JPH076875A

JPH076875A - 有機ｅｌディスプレイ装置とその製造方法

Info

Publication number: JPH076875A
Application number: JP5143169A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Tanaka; 政博田中; Kunihiko Watanabe; 邦彦渡辺; Satoru Todoroki; 悟轟; Yutaka Saito; 裕斉藤
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1993-06-15
Filing date: 1993-06-15
Publication date: 1995-01-10
Anticipated expiration: 2018-09-29
Also published as: JP3452380B2

Abstract

(57)【要約】【目的】ＥＬ表示素子をプリント基板に搭載して低価
格化すると同時にプリント基板の全面を表示画面化す
る。さらに、上記プリント基板を複数配列して大画面形
化する。【構成】金属の芯線１１に有機ＥＬ膜の発光層１２を
被覆し、スペーサ１３を介して透明電極１５を有する透
明フィルム１４上に配置し、芯線１１と透明電極１５間
の電圧により発光させる。また、芯線１１と透明フィル
ムをプリント基板１６の裏側に折り曲げ配線１７に接続
し、プリント基板裏面上のドライバー回路、中央演算回
路、メモリ装置等に接続する。これによりプリント基板
の全面が表示に利用できるので、これを隣接配置して大
画面化する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は平面型のディスプレイ装
置に関わり、とくにパーソナルコンピュータやポータブ
ルテレビ等に用いられる自発光のＥＬ素子を集積したデ
ィスプレイ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】平面型ディスプレイ装置には液晶表示素
子（他発光型）とＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表
示素子、プラズマディスプレイ等の自発光型が実用化さ
れている。液晶表示素子は低電圧、低消費電力なので汎
用集積回路により駆動することができ、また、カラーフ
ィルタをかけるだけでカラー化できるのでカラーディス
プレイとして広く普及している。しかし、バックライト
光の透過率を液晶で変化させて表示する必要上、表示の
ダイナミックレンジはバックライトの明るさと素子の開
口率、カラーフィルタの透過率等の制約を受けて狭いも
のになっている。また、液晶表示素子は応答速度が遅い
ため薄膜トランジスタを各画素に組み込んだアクティブ
マトリクス方式により動きのある画像を表示する必要が
あり、製造コストが高くなるという問題もあった。

【０００３】これに対してＥＬ、プラズマディスプレイ
等は自発光型なので表示のダイナミックレンジが比較的
広くはっきりとした鮮やかな画面を得ることができる。
しかし、３原色の発光が困難であり、また、駆動電圧が
約１００Ｖと高いので汎用のＩＣでは駆動できず、消費
電力が大きいため電池駆動が困難なので総合的には液晶
表示素子より劣ると見做されていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の有機薄
膜ＥＬディスプレイは上記駆動電圧が高いという問題の
他にその具体的な構造及び製造方法が確立されておら
ず、さらに、輝度が不足するという問題があった。ま
た、画面周辺にドライバー回路等を搭載していたのでパ
ネル全面を表示に用いることができず、また、画面をつ
なぎ合わせて大画面化することができないという問題が
あった。本発明の目的は、上記の課題を解決することの
できる有機薄膜ＥＬディスプレイ装置とその製造方法を
提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、有機ＥＬ膜の発光層で被覆した金属導体よりなる複
数の芯線を絶縁用のスペーサを挾んで線状の透明電極パ
タ−ンを形成した透明フィルム上に配置し、上記芯線と
透明電極間の電圧により発光させるようにする。また、
上記芯線とスペーサを交互に配置した透明フィルムの芯
線側をプリント基板に接着して芯線と透明フィルムの端
部をプリント基板の縁で折り曲げ、プリント基板の他面
側の回路パタ−ンに接続する。

