JPH075454A - Display panel and projection type display device using the same - Google Patents

Display panel and projection type display device using the same

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JPH075454A
JPH075454A JP18997493A JP18997493A JPH075454A JP H075454 A JPH075454 A JP H075454A JP 18997493 A JP18997493 A JP 18997493A JP 18997493 A JP18997493 A JP 18997493A JP H075454 A JPH075454 A JP H075454A
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light
thin film
liquid crystal
display panel
substrate
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JP18997493A
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Hiroshi Takahara
博司 高原
Hideki Omae
秀樹 大前
Hideaki Mochizuki
秀晃 望月
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide the display panel capable of making display with a high contrast and high fineness without light leakage between adjacent pixels. CONSTITUTION:A high-polymer dispersed liquid crystal 15 is clamped between an array substrate 13 and a counter substrate 14. Light absorptive thin films are formed on a black matrix and between pixel electrodes when the display panel is a transmission type display panel. The light absorptive thin films 20 are formed between reflection electrodes 18 when the display panel is of a reflection type. The counter electrode 12 is constituted of multilayered films successively laminated with dielectric thin films 12a, 12c and ITO thin films 12b. The optical film thickness of the ITO thin films is set at lambda/2 (where lambdais a design main wavelength) and the optical film thickness of the dielectric thin films at lambda/4. The multilayered films function as antireflection films. Dyestuff having a relation of a complementary color with the color of the incident light on a liquid crystal layer is incorporated into the light absorptive thin films 20.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、主として入射光を変調
し光学像を形成する表示パネルと、前記表示パネルをラ
イトバルブとして用い、前記表示パネルの表示画像をス
クリーンに拡大投映する投写型表示装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention mainly relates to a display panel which modulates incident light to form an optical image, and a projection type display which uses the display panel as a light valve and projects a display image of the display panel on a screen in an enlarged manner. It relates to the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶パネルを用いた表示デバイスは軽
量、薄型化が可能であることから研究開発が盛んであ
る。近年では、液晶の旋光性を画像表示に応用したツイ
ストネマチック(TN)モード液晶パネルを用いたポケ
ットテレビが実用化されている。また、前記液晶パネル
をライトバルブとして用いる液晶投写型テレビおよびビ
ューファインダ等も実用化されている。
2. Description of the Related Art A display device using a liquid crystal panel has been actively researched and developed because it can be made light and thin. In recent years, a pocket television using a twisted nematic (TN) mode liquid crystal panel in which the optical activity of liquid crystal is applied to image display has been put into practical use. Further, a liquid crystal projection television and a viewfinder using the liquid crystal panel as a light valve have been put into practical use.

【0003】しかし、TN液晶を用いた液晶パネルは光
変調を行うためには偏光板が必要であるため、表示輝度
が低いという課題があり、また、液晶分子を配向させる
ためラビング工程が必要であるなど製造工程も複雑であ
る。そこで近年、ラビングが不要かつ、光変調に偏光板
を用いない高分子分散液晶を用いた液晶パネルが注目を
集めている。高分子分散液晶パネルの一例として米国特
許第4435047号明細書が、高分子分散液晶パネル
をライトバルブとして用いた投写型表示装置の一例とし
て米国特許第4613207号明細書がある。
However, the liquid crystal panel using the TN liquid crystal has a problem that the display brightness is low because a polarizing plate is required to perform light modulation, and a rubbing process is required to align the liquid crystal molecules. The manufacturing process is also complicated. Therefore, in recent years, a liquid crystal panel using a polymer dispersed liquid crystal that does not require rubbing and does not use a polarizing plate for light modulation has been attracting attention. U.S. Pat. No. 4,435,047 is an example of a polymer dispersed liquid crystal panel, and U.S. Pat. No. 4,613,207 is an example of a projection type display device using a polymer dispersed liquid crystal panel as a light valve.

【0004】以下、簡単に(図17)を用いて高分子分
散液晶について説明しておく。高分子分散液晶は、液晶
と高分子の分散状態によって大きく2つのタイプに分け
られる。1つは、水滴状の液晶が高分子中に分散してい
るタイプである。液晶は、高分子中に不連続な状態で存
在する。以後、このような液晶をPDLCと呼び、ま
た、前記液晶を用いた液晶パネルをPD液晶パネルと呼
ぶ。もう1つは、液晶層に高分子のネットワークを張り
巡らせたような構造をとるタイプである。ちょうどスポ
ンジに液晶を含ませたような格好になる。液晶は、水滴
状とならず連続に存在する。以後、このような液晶をP
NLCと呼ぶ。前記2種類の液晶パネルで画像を表示す
るためには光の散乱・透過を制御することにより行う。
Hereinafter, the polymer dispersed liquid crystal will be briefly described with reference to FIG. Polymer dispersed liquid crystals are roughly classified into two types depending on the dispersion state of the liquid crystals and the polymers. One is a type in which liquid crystals in the form of water droplets are dispersed in a polymer. The liquid crystal exists in the polymer in a discontinuous state. Hereinafter, such a liquid crystal will be referred to as a PDLC, and a liquid crystal panel using the liquid crystal will be referred to as a PD liquid crystal panel. The other is a type having a structure in which a polymer network is stretched around the liquid crystal layer. It looks like a sponge containing liquid crystal. The liquid crystal does not form a water drop but continuously exists. After that, such liquid crystal is
Call it NLC. In order to display an image with the above-mentioned two kinds of liquid crystal panels, light scattering and transmission are controlled.

【0005】PDLCは、液晶が配向している方向で屈
折率が異なる性質を利用する。電圧を印加していない状
態では、それぞれの水滴状液晶は不規則な方向に配向し
ている。この状態では、高分子と液晶に屈折率の差が生
じ、入射光は散乱する。電圧を印加すると液晶の配向方
向がそろう。液晶が一定方向に配向したときの屈折率を
あらかじめ高分子の屈折率と合わせておくと、入射光は
散乱せずに透過する。
PDLC utilizes the property that the refractive index differs in the direction in which the liquid crystal is aligned. When no voltage is applied, each water droplet liquid crystal is oriented in an irregular direction. In this state, a difference in refractive index occurs between the polymer and the liquid crystal, and incident light is scattered. When a voltage is applied, the alignment direction of the liquid crystal is aligned. If the refractive index when the liquid crystal is oriented in a certain direction is matched with the refractive index of the polymer in advance, incident light is transmitted without being scattered.

【0006】これに対して、PNLCは液晶分子の配向
の不規則さそのものを使う。不規則な配向状態、つまり
電圧を印加していない状態では入射した光は散乱する。
一方、電圧を印加し配列状態を規則的にすると光は透過
する。
On the other hand, PNLC uses the irregularity itself of the alignment of liquid crystal molecules. The incident light is scattered in the irregular alignment state, that is, in the state where no voltage is applied.
On the other hand, when a voltage is applied and the arrangement state is made regular, light is transmitted.

【0007】(図17(a)(b))において、173
は水滴状液晶、174はポリマーである。画素電極17
2には薄膜トランジスタ(以後、TFTと呼ぶ。図示せ
ず)等が接続され、TFTのオン・オフにより画素電極
172に電圧が印加される。電圧により画素電極172
上の水滴上液晶173の液晶配向方向を可変させて光を
変調する。(図17(a))に示すように電圧を印加し
ていない状態(OFF)では、それぞれの水滴状液晶1
73内の液晶分子は不規則な方向に配向している。この
状態ではポリマー174と液晶とに屈折率差が生じ、入
射光が散乱する。(図17(b))に示すように画素電
極172に電圧を印加すると液晶分子の方向が揃う。液
晶分子が一定方向に配向したときの屈折率をあらかじめ
ポリマー174の屈折率と合わせておくと、入射光は散
乱せずにアレイ基板12の画素電極172側から出射す
る。
In FIG. 17A and 17B, 173
Is a water-drop liquid crystal and 174 is a polymer. Pixel electrode 17
A thin film transistor (hereinafter referred to as a TFT, not shown) or the like is connected to 2 and a voltage is applied to the pixel electrode 172 by turning the TFT on and off. Pixel electrode 172 depending on voltage
Light is modulated by changing the liquid crystal orientation direction of the upper liquid crystal 173 on the water droplet. As shown in (FIG. 17A), when no voltage is applied (OFF), each liquid crystal 1
Liquid crystal molecules in 73 are oriented in irregular directions. In this state, a difference in refractive index occurs between the polymer 174 and the liquid crystal, and incident light is scattered. As shown in FIG. 17B, when a voltage is applied to the pixel electrode 172, the directions of liquid crystal molecules are aligned. When the refractive index when the liquid crystal molecules are aligned in a certain direction is matched with the refractive index of the polymer 174 in advance, incident light is emitted from the pixel electrode 172 side of the array substrate 12 without being scattered.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】高分子分散液晶パネル
は光変調に偏光板が必要でないため、TN液晶パネルに
比較して2倍以上の高輝度表示が可能である。しかし、
課題も多い。その課題の1つに、ある画素で散乱した光
が、前記画素と隣接した画素に伝搬し(光もれ)、画素
の輪郭がぼやけるという現象がある。特に微小間隔で黒
白表示された画像ではその影響度合が高い。つまり、本
来黒表示または白表示である画素に、隣接した画素から
の散乱光がまわりこみ、黒表示もしくは白表示が灰色表
示になる。
Since the polymer-dispersed liquid crystal panel does not require a polarizing plate for light modulation, it is possible to display a high-intensity display which is more than twice as bright as a TN liquid crystal panel. But,
There are many issues. One of the problems is a phenomenon in which light scattered by a pixel propagates to a pixel adjacent to the pixel (light leakage) and the contour of the pixel is blurred. The degree of influence is particularly high in an image displayed in black and white with a minute interval. That is, scattered light from an adjacent pixel wraps around a pixel that is originally black display or white display, and black display or white display becomes gray display.

【0009】このような課題を解決する方法の一例が、
特開平4−84121号公報に開示されている。この公
報で開示されている液晶表示パネルは、液晶として高分
子分散液晶を用い、画素電極間に黒色に着色された飽和
炭化水素類からなる壁が形成されている。この壁によ
り、ある画素で散乱した光を吸収し、隣接画素に前記光
もれが生じることを防止している。
An example of a method for solving such a problem is
It is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-84121. In the liquid crystal display panel disclosed in this publication, polymer dispersed liquid crystal is used as liquid crystal, and a wall made of saturated hydrocarbons colored in black is formed between pixel electrodes. This wall absorbs the light scattered by a certain pixel and prevents the light leakage from occurring in the adjacent pixel.

【0010】高分子分散液晶の膜厚は10μm以上に形
成する必要がある。したがって、前記壁は10μm以上
必要である。10μm以上の高さは公報に開示されてい
るように高分子分散液晶を印刷工法で行なう場合には実
現できる可能性はある。しかし、有効表示領域が3〜4
インチの液晶パネルに100万画素以上を形成する高精
細液晶パネルで実現することは不可能である。なぜなら
ば、前記液晶パネルの画素サイズは50μm角程度であ
り、画素電極間も5μm程度である。したがって、壁は
幅5μm高さかつ10μm以上にしなければならない。
幅5μmは微細すぎ、パターン印刷方法で実現はできな
い。スパッタ等の蒸着技術を用いれば5μmの幅のパタ
ーンの実現はできるが、高さを10μm以上にすること
は実現できない。
The film thickness of the polymer-dispersed liquid crystal needs to be formed to 10 μm or more. Therefore, the wall needs to be 10 μm or more. The height of 10 μm or more may be realized when the polymer dispersed liquid crystal is formed by a printing method as disclosed in the publication. However, the effective display area is 3-4
It is impossible to realize with a high-definition liquid crystal panel that has more than 1 million pixels on an inch liquid crystal panel. This is because the pixel size of the liquid crystal panel is about 50 μm square and the distance between the pixel electrodes is about 5 μm. Therefore, the wall must be 5 μm wide and 10 μm or more.
The width of 5 μm is too small to be realized by the pattern printing method. A pattern having a width of 5 μm can be realized by using a vapor deposition technique such as sputtering, but a height of 10 μm or more cannot be realized.

【0011】また、壁に炭化物材料を用いていることも
課題である。炭化物は絶縁性が悪いものが多い。壁は画
素電極と対向電極間に形成されるから、画素電極と対向
電極内の絶縁抵抗を低下させる可能性が高い。また、炭
化物は液晶材料の成分と反応し、液晶を劣化させること
が多い。
Another problem is that the walls are made of a carbide material. Many carbides have poor insulating properties. Since the wall is formed between the pixel electrode and the counter electrode, there is a high possibility that the insulation resistance in the pixel electrode and the counter electrode will be reduced. In addition, carbides often react with components of the liquid crystal material to deteriorate the liquid crystal.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の表示パネルは、
第1の電極基板と第2の電極基板間に高分子分散液晶を
狭持させている。表示パネルが透過型表示パネルの場合
は、ブラックマトリックス上および/または画素電極間
に光吸収薄膜を形成する。反射型表示パネルの場合は、
反射電極間に光吸収薄膜を形成する。また、光書き込み
型表示パネルの場合は、誘電体ミラー上に光吸収薄膜を
形成する。光吸収薄膜は、液晶層に入射する光の色に対
して補色の関係にある色素を含有させる。
The display panel of the present invention comprises:
Polymer dispersed liquid crystal is sandwiched between the first electrode substrate and the second electrode substrate. When the display panel is a transmissive display panel, a light absorbing thin film is formed on the black matrix and / or between the pixel electrodes. In the case of a reflective display panel,
A light absorbing thin film is formed between the reflective electrodes. In the case of a photo-writing type display panel, a light absorbing thin film is formed on the dielectric mirror. The light-absorbing thin film contains a dye having a complementary color relationship with the color of light incident on the liquid crystal layer.

【0013】表示パネルが光書き込み型または反射型の
場合は、対向電極を誘電体薄膜とITO薄膜の多層膜構
成にしている。ITO薄膜はλ/2(ただし、λは設計
主波長)、誘電体薄膜の光学的膜厚はλ/4にする。前
記多層膜には反射防止膜として機能する。
When the display panel is an optical writing type or a reflection type, the counter electrode has a multilayer film structure of a dielectric thin film and an ITO thin film. The ITO thin film is λ / 2 (where λ is the designed main wavelength), and the optical thickness of the dielectric thin film is λ / 4. The multilayer film functions as an antireflection film.

【0014】電極基板に透明基板を接着し、前記透明基
板が空気と接する位置から高分子分散液晶層までの距離
tを、透明基板の屈折率をn、表示パネルの有効表示領
域の最大径をdとしたとき、(数1)なる関係を満足さ
せることが好ましい。
The transparent substrate is adhered to the electrode substrate, the distance t from the position where the transparent substrate comes into contact with air to the polymer dispersed liquid crystal layer, the refractive index of the transparent substrate, and the maximum diameter of the effective display area of the display panel. When d, it is preferable to satisfy the relationship of (Equation 1).

【0015】[0015]

【数1】 [Equation 1]

【0016】本発明の投写型表示装置は、本発明の表示
パネルをライトバルブとして用いる。メタルハライドラ
ンプから放射される白色光を青色光、緑色光および赤色
光の3つの光路に分離し、それぞれの光路に本発明の表
示パネルを配置する。表示パネルは印加される映像信号
に応じて液晶層を透過と散乱状態とをきりかえて入射光
を変調する。変調された光は投写レンズによりスクリー
ンに拡大投映される。
The projection display device of the present invention uses the display panel of the present invention as a light valve. White light emitted from the metal halide lamp is separated into three light paths of blue light, green light and red light, and the display panel of the present invention is arranged in each of the light paths. The display panel modulates the incident light by switching between the transmission state and the scattering state through the liquid crystal layer according to the applied video signal. The modulated light is enlarged and projected on the screen by the projection lens.

【0017】[0017]

【作用】本発明の表示パネルは、少なくとも一方が光透
過性を有する第1および第2の電極基板間に高分子分散
液晶層を挟持させ、前記第1と第2の電極基板のうち少
なくとも一方上で、かつ、高分子分散液晶と接する面に
光吸収薄膜を形成したものである。前記光吸収薄膜は前
記高分子分散液晶層で変調される光を吸収される色素を
含有しており、好ましくは前記光の色に対し、補色の関
係にある色素を含有させる。前記光吸収薄膜により液晶
層内で散乱した光を吸収でき、画素間の光もれ等を防止
できる。
In the display panel of the present invention, the polymer dispersed liquid crystal layer is sandwiched between the first and second electrode substrates, at least one of which is light transmissive, and at least one of the first and second electrode substrates is provided. A light absorption thin film is formed on the surface above and in contact with the polymer dispersed liquid crystal. The light absorbing thin film contains a dye that absorbs the light modulated by the polymer dispersed liquid crystal layer, and preferably contains a dye having a complementary color relationship with the color of the light. The light absorbing thin film can absorb the light scattered in the liquid crystal layer and prevent light leakage between pixels.

【0018】表示パネルが透過型表示パネルの場合は、
画素電極間と、画素電極と高分子分散液晶層をはさんで
対面する基板(以後、対向電極基板と呼ぶ)上に形成さ
れた遮光パターン(以後、ブラックマトリックスと呼
ぶ)のうち少なくとも一方に前記光吸収薄膜を形成す
る。
When the display panel is a transmissive display panel,
At least one of the light shielding pattern (hereinafter, referred to as a black matrix) formed between the pixel electrodes and the substrate (hereinafter, referred to as a counter electrode substrate) that faces the pixel electrode and the polymer-dispersed liquid crystal layer is provided. Form a light absorbing thin film.

