JPH0743320A - X-ray inspection method and its system, and inspection method for prepreg and production of multi-layer wiring board - Google Patents

X-ray inspection method and its system, and inspection method for prepreg and production of multi-layer wiring board

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Publication number
JPH0743320A
JPH0743320A JP5334598A JP33459893A JPH0743320A JP H0743320 A JPH0743320 A JP H0743320A JP 5334598 A JP5334598 A JP 5334598A JP 33459893 A JP33459893 A JP 33459893A JP H0743320 A JPH0743320 A JP H0743320A
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JP
Japan
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ray
sample
image
inspected
inspection
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Application number
JP5334598A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoko Suzuki
洋子 鈴木
Hideaki Doi
秀明 土井
Yasuhiko Hara
靖彦 原
Koichi Tsukazaki
晃一 柄崎
Tadashi Iida
正 飯田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0743320A publication Critical patent/JPH0743320A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide an X-ray inspection method and its system by which a clear transmissive X-ray picture can be obtained from an object to be inspected. CONSTITUTION:The system is provided with an X-ray source 101, an XY positioning stage 103 which positions a mounting table for a sample to be inspected 102 by moving it in X and Y directions, an X-ray optical conversion means 108 which detects a transmissive X-ray picture transmitted from the sample by applying an X-ray emitted from the source 101 onto the sample and converts it into an optical picture, and a photoelectric conversion means 110 which receives the detected optical picture and detects it as a transmission density X-ray picture signal. Further, the system is also provided with a noise removal means for removing noise elements from the transmission density X-ray picture signal, a level conversion means which converts the transmission density X-ray picture signal with any noise removed into a signal level corresponding to the sample thickness, and a level correction means for correcting changes in the detected signal level.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、検査対象からの透過X
線像から、その検査対象を検査するX線検査方法とその
装置に係わり、特に検査対象でのX線吸収率が大とされ
た波長を多く含むX線をその検査対象に照射することに
よって、鮮明な透過X線像を得た上、これから、その検
査対象が高精度に検査されるようにしたX線検査方法と
その装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to transmission X from an inspection object.
Related to an X-ray inspection method and an apparatus for inspecting the inspection object from the X-ray image, particularly by irradiating the inspection object with X-rays containing many wavelengths for which the X-ray absorptance of the inspection object is large, The present invention relates to an X-ray inspection method and apparatus for obtaining a clear transmitted X-ray image and then inspecting the inspection object with high accuracy.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来技術に係るX線発生装置としては、
例えば特開平1−204648号公報や特開昭55−4
2640号公報に記載のものが知られている。これによ
る場合、検査対象(被検体等)にはX線が照射される一
方、その検査対象を介された透過X線はX線検出器で検
出されるものとなっている。
2. Description of the Related Art As an X-ray generator according to the prior art,
For example, JP-A-1-204648 and JP-A-55-4
The one described in Japanese Patent No. 2640 is known. In this case, X-rays are emitted to the inspection target (subject or the like), while transmitted X-rays passing through the inspection target are detected by the X-ray detector.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報による場合には、特定波長のX線を検査対象に応じて
所望に発生させた上、これを検査対象に照射することに
ついては、特に考慮されていないものとなっている。即
ち、これまでにあっては、電子線のタ−ゲットへの照射
によって、連続X線が制動放射により発生されているわ
けであるが、その連続X線は単にある幅をもったスペク
トル分布として発生されているというものである。
However, in the case of the above publication, it is particularly considered that the X-ray having a specific wavelength is desirably generated according to the inspection object and then the X-ray is irradiated to the inspection object. Has not become. That is, in the past, continuous X-rays were generated by bremsstrahlung by irradiation of an electron beam on a target, but the continuous X-rays were simply expressed as a spectral distribution having a certain width. It is being generated.

【0004】一般に検査対象でのX線吸収率はX線の波
長によって異なり、また、検査対象の材質によっても、
X線の特定波長に対するX線吸収率は異なるものとなっ
ている。換言すれば、検査対象から鮮明な透過X線像を
得るためには、検査対象に照射されるX線としては、そ
の材質でX線吸収率が高い波長のものが望ましいという
ものである。
Generally, the X-ray absorptivity of the inspection object differs depending on the wavelength of the X-ray, and also depends on the material of the inspection object.
The X-ray absorptances for specific wavelengths of X-rays are different. In other words, in order to obtain a clear transmitted X-ray image from the inspection target, it is desirable that the X-rays irradiated on the inspection target be made of a material having a wavelength with a high X-ray absorption rate.

【0005】本発明の目的は、検査対象から鮮明な透過
X線像が得られるを可としたX線検査方法およびその装
置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an X-ray inspection method and an apparatus therefor capable of obtaining a clear transmitted X-ray image from an inspection object.

【0006】また本発明の目的は、多層配線基板を製造
するのに用いられるプレプレグと称する絶縁シートの内
部および表面に混入または付着した導電性異物を高信頼
度で検査できるようにしたX線検査装置を提供すること
にある。
Another object of the present invention is to provide an X-ray inspection capable of highly reliably inspecting conductive foreign matter mixed in or adhering to the inside and the surface of an insulating sheet called a prepreg used for manufacturing a multilayer wiring board. To provide a device.

【0007】また本発明の目的は、配線パターン間にお
いて短絡または短絡に近い状態にならない高品質の多層
配線基板を製造するためのプレプレグの検査方法および
多層配線基板の製造方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a method for inspecting a prepreg and a method for manufacturing a multi-layer wiring board for manufacturing a high-quality multi-layer wiring board that does not cause a short circuit or a state close to a short circuit between wiring patterns. .

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、検査対象でのX線吸収率が大とされた少
なくとも波長を含むX線を前記検査対象に照射し、該検
査対象を透過した透過X線像を検出し、該透過X線像に
もとづき前記検査対象を検査することを特徴とするX線
検査方法である。また本発明は、検査対象でのX線吸収
率が大とされた2種類以上の波長を含む特性X線を前記
検査対象に照射し、該検査対象を透過した透過X線像を
検出し、該透過X線像にもとづき前記検査対象を検査す
ることを特徴とするX線検査方法である。
In order to achieve the above object, the present invention irradiates an X-ray containing at least a wavelength for which the X-ray absorptance of the inspection target is large, to the inspection target, and the inspection is performed. An X-ray inspection method is characterized in that a transmission X-ray image transmitted through an object is detected, and the inspection object is inspected based on the transmission X-ray image. Further, the present invention irradiates the inspection object with a characteristic X-ray containing two or more kinds of wavelengths having a high X-ray absorption rate in the inspection object, and detects a transmitted X-ray image transmitted through the inspection object, The X-ray inspection method is characterized by inspecting the inspection object based on the transmitted X-ray image.

【0009】また本発明は、プリント回路板におけるC
uまたはAu等の配線パターンに対してX線吸収率が大
とされた0.4nm〜1.5nmの波長を含む特性X線
を前記プリント回路板に照射し、該プリント回路板を透
過した透過X線像を検出し、該透過X線像にもとづき前
記プリント回路板を検査することを特徴とするX線検査
方法である。また本発明は、集束電子線をMoまたはC
uまたはAuまたはこれらの合金からなるターゲットに
照射することによって発生する0.4nm〜1.5nm
の波長を含む特性X線を、CuまたはAu等の配線パタ
ーンを有するプリント回路板に照射し、該プリント回路
板を透過した透過X線像を検出し、該透過X線像にもと
づき前記プリント回路板を検査することを特徴とするX
線検査方法である。また本発明は、集束電子線をMoま
たはCuまたはAuまたはこれらの合金からなるターゲ
ットに照射することによって20μm以下の微小領域か
ら発生する0.4nm〜1.5nmの波長を含む特性X
線を、CrまたはAu等の配線パターンを有するプリン
ト回路板に照射し、該プリント回路板を透過した透過X
線像を検出し、該透過X線像にもとづき前記プリント回
路板を検査することを特徴とするX線検査方法である。
また本発明は、集束電子線をMoまたはCuまたはAu
またはこれらの合金からなるターゲットに照射すること
によって発生する0.4nm〜1.5nmの波長を含む
特性X線を、絶縁部材に照射し、該絶縁部材を透過した
透過X線像を検出し、該透過X線像にもとづき前記絶縁
部材の表面または内部に存在する微小導電性金属異物を
検査することを特徴とするX線検査方法である。また本
発明は、集束電子線をMoまたはCuまたはAuまたは
これらの合金からなるターゲットに照射することによっ
て20μm以下の微小領域から発生する0.4nm〜
1.5nmの波長を含む特性X線を、絶縁部材に照射
し、該絶縁部材を透過した透過X線像を検出し、該透過
X線像にもとづき前記絶縁部材の表面または内部に存在
する微小導電性金属異物を検査することを特徴とするX
線検査方法である。
The present invention also provides C in a printed circuit board.
The printed circuit board is irradiated with a characteristic X-ray having a wavelength of 0.4 nm to 1.5 nm, which has a high X-ray absorption coefficient with respect to a wiring pattern such as u or Au, and is transmitted through the printed circuit board. An X-ray inspection method comprising detecting an X-ray image and inspecting the printed circuit board based on the transmitted X-ray image. Further, the present invention uses a focused electron beam as Mo or C.
0.4 nm to 1.5 nm generated by irradiating a target made of u or Au or an alloy thereof
Is irradiated onto a printed circuit board having a wiring pattern such as Cu or Au, a transmitted X-ray image transmitted through the printed circuit board is detected, and the printed circuit is based on the transmitted X-ray image. X characterized by inspecting the board
It is a line inspection method. The present invention also provides a characteristic X including a wavelength of 0.4 nm to 1.5 nm generated from a minute region of 20 μm or less by irradiating a target made of Mo, Cu, Au, or an alloy thereof with a focused electron beam.
A transparent X which irradiates a printed circuit board having a wiring pattern such as Cr or Au with a wire and is transmitted through the printed circuit board.
An X-ray inspection method comprising detecting a line image and inspecting the printed circuit board based on the transmitted X-ray image.
Further, the present invention uses a focused electron beam as Mo, Cu, or Au.
Alternatively, a characteristic X-ray including a wavelength of 0.4 nm to 1.5 nm generated by irradiating a target made of these alloys is irradiated to the insulating member, and a transmitted X-ray image transmitted through the insulating member is detected, The X-ray inspection method is characterized by inspecting a minute conductive metal foreign substance existing on the surface or inside of the insulating member based on the transmitted X-ray image. Further, according to the present invention, by irradiating a target made of Mo, Cu, Au, or an alloy thereof with a focused electron beam, 0.4 nm to be generated from a minute region of 20 μm or less.
A characteristic X-ray including a wavelength of 1.5 nm is applied to an insulating member, a transmitted X-ray image transmitted through the insulating member is detected, and a minute amount existing on the surface or inside of the insulating member based on the transmitted X-ray image. X characterized by inspecting conductive metallic foreign matter
It is a line inspection method.

【0010】また本発明は、検査対象を載置して位置決
めするステージ手段と、前記検査対象でのX線吸収率が
大とされた波長を多く含むX線を前記ステージ手段によ
って位置決めされた検査対象に照射するX線源と、前記
検査対象を透過した透過X線像を検出して光学像に変換
する光学像変換手段と、該光学像変換手段での光学像を
透過X線画像信号に変換する光電変換手段と、該光電変
換手段から得られる透過X線画像信号像に基づいて前記
検査対象を検査する画像処理手段と、前記ステージ手段
を移動制御するステージ制御手段とを備えたことを特徴
とするX線検査装置である。また本発明は、前記X線検
査装置において、前記X線源として、管電圧および管電
流が制御可能なX線管で構成したことを特徴する。また
本発明は、前記X線検査装置において、前記X線管は、
検査対象と同一材質のターゲットを具備したことを特徴
とする。また本発明は、前記X線検査装置において、前
記X線管は、2種類以上の金属の合金よりなるターゲッ
トを具備したことを特徴とする。
Further, according to the present invention, a stage means for mounting and positioning an inspection object and an inspection in which X-rays containing a large number of wavelengths having a large X-ray absorption rate in the inspection object are positioned by the stage means. An X-ray source for irradiating an object, an optical image conversion means for detecting a transmitted X-ray image transmitted through the inspection object and converting it into an optical image, and an optical image by the optical image conversion means into a transmitted X-ray image signal. A photoelectric conversion unit for converting, an image processing unit for inspecting the inspection target based on a transmission X-ray image signal image obtained from the photoelectric conversion unit, and a stage control unit for controlling movement of the stage unit are provided. It is a characteristic X-ray inspection apparatus. Further, the present invention is characterized in that, in the X-ray inspection apparatus, the X-ray source is an X-ray tube capable of controlling a tube voltage and a tube current. The present invention is also the X-ray inspection apparatus, wherein the X-ray tube is
It is characterized by having a target made of the same material as the inspection target. Further, the present invention is characterized in that, in the X-ray inspection apparatus, the X-ray tube includes a target made of an alloy of two or more kinds of metals.

【0011】また本発明は、X線源と、被検査試料を搭
載する搭載台をXおよびY軸方向に移動して位置決めす
るXY位置決めステージと、前記X線源より出射された
X線を前記XY位置決めステージにより位置決めされた
被検査試料に照射して該被検査試料を透過した透過X線
像を検出して光学像に変換するX線光変換手段と、該X
線光変換手段で検出された光学像を受光して透過濃淡X
線画像信号として検出する光電変換手段と、該光電変換
手段から得られる透過濃淡X線画像信号からノイズ成分
を除去するノイズ除去手段と、該ノイズ除去手段でノイ
ズが除去された透過濃淡X線画像信号に対して前記被検
査試料の厚さに応じた信号レベルに変換するレベル変換
手段と、該レベル変換手段で変換された透過濃淡X線画
像信号に対して検出信号レベルの変動を補正するレベル
補正手段とを備え、該レベル補正手段で補正された透過
濃淡X線画像信号に基づいて前記被検査試料中に混入し
た異物および表面に付着した異物を検査するように構成
したことを特徴とするX線検査装置である。また本発明
は、前記X線検査装置において、前記X線源を、電子ビ
−ム等を微小な領域に収束させてタ−ゲット材に照射し
て微小な領域からX線を発生させるように構成したこと
を特徴とする。また本発明は、前記X線検査装置におい
て、更に、前記X線光変換手段で検出される透過X線像
の結像倍率を制御する結像倍率制御手段を備えたことを
特徴とする。また本発明は、前記X線検査装置におい
て、更に防護キャビンの外側に補助ステージを設け、前
記載置台を、前記補助ステージと前記XY位置決めステ
ージとの間で前記防護キャビンに設けられて開閉される
窓を介して搬出入させる搬送手段を備えたことを特徴と
する。また本発明は、前記X線検査装置において、更
に、前記X線源から照射されるX線の強度を測定するX
線測定手段を設け、該X線測定手段で測定されるX線の
強度に応じて前記レベル補正手段により検出信号レベル
を補正するように構成したことを特徴とする。また本発
明は、前記X線検査装置において、更に、前記X線源か
ら照射されるX線の強度を測定するX線測定手段と、該
X線測定手段で測定されるX線の強度に応じてX線源か
ら出射されるX線を制御する制御手段とを備えたことを
特徴とする。また本発明は、前記X線検査装置におい
て、更に、前記レベル補正手段で補正された透過濃淡X
線画像信号を表示する表示手段を備えたことを特徴す
る。また本発明は、防護キャビンの外側に設けられた補
助ステージと、被検査試料を搭載する搭載台をXおよび
Y軸方向に移動して位置決めするXY位置決めステージ
と、前記載置台を、前記補助ステージと前記XY位置決
めステージとの間で前記防護キャビンに設けられて開閉
される窓を介して搬出入させる搬送手段と、電子ビ−ム
等を微小な領域に収束させてタ−ゲット材に照射して微
小な領域からX線を発生させるように構成したX線源
と、該X線源より出射されたX線を前記XY位置決めス
テージにより位置決めされた被検査試料に照射して該被
検査試料を透過した透過X線像をフィルムに撮像して感
光させてX線透過像を得る感光手段とを備え、該感光手
段により前記被検査試料中に混入した異物および表面に
付着した異物を検査するように構成したことを特徴とす
るX線検査装置である。
According to the present invention, the X-ray source, an XY positioning stage for moving and positioning the mounting table on which the sample to be inspected is mounted in the X- and Y-axis directions, and the X-ray emitted from the X-ray source are described above. X-ray light converting means for irradiating the sample to be inspected positioned by the XY positioning stage to detect a transmitted X-ray image transmitted through the sample to be inspected and converting it into an optical image.
The optical image detected by the line-light conversion means is received to transmit the light and shade X
A photoelectric conversion unit that detects a line image signal, a noise removal unit that removes a noise component from a transmission grayscale X-ray image signal obtained from the photoelectric conversion unit, and a transmission grayscale X-ray image from which noise has been removed by the noise removal unit. A level converting means for converting the signal into a signal level corresponding to the thickness of the sample to be inspected, and a level for correcting fluctuations in the detection signal level of the transmission gray-scale X-ray image signal converted by the level converting means. A foreign matter mixed in the sample to be inspected and a foreign matter adhering to the surface based on the transmission gray-scale X-ray image signal corrected by the level correcting means. It is an X-ray inspection device. Further, according to the present invention, in the X-ray inspection apparatus, the X-ray source converges an electron beam or the like into a minute area and irradiates a target material with the X-ray source to generate an X-ray from the minute area. It is characterized by being configured. Further, the present invention is characterized in that the X-ray inspection apparatus further comprises an imaging magnification control means for controlling an imaging magnification of the transmitted X-ray image detected by the X-ray light converting means. According to the present invention, in the X-ray inspection apparatus, an auxiliary stage is further provided outside the protective cabin, and the mounting table is provided in the protective cabin between the auxiliary stage and the XY positioning stage to be opened and closed. It is characterized in that it is provided with a carrying means for carrying in and out through a window. Further, the present invention is the X-ray inspection apparatus, further comprising an X-ray measuring unit for measuring the intensity of X-rays emitted from the X-ray source.
A line measuring means is provided, and the level correcting means corrects the detection signal level according to the intensity of the X-ray measured by the X-ray measuring means. Further, the present invention provides the X-ray inspection apparatus, further comprising an X-ray measuring unit for measuring the intensity of X-rays emitted from the X-ray source, and an X-ray intensity measured by the X-ray measuring unit. And a control means for controlling the X-rays emitted from the X-ray source. The present invention is also the above-mentioned X-ray inspection apparatus, further comprising the transmission gray-scale X corrected by the level correction means.
It is characterized by comprising display means for displaying the line image signal. Further, the present invention provides an auxiliary stage provided outside a protective cabin, an XY positioning stage for moving and positioning a mounting table on which a sample to be inspected is mounted in the X and Y axis directions, and the mounting table described above as the auxiliary stage. And a transfer means for carrying in and out through a window provided in the protective cabin between the XY positioning stage and the XY positioning stage, and an electron beam or the like is converged on a minute area to irradiate the target material. An X-ray source configured to generate X-rays from a very small area, and the X-rays emitted from the X-ray source are irradiated to the inspected sample positioned by the XY positioning stage to And a photosensing unit for obtaining an X-ray transmission image by sensitizing the transmitted X-ray image on a film, and inspecting the foreign substance mixed in the sample to be inspected and the foreign substance adhering to the surface by the photosensitive unit. An X-ray examination apparatus, characterized in that the sea urchin configuration.

