア
リールスルホニル化剤と反応させることにより目的とす
る式（Ｉ）の原料化合物を製造することができる。
ロゲン原子を意味する。） 即ち、式（Ｖ）の化合物を不活性な有機溶媒中塩基の存
在下式（VI）で表されるアミン類と反応させることによ
り（IV）の化合物を製造することができる。これを不活
性な有機溶媒中炭酸ナトリウム、炭酸カリウムの如き無
機塩基、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミ
ン、トリ−ｎ−ブチルアミン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリンの如き有機塩基の存在下又
は、式（IV）の化合物を過剰に用いてチオニルクロリド
等のハロゲン化剤、メタンスルホニルクロリドの如き置
換基を有してもよい低級アルキルスルホニル化剤、トル
エンスルホニルクロリドの如き置換基を有してもよいア
リールスルホニル化剤と反応させることにより目的とす
る式（Ｉ）の原料化合物を製造することができる。
上記式（IV）及び（VI）の化合物についても、光学異性
体を有し、これらの異性体も本発明に含まれる。
体を有し、これらの異性体も本発明に含まれる。
［発明の効果］ 本発明の製造法においては副生物の生成も殆どなく、目
的の式（III）の化合物を高純度且つ好収率で極めて簡
便に製造することができる。従って、本発明の製法、は
式（III）の化合物の工業的製法として優れたものであ
る。
的の式（III）の化合物を高純度且つ好収率で極めて簡
便に製造することができる。従って、本発明の製法、は
式（III）の化合物の工業的製法として優れたものであ
る。
［実施例］ 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
実施例−１ 3,4−ジヒドロ−２−［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ
−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ］プロ
ポキシ］フェニル］−４−メチル−３−オキソ−2H−1,
4−ベンゾチアジン・塩酸塩 ジメチルホルムアミド456mlに２−［２−（３−クロロ
プロポキシ）−５−メトキシフェニル］−3,4−ジヒド
ロ−４−メチル−３−オキソ−2H,1,4−ベンゾチアジン
95.0g、ヨウ化ナトリウム75.4g、Ｎ−メチルエタノール
アミン56.7gを順次加え、80〜85℃で３時間撹拌した。
反応液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解後、水洗
した。水層を酢酸エチルで抽出したのち、先の酢酸エチ
ル層と合わせ水洗した。酢酸エチルを減圧下に留去、残
渣をアセトンに溶解し、冷却下塩酸ガスを導入した。析
出した結晶を濾取、乾燥し標記化合物107.1g（収率94.0
％）を得た。
−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ］プロ
ポキシ］フェニル］−４−メチル−３−オキソ−2H−1,
4−ベンゾチアジン・塩酸塩 ジメチルホルムアミド456mlに２−［２−（３−クロロ
プロポキシ）−５−メトキシフェニル］−3,4−ジヒド
ロ−４−メチル−３−オキソ−2H,1,4−ベンゾチアジン
95.0g、ヨウ化ナトリウム75.4g、Ｎ−メチルエタノール
アミン56.7gを順次加え、80〜85℃で３時間撹拌した。
反応液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解後、水洗
した。水層を酢酸エチルで抽出したのち、先の酢酸エチ
ル層と合わせ水洗した。酢酸エチルを減圧下に留去、残
渣をアセトンに溶解し、冷却下塩酸ガスを導入した。析
出した結晶を濾取、乾燥し標記化合物107.1g（収率94.0
％）を得た。
融 点 193〜196℃ 元素分析 C22H28N2O4・HCl 計算値 C:58.33 H:6.45 N:6.18 S:7.08 Cl:7.83 実測値 C:58.08 H:6.50 N:6.21 S:7.13 Cl:7.551 H−NMR（D2O）δ:2.1-2.5（m,2H）,2.95（s,3H）,3.3-
3.5（m,4H）,3.54（s,3H）,3.65（s,3H）,3.9-4.3（m,4
H）,5.06（s,1H）,6.5-7.5（m,7H） 実施例−２ 3,4−ジヒドロ−２−［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ
−メチル−Ｎ−（２−クロロエチル）アミノ］プロポキ
シ］フェニル］−４−メチル−３−オキソ−2H−1,4−
ベンゾチアジン・塩酸塩 アセトニトリル432mlに3,4−ジヒロドロ−２−［５−メ
トキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキ
シエチル）アミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メチ
ル−３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチアジン・塩酸塩90.