【0019】表示パネルが反射型の表示パネルの場合
は、マトリックス状に形成された反射電極間もしくは誘
電体ミラー等の反射手段上に前記光吸収薄膜を形成す
る。また、前記反射手段と高分子分散液晶層をはさんで
対面する対向電極基板上には、誘電体薄膜と高分子分散
液晶層に電界を印加するために用いるITO薄膜からな
る多層膜を形成する。前記多層膜は、誘電体薄膜の光学
的膜厚をλ/4(λは光の設計主波長)、ITO薄膜の
光学的膜厚をλ/2の2層から構成される。その際、誘
電体薄膜の屈折率は1.5以上1.7以下の光透過性の
ある材料を選定する。さらに好ましくは、前記多層膜
は、第1の誘電体薄膜と、ITO薄膜と、第2の誘電体
薄膜の3層で構成する。第1および第2の誘電体薄膜の
光学的膜厚はλ/4、ITO薄膜の光学的膜厚はλ/4
にする。また、前記第1および第2の誘電体薄膜の屈折
率は1.6以上1.8以下の光透過性のある材料を選定
する。前述の多層膜は、液晶層へ入射しようとしてIT
O薄膜の界面で反射する光を防止する光反射防止機能
と、液晶への電界印加機能をあわせもつ。
When the display panel is a reflection type display panel, the light absorbing thin film is formed between the reflection electrodes formed in a matrix or on the reflection means such as a dielectric mirror. In addition, a multilayer film composed of a dielectric thin film and an ITO thin film used for applying an electric field to the polymer dispersed liquid crystal layer is formed on the counter electrode substrate which faces the reflection means and the polymer dispersed liquid crystal layer. . The multilayer film is composed of two layers, a dielectric thin film having an optical film thickness of λ / 4 (λ is a designed main wavelength of light) and an ITO thin film having an optical film thickness of λ / 2. At that time, a material having a light transmittance of a dielectric thin film having a refractive index of 1.5 or more and 1.7 or less is selected. More preferably, the multilayer film is composed of three layers of a first dielectric thin film, an ITO thin film, and a second dielectric thin film. The optical thickness of the first and second dielectric thin films is λ / 4, and the optical thickness of the ITO thin film is λ / 4.
To Further, the first and second dielectric thin films have a refractive index of 1.6 or more and 1.8 or less and a light-transmissive material is selected. The above-mentioned multi-layer film is an
It has both the function of preventing light reflected at the interface of the O thin film and the function of applying an electric field to the liquid crystal.

【0020】第1の電極基板と第2の電極基板のうち少
なくとも一方は以下の条件もしくは形状を満足させるこ
とが好ましい。前記電極基板の両面が平面形状の時、前
記基板が空気と接する面から、高分子分散液晶層までの
距離をt、高分子分散液晶層の有効表示領域をd、基板
の屈折率をnとしたとき、(数2)なる関係を満足させ
る。
At least one of the first electrode substrate and the second electrode substrate preferably satisfies the following condition or shape. When both surfaces of the electrode substrate are flat, the distance from the surface of the electrode substrate in contact with air to the polymer dispersed liquid crystal layer is t, the effective display area of the polymer dispersed liquid crystal layer is d, and the refractive index of the substrate is n. Then, the relation of (Equation 2) is satisfied.

【0021】[0021]

【数2】 [Equation 2]

【0022】また、電極基板の無効面(有効表示領域以
外の部分)に黒色塗料等を用いて光吸収膜を形成する。
前記関係を満足させれば、液晶層で散乱し、基板と空気
との界面で反射する光を光吸収膜で吸収することがで
き、表示コントラストを向上できる。前記基板は、対向
電極基板と透明基板をはりあわせたものを用いて、前記
関係式を満足させてもよい。また、基板が空気と接する
面が曲面の時は前記関係式のtの値を満足せずともよ
い。ただし、前記曲面は凹レンズ形状にしておくことが
好ましい。
Further, a light absorbing film is formed on the ineffective surface of the electrode substrate (portion other than the effective display area) by using black paint or the like.
If the above relationship is satisfied, light that is scattered by the liquid crystal layer and reflected at the interface between the substrate and air can be absorbed by the light absorbing film, and the display contrast can be improved. As the substrate, a laminated structure of a counter electrode substrate and a transparent substrate may be used to satisfy the relational expression. Further, when the surface of the substrate that contacts air is a curved surface, the value of t in the above relational expression may not be satisfied. However, it is preferable that the curved surface has a concave lens shape.

【0023】本発明の投写型表示装置は、本発明の表示
装置をライトバルブとして用いる。メタルハライドラン
プ、キセノンランプ等のランプからの光をダイクロイッ
クミラーあるいはダイクロイックプリズムを用いて、赤
色光(R光)、青色光(B光)および緑色光(G光)の
3原色光の光路に分離する。それぞれの光路には本発明
の表示パネルが配置される。表示パネルは反射型および
透過型表示パネルのどちらでもよい。前記表示パネルは
入射光を変調する。変調された光は投写光学系でスクリ
ーンに拡大投映される。
The projection display device of the present invention uses the display device of the present invention as a light valve. Using a dichroic mirror or dichroic prism, separate the light from lamps such as metal halide lamps and xenon lamps into the optical paths of the three primary colors of red light (R light), blue light (B light) and green light (G light). . The display panel of the present invention is arranged in each optical path. The display panel may be either a reflective or transmissive display panel. The display panel modulates incident light. The modulated light is enlarged and projected on the screen by the projection optical system.

【0024】[0024]

【実施例】(図1)は本発明の表示パネルの一実施例の
断面図である。なお、以下の各図面はモデル的に描いて
おり、物理的な膜厚あるいは形状とは一致しない。ま
た、説明に不要な箇所は省略している。
1 is a sectional view of an embodiment of the display panel of the present invention. Note that the following drawings are drawn as models and do not match the physical film thickness or shape. In addition, parts unnecessary for explanation are omitted.

【0025】アレイ基板13上にはAlからなる反射電
極18、反射電極18に信号を印加するための薄膜トラ
ンジスタ(TFT)16およびTFT16に信号を伝達
するためのソース信号線23等が形成されており、TF
T16の一端子と反射電極18とはコンタクト部19に
より接続されている。また、コンタクト19部以外の部
分は絶縁膜17により分離されている。絶縁膜17の材
料としてはポリイミド等の有機材料、SiO2,SiNx
等の無機材料が用いられる。反射電極18は鏡面性を良
好にするため反射電極18をパターニング後、研磨工程
にて反射電極の表面を研磨し、鏡面にしている。
On the array substrate 13, a reflective electrode 18 made of Al, a thin film transistor (TFT) 16 for applying a signal to the reflective electrode 18, a source signal line 23 for transmitting a signal to the TFT 16 and the like are formed. , TF
One terminal of T16 and the reflective electrode 18 are connected by a contact portion 19. The portion other than the contact portion 19 is separated by the insulating film 17. The material of the insulating film 17 is an organic material such as polyimide, SiO 2 , SiN x.
Inorganic materials such as In order to improve the specularity of the reflective electrode 18, after patterning the reflective electrode 18, the surface of the reflective electrode is polished in a polishing process to be a mirror surface.

【0026】対向電極基板14はガラス基板であり、光
変調層である高分子分散液晶層15と接する面には反射
防止構造をかねた対向電極12または25が形成されて
いる。また、対向電極と反射電極18間はビーズ(図示
せず)等により所定間隔あけて保持され、この間隔には
光変調を行う高分子分散液晶15が狭持されている。対
向電極基板14は厚さ1mmのガラス基板であり、屈折
率は1.52である。
The counter electrode substrate 14 is a glass substrate, and the counter electrode 12 or 25 also serving as an antireflection structure is formed on the surface in contact with the polymer dispersed liquid crystal layer 15 which is a light modulation layer. A bead (not shown) or the like holds a space between the counter electrode and the reflection electrode 18 at a predetermined interval, and a polymer dispersed liquid crystal 15 for performing light modulation is sandwiched between the spaces. The counter electrode substrate 14 is a glass substrate having a thickness of 1 mm and has a refractive index of 1.52.

【0027】光変調層を構成する高分子分散液晶層15
の液晶材料としてはネマティック液晶、スメクティック
液晶、コレステリック液晶が好ましく、単一もしくは2
種類以上の液晶性化合物や液晶性化合物以外の物質も含
んだ混合物であってもよい。なお、先に述べた液晶材料
のうち異常光屈折率neと常光屈折率noの差の比較的大
きいシアノビフェニル系のネマティック液晶が好まし
い。もしくは耐光性、耐熱性が良好なフッ素系のネマテ
ィック液晶が好ましい。
Polymer dispersed liquid crystal layer 15 constituting the light modulation layer
The nematic liquid crystal, the smectic liquid crystal and the cholesteric liquid crystal are preferable as the liquid crystal material of the single or 2
It may be a mixture containing more than one kind of liquid crystal compound or a substance other than the liquid crystal compound. Among the above-mentioned liquid crystal materials, a cyanobiphenyl nematic liquid crystal having a relatively large difference between the extraordinary light refractive index n e and the ordinary light refractive index n o is preferable. Alternatively, a fluorine-based nematic liquid crystal having good light resistance and heat resistance is preferable.

【0028】高分子マトリックス材料としては透明なポ
リマーが好ましく、ポリマーとしては、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂のいずれであっても良い
が、製造工程の容易さ、液晶相との分離等の点より紫外
線硬化タイプの樹脂を用いるのが好ましい。具体的な例
として紫外線硬化性アクリル系樹脂が例示され、特に紫
外線照射によって重合硬化するアクリルモノマー、アク
リルオリゴマーを含有するものが好ましい。
As the polymer matrix material, a transparent polymer is preferable, and as the polymer, a thermoplastic resin,
Either a thermosetting resin or a photocurable resin may be used, but it is preferable to use an ultraviolet curable resin from the viewpoint of ease of manufacturing process, separation from the liquid crystal phase and the like. As a specific example, an ultraviolet curable acrylic resin is exemplified, and a resin containing an acrylic monomer or an acrylic oligomer which is polymerized and cured by ultraviolet irradiation is particularly preferable.

【0029】このような高分子形成モノマーとしては、
2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、ネオペンチルグリコールドアクリレー
ト、ヘキサンジオールジアクリート、ジエチレングリコ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリス
リトールアクリレート等々である。
As such a polymer-forming monomer,
2-Ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, neopentyl glycol acrylate, hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol acrylate and the like.

【0030】オリゴマーもしくはプレポリマーとして
は、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリウレタンアクリレート等が挙げられる。
Examples of the oligomer or prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate and polyurethane acrylate.

【0031】また重合を速やかに行なう為に重合開始剤
を用いても良く、この例として、2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(メルク社製
「ダロキュア1173」)、1−(4−イソプロピルフ
ェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−
オン(メルク社製「ダロキュア1116」)、1−ビド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイキー社
製「イルガキュア184」)、ベンジルメチルケタール
(チバガイギー社製「イルガキュア651」)等が掲げ
られる。その他に任意成分として連鎖移動剤、光増感
剤、染料、架橋剤等を適宜併用することができる。
A polymerization initiator may be used to accelerate the polymerization, and as an example thereof, 2-hydroxy-2-
Methyl-1-phenylpropan-1-one (“Darocur 1173” manufactured by Merck), 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-
On (Merck "Darocur 1116"), 1-vidroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba-Gaiki "Irgacure 184"), benzyl methyl ketal (Ciba-Geigy "Irgacure 651") and the like. In addition, a chain transfer agent, a photosensitizer, a dye, a cross-linking agent and the like can be appropriately used in combination as optional components.

【0032】なお、樹脂材料が硬化した時の屈折率np
と、液晶の常光屈折率noとは略一致するようにする。
液晶層に電界が印加された時に液晶分子が一方向に配向
し、液晶層の屈折率がnoとなる。したがって、樹脂の
屈折率npと一致し、液晶層は光透過状態となる。屈折
率npとnoとの差異が大きいと液晶層に電圧を印加して
も完全に液晶層が透明状態とならず、表示輝度が低下す
る。
The refractive index n p when the resin material is cured
And the ordinary refractive index n o of the liquid crystal are made to substantially match.
When an electric field is applied to the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules are oriented in one direction, and the refractive index of the liquid crystal layer becomes n o . Therefore, the refractive index n p of the resin matches, and the liquid crystal layer is in a light transmitting state. If the difference between the refractive indices n p and n o is large, the liquid crystal layer will not be completely transparent even when a voltage is applied to the liquid crystal layer, and the display brightness will decrease.

【0033】高分子分散液晶層中の液晶材料の割合はこ
こで規定していないが、一般には20重量%〜90重量
%程度がよく、好ましくは50重量%〜85重量%程度
がよい。20重量%以下であると液晶滴の量が少なく、
散乱の効果が乏しい。また90重量%以上となると、高
分子と液晶が上下2層に相分離する傾向が強まり、界面
の割合は小さくなり散乱特性は低下する。高分子分散液
晶層の構造は液晶の比率によって変わり、だいたい50
重量%以下では液晶滴は独立したドロップレト状として
存在し、50重量%以上となると高分子と液晶が互いに
入り組んだ連続層となる。
Although the proportion of the liquid crystal material in the polymer dispersed liquid crystal layer is not specified here, it is generally about 20% to 90% by weight, preferably about 50% to 85% by weight. When it is 20% by weight or less, the amount of liquid crystal drops is small,
The scattering effect is poor. On the other hand, when it is 90% by weight or more, the polymer and the liquid crystal tend to be phase-separated into upper and lower two layers, the ratio of the interface becomes small, and the scattering property is deteriorated. The structure of the polymer-dispersed liquid crystal layer changes depending on the liquid crystal ratio, and is approximately 50
When the amount is less than 50% by weight, the liquid crystal droplets exist as independent droplets, and when the amount is more than 50% by weight, the polymer and the liquid crystal form a continuous layer intricately intermingled with each other.

【0034】液晶層15の膜厚は5〜25μmの範囲が
好ましく、さらには8〜15μmの範囲が好ましい。膜
厚が薄いと散乱特性が悪くコントラストがとれず、逆に
厚いと高電圧駆動を行わなければならなくなり、TFT
を駆動するドライブICの設計等が困難となる。
The thickness of the liquid crystal layer 15 is preferably in the range of 5 to 25 μm, more preferably 8 to 15 μm. If the film thickness is thin, the scattering characteristics are poor and the contrast cannot be obtained. On the contrary, if the film thickness is large, high voltage driving must be performed.
It becomes difficult to design a drive IC for driving the IC.

【0035】11および24は、空気と対向電極基板1
4との界面反射を防止する反射防止膜である。反射防止
膜として比較的広い可視光の波長帯域で反射率を低減さ
せるマルチコート方式、特定の波長帯域で反射率を低減
させるVコート方式がある。狭い光の波長帯域で極力反
射光を防止するのにはVコートが適する。白色光、つま
り広い波長帯域を変調する場合はマルチコート方式を用
いる。(図1(a))はVコート方式(反射防止膜1
1)を、(図1(b))はマルチコート方式(反射防止
膜24)を施した構成を示している。
11 and 24 are air and the counter electrode substrate 1.
4 is an antireflection film that prevents interface reflection with 4. As the antireflection film, there are a multi-coat method for reducing the reflectance in a relatively wide wavelength band of visible light and a V-coat method for reducing the reflectance in a specific wavelength band. The V coat is suitable for preventing reflected light as much as possible in a narrow light wavelength band. When modulating white light, that is, a wide wavelength band, the multi-coat method is used. (FIG. 1A) shows a V-coat method (antireflection film 1).
1) and (FIG. 1B) show a structure in which a multi-coat method (antireflection film 24) is applied.

【0036】(図1(b)に示す)マルチコート方式で
はAl2324aを光学的膜厚がλ/4、ZrO224
bを光学的膜厚がλ/2、MgF224cを光学的膜厚
がλ/4の3層の薄膜を蒸着して形成する。Vコート方
式の場合は(図1(a))に示すように、Y2311a
を光学的膜厚がλ/4、MgF211bを光学的膜厚が
λ/4の2層の薄膜を蒸着して形成する。なお、Y22
のかわりにSiOを用いてもよいがSiOは青色光で吸
収帯域があるため、Y23を用いる方がよい。(図1
8)の実線はVコートの分光反射率を、点線はマルチコ
ートの分光反射率を示す。
In the multi-coat method (shown in FIG. 1 (b)), Al 2 O 3 24a has an optical film thickness of λ / 4 and ZrO 2 24 is formed.
b is formed by vapor-depositing a three-layer thin film having an optical film thickness of λ / 2 and MgF 2 24c having an optical film thickness of λ / 4. In the case of the V coat method, as shown in (FIG. 1A), Y 2 O 3 11a
Is formed by vapor-depositing a two-layer thin film having an optical film thickness of λ / 4 and MgF 2 11b having an optical film thickness of λ / 4. In addition, Y 2 O 2
Alternatively, S i O may be used, but since SiO has an absorption band for blue light, it is preferable to use Y 2 O 3 . (Fig. 1
The solid line in 8) indicates the spectral reflectance of the V coat, and the dotted line indicates the spectral reflectance of the multi coat.