【0012】また本発明は、プレプレグにX線を照射し
て透過X線濃淡画像に基づいて、プレプレグの内部およ
び表面に規定されている導電性異物が混入または付着さ
れているか否かを検査することを特徴とするプレプレグ
の検査方法である。
Further, according to the present invention, the prepreg is irradiated with X-rays, and it is inspected based on the transmitted X-ray gray-scale image whether or not the conductive foreign matter defined inside and on the surface of the prepreg is mixed or attached. This is a method for inspecting a prepreg, which is characterized in that

【0013】また本発明は、プレプレグにX線を照射し
て透過X線濃淡画像に基づいて、プレプレグの内部およ
び表面に規定されている導電性異物が混入または付着さ
れているか否かを検査して内部および表面に規定されて
いる導電性異物が混入または付着されていないプレプレ
グを準備し、該準備されたプレプレグと絶縁材料上に配
線パターンを形成した配線基板とを積層加熱して多層配
線基板を製造することを特徴とする多層配線基板の製造
方法である。
Further, according to the present invention, the prepreg is irradiated with X-rays, and it is inspected based on the transmitted X-ray gray-scale image whether or not the conductive foreign matter defined inside and on the surface of the prepreg is mixed or attached. A prepreg in which conductive foreign substances specified on the inside and on the surface are not mixed or attached, and the prepared prepreg and a wiring board having a wiring pattern formed on an insulating material are laminated and heated to form a multilayer wiring board. Is a method of manufacturing a multilayer wiring board.

【0014】[0014]

【作用】検査対象をX線により検査するに際して、その
検査対象の材質でX線吸収率が大とされた波長を多く含
むX線を、その検査対象を含む状態でその検査対象に照
射する場合には、その検査対象からは透過X線像が鮮明
なものとして得ることができ、その結果その透過X線像
を検出した上で画像処理することにより検査対象につい
て高精度に検査することができる。
When the inspection object is inspected with X-rays, when the inspection object is irradiated with X-rays containing a large number of wavelengths for which the material of the inspection object has a large X-ray absorption rate. In addition, it is possible to obtain a clear transmitted X-ray image from the inspection object, and as a result, it is possible to inspect the inspection object with high accuracy by performing image processing after detecting the transmission X-ray image. .

【0015】一方、電気回路の製造に用いられる多層配
線基板等は、ガラス繊維をメッシュ状に織りあげた布状
シートにポリイミド等の絶縁材料を含浸させたプレプレ
グと称する絶縁シートの表面に銅などの導電材料で配線
パターン(回路パターン)を形成した配線パターン基板
を準備し、これを前記プレプレグと称する絶縁シートを
介して多数積み重ねて製造される。しかし、該絶縁シー
トの内部および表面に導電性金属異物が混入または付着
して存在すると、上記配線パターンが短絡若しくは短絡
に近い状態になり、これを検査して不良を排除すること
が必要となる。このように対象となる導電性金属異物は
多層配線基板を製造後、長期に渡る信頼性確保のため、
数10μm以下であってもこれを検出して銅等の配線パ
ターンのマイグレーション等による絶縁特性の劣化を防
止する必要がある。そこで、本発明は、プレプレグと称
する絶縁シートは比較的低分子量の材料で構成されてお
り、X線透過率は高く、一方導電性金属異物として問題
になる金属は、Fe,Mo,W等分子量が大きく、X線
透過率は比較的低いことに着目して、プレプレグと称す
る絶縁シートの内部および表面に混入または付着して存
在する微小な導電性金属異物をX線透過画像に基づいて
高信頼度で検査できるようにしたので、該微小な導電性
金属異物が規定値以下しか絶縁シートの内部および表面
に存在しないことになり、前記配線パターン基板を該微
小な導電性金属異物が存在しない絶縁シートを介しなが
ら多数積み重ねて多層配線基板を製造すれば、多層配線
基板として長期に渡って絶縁特性の信頼度を確保するこ
とができる。
On the other hand, in a multilayer wiring board or the like used for manufacturing an electric circuit, a cloth-like sheet obtained by weaving glass fibers into a mesh shape is impregnated with an insulating material such as polyimide. A wiring pattern substrate on which a wiring pattern (circuit pattern) is formed of the conductive material is prepared, and a large number of the wiring pattern substrates are stacked via an insulating sheet called the prepreg. However, if a conductive metallic foreign substance is mixed or adhered to the inside and the surface of the insulating sheet, the wiring pattern becomes a short circuit or a state close to a short circuit, and it is necessary to inspect this to eliminate defects. . In this way, the target conductive metal foreign matter is to ensure long-term reliability after manufacturing the multilayer wiring board,
Even if it is several tens of μm or less, it is necessary to detect this and prevent the deterioration of the insulation characteristics due to the migration of the wiring pattern such as copper. Therefore, in the present invention, an insulating sheet called a prepreg is made of a material having a relatively low molecular weight, and has a high X-ray transmittance, while a metal that is a problem as a conductive foreign metal is Fe, Mo, W or the like. , And the relatively low X-ray transmissivity, it is possible to obtain a high reliability based on an X-ray transmission image of minute conductive metal foreign substances that are mixed or adhered inside and on the surface of an insulating sheet called a prepreg. Since it is possible to inspect each minute, the minute conductive metal foreign matter is present only within the specified value on the inside and the surface of the insulating sheet, and the wiring pattern substrate is insulated from the minute conductive metal foreign matter. When a multi-layer wiring board is manufactured by stacking a large number of sheets while interposing sheets, it is possible to secure the reliability of the insulation characteristics for a long time as the multi-layer wiring board.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明を図1から図6により説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to FIGS.

【0017】先ず本発明によるX線検査装置について説
明すれば、図1はその一例での概要構成を示したもので
ある。これによる場合、本例では、検査対象6としてそ
の表面に回路パターン6aが形成されているもの、例え
ばプリント配線基板が想定されており、これにX線管1
からX線が上方より照射されるものとなっている。この
場合、X線管1には、回路パターン6aでX線吸収率が
大きい波長の特性X線を発生させ得る材質のターゲット
3が使用されており、タ−ゲット3の材質により定まる
値以上の管電圧の電子線4が陰極2からタ−ゲット3に
照射されることによって、タ−ゲット3からはその材質
に特有な波長をもったX線、即ち、特性X線が発生され
た上、検査対象6に照射されているものである。その特
性X線のその強度は連続X線のそれの数倍の強度を持
ち、その波長分布の幅は非常に狭いが、その際でのX線
管1での管電圧および管電流はキャビン21外のX線発
生制御装置26によって、最適に設定されるものとなっ
ている。管電圧値をタ−ゲット3から特性X線を発生さ
せる値以上に保ち、かつ管電流値を検出に適した強度の
特性X線が発生される状態となるべく、その管電圧およ
び管電流が最適に設定される場合には、X線管1からは
所望の強度を以て特定X線が発生され得るものである。
First, the X-ray inspection apparatus according to the present invention will be described. FIG. 1 shows a schematic structure of an example thereof. In this case, in the present example, it is assumed that the inspection target 6 has a circuit pattern 6a formed on the surface thereof, for example, a printed wiring board, and the X-ray tube 1 is attached to the inspection target 6.
X-rays are emitted from above. In this case, the X-ray tube 1 uses a target 3 made of a material capable of generating a characteristic X-ray having a wavelength with a large X-ray absorption rate in the circuit pattern 6a, and the target 3 has a value not less than a value determined by the material of the target 3. By irradiating the target 3 with the electron beam 4 having the tube voltage, the target 3 generates X-rays having a wavelength peculiar to the material, that is, characteristic X-rays. The inspection object 6 is irradiated. The intensity of the characteristic X-ray is several times as high as that of the continuous X-ray, and the width of the wavelength distribution is very narrow. At that time, the tube voltage and the tube current in the X-ray tube 1 are the same as those in the cabin 21. It is optimally set by an external X-ray generation controller 26. The tube voltage and the tube current are optimal so that the tube voltage value is maintained at a value equal to or higher than the value for generating the characteristic X-ray from the target 3 and the characteristic X-ray having the intensity suitable for the detection of the tube current value is generated. When set to, specific X-rays can be generated from the X-ray tube 1 with desired intensity.

【0018】以上のようにして、X線管1で発生された
特定X線は検査対象6に照射されるわけであるが、図2
は検査対象6としてのプリント配線基板を示したもので
ある。図示のように、プリント配線基板9は基材10表
面に回路パタ−ン11が各種形成されたものとして構成
されているが、その回路パターン11の材質は一般に金
属とされ、また、基材10のそれは多くは有機材料とし
て構成されたものとなっている。ここで、回路パターン
11(6a)、基材10の材質がそれぞれ銅、有機材料
であるとして、再び図1に戻り説明を続行すれば、X線
管1からの特性X線はプリント配線基板9に照射される
が、その際、回路パタ−ン11では特性X線の一部が吸
収され、残りは回路パターン11を透過される一方で
は、基材10では、特性X線の透過率が銅よりも大きい
ことから、基材10に照射された特性X線の殆どは基材
10をそのまま透過されるものとなっている。このよう
にして、プリント配線基板9からはX線が透過される
が、その透過X線7はイメージインテンシファイア8で
光学像に変換された上、更に、レンズ16、ミラー1
8、レンズ17、シャッタ19を介しカメラ20で画像
として検出され、検出された画像は画像処理装置27で
所定に画像処理されることで、回路パターン11上での
各種欠陥(短絡、断線等)の有無が検査されているもの
である。イメージインテンシファイア8では、回路パタ
−ン11に対応する画像部分は暗いものとして、また、
基材部分10に対応する画像部分は明るいものとして、
透過X線7から光学像が得られているものである。な
お、本例では、検査対象6としてのプリント配線基板9
はXステージ22、Yステージ23に位置決め載置され
た状態でX,Y方向に所望に移動され、また、X線管1
自体はZステージ(図示せず)によりZ方向24に所望
に移動されるものとなっている。尤も、X線管1自体の
Z方向24位置を固定した上、その代りに、検査対象6
をZステージによりZ方向に移動せしめるようにしても
よいものである。XYZステージ制御装置25はそれら
X,Y,Zステージを移動制御するために設けられたも
のである。
As described above, the specific X-ray generated by the X-ray tube 1 is applied to the inspection object 6, as shown in FIG.
Shows a printed wiring board as the inspection object 6. As shown in the figure, the printed wiring board 9 is formed by forming various circuit patterns 11 on the surface of the base material 10. The circuit pattern 11 is generally made of metal, and the base material 10 is also formed. Most of them are constructed as organic materials. Here, assuming that the materials of the circuit pattern 11 (6a) and the base material 10 are copper and organic material, respectively, and returning to FIG. 1 again and continuing the description, the characteristic X-rays from the X-ray tube 1 are printed wiring board 9 The circuit pattern 11 absorbs part of the characteristic X-rays and the rest is transmitted through the circuit pattern 11, while the base material 10 has a characteristic X-ray transmittance of copper. Therefore, most of the characteristic X-rays applied to the base material 10 are directly transmitted through the base material 10. In this way, the X-rays are transmitted from the printed wiring board 9, and the transmitted X-rays 7 are converted into an optical image by the image intensifier 8 and further the lens 16 and the mirror 1 are provided.
The image is detected as an image by the camera 20 through the lens 8, the lens 17, and the shutter 19, and the detected image is subjected to predetermined image processing by the image processing device 27, so that various defects on the circuit pattern 11 (short circuit, disconnection, etc.). The presence or absence of is checked. In the image intensifier 8, the image portion corresponding to the circuit pattern 11 is dark, and
Assuming that the image portion corresponding to the base material portion 10 is bright,
An optical image is obtained from the transmitted X-ray 7. In this example, the printed wiring board 9 as the inspection target 6 is
Is positioned and placed on the X stage 22 and the Y stage 23, and is moved in the X and Y directions as desired.
The device itself is moved in the Z direction 24 as desired by a Z stage (not shown). However, in addition to fixing the 24 position in the Z direction of the X-ray tube 1 itself, the inspection target 6 is used instead.
May be moved in the Z direction by the Z stage. The XYZ stage controller 25 is provided to control the movement of the X, Y, and Z stages.

【0019】ここで、回路パターン11の材質である銅
CuのX線吸収率について説明すれば、そのX線吸収率
は照射X線の波長に応じて異なったものとなっている。
図3には銅Cuの照射X線波長に対する質量減弱係数が
示されているが、大きな質量減弱係数が得られる際での
波長、つまり、X線吸収率が大きい波長の特性X線を発
生し得る材料をタ−ゲット3として使用することによっ
て、回路パタ−ン11に対する画像がより鮮明に検出さ
れ得るものである。周知の如く、特性X線の発生メカニ
ズムは原子の内殻電子、例えばK殻の電子が空位にな
り、その空位に外殻(L殻など)から殻電子が落込む際
に、両準位でのエネルギ差をエネルギとしてX線は発生
されるものとなっている。ところで、銅CuのK系列で
の特性X線の波長は約0.16μmであるが、これは特
性X線の波長は吸収端でのもの、即ち、大きなX線吸収
率が得られる際でのX線波長でもある。換言すれば、銅
CuでのX線吸収率のピークは約0.16μmの波長で
出現し、波長が短くなる程にそのX線吸収率は低下する
ようになっている。因みに、銅Cu以外の金属について
の特性X線の波長、例えばタングステンWのK系列での
特性X線の波長は約0.02μmであり、モリブデンM
oのK系列での特性X線の波長は約0.07μmであ
る。
Here, the X-ray absorptivity of copper Cu, which is the material of the circuit pattern 11, will be described. The X-ray absorptivity varies depending on the wavelength of the irradiation X-ray.
FIG. 3 shows the mass attenuation coefficient with respect to the irradiation X-ray wavelength of copper Cu. However, the characteristic X-ray having a wavelength at which a large mass attenuation coefficient is obtained, that is, a wavelength having a large X-ray absorption rate is generated. By using the obtained material as the target 3, the image for the circuit pattern 11 can be detected more clearly. As is well known, the mechanism of generation of characteristic X-rays is that the inner shell electron of an atom, for example, the electron of the K shell becomes vacant, and when the shell electron drops from the outer shell (L shell etc.) to that vacancy, X-rays are generated by using the energy difference of 2 as energy. By the way, the wavelength of the characteristic X-ray in the K series of copper Cu is about 0.16 μm. This is because the wavelength of the characteristic X-ray is at the absorption edge, that is, when a large X-ray absorption rate is obtained. It is also the X-ray wavelength. In other words, the peak of the X-ray absorptivity of copper Cu appears at the wavelength of about 0.16 μm, and the X-ray absorptance decreases as the wavelength becomes shorter. Incidentally, the wavelength of the characteristic X-rays for metals other than copper Cu, for example, the wavelength of the characteristic X-rays in the K series of tungsten W is about 0.02 μm, and molybdenum M
The wavelength of the characteristic X-ray in the K series of o is about 0.07 μm.