【０００６】また、透明フィルム上に透明電極パタ−ン
を設け、さらに上記透明電極パタ−ン上に有機ＥＬ膜の
発光層パタ−ンを設け、上記発光層パタ−ンの上にプリ
ント基板の片面に設けた走査線パタ−ンを接着し、上記
走査線パタ−ンとプリント基板の他面側の回路パタ−ン
間をスル−ホ−ルにより接続する。さらに、上記スル−
ホ−ルの位置を上記走査線パタ−ンの配置方向に対して
斜めにしてスル−ホ−ル間隔を広げるようにする。さら
に、上記プリント基板の他面側にドライバー回路、中央
演算回路、メモリ装置、受信、検波回路、画像情報の入
出力端子等を搭載するようにする。

【０００７】また、上記透明フィルム上に設けた凹凸形
状の凸部に上記透明電極パタ−ンを設け、さらに凹部に
不透明材または電気の良導体を充填してその片側を隣接
する透明電極パタ−ンに接続する。また、上記発光層の
抵抗率を０．３〜３×１０⁶Ω・ｃｍとして膜厚を３０
０〜３０００ｎｍに厚くする。

【０００８】また、上記発光層をプリント基板の全面に
わたって配置し、プリント基板の全面を表示面にする。
また、画面の走査範囲を複数に分割し、各走査範囲を互
いに独立に走査して画素当たりのデュウティータイムを
長くするようにする。また、上記の有機ＥＬディスプレ
イ装置を基板上に隣接して配置して大画面化する。ま
た、上記発光層を芯線に被覆する工程の後に陽極酸化、
または電着により絶縁膜を形成し、この絶縁膜により発
光層のひび割れや欠陥箇所を被覆して短絡不良を低減す
る。

【０００９】

【作用】上記芯線上に被覆された有機ＥＬ膜は芯線と透
明電極間の電圧により発光し、スペーサは芯線間を絶縁
すると同時にブラックマトリックス用の遮光体として作
用する。また、上記透明フィルムの凹凸形状の凹部に設
けた電気の良導体は上記ブラックマトリックス用の遮光
体となると同時に透明電極のパタ−ン抵抗をシャントす
る。

【００１１】また、上記芯線とスペーサを交互に配置し
た透明フィルムの芯線側をプリント基板に接着し、芯線
と透明フィルムの端部をプリント基板の縁で折り曲げ、
プリント基板の他面側の回路パタ−ンに接続することに
より、有機ＥＬ素子がプリント基板の他面側のドライバ
ー回路、中央演算回路、メモリ装置、受信、検波回路、
画像情報の入出力端子等に接続され、これによりプリン
ト基板の全面が表示面として利用可能となる。

【００１２】同様に、上記透明フィルム上の透明電極パ
タ−ン上に設け、さらに上記透明電極パタ−ン上に有機
ＥＬ膜の発光層パタ−ンを設け、さらに上記発光層パタ
−ンの上にプリント基板の片面に設けた走査線パタ−ン
を接着する有機ＥＬ装置においては、プリント基板のス
ル−ホ−ルを介して上記走査線パタ−ンと他面側の回路
パタ−ン間が接続されるので有機ＥＬ素子が他面側のド
ライバー回路、中央演算回路、メモリ装置、受信、検波
回路、画像情報の入出力端子等に接続され、これにより
プリント基板の全面が表示面として利用可能となる。す
る。

【００１３】また、上記スル−ホ−ルの位置を上記走査
線パタ−ンの配置方向に対して斜めにすることによりス
ル−ホ−ル間隔が広くなり、接続が容易化される。ま
た、上記発光層の抵抗率を０．３〜３×１０⁶Ω・ｃｍ
として膜厚を３００〜３０００ｎｍに厚くすることによ
り、発光層の電極間縁面距離が拡大する。

【００１４】また、画面の走査範囲を分割して各走査範
囲を独立に走査することにより、画素当たりのデュウテ
ィータイムが上記分割数倍に長くなって輝度が増加す
る。また、上記の有機ＥＬ素子の隣接配置により画面が
大型化される。また、上記発光層の芯線被覆工程後の陽
極酸化、または電着工程により発光層のひび割れや欠陥
箇所に絶縁膜が形成される。