0g、塩化チオニル35.5gを加え、50℃で１時間撹拌し
た。反応液にｔ−ブチルメチルエーテル1350mlを加え
た。析出物を濾取、洗浄後乾燥し、標記化合物84.3g
（収率90.0％）を得た。
3.5（m,4H）,3.54（s,3H）,3.65（s,3H）,3.9-4.3（m,4
H）,5.06（s,1H）,6.5-7.5（m,7H） 実施例−２ 3,4−ジヒドロ−２−［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ
−メチル−Ｎ−（２−クロロエチル）アミノ］プロポキ
シ］フェニル］−４−メチル−３−オキソ−2H−1,4−
ベンゾチアジン・塩酸塩 アセトニトリル432mlに3,4−ジヒロドロ−２−［５−メ
トキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキ
シエチル）アミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メチ
ル−３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチアジン・塩酸塩90.
0g、塩化チオニル35.5gを加え、50℃で１時間撹拌し
た。反応液にｔ−ブチルメチルエーテル1350mlを加え
た。析出物を濾取、洗浄後乾燥し、標記化合物84.3g
（収率90.0％）を得た。
融 点 172〜174.5℃ 元素分析 C22H27N2O3SCl・HCl 計算値 C:56.05 H:5.99 N:5.94 S:6.80 Cl:15.04 実測値 C:56.03 H:5.98 N:6.10 S:7.02 Cl:14.971 H−NMR（CDCl3）δ:2.2-2.6（m,2H）,2.88（s,3H）,3.
1-3.7（m,4H）,3.54（s,3H）,3.60（s,3H）,3.8-4.2
（m,4H）,4.94（s,1H）,6.5-7.5（m,7H）,12.92（brs,1
H） 実施例−３ 水酸化ナトリウム2.00gとセサモール1.66gを水50mlに溶
解した水溶液にラウリルトリメチルアンモニウムブロミ
ド0.31g、塩化メチレン50ml、3,4−ジヒドロ−２−［５
−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−Ｎ−（２−クロ
ロエチル）アミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メチ
ル−３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチアジン・塩酸塩4.7
1gを順次加え、撹拌下20時間加熱還流した。有機層を分
離し、水洗した。有機層を減圧下濃縮乾固し、残渣を酢
酸エチルに溶解した。この酢酸エチル溶液にフマル酸の
エタノール溶液を加え、析出する結晶を濾取し、3,4−
ジヒドロ−２−［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチ
ル−Ｎ−［２−［（3,4−メチレンジオキシ）フェノキ
シ］エチル］アミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メ
チル−３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチアジン・フマル
酸塩5.66g（収率86.7％，純度96％）を得た。
1-3.7（m,4H）,3.54（s,3H）,3.60（s,3H）,3.8-4.2
（m,4H）,4.94（s,1H）,6.5-7.5（m,7H）,12.92（brs,1
H） 実施例−３ 水酸化ナトリウム2.00gとセサモール1.66gを水50mlに溶
解した水溶液にラウリルトリメチルアンモニウムブロミ
ド0.31g、塩化メチレン50ml、3,4−ジヒドロ−２−［５
−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−Ｎ−（２−クロ
ロエチル）アミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メチ
ル−３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチアジン・塩酸塩4.7
1gを順次加え、撹拌下20時間加熱還流した。有機層を分
離し、水洗した。有機層を減圧下濃縮乾固し、残渣を酢
酸エチルに溶解した。この酢酸エチル溶液にフマル酸の
エタノール溶液を加え、析出する結晶を濾取し、3,4−
ジヒドロ−２−［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチ
ル−Ｎ−［２−［（3,4−メチレンジオキシ）フェノキ
シ］エチル］アミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メ
チル−３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチアジン・フマル
酸塩5.66g（収率86.7％，純度96％）を得た。
融 点 130〜131℃ IR（KBr,cm-1） 1660,1502,1480,1247,1188,1036。
本品のNMRデータは標品のそれと一致した。
実施例−４ 水酸化ナトリウム33.9g、セサモール25.8gを水848mlに
溶解した溶液にラウリルトリメチルアンモニウムブロミ
ド5.2g、２−エチル−１−ブタノール848ml、3,4−ジヒ
ドロ−２−［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−
Ｎ−（２−クロロエチル）アミノ］プロポキシ］フェニ
ル］−４−メチル−３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチア
ジン・塩酸塩80.0gを順次加え、80℃で１時間撹拌し
た。実施例−１と同様に処理し、3,4−ジヒドロ−２−
［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−Ｎ−［２−
［（3,4−メチレンジオキシ）フェノキシ］エチル］ア
ミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メチル−３−オキ
ソ−2H−1,4−ベンゾチアジン・フマル酸塩88.6g（収率
80.0％）を得た。融点、IRは実施例−３の値と一致し
た。又、本品のNMRデータは標品のそれと一致した。
溶解した溶液にラウリルトリメチルアンモニウムブロミ
ド5.2g、２−エチル−１−ブタノール848ml、3,4−ジヒ
ドロ−２−［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−
Ｎ−（２−クロロエチル）アミノ］プロポキシ］フェニ