【0020】さて、図4にはX線管の管電圧が60kV
に設定された際でのモリブデンMoとタングステンWに
ついての波長ーX線発生強度特性が示されているが、こ
れから、回路パタ−ン11の材質が銅Cuである場合に
は、タ−ゲット3としてタングステンWではその特性X
線が銅CuのX線吸収率の大きな範囲に存在しないのに
対して、モリブデンMoを使用した場合には、より銅C
uにおける大きなX線吸収率を有する波長の特性X線を
発生させ得るものであることが判る。換言すれば、回路
パタ−ン11の材質が銅Cuである場合には、タングス
テンWのタ−ゲット3よりも、モリブデンMoのターゲ
ット3を使用するのが、回路パタ−ン11に対する画像
をより鮮明なものとして検出する上で望ましいわけであ
る。ここで、タ−ゲット3にモリブデンMoを使用する
場合について詳細に説明すれば、その際での管電圧はK
系列での特性X線を発生する値である28kV以上に設
定される必要があるものとなっている。また、画像検出
に適した強度のX線を発生させる上で必要とされる管電
流、つまり、透過X線の検出に用いられるイメージイン
テンシファイア8に対し光量不足でも、また、光量過多
でもない適度な強度の透過X線を得る上で必要とされる
管電流は最適に設定される必要があるものとなってい
る。具体的には、例えば管電圧は60kVとして、管電
流は20mAとして設定された上、波長が約0.07μ
mの特性X線が発生されるようにすればよいものであ
る。上記の如くに設定された管電圧および管電流は、検
査対象6やステージ等の条件が変化する度に、最適な値
に再設定されればよいものである。特に管電流の値につ
いては、画像検出信号レベル、あるいは別途設けられて
いる透過X線検出センサからの透過X線検出信号レベル
にもとづくフィードバック制御によって、最適に更新設
定され得るものとなっている。
Now, in FIG. 4, the tube voltage of the X-ray tube is 60 kV.
The wavelength-X-ray generation intensity characteristics are shown for molybdenum Mo and tungsten W when set to 1. From this, it can be seen that when the material of the circuit pattern 11 is copper Cu, the target 3 As for tungsten W, its characteristic X
The wire does not exist in the range where the X-ray absorption rate of copper Cu is large, whereas when molybdenum Mo is used, copper C
It can be seen that characteristic X-rays having a wavelength having a large X-ray absorption rate in u can be generated. In other words, when the material of the circuit pattern 11 is copper Cu, the target 3 made of molybdenum Mo is used rather than the target 3 made of tungsten W so that the image for the circuit pattern 11 is more This is desirable for detecting as a clear one. Here, the case where molybdenum Mo is used for the target 3 will be described in detail. The tube voltage at that time is K
It has to be set to 28 kV or more, which is a value for generating the characteristic X-ray in the series. Further, neither the tube current required to generate an X-ray having an intensity suitable for image detection, that is, the image intensifier 8 used for detecting a transmitted X-ray, has a sufficient light amount or an excessive light amount. The tube current required to obtain a transmitted X-ray having an appropriate intensity is required to be optimally set. Specifically, for example, the tube voltage is set to 60 kV, the tube current is set to 20 mA, and the wavelength is about 0.07 μ.
The characteristic X-ray of m should be generated. The tube voltage and the tube current set as described above may be reset to optimum values each time the conditions of the inspection target 6, the stage, etc. change. In particular, the tube current value can be optimally updated and set by feedback control based on the image detection signal level or the transmission X-ray detection signal level from a transmission X-ray detection sensor that is separately provided.

【0021】以上、本発明の概要について説明した。と
ころで、以上の例では、回路パタ−ン11の材質が銅C
uである場合に、タ−ゲット3にモリブデンMoを使用
したが、銅Cuでの大きな吸収率に対するX線の波長は
銅Cuの吸収端での波長でもあり、それは銅Cuの特性
X線の波長に等しい。したがって、タ−ゲット3に銅C
uを使用した上、銅Cuの特性X線を含んだX線5をプ
リント配線基板9に照射すれば、銅CuでのX線吸収量
は多くなる結果として、イメージインテンシファイア8
から得られる光学画像は、回路パタ−ン11に対応する
画像部分はより暗いものとしてより鮮明に得られること
になる。回路パタ−ン11についての鮮明な画像を検査
することによって、回路パタ−ン11上でのより微細な
欠陥を検出し得るものである。また、以上の例では、回
路パタ−ン11の材質として銅Cuが想定されている
が、LSIパッケージ内の配線のように11の材質とし
て金Auが用いられている場合には、タ−ゲット3に金
を使用すれば、回路パタ−ン11の材質が銅である場合
と同様の効果が得られるものである。更に、以上の例で
は、検査対象は専ら回路パターン11とされているが、
基材10中に含まれている異物としての金属も検出可能
となっている。金属異物は基材10よりもX線吸収率は
高いことから、検出対象としての金属異物での大きなX
線吸収率に対する波長の特性X線を含むX線5を基材1
0に照射すれば、金属異物はその画像部分が暗いものと
して検出され得るものである。更にまた、以上の例で
は、ターゲット3は1種類の金属から構成されていた
が、場合によっては、ターゲット3は2種類以上の金属
からなる合金あるいは混合物であってもよいものであ
る。例えば回路パタ−ン11の材質として銅Cuとモリ
ブデンMoが用いられている場合に、ターゲット3にモ
リブデンMoと銅Cuの合金を用いれば、鮮明なX線透
過像が選られるものである。検査対象6としては、プリ
ント配線基板9以外に、例えば電子回路部品の半田付け
部分であってもよいものである。
The outline of the present invention has been described above. By the way, in the above example, the material of the circuit pattern 11 is copper C.
In the case of u, molybdenum Mo was used for the target 3, but the wavelength of the X-ray for the large absorptivity of copper Cu is also the wavelength at the absorption edge of copper Cu, which is the characteristic X-ray of copper Cu. Equal to the wavelength. Therefore, copper C is added to the target 3.
When the printed wiring board 9 is irradiated with the X-rays 5 including the characteristic X-rays of copper Cu in addition to u, the amount of X-rays absorbed by the copper Cu increases, resulting in the image intensifier 8
In the optical image obtained from the above, the image portion corresponding to the circuit pattern 11 is obtained as a darker image and is more clearly obtained. By inspecting a clear image of the circuit pattern 11, finer defects on the circuit pattern 11 can be detected. Further, in the above example, copper Cu is assumed as the material of the circuit pattern 11, but when gold Au is used as the material of 11 like the wiring in the LSI package, the target is targeted. If gold is used for 3, the same effect as when the material of the circuit pattern 11 is copper is obtained. Further, in the above example, the inspection target is the circuit pattern 11 exclusively,
It is also possible to detect a metal as a foreign matter contained in the base material 10. Since the foreign metal particles have a higher X-ray absorptivity than the base material 10, a large amount of X in the foreign metal particles to be detected is detected.
Base material 1 is X-ray 5 including characteristic X-ray of wavelength with respect to linear absorption rate.
When 0 is irradiated, the metallic foreign matter can be detected as a dark image portion. Furthermore, in the above examples, the target 3 was composed of one kind of metal, but in some cases, the target 3 may be an alloy or mixture of two or more kinds of metals. For example, when copper Cu and molybdenum Mo are used as the material of the circuit pattern 11, a clear X-ray transmission image can be selected by using an alloy of molybdenum Mo and copper Cu for the target 3. The inspection target 6 may be, for example, a soldered portion of an electronic circuit component other than the printed wiring board 9.

【0022】ところで、以上の例では、X線管1からの
X線5はそのまま検査対象6に直接照射されていたが、
図5に示すように、X線管1からのX線5はフィルタ1
2を介し、フィルタ透過X線13として検査対象6に照
射されるものとなっている。検査対象6での小さいX線
吸収率に対する波長のX線は、フィルタ12での大きい
X線吸収率に対する波長のX線に相当しており、したが
って、検査対象6には、その検査対象6での大きいX線
吸収率に対する波長のX線が主に照射されることから、
より鮮明なX線透過像が得られるものである。
By the way, in the above example, the X-ray 5 from the X-ray tube 1 was directly radiated to the inspection object 6 as it is.
As shown in FIG. 5, the X-rays 5 from the X-ray tube 1 are filtered by the filter 1
The inspection target 6 is irradiated with X-rays through the filter 2 as filter-transmitted X-rays 13. The X-ray having the wavelength corresponding to the small X-ray absorptivity of the inspection target 6 corresponds to the X-ray having the wavelength corresponding to the large X-ray absorptivity of the filter 12, and therefore, the inspection target 6 is the Since X-rays with a wavelength corresponding to a large X-ray absorption rate of are mainly irradiated,
A clearer X-ray transmission image can be obtained.

【0023】また、以上の例では、XYZステージ等に
代表される検査対象支持台14は特には考慮されていな
いが、図6に示すように、検査対象6が検査対象支持台
14により支持された状態で、X線管1からのX線5が
検査対象6に照射される場合には、検査対象6および検
査対象支持台14からの検査対象支持台透過X線15は
イメージインテンシファイア8で検出されることになる
が、検査対象支持台14等の検査対象6以外の部分を含
めた全体でのX線吸収率をも考慮の上、最適な波長のX
線を照射する場合には、より鮮明な透過X線像が得られ
るものである。
In the above example, the inspection object support base 14 represented by an XYZ stage or the like is not particularly considered, but the inspection object 6 is supported by the inspection object support base 14 as shown in FIG. In this state, when the X-ray 5 from the X-ray tube 1 is applied to the inspection target 6, the inspection target 6 and the inspection target support transmitted X-rays 15 from the inspection target support 14 are the image intensifier 8 However, in consideration of the X-ray absorptance of the whole other than the inspection object 6 such as the inspection object support base 14 and the like, the optimum wavelength X
When irradiating with a ray, a clearer transmitted X-ray image can be obtained.

【0024】次に本発明の他の実施例について図面を参
照しながら説明する。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0025】図7は、本発明の一実施例に係る異物検査
装置の構成を示すブロック図である。ここでは、多層配
線基板に用いられるプレプレグと称する絶縁シートの内
部および表面に混入または付着して存在する導電性のF
e,Mo,W等の金属の数10μm以下の微小異物を検
査する場合について説明する。
FIG. 7 is a block diagram showing the arrangement of a foreign matter inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. Here, a conductive F that is mixed or attached to the inside and the surface of an insulating sheet called a prepreg used for a multilayer wiring board is present.
A case of inspecting a metal such as e, Mo, W or the like for a minute foreign substance having a size of several tens of μm or less will be described.

【0026】図7において、101は電子ビーム等を微
小な領域に集束させてターゲット材に照射してX線を発
生させる点源とみなせるX線源、102は絶縁シート等
の被検査試料、103は被検査試料102を保持して少
なくともXおよびY軸方向に移動して位置決めされるX
Y位置決めステージ機構、104はXY位置決めステー
ジ機構103を駆動するモータ、115はX線源101
をZ軸方向に移動させるZステージを駆動するモータ、
105は変位測定装置で変位(座標)測定を行いかつ前
記XY位置決めステージ機構103およびZステージを
任意のタイミングで移動制御するステージ制御手段、1
06はステージ制御信号、107は変位測定装置で測定
された座標データ、108はイメージインテンシファイ
ア等のX線光変換器、109は検出光学系、110はテ
レビカメラ等の光電変換器、111は信号処理回路、1
12は検査結果、113は防護キャビン、116はX線
制御データ117およびX線測定器118で測定された
X線源からのX線照射強度に基づいてX線源101を制
御したり、信号処理回路111における光量変動補正を
したりするX線制御手段である。
In FIG. 7, 101 is an X-ray source that can be regarded as a point source that focuses an electron beam or the like on a minute area and irradiates a target material to generate X-rays, 102 is an inspected sample such as an insulating sheet, and 103. X holds the sample 102 to be inspected and is moved and positioned in at least the X and Y axis directions.
Y positioning stage mechanism, 104 is a motor for driving the XY positioning stage mechanism 103, 115 is the X-ray source 101
A motor for driving the Z stage for moving the
Reference numeral 105 denotes a stage control means for measuring displacement (coordinates) by a displacement measuring device and controlling movement of the XY positioning stage mechanism 103 and the Z stage at arbitrary timing.
06 is a stage control signal, 107 is coordinate data measured by a displacement measuring device, 108 is an X-ray optical converter such as an image intensifier, 109 is a detection optical system, 110 is a photoelectric converter such as a television camera, and 111 is Signal processing circuit, 1
12 is an inspection result, 113 is a protective cabin, 116 is the X-ray control data 117, and controls the X-ray source 101 based on the X-ray irradiation intensity from the X-ray source measured by the X-ray measuring device 118, and performs signal processing. It is an X-ray control means for correcting the light amount variation in the circuit 111.

【0027】図7に図示する116X線制御手段は、X
線源101に印加する電圧と電流を調整するものであ
り、前記絶縁シート等の被検査試料102の防護キャビ
ン113内へ搬送されて、後述するX線防御窓114が
閉じている場合にのみX線を照射するようX線源101
を制御する。さらに、X線量制御データ117によっ
て、被検査試料102に照射されるX線が最適になるよ
うに、X線源101への印加電圧、電流が調整される。
この際、X線量測定器118をX線光変換器108の近
傍に設置し、該X線量測定器118で検知されるX線量
が所定の値となるように前記電流を調整すれば、被検査
試料102に照射されるX線が所望の値になり、被検査
試料から一定のX線透過像が得られ、安定な検査を行な
うことができる。
The X-ray control means 116 shown in FIG.
The voltage and the current applied to the radiation source 101 are adjusted, and X is transferred only when the X-ray protection window 114 described later is closed after the sample 102 such as the insulating sheet is conveyed into the protection cabin 113. X-ray source 101 for irradiating X-rays
To control. Further, the applied voltage and current to the X-ray source 101 are adjusted by the X-ray dose control data 117 so that the X-rays irradiated on the sample 102 to be inspected are optimized.
At this time, if the X-ray dose measuring device 118 is installed in the vicinity of the X-ray optical converter 108 and the current is adjusted so that the X-ray dose detected by the X-ray dose measuring device 118 becomes a predetermined value, the inspection target The X-ray irradiated on the sample 102 has a desired value, a constant X-ray transmission image is obtained from the sample to be inspected, and stable inspection can be performed.

【0028】図7に図示するモータ115によって、X
線源101を搭載したZステージをZ軸方向に移動する
ことにより、前記X線源ー被検査試料間距離とX線源ー
X線光変換器間距離とで決まる倍率を任意に変更するこ
とができる。これにより、例えば、被検査試料102に
応じて倍率を変更したり、あるいは、検査終了後に倍率
を変更しながら光電変換器110から得られるX線透過
画像信号に基づいてモニタ120により目視確認でき
る。更に、X線光変換器108は、通常、内部の電子レ
ンズの集光条件を変化させて、X線光変換器108の入
力面と出力面との倍率を変更できるが、前記X線源10
1のZ軸方向の移動と組合わせて、最適な検出倍率を設
定することができる。なお、図7では、モータ115が
X線源101をZ軸方向に移動させたが、X線源ー被検
査試料間距離とX線源ーX線光変換器間距離との比が倍
率を規定するので、X線源101ではなく、被検査試料
102のZ軸方向の位置、あるいはX線光変換器108
のZ軸方向の位置、およびこれらの複合的移動で前記倍
率変更を行っても良いのはいうまでもない。
The motor 115 shown in FIG.
By moving the Z stage equipped with the radiation source 101 in the Z-axis direction, the magnification determined by the distance between the X-ray source and the sample to be inspected and the distance between the X-ray source and the X-ray optical converter can be arbitrarily changed. You can Thereby, for example, the magnification can be changed according to the sample 102 to be inspected, or after completion of the inspection, the magnification can be visually confirmed on the monitor 120 based on the X-ray transmission image signal obtained from the photoelectric converter 110. Further, the X-ray light converter 108 can usually change the magnification of the input surface and the output surface of the X-ray light converter 108 by changing the condensing condition of the internal electron lens.
The optimum detection magnification can be set in combination with the movement of 1 in the Z-axis direction. In FIG. 7, the motor 115 moves the X-ray source 101 in the Z-axis direction, but the ratio of the distance between the X-ray source and the sample to be inspected and the distance between the X-ray source and the X-ray optical converter is a magnification. Since it is specified, the position of the sample 102 to be inspected in the Z-axis direction, or the X-ray optical converter 108, not the X-ray source 101.
It goes without saying that the magnification may be changed by the position in the Z-axis direction and the composite movement thereof.