【００１５】

【実施例】〔実施例１〕図１は本発明による単純マト
リックス形のＥＬディスプレイの斜視図である。ＥＬの
発光層１２を被覆した芯線１１をスペーサ１３を介して
透明電極１５に直交するように配列してマトリックスを
形成し、芯線１１と透明電極１５間の電圧によりマトリ
ックスの交点を発光させる。

【００１６】なお、芯線１１として銅合金線の上にＭ
ｇ、Ｉｎ、ＭｇＡｇ、Ａｌ等の比較的仕事関数が小さい
金属を被服すると発光層１２に対する電子注入を促進す
ることができ。なお、芯線１１の配線抵抗を低くする観
点からはＡｌやＣｕがよく、Ａｌはそのままでも使える
がＭｇより駆動電圧が高めになる。

【００１７】発光層１２は蒸着法やスピン塗布法等によ
り形成できるが、生産コストの面からは芯線１１をベー
スポリマー、電子輸送剤と赤青緑の３種類の蛍光色素の
何れかを含む溶液に浸積後、乾燥させて赤青緑の各発光
層１２を被覆する方法が最も安価である。上記発光層を
被覆した配線１１を粘着フィルム上に電気絶縁性のスペ
ーサ１３を挟んで色順に並べ仮止めする。なお、スペー
サ１３に黒などの吸光性樹脂や同様なガラス繊維などを
用いるとブラックマトリクスの効果が得られ画面を引き
締める効果が得られる。

【００１８】

【表１】表１は上記蛍光色素に用いる蛍光染料及び顔料等の化学
構造の例を示すものであり、一般的に電子輸送能もしく
は正孔輸送能を有する物質が利用できる。

【００１９】

【表２】表２は上記電子輸送剤および正孔輸送剤として用いられ
る化合物とベースポリマの化学構造例である。これらの
蛍光材料、ベースポリマー、電子輸送剤または正孔輸送
剤を１：５：１〜２：４：２の割合で溶媒に混合した溶
液に配線１１を浸積する。

【００２０】次いで、前記粘着性シートを配線長に応じ
た長さに切ってプリント基板１６に接着し、粘着性シー
トを剥がして発光層１２を有する芯線１１をプリント基
板１６上に転写する。次いで芯線１１をプリント基板１
６の端部で裏面に回して裏面の配線１７に半田付けし、
化成溶液中にいれて陽極化成を行う。この結果、被覆が
不十分だったり、ひび割れ部分に酸化物皮膜によって生
じる発光層１２の短絡欠陥等を修復することができる。
また、発光層１２の被膜脱落に対しては電気泳動を利用
する高分子の電着方により修復することができる。これ
らの処理により製品歩留まりを向上することができる。

【００２１】次ぎに透明フィルム１４上にＩＴＯ（イン
ジウムと錫の酸化物）をスパッタ成膜してパターンニン
グし、透明電極１５を形成する。このＩＴＯは加工性が
悪く、またＩＴＯを有機物である発光層１２上に形成す
ると発光特性がプラズマダメージにより劣化するという
問題がある。そこで本発明では、ＩＴＯをガラス基板ま
たは耐熱性の透明フィルム１４上に形成して貼り合わせ
るようにする。

【００２２】一般に上記ＩＴＯのパターンはホトリソグ
ラフィー法により形成するが、単純マトリクスの場合は
パターンが単純なのでレーザースクライブ法により形成
することもできる。また、ＩＴＯ膜を形成したガラス基
板または透明フィルム１４をならい研磨により縞状に研
磨して透明電極１５を得ることもできる。また、このと
き透明フィルム１４にできる凹部に黒色等の吸光性樹脂
を充填して画面をブラックマトリクス化し視認性を向上
することができる。