ル］−４−メチル−３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチア
ジン・塩酸塩80.0gを順次加え、80℃で１時間撹拌し
た。実施例−１と同様に処理し、3,4−ジヒドロ−２−
［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−Ｎ−［２−
［（3,4−メチレンジオキシ）フェノキシ］エチル］ア
ミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メチル−３−オキ
ソ−2H−1,4−ベンゾチアジン・フマル酸塩88.6g（収率
80.0％）を得た。融点、IRは実施例−３の値と一致し
た。又、本品のNMRデータは標品のそれと一致した。
実施例−５ 水酸化ナトリウム2.00gとセサモール1.66gを水50mlに溶
解した溶液にラウリルトリメチルアンモニウムブロミド
に0.31g、二塩化チタン50ml、3,4−ジヒドロ−２−［５
−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−Ｎ−（２−クロ
ロエチル）アミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メチ
ル−３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチアジン・塩酸塩4.7
1gを順次加え、撹拌下2.5時間加熱還流した。有機層を
分離し、HPLCにて反応率を定量した結果、3,4−ジヒド
ロ−２−［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−Ｎ
−［２−［（3,4−メチレンジオキシ）フェノキシ］エ
チル］アミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メチル−
３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチアジンの生成率は90.7
％であった。
解した溶液にラウリルトリメチルアンモニウムブロミド
に0.31g、二塩化チタン50ml、3,4−ジヒドロ−２−［５
−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−Ｎ−（２−クロ
ロエチル）アミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メチ
ル−３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチアジン・塩酸塩4.7
1gを順次加え、撹拌下2.5時間加熱還流した。有機層を
分離し、HPLCにて反応率を定量した結果、3,4−ジヒド
ロ−２−［５−メトキシ−２−［３−［Ｎ−メチル−Ｎ
−［２−［（3,4−メチレンジオキシ）フェノキシ］エ
チル］アミノ］プロポキシ］フェニル］−４−メチル−
３−オキソ−2H−1,4−ベンゾチアジンの生成率は90.7
％であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長崎 雅治 東京都江戸川区北葛西１丁目16番13号 第 一製薬生産技術研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） ［式中、R1は低級アルコキシ基を意味し、R2は低級アル
キル基を意味し、R4は低級アルキル基を意味し、Ａおよ
びＢは同一か又は異なって１〜６個の炭素原子を有する
低級アルキレン基を意味し、Ｘはハロゲン原子、置換基
を有してもよい低級アルキルスルホニルオキシ基又は置
換基を有してもよいアリールスルホニルオキシ基を意味
する］で表わされる化合物又はその塩を相間移動触媒の
存在下、一般式（II） ［R3は低級アルキレンジオキシ基を意味し、Ｑは水素原
子、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を意味する］で
表される化合物と反応させることを特徴とする一般式
（III） ［式中、R1,R2,R3,R4,A及びＢは前記に同じ］で表わさ
れる化合物及びその塩の製造法。 - 【請求項２】一般式（Ｉ） ［式中、R1は低級アルコキシ基を意味し、R2は低級アル
キル基を意味し、R4は低級アルキル基を意味し、Ａおよ
びＢは同一か又は異なって１〜６個の炭素原子を有する
低級アルキレン基を意味し、Ｘはハロゲン原子、置換基
を有してもよい低級アルキルスルホニルオキシ基又は置
換基を有してもよいアリールスルホニルオキシ基を意味
する］で表わされる化合物及びその塩。 - 【請求項３】一般式（IV） ［式中、R1は低級アルコキシ基を意味し、R2は低級アル
キル基を意味し、R4は低級アルキル基を意味し、Ａおよ
びＢは同一か又は異なって１〜６個の炭素原子を有する
低級アルキレン基を意味する］で表わされる化合物及び
その塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2241065A JPH0772183B2 (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | ベンゾチアジン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2241065A JPH0772183B2 (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | ベンゾチアジン誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04120067A JPH04120067A (ja) | 1992-04-21 |
| JPH0772183B2 true JPH0772183B2 (ja) | 1995-08-02 |
Family
ID=17068778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2241065A Expired - Lifetime JPH0772183B2 (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | ベンゾチアジン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0772183B2 (ja) |
-
1990
- 1990-09-11 JP JP2241065A patent/JPH0772183B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04120067A (ja) | 1992-04-21 |
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