【0029】図8に、前記XY位置決めステージ機構1
03の一実施例を示す。XY位置決めステージ機構10
3は、防護キャビン113内に設けられたXY軸方向に
移動するXYステージ201、被検査試料102を搭載
する試料搭載台202、防護キャビン113外から開閉
されるX線防御窓114を通して試料搭載台202を搬
送ガイド205で案内して搬入・搬出する搬送ベルト2
06、該搬送ベルト206で搬入された試料搭載台20
2をXYステージ201へ位置決めする位置決めピン2
03、204、防護キャビン113の外側に設けられて
試料載置台202を置く補助ステージ207、該補助ス
テージ207上に設けられて試料載置台202を案内す
る搬送ガイド205、前記補助ステージ207上に設け
られて開閉されるX線防御窓114を通して試料搭載台
202を防護キャビン113内経搬入・搬出させる搬送
ベルト206とから構成される。X線防御窓114は、
防護キャビン113に設けられたX線を遮蔽する可動式
板を有する窓である。図9は、試料搭載台202の構造
をあらわす一実施例を示す。図9において、試料搭載台
202は、保持板303を置く溝を形成したフレーム3
02、該保持板303、被検査試料102に穿設された
基準穴または基準面と係合させて位置決めするガイドピ
ン304、XYステージ201に設置した位置決めピン
203、204に嵌合して試料搭載台202が位置決め
される位置決め穴305で構成される。試料搭載台20
2は、搬送ベルト206により搬送ガイド205に沿っ
てXYステージ201と補助ステージ207の間を、開
閉されるX線防御窓114を通して移動する。補助ステ
ージ207上で被検査試料102がガイドピン304で
位置決めされて保持板303上に搭載され、搬送ベルト
205によって試料搭載台202ごとXYステージ20
1上に移動され、試料搭載台202のフレーム302に
設けられた位置決め穴305とXYステージ201に設
けられた位置決めピン203、204によって、XYス
テージ201上で位置決めされる。ここで、位置決めピ
ン204は可動式であり、試料搭載台202がXYステ
ージ201上に搬入完了後に所定の位置に上昇移動して
試料搭載台202を位置決めする。試料搭載台202を
XYステージ201から搬出する場合は、位置決めピン
204は外されて下降退避するようになっている。
FIG. 8 shows the XY positioning stage mechanism 1 described above.
An example of No. 03 is shown. XY positioning stage mechanism 10
Numeral 3 designates a sample mount through an XY stage 201 which is provided in the protective cabin 113 and moves in the XY axis directions, a sample mount 202 on which the sample 102 to be inspected is mounted, and an X-ray protection window 114 which is opened and closed from outside the protective cabin 113. Conveyor belt 2 that guides 202 by a conveyance guide 205 to carry in / out.
06, the sample mounting table 20 loaded by the transport belt 206
Positioning pin 2 for positioning 2 on the XY stage 201
03, 204, an auxiliary stage 207 provided outside the protective cabin 113 for placing the sample placing table 202, a transport guide 205 provided on the auxiliary stage 207 for guiding the sample placing table 202, and provided on the auxiliary stage 207. It is composed of a transport belt 206 for loading / unloading the sample mounting table 202 into / from the protective cabin 113 through the X-ray protection window 114 which is opened and closed. X-ray defense window 114
It is a window provided with a protective cabin 113 and having a movable plate that shields X-rays. FIG. 9 shows an embodiment showing the structure of the sample mounting table 202. In FIG. 9, the sample mounting base 202 is a frame 3 having a groove in which the holding plate 303 is placed.
02, the holding plate 303, a guide pin 304 for positioning by engaging with a reference hole or a reference surface formed in the sample 102 to be inspected, and positioning pins 203 and 204 installed on the XY stage 201, and mounting the sample The table 202 is formed of positioning holes 305 for positioning. Sample mounting table 20
2 moves between the XY stage 201 and the auxiliary stage 207 along the conveyance guide 205 by the conveyance belt 206 through the opened / closed X-ray protection window 114. The sample 102 to be inspected is positioned by the guide pins 304 on the auxiliary stage 207 and mounted on the holding plate 303, and the transport belt 205 and the sample mounting base 202 together with the XY stage 20.
1 and is positioned on the XY stage 201 by the positioning holes 305 provided on the frame 302 of the sample mounting table 202 and the positioning pins 203 and 204 provided on the XY stage 201. Here, the positioning pins 204 are movable, and the sample mounting table 202 is moved up to a predetermined position after the completion of loading on the XY stage 201 to position the sample mounting table 202. When the sample mounting base 202 is carried out from the XY stage 201, the positioning pin 204 is removed so as to descend and retract.

【0030】フレーム302と保持板303を分割する
ことにより、保持板303にはX線透過率の低い材料
を、フレーム302には剛性の高い材料を、それぞれ選
択して用いることができ、X線検査に最適なステージを
構成することができる。また、本構成によれば、ステー
ジ(試料搭載台)202の位置出し等はフレーム302
で行われるので、検査結果に影響を与えやすい保持板3
03の傷、破損等に対して、保持板303のみの交換で
容易に復旧可能であり、保守が極めて容易にすることが
できる。また、被検査試料102が複数種類ある場合、
被検査試料102の材質によって、最適な保持板303
を選択して交換することができる。
By dividing the frame 302 and the holding plate 303, it is possible to select and use a material having a low X-ray transmittance for the holding plate 303 and a material having a high rigidity for the frame 302. The optimum stage for inspection can be configured. Further, according to this configuration, positioning of the stage (sample mounting table) 202 and the like are performed by the frame 302.
The holding plate 3 which is likely to affect the inspection results
It is possible to easily recover the scratches, damages, etc. of 03 by replacing only the holding plate 303, and it is possible to make maintenance extremely easy. Further, when there are a plurality of types of inspected samples 102,
Optimal holding plate 303 depending on the material of the sample 102 to be inspected
Can be selected and exchanged.

【0031】ここで、被検査試料102の自体の剛性が
高い場合には保持板303が不要であることはいうまで
もなく、不要な場合には保持板303を取り外して使用
すれば、X線の不要な減衰を低減することができる。
Here, it goes without saying that the holding plate 303 is not necessary when the rigidity of the sample 102 to be inspected is high. It is possible to reduce unnecessary attenuation of.

【0032】補助ステージ207を設けて、防護キャビ
ン113の外で被検査試料102をセットできることに
より、操作性が向上し、かつ検査時にはX線防御窓11
4を閉じてX線を照射することにより、人体に有害なX
線から作業者を保護することが容易にできる。
By providing the auxiliary stage 207 so that the sample 102 to be inspected can be set outside the protective cabin 113, the operability is improved and the X-ray protection window 11 is provided at the time of inspection.
By closing 4 and irradiating X-rays, X that is harmful to the human body
It is easy to protect workers from lines.

【0033】被検査試料102は、防御キャビン113
の外でガイドピン304によって位置決めされて試料搭
載台202上に設置される。図10に被検査試料102
の例を図示する。図10(a)は、被検査試料102に
位置決め用のガイド穴401が設けられている例であ
り、図10(b)はガイド穴が設けられていない場合の
例である。図10(a)の例では、ガイド穴401は製
造工程を通して一貫した基準位置として用いられている
ものなので、X線透過像により検出した異物座標の一貫
した正確な管理が可能であり、他の、例えば、配線パタ
ーン形成後の配線パターン検査結果等と統合した欠陥座
標管理や修正工程の一元化が可能となる。また、図10
(b)の例では、ガイド穴を穿ける前処理が不要であ
る。
The sample 102 to be inspected is a protective cabin 113.
And is positioned on the sample mounting base 202 by being positioned by the guide pin 304 outside. The sample 102 to be inspected is shown in FIG.
The example of is illustrated. FIG. 10A is an example in which a guide hole 401 for positioning is provided in the sample 102 to be inspected, and FIG. 10B is an example in which no guide hole is provided. In the example of FIG. 10A, since the guide hole 401 is used as a consistent reference position throughout the manufacturing process, it is possible to consistently and accurately manage the coordinates of the foreign matter detected by the X-ray transmission image, and other For example, it is possible to unify the defect coordinate management and the repair process integrated with the wiring pattern inspection result after the wiring pattern is formed. In addition, FIG.
In the example of (b), the pretreatment for making the guide hole is unnecessary.

【0034】いずれの例においても、被検査試料102
は一枚、あるいは複数枚を同時に検査して良い。複数枚
の検査では、検査時間を短縮することができる。
In each example, the sample 102 to be inspected
May inspect one or more simultaneously. The inspection time can be shortened in the inspection of a plurality of sheets.

【0035】図11(a)に示す様に、一枚あるいは複
数枚のプレプレグ等の被検査試料102を保護袋501
等に入れたまま検査することも可能であり、この場合、
被検査試料102作成後の運搬、保存作業等での付着異
物の影響を除去できるという効果がある。また、図11
(b)に示すように、試料箱502を設けて、粉体や液
体の検査を行うことも可能である。図11(b)には、
ガイド穴504を設けた例を図示したが、図10(b)
に示す例のように、試料箱502の外壁を位置決めに用
いることも可能である。図11(b)に示す例によれ
ば、粉体や液体の検査を正確な座標をもって行うことが
可能である。勿論、試料箱502は被検査試料102が
保持できるものであれば、どのような構造であっても良
いのは当然である。ふた503は、設けても設けなくて
もよく、被検査試料102に応じて使い分ければよい。
また、被検査試料102は、配線パターン製造に用いら
れる図11(c)のような、絶縁材料505の表面に均
質な銅等の導電材料506が付加された、いわゆる銅貼
積層板でも良い。あるいは、図11(d)に示すよう
に、被検査試料102はロール状に巻かれている材料で
も良い。
As shown in FIG. 11 (a), a protective bag 501 is provided with one or more prepreg samples 102 to be inspected.
It is also possible to inspect it while putting it in etc. In this case,
There is an effect that it is possible to remove the influence of adhered foreign matter in transportation, storage work, etc. after the test sample 102 is created. In addition, FIG.
As shown in (b), it is possible to provide a sample box 502 and inspect for powder or liquid. In FIG. 11 (b),
An example in which the guide hole 504 is provided is shown in FIG. 10B.
It is also possible to use the outer wall of the sample box 502 for positioning, as in the example shown in FIG. According to the example shown in FIG. 11B, it is possible to inspect a powder or a liquid with accurate coordinates. Of course, the sample box 502 may have any structure as long as it can hold the sample 102 to be inspected. The lid 503 may be provided or not provided, and may be properly used depending on the sample 102 to be inspected.
The sample 102 to be inspected may be a so-called copper-clad laminate in which a conductive material 506 such as homogeneous copper is added to the surface of an insulating material 505 as shown in FIG. 11C used for manufacturing a wiring pattern. Alternatively, as shown in FIG. 11D, the sample 102 to be inspected may be a material wound in a roll.

【0036】図7に示すように、防護キャビン113内
にセットされた被検査試料102はX線を照射され、そ
のX線透過像はX線光変換器108で光学的濃淡像に変
換される。光学的濃淡像は、検出光学系109にて適当
に倍率変換され、光電変換素子110にて電気信号に変
換された後、信号処理回路111でもって、該電気信号
の変化から該被検査試料102の内部および表面の導電
性の金属微小異物を検出する。この時、ステージ制御部
105からの座標データを参照して、該導電性の金属微
小異物の検出座標が管理される。X線源101としてコ
ーンビーム状のX線を発生するものを用いれば、X線光
変換器108で得られる被検査試料102のX線透過像
は、X線源ー被検査試料間距離とX線源ーX線光変換器
間距離とで決まる倍率に拡大されるので、X線光変換器
108以降の座標分解能に左右されない検査が可能とな
る。更に、X線源101を、理想的には線源の被検査パ
ターン上での投影像ができるが最小検出欠陥サイズより
も小さくなるような、電子ビ−ム等を、例えば最も好ま
しくは10μm以下(好ましくは20μm以下)の微小
な領域に収束させてタ−ゲット材に照射して発生させる
方式のものとすれば、線源の大きさを点とみなすことが
でき、図12(a)に図示するように、図12(b)の
ようなFe,Mo,W等の金属の数10μm以下の微小
金属異物のエッジ部に発生する検出信号の601劣化の
ような変形の少ない信号を得ることができ、即ち劣化の
少ない信号によりプリプレグ内に存在する金属性微小異
物を高感度で検出できる。即ち、微小異物のX線検出信
号は線源を点とになせない場合、601劣化によって背
景レベルの明るさと異物における検出レベルとの比で定
まるコントラストが劣化し、例えば、2値化処理による
抽出が予め定めた条件では不可能でなってしまうからで
ある。
As shown in FIG. 7, the sample 102 to be inspected set in the protective cabin 113 is irradiated with X-rays, and the X-ray transmission image thereof is converted into an optical gray-scale image by the X-ray light converter 108. . The optical grayscale image is appropriately converted in magnification by the detection optical system 109, converted into an electric signal by the photoelectric conversion element 110, and then, by the signal processing circuit 111, the sample 102 to be inspected from the change in the electric signal. Detects minute foreign particles of conductive metal inside and on the surface. At this time, the coordinate detected from the stage control unit 105 is referred to, and the detected coordinate of the conductive metallic fine foreign matter is managed. If an X-ray source that generates cone-beam-shaped X-rays is used, the X-ray transmission image of the sample 102 to be inspected obtained by the X-ray optical converter 108 is the X-ray source-inspected sample distance and X-ray. Since the magnification is expanded to the magnification determined by the distance between the X-ray light converter and the X-ray light converter, it is possible to perform an inspection independent of the coordinate resolution of the X-ray light converter 108 and thereafter. Further, the X-ray source 101 ideally has a projected image on the pattern to be inspected by the radiation source, but an electron beam or the like, which is smaller than the minimum detected defect size, is most preferably 10 μm or less. If the method is such that the target material is irradiated with the light by converging it in a minute area (preferably 20 μm or less), the size of the radiation source can be regarded as a point, and FIG. As shown in FIG. 12B, a signal with less deformation such as 601 deterioration of a detection signal generated at the edge portion of a fine metal foreign substance of several tens of μm or less of metal such as Fe, Mo, W is obtained. That is, it is possible to detect metallic fine foreign matters existing in the prepreg with high sensitivity by a signal with little deterioration. That is, when the X-ray detection signal of the minute foreign matter cannot be made into a point by the radiation source, the contrast determined by the ratio between the brightness of the background level and the detection level of the foreign matter deteriorates due to the deterioration of 601. Is impossible under the predetermined conditions.

【0037】図13に信号処理回路111の具体的な一
実施例を示す。図7に示すモータ104によって、XY
位置決めステージ機構103は、ステップ移動あるいは
連続移動されるが、この際、図13に示すように、設計
情報701に基づいて、ステージ制御信号106を発生
させることができる。設計情報701とは、例えば、配
線(回路)パターン基板の配線情報が記述されているも
のであり、被検査試料102のうち、どの部位が実際に
回路として有効かを示す情報が含まれる。したがって、
設計情報701をもとに、製品の製作において真に問題
となる部位のみを走査するようステージを移動させるこ
とにより、検査時間の短縮や製品歩留の向上を図ること
が可能となる。また、設計情報701として、プレプレ
グ等の被検査試料102の大きさや厚さ情報が含まれ、
検査領域の指定あるいは結像倍率の設定等に使用され
る。
FIG. 13 shows a concrete example of the signal processing circuit 111. The motor 104 shown in FIG.
The positioning stage mechanism 103 is moved stepwise or continuously, and at this time, as shown in FIG. 13, the stage control signal 106 can be generated based on the design information 701. The design information 701 describes, for example, wiring information of a wiring (circuit) pattern substrate, and includes information indicating which part of the inspected sample 102 is actually effective as a circuit. Therefore,
By moving the stage based on the design information 701 so as to scan only a portion that is truly a problem in manufacturing a product, it is possible to shorten the inspection time and improve the product yield. Further, the design information 701 includes size and thickness information of the inspected sample 102 such as a prepreg,
It is used for designating the inspection area or setting the imaging magnification.

【0038】図14に一例を示すように、被検査試料1
02は、配線パターン形成領域801と非配線パターン
形成領域802とで構成されているものとすれば、これ
ら領域を規定する座標値は、設計情報701にあるの
で、これに基づいてプレプレグ等の被検査試料102に
対して配線パターン形成領域のみ(分割されて行われて
も良いことは明らかである。)を検査するようにXYス
テージ201を移動させれば良い。
As shown in an example in FIG.
If 02 is composed of a wiring pattern forming area 801 and a non-wiring pattern forming area 802, the coordinate values that define these areas are in the design information 701, and based on this, the prepreg and other objects are covered. It is sufficient to move the XY stage 201 so as to inspect only the wiring pattern formation region (it is obvious that the wiring pattern may be divided) with respect to the inspection sample 102.

【0039】図13を用いて、信号処理回路111の具
体的一実施例を説明する。光電変換器110によって得
られた被検査試料102のX線透過率に応じた電気信号
は、画像のフレーム積算や平均値フィルタあるいはメデ
ィアンフィルタ等によって構成されるノイズ除去回路7
04によって信号の品質改善が図られた後、レベル変換
器705によって信号レベルの変換が行われ、光量変動
補正回路706によって光電変換の蓄積時間程度の短周
期のレベル変動の補正が行われる。次いで、シェーディ
ング補正回路707によって、X線光変換器108や検
出光学系109等で発生するシェーディングが補正され
る。補正データ709は、検査開始前に予め設定され
た、シェーディング補正用の基準データである。判定回
路708では、前記回路で補正された信号に基づき金属
性微小異物を検出する。この際、座標管理及び信号制御
回路702から得られる座標データ703を同時に参照
し、検査出力710を生成する。このように、金属性微
小異物の座標データをモニタ(ディスプレイ)120に
表示することもできる。
A specific embodiment of the signal processing circuit 111 will be described with reference to FIG. The electric signal obtained by the photoelectric converter 110 according to the X-ray transmittance of the sample 102 to be inspected is a noise removal circuit 7 configured by an image frame integration, an average value filter, a median filter, or the like.
After the signal quality is improved by 04, the level converter 705 converts the signal level, and the light amount fluctuation correction circuit 706 corrects the level fluctuation in a short cycle of about the photoelectric conversion storage time. Next, the shading correction circuit 707 corrects the shading generated in the X-ray light converter 108, the detection optical system 109, and the like. The correction data 709 is reference data for shading correction that is preset before the start of inspection. The determination circuit 708 detects the metallic micro foreign matter based on the signal corrected by the circuit. At this time, the inspection output 710 is generated by simultaneously referring to the coordinate data 703 obtained from the coordinate management and signal control circuit 702. In this way, the coordinate data of the metallic microscopic foreign matter can be displayed on the monitor (display) 120.