【００２３】また、上記凹部に抵抗率の低い金属材料を
充填すると金属材料がブラックマトリクスの１部として
利用できるうえし、金属材料がの端面の片側を隣接する
ＩＴＯに接続するとＩＴＯの導電率不足を補うことがで
きる。とくに、大型ディスプレイでは透明電極１５が長
くなるのでその抵抗による電圧降下を低減することがで
きる。

【００２４】また、上記透明フィルム１４の貼り合わせ
において、発光想１２の膜厚を一定にする必要がある。
このため、発光層１２上にガラスファイバーやビーズ等
のスペーサを散布してからホットプレスすることによ
り、スペーサを発光層に埋め込んで発光層の厚さをスペ
ーサの大きさに揃えることができる。この結果、印刷法
により発光層１２を形成する場合において、発光層１２
の樹脂組成物が表面張力などにより丸くかたまり膜厚が
不均一になるという問題も同時に改善されることにな
る。

【００２５】有機薄膜ＥＬの発光層１２は時蛍光剤や電
荷輸送剤が励起状態となると酸化されるのでパッシベー
ションが必要である。このため、高分子フィルムにより
パネル全体を被い、窒素等の不活性気体中でパッケージ
するようにする。また、溶融パラフィンに浸して全体を
パラフィンで被うようにする。なお、パラフィン中に脱
酸素剤を混入すると更に有効である。

【００２６】上記のようにして形成した発光層１２の膜
厚は通常１００ｎｍ程度である。このため、１０Ｖ程度
の電圧によってもスペーサの沿面に沿う放電（絶縁破
壊）を生じやすい。この放電は膜厚増加により防止でき
るが、同時に発光層１２の抵抗値が増え発光強度が急速
に低下するという問題が発生する。この問題は発光層１
２の電気抵抗を低めると同時にその膜厚を厚くして、充
分な発光電流が得られるようにすれば解決する。例え
ば、発光層１２のベースポリマーに抵抗率が０．３〜３
×１０⁶Ω・ｃｍ程度の導電性高分子を用い、その膜厚
を３００〜３０００ｎｍ程度にすると、印加電圧１０Ｖ
に対しては十分に上記沿面放電を生じることなく十分な
発光強度が得られる電流密度１００ｍＡ／ｃｍ²を流す
ことができる。

【００２７】また、上記のように膜厚を厚くすると発光
層１２を印刷法や電着法あるいは浸積法等により形成で
きるようになる。印刷法や電着法ではパターン形成が初
めから出来ているので工程が簡単になる。上記各芯線１
１と透明電極が対向する部分が１画素となる。モノクロ
−ムの場合そ大きさは０．３ｍｍ×０．３ｍｍ以下であ
れば良く、カラーの場合にはその３分１の０．３ｍｍ×
０．１ｍｍを３つ組み合わせて１画素とする。

【００２８】〔実施例２〕図１において、芯線１１を
省略してスペ−サ１３間に発光層１２のみを設け、この
発光層１２を透明電極１５とプリント基板１６の裏側に
設けた電極パタ−ン間の電圧により発光させることもで
きる。

【００２９】プリント基板１６の裏側に設ける電極には
発光層１２に対する電子注入をよくするため比較的仕事
関数が低いＭｇ，Ｉｎ，ＭｇＡｇ，Ａｌ等の材料を用い
る。しかし、上記電極の配線抵抗を低めるにはＡｌやＣ
ｕがよく、ＡｌやＣｕ等の電極はや真空蒸着膜をフォト
リソグラフィによりパタ−ニングして形成するがＡｌの
場合はＭｇに比べて駆動電圧が若干高くなる。また、Ｃ
ｕ電極を用いる場合にはその表面をＭｇ等でコ−ティン
グする。