【0037】対向電極基板14の片面には、対向電極と
反射防止膜が形成される。正確には、対向電極とするI
TO膜の前後もしくは一方に誘電体薄膜を形成して反射
防止膜にする。以後、対向電極と反射防止膜とが一体と
なった構造を反射防止電極と呼ぶ。
A counter electrode and an antireflection film are formed on one surface of the counter electrode substrate 14. To be exact, I as the counter electrode
A dielectric thin film is formed before and after or on one side of the TO film to form an antireflection film. Hereinafter, a structure in which the counter electrode and the antireflection film are integrated is referred to as an antireflection electrode.

【0038】(図1)に示す実施例の表示パネルは、反
射防止電極12または25上にブラックマトリックスが
形成されていない。ブラックマトリックスが形成されて
いると、液晶パネルの製造時、アレイ基板13と対向電
極基板14間に液晶と樹脂が混合された溶液を注入し、
紫外線を照射して、液晶と樹脂を相分離させる際に、ブ
ラックマトリックスの下層の溶液が未重合となるためで
ある。未重合状態は光変調層15の物質的安定性を欠く
結果となり、性能劣化をひきおこす。また、ブラックマ
トリックスは画素開口率を低下させる。その上、(図1
に示すような)反射方式の表示パネルではブラックマト
リックスで入射光が反射し、スクリーン上に白くブラッ
クマトリックスの模様が表示されてしまう。このこと
は、後に示す(図10)の実施例の表示パネルでも同様
である。
In the display panel of the embodiment shown in FIG. 1, the black matrix is not formed on the antireflection electrode 12 or 25. When the black matrix is formed, a solution in which liquid crystal and resin are mixed is injected between the array substrate 13 and the counter electrode substrate 14 at the time of manufacturing the liquid crystal panel,
This is because the solution in the lower layer of the black matrix becomes unpolymerized when the liquid crystal and the resin are phase-separated by irradiation with ultraviolet rays. The unpolymerized state results in lack of material stability of the light modulation layer 15, which causes performance deterioration. Moreover, the black matrix lowers the pixel aperture ratio. In addition, (Fig. 1
In a reflection type display panel (as shown in Fig. 3), incident light is reflected by the black matrix, and a white black matrix pattern is displayed on the screen. This also applies to the display panel of the embodiment shown later (FIG. 10).

【0039】従来の、反射型のライトバルブ構成では、
空気と対向電極基板の界面、対向電極となるITO薄膜
と前記基板の界面、前記ITO薄膜と液晶層の界面でそ
れぞれ生ずる反射光がコントラストを低下させている。
In the conventional reflection type light valve configuration,
The contrast is reduced by the reflected light generated at the interface between the air and the counter electrode substrate, at the interface between the ITO thin film serving as the counter electrode and the substrate, and at the interface between the ITO thin film and the liquid crystal layer.

【0040】異なる2つの屈折率nA、nBの境界面で生
ずる反射率R(%)は(数3)で求められる。
The reflectance R (%) generated at the boundary surface between two different refractive indexes n A and n B can be obtained by (Equation 3).

【0041】[0041]

【数3】 [Equation 3]

【0042】対向電極基板をガラスで形成した場合、通
常、ガラス基板の屈折率を1.52、空気の屈折率を
1.0とすると、ガラス基板と空気との境界面で生じる
反射率は約4%となる。
When the counter electrode substrate is made of glass, usually, assuming that the refractive index of the glass substrate is 1.52 and the refractive index of air is 1.0, the reflectance generated at the interface between the glass substrate and air is about. It becomes 4%.

【0043】また、2つの屈折率nA、nBの間に屈折率
C、膜厚dの薄膜が形成されている場合、波長λでの
反射率R(%)は(数4)で求められる。
When a thin film having a refractive index n C and a film thickness d is formed between two refractive indices n A and n B , the reflectance R (%) at the wavelength λ is (Equation 4). Desired.

【0044】[0044]

【数4】 [Equation 4]

【0045】対向電極としてITO薄膜を用いた場合、
ITO薄膜の屈折率を2.0とし、ガラス基板の屈折率
を1.52、液晶層の屈折率を1.6とすると、反射率
は薄膜の膜厚によって、ある特定の波長では最大約6%
にもなる。
When an ITO thin film is used as the counter electrode,
Assuming that the refractive index of the ITO thin film is 2.0, the refractive index of the glass substrate is 1.52, and the refractive index of the liquid crystal layer is 1.6, the reflectance depends on the thickness of the thin film, and the maximum reflectance is about 6 at a certain wavelength. %
It also becomes.

【0046】したがって、上記のような表示パネルを用
いて反射型構成とした場合、最大約10%の光が液晶層
に入射せず反射されてしまう。反射光はコントラストの
低下をまねく。
Therefore, when the display panel as described above is used to form a reflection type structure, a maximum of about 10% of light does not enter the liquid crystal layer and is reflected. Reflected light causes a decrease in contrast.

【0047】対向電極にすぐれた反射防止機能を有する
ように構成するには、対向電極となるITO薄膜の一面
もしくは両面に形成する誘電体薄膜の光学的膜厚が重要
となる。
In order to provide the counter electrode with an excellent antireflection function, the optical film thickness of the dielectric thin film formed on one surface or both surfaces of the ITO thin film to be the counter electrode is important.

【0048】従来のTN液晶は配向膜を形成する必要が
ある。前記配向膜の膜厚は10Å程度の精度で膜厚制御
を行いつつ形成することはできない。したがって、IT
O薄膜の片面に配向膜を形成して、配向膜とITO薄膜
で干渉させ、反射防止機能を有するように作用させるこ
とはできない。逆にいえば、ITOにAl23などの誘
電体薄膜を形成し、反射防止機能をもたせても、配向膜
の形成により反射防止機能が低下もしくは反射防止の機
能は消滅する。
In the conventional TN liquid crystal, it is necessary to form an alignment film. The thickness of the alignment film cannot be formed while controlling the film thickness with an accuracy of about 10Å. Therefore, IT
It is not possible to form an alignment film on one surface of the O thin film and cause the alignment film and the ITO thin film to interfere with each other so as to have an antireflection function. Conversely, even if a dielectric thin film such as Al 2 O 3 is formed on ITO and has an antireflection function, the antireflection function is lowered or the antireflection function disappears due to the formation of the alignment film.

【0049】高分子分散液晶は配向膜の形成の必要がな
い。したがって、対向電極となるITO薄膜を用いてそ
の前後に無機材料からなる誘電体薄膜を形成すれば良好
な反射防止膜を形成できる。
The polymer-dispersed liquid crystal does not require the formation of an alignment film. Therefore, a good antireflection film can be formed by forming a dielectric thin film made of an inorganic material before and after using an ITO thin film as a counter electrode.

【0050】対向電極となるITO薄膜の前後の境界面
でおこる反射を低減するには、特定の条件を満たした屈
折率、および膜厚を有する透明誘電体薄膜とITO薄膜
から構成される、少なくとも2層の多層膜を形成すれば
良い。(図1(b))に示すような2層構成の反射防止
膜25の場合、反射率を最も低くするための条件は次式
のようになる。
In order to reduce the reflection that occurs at the front and back boundary surfaces of the ITO thin film serving as the counter electrode, at least a transparent dielectric thin film and an ITO thin film having a refractive index and a film thickness satisfying a specific condition are used. It is sufficient to form a two-layered multilayer film. In the case of the two-layered antireflection film 25 as shown in FIG. 1B, the conditions for minimizing the reflectance are as follows.

【0051】[0051]

【数5】 [Equation 5]

【0052】[0052]

【数6】 [Equation 6]

【0053】[0053]

【数7】 [Equation 7]

【0054】[0054]

【数8】 [Equation 8]

【0055】nGはガラス基板14の屈折率、nLCは液
晶層15の屈折率、n1はガラス基板14とITO薄膜
25との間に形成する薄膜の屈折率、n2はITO薄膜
25の屈折率、d1はガラス基板14とITO薄膜25
bとの間に形成する薄膜の膜厚、d2はITO薄膜25
bの膜厚、λは設計主波長である。なお、ガラス基板1
4とITO薄膜25bとの間に形成する薄膜は、液晶層
15とITO薄膜25bとの間に形成してもよい。ここ
で、膜厚dii=1,2)は物理的膜厚、niiは光学
的膜厚を意味する。
N G is the refractive index of the glass substrate 14, n LC is the refractive index of the liquid crystal layer 15, n 1 is the refractive index of the thin film formed between the glass substrate 14 and the ITO thin film 25, and n 2 is the ITO thin film 25. D 1 is the refractive index of the glass substrate 14 and the ITO thin film 25.
thin film having a film thickness to be formed between the b, d 2 is the ITO thin film 25
The film thickness of b, λ, is the designed dominant wavelength. The glass substrate 1
The thin film formed between 4 and the ITO thin film 25b may be formed between the liquid crystal layer 15 and the ITO thin film 25b. Here, the film thickness d i ( i = 1, 2) means the physical film thickness, and n i d i means the optical film thickness.

【0056】以上の条件式はいずれも波長λにおける無
反射条件であるが、広い波長帯域で反射を低減させる場
合は、(数7)、(数8)の条件よりも(数5)、(数
6)の条件を満たす場合の方が望ましい。さらに、IT
O薄膜15bは充分に低い抵抗値を得るため、少なくと
も物理的膜厚として100nm以上が望ましい。この点
からも、ITO薄膜の光学的膜厚n22の条件がλ/2
となる(数5)、(数6)の条件が好ましい。
All of the above conditional expressions are non-reflective conditions at the wavelength λ, but in the case of reducing reflection in a wide wavelength band, (Equation 5), (Equation 5), (Equation 5), (Equation 5), (Equation 8) It is preferable to satisfy the condition of Expression 6). Furthermore, IT
In order to obtain a sufficiently low resistance value, the O thin film 15b preferably has a physical film thickness of at least 100 nm or more. From this point as well, the condition of the optical film thickness n 2 d 2 of the ITO thin film is λ / 2.
The conditions of (Equation 5) and (Equation 6) are preferable.

【0057】(図1(b))に示した反射防止電極25
は以上の条件式に基づいて構成したものである。対向電
極基板14の屈折率より高く、対向電極となるITO薄
膜25bの屈折率より低い屈折率を有する誘電体薄膜2
5aと、対向電極となるITO薄膜25bとの2層構成
であり、ITO薄膜25bの光学的膜厚がλ/2、誘電
体薄膜25aの光学的膜厚がλ/4である。また、前記
誘電体薄膜25aの屈折率は、電界無印加状態の液晶層
15の屈折率よりも高くする。つまり、誘電体薄膜の屈
折率n1、ITO薄膜の屈折率n2、電界無印加状態での
液晶層の屈折率n3とすれば、n2>n1>n3となるよう
にする。これは(図1(a))の反射防止電極でも同様
である。
The antireflection electrode 25 shown in FIG. 1 (b).
Is constructed based on the above conditional expression. A dielectric thin film 2 having a refractive index higher than that of the counter electrode substrate 14 and lower than that of the ITO thin film 25b serving as a counter electrode.
5a and an ITO thin film 25b serving as a counter electrode, which has a two-layer structure. The ITO thin film 25b has an optical film thickness of λ / 2, and the dielectric thin film 25a has an optical film thickness of λ / 4. Further, the refractive index of the dielectric thin film 25a is set higher than that of the liquid crystal layer 15 in which no electric field is applied. That is, if the refractive index n 1 of the dielectric thin film, the refractive index n 2 of the ITO thin film, and the refractive index n 3 of the liquid crystal layer in the absence of applied electric field, then n 2 > n 1 > n 3 . This also applies to the antireflection electrode (FIG. 1A).

【0058】具体的な構成の一実施例を(表1)に、ま
た、その分光反射率を(図20)の実線に示す。(図2
0)からわかるように、(表1)の構成によると波長帯
域幅100nm以上にわたり反射率0.3%以下の特性
を実現でき、大幅に反射光を低減できる。
An example of a concrete structure is shown in (Table 1), and its spectral reflectance is shown by a solid line in FIG. (Fig. 2
As can be seen from (0), according to the configuration of (Table 1), the characteristic of the reflectance of 0.3% or less can be realized over the wavelength bandwidth of 100 nm or more, and the reflected light can be significantly reduced.

【0059】[0059]

【表1】 [Table 1]

【0060】高分子分散液晶15の電圧無印加状態での
屈折率nxは、理論的には次式で示される。
The refractive index n x of the polymer dispersed liquid crystal 15 when no voltage is applied is theoretically expressed by the following equation.

【0061】[0061]

【数9】 [Equation 9]

【0062】noは液晶の常光屈折率、neは異常光屈折
率である。シアノビフェニール系の液晶の場合、no
約1.50、neは約1.75のものがある。neとno
の屈折率差△nが大きいほど散乱特性は向上する。フッ
素系の液晶はneおよび△nとも比較的小さく、あまり
高い散乱特性は得られない。しかし、耐熱性、耐光性が
良好であり比較的、液晶の比誘電率も低い。したがっ
て、シアノビフェニール系の液晶よりもフッ素系の液晶
は電圧が印加されやすい。ゆえに、膜厚あたりの散乱特
性は低いが、液晶の膜厚を厚くすることにより、良好な
散乱特性が得られる。
N o is the ordinary refractive index of the liquid crystal, and n e is the extraordinary refractive index. In the case of a cyanobiphenyl type liquid crystal, n o is about 1.50 and n e is about 1.75. n e and n o
The larger the refractive index difference Δn, the better the scattering characteristics. Fluorine-based liquid crystals are relatively small in both ne and Δn, and cannot obtain very high scattering characteristics. However, the heat resistance and the light resistance are good, and the relative permittivity of the liquid crystal is relatively low. Therefore, the voltage is more easily applied to the fluorine-based liquid crystal than to the cyanobiphenyl-based liquid crystal. Therefore, although the scattering property per film thickness is low, a good scattering property can be obtained by increasing the film thickness of the liquid crystal.

【0063】先のシアノビフェニール系のnoとne
(数9)に代入するとnx≒1.6程度となる。実際の
光変調層15はポリマーと液晶の混合層である。ポリマ
ーの屈折率npはnoと略一致させる場合が多いから、高
分子分散液晶の電界無印加状態での屈折率nxは1.6
よりもさらに小さくなる。
Substituting n o and n e of the above cyanobiphenyl system into (Equation 9) results in n x ≈1.6. The actual light modulation layer 15 is a mixed layer of polymer and liquid crystal. In many cases, the refractive index n p of the polymer is made to substantially coincide with n o , so that the refractive index n x of the polymer-dispersed liquid crystal in the no electric field is 1.6.
Even smaller than.

【0064】本明細書での表中あるいは文章中に示す液
晶の屈折率は1.6としている。これは先の説明でも明
らかなように実現上で最も高い屈折率であり、実際はそ
れよりも小さくなる。分光反射率は、ガラス基板の屈折
率と液晶層の屈折率が一致した時、最も小さい値とな
る。液晶層の屈折率は1.6を大幅にこえることはな
く、実際は1.6より小さく、ガラス基板の屈折率に近
い。
The refractive index of the liquid crystal shown in the tables and texts in this specification is 1.6. As is clear from the above description, this is the highest refractive index for practical use, and is actually smaller than that. The spectral reflectance has the smallest value when the refractive index of the glass substrate and the refractive index of the liquid crystal layer match. The refractive index of the liquid crystal layer does not significantly exceed 1.6, is actually smaller than 1.6, and is close to the refractive index of the glass substrate.

【0065】薄膜25aの屈折率は1.50以上1.7
0以下が望ましく、さらに好ましくは1.6以上1.7
以下が望ましい。(表1)の実施例ではAl23を用い
たが、他にCeF3、SiO、WO3、LaF3、NdF3
のいずれかを用いても良い。
The refractive index of the thin film 25a is 1.50 or more and 1.7.
It is preferably 0 or less, more preferably 1.6 or more and 1.7.
The following is desirable. Although Al 2 O 3 was used in the examples of (Table 1), CeF 3 , SiO, WO 3 , LaF 3 , and NdF 3 are also used.
Either of these may be used.

【0066】(表2)にAl23をSiOに変化させた
例を示す。また、(図20)の点線でSiOを用いた場
合の分光反射率を示す。
Table 2 shows an example in which Al 2 O 3 is changed to SiO. The dotted line in FIG. 20 shows the spectral reflectance when SiO is used.