【0040】図15に、光量変動補正回路706の具体
的な一実施例を示す。レベル変換器705から入力され
た信号v(x)は、フレームメモリ906に入力されて
記憶されるとともに、ピーク検出回路902に入力さ
れ、検出フレーム内の最大値が記憶される。1フレーム
の走査が終了すると、ピーク検出回路902の出力Vp
は、基準レベル901に設定されたV0と比較器903
によって比較され、その結果、基準値に対する利得とし
て利得G904(0<G<x、xは任意の数値)が増幅
器905に与えられる。次に、フレームメモリ906に
一時記憶されていた検出信号v(x)は、増幅器905
によって適当な振幅レベルを有する信号v'(x)に変換
されて、次段のシェーディング補正回路707に送出さ
れる。
FIG. 15 shows a specific embodiment of the light quantity variation correction circuit 706. The signal v (x) input from the level converter 705 is input and stored in the frame memory 906 and the peak detection circuit 902, and the maximum value in the detected frame is stored. When the scanning of one frame is completed, the output Vp of the peak detection circuit 902
Is V0 set to the reference level 901 and the comparator 903.
As a result, a gain G904 (0 <G <x, x is an arbitrary numerical value) is given to the amplifier 905 as a gain with respect to the reference value. Next, the detection signal v (x) temporarily stored in the frame memory 906 is sent to the amplifier 905.
Is converted into a signal v ′ (x) having an appropriate amplitude level and sent to the shading correction circuit 707 at the next stage.

【0041】図16(a)に、光量変動補正回路706
の入力信号v(x)の一例を示す。図16において、v
(x)は全体的にレベルが減少した入力信号、v'(x)は
正規状態の入力信号(補正の目標値)、xは座標値であ
る。v'(x)の変動は、X線を発生する際の電子線の乱
れによりX線の発生効率が変化しする等の原因で発生す
るものと考えられる。いま、入力信号をv(x)、そのピ
ーク値をVpとすれば、予め与えられる基準レベルV0
を用いて、利得Gは、例えば、次式(数1)で与えられ
る。
FIG. 16A shows a light amount variation correction circuit 706.
An example of the input signal v (x) of is shown. In FIG. 16, v
(x) is an input signal whose level is reduced as a whole, v '(x) is a normal state input signal (correction target value), and x is a coordinate value. It is considered that the fluctuation of v ′ (x) occurs due to a change in the generation efficiency of the X-ray due to the disturbance of the electron beam when the X-ray is generated. Assuming that the input signal is v (x) and its peak value is Vp, a reference level V0 given in advance is given.
The gain G is given by, for example, the following equation (Equation 1).

【0042】G = V0/Vp (数1) 従って、光量変動補正後の信号v'(x)は、次式(数
2)で得られる。
G = V0 / Vp (Equation 1) Therefore, the signal v '(x) after the light amount variation correction is obtained by the following equation (Equation 2).

【0043】v'(x) = G×v(x) (数2) 回路パターンの検査におけるパターンの抽出やプリプレ
グ等の絶縁部材の金属異物の抽出には、判定回路708
では2値化処理等の信号処理が検出信号に対して施され
るが、本実施例によれば、X線を利用する際に不可避な
図16(a)のような検出信号レベルの変動を補正する
ことができ、前記2値化処理等の信号処理を予め定めた
条件で一定に行えるため、検査の安定化が図れる。
V ′ (x) = G × v (x) (Equation 2) A judgment circuit 708 is used to extract a pattern in the inspection of a circuit pattern and a metallic foreign substance of an insulating member such as a prepreg.
In the above, signal processing such as binarization processing is performed on the detection signal. However, according to the present embodiment, there is an unavoidable fluctuation in the detection signal level as shown in FIG. 16A when using X-rays. Since the correction can be performed and the signal processing such as the binarization processing can be made constant under a predetermined condition, the inspection can be stabilized.

【0044】また前記利得Gは検出信号v(x)から得ら
れるピーク信号Vpによるのではなく、例えば、X線光
変換器108近傍に設けた、他のX線検出センサ、例え
ばX線測定器118から測定されるX線強度に基づいて
行っても良いことは明らかである。即ち、一例として、
図7に示すX線測定器118によるX線量の計測結果を
用いることもできる。この際、適当な遅延回路を前記X
線測定器118と前記増幅器905間に設置し、検出信
号間の同期をとることはいうまでもない。本実施例によ
れば、ピーク検出Vpに基づいて、利得Gを制御してい
るので、ピーク検出時のノイズによる誤差を軽減するこ
とができる。
Further, the gain G does not depend on the peak signal Vp obtained from the detection signal v (x), but instead, for example, another X-ray detection sensor provided near the X-ray optical converter 108, for example, an X-ray measuring instrument. Obviously, it may be based on the X-ray intensity measured from 118. That is, as an example,
The measurement result of the X-ray dose by the X-ray measuring device 118 shown in FIG. 7 can also be used. At this time, an appropriate delay circuit is used for the X
It goes without saying that the detection signals are synchronized between the line measuring device 118 and the amplifier 905. According to this embodiment, since the gain G is controlled based on the peak detection Vp, it is possible to reduce an error due to noise at the time of peak detection.

【0045】ここで、一般に、X線による検出信号レベ
ルAは、次式(数3)に基づいて、被検査試料(被検査
対象)102の材質と厚さの指数に比例して減少するこ
とが知られている。レベル変換器705では、例えば、
次式(数4)に従って、信号の対数変換を行って、信号
レベルが被検査試料102の厚さtに比例するように補
正する。本実施例によれば、被検査試料(被検査対象)
の厚さtによって感度が変動しないという効果がある。
また、前記対数変換の底(logeα)を複数用意して
おき、これを切り替えることによって被検査試料の厚さ
tに対する感度を変更することができる。
Here, in general, the detection signal level A by X-ray should decrease in proportion to the material and thickness index of the sample to be inspected (object to be inspected) 102 based on the following equation (Equation 3). It has been known. In the level converter 705, for example,
The signal is logarithmically converted according to the following equation (Equation 4), and the signal level is corrected so as to be proportional to the thickness t of the sample 102 to be inspected. According to the present embodiment, the sample to be inspected (object to be inspected)
There is an effect that the sensitivity does not vary depending on the thickness t of the.
Further, by preparing a plurality of logarithmic transformation bases (log α) and switching them, the sensitivity to the thickness t of the sample to be inspected can be changed.

【0046】 A=A3exp(−μt) (数3) logαA=logαA3+logα(−μt) =logαA3+(loge(−μt))/(logeα) =logαA3+(−μt)/(logeα) (数4) 但し、A3は被検査試料に照射されるX線強度、μは被
検査試料の材質によって決まる定数、tは被検査試料の
厚さを示すものである。
A = A3exp (−μt) (Equation 3) logαA = logαA3 + logα (−μt) = logαA3 + (loge (−μt)) / (logeα) = logαA3 + (− μt) / (logeα) (Formula 4) A3 is the intensity of X-rays irradiated on the sample to be inspected, μ is a constant determined by the material of the sample to be inspected, and t is the thickness of the sample to be inspected.

【0047】前記レベル変換器705は、例えば、ルッ
クアップテーブル等で構成しても良い。この場合、対数
変換に限らず、任意の変換が可能である。したがって、
例えば、X線光変換器108を交換した場合等に発生す
る系の感度特性の変化を前記ルックアップテーブルの変
更で吸収できる。本実施例の場合、装置の保全や複数台
製作時の調整を容易に行うことができる。
The level converter 705 may be composed of, for example, a lookup table or the like. In this case, not only logarithmic conversion but also arbitrary conversion is possible. Therefore,
For example, a change in the sensitivity characteristic of the system, which occurs when the X-ray optical converter 108 is replaced, can be absorbed by changing the look-up table. In the case of the present embodiment, maintenance of the device and adjustment when manufacturing a plurality of devices can be easily performed.

【0048】シェーディング補正回路707は、X線光
変換器108や検出光学系109等で発生する検出視野
内の検出信号レベルの変化を補正する。補正の際、基準
となるデータが必要となるが、ここでその実現のための
具体的な一実施例を説明する。図9に示すように、試料
搭載台202上に検出レベルの基準となる厚さの異なる
ものまたは被検査試料の種類に応じた複数の基準試料3
01を設置しておく。例えば、この複数の基準試料30
1として、被検査試料102と同一の材料を設置し明レ
ベルの基準とし、X線透過率が被検査試料102に比べ
て低い材料を設置して暗レベルの基準値とすれば良い。
また、複数の基準試料301として、被検査試料の厚さ
に応じて複数設けるのも良い。図17(b)に示すよう
に、前記明レベルVw(x)と暗レベルVb(x)が得
られているとする。ここで、xは座標である。シェーデ
ィング補正回路707では、例えば、次のような演算を
各画素毎、すなわち、各x座標毎に行って図17(c)
に示すような次式(数5)に示す補正信号v”(x)を
得る。
The shading correction circuit 707 corrects a change in the detection signal level in the detection visual field, which is generated by the X-ray light converter 108, the detection optical system 109 and the like. Reference data is required for correction, and a specific embodiment for realizing the data will be described here. As shown in FIG. 9, a plurality of reference samples 3 having different thicknesses serving as the reference of the detection level or a plurality of reference samples 3 according to the type of the sample to be inspected
01 is installed. For example, the plurality of reference samples 30
For example, the same material as that of the sample 102 to be inspected may be set as a reference for the light level, and a material having a lower X-ray transmittance than that of the sample 102 to be inspected may be set as the reference value of the dark level.
Further, a plurality of reference samples 301 may be provided depending on the thickness of the sample to be inspected. As shown in FIG. 17B, it is assumed that the bright level Vw (x) and the dark level Vb (x) are obtained. Here, x is a coordinate. In the shading correction circuit 707, for example, the following calculation is performed for each pixel, that is, for each x coordinate, and FIG.
A correction signal v ″ (x) shown in the following equation (5) is obtained as shown in FIG.

【0049】 v”(x) = ( v'(x) − vb(x) ) ×V0/ ( vw(x) - vb(x) ) (数5) 本実施例によれば、装置の使用時間が経過し、各構成部
品の感度等が変動してもこれを常に補正できるという効
果がある。基準試料301は一種のみでも、また複数設
置しても良い。複数設置した場合、検査条件に応じて、
最適な補正が可能という効果がある。
V ″ (x) = (v ′ (x) −vb (x)) × V0 / (vw (x) −vb (x)) (Equation 5) According to the present embodiment, the operating time of the device Even if the sensitivity of each component fluctuates with the passage of time, it is possible to always correct this.The reference sample 301 may be only one kind or a plurality of pieces may be installed. hand,
The effect is that the optimum correction is possible.

【0050】次に、判定回路708の一実施例を示す。
被検査試料102のX線透過像は、前記補正によって、
図16(c)のように与えられる。図16(c)に対応
する被検査試料102を図16(d)に示す。被検査試
料102の透過像信号レベルは高く、検出すべき導電性
金属微小異物100の透過信号レベルは低い。したがっ
て、検出信号v”(x)を適当な閾値Vthで2値化し、
Vthより低い検出レベル、すなわち、検出信号の暗部
を検知して欠陥出力710とすれば良い。
Next, an embodiment of the judgment circuit 708 will be shown.
The X-ray transmission image of the inspected sample 102 is
It is given as shown in FIG. The inspected sample 102 corresponding to FIG. 16C is shown in FIG. The transmitted image signal level of the inspected sample 102 is high, and the transmitted signal level of the conductive metallic microscopic foreign matter 100 to be detected is low. Therefore, the detection signal v ″ (x) is binarized with an appropriate threshold value Vth,
The defect output 710 may be obtained by detecting a detection level lower than Vth, that is, a dark portion of the detection signal.

【0051】また、欠陥出力710を図17に示すよう
なオぺレータを用いて検出を行っても良い。図17
(a)には、x軸方向のオぺレータの例を示す。参照画
素t1、t2、t3を設け、t1とt2、及びt2とt
3間の距離をaとする。図17(b)に示すように、異
物部分ではkを任意の判定値として、次式(数6)の条
件が成立するので、これを検知することにより異物検出
ができる。
The defect output 710 may be detected by using an operator as shown in FIG. FIG. 17
(A) shows an example of an operator in the x-axis direction. Reference pixels t1, t2, and t3 are provided, and t1 and t2, and t2 and t
The distance between 3 is a. As shown in FIG. 17B, the condition of the following equation (Equation 6) is satisfied with k as an arbitrary determination value in the foreign matter portion, and therefore the foreign matter can be detected by detecting this.

【0052】 |t1ーt2| > k、 かつ |t2ーt3| > k (数6) ここで、前記参照画素、及び判定値の個数は前記実施例
に限るものではなく、必要に応じて複数設けて良い。ま
た、前記aを変化させたオぺレータを複数用意しても良
い。たとえば、図17(c)に示すように、5点の参照
画素t1乃至t5を用いることにより、異物の大きさに
応じた出力が各オぺレータの出力によって得られる。こ
の際、欠陥出力710には、検知された前記オぺレータ
種を示す識別子を付加すれば検出結果を異物の種類毎に
分類して出力することができる。なお、図13に示すよ
うに、座標管理及び信号制御回路702から得られる座
標データ703を参照し、検査出力に付加すれば、検査
終了後の確認や除去作業を容易に行うことができる。検
査出力に付加するデータは、座標データ703そのもの
でも良いし、あるいは、判定回路708にて明らかに得
られる検出視野内の座標データで座標データ703を補
正した座標値を用いても良い。後者によれば、確認や除
去作業時に、検出異物を正確に捉えることが可能とな
る。
| T1-t2 |> k, and | t2-t3 |> k (Equation 6) Here, the number of the reference pixels and the determination values are not limited to those in the above-described embodiment, and a plurality of them may be used as necessary. May be provided. Also, a plurality of operators having different a may be prepared. For example, as shown in FIG. 17C, by using five reference pixels t1 to t5, an output corresponding to the size of the foreign matter can be obtained from the output of each operator. At this time, if an identifier indicating the detected operator type is added to the defect output 710, the detection result can be classified and output according to the type of foreign matter. As shown in FIG. 13, if coordinate data 703 obtained from the coordinate management and signal control circuit 702 is referred to and added to the inspection output, confirmation and removal work after the inspection can be easily performed. The data to be added to the inspection output may be the coordinate data 703 itself, or may be the coordinate value obtained by correcting the coordinate data 703 with the coordinate data within the detection field of view clearly obtained by the determination circuit 708. According to the latter, it is possible to accurately detect the detected foreign matter during confirmation and removal work.

【0053】以上説明したように、光電変換器110か
ら検出される被検査試料102に対する点X線によるX
線透過画像信号に対して、ノイズ除去回路704でノイ
ズ除去が行われ、レベル変換回路705によって対数変
換して被検査試料の厚さにほぼ比例したX線透過画像信
号を得、これに対して光量変動補正回路706およびシ
ェーディング補正回路707で検査領域内の変動および
被検査試料交換による被検査試料による変動を補正する
ことによって、プレプレグ等の被検査試料内に混入した
導電性の金属微小異物や被検査試料表面に付着した導電
性の金属微小異物を検査出力710から検査結果112
として高信頼度で検査することができる。
As described above, X by the point X-ray with respect to the sample 102 to be inspected detected from the photoelectric converter 110.
The noise removal circuit 704 removes noise from the line-transmission image signal, and the level conversion circuit 705 performs logarithmic conversion to obtain an X-ray transmission image signal approximately proportional to the thickness of the sample to be inspected. The light amount fluctuation correction circuit 706 and the shading correction circuit 707 correct the fluctuations in the inspection region and the fluctuations due to the test sample due to the test sample exchange, so that conductive metal fine foreign matters mixed in the test sample such as a prepreg are removed. From the inspection output 710, the inspection result 112 of the conductive metallic fine foreign matter adhering to the surface of the sample to be inspected
Can be inspected with high reliability.

【0054】検査出力710は、検査結果112として
外部へ出力するのみならず、本装置で再度利用すること
が可能である。図13に示すように、検査出力710に
基づいて座標管理及び信号制御回路702にて、再度、
XYステージ201を導電性金属微小異物の存在する座
標に移動すれば、モニタ120によりX線による目視再
確認が容易に行うことができる。この際、検出視野内の
座標データで座標データ703を補正した前記座標値を
用いて、たとえば、画面周辺部で検出された異物でも画
面中央に表示させたり、あるいは、円や矢印で検出部位
を指し示すような表示を検出画像に重ね合わせて行うと
いったことをおこなえば、被検査試料(被検査対象)1
02の全体像を捉えながら該異物を容易に識別すること
ができる。
The inspection output 710 is not only output to the outside as the inspection result 112, but can be reused in this apparatus. As shown in FIG. 13, based on the inspection output 710, the coordinate management and signal control circuit 702 again
If the XY stage 201 is moved to the coordinates where the conductive metal fine foreign matter is present, the visual reconfirmation by the X-ray can be easily performed on the monitor 120. At this time, by using the coordinate values obtained by correcting the coordinate data 703 with the coordinate data in the detection field of view, for example, even a foreign matter detected in the peripheral portion of the screen is displayed in the center of the screen, or a detection site is indicated by a circle or an arrow. For example, if a pointed display is superimposed on the detected image, the inspected sample (inspected object) 1
The foreign substance can be easily identified while capturing the entire image of 02.