【００３０】〔実施例３〕図２は上記本発明のディス
プレイユニット１を複数つなぎ合わせて大画面化した本
発明実施例の斜視図である。各ディスプレイユニット１
の透明電極１５と芯線１１のプリント板１６からはみ出
す部分をプリント基板１６の裏に回して裏側の配線に接
続する。ＥＬ素子では液晶素子におけるバックライト
（Back Light)が不要なので画面の裏側にデータ線を引
き出し配線するすることによりプリント基板１６の端一
杯にまでＥＬ素子を搭載することができ、このような基
板を精度良くつなぎ合わて大画面化することができるの
である。

【００３１】また、プリント基板１６の裏側にデータ線
ドライバー６、走査線ドライバ４等を搭載し、裏面中央
部に電源及び画像情報を入出力するコネクタ８を設け
る。さらにこの裏面にメモリーやＣＰＵを実装してコン
ピュータを作ることもできる。また、上記各ドライバＩ
Ｃは半田付けできるので信頼性高く低価格に接続するこ
とができる。

【００３２】このディスプレイユニット１をガラス板
や、アクリル板など透明な板に隙間無く並べて貼り付け
ることにより大画面を得ることができる。図２におい
て、各ディスプレイユニット１は、垂直方向の縁から取
り出した走査線により縦方向に走査され、水平方向の縁
から取り出した走査線により横方向に走査される。ま
た、水平方向の縁からの走査線は上下に２分されるそれ
ぞれのデ−タ線ドライバ６により駆動されるので、各デ
ィスプレイユニット１の画面を上下に２分割してそれぞ
れの横方向走査を独立に駆動することができる。この結
果、ディスプレイユニット１の画面全体を線順次に走査
する場合に比べて輝度を２倍に高めることができる。

【００３３】一方、上記画面の輝度はパソコンでは１０
０（Ｃｄ／ｍ²）以上、ＴＶでは２５０（Ｃｄ／ｍ²）以
上必要なので、ＥＬ素子の最大発光強度Ｌ（Ｃｄ／
ｍ²）と線順次走査における走査線数ｎを１００＜Ｌ／ｎ＜５００の範囲に設定する必要がある。これより上記Ｌは比較的
大きいもので１０００〜１００００Ｃｄ／ｍ²であるか
ら、ｎの値は１０〜１００となる。したがって、画素サ
イズを０．３ｍｍとすれば走査範囲は３〜３０ｍｍとな
り、図２では１つのディスプレイユニット１は二つの走
査範囲により構成されるのでその走査範囲は６〜６０ｍ
ｍとなる。

【００３４】ディスプレイユニット１のの縦横比を１：
√２とするとディスプレイユニット１を２つ、４つ、８
つつないで大面積化する場合にその縦横比を常に１：√
２に保つことが出来る。したがって、ディスプレイユニ
ット１の大きさを７．５ｃｍ、×５．２５ｃｍにする
と、走査範囲が２分割されているので一つの走査範囲の
幅は２．６２ｃｍとなり、この間に８０本の走査線３を
設けることができる。またカラ−の場合、データ線は３
原色で１画素として２２５画素を横方向に並べる。

【００３５】上記ディスプレイユニット１を縦横に２個
づつ並べると全体で縦３２０、横４５０個の画素からな
るポ−タブル装置に好適な７インチのディスプレイを得
ることができる。さらに、縦横に４個づつ並べると縦６
４０、横９００個の画素からなる１４インチ高精細ディ
スプレイが得られ、更に多くのユニットを並べて大型化
することもできる。

【００３６】〔実施例４〕図３はプリント基板１６の
設けたスル−ホ−ル３０を介して基板上のＥＬディスプ
レイと基板の他面に搭載した駆動回路やその他の回路間
を接続するようにした本発明実施例装置の斜視図であ
る。なお、図３では実施例２にて説明した発光層１２を
用い、カラ−表示における赤、青、緑の三つの画素のみ
を示している。