【0067】[0067]

【表2】 [Table 2]

【0068】SiOを用いれば、400nmから700
nmの波長帯域にわたり、分光反射率1%以下を実現で
きる。本発明の投写型表示装置ではR光、G光およびB
光を変調する3枚の表示パネルをライトバルブとして用
いる。(図20)の実線で示す分光反射率特性(Al2
3)ではG光近傍の反射率は極めて小さいが、B光お
よびR光では反射率が高くなる。したがって、R、Gお
よびB光に対応して反射防止電極25を形成する必要が
あり、1台の投写型表示で3種類の表示パネルを用いな
ければならない。(図20)の点線で示す分光反射率特
性(SiO)ではR光、G光、およびB光全域にわたり
反射率が1%以下であるので、一種類のパネルで共用で
きる可能性が高い。
If SiO is used, 400 nm to 700
A spectral reflectance of 1% or less can be realized over the wavelength band of nm. In the projection display device of the present invention, R light, G light and B light are used.
Three display panels that modulate light are used as light valves. Spectral reflectance characteristics (Al 2
The reflectance in the vicinity of G light is extremely small for O 3 ), but the reflectance is high for B light and R light. Therefore, it is necessary to form the antireflection electrode 25 corresponding to the R, G, and B lights, and three types of display panels must be used for one projection display. In the spectral reflectance characteristic (SiO) shown by the dotted line in (FIG. 20), since the reflectance is 1% or less over the entire R light, G light, and B light, there is a high possibility that it can be shared by one type of panel.

【0069】本発明の表示パネルで重要なことは、対向
電極とするITO薄膜を用いて反射防止膜を形成したこ
とにある。当然のことながらITO薄膜は電圧を印加で
きるように構成もしくは形成する。なお、ITO薄膜
は、酸化インジウム、酸化スズなどの膜でもよい。その
場合も光学的干渉効果により、反射率を低減させる光学
的薄膜で誘電体薄膜を積層すれば良い。
What is important in the display panel of the present invention is that the antireflection film is formed using the ITO thin film as the counter electrode. As a matter of course, the ITO thin film is constructed or formed so that a voltage can be applied. The ITO thin film may be a film of indium oxide, tin oxide or the like. Also in that case, the dielectric thin film may be laminated with an optical thin film that reduces the reflectance due to the optical interference effect.

【0070】TFT16上には、絶縁膜17を介して反
射電極18が形成されている。反射電極18とTFT1
6とは接続端子19で電気的に接続されている。絶縁膜
17の材料としては、ポリイミド等を代表とする有機材
料あるいはSiO2,SiNxなどの無機材料が用いら
れる。反射電極18は表面をアルミニウム(Al)の薄
膜で形成される。Cr等を用いて形成してもよいが、反
射率がAlより低く、また硬質のため反射電極18周辺
部がかけるなど、問題が生じやすい。
A reflective electrode 18 is formed on the TFT 16 via an insulating film 17. Reflective electrode 18 and TFT1
6 is electrically connected by a connection terminal 19. As a material for the insulating film 17, an organic material typified by polyimide or the like or an inorganic material such as SiO 2 or SiNx is used. The surface of the reflective electrode 18 is formed of a thin film of aluminum (Al). Although it may be formed by using Cr or the like, the reflectance is lower than that of Al, and since it is hard, a problem easily occurs such that the peripheral portion of the reflective electrode 18 is covered.

【0071】反射電極18の接続端子19部は0.5〜
1μmの落ちくぼみができるが、高分子分散液晶15は
配向などの処理が不要なため、TN液晶のように凹凸に
より配向不良が生じない。開口率は画素サイズが100
μm角の場合80%以上、50μm角の場合でも70%
以上の開口率が得られる。ただし、TFT16上の反射
電極18はTFTのパターンが転写され凹凸が生じ多少
反射効率は低下する。前記凹凸をなくするためには反射
電極18の表面を研摩すればよい。研摩により反射電極
18は平滑化され反射率は90%以上を達成できる。
The connection terminal 19 portion of the reflective electrode 18 is 0.5 to
Although a depression of 1 μm can be formed, the polymer-dispersed liquid crystal 15 does not require a treatment such as alignment, and therefore alignment failure due to unevenness does not occur unlike the TN liquid crystal. The aperture ratio is 100 pixels
80% or more for μm square, 70% for 50 μm square
The above aperture ratio is obtained. However, the reflection electrode 18 on the TFT 16 is transferred with the pattern of the TFT to form irregularities, and the reflection efficiency is somewhat lowered. In order to eliminate the unevenness, the surface of the reflective electrode 18 may be polished. The reflection electrode 18 is smoothed by polishing, and the reflectance can be 90% or more.

【0072】(図1(a))に示すように、対向電極と
なるITO薄膜12bの前後に透明誘電体薄膜12a、
12cを形成して3層構成とすれば、2層の場合よりも
さらに反射率を小さく、かつ広い波長帯域にわたる反射
防止効果を実現できる。この場合の屈折率、および膜厚
の条件は次式のようになる。
As shown in FIG. 1 (a), the transparent dielectric thin film 12a is formed before and after the ITO thin film 12b to be the counter electrode.
If 12c is formed to have a three-layer structure, the reflectance can be made smaller than that in the case of two layers, and the antireflection effect over a wide wavelength band can be realized. The conditions of the refractive index and the film thickness in this case are as follows.

【0073】[0073]

【数10】 [Equation 10]

【0074】[0074]

【数11】 [Equation 11]

【0075】[0075]

【数12】 [Equation 12]

【0076】[0076]

【数13】 [Equation 13]

【0077】n3はITO薄膜と液晶層との間に形成す
る薄膜の屈折率、d3はITO薄膜と液晶層との間に形
成する薄膜の膜厚である。また、その他の記号は(数
5)〜(数8)と同様である。
N 3 is the refractive index of the thin film formed between the ITO thin film and the liquid crystal layer, and d 3 is the film thickness of the thin film formed between the ITO thin film and the liquid crystal layer. Other symbols are the same as those in (Equation 5) to (Equation 8).

【0078】以上の条件数においても、いずれも波長λ
における無反射条件であるが、広い波長帯域で反射を低
減させる場合は(数12)、(数13)の条件よりも
(数10)、(数11)の条件を満たす場合の方が望ま
しい。さらに、ITO薄膜は充分に低い抵抗値を得るた
め、少なくとも物理的膜厚として100nm以上が望ま
しいため、この点からも、ITO薄膜の光学的膜厚n2
2の条件がλ/2となる(数10)、(数11)の条
件が好ましい。
Even under the above condition numbers, the wavelength λ
In the case of the non-reflection condition in (1), when the reflection is reduced in a wide wavelength band, it is preferable to satisfy the conditions of (Formula 10) and (Formula 11) rather than the condition of (Formula 12) and (Formula 13). Further, since the ITO thin film has a sufficiently low resistance value, it is desirable that at least the physical film thickness is 100 nm or more. From this point as well, the optical film thickness n 2 of the ITO thin film is
The conditions of (Equation 10) and (Equation 11) with which the condition of d 2 is λ / 2 are preferable.

【0079】反射防止電極12は、対向電極基板14側
から順に第1の誘電体薄膜12a、ITO薄膜12b、
第2の誘電体薄膜12cで構成される3層構成であり、
ITO薄膜12bの光学的膜厚はλ/2、第1の誘電体
薄膜12a、および第2の誘電体薄膜12cの光学的膜
厚はそれぞれλ/4である。
The antireflection electrode 12 comprises a first dielectric thin film 12a, an ITO thin film 12b, and an ITO thin film 12b in this order from the counter electrode substrate 14 side.
It has a three-layer structure composed of the second dielectric thin film 12c,
The ITO thin film 12b has an optical film thickness of λ / 2, and the first dielectric thin film 12a and the second dielectric thin film 12c each have an optical film thickness of λ / 4.

【0080】誘電体薄膜12aおよび12cとしてSi
Oを用いた構成の一実施例を(表3)に、また、その分
光反射率を(図19)に示す。(図19)からわかるよ
うに、(表3)の構成によると波長帯域幅200nm以
上にわたり反射率0.1%以下の特性を実現でき、極め
て高い反射防止効果を得ることができる。なお、(図1
9)において、グラフの説明文字は上段を誘電体薄膜1
2aの使用材料を、中段はITO薄膜12bを、下段は
誘電体薄膜12cの使用材料を示す。
Si as the dielectric thin films 12a and 12c
An example of the structure using O is shown in (Table 3), and its spectral reflectance is shown in (FIG. 19). As can be seen from (FIG. 19), according to the configuration of (Table 3), it is possible to realize the characteristic of the reflectance of 0.1% or less over the wavelength bandwidth of 200 nm or more, and to obtain the extremely high antireflection effect. In addition, (Fig. 1
In 9), the upper part of the explanatory text of the graph is the dielectric thin film 1
The material used for 2a, the ITO thin film 12b in the middle, and the dielectric thin film 12c in the lower.

【0081】[0081]

【表3】 [Table 3]

【0082】第1の誘電体薄膜12aおよび第2の誘電
体薄膜12cの屈折率は1.60以上1.80以下が望
ましい。(表3)の実施例ではいずれもSiOを用いた
が、どちらか一方または両方の誘電体薄膜を、他にAl
23、Y23、MgO、CeF3、WO3、PbF2のい
ずれかを用いても良い。
The refractive index of the first dielectric thin film 12a and the second dielectric thin film 12c is preferably 1.60 or more and 1.80 or less. Although SiO was used in all of the examples of (Table 3), one or both of the dielectric thin films was replaced with Al.
Any of 2 O 3 , Y 2 O 3 , MgO, CeF 3 , WO 3 , and PbF 2 may be used.

【0083】(表4)に第1の誘電体薄膜12aおよ
び、第2の誘電体薄膜12cをY23にした場合を示
す。また、その分光反射率を(図20)に示す。なお、
23は蒸着条件等により屈折率が1.78から1.8
8程度のものを作製できる。
Table 4 shows a case where the first dielectric thin film 12a and the second dielectric thin film 12c are made of Y 2 O 3 . The spectral reflectance is shown in (FIG. 20). In addition,
Y 2 O 3 has a refractive index of 1.78 to 1.8 depending on vapor deposition conditions.
About 8 can be manufactured.

【0084】[0084]

【表4】 [Table 4]

【0085】誘電体薄膜12aおよび12bにY23
用いた時の分光反射率はAl23の場合に比較してB光
およびR光で反射率が多少高くなる傾向がある。
The spectral reflectance when Y 2 O 3 is used for the dielectric thin films 12a and 12b tends to be slightly higher for B light and R light than in the case of Al 2 O 3 .

【0086】同様に、(表5)に第1の誘電体薄膜12
aをSiOに、第2の誘電体薄膜12cをY23にした
場合を示す。また、その分光反射率を(図20)に示
す。可視光領域全般にわたり0.1%以下の極めてすぐ
れた反射防止効果を実現している。
Similarly, (Table 5) shows the first dielectric thin film 12
The case where a is SiO and the second dielectric thin film 12c is Y 2 O 3 is shown. The spectral reflectance is shown in (FIG. 20). It realizes an extremely excellent antireflection effect of 0.1% or less over the entire visible light region.

【0087】[0087]

【表5】 [Table 5]

【0088】さらに、(表6)に第1の誘電体薄膜12
aをAl23に、第2の誘電体薄膜12cをSiOにし
た場合を示す。また、その分光反射率を(図20)に示
す。R光およびB光の領域では反射率が0.5%を越
え、適当とは言えない。
Further, (Table 6) shows the first dielectric thin film 12
The case where a is Al 2 O 3 and the second dielectric thin film 12c is SiO is shown. The spectral reflectance is shown in (FIG. 20). In the R light and B light regions, the reflectance exceeds 0.5% and cannot be said to be appropriate.

【0089】[0089]

【表6】 [Table 6]

【0090】以上のようにITO薄膜12bの両面に誘
電体薄膜12aおよび12cを3層に形成することによ
り反射光防止効果をもたせることができる。全般的に
(図1(b))に示す2層構成に比較して(図1
(a))の3層構成の方が可視光領域全般にわたり反射
防止効果が高い。
As described above, by forming the dielectric thin films 12a and 12c in three layers on both surfaces of the ITO thin film 12b, a reflected light preventing effect can be provided. Compared to the two-layer structure shown in FIG.
The three-layer structure (a)) has a higher antireflection effect over the entire visible light region.

【0091】高分子分散液晶層15とITO薄膜が直接
接していると高分子分散液晶層15の劣化が進みやす
い。これはITO薄膜中の不純物等が液晶層15に溶出
するためと考えられる。前述の3層構成のように、IT
O薄膜12bと液晶層15との間に誘電体薄膜12cを
形成すると液晶層15の劣化することがなくなる。特に
誘電体薄膜12cがAl23あるいはY23の時に良好
であった。
If the polymer dispersed liquid crystal layer 15 and the ITO thin film are in direct contact with each other, the polymer dispersed liquid crystal layer 15 is likely to deteriorate. It is considered that this is because impurities and the like in the ITO thin film are eluted into the liquid crystal layer 15. IT as in the three-layer structure described above
When the dielectric thin film 12c is formed between the O thin film 12b and the liquid crystal layer 15, the liquid crystal layer 15 is not deteriorated. In particular, when the dielectric thin film 12c was Al 2 O 3 or Y 2 O 3 , it was good.

【0092】誘電体薄膜12cがSiOの時はSiOの
屈折率が低下する傾向がみられる。これは液晶層15中
に微量に含まれたH2O、O2等の酸素原子とSiOが結
びつき、SiOがSiO2に変化していくためと考えら
れる。その意味では(表3)および(表6)の構成はふ
さわしくない。しかし、SiOは短期間でSiO2に変
化することはなく、実用上は採用できることが多い。な
お、以上の反射防止電極12または25の構成は(図1
0)に示す電極107に適用できる。
When the dielectric thin film 12c is made of SiO, the refractive index of SiO tends to decrease. It is considered that this is because oxygen atoms such as H 2 O and O 2 contained in a trace amount in the liquid crystal layer 15 are bonded to SiO, and SiO is changed to SiO 2 . In that sense, the configurations of (Table 3) and (Table 6) are not suitable. However, SiO does not change to SiO 2 in a short period of time and can be practically used in many cases. The structure of the antireflection electrode 12 or 25 is as shown in FIG.
It can be applied to the electrode 107 shown in 0).

【0093】20は反射電極周辺部に形成された光吸収
薄膜である。(図2)は反射電極18を上方からみたと
きの平面図である。光吸収薄膜は反射電極周辺部および
接続端子19上に形成する。接続端子19上は凹状とな
っており、光はまっすぐに反射しない。したがって、光
吸収膜を形成して、表示コントラストの向上に起与させ
る。
Reference numeral 20 is a light absorbing thin film formed in the peripheral portion of the reflective electrode. FIG. 2 is a plan view of the reflective electrode 18 when viewed from above. The light absorption thin film is formed on the peripheral portion of the reflective electrode and the connection terminal 19. The connection terminal 19 has a concave shape and does not reflect light straight. Therefore, a light absorbing film is formed to improve the display contrast.

【0094】光吸収薄膜20の形成方法としては、スパ
ッタなどで膜を蒸着し、パターニングして形成する方法
がある。また、反射電極18を形成後、全面に光吸収樹
脂を塗布して、前記樹脂反射電極18間に充填した後、
反射電極面を研磨して、反射電極18上の樹脂だけを取
り除く方法等が例示される。光吸収薄膜20は精度よく
パターニングする必要はない。多少、塗布されていない
箇所が発生しても光吸収効果は十分である。
As a method of forming the light absorbing thin film 20, there is a method of depositing a film by sputtering or the like and patterning the film. In addition, after forming the reflective electrode 18, a light absorbing resin is applied on the entire surface and filled between the resin reflective electrodes 18,
Examples include a method of polishing the surface of the reflective electrode to remove only the resin on the reflective electrode 18. The light absorption thin film 20 does not need to be accurately patterned. Even if some uncoated areas occur, the light absorption effect is sufficient.

【0095】光吸収薄膜20の使用材料としては、スパ
ッタにより形成されたPrMnO3膜、プラズマ重合に
より形成されたフタロシアニン膜等が例示される。
Examples of materials used for the light absorption thin film 20 include PrMnO 3 film formed by sputtering, phthalocyanine film formed by plasma polymerization, and the like.

【0096】その他、光吸収膜20を形成する光吸収材
料としては電気絶縁性が高く、液晶層15に悪影響を与
えない材料であればよい。例えば、黒色の色素あるいは
顔料を樹脂中に分散したものを用いても良いし、カラー
フィルターの様に、ゼラチンやカゼインを黒色の酸性染
料で染色してもよい。黒色色素の例としては、単一で黒
色となるフルオラン系色素を発色させて用いることもで
き、緑色系色素と赤色系色素とを混合した配向ブラック
を用いることもできる。
In addition, the light absorbing material for forming the light absorbing film 20 may be any material as long as it has high electric insulation and does not adversely affect the liquid crystal layer 15. For example, a black dye or pigment dispersed in resin may be used, or gelatin or casein may be dyed with a black acid dye like a color filter. As an example of the black dye, it is possible to use a single fluorane dye that becomes black, and to use, or it is possible to use oriented black in which a green dye and a red dye are mixed.