【0055】図18に示すように、異物の検出画像信号
は、異物の存在するX線の照射方向の位置により変化す
る。いま、X線源101とX線光検出器間108の距離
が一定として、X線源101と被検査試料間102の距
離zが図18(a)と図18(b)で図示するように、
それぞれZaとZbというように異なれば、X線光変換
器108で得られる像は同図1201、1202検出信
号においてva、vbで示すように大きさxがxa、x
bでそれぞれ示すように異なって観測されたり、あるい
は、波形の立上がり部分の大きさwがwa、wbでそれ
ぞれ示すように異なって観測される。したがって、被検
査試料(被検査対象)とする異物100の大きさが予め
わかっている場合には、xの大きさを測定することによ
り前記距離z、すなわち、図18におけるZa、Zb等
をを知ることができる。ここで、X線源101と被検査
試料102を搭載するステージ201間の距離Z0が一
定とすれば、前記zとZ0とから、検出異物100のX
線照射方向の位置を特定することができる。同様に、前
記wの値から検出異物のX線照射方向の位置を特定する
ことができる。
As shown in FIG. 18, the foreign substance detection image signal changes depending on the position of the foreign substance in the X-ray irradiation direction. Now, assuming that the distance between the X-ray source 101 and the X-ray photodetector 108 is constant, the distance z between the X-ray source 101 and the inspected sample 102 is as shown in FIGS. 18 (a) and 18 (b). ,
If the images are different, such as Za and Zb, the images obtained by the X-ray optical converter 108 have the magnitude x of xa, x as indicated by va, vb in the detection signals 1201, 1202 in FIG.
It is observed differently as shown by b, respectively, or the size w of the rising portion of the waveform is observed differently as shown by wa and wb. Therefore, when the size of the foreign material 100 to be inspected (object to be inspected) is known in advance, the distance z, that is, Za, Zb in FIG. 18 can be determined by measuring the size of x. I can know. Here, if the distance Z0 between the X-ray source 101 and the stage 201 on which the sample 102 to be inspected is mounted is constant, the X of the detected foreign substance 100 can be calculated from z and Z0.
The position in the line irradiation direction can be specified. Similarly, the position of the detected foreign substance in the X-ray irradiation direction can be specified from the value of w.

【0056】本実施例によれば、検出異物100のX線
照射方向の位置を特定できる。あるいは、該位置と被検
査試料の厚さtから、異物100の大きさを推定するこ
とができる。
According to this embodiment, the position of the detected foreign matter 100 in the X-ray irradiation direction can be specified. Alternatively, the size of the foreign matter 100 can be estimated from the position and the thickness t of the sample to be inspected.

【0057】被検査試料102が多層配線基板等の場合
には、通常各層毎に設けれている識別番号や位置合わせ
マーク等の特定パターンを併用することもできる。すな
わち、各層毎の前記特定パターンを計測し、その立上が
り部分の長さw0を計測し、この値を参照しながら、検
出異物の前記wの値から異物100の存在する層を決定
すれば良い。本実施例によれば、前記ステージのX線照
射方向の位置が未知でも異物の存在する層を特定するこ
とができる。
When the sample 102 to be inspected is a multilayer wiring board or the like, a specific pattern such as an identification number or an alignment mark, which is usually provided for each layer, can be used together. That is, the specific pattern for each layer is measured, the length w0 of the rising portion thereof is measured, and the layer in which the foreign matter 100 exists may be determined from the value of w of the detected foreign matter while referring to this value. According to this embodiment, it is possible to specify the layer in which the foreign matter exists even if the position of the stage in the X-ray irradiation direction is unknown.

【0058】図7の実施例にX線以外の他の検出光学系
を付加することにより、導電性の金属微小異物の存在す
る部位を認識することも可能である。この一実施例を、
図7の関連する部分のみに付加して図19に示す。図1
9において、1301と1302はTVカメラであり、
光電変換器110と連動してそれぞれ光電変換器110
と同一の視野を検出するものとする。1303は2値化
回路等の判定回路であり、前記TVカメラ1301、1
302から異物の像を抽出する。遅延回路1304は検
査出力701と検出信号の同期をとるためのものであ
る。判定回路708の出力は論理和回路130にて13
01による検出異物あるいは1302による検出異物と
論理和をとられる。その結果、出力A1307、出力B
1308、出力C1309が得られ、出力Aがあれば面
Aに、出力Bがあれば面Bに、出力Cがあれば被検査試
料102の内部に異物ありと判断できる。本実施例によ
れば、TVカメラのみによる異物検査で起こりうるよう
な虚報を発生せず安定な検査が行え、かつ、被検査試料
102の内部の検査も可能であり、導電性の金属微小異
物の存在する部位を特定できるという効果がある。
By adding a detection optical system other than the X-ray to the embodiment shown in FIG. 7, it is possible to recognize the site where the conductive metallic fine foreign matter is present. An example of this
FIG. 19 shows only the relevant portions of FIG. 7 in addition. Figure 1
In FIG. 9, 1301 and 1302 are TV cameras,
The photoelectric converter 110 is linked with the photoelectric converter 110.
The same field of view as is to be detected. Reference numeral 1303 denotes a determination circuit such as a binarization circuit, which is used for the TV cameras 1301 and 1
An image of the foreign matter is extracted from 302. The delay circuit 1304 is for synchronizing the inspection output 701 and the detection signal. The output of the determination circuit 708 is 13 in the OR circuit 130.
It is ORed with the foreign matter detected by 01 or the foreign matter detected by 1302. As a result, output A1307, output B
1308 and an output C1309 are obtained. If the output A is present, it can be determined that the surface A is present, if the output B is present, the surface B is present, and when the output C is present, it is possible to determine that there is a foreign substance inside the sample 102 to be inspected. According to the present embodiment, it is possible to perform a stable inspection without generating false reports that may occur in a foreign substance inspection using only a TV camera, and to inspect the inside of the sample 102 to be inspected. This has the effect of identifying the site where the is present.

【0059】図20、図21に本発明の他の実施例を示
す。図20において、X線源101、被検査試料10
2、フィルム1401であり、図21において、XY位
置決めステージ機構1501、モータ1502、ステー
ジ制御回路1503、検出光学系1504、光電変換器
1505、信号処理回路1506、光源1507であ
る。図20において、被検査試料102はX線にて、そ
の透過像をフィルム1401に撮像される。このフィル
ム1401は現像された後、図21の位置決めステージ
機構1501に搭載され、光源1507にて透過照明さ
れ、検出光学系1504でフイルム1401に現像され
た光像を結像させ、該結像した光像を光電変換器150
5にて画像信号に変換され信号処理回路1506にて金
属性微小異物が抽出される。ステージ制御1503、信
号処理回路1506等は、既に説明した図13とほぼ同
様である。なおフィルム1401は、イメージングプレ
ート等のX線に感応するものであれば何でもよく、ま
た、図21では透過照明光学系にて説明したが、フィル
ム、イメージングプレート等検出媒体に応じて最適な他
の照明方式、たとえば、落射照明光学系でも良いのは勿
論である。前記検出光学系1504の倍率は、対象異物
を検出できるよう、適当に定めれば良い。本実施例によ
れば、フィルム等の撮像は短時間で行えるので、高価な
X線装置の稼働率を向上させ検査費用の低減を図ること
ができる。
20 and 21 show another embodiment of the present invention. In FIG. 20, an X-ray source 101 and a sample 10 to be inspected
21, the film 1401, and the XY positioning stage mechanism 1501, the motor 1502, the stage control circuit 1503, the detection optical system 1504, the photoelectric converter 1505, the signal processing circuit 1506, and the light source 1507 in FIG. In FIG. 20, the sample 102 to be inspected has its transmission image picked up on the film 1401 by X-rays. After this film 1401 is developed, it is mounted on the positioning stage mechanism 1501 of FIG. 21, is transilluminated by the light source 1507, and the developed optical image is formed on the film 1401 by the detection optical system 1504, and the image is formed. Optical image to photoelectric converter 150
In step 5, the signal is converted into an image signal, and the signal processing circuit 1506 extracts metallic fine foreign matter. The stage control 1503, the signal processing circuit 1506 and the like are almost the same as those in FIG. 13 already described. Note that the film 1401 may be any one that is sensitive to X-rays, such as an imaging plate, and the transmission illumination optical system has been described with reference to FIG. 21, but other suitable film, imaging plate, or other detection medium may be used. Of course, an illumination system, for example, an epi-illumination optical system may be used. The magnification of the detection optical system 1504 may be set appropriately so that the target foreign matter can be detected. According to the present embodiment, since imaging of a film or the like can be performed in a short time, it is possible to improve the operating rate of an expensive X-ray device and reduce the inspection cost.

【0060】また、図21のXY位置決めステージ機構
1501に連動した第2のステージや検出系を図7のよ
うに図20で示すX線装置に設け、該第2のステージに
は被検査試料102を搭載すれば、検査に連動して被検
査試料102を移動させることができるので、異物を検
出したら実際の被検査試料102でX線にてこれを確認
することができる。
Further, a second stage and a detection system interlocking with the XY positioning stage mechanism 1501 of FIG. 21 are provided in the X-ray apparatus shown in FIG. 20 as shown in FIG. 7, and the sample 102 to be inspected is mounted on the second stage. Since the sample 102 to be inspected can be moved in association with the inspection by mounting, the foreign substance can be confirmed by X-rays in the actual sample 102 to be inspected when a foreign substance is detected.

【0061】図7、図20等の本発明の実施例における
X線源101は、一般の制動放射型であっても、電子ビ
ーム等を微小な領域に収束させてX線を発生させるもの
であっても、あるいはシンクロトロン放射を利用するも
のであっても良いのは当然である。
Even if the X-ray source 101 in the embodiment of the present invention shown in FIGS. 7 and 20 is a general bremsstrahlung type, the X-ray is generated by converging an electron beam or the like into a minute area. Of course, it may also be one that utilizes synchrotron radiation.

【0062】一般に、X線を用いた場合には図12で述
べたように図22に示すようなぼけwが発生するが、こ
れは、X線源101の大きさs、X線源ー被検査試料間
距離ya、X線源ーX線光変換器間距離yb、及び15
1、152で図示する異物の高さyda、ydb等で決
められる。特に、前記sに対し、X線源ー試料間距離が
大きい場合、検出に十分な濃度変化を有する領域xが得
られない図22(b)のような場合が発生する。そこ
で、図13の判定回路708の入力部に、たとえば図2
3で示すような画像処理回路を付加して信号品質の改善
を図ることができる。図23において、入力信号160
1は1602に示す2次微分回路に入力される。このと
きの、図22(a)に対応する信号波形を1612に、
図22(b)に対応する信号波形を1613に、160
2の処理前後の波形として示す。特徴抽出回路1603
では、1603中に示すような距離aをもって配置され
たt1、t2、t3の参照画素からなるオぺレータ16
14で、k1、k2を任意の定数として、次式(数7)
の判定を行い、(数7)式が成立するときは“1”なる
真の制御信号1604を出力し、(数7)式が成立しな
いときは“0”なる制御信号1604を出力する。
Generally, when X-rays are used, blurring w as shown in FIG. 22 occurs as described with reference to FIG. 12, which is caused by the size s of the X-ray source 101, the X-ray source-coverage. Inspection sample distance ya, X-ray source-X-ray optical converter distance yb, and 15
It is determined by the heights yda, ydb, etc. of the foreign substances shown by 1, 152. In particular, when the distance between the X-ray source and the sample is large with respect to s, a case as shown in FIG. 22B occurs in which the region x having a sufficient concentration change for detection cannot be obtained. Therefore, the determination circuit 708 shown in FIG.
An image processing circuit as shown by 3 can be added to improve the signal quality. In FIG. 23, the input signal 160
1 is input to the secondary differentiation circuit 1602. At this time, the signal waveform corresponding to FIG.
The signal waveform corresponding to FIG.
The waveforms before and after the process 2 are shown. Feature extraction circuit 1603
Then, an operator 16 composed of reference pixels of t1, t2, and t3 arranged at a distance a as shown in 1603.
14 and the following equations (Equation 7), where k1 and k2 are arbitrary constants
When the expression (7) is satisfied, the true control signal 1604 of "1" is output, and when the expression (7) is not satisfied, the control signal 1604 of "0" is output.

【0063】 t1<k1 かつ t2>k2 かつ t3<k1 (数7) 該オぺレータの形状やk1、k2の値等は予め計測され
た検出信号から決定すれば良い。入力信号1601は、
一方で、遅延回路1609で同期を図られた後、例え
ば、制御信号1604によって制御されるスイッチ16
07、1608(“1”のとき下側に切り替えられ、
“0”のとき上側に切り替えられる。)によって切り替
えられ、ルックアップテーブル等で構成される信号変換
器1605、1606によってレベルが変更される。前
記信号変換器1605、1606の入出力特性は図23
の1605、1606中に記述した様なものとすれば、
1612で示す信号波形は1610のように、1613
で示す信号波形は1611のように変換されて出力16
15に、改善された信号波形として送出される。本実施
例によれば、検出困難な微小な異物からの信号も安定に
検出でき検査精度を向上できる。
T1 <k1 and t2> k2 and t3 <k1 (Equation 7) The shape of the operator, the values of k1 and k2, etc. may be determined from the detection signals measured in advance. The input signal 1601 is
On the other hand, after being synchronized by the delay circuit 1609, for example, the switch 16 controlled by the control signal 1604.
07, 1608 (switched to the lower side when "1",
When it is "0", it is switched to the upper side. ), And the level is changed by the signal converters 1605 and 1606 configured by a look-up table or the like. The input / output characteristics of the signal converters 1605 and 1606 are shown in FIG.
If it is as described in 1605 and 1606 of
The signal waveform indicated by 1612 is 1613 like 1613.
The signal waveform shown by is converted like 1611 and output 16
At 15, it is delivered as an improved signal waveform. According to this embodiment, it is possible to stably detect a signal from a minute foreign matter that is difficult to detect, and improve inspection accuracy.

【0064】図7において、X線光変換器108として
イメージインテンシファイア(以下I.I.と略す)等
を用いた場合、通常I.I.の入力面が球面形状をして
いるため、検出画像には糸巻状の歪みが発生する。以
下、このような歪みを低減する本発明の具体的実施例を
説明する。
In FIG. 7, when an image intensifier (hereinafter abbreviated as II) or the like is used as the X-ray optical converter 108, it is usually I.I. I. Since the input surface of 1 has a spherical shape, pincushion distortion occurs in the detected image. Specific examples of the present invention for reducing such distortion will be described below.

【0065】よく知られているように、平凸レンズを凸
面を物体側に平面を像面側に配置すると樽型の歪みが発
生する。したがって、図7の検出光学系109に前記糸
巻状歪みを補正するような樽型歪みを有する平凸レンズ
等の光学系を付加して該糸巻状歪みを打ち消すことがで
きる。また、前記I.I.は、入力面でX線を電子に変
換し、電磁気的な電子レンズによって該電子を収束さ
せ、出力面で電子光変換を行っている。そこで、該電子
レンズを樽型歪みを有するように構成しても良い。ある
いは、I.I.の入力部に前記電子レンズに樽型歪みを
発生させるような磁気を発生させる機構を設けて、該糸
巻状歪みを打ち消しても良い。
As is well known, when a plano-convex lens is arranged with a convex surface on the object side and a flat surface on the image surface side, barrel distortion occurs. Therefore, an optical system such as a plano-convex lens having barrel distortion for correcting the pincushion distortion can be added to the detection optical system 109 of FIG. 7 to cancel the pincushion distortion. In addition, I. I. Converts an X-ray into an electron on the input surface, converges the electron by an electromagnetic electron lens, and performs electron-to-light conversion on the output surface. Therefore, the electron lens may be configured to have barrel distortion. Alternatively, I. I. The input section may be provided with a mechanism for generating magnetism that causes barrel distortion in the electron lens, and the pincushion distortion may be canceled.

【0066】他の実施例としては、図7の光電変換器1
10の画素配列を前記糸巻状歪みに合わせて構成するこ
とにより、該糸巻状歪みを除去することができる。図2
4において、光電変換器1801はCCDセンサ等であ
るとする。通常、画素配列は正方格子状であるが、これ
を、拡大図1802に画素1803で示すように、中心
部の画素に対し周辺部の画素を大きくしておく。各画素
の読み出し速度を一定とすれば、図24の光電変換器1
801は樽型の歪みを有するものとなる。したがって、
該画素1803を該糸巻状歪みを打ち消すように構成す
れば、結果として歪みの無い画像を得ることができる。
As another embodiment, the photoelectric converter 1 shown in FIG.
By configuring the pixel array of 10 according to the pincushion distortion, the pincushion distortion can be removed. Figure 2
4, the photoelectric converter 1801 is a CCD sensor or the like. Usually, the pixel array has a square lattice shape, but as shown in a pixel 1803 in the enlarged view 1802, the peripheral pixel is made larger than the central pixel. If the reading speed of each pixel is constant, the photoelectric converter 1 of FIG.
801 has barrel distortion. Therefore,
If the pixel 1803 is configured to cancel the pincushion distortion, an image without distortion can be obtained as a result.