【００３７】まず、プリント基板１６のスルーホール３
０内に金属導体を充填する。この金属導体が電線の場合
にはこれをスルーホール３０に挿入、切断後、両面を研
磨する。次いでしプリント基板１６の両面に化学銅鍍金
を施してからＥＬ素子側の面にマグネシウムとアルミニ
ウムの合金を蒸着する。次いで、両面にホトレジストを
塗布、露光して、ＥＬ素子側の面にはデータ線パターン
２２を、またその裏面には配線３１を形成する。

【００３８】次いで、裏面にドライバーＩＣ３２、コネ
クタ等を実装した後、実施例１と同様なベースポリマ
ー、電子／正孔輸送剤、電荷調整剤と蛍光色素を含む溶
液を入れた電気泳動槽に浸し、赤の蛍光色素の入った槽
では赤のデータ線に電圧を加えて、赤の発光層２６を電
着法により形成する。青の発光層２５や緑の発光層２４
も同様にして形成する。

【００３９】次いで実施例１と同様にして透明フィルム
１４上に透明電極１５を形成し、これをプリント基板１
６上の発光層１２と直行するように貼り合わせ、図３で
は省略されているもののプリント基板１６からはみ出し
た透明電極１５をプリント基板１６の裏側に回してプリ
ント基板の配線に接続する。次に、スルーホール３０の
導体にによりデータ線パタ−ン２２を接続しドライバー
ＩＣに接続する。

【００４０】ディスプレイ画面上の走査線ピッチは約３
００μｍ、データ線ピッチはカラーの場合で約１００μ
ｍであるから、例えば１００μｍ径のスルーホール３０
をこのピッチで並べると基板強度が弱くなる。そこで図
３に示すようにスルーホールを斜め方向にずらし、１０
０μｍのデータ線ピッチに対してスルーホールピッチを
例えば１ｍｍにするようにする。１ｍｍピッチに対して
は多ピンのドライバＩＣを十分な信頼性で半田接続する
ことができる。

【００４１】〔実施例５〕次に本発明によるＥＬディ
スプレイの駆動方法について説明する。有機薄膜ＥＬ素
子には整流特性があり、逆方向では通電しないため発光
しない。したがって本発明では、発光させる走査線には
順方向の電圧を印加し、発光させない走査線には逆方向
電圧を印加するようにして、発光させる走査線を走査す
る。

【００４２】〔実施例６〕表示画面を線順次で走査す
ると画面の中で発光しているのは一本の走査線のみであ
るから輝度が低くなる。しかし、画面をｎ区画に分割
し、各分割区画内を同時に走査すれば輝度はｎ倍に増加
することになる。例えば、３００本〜６００本の走査線
を１０本ずつに３０〜６０分割して各分割範囲を同時走
査すると輝度も約３０〜６０倍に増加するので、１００
００〜２００００Ｃｄ／ｍ²以上必要なの輝度を３００
〜６００Ｃｄ/ｍ²で済ますことができる。

【００４３】しかし、１０本毎の走査線に対応するデー
タを作成し、１０本毎のデータ線を画面の外に取り出す
必要が生じる。さらにアクティブマトリクスの場合には
走査線、画像データを送るデータ線の他に、電力を送る
電力線が必要となる。実際にはさらに共通電極が必要と
なるので単純マトリックスの場合に比べて画素毎に２本
の線が増えることになる。このように配線が増えると不
良率が上がってコスト高となるので、本発明では上記電
力線と走査線を併用する。すなわち、有機薄膜ＥＬ素子
の前記整流特性を利用し、電力線に逆電圧を印加する場
合には発光と通電を同時に止めるようにする。また、ア
クチブマトリックスの場合には上記電圧で制御トランジ
スタのゲートを開くようにする。

【００４４】〔実施例７〕図４は本発明によるアクテ
ィブマトリクス方式のＥＬディスプレイにおける１画素
部分の構成例を示す図である。実施例１と同様な青赤緑
の発光層１２を被覆した芯線１１を順次プリント基板に
貼り付け、プリント基板の端部で裏面に配線を回してプ
リント基板上の配線に半田付けし共通電極とする。