【0097】以上の材料はすべて黒色の材料であるが、
本発明の表示パネルを投写型表示装置のライトバルブと
して用いる場合はこれに限定されるものではない。投写
型表示装置は3枚の表示パネルでR,G,Bの3色の光
をそれぞれ変調するものである。R光を変調する表示パ
ネルの光吸収膜20としてはR光を吸収させれば良い。
つまり特定波長を吸収できるように、例えば、カラーフ
ィルタ用の光吸収材料を望ましい光吸収特性が得られる
ように改良して用いれば良い。基本的には前記した黒色
吸収材料と同様に、色素を用いて天然樹脂を染色した
り、色素を合成樹脂中に分散した材料を用いることがで
きる。色素の選択の範囲は黒色色素よりもむしろ幅広
く、アゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、トリフェニルメタン染料などから適切な1種、もし
くはそれらのうち2種類以上の組み合わせでも良い。
The above materials are all black materials,
When the display panel of the present invention is used as a light valve of a projection display device, it is not limited to this. The projection display device has three display panels that modulate light of three colors of R, G, and B, respectively. The light absorbing film 20 of the display panel that modulates the R light may absorb the R light.
That is, in order to absorb a specific wavelength, for example, a light absorbing material for a color filter may be used after being improved so as to obtain a desired light absorbing characteristic. Basically, similarly to the above-mentioned black absorbing material, it is possible to use a material in which a natural resin is dyed with a dye or a dye is dispersed in a synthetic resin. The range of selection of the dye is wider than that of the black dye, and an appropriate one selected from azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, triphenylmethane dyes, and the like, or a combination of two or more thereof may be used.

【0098】黒色色素は液晶層15に悪影響を与える材
料が多い。そのため、使用は好ましくない。そこで、前
述のように特定波長を吸収できる色素を光吸収薄膜の含
有色素として採用することが好ましい。
Many black dyes adversely affect the liquid crystal layer 15. Therefore, its use is not preferable. Therefore, it is preferable to employ a dye capable of absorbing a specific wavelength as a dye contained in the light absorbing thin film as described above.

【0099】R光用、B光用およびG光用の3枚の表示
パネルをライトバルブとして用いる投写型表示装置では
採用が容易である。つまり、変調する光の色に対して、
補色の関係にある色素を光吸収薄膜中に含有させればよ
い。補色の関係とは、たとえば、B光に対しては黄色で
ある。黄色に着色された光吸収薄膜はB光を吸収する。
したがって、B光を変調する表示パネルは黄色の光吸収
薄膜20を形成する。
It is easy to adopt in a projection type display device using three display panels for R light, B light and G light as light valves. In other words, for the color of the modulated light,
A dye having a complementary color relationship may be contained in the light absorbing thin film. The complementary color relationship is, for example, yellow for B light. The light absorption thin film colored in yellow absorbs B light.
Therefore, the display panel that modulates the B light forms the yellow light absorbing thin film 20.

【0100】光吸収薄膜20を形成した効果として大き
く2つあげられる。前記効果を(図3)および(図4)
を用いて説明をする。第1の効果として表示コントラス
トの向上がある。(図3)に示すように、入射光Aは水
滴状液晶173にあたり散乱し、進行方向がわかる。一
部光はソース信号線23で反射し、再び液晶層15にも
どってくる。もどってきた光は再び水滴状液晶にあた
り、対向電極板14より出射する。対向電極基板14か
ら出射し、所定範囲内の角度の光は投写レンズで集光さ
れ、スクリーン(図示せず)に投映される。つまり、黒
表示レベルが高くなり、表示コントラストが悪くなる。
液晶層15が散乱状態の時は入射光Aは対向電極基板1
4から出射されないことが望ましい。(図4)に示すよ
うに光吸収膜20bがあれば、入射光Aは吸収される。
したがって、表示コントラストは向上する。第2の効果
として、TFT16のホトコンダクタ現象の防止があ
る。ホトコンダクタ現象とは、TFT16の半導体層に
光が照射されると、光励起され、TFTがオン状態とな
る現象である。TFTがオフにならなければ、電荷を反
射電極18と対向電極間に保持できないから、液晶層1
5が透過状態とならず、白表示ができなくなる。(図
3)に示す入射光Bはソース信号線23および反射電極
18間で反射され、TFT16に達する。TFT16は
光が照射されると前述のホトコンダクタ現象が発生す
る。(図4)に示すように光吸収薄膜20aがあれば、
入射光Bは遮光されホトコンダクタ現象は発生しない。
There are two major effects of forming the light absorption thin film 20. The effect (FIG. 3) and (FIG. 4)
Will be explained. The first effect is an improvement in display contrast. As shown in (FIG. 3), the incident light A hits the water droplet liquid crystal 173 and is scattered, and the traveling direction can be seen. Part of the light is reflected by the source signal line 23 and returns to the liquid crystal layer 15 again. The returned light strikes the water droplet liquid crystal again and is emitted from the counter electrode plate 14. Light emitted from the counter electrode substrate 14 and having an angle within a predetermined range is condensed by a projection lens and projected on a screen (not shown). That is, the black display level becomes high and the display contrast becomes poor.
When the liquid crystal layer 15 is in the scattering state, the incident light A is the counter electrode substrate 1
It is desirable that the light is not emitted from No. 4. If the light absorption film 20b is provided as shown in FIG. 4, the incident light A is absorbed.
Therefore, the display contrast is improved. The second effect is prevention of the photoconductor phenomenon of the TFT 16. The photoconductor phenomenon is a phenomenon in which when the semiconductor layer of the TFT 16 is irradiated with light, it is photoexcited and the TFT is turned on. If the TFT is not turned off, the electric charge cannot be retained between the reflective electrode 18 and the counter electrode.
5 is not in a transparent state and white display cannot be performed. Incident light B shown in FIG. 3 is reflected between the source signal line 23 and the reflective electrode 18 and reaches the TFT 16. When the TFT 16 is irradiated with light, the above-mentioned photoconductor phenomenon occurs. If there is a light absorption thin film 20a as shown in (FIG. 4),
The incident light B is blocked and the photoconductor phenomenon does not occur.

【0101】(図1)は反射型の表示パネルの実施例で
あった。(図1)で説明した光吸収薄膜および反射防止
電極は、光書き込み型の表示パネルにも用いることがで
きる。(図10)は光書き込み型表示パネルの構成図で
ある。ガラス基板102上には導電性薄膜103、アモ
ルファスシリコンからなる光導電層104、遮光膜10
5、誘電体ミラー106が順次積層されている。誘電体
ミラー106上には光吸収薄膜101が形成されてい
る。一方、対向電極基板108上には反射防止電極10
7が形成されている。導電性薄膜103と反射防止電極
107間に交流が印加され、光伝導層104の光励起状
態により液晶層15に電圧の印加状態が変化する。
FIG. 1 shows an example of a reflective display panel. The light absorption thin film and the antireflection electrode described in (FIG. 1) can also be used in a photo-writing type display panel. FIG. 10 is a configuration diagram of an optical writing type display panel. On the glass substrate 102, a conductive thin film 103, a photoconductive layer 104 made of amorphous silicon, and a light shielding film 10 are formed.
5, the dielectric mirror 106 is sequentially laminated. The light absorption thin film 101 is formed on the dielectric mirror 106. On the other hand, the antireflection electrode 10 is formed on the counter electrode substrate 108.
7 are formed. An alternating current is applied between the conductive thin film 103 and the antireflection electrode 107, and the state of voltage application to the liquid crystal layer 15 changes depending on the photoexcited state of the photoconductive layer 104.

【0102】(図10)に示す反射防止電極107は
(図1)に示す反射防止電極12または25と構成が同
じであり、また、その効果も同様である。同様に光吸収
薄膜101も(図1)の光吸収薄膜20と構成は同様で
ある。
The antireflection electrode 107 shown in FIG. 10 has the same structure as the antireflection electrode 12 or 25 shown in FIG. 1 and the same effect. Similarly, the light absorption thin film 101 has the same structure as the light absorption thin film 20 (FIG. 1).

【0103】光吸収薄膜101は(図11)に示すよう
にストライプ状に形成される。(図11)中のH方向は
画面の横方向、V方向は画面の縦方向である。ストライ
プ状に光吸収薄膜101を形成すれば、横方向への光も
れを防止できる。光吸収薄膜101の形成ピッチは、一
画素の幅に対応させることが好ましい。光吸収薄膜10
1はブラックマトリックスのようにマトリックス状に形
成する方が光もれ防止に効果がある。しかし、光吸収薄
膜101の形成箇所は光を反射しないため、マトリック
ス状に形成してしまうと、マルチスキャン表示に対応し
にくくなる。光書き込み型の表示パネルの1つの大きな
特徴はマルチスキャンができることである。(図10)
のようにストライプ状であれば、H方向に画面サイズを
可変することはやりにくいが、V方向には可変すること
が可能である。
The light absorption thin film 101 is formed in a stripe shape as shown in FIG. In FIG. 11, the H direction is the horizontal direction of the screen, and the V direction is the vertical direction of the screen. If the light absorption thin film 101 is formed in a stripe shape, light leakage in the lateral direction can be prevented. The formation pitch of the light absorption thin film 101 preferably corresponds to the width of one pixel. Light absorbing thin film 10
No. 1 is more effective in preventing light leakage when formed in a matrix like a black matrix. However, since the light-absorbing thin film 101 is not formed to reflect light at the location where it is formed, if it is formed in a matrix, it becomes difficult to support multi-scan display. One of the major characteristics of the optical writing type display panel is that it can perform multi-scan. (Figure 10)
With such a stripe shape, it is difficult to change the screen size in the H direction, but it is possible to change the screen size in the V direction.

【0104】(図5)は本発明の透過型の表示パネルの
断面図である。12は対向電極である。ただし、(図
1)のように反射防止電極構成を採用する必要はない。
アレイ基板13上にはITO薄膜からなる画素電極51
が形成され、一方、対向電極基板12上にはブラックマ
トリックス52が形成されている。ブラックマトリック
ス52は通常Crを用いて形成される。ソース信号線3
2等の信号線上およびブラックマトリックス上には光吸
収薄膜53が形成される。光吸収薄膜53の形成材料は
(図1)で説明した構成であり、また、材料等も同一で
ある。なお、光吸収薄膜の色は液晶層15に入射する光
の色に対して補色の関係にある色にすることが好まし
い。
FIG. 5 is a sectional view of the transmissive display panel of the present invention. Reference numeral 12 is a counter electrode. However, it is not necessary to adopt the antireflection electrode structure as in (FIG. 1).
A pixel electrode 51 made of an ITO thin film is formed on the array substrate 13.
While the black matrix 52 is formed on the counter electrode substrate 12. The black matrix 52 is usually formed using Cr. Source signal line 3
A light absorbing thin film 53 is formed on the signal lines such as 2 and the black matrix. The material for forming the light absorption thin film 53 has the structure described in (FIG. 1), and the material and the like are also the same. The color of the light absorbing thin film is preferably a color that is complementary to the color of light that enters the liquid crystal layer 15.

【0105】(図5)に示す本発明の表示パネルの効果
について考える。(図6)および(図7)は効果を説明
するための説明図である。(図6)は光吸収薄膜53が
形成されていない従来の表示パネルの構成であり、(図
7)は光吸収薄膜が形成された本発明の表示パネルの構
成である。
Consider the effect of the display panel of the present invention shown in FIG. (FIG. 6) and (FIG. 7) are explanatory views for explaining the effect. FIG. 6 shows the structure of a conventional display panel in which the light absorption thin film 53 is not formed, and FIG. 7 shows the structure of the display panel of the present invention in which the light absorption thin film is formed.

【0106】(図6)のように光線A〜Eを考える。光
線Aは水滴状液晶173で散乱され、入射光側に戻る光
である。光線Bは水滴状液晶で散乱されつつ出射側にも
れる光である。光線Cはブラックマトリックス52で反
射され入射側に戻る光である。光線Dはブラックマトリ
ックス52で反射して、出射側にもれる光である。光線
Eもソース信号線23で反射して出射側にもれる光であ
る。つまり、光線B、D、Eが光変調層15が散乱時の
もれ光になる。ブラックマトリックス53および信号線
23は金属薄膜で形成されるため、比較的反射率が高
い。したがって、前記部分により反射し、出射側にもれ
る光となる量も多い。液晶層15が散乱状態の時に出射
側にもれる光は表示コントラストを低下させる。
Consider the rays A to E as shown in FIG. The light ray A is light that is scattered by the water droplet liquid crystal 173 and returns to the incident light side. The light ray B is light that is scattered by the liquid crystal in the form of water droplets and is also emitted to the emission side. The light ray C is light that is reflected by the black matrix 52 and returns to the incident side. The light ray D is light reflected by the black matrix 52 and leaked to the emission side. The light ray E is also the light reflected by the source signal line 23 and leaking to the emission side. That is, the light rays B, D, and E become leakage light when the light modulation layer 15 is scattered. Since the black matrix 53 and the signal line 23 are formed of a metal thin film, the reflectance is relatively high. Therefore, there is a large amount of light that is reflected by the portion and is also leaked to the emission side. The light leaked to the exit side when the liquid crystal layer 15 is in the scattering state reduces the display contrast.

【0107】近年、画素サイズは微小化の影響にあり、
それにつれ、ブラックマトリックスが一画素に占める面
積も高くなりつつある。一例としてパネルサイズが3イ
ンチの時、30万画素クラスではブラックマトリックス
が一画素に占める割合は約70%である。100万画素
クラスでは90%になるという予測値もある。
In recent years, the pixel size has been affected by miniaturization,
Along with this, the area occupied by one pixel of the black matrix is also increasing. As an example, when the panel size is 3 inches, the black matrix occupies about 70% of one pixel in the 300,000 pixel class. There is also a predicted value of 90% in the 1 million pixel class.

【0108】以上のようにブラックマトリックス52の
占める割合は非常に大きく、したがって、液晶層15内
で散乱された光が再びブラックマトリックス52で反射
されて出射側に出力され、コントラストを低下させるこ
とは大きな課題である。また、ブラックマトリックスな
どで反射した光が隣接画素等に入り込み、画素輪郭をに
じませること、さらには表示領域全体のコントラストを
低下させることも課題である。同様に、ソース信号線2
3、ゲート信号線(図示せず)、TFT(図示せず)等
で反射する光も無視できない。
As described above, the black matrix 52 occupies a very large proportion, and therefore the light scattered in the liquid crystal layer 15 is reflected again by the black matrix 52 and is output to the emission side, thereby lowering the contrast. This is a big issue. Another problem is that the light reflected by a black matrix or the like enters adjacent pixels or the like to blur the pixel outline, and further reduce the contrast of the entire display area. Similarly, the source signal line 2
3, the light reflected by the gate signal line (not shown), the TFT (not shown), etc. cannot be ignored.

【0109】(図7)で示すように、光吸収薄膜53を
形成すれば、入射光Dは水滴状液晶173にあたって散
乱し、その一部は光吸収薄膜53bに入射する。前記光
は光吸収薄膜53bで吸収される。また、入射光Eも水
滴状液晶173にあたって散乱し、その一部はソース信
号線23上に形成された光吸収膜53aに入射して吸収
される。したがって、出射側に出力される光を少なくす
ることができる。
As shown in FIG. 7, when the light absorption thin film 53 is formed, the incident light D is scattered by the water droplet liquid crystal 173 and a part of the light D enters the light absorption thin film 53b. The light is absorbed by the light absorption thin film 53b. Further, the incident light E also scatters upon the water droplet liquid crystal 173, and a part of the incident light E is incident on the light absorption film 53 a formed on the source signal line 23 and absorbed. Therefore, the light output to the emission side can be reduced.

【0110】高分子分散液晶を用いた表示パネルの課題
として、アレイ基板および対向電極基板の空気との界面
で反射する光による、表示コントラストの低下がある。
たとえば、(図8)の入射光Fのように基板14の空気
との界面およびブラックマトリックス52で反射し、再
び液晶層15に入射する光である。前記入射光Fを防止
するために表示パネル121が透過型表示パネルの場合
は(図12)に示すように表示パネルに透明板93a、
93bを接着する。反射型表示パネルの場合は(図1
3)に示すように、入射光側に透明板93bを接着す
る。
A problem of the display panel using the polymer-dispersed liquid crystal is a reduction in display contrast due to the light reflected at the interface between the array substrate and the counter electrode substrate with the air.
For example, it is light that is reflected by the interface of the substrate 14 with the air and the black matrix 52 and is incident on the liquid crystal layer 15 again like the incident light F of (FIG. 8). In order to prevent the incident light F, when the display panel 121 is a transmissive display panel, a transparent plate 93a may be provided on the display panel as shown in FIG.
Bond 93b. In the case of a reflective display panel (Fig. 1
As shown in 3), the transparent plate 93b is adhered to the incident light side.

【0111】透明板93a、93bは光透過性のある厚
みのある板であり、より具体的には表示パネルの有効表
示領域の最大径d以上の直径をもつ円柱状もしくは四角
柱状のガラス板である。他にアクリル樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂などの透明樹脂も用いることができ、これら
は比較的安価であり、形状も任意のものを容易に作製で
きる。また、重量も軽く好ましい。透明基板93は光結
合剤92により光学的に接続されている。光結合剤92
とは具体的には透明シリコーン樹脂、紫外線硬化型接着
剤、エポキシ系透明接着剤、エチレングリコール等が例
示される。前記光結合剤の屈折率は1.4〜1.5前後
の物を用い、表示パネル121もしくは131の対向電
極基板等ガラス基板との屈折率差は0.05以内にする
ことが好ましい。
The transparent plates 93a and 93b are light-transmissive and thick plates, and more specifically, they are cylindrical or quadrangular prismatic glass plates having a diameter not less than the maximum diameter d of the effective display area of the display panel. is there. Besides, a transparent resin such as an acrylic resin or a polycarbonate resin can be used, and these are relatively inexpensive and can easily be produced in any shape. It is also preferable because it is light in weight. The transparent substrate 93 is optically connected by the optical coupling agent 92. Optical binder 92
Specific examples of the transparent resin include transparent silicone resins, UV-curable adhesives, epoxy-based transparent adhesives, and ethylene glycol. It is preferable that the optical coupling agent has a refractive index of about 1.4 to 1.5 and a difference in refractive index from the glass substrate such as the counter electrode substrate of the display panel 121 or 131 is within 0.05.