【0067】図7の光電変換器110が撮像管等の場
合、撮像管の走査を非線形に行うことによって前記糸巻
状歪みを除去することができる。図25(a)に、通常
の走査方式を図示する。図の横軸は時間を示し、縦軸は
撮像管に印加する走査電圧であり、該電圧の大小によ
り、撮像管面内の任意の場所を光電変換する。図25
(a)の上段は水平方向の走査を示し、下段は垂直方向
の走査を示すが、一般に、正方格子状の光電変換を行う
ため時間tに対して電圧が直線状に変化する鋸波状波形
が用いられている。これを、図25(b)に示すよう
に、画像の周辺部で電圧の時間微分が大きくなるように
変化させた鋸波状電圧を用いるように変更すると、撮像
される画像は樽型歪みを有するものとなる。したがっ
て、図25(b)の波形を該糸巻状歪みを打ち消すよう
に設定し、これを用いて撮像管で光電変換すれば、結果
として歪みの無い画像を得ることができる。
When the photoelectric converter 110 of FIG. 7 is an image pickup tube or the like, the pincushion distortion can be removed by non-linearly scanning the image pickup tube. FIG. 25A shows a normal scanning method. The horizontal axis of the figure represents time, and the vertical axis represents the scanning voltage applied to the image pickup tube. Depending on the magnitude of the voltage, photoelectric conversion is performed on an arbitrary place within the surface of the image pickup tube. Figure 25
The upper part of (a) shows the scanning in the horizontal direction, and the lower part shows the scanning in the vertical direction. Generally, since a square lattice photoelectric conversion is performed, a sawtooth waveform in which the voltage changes linearly with respect to time t is shown. It is used. When this is changed to use a sawtooth voltage which is changed so that the time derivative of the voltage becomes large in the peripheral portion of the image as shown in FIG. 25B, the imaged image has barrel distortion. Will be things. Therefore, if the waveform of FIG. 25B is set so as to cancel the pincushion distortion and photoelectric conversion is performed by the image pickup tube using this, an image without distortion can be obtained as a result.

【0068】他の前記糸巻状歪みを除去する手段とし
て、図26に示すように、被検査試料102を搭載台2
001に示すような局面を有する部品に沿わせ、その形
状を該糸巻歪みを打ち消すように変形させて検査するこ
ともできる。あるいは、図13の信号処理回路111に
て、該糸巻状歪みを除去するように画像処理的に像の座
標変換、レベル変換を行っても良い。
As another means for removing the pincushion distortion, as shown in FIG.
It is also possible to inspect along a part having a phase as shown in 001 and deform its shape so as to cancel the pincushion distortion. Alternatively, the signal processing circuit 111 of FIG. 13 may perform image coordinate conversion and level conversion by image processing so as to remove the pincushion distortion.

【0069】ここで、前記X線光変換器108のように
電磁気的な電子レンズを用いた装置の場合、外部の磁界
等の影響を受けて検出画像が変形する。一般に、装置は
その架台の剛性を高めるため、鉄製のフレームを用いる
ことが多いが、鉄製フレームは容易に磁化されやすく、
この磁気の影響を受けて検出画像が変形するという問題
が発生する。そこで、該X線光変換器をパーマロイ等の
透磁率の高い材料を用いて遮蔽すると、前記影響を除去
できる。検出器の入力面においては、例えば、図27の
遮蔽部2101のように、筒形の高透磁率部品を設置す
ることにより入力面から流入する外部磁界の影響を除去
することができる。
Here, in the case of a device using an electromagnetic electron lens such as the X-ray optical converter 108, the detected image is deformed under the influence of an external magnetic field or the like. In general, devices often use an iron frame to increase the rigidity of the frame, but the iron frame is easily magnetized,
There is a problem that the detected image is deformed under the influence of this magnetism. Therefore, if the X-ray optical converter is shielded with a material having a high magnetic permeability such as permalloy, the influence can be removed. On the input surface of the detector, for example, by installing a cylindrical high-permeability component like the shield portion 2101 of FIG. 27, it is possible to remove the influence of the external magnetic field flowing from the input surface.

【0070】また、前記電子レンズの倍率を変更してX
線光変換器108の倍率を変更できるものにおいては、
X線の透過率の低い材料で製造された図27の入力面絞
り2102を設けて、不要なX線の入力を除去すると良
い。これは、倍率を上げて、すなわち、X線光変換器の
入力面の一部を出力面全面に投影するような場合、有効
な入力面の外側に入力されたX線による不要電子がX線
光変換器108内で反射してX線光変換器108の出力
面に到達し、光学における迷光のように作用するからで
ある。本実施例によれば、X線光変換器108外の磁界
やX線光変換器内の不要な電子等による検出画像の劣化
を除去し、正確な検出が可能となるという効果がある。
原理からいって、前記入力面絞り2102の代わりに該
不要電子を吸収する機構を該X線光変換器108内に設
けてもよいのは勿論である。
Further, by changing the magnification of the electron lens, X
In the case where the magnification of the linear light converter 108 can be changed,
The input surface stop 2102 shown in FIG. 27, which is made of a material having a low X-ray transmittance, may be provided to remove unnecessary X-ray input. This is because when the magnification is increased, that is, when a part of the input surface of the X-ray optical converter is projected onto the entire output surface, unnecessary electrons due to the X-rays input to the outside of the effective input surface are X-rays. This is because it reflects inside the light converter 108, reaches the output surface of the X-ray light converter 108, and acts like stray light in optics. According to the present embodiment, there is an effect that the deterioration of the detected image due to the magnetic field outside the X-ray light converter 108 and unnecessary electrons in the X-ray light converter can be removed, and accurate detection can be performed.
In principle, a mechanism for absorbing the unwanted electrons may be provided in the X-ray optical converter 108 instead of the input surface stop 2102.

【0071】以上の実施例では、図28に示すように製
造される多層配線基板220に用いられるプレプレグと
称する絶縁シート221の検査を例に説明してきたが、
マルチレイヤ基板の検査やセラミック回路基板、あるい
は液晶等のディスプレイ装置等においても、さらには、
ガラス繊維や材料である粉体、液体等でも同様に検査で
きることはいうまでもなく、検査原理に鑑みて妥当な対
象は全て検査できることはいうまでもない。
In the above embodiment, the inspection of the insulating sheet 221 called prepreg used for the multilayer wiring substrate 220 manufactured as shown in FIG. 28 has been described as an example.
For inspection of multi-layer boards, ceramic circuit boards, display devices such as liquid crystal, etc.
Needless to say, it is possible to inspect in the same manner for glass fibers, powders, liquids, etc., which are materials, and it is possible to inspect all appropriate objects in view of the inspection principle.

【0072】また、本発明に係る装置にて検査した後、
回路基板等製品をを製造すれば、製造途中で不良を除去
したり修正できるので、製品の歩留まりを向上し、原価
を低減できるという効果がある。
After inspection with the apparatus according to the present invention,
When a product such as a circuit board is manufactured, defects can be removed or corrected during the manufacturing process, so that the yield of the product can be improved and the cost can be reduced.

【0073】ところで、多層配線基板220は、図28
に示すように製造される。即ち、絶縁材料231上に配
線材料234を形成したものに対してレジスト235を
塗布して所定の配線パターンを露光現像し、それに対し
てエッチングしてレジストを除去することによって配線
パターンを有する基板222が製造される。また絶縁材
料231上に露光または印刷によって所定のレジストパ
ターン235を形成し、該レジストパターン235に対
してめっきにより配線パターン232を形成し、その後
レジスト235を除去することによって配線パターンを
有する基板222が製造される。このように製造された
配線パターンを形成した基板222およびプリプレグ等
の絶縁シートについて、表面および内部に導電性の金属
微小異物が存在するか否かについて、前記説明したX線
検査装置において検査され、導電性の金属微小異物が規
定値以上存在しないものが、準備される。このように準
備された基板222と絶縁シート221とは積み重ねら
れて加熱・加圧されて積層された多層配線基板が製造さ
れる。この後、必要に応じてスルホール224が形成
し、内部をめっきして層間の接続をとる。そしてこの多
層配線基板の表面に電子部品等実装することによって製
品が製造される。
By the way, the multilayer wiring board 220 is shown in FIG.
It is manufactured as shown in. That is, the resist 235 is applied to the insulating material 231 on which the wiring material 234 is formed, a predetermined wiring pattern is exposed and developed, and then the resist is removed by etching the substrate 222 having the wiring pattern. Is manufactured. Further, a predetermined resist pattern 235 is formed on the insulating material 231 by exposure or printing, a wiring pattern 232 is formed on the resist pattern 235 by plating, and then the resist 235 is removed to form a substrate 222 having a wiring pattern. Manufactured. With respect to the insulating sheet such as the substrate 222 and the prepreg on which the wiring pattern thus formed is formed, it is inspected by the X-ray inspection apparatus described above as to whether or not the conductive metal fine foreign matter is present on the surface and inside. There is prepared a conductive metal fine foreign substance which does not exist above a specified value. The thus-prepared substrate 222 and the insulating sheet 221 are stacked and heated / pressurized to manufacture a multilayer wiring substrate. After that, through holes 224 are formed if necessary, and the inside is plated to connect the layers. A product is manufactured by mounting electronic components and the like on the surface of the multilayer wiring board.

【0074】このように電気回路の製造に用いられる多
層配線基板等は、ガラス繊維をメッシュ状に織りあげた
布状シートにポリイミド等の絶縁材料を含浸させたプレ
プレグと称する絶縁シートの表面に銅などの導電材料で
配線パターン(回路パターン)を形成した配線パターン
基板222を準備し、これを前記プレプレグと称する絶
縁シート221を介して多数積み重ねて製造される。し
かし、該絶縁シート221の内部および表面に導電性金
属異物が混入または付着して存在すると、上記配線パタ
ーン232が短絡若しくは短絡に近い状態になり、これ
を検査して不良を排除することが必要となる。このよう
に対象となる導電性金属異物は多層配線基板を製造後、
長期に渡る信頼性確保のため、数10μm以下であって
もこれを検出して銅等の配線パターンのマイグレーショ
ン等による絶縁特性の劣化を防止する必要がある。そこ
で、本発明は、プレプレグと称する絶縁シート221は
比較的低分子量の材料で構成されており、X線透過率は
高く、一方導電性金属異物として問題になる金属は、F
e,Mo,W等分子量が大きく、X線透過率は比較的低
いことに着目して、プレプレグと称する絶縁シート等の
内部および表面に混入または付着して存在する微小な導
電性金属異物をX線透過画像に基づいて高信頼度で検査
できるようにしたので、該微小な導電性金属異物が規定
値以下しか絶縁シート221の内部および表面に存在し
ないことになり、前記配線パターン基板222を該微小
な導電性金属異物が存在しない絶縁シート221を介し
ながら多数積み重ねて多層配線基板を製造すれば、多層
配線基板として長期に渡って絶縁特性の信頼度を確保す
ることができる。
As described above, the multilayer wiring board or the like used in the production of electric circuits is manufactured by impregnating a cloth-like sheet made of glass fibers in a mesh shape with an insulating material such as polyimide. A wiring pattern substrate 222 having a wiring pattern (circuit pattern) formed of a conductive material such as is prepared, and a large number of the wiring pattern substrates 222 are stacked via the insulating sheet 221 called the prepreg. However, if a conductive metallic foreign substance is mixed or adhered to the inside and the surface of the insulating sheet 221, the wiring pattern 232 becomes a short circuit or a state close to a short circuit, and it is necessary to inspect this to eliminate defects. Becomes In this way, the target conductive metal foreign substance is after manufacturing the multilayer wiring board,
In order to secure the reliability for a long period of time, it is necessary to detect this even if it is several tens of μm or less and prevent the deterioration of the insulation characteristics due to the migration of the wiring pattern such as copper. Therefore, in the present invention, the insulating sheet 221 called a prepreg is made of a material having a relatively low molecular weight and has a high X-ray transmittance, while the metal which becomes a problem as a conductive foreign metal is F
Focusing on the fact that the molecular weight of e, Mo, W, etc. is large and the X-ray transmissivity is relatively low, X is used to remove minute conductive metallic foreign substances that are mixed or adhered inside and on the surface of an insulating sheet called a prepreg. Since the inspection can be performed with high reliability based on the line transmission image, the minute conductive metal foreign matter is present only inside the insulating sheet 221 below the specified value, and the wiring pattern substrate 222 is When a multi-layer wiring board is manufactured by stacking a large number of sheets while interposing the insulating sheets 221 in which minute conductive metal foreign matters do not exist, it is possible to secure the reliability of the insulation characteristics for a long time as the multi-layer wiring board.

【0075】また、製造現場においては、特定の異物発
生状況を管理して、製品の品質確保や製造装置の不具合
い発生を早期に摘出する必要が多い。たとえば、前記多
層配線基板の製造工程においては、金属異物はパターン
ショートの原因となるのでこれを管理する必要がある。
そこで、図29に示すように、粘着シート251を部屋
260内の製造工程各所に適当に配置して設置し、これ
を定期的に前記検査装置にて検査する。個々の粘着シー
トの異物状況から、例えば、装置A256近傍の粘着シ
ートからの異物量が多ければ装置Aを修理あるいは改良
するというように適切な対策が行える。あるいは、クリ
ーンルーム等において出入口のドア253近傍に設置さ
れている集塵マット252を本実施例の装置にて検査す
れば、クリーンルーム内の異物状況や存在する異物の種
類等を容易に把握でき、製造現場の管理を的確に行うこ
とができる。本実施例は、エアフィルタ254や液体用
フィルタ255等でも同様な効果が得られるのは勿論で
ある。本実施例によれば、安定で信頼性の高い製造シス
テムを供給できるという効果がある。
At the manufacturing site, it is often necessary to manage the occurrence of a specific foreign matter to ensure the quality of the product and identify the occurrence of defects in the manufacturing apparatus at an early stage. For example, in the manufacturing process of the multilayer wiring board, the metallic foreign matter causes a pattern short circuit, so that it must be controlled.
Therefore, as shown in FIG. 29, the adhesive sheet 251 is appropriately arranged and installed in each part of the manufacturing process in the room 260, and this is periodically inspected by the inspection device. Appropriate measures can be taken, such as repairing or improving the device A if there is a large amount of foreign substances from the adhesive sheet in the vicinity of the device A256 according to the foreign substance condition of each adhesive sheet. Alternatively, if the dust collecting mat 252 installed near the door 253 of the entrance / exit in a clean room or the like is inspected by the apparatus of this embodiment, it is possible to easily grasp the foreign matter status in the clean room, the type of foreign matter present, etc. You can manage the site accurately. In this embodiment, the same effect can be obtained with the air filter 254, the liquid filter 255, and the like. According to this embodiment, there is an effect that a stable and highly reliable manufacturing system can be supplied.

【0076】[0076]

【発明の効果】本発明によれば、検査対象から鮮明な透
過X線像を得ることができ、その結果、例えば、検査対
象としてプリント配線基板を想定すれば、回路パタ−ン
部分に対応する鮮明な画像を検査することによって、断
線等に代表されるように、回路パタ−ン上に存在してい
るより微細な欠陥(例えば厚さの不足、過剰等)も検出
可能となり、プリント配線基板としての信頼性を向上す
ることができる効果を奏する。
According to the present invention, a clear transmitted X-ray image can be obtained from an object to be inspected. As a result, for example, assuming a printed wiring board as the object to be inspected, it corresponds to a circuit pattern portion. By inspecting a clear image, finer defects (such as insufficient thickness and excess) existing on the circuit pattern can be detected, as represented by disconnection, etc., and the printed wiring board can be detected. As a result, it is possible to improve the reliability.

【0077】また本発明によれば、多層配線基板等に用
いられるプレプレグと称する絶縁シート等の内部および
表面に混入または付着して存在する微小な導電性金属異
物をX線透過画像に基づいて高信頼度で検査できるよう
にしたので、多層配線基板として長期に渡って絶縁特性
の信頼度を確保することができる効果を奏する。
Further, according to the present invention, minute conductive metallic foreign matters existing inside or adhering to the inside and the surface of an insulating sheet or the like called a prepreg used for a multilayer wiring board or the like are detected based on an X-ray transmission image. Since the inspection can be performed with reliability, the effect that the reliability of the insulation characteristics can be ensured for a long time as a multilayer wiring board is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明によるX線検査装置の一例での
概要構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an example of an X-ray inspection apparatus according to the present invention.

【図2】図2は、検査対象としてのプリント配線基板を
示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a printed wiring board as an inspection target.

【図3】図3は、銅の照射X線波長に対する質量減弱係
数を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a mass attenuation coefficient with respect to an irradiation X-ray wavelength of copper.

【図4】図4は、X線管の管電圧が60kVに設定され
た際でのモリブデンMoとタングステンWについての波
長ーX線発生強度特性を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing wavelength-X-ray generation intensity characteristics of molybdenum Mo and tungsten W when the tube voltage of the X-ray tube is set to 60 kV.

【図5】図5は、フィルタにより特定波長のX線のみを
抽出した上、検査対象に照射する場合でのX線検査装置
の原理構成を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a principle configuration of an X-ray inspection apparatus in the case of irradiating an inspection object after extracting only X-rays of a specific wavelength by a filter.

【図6】図6は、検査対象支持台等も考慮の上、検査対
象にX線を照射する場合でのX線検査装置の原理構成を
示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a principle configuration of an X-ray inspection apparatus in the case of irradiating an inspection target with X-rays in consideration of an inspection target support base and the like.

【図7】図7は、本発明の一実施例に係るX線検査装置
の構成を示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of an X-ray inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図8】図8は、本発明の一実施例に係るステージの構
造を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a structure of a stage according to an embodiment of the present invention.