【００４５】一般にプリント基板１６には複合材料が用
いられるので、加熱時のガス発生や、軟化、変形により
薄膜トランジスタをプリント基板の上に直接形成するこ
とが困難である。そこで薄膜トランジスタをポリエチレ
ンテレフタレートやポリイミド等の耐熱性の透明フィル
ム１４、あるいは低ソーダガラスやホウ珪酸ガラス等の
基板上に形成する。

【００４６】透明フィルム１４上に、まずゲート線パタ
ーン４３、４７をホトリソグラフィにより形成し、次い
でその上にゲート絶縁膜とアモルファスシリコンをプラ
ズマＣＶＤ法により成膜してホトリソグラフィによりア
モルファスシリコンのアイランドを形成し、ソース、ド
レイン電極パターン４４、４５および同４８、４９等を
ホトリソグラフィにより形成し、更に透明電極パターン
５０を形成する。

【００４７】上記のようにして各画素を形成した透明フ
ィルム１４をプリント基板上の発光層に位置合わせして
貼り合わせ、プリント基板からはみ出した透明電極部を
プリント基板１６の裏に回してプリント基板上の配線に
接続する。図５は上記各画素の配線図である。薄膜トラ
ンジスタは画素毎に電流制限用とデータ書き込み用の２
個が必要であり、電流制限用ＴＦＴのゲート容量を利用
してデータを記憶させることもできる。

【００４８】アクティブマトリクスでは発光層１２の発
光強度が１００〜３００Ｃｄ／ｍ²と弱い場合でも視認
できる。アクティブマトリクス型ディスプレイにおいて
も実施例３と同様にその縦横比を１：√２とすると、デ
ィスプレイユニットの組み合わせにより大画面化するこ
とができる。しかし、ディスプレイユニットを大きくす
ると透明フィルム１４の伸び縮みにより発光層の位置合
わせが困難になるので、その大きさは１０ｃｍ角以下、
すくなくとも２０ｃｍ角以下とすることが好ましい。

【００４９】

【発明の効果】本発明により、プリント基板上に有機Ｅ
Ｌ素子を搭載できるのでＥＬディスプレイを低価格化す
ることができる。同時に、上記プリント基板の端まで画
面として利用することができ、プリント基板の裏側にＥ
Ｌ素子を搭載することができる。また、上記プリント基
板上の表示エリアを分割駆動することにより、表示の輝
度を向上することができる。また、上記ＥＬ素子を搭載
したプリント基板を並べて大画面の平面表示装置を提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるＥＬ素子の斜視図である。