【0112】透明基板93の無効表示面には黒色塗料1
22が塗布されており、空気と透明基板93の界面で反
射する光を吸収できるように構成されている。
Black paint 1 is applied to the invalid display surface of the transparent substrate 93.
22 is applied so that the light reflected at the interface between the air and the transparent substrate 93 can be absorbed.

【0113】透明板93bと表示パネルの対向電極基板
あるいは透明基板93aと表示パネルのアレイ基板を加
えた中心厚tは、屈折率n、液晶パネルの有効表示領域
の最大径をdとしたとき、次式を満足するようにする。
When the transparent plate 93b and the counter electrode substrate of the display panel or the transparent substrate 93a and the array substrate of the display panel are added together, the center thickness t is, when the refractive index is n and the maximum diameter of the effective display area of the liquid crystal panel is d, Make sure to satisfy the following formula.

【0114】[0114]

【数14】 [Equation 14]

【0115】(数14)を満足させなければならない理
由は特願平4−145277号明細書に記載しているの
で説明を省略する。なお、ガラス板の空気と接する面を
凹面にするつまり凹レンズ状にすることにより中心厚t
を短くすることができる。この事項も特願平4−145
277号明細書に記載しているので説明を省略する。
The reason why (Equation 14) must be satisfied is described in the specification of Japanese Patent Application No. 4-145277, and therefore its explanation is omitted. It should be noted that the center thickness t is set by making the surface of the glass plate in contact with air concave, that is, by forming a concave lens shape.
Can be shortened. This matter also applies to Japanese Patent Application No. 4-145.
Since it is described in the specification of No. 277, its explanation is omitted.

【0116】以上のように、(数14)に示されるよう
に、透明板93の中心厚dを所定値以上にすること、あ
るいは透明基板93の一面を凹面にすることにとによ
り、表示パネルの液晶層15より発し、透明板93と空
気との界面で反射する光は光吸収塗料122で吸収され
る。したがって、再び表示パネルの液晶層15に戻って
くることはない。
As described above, as shown in (Equation 14), the center thickness d of the transparent plate 93 is set to a predetermined value or more, or the one surface of the transparent substrate 93 is made to be a concave surface, whereby the display panel is formed. The light emitted from the liquid crystal layer 15 and reflected at the interface between the transparent plate 93 and the air is absorbed by the light absorbing paint 122. Therefore, it does not return to the liquid crystal layer 15 of the display panel again.

【0117】なお、透明板93を表示パネルに光結合剤
92により接続するとしたが、これに限定するものでは
なく、表示パネルの対向電極基板あるいはアレイ基板の
厚みが(数14)を満足するのであれば、透明基板93
を用いる必要がないことは明かである。
Although the transparent plate 93 is connected to the display panel by the optical coupling agent 92, the invention is not limited to this, and the thickness of the counter electrode substrate or the array substrate of the display panel satisfies (Equation 14). If there is a transparent substrate 93
Clearly there is no need to use.

【0118】(図9)に示すように入射光Aは水滴状液
晶173にあたり散乱される。散乱された光A1は光入
射面94bで反射し、黒色塗料122に入射して吸収さ
れる。従来の表示パネルのように透明基板93がないと
対向電極基板14と空気との界面で反射し、反射光A2
となり再び液晶層15に入射する。これは液晶に電圧が
印加されていないオフ時の液晶層15の輝度を上層させ
ることになり、表示コントラストを低下させる。(図
9)に示すように透明基板93bを配置することにより
反射光A2はなくなる。したがって、第1の実施例に比
較して表示コントラストが低下する。
As shown in FIG. 9, the incident light A hits the water droplet liquid crystal 173 and is scattered. The scattered light A 1 is reflected by the light incident surface 94b, enters the black paint 122, and is absorbed. If the transparent substrate 93 is not provided as in the conventional display panel, it is reflected at the interface between the counter electrode substrate 14 and the air, and the reflected light A 2
Then, the light enters the liquid crystal layer 15 again. This raises the brightness of the liquid crystal layer 15 when the voltage is not applied to the liquid crystal and is off, thereby lowering the display contrast. By arranging the transparent substrate 93b as shown in (FIG. 9), the reflected light A 2 disappears. Therefore, the display contrast is lower than that in the first embodiment.

【0119】表示コントラストを低下させる原因にTF
T16のリークがある。これは、TFT16の半導体層
に光が入射し、前記光により励起されてホトコンダクタ
現象が生じることにより起因している。その防止をする
ため、本発明の透明型の表示パネルではTFT16上に
遮光膜91を形成している。しかし、これだけでは完全
でない。入射光Bが液晶層15で散乱され、戻ってくる
場合があるからである。本発明の表示パネルでは、透明
基板93aを配置しているため散乱した光B1となり透
明基板93aと空気の界面94aで反射し、黒色塗料1
22に入射して吸収される。したがって、再びTFT1
6に戻ってくることはない。透明基板93aがないとア
レイ基板13と空気の界面で反射し、反射光B2となり
TFT16にもどってくる。したがって、従来の構成で
は反射光B2によりTFTのホトコンダクタ現象が発生
し、TFT16のリークが発生し表示コントラストは低
くなる。第2の実施例では完全に防止できるため、表示
コントラストは高くできる。
The cause of lowering the display contrast is TF.
There is a T16 leak. This is because light enters the semiconductor layer of the TFT 16 and is excited by the light to generate a photoconductor phenomenon. In order to prevent this, in the transparent display panel of the present invention, the light shielding film 91 is formed on the TFT 16. But this alone is not perfect. This is because the incident light B may be scattered by the liquid crystal layer 15 and return. In the display panel of the present invention, since the transparent substrate 93a is arranged, the scattered light B 1 is reflected at the interface 94a between the transparent substrate 93a and the air, and the black paint 1
It is incident on 22 and is absorbed. Therefore, again TFT1
I will never come back to 6. Without the transparent substrate 93a, the light is reflected at the interface between the array substrate 13 and the air, and becomes reflected light B 2 and returns to the TFT 16. Therefore, in the conventional configuration, the photoconductor phenomenon of the TFT occurs due to the reflected light B 2 , the leak of the TFT 16 occurs, and the display contrast becomes low. Since the second embodiment can completely prevent it, the display contrast can be increased.

【0120】なお、第1および第2の実施例において、
アレイ基板13側からみたブラックマトリックス52は
鏡面性を有し、光を反射できるようにしておく。ブラッ
クマトリックス52にあたった入射光は反射されるか
ら、表示パネルを加熱することがない。もし、光吸収薄
膜53でブラックマトリックス52の上下の位置を反転
させれば、光吸収薄膜53が入射光を吸収し、表示パネ
ルを加熱して劣化させてしまう。
In the first and second embodiments,
The black matrix 52 as viewed from the array substrate 13 side has a specular surface so that it can reflect light. Since the incident light that hits the black matrix 52 is reflected, the display panel is not heated. If the upper and lower positions of the black matrix 52 are reversed by the light absorption thin film 53, the light absorption thin film 53 absorbs incident light and heats and deteriorates the display panel.

【0121】以下、図面を参照しながら本発明の投写型
表示装置について説明する。(図14)は本発明の投写
型表示装置の一実施例の構成図である。ただし、説明に
不要な構成要素は省略している。(図14)において、
141は集光光学系であり、内部に凹面鏡および光発生
手段としてのメタルハライドランプあるいはキセノンラ
ンプを配置している。前記ランプはアーク長ができるだ
け短いものを使用することが望ましい。一般的にキセノ
ンランプのアーク長は2mm以下であり、本発明の液晶
投写型テレビの用途として十分である。しかし、寿命が
短いという欠点がある。メタルハライドランプは250
Wクラスのもので、アーク長は6mm程度である。これ
はアーク長が長すぎ、好ましくない。アーク長は5mm
以下が好ましい。メタルハライドランプは消費電力が小
さいものであれば短アークのものが販売されている。一
例として岩崎電気株式会社より120Wでアーク長3m
m強のものがある。本発明の液晶投写型テレビではメタ
ルハライドランプを用い、そのランプのアーク長は5m
m以下のものを用いた。凹面鏡はランプのアーク長にあ
わせて適正値に設計する。また、投写レンズのF値も同
様である。一例としてアーク長が5mmであれば投写レ
ンズのF値はF7程度にし、アーク長が4mmであれば
投写レンズのF値はF8程度にし、3mmであればF値
はF10程度に設定する。
The projection type display device of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 14 is a configuration diagram of an embodiment of the projection type display device of the present invention. However, components that are unnecessary for the description are omitted. In (Fig. 14),
Reference numeral 141 denotes a condensing optical system in which a concave mirror and a metal halide lamp or a xenon lamp as a light generating means are arranged. It is desirable to use a lamp having an arc length as short as possible. Generally, the arc length of a xenon lamp is 2 mm or less, which is sufficient for the liquid crystal projection television of the present invention. However, it has a short life. 250 metal halide lamps
It is of W class and has an arc length of about 6 mm. This is not preferable because the arc length is too long. Arc length is 5 mm
The following are preferred. Short arc arc metal halide lamps are sold as long as they have low power consumption. As an example, 120W from Iwasaki Electric Co., Ltd., arc length 3m
There are some m. The liquid crystal projection television of the present invention uses a metal halide lamp, and the arc length of the lamp is 5 m.
m or less was used. The concave mirror is designed to a proper value according to the arc length of the lamp. The same applies to the F value of the projection lens. As an example, if the arc length is 5 mm, the F value of the projection lens is set to about F7, if the arc length is 4 mm, the F value of the projection lens is set to about F8, and if it is 3 mm, the F value is set to about F10.

【0122】142は赤外線および紫外線を反射させて
有視光のみを透過させるUVIRカットフィルタであ
る。また、143aはB光を反射させるダイクロイック
ミラー(以後、BDMと呼ぶ)、143bはG光を反射
させるダイクロイックミラー(以後、GDMと呼ぶ)、
143cはR光を反射させるダイクロイックミラー(以
後、RDMと呼ぶ)である。なお、BDM143aから
RDM143cの配置は同図の順序に限定するものでは
ない。また、最後のRDM143cは全反射ミラーにお
きかえてもよいことは言うまでもない。
Reference numeral 142 is a UVIR cut filter which reflects infrared rays and ultraviolet rays and transmits only visible light. Further, 143a is a dichroic mirror that reflects B light (hereinafter referred to as BDM), 143b is a dichroic mirror that reflects G light (hereinafter referred to as GDM),
Reference numeral 143c is a dichroic mirror (hereinafter referred to as RDM) that reflects R light. The arrangement of BDM 143a to RDM 143c is not limited to the order shown in FIG. Needless to say, the final RDM 143c may be replaced with a total reflection mirror.

【0123】144は本発明の表示パネルである。本発
明の投写型表示装置では本発明の表示パネルをライトバ
ルブとして用いる。なお、R光を変調する表示パネルを
他の表示パネルに比較して水滴状液晶粒子径を大きく、
もしくは液晶膜厚を厚めにして構成する。これは光が長
波長になるほど散乱特性が低下しコントラストが低くな
ってしまうためである。水滴状液晶の粒子径は、重合さ
せるときの紫外線光を制御すること、あるいは使用材料
を変化させることにより制御できる。液晶膜厚は液晶層
15のビーズ径を変化することにより調整できる。14
5はレンズ、147は投写レンズ、146はしぼりとし
てのアパーチャである。なお、145、146および1
47で投写光学系を構成している。なお、アパーチャ
は、投写型表示装置の動作の説明上図示したものであ
る。アパーチャは投写レンズの集光角を規定するもので
あるから、投写レンズの機能に含まれるものとして考え
ればよい。つまり、F値が大きければアパーチャの穴径
は小さいと考えることができる。高コントラスト表示を
得るためには投写レンズのF値は大きいほどよい。しか
し、大きくなると白表示の輝度は低下する。
Reference numeral 144 is a display panel of the present invention. In the projection display device of the present invention, the display panel of the present invention is used as a light valve. It should be noted that the display panel that modulates the R light has a larger water droplet liquid crystal particle size than other display panels,
Alternatively, the liquid crystal film is made thicker. This is because the longer the wavelength of light, the lower the scattering characteristics and the lower the contrast. The particle size of the water-drop liquid crystal can be controlled by controlling the ultraviolet light during polymerization or by changing the material used. The liquid crystal film thickness can be adjusted by changing the bead diameter of the liquid crystal layer 15. 14
Reference numeral 5 is a lens, 147 is a projection lens, and 146 is an aperture as a diaphragm. 145, 146 and 1
47 forms a projection optical system. The aperture is illustrated for the purpose of explaining the operation of the projection display device. Since the aperture defines the converging angle of the projection lens, it may be considered as included in the function of the projection lens. That is, if the F value is large, it can be considered that the hole diameter of the aperture is small. In order to obtain a high contrast display, the larger the F value of the projection lens, the better. However, the larger the brightness, the lower the brightness of white display.

【0124】以下、本発明の投写型表示装置の動作につ
いて説明する。なお、R、G、B光のそれぞれの変調系
については、ほぼ同一動作であるのでB光の変調系につ
いて例にあげて説明する。まず、集光光学系141から
白色光が照射され、この白色光のB光成分はBDM14
3aにより反射される。このB光は表示パネル144a
に入射する。表示パネル144aは、(図17(a)
(b))に示すように画素電極に印加された信号により
入射した光の散乱と透過状態とを制御し光を変調する。
The operation of the projection display device of the present invention will be described below. Since the R, G, and B light modulation systems have almost the same operation, the B light modulation system will be described as an example. First, white light is emitted from the condensing optical system 141, and the B light component of this white light is emitted from the BDM 14
It is reflected by 3a. This B light is displayed on the display panel 144a.
Incident on. The display panel 144a (see FIG. 17 (a))
As shown in (b), the light applied is modulated by controlling the scattering and transmission state of the incident light by the signal applied to the pixel electrode.

【0125】散乱した光はアパーチャ146aで遮光さ
れ、逆に平行光または所定角度内の光はアパーチャ14
6aを通過する。変調された光は投写レンズ147aに
よりスクリーン(図示せず)に拡大投映される。以上の
ようにして、スクリーンには画像のB光成分が表示され
る。同様に表示パネル144bはG光成分の光を変調
し、また、表示パネル144cはR光成分の光を変調し
て、スクリーン上にはカラー画像が表示される。なお、
表示パネル144に透明板が接着され、前記透明板の片
面が平凹レンズ形状の場合は、前記凹レンズの屈折を考
慮して投写光学系を構成する。
The scattered light is shielded by the aperture 146a, and conversely, the parallel light or the light within a predetermined angle is emitted by the aperture 14a.
Pass 6a. The modulated light is enlarged and projected on a screen (not shown) by the projection lens 147a. As described above, the B light component of the image is displayed on the screen. Similarly, the display panel 144b modulates the G light component light, and the display panel 144c modulates the R light component light, so that a color image is displayed on the screen. In addition,
When a transparent plate is adhered to the display panel 144 and one surface of the transparent plate has a plano-concave lens shape, the projection optical system is configured in consideration of refraction of the concave lens.

【0126】(図14)は3つの投射レンズ147によ
りスクリーンに拡大投映画する方式であるが、一つの投
写レンズで拡大投映する方式もある。その構成図を(図
15)に示す。157は本発明の表示パネルである。こ
こでは説明を容易にするため、157GをG光の映像を
表示する表示パネル、157RをR光の映像を表示する
表示パネル、157BをB光の映像を表示する表示パネ
ルとする。したがって、各ダイクロイックミラーを透過
および反射する波長は、ダイクロイックミラー155a
はR光を反射し、G光とB光を透過する。また、ダイク
ロイックミラー155bはG光を反射し、R光を透過さ
せる。また、ダイクロイックミラー155dはB光を反
射させ、G光およびR光を透過する。
Although FIG. 14 shows a method of enlarging and projecting on a screen by three projection lenses 147, there is also a method of enlarging and projecting with one projection lens. The block diagram is shown in FIG. Reference numeral 157 is a display panel of the present invention. Here, for ease of explanation, 157G is a display panel for displaying an image of G light, 157R is a display panel for displaying an image of R light, and 157B is a display panel for displaying an image of B light. Therefore, the wavelengths that are transmitted and reflected by each dichroic mirror are the dichroic mirror 155a.
Reflects R light and transmits G light and B light. The dichroic mirror 155b reflects G light and transmits R light. The dichroic mirror 155d reflects B light and transmits G light and R light.

【0127】メタルハライドランプ152から出射され
た光は全反射ミラー153aにより反射され、光の方向
を変化させられる。次に前記光はUVIRカットフィル
タ154により、紫外線領域および赤外線領域の波長の
光がカットされる。紫外線および赤外線をカットされた
光はダイクロイックミラー155a、155bによりR
・G・B光の3つの波長領域の分離され、R光はフィー
ルドレンズ156Rに、G光はフィールドレンズ156
Gに、B光はフィールドレンズ156bに入射する。各
フィールドレンズ156は各光を集光し、表示パネル1
57はそれぞれ映像信号に対応して液晶の配向を変化さ
せ、光を変調する。このように変調されたR・G・B光
はダイクロイックミラー157c、157dにより合成
され、投映レンズ158によりスクリーンに拡大投映さ
れる。
The light emitted from the metal halide lamp 152 is reflected by the total reflection mirror 153a, and the direction of the light is changed. Next, the UVIR cut filter 154 cuts off the light having wavelengths in the ultraviolet region and the infrared region. The light that has been cut off the ultraviolet rays and infrared rays is reflected by the dichroic mirrors 155a and 155b.
Separation of the three wavelength regions of G and B light, R light to the field lens 156R, G light to the field lens 156
The G light and the B light are incident on the field lens 156b. Each field lens 156 collects each light, and the display panel 1
Reference numeral 57 respectively changes the orientation of the liquid crystal corresponding to the video signal to modulate the light. The R, G, and B lights thus modulated are combined by the dichroic mirrors 157c and 157d, and enlarged and projected on the screen by the projection lens 158.

【0128】一方、投写型表示装置を反射方式で構成し
た例が(図16)である。ライトバルブとして、(図
1)に示す表示パネルあるいは(図10)に示す表示パ
ネルを用いる。光源162はランプ162a、凹面鏡1
62b、フィルタ162cで構成される。ランプ162
aはメタルハライドランプであり、凹面鏡162bはガ
ラス製で、反射面に可視光を反射し赤外光を反射する多
層膜を蒸着したものである。ランプ162aからの放射
光に含まれる可視光は、凹面鏡162bの反射面により
反射する。凹面鏡162bから出射する反射光は、フィ
ルタ162cにより赤外線と紫外線とが除去されて出射
する。
On the other hand, FIG. 16 shows an example in which the projection display device is constructed by the reflection method. As the light valve, the display panel shown in FIG. 1 or the display panel shown in FIG. 10 is used. The light source 162 is a lamp 162a, a concave mirror 1
62b and a filter 162c. Lamp 162
Reference numeral a is a metal halide lamp, and the concave mirror 162b is made of glass, and has a reflective surface on which a multilayer film for reflecting visible light and reflecting infrared light is vapor-deposited. The visible light included in the light emitted from the lamp 162a is reflected by the reflecting surface of the concave mirror 162b. The reflected light emitted from the concave mirror 162b is emitted after the infrared rays and ultraviolet rays are removed by the filter 162c.

【0129】投写レンズ161は、表示パネル165側
の第1レンズ群161bと、スクリーン側の第2レンズ
群161aとで構成され、第1レンズ群161bと第2
レンズ群161aとの間には平面ミラー163が配置さ
れている。表示パネル165の画面中心にある画素から
出射する散乱光は、第1レンズ群161bを透過した
後、約半分が平面ミラー163に入射し、残りが平面ミ
ラー163に入射せずに第2レンズ群161aに入射す
る。平面ミラー163の反射面の放線は投写レンズ16
1の光軸166に対して45゜傾いている。
The projection lens 161 comprises a first lens group 161b on the display panel 165 side and a second lens group 161a on the screen side. The first lens group 161b and the second lens group 161b
A plane mirror 163 is arranged between the lens group 161a. The scattered light emitted from the pixel in the center of the screen of the display panel 165, after passing through the first lens group 161b, is approximately half incident on the plane mirror 163 and the rest is not incident on the plane mirror 163, and the second lens group is not incident. It is incident on 161a. The radiation of the reflecting surface of the plane mirror 163 is the projection lens 16
The optical axis 166 of 1 is inclined by 45 °.

【0130】光源162からの光は平面ミラー163で
反射されて第1レンズ群161bを透過し、表示パネル
165に入射する。表示パネル165からの反射光は、
第1レンズ群161b、第2レンズ群161aの順に透
過してスクリーン167に到達する。投写レンズ161
の絞りの中心から出て表示パネル165に向かう光線
は、液晶層15にほぼ垂直に入射するように、つまりテ
レセントリックとしている。ここでは説明を容易にする
ために、165bをG光を変調する表示パネル、165
cをB光を変調する表示パネル、165aをR光を変調
する表示パネルであるとして説明する。
The light from the light source 162 is reflected by the plane mirror 163, passes through the first lens group 161b, and enters the display panel 165. The reflected light from the display panel 165 is
The light passes through the first lens group 161b and the second lens group 161a in this order and reaches the screen 167. Projection lens 161
Light rays that exit the center of the diaphragm and travel toward the display panel 165 are made substantially vertical to the liquid crystal layer 15, that is, telecentric. Here, for ease of explanation, 165b is a display panel for modulating G light, 165
It is assumed that c is a display panel that modulates B light and 165a is a display panel that modulates R light.

【0131】(図16)において、164はダイクロイ
ックミラーであるが、これは色合成系と色分離系を兼用
している。光源からの出射された白色光は平面ミラー1
63により折り曲げられ、投写レンズ161の第1群に
入射する。この際、フィルタ162cによって、不要な
B光およびR光はカットされる。フィルタ162cの帯
域は半値幅の値で430nm〜690nmである。以
後、光の帯域を記述する際は半値幅で表現する。ダイク
ロイックミラー164aはG光を反射し、R光およびB
光を透過させる。G光はダイクロイックミラー164c
で帯域制限され、表示パネル164bに入射する。G光
の帯域は510〜570nmにする。
In FIG. 16, reference numeral 164 designates a dichroic mirror, which serves both as a color combining system and a color separating system. The white light emitted from the light source is a plane mirror 1.
It is bent by 63 and enters the first group of the projection lens 161. At this time, unnecessary B light and R light are cut by the filter 162c. The band of the filter 162c has a half-width value of 430 nm to 690 nm. Hereinafter, when describing the band of light, it is expressed by a half width. The dichroic mirror 164a reflects G light and reflects R light and B light.
Allows light to pass through. G light is dichroic mirror 164c
The band is limited by and is incident on the display panel 164b. The band of G light is set to 510 to 570 nm.

【0132】一方、ダイクロイックミラー164bはB
光を反射し、R光を透過させる。B光は表示パネル16
5cに、R光は表示パネル165aに入射する。入射す
るB光の帯域は430nm〜490nm、R光の帯域は
600nm〜690nmである。表示パネルはそれぞれ
の映像信号に応じて散乱状態の変化として光学像が形成
する。表示パネルで形成された光学像はダイクロイック
ミラー164a、164bで色合成され、投写レンズ1
61に入射し、スクリーン167上に拡大投写される。
なお、これらのR、G、B光の帯域は本発明の投写型表
示装置でほぼ共通の値である。
On the other hand, the dichroic mirror 164b is B
Reflects light and transmits R light. B light is display panel 16
The R light is incident on the display panel 165a at 5c. The band of incident B light is 430 nm to 490 nm, and the band of R light is 600 nm to 690 nm. An optical image is formed on the display panel as a change in the scattering state according to each video signal. The optical image formed on the display panel is color-synthesized by the dichroic mirrors 164a and 164b, and the projection lens 1
It is incident on 61 and is enlarged and projected on the screen 167.
The R, G, and B light bands have almost the same values in the projection display device of the present invention.

【0133】反射型の表示パネルを用いれば、透過型に
比較してコントラストも良好であり、画素開口率も高い
ので高輝度表示を行うことができる。その上、表示パネ
ルの裏面には障害物がないのでパネル冷却が容易であ
る。たとえば、裏面からの強制空冷冷を容易に行え、ま
た、裏面にヒートシンク等も容易に取り付けることがで
きる。
When a reflective display panel is used, the contrast is better than that of the transmissive display panel, and the pixel aperture ratio is high, so that high-luminance display can be performed. Moreover, since there is no obstacle on the back surface of the display panel, the panel can be easily cooled. For example, forced air cooling from the back surface can be easily performed, and a heat sink or the like can be easily attached to the back surface.

【0134】[0134]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、ブラッ
クマトリックスの表面に光吸収薄膜を形成することによ
り、散乱時、液晶層で乱反射する光を吸収することがで
き、表示パネルのコントラストを向上することができ
る。また、ガラス板を配置することによりTFTに光が
照射されることがなくなり、TFTのホトコンダクタ現
象の発生を防止することができる。また、表示コントラ
ストも向上できる。
As described above, according to the present invention, by forming the light absorbing thin film on the surface of the black matrix, it is possible to absorb the light which is diffusely reflected by the liquid crystal layer at the time of scattering, and the contrast of the display panel. Can be improved. Further, by disposing the glass plate, the TFT is not irradiated with light, and the occurrence of the photoconductor phenomenon of the TFT can be prevented. Also, the display contrast can be improved.

【0135】また、高分子分散液晶を用いることによ
り、偏光板が不要となり、TN液晶表示パネルに比較し
て3倍以上の高輝度表示が実現できる。これは光利用効
率を向上できることのみならず、光が熱に変換されるこ
とを大幅に減少でき、加熱によるパネルの性能劣化を引
き起こすことがなくなることを意味する。これは、投写
型表示装置のように一枚の表示パネルに入射する光の強
さが数万ルクスと大きい場合に、非常に有効である。
Further, by using the polymer-dispersed liquid crystal, a polarizing plate becomes unnecessary, and a high-brightness display three times or more as high as that of the TN liquid crystal display panel can be realized. This means that not only the light utilization efficiency can be improved, but also the conversion of light into heat can be greatly reduced, and the deterioration of the panel performance due to heating can be prevented. This is very effective when the intensity of light incident on a single display panel is as large as tens of thousands of lux like a projection display device.

【0136】また、本発明の投写型表示装置では、本発
明の表示パネルをライトバルブとして用いているため、
高輝度表示を実現でき、200インチ以上の大画面化に
も対応できる。また、変調する光の波長に応じて、表示
パネルの液晶膜厚、水滴状液晶の平均粒子径を適正にし
ているので、ホワイトバランスおよびコントラストが良
好な画像表示を実現できる。
In the projection type display device of the present invention, the display panel of the present invention is used as a light valve.
High-luminance display can be realized, and it can be used for large screens of 200 inches or more. Further, since the liquid crystal film thickness of the display panel and the average particle diameter of the water droplet liquid crystal are made appropriate according to the wavelength of the modulated light, it is possible to realize image display with good white balance and contrast.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の表示パネルの断面図FIG. 1 is a sectional view of a display panel of the present invention.

【図2】本発明の表示パネルの平面図FIG. 2 is a plan view of a display panel of the present invention.

【図3】本発明の表示パネルの説明図FIG. 3 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図4】本発明の表示パネルの説明図FIG. 4 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図5】本発明の他の実施例における表示パネルの断面
FIG. 5 is a sectional view of a display panel according to another embodiment of the present invention.

【図6】本発明の表示パネルの説明図FIG. 6 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図7】本発明の表示パネルの説明図FIG. 7 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図8】本発明の表示パネルの説明図FIG. 8 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図9】本発明の表示パネルの説明図FIG. 9 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図10】本発明の他の実施例における表示パネルの構
成図
FIG. 10 is a configuration diagram of a display panel in another embodiment of the present invention.

【図11】本発明の表示パネルの一部平面図FIG. 11 is a partial plan view of a display panel of the present invention.

【図12】本発明の表示パネルの他の実施例の構成図FIG. 12 is a configuration diagram of another embodiment of the display panel of the present invention.

【図13】本発明の他の実施例における表示パネルの構
成図
FIG. 13 is a configuration diagram of a display panel in another embodiment of the present invention.

【図14】本発明の投写型表示装置の一実施例における
構成図
FIG. 14 is a configuration diagram of an embodiment of a projection display device of the present invention.

【図15】本発明の他の実施例における投写型表示装置
の構成図
FIG. 15 is a configuration diagram of a projection display device according to another embodiment of the present invention.

【図16】本発明の他の実施例における投写型表示装置
の構成図
FIG. 16 is a configuration diagram of a projection display device according to another embodiment of the present invention.

【図17】高分子分散液晶の動作の説明図FIG. 17 is an explanatory diagram of the operation of the polymer dispersed liquid crystal.

【図18】本発明の投写型表示装置の説明図FIG. 18 is an explanatory diagram of a projection display device of the present invention.

【図19】本発明の投写型表示装置の説明図FIG. 19 is an explanatory diagram of a projection display device of the present invention.

【図20】本発明の投写型表示装置の説明図FIG. 20 is an explanatory diagram of a projection display device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、12 反射防止膜 12、25、171 対向電極 13 アレイ基板 14 対向基板 15 液晶層 16 TFT 17 絶縁層 18 反射電極 19 接続部 20 光吸収膜 23 ソース信号線 51 画素電極 52 ブラックマトリックス 53a、53b 光吸収膜 91 遮光膜 92a、92b オプティカルカップリング剤 93a、93b 透明板 94a、94b 界面 101 光吸収膜 102 基板 103、107 透明電極 104 光導電層 105 遮光膜 106 誘電体ミラー 108 ガラス基板 121 液晶パネル 122 黒色塗料 141、152 集光光学系 142、154、162c UVIRカットフィルタ 143a、143b、143c、155a、155b、
155c、164a、164b、164c ダイクロイ
ックミラー 144a、144b、144c、157R、157G、
157B、165a、165b、165c 液晶パネル 145a、145b、145c レンズ 146a、146b、146c アパーチャ 147a、147b、147c、158、161 投写
レンズ 153a、153b、153c、163 ミラー 156R、156G、157B フィールドレンズ 162a メタルハライドランプ 162b 凹面鏡 172 画素電極 173 水滴状液晶 174 ポリマー
11, 12 Antireflection film 12, 25, 171 Counter electrode 13 Array substrate 14 Counter substrate 15 Liquid crystal layer 16 TFT 17 Insulating layer 18 Reflective electrode 19 Connection part 20 Light absorbing film 23 Source signal line 51 Pixel electrode 52 Black matrix 53a, 53b Light absorbing film 91 Light shielding film 92a, 92b Optical coupling agent 93a, 93b Transparent plate 94a, 94b Interface 101 Light absorbing film 102 Substrate 103, 107 Transparent electrode 104 Photoconductive layer 105 Light shielding film 106 Dielectric mirror 108 Glass substrate 121 Liquid crystal panel 122 black paint 141, 152 condensing optical system 142, 154, 162c UVIR cut filter 143a, 143b, 143c, 155a, 155b,
155c, 164a, 164b, 164c Dichroic mirrors 144a, 144b, 144c, 157R, 157G,
157B, 165a, 165b, 165c Liquid crystal panel 145a, 145b, 145c Lens 146a, 146b, 146c Aperture 147a, 147b, 147c, 158, 161 Projection lens 153a, 153b, 153c, 163 Mirror 156R, 156G, 157B Field lens 162a Metal lens 162a 162b concave mirror 172 pixel electrode 173 water droplet liquid crystal 174 polymer