【図２】図１のＥＬ素子の配線接続法とＥＬ素子の複数
配列による大型画面化の状況を示す斜視図である。

【図３】本発明による他のＥＬ素子のカラ−画素の斜視
図である。

【図４】本発明によるアクティブマトリクス用薄膜トラ
ンジスタを含むＥＬ素子画素ののレイアウト図である。

【図５】アクティブマトリクス用ディスプレイの回路図
である。

【符号の説明】

１…ディスプレイユニット、３…走査線、４…走査線ド
ライバ、５…データ線、６…データ線ドライバ、７…信
号線、８…コネクタ、１１…芯線、１２…発光層、１３
…スペーサ、１４…透明フィルム、１５…透明電極、１
６…プリント基板、１７…配線、２２…データ線パタ−
ン、２４、２５、２６…色発光層、２８…絶縁体、３０
…スルーホール、３１…配線、３２…ドライバＩＣ、４
１…走査線、４２…データ線、４３、４７…ゲート線パ
タ−ン、４４…ソ−ス電極パタ−ン、４５…ドレイン電
極パタ−ン、４６…スルーホール、５０…透明電極パタ
−ン、５１…発光素子、５３、５４…薄膜トランジス
タ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者斉藤裕神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立製作所生産技術研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有機薄膜ＥＬディスプレイ装置におい
て、有機ＥＬ膜の発光層で被覆した金属導体よりなる複
数の芯線と、この芯線間を絶縁するためのスペーサと、
複数の線状の透明電極パタ−ンを形成した透明フィルム
とを備え、上記透明フィルム上に上記芯線とスペーサを
交互に配置し、上記芯線と透明電極間に印加する電圧に
より上記発光層を発光するようにしたことを特徴とする
有機ＥＬディスプレイ装置。
【請求項２】請求項１において、上記芯線とスペーサ
を交互に配置した透明フィルムを接着するプリント基板
を設け、上記透明フィルムの芯線側をプリント基板の片
面に接着し、上記芯線と透明フィルムのそれぞれを上記
プリント基板の縁部にて折り曲げ、プリント基板の他面
側の回路パタ−ンに接続するようにしたことを特徴とす
る有機ＥＬディスプレイ装置。
【請求項３】有機薄膜ＥＬディスプレイ装置におい
て、透明フィルム上に透明電極パタ−ンを設け、さらに
上記透明電極パタ−ン上に有機ＥＬ膜の発光層パタ−ン
を設け、上記発光層パタ−ンの上にプリント基板の片面
に設けた走査線パタ−ンを接着し、上記走査線パタ−ン
とプリント基板の他面側の回路パタ−ン間を接続するス
ル−ホ−ルを設けたことを特徴とする有機ＥＬディスプ
レイ装置。
【請求項４】請求項３において、上記スル−ホ−ルの
位置を上記走査線パタ−ンの配置方向に対して斜めに設
けてスル−ホ−ル間隔を広げるようにしたことを特徴と
する有機ＥＬディスプレイ装置。
【請求項５】請求項１ないし４のいずれかにおいて、
上記プリント基板の他面側にドライバー回路および／ま
たは中央演算回路および／またはメモリ装置および／ま
たは受信、検波回路および／または画像情報の入出力端
子等を搭載するようにしたことを特徴とする有機ＥＬデ
ィスプレイ装置。
【請求項６】請求項１ないし５のいずれかにおいて、
上記透明フィルム上に凹凸形状を設け、上記透明電極パ
タ−ンを上記凹凸形状の凸部上に設けるようにしたこと
を特徴とする有機ＥＬディスプレイ装置。
【請求項７】請求項６において、上記透明フィルムの
凹凸形状の凹部に不透明材または電気の良導体を充填
し、上記良導体の片側を隣接する透明電極パタ−ンに接
続するようにしたことを特徴とする有機ＥＬディスプレ
イ装置。
【請求項８】請求項１ないし５のいずれかにおいて、
上記発光層の抵抗率を０．３〜３×１０⁶Ω・ｃｍと
し、膜厚を３００〜３０００ｎｍとしたことを特徴とす
る有機ＥＬディスプレイ装置。
【請求項９】請求項１ないし８のいずれかにおいて、
上記発光層を上記プリント基板の全面にわたって配置す
るようにしたことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ装
置。
【請求項１０】請求項１ないし９のいずれかにおい
て、画面の走査範囲を複数に分割し、各走査範囲を互い
に独立に走査する手段を設けて画素当たりのデュウティ
ータイムを長くするようにしたことを特徴とする有機Ｅ
Ｌディスプレイ装置。
【請求項１１】有機ＥＬディスプレイ装置において、
請求項１ないし１０に記載の有機ＥＬディスプレイ装置
の複数を搭載する基板を設け、上記各有機ＥＬディスプ
レイ装置を互いに隣接して配置して大画面化するように
したことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ装置。
【請求項１２】請求項１に記載の有機ＥＬディスプレ
イ装置の製造方法において、上記発光層を芯線に被覆す
る工程の後に陽極酸化、または電着により絶縁膜を形成
する工程を設け、上記絶縁膜により発光層のひび割れや
欠陥箇所を被覆して短絡不良を低減するようにしたこと
を特徴とする有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法。