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも一方が光透過性を有する第1お
よび第2の基板と、前記第1および第2の基板間に挟持
された、光散乱状態の変化として光学像を形成する光変
調層と、前記第1の基板と第2の基板のうち少なくとも
一方の基板上で、かつ前記光変調層と接する面に形成さ
れた光吸収手段とを具備することを特徴とする表示パネ
ル。
1. A first and a second substrate, at least one of which has a light transmitting property, and a light modulation layer sandwiched between the first and the second substrate and forming an optical image as a change of a light scattering state. And a light absorbing means formed on at least one of the first substrate and the second substrate and on a surface in contact with the light modulation layer.
【請求項2】光吸収手段は色素を含有する薄膜であり、
前記色素は、光変調層が変調する光を吸収する色素であ
ることを特徴とする請求項1記載の表示パネル。
2. The light absorbing means is a thin film containing a dye,
The display panel according to claim 1, wherein the dye is a dye that absorbs light modulated by the light modulation layer.
【請求項3】光変調層は高分子分散液晶であることを特
徴とする請求項1記載の表示パネル。
3. The display panel according to claim 1, wherein the light modulation layer is a polymer-dispersed liquid crystal.
【請求項4】色素は、光変調層が変調する光の色に対し
て補色の関係にある色の色素であることを特徴とする請
求項2記載の表示パネル。
4. The display panel according to claim 2, wherein the dye is a dye having a color complementary to the color of the light modulated by the light modulation layer.
【請求項5】光透過性を有する第1の電極が形成された
第1の基板と、マトリックス状に配置された複数の反射
電極を有する第2の基板と、前記第1の電極と前記反射
電極間に挟持された高分子分散液晶層と、隣接した反射
電極間に形成された光吸収薄膜とを具備することを特徴
とする表示パネル。
5. A first substrate on which a first electrode having light transmissivity is formed, a second substrate having a plurality of reflective electrodes arranged in a matrix, the first electrode and the reflection. A display panel comprising: a polymer-dispersed liquid crystal layer sandwiched between electrodes; and a light-absorbing thin film formed between adjacent reflective electrodes.
【請求項6】光吸収薄膜は、高分子分散液晶層が変調す
る光を吸収する色素を含有していることを特徴とする請
求項5記載の表示パネル。
6. The display panel according to claim 5, wherein the light absorbing thin film contains a dye that absorbs light modulated by the polymer dispersed liquid crystal layer.
【請求項7】第1の電極は、第1の誘電体薄膜と、高分
子分散液晶に電界を印加するためのITO薄膜と、第2
の誘電体薄膜が順次積層された構成であり、前記第1お
よび第2の誘電体薄膜の屈折率n1は1.6以上1.8
以下であり、かつ前記誘電体薄膜の光学的膜厚が略λ/
4(λは光の設計主波長)であり、前記ITO薄膜の屈
折率n2は2.0以下であり、かつ前記ITO薄膜の光
学的膜厚が略λ/2であり、電界を印加していない時の
高分子分散液晶の屈折率をn3としたとき、n2>n1
3なる関係があり、前記第1および第2の誘電体薄膜
は、三酸化二アルミニウム(Al23)、三酸化二イッ
トリウム(Y23)、一酸化シリコン(SiO)、三酸
化タングステン(WO3)、三弗化セリウム(Ce
3)、酸化マグネシウム(MgO)、二弗化鉛(Pb
2)のいずれかの薄膜であることを特徴とする請求項
5記載の表示パネル。
7. The first electrode comprises a first dielectric thin film, an ITO thin film for applying an electric field to the polymer dispersed liquid crystal, and a second electrode.
The dielectric thin films are sequentially laminated, and the refractive index n 1 of the first and second dielectric thin films is 1.6 or more and 1.8 or more.
And the optical film thickness of the dielectric thin film is approximately λ /
4 (λ is the design dominant wavelength of light), the refractive index n 2 of the ITO thin film is 2.0 or less, the optical thickness of the ITO thin film is approximately λ / 2, and an electric field is applied. Assuming that the refractive index of the polymer-dispersed liquid crystal when not in use is n 3 , n 2 > n 1 >
n 3 and the first and second dielectric thin films are composed of dialuminum trioxide (Al 2 O 3 ), yttrium trioxide (Y 2 O 3 ), silicon monoxide (SiO), and trioxide. Tungsten (WO 3 ), cerium trifluoride (Ce
F 3 ), magnesium oxide (MgO), lead difluoride (Pb
The display panel according to claim 5, which is a thin film of any one of F 2 ).
【請求項8】第1の電極は第1の基板上に誘電体薄膜
と、高分子分散液晶に電界を印加するためのITO薄膜
とが順次積層された構成であり、前記誘電体薄膜の屈折
率n1は1.5以上1.7以下であり、かつ前記誘電体
薄膜の光学的膜厚が略λ/4(λは光の設計主波長)で
あり、前記ITO薄膜の屈折率n2は2.0以下であ
り、かつ前記ITO薄膜の光学的膜厚が略λ/2であ
り、電界を印加していない時の高分子分散液晶の屈折率
をn3としたとき、n2>n1>n3なる関係があり、前記
誘電体薄膜は、三酸化二アルミニウム(Al23)、一
酸化シリコン(SiO)、三酸化タングステン(W
3)、三弗化セリウム(CeF3)、三弗化ランタン
(LaF3)、三弗化ネオジム(NdF3)のいずれかの
薄膜であることを特徴とする請求項5記載の表示パネ
ル。
8. The first electrode has a structure in which a dielectric thin film and an ITO thin film for applying an electric field to polymer dispersed liquid crystal are sequentially laminated on a first substrate, and the dielectric thin film is refracted. The index n 1 is 1.5 or more and 1.7 or less, the optical thickness of the dielectric thin film is approximately λ / 4 (λ is the design dominant wavelength of light), and the refractive index n 2 of the ITO thin film is Is 2.0 or less, the optical film thickness of the ITO thin film is approximately λ / 2, and n 2 > when the refractive index of the polymer-dispersed liquid crystal when no electric field is applied is n 3. There is a relationship of n 1 > n 3, and the dielectric thin film includes dialuminum trioxide (Al 2 O 3 ), silicon monoxide (SiO), and tungsten trioxide (W).
O 3), trifluoride cerium (CeF 3), trifluorochloroethylene lanthanum (LaF 3), trifluoride neodymium (NdF 3) display panel of claim 5, wherein it is a one of a thin film of.
【請求項9】マトリックス状に配置された複数の画素電
極と、前記画素電極へ印加する信号を伝達する信号線と
が形成された第1の基板と、 前記画素電極位置に対応して形成された遮光パターンを
有する第2の基板と、 前記遮光パターンと画素電極間に挟持された高分子分散
液晶と、 前記遮光パターン上と信号線上のうち少なくとも一方に
形成された光吸収薄膜を具備することを特徴とする表示
パネル。
9. A first substrate having a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix and a signal line for transmitting a signal applied to the pixel electrode; and a first substrate formed corresponding to the pixel electrode position. A second substrate having a light-shielding pattern, a polymer dispersed liquid crystal sandwiched between the light-shielding pattern and the pixel electrode, and a light-absorbing thin film formed on at least one of the light-shielding pattern and the signal line. Display panel characterized by.
【請求項10】光吸収薄膜は、高分子分散液晶層が変調
する光を吸収する色素を含有していることを特徴とする
請求項9記載の表示パネル。
10. The display panel according to claim 9, wherein the light absorbing thin film contains a dye that absorbs light modulated by the polymer dispersed liquid crystal layer.
【請求項11】光透過性を有する第1の電極が形成され
た第1の基板と、第2の電極、光導電層、光遮光層、誘
電体薄膜で構成された光反射層が、順次積層された第2
の基板と、 前記第1の電極と光反射層間に挟持された高分子分散液
晶層と、 前記第1の電極上と光反射層のうち少なくとも一方に形
成された光吸収薄膜とを具備することを特徴とする表示
パネル。
11. A first substrate on which a first electrode having a light-transmitting property is formed, a second electrode, a photoconductive layer, a light-shielding layer, and a light-reflecting layer composed of a dielectric thin film are sequentially formed. Second stacked
Substrate, a polymer dispersed liquid crystal layer sandwiched between the first electrode and a light reflecting layer, and a light absorbing thin film formed on at least one of the first electrode and the light reflecting layer. Display panel characterized by.
【請求項12】光吸収薄膜は、ストライプ状パターンに
形成され、かつ高分子分散液晶層が変調する光を吸収す
る色素を含有していることを特徴とする請求項11記載
の表示パネル。
12. The display panel according to claim 11, wherein the light absorbing thin film is formed in a stripe pattern and contains a dye that absorbs light modulated by the polymer dispersed liquid crystal layer.
【請求項13】少なくとも一方が光透過性を有する第1
および第2の基板と、前記第1および第2の基板間に挟
持された、光散乱状態の変化として光学像を形成する光
変調層と、前記第1の基板と第2の基板のうち少なくと
も一方の基板上で、かつ光変調層と接する面に形成され
た光吸収手段とを具備する表示パネルと、 一つの光発生手段と、 前記光発生手段が放射する光を前記表示パネルに導く第
1の光源手段と、 前記表示パネルで変調された光を投映する投映手段とを
具備することを特徴とする投写型表示装置。
13. A first device, at least one of which is light transmissive.
And a second substrate, a light modulation layer sandwiched between the first and second substrates and forming an optical image as a change in the light scattering state, and at least the first substrate and the second substrate. A display panel comprising a light absorbing means formed on one of the substrates and on a surface in contact with the light modulating layer; one light generating means; and a light guiding means for guiding the light emitted by the light generating means to the display panel. 1. A projection display device comprising: a light source unit 1 and a projection unit for projecting light modulated by the display panel.
【請求項14】第1の光吸収手段は光変調層に入射した
光を吸収する薄膜であり、前記光の色と補色の関係にあ
る色素を含有していることを特徴とする請求項13記載
の投写型表示装置。
14. The first light absorbing means is a thin film that absorbs the light incident on the light modulation layer, and contains a dye having a complementary color relationship with the color of the light. The projection display device described.
【請求項15】光変調層は高分子分散液晶で構成され、
前記液晶の薄膜は5μm以上25μm以下であることを
特徴とする請求項13記載の投写型表示装置。
15. The light modulation layer is composed of a polymer-dispersed liquid crystal,
14. The projection display device according to claim 13, wherein the thin film of the liquid crystal has a thickness of 5 μm or more and 25 μm or less.
【請求項16】少なくとも一層以上の誘電体薄膜と、I
TO薄膜の積層からなる光透過性を有する第1の電極が
形成された第1の基板と、 第2の電極、光導電層、光遮光層、誘電体薄膜で構成さ
れた光反射層が、順次積層された第2の基板と、 前記第1の電極と光反射層間に挟持された高分子分散液
晶層と、 前記第1の電極上と光反射層のうち、少なくとも一方に
形成された第1の光吸収手段とを具備する表示パネル
と、 一つの光発生手段と、 前記光発生手段が放射する光を赤色光、青色光および緑
色光の3つの光路分離する光分離手段と、 前記表示パネルで変調された光を投映する投映手段とを
具備し、 前記3つの光路にそれぞれ前記表示パネルが配置されて
いることを特徴とする投写型表示装置。
16. At least one dielectric thin film and I
A first substrate having a light-transmitting first electrode formed of a stack of TO thin films, a second electrode, a photoconductive layer, a light-shielding layer, and a light-reflecting layer composed of a dielectric thin film, A second substrate that is sequentially stacked, a polymer-dispersed liquid crystal layer sandwiched between the first electrode and a light reflecting layer, and a second substrate formed on at least one of the first electrode and the light reflecting layer. A display panel comprising one light absorbing means, one light generating means, a light separating means for separating the light emitted by the light generating means into three optical paths of red light, blue light and green light; A projection display device comprising: a projection unit that projects light modulated by a panel, wherein the display panel is arranged in each of the three optical paths.
【請求項17】第1の光吸収手段は色素を含有する薄膜
であり、前記色素は高分子分散液晶層が変調する光を吸
収する機能を有していることを特徴とする請求項16記
載の投写型表示装置。
17. The first light absorbing means is a thin film containing a dye, and the dye has a function of absorbing light modulated by the polymer dispersed liquid crystal layer. Projection display device.
【請求項18】第1の電極は、第1の誘電体薄膜と、光
変調層に電界を印加するためのITO薄膜と、第2の誘
電体薄膜が順次積層された構成であり、前記第1および
第2の誘電体薄膜の屈折率n1は1.6以上1.8以下
であり、かつ前記誘電体薄膜の光学的膜厚が略λ/4
(λは光の設計主波長)であり、前記ITO薄膜の屈折
率n2は2.0以下であり、かつ前記ITO薄膜の光学
的膜厚が略λ/2であり、電界を印加していない時の高
分子分散液晶の屈折率をn3としたとき、n2>n1>n3
なる関係があり、前記第1および第2の誘電体薄膜は、
三酸化二アルミニウム(Al23)三酸化二イットリウ
ム(Y23)、一酸化シリコン(SiO)、三酸化タン
グステン(WO3)、三弗化セリウム(CeF3)、酸化
マグネシウム(MgO)、二弗化鉛(PbF2)のいず
れかの薄膜であることを特徴とする請求項16記載の表
示パネル。
18. The first electrode has a structure in which a first dielectric thin film, an ITO thin film for applying an electric field to the light modulation layer, and a second dielectric thin film are sequentially stacked. The refractive index n 1 of the first and second dielectric thin films is 1.6 or more and 1.8 or less, and the optical thickness of the dielectric thin film is approximately λ / 4.
(Λ is the designed main wavelength of light), the refractive index n 2 of the ITO thin film is 2.0 or less, the optical thickness of the ITO thin film is approximately λ / 2, and an electric field is applied. Assuming that the refractive index of the polymer-dispersed liquid crystal when not present is n 3 , n 2 > n 1 > n 3
And the first and second dielectric thin films have the following relationship:
Dialuminum trioxide (Al 2 O 3 ) Yttrium trioxide (Y 2 O 3 ), Silicon monoxide (SiO), Tungsten trioxide (WO 3 ), Cerium trifluoride (CeF 3 ), Magnesium oxide (MgO) The display panel according to claim 16, wherein the display panel is a thin film of any one of lead difluoride (PbF 2 ).
【請求項19】少なくとも一層以上の誘電体薄膜と、I
TO薄膜の積層からなる光透過性を有する第1の電極が
形成された第1の基板と、 マトリックス状に配置された複数の反射電極を有する第
2の基板と、 前記第1の電極と前記反射電極間に挟持された高分子分
散液晶と、 前記反射電極の周辺部に形成された第1の光吸収手段と
を具備する表示パネルと、 一つの光発生手段と、 前記光発生手段が放射する光を赤色光、青色光および緑
色光の3つの光路に分離する光分離手段と、 前記表示パネルで変調された光を投映する投映手段とを
具備し、 前記3つの光路にそれぞれ前記表示パネルが配置されて
いることを特徴とする投写型表示装置。
19. At least one or more dielectric thin films, and I
A first substrate having a first electrode having a light-transmitting property, which is formed by stacking a TO thin film, a second substrate having a plurality of reflective electrodes arranged in a matrix, the first electrode and the A display panel comprising a polymer dispersed liquid crystal sandwiched between reflective electrodes and a first light absorbing means formed on the periphery of the reflective electrode, one light generating means, and the light generating means emitting light. A light splitting unit that splits the generated light into three light paths of red light, blue light, and green light; and a projection unit that projects the light modulated by the display panel. A projection type display device characterized by being arranged.
【請求項20】第1の光吸収手段は色素を含有する薄膜
であり、前記色素は高分子分散液晶層が変調する光を吸
収する機能を有していることを特徴とする請求項19記
載の投写型表示装置。
20. The first light absorbing means is a thin film containing a dye, and the dye has a function of absorbing light modulated by the polymer dispersed liquid crystal layer. Projection display device.
【請求項21】第1の電極は、第1の誘電体薄膜と、光
変調層に電界を印加するためのITO薄膜と、第2の誘
電体薄膜が順次積層された構成であり、前記第1および
第2の誘電体薄膜の屈折率n1は1.6以上1.8以下
であり、かつ前記誘電体薄膜の光学的膜厚が略λ/4
(λは光の設計主波長)であり、前記ITO薄膜の屈折
率n2は2.0以下であり、かつ前記ITO薄膜の光学
的膜厚が略λ/2であり、電界を印加していない時の高
分子分散液晶の屈折率をn3としたとき、n2>n1>n3
なる関係があり、前記第1および第2の誘電体薄膜は、
三酸化二アルミニウム(Al23)、三酸化二イットリ
ウム(Y23)、一酸化シリコン(SiO)、三酸化タ
ングステン(WO3)、三弗化セリウム(CeF3)のい
ずれかの薄膜であることを特徴とする請求項19記載の
表示パネル。
21. The first electrode has a structure in which a first dielectric thin film, an ITO thin film for applying an electric field to the light modulation layer, and a second dielectric thin film are sequentially stacked. The refractive index n 1 of the first and second dielectric thin films is 1.6 or more and 1.8 or less, and the optical thickness of the dielectric thin film is approximately λ / 4.
(Λ is the designed main wavelength of light), the refractive index n 2 of the ITO thin film is 2.0 or less, the optical thickness of the ITO thin film is approximately λ / 2, and an electric field is applied. Assuming that the refractive index of the polymer-dispersed liquid crystal when not present is n 3 , n 2 > n 1 > n 3
And the first and second dielectric thin films have the following relationship:
Thin film of any one of dialuminum trioxide (Al 2 O 3 ), yttrium trioxide (Y 2 O 3 ), silicon monoxide (SiO), tungsten trioxide (WO 3 ), and cerium trifluoride (CeF 3 ). 20. The display panel according to claim 19, wherein:
【請求項22】マトリックス状に配置された複数の画素
電極と、前記画素電極へ印加する信号を伝達する信号線
とが形成された第1の基板と、 前記画素電極位置に対応して形成された遮光パターンを
有する第2の基板と、 前記遮光パターンと画素電極間に挟持された高分子分散
液晶層と、 前記遮光パターン上と信号線上のうち少なくとも一方に
形成された光吸収薄膜とを具備する表示パネルと一つの
光発生手段と、 前記光発生手段が放射する光を赤色光、青色光および緑
色光の3つの光路に分離する光分離手段と、 前記表示パネルで変調された光を投映する投映手段とを
具備し、 前記3つの光路にそれぞれ前記表示パネルが配置されて
いることを特徴とする投写表示装置。
22. A first substrate having a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix and a signal line for transmitting a signal applied to the pixel electrode; and a first substrate formed corresponding to the pixel electrode position. A second substrate having a light-shielding pattern, a polymer-dispersed liquid crystal layer sandwiched between the light-shielding pattern and the pixel electrode, and a light-absorbing thin film formed on at least one of the light-shielding pattern and the signal line. Display panel and one light generating means, light separating means for separating the light emitted by the light generating means into three optical paths of red light, blue light and green light, and the light modulated by the display panel is projected. The projection display device is characterized in that the display panel is arranged in each of the three optical paths.
【請求項23】光吸収薄膜は高分子分散液晶層に入射し
た光を吸収する機能を有し、前記光の色と補色の関係に
ある色素を含有していることを特徴とする請求項22記
載の投写型表示装置。
23. The light absorbing thin film has a function of absorbing light incident on the polymer dispersed liquid crystal layer, and contains a dye having a complementary color relationship with the color of the light. The projection display device described.
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