【図9】図9は、本発明の一実施例に係る被検査試料の
保持機構を説明するための図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining a holding mechanism for a sample to be inspected according to an embodiment of the present invention.

【図10】図10は、本発明の一実施例に係る位置決め
機構を説明するための図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining a positioning mechanism according to an embodiment of the present invention.

【図11】図11は、被検査試料を説明するための図で
ある。
FIG. 11 is a diagram for explaining a sample to be inspected.

【図12】図12は、X線を用いた場合のぼけ発生を説
明するための図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining the occurrence of blur when X-rays are used.

【図13】図13は、本発明の一実施例に係る信号処理
回路の構成を示すブロック図である。
FIG. 13 is a block diagram showing a configuration of a signal processing circuit according to an embodiment of the present invention.

【図14】図14は、本発明の一実施例に係る検査領域
を説明するための図である。
FIG. 14 is a diagram for explaining an inspection area according to an embodiment of the present invention.

【図15】図15は、本発明の一実施例に係る、光量変
動補正回路の構成を示すブロック図である。
FIG. 15 is a block diagram showing a configuration of a light amount variation correction circuit according to an embodiment of the present invention.

【図16】図16は、本発明の一実施例に係る信号処理
回路の機能を説明するための図である。
FIG. 16 is a diagram for explaining the function of the signal processing circuit according to the embodiment of the present invention.

【図17】図17は、本発明の一実施例に係る判定回路
の機能を説明するための図である。
FIG. 17 is a diagram for explaining the function of the determination circuit according to the embodiment of the present invention.

【図18】図18は、本発明の一実施例に係る判定処理
を説明するための図である。
FIG. 18 is a diagram for explaining determination processing according to an embodiment of the present invention.

【図19】図19は、X線以外の第2の検出系を付加し
た場合の実施例を説明するための図である。
FIG. 19 is a diagram for explaining an example in which a second detection system other than X-rays is added.

【図20】図20は、本発明の他の実施例におけるX線
装置を説明するための図である。
FIG. 20 is a diagram for explaining an X-ray apparatus according to another embodiment of the present invention.

【図21】図21は、図20のX線装置と併用される検
出装置を説明するための図である。
21 is a diagram for explaining a detection device used together with the X-ray device in FIG. 20.

【図22】図22は、X線を用いた場合の検出信号を説
明するための図である。
FIG. 22 is a diagram for explaining a detection signal when X-rays are used.

【図23】図23は、本発明の一実施例に係る信号処理
方式を説明するための図である。
FIG. 23 is a diagram for explaining a signal processing method according to an embodiment of the present invention.

【図24】図24は、本発明の一実施例に係る光電変換
器を説明するための図である。
FIG. 24 is a diagram for explaining a photoelectric converter according to an embodiment of the present invention.

【図25】図25は、本発明の一実施例に係る、光電変
換器の駆動方法を説明するための図である。
FIG. 25 is a diagram for explaining a driving method of a photoelectric converter according to an embodiment of the present invention.

【図26】図26は、本発明の一実施例に係る被検査試
料の保持方法を説明するための図である。
FIG. 26 is a diagram for explaining a method for holding a sample to be inspected according to an example of the present invention.

【図27】図27は、本発明の一実施例に係る画像改善
方法を説明するための図である。
FIG. 27 is a diagram for explaining an image improving method according to an embodiment of the present invention.

【図28】図28は、本発明に係る多層配線基板の製造
方法を示す図である。
FIG. 28 is a diagram showing a method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention.

【図29】図29は、本発明に係る製造システムを示す
図である。
FIG. 29 is a diagram showing a manufacturing system according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…X線管、3…タ−ゲット、4…電子線、5…X線、
6…検査対象、6a…回路パターン、7…透過X線、8
…イメージインテンシファイア、12…フィルタ、13
…フィルタ透過X線、14…検査対象支持台、15…検
査対象支持台透過X線、16,17…レンズ、18…ミ
ラー、19…シャッター、20…カメラ、21…キャビ
ン、22…Xステージ、23…Yステージ、25…XY
Zステージ制御装置、26…X線発生制御装置、27…
画像処理装置、101…X線源、102…被検査試料、
103…XY位置決めステージ機構、104…モータ、
105…ステージ制御、106…ステージ制御信号、1
07…座標データ、108…X線光変換器、109…検
出光学系、110…光電変換器、111…信号処理回
路、112…検査結果、113…防護キャビン、114
…X線防御窓、115…モータ、116…X線制御部、
117…X線量制御データ、118…X線量測定器、1
20…モニタ、201…XYステージ、202…試料搭
載台、203、204…位置決めピン、205…搬送ガ
イド、206…搬送ベルト、303…保持板、702…
座標管理及び信号制御回路、703…座標データ、70
4…ノイズ除去回路、705…レベル変換回路、706
…光量変動補正回路、707…シェーディング補正回
路、708…判定回路、709…補正データ、710…
検査出力
1 ... X-ray tube, 3 ... Target, 4 ... Electron beam, 5 ... X-ray,
6 ... Inspected object, 6a ... Circuit pattern, 7 ... Transmission X-ray, 8
… Image intensifier, 12… Filter, 13
... filter transmitted X-ray, 14 ... inspection target support, 15 ... inspection target support transmission X-ray, 16, 17 ... lens, 18 ... mirror, 19 ... shutter, 20 ... camera, 21 ... cabin, 22 ... X stage, 23 ... Y stage, 25 ... XY
Z stage control device, 26 ... X-ray generation control device, 27 ...
Image processing apparatus, 101 ... X-ray source, 102 ... Inspected sample,
103 ... XY positioning stage mechanism, 104 ... Motor,
105 ... Stage control, 106 ... Stage control signal, 1
07 ... Coordinate data, 108 ... X-ray light converter, 109 ... Detection optical system, 110 ... Photoelectric converter, 111 ... Signal processing circuit, 112 ... Inspection result, 113 ... Protective cabin, 114
... X-ray protection window, 115 ... Motor, 116 ... X-ray control unit,
117 ... X dose control data, 118 ... X dose measuring device, 1
20 ... Monitor, 201 ... XY stage, 202 ... Sample mounting base, 203, 204 ... Positioning pin, 205 ... Conveying guide, 206 ... Conveying belt, 303 ... Holding plate, 702 ...
Coordinate management and signal control circuit, 703 ... Coordinate data, 70
4 ... Noise removal circuit, 705 ... Level conversion circuit, 706
... light intensity fluctuation correction circuit, 707 ... shading correction circuit, 708 ... determination circuit, 709 ... correction data, 710 ...
Inspection output

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柄崎 晃一 神奈川県秦野市堀山下1番地株式会社日立 製作所汎用コンピュータ事業部内 (72)発明者 飯田 正 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立製作所汎用コンピュータ事業部内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Koichi Karazaki 1 Horiyamashita, Hadano-shi, Kanagawa Hitachi, Ltd. General-purpose computer division (72) Inventor Tadashi Iida 1 Horiyamashita, Hadano-shi, Kanagawa Hitate Manufacturing Co., Ltd. General-purpose computer division

Claims (34)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】検査対象でのX線吸収率が大とされた少な
くとも波長を含む特性X線を前記検査対象に照射し、該
検査対象を透過した透過X線像を検出し、該透過X線像
にもとづき前記検査対象を検査することを特徴とするX
線検査方法。
1. An inspection object is irradiated with a characteristic X-ray containing at least a wavelength having a large X-ray absorption coefficient in the inspection object, and a transmitted X-ray image transmitted through the inspection object is detected to detect the transmitted X-ray. X characterized by inspecting the inspection object based on a line image
Line inspection method.
【請求項2】検査対象でのX線吸収率が大とされた2種
類以上の波長を含む特性X線を前記検査対象に照射し、
該検査対象を透過した透過X線像を検出し、該透過X線
像にもとづき前記検査対象を検査することを特徴とする
X線検査方法。
2. An object to be inspected is irradiated with a characteristic X-ray containing two or more kinds of wavelengths for which an X-ray absorptance in the object to be inspected is large,
An X-ray inspection method comprising detecting a transmission X-ray image transmitted through the inspection target and inspecting the inspection target based on the transmission X-ray image.
【請求項3】プリント回路板におけるCuまたはAu等
の配線パターンに対してX線吸収率が大とされた0.4
nm〜1.5nmの波長を含む特性X線を前記プリント
回路板に照射し、該プリント回路板を透過した透過X線
像を検出し、該透過X線像にもとづき前記プリント回路
板を検査することを特徴とするX線検査方法。
3. An X-ray absorptivity of 0.4 for a wiring pattern such as Cu or Au on a printed circuit board.
The printed circuit board is irradiated with a characteristic X-ray including a wavelength of nm to 1.5 nm, a transmitted X-ray image transmitted through the printed circuit board is detected, and the printed circuit board is inspected based on the transmitted X-ray image. An X-ray inspection method characterized in that
【請求項4】集束電子線をMoまたはCuまたはAuま
たはこれらの合金からなるターゲットに照射することに
よって発生する0.4nm〜1.5nmの波長を含む特
性X線を、CrまたはAu等の配線パターンを有するプ
リント回路板に照射し、該プリント回路板を透過した透
過X線像を検出し、該透過X線像にもとづき前記プリン
ト回路板を検査することを特徴とするX線検査方法。
4. A characteristic X-ray including a wavelength of 0.4 nm to 1.5 nm generated by irradiating a target made of Mo, Cu, Au, or an alloy thereof with a focused electron beam is used for wiring of Cr, Au, or the like. An X-ray inspection method comprising irradiating a printed circuit board having a pattern, detecting a transmitted X-ray image transmitted through the printed circuit board, and inspecting the printed circuit board based on the transmitted X-ray image.
【請求項5】集束電子線をMoまたはCuまたはAuま
たはこれらの合金からなるターゲットに照射することに
よって20μm以下の微小領域から発生する0.4nm
〜1.5nmの波長を含む特性X線を、CrまたはAu
等の配線パターンを有するプリント回路板に照射し、該
プリント回路板を透過した透過X線像を検出し、該透過
X線像にもとづき前記プリント回路板を検査することを
特徴とするX線検査方法。
5. 0.4 nm generated from a minute region of 20 μm or less by irradiating a target made of Mo, Cu, Au or an alloy thereof with a focused electron beam.
Characteristic X-rays containing a wavelength of ˜1.5 nm are converted to Cr or Au.
An X-ray inspection characterized by irradiating a printed circuit board having a wiring pattern such as the above, detecting a transmitted X-ray image transmitted through the printed circuit board, and inspecting the printed circuit board based on the transmitted X-ray image. Method.
【請求項6】集束電子線をMoまたはCuまたはAuま
たはこれらの合金からなるターゲットに照射することに
よって発生する0.4nm〜1.5nmの波長を含む特
性X線を、絶縁部材に照射し、該絶縁部材を透過した透
過X線像を検出し、該透過X線像にもとづき前記絶縁部
材の表面または内部に存在する微小導電性金属異物を検
査することを特徴とするX線検査方法。
6. An insulating member is irradiated with a characteristic X-ray containing a wavelength of 0.4 nm to 1.5 nm generated by irradiating a target made of Mo, Cu, Au, or an alloy thereof with a focused electron beam. An X-ray inspection method comprising detecting a transmitted X-ray image transmitted through the insulating member, and inspecting a minute conductive metallic foreign substance existing on the surface or inside of the insulating member based on the transmitted X-ray image.
【請求項7】集束電子線をMoまたはCuまたはAuま
たはこれらの合金からなるターゲットに照射することに
よって20μm以下の微小領域から発生する0.4nm
〜1.5nmの波長を含む特性X線を、絶縁部材に照射
し、該絶縁部材を透過した透過X線像を検出し、該透過
X線像にもとづき前記絶縁部材の表面または内部に存在
する微小導電性金属異物を検査することを特徴とするX
線検査方法。
7. 0.4 nm generated from a minute region of 20 μm or less by irradiating a target made of Mo, Cu, Au or an alloy thereof with a focused electron beam.
The insulating member is irradiated with a characteristic X-ray containing a wavelength of ˜1.5 nm, a transmitted X-ray image transmitted through the insulating member is detected, and the present X-ray image exists on the surface or inside of the insulating member based on the transmitted X-ray image. X characterized by inspecting minute conductive metal foreign matter
Line inspection method.
【請求項8】検査対象を載置して位置決めするステージ
手段と、前記検査対象でのX線吸収率が大とされた波長
を多く含むX線を前記ステージ手段によって位置決めさ
れた検査対象に照射するX線源と、前記検査対象を透過
した透過X線像を検出して光学像に変換する光学像変換
手段と、該光学像変換手段での光学像を透過X線画像信
号に変換する光電変換手段と、該光電変換手段から得ら
れる透過X線画像信号像に基づいて前記検査対象を検査
する画像処理手段と、前記ステージ手段を移動制御する
ステージ制御手段とを備えたことを特徴とするX線検査
装置。
8. A stage means for mounting and positioning an inspection object, and irradiating the inspection object positioned by the stage means with X-rays containing many wavelengths for which the X-ray absorptance of the inspection object is large. X-ray source, an optical image conversion means for detecting a transmitted X-ray image transmitted through the inspection object and converting it into an optical image, and a photoelectric device for converting an optical image by the optical image conversion means into a transmitted X-ray image signal. It is characterized by comprising: a conversion means, an image processing means for inspecting the inspection object based on a transmission X-ray image signal image obtained from the photoelectric conversion means, and a stage control means for controlling the movement of the stage means. X-ray inspection device.
【請求項9】前記X線源として、管電圧および管電流が
制御可能なX線管で構成したことを特徴する請求項8記
載のX線検査装置。
9. The X-ray inspection apparatus according to claim 8, wherein the X-ray source is an X-ray tube whose tube voltage and tube current are controllable.
【請求項10】前記X線管は、検査対象と同一材質のタ
ーゲットを具備したことを特徴とする請求項9記載のX
線検査装置。
10. The X-ray tube according to claim 9, wherein the X-ray tube includes a target made of the same material as the inspection target.
Line inspection equipment.
【請求項11】前記X線管は、2種類以上の金属の合金
よりなるターゲットを具備したことを特徴とする請求項
9記載のX線検査装置。
11. The X-ray inspection apparatus according to claim 9, wherein the X-ray tube includes a target made of an alloy of two or more kinds of metals.
【請求項12】X線源と、被検査試料を搭載する搭載台
をXおよびY軸方向に移動して位置決めするXY位置決
めステージと、前記X線源より出射されたX線を前記X
Y位置決めステージにより位置決めされた被検査試料に
照射して該被検査試料を透過した透過X線像を検出して
光学像に変換するX線光変換手段と、該X線光変換手段
で検出された光学像を受光して透過濃淡X線画像信号と
して検出する光電変換手段と、該光電変換手段から得ら
れる透過濃淡X線画像信号からノイズ成分を除去するノ
イズ除去手段と、該ノイズ除去手段でノイズが除去され
た透過濃淡X線画像信号に対して前記被検査試料の厚さ
に応じた信号レベルに変換するレベル変換手段と、該レ
ベル変換手段で変換された透過濃淡X線画像信号に対し
て検出信号レベルの変動を補正するレベル補正手段とを
備え、該レベル補正手段で補正された透過濃淡X線画像
信号に基づいて前記被検査試料中に混入した異物および
表面に付着した異物を検査するように構成したことを特
徴とするX線検査装置。
12. An X-ray source, an XY positioning stage for moving and positioning a mounting base for mounting a sample to be inspected in X and Y axis directions, and X-rays emitted from the X-ray source for the X-ray.
X-ray light converting means for irradiating the sample to be inspected positioned by the Y positioning stage, detecting a transmitted X-ray image transmitted through the sample to be inspected, and converting it into an optical image, and detected by the X-ray light converting means. A photoelectric conversion unit that receives the received optical image and detects it as a transmission grayscale X-ray image signal, a noise removal unit that removes a noise component from the transmission grayscale X-ray image signal obtained from the photoelectric conversion unit, and the noise removal unit. Level conversion means for converting the transmission gray-scale X-ray image signal from which noise is removed into a signal level corresponding to the thickness of the sample to be inspected, and the transmission gray-scale X-ray image signal converted by the level conversion means. And a level correction means for correcting the fluctuation of the detection signal level, and based on the transmission gray-scale X-ray image signal corrected by the level correction means, the foreign matter mixed in the sample to be inspected and the foreign matter adhering to the surface are detected. X-ray inspection apparatus characterized by being configured to inspect.
【請求項13】前記X線源を、電子ビ−ム等を微小な領
域に収束させてタ−ゲット材に照射して微小な領域から
X線を発生させるように構成したことを特徴とする請求
項12記載のX線検査装置。
13. The X-ray source is configured so that an electron beam or the like is converged on a minute region and the target material is irradiated with the X-ray to generate X-rays from the minute region. The X-ray inspection apparatus according to claim 12.
【請求項14】更に、前記X線光変換手段で検出される
透過X線像の結像倍率を制御する結像倍率制御手段を備
えたことを特徴とする請求項12記載のX線検査装置。
14. An X-ray inspection apparatus according to claim 12, further comprising an imaging magnification control means for controlling an imaging magnification of a transmitted X-ray image detected by said X-ray light converting means. .
【請求項15】更に防護キャビンの外側に補助ステージ
を設け、前記載置台を、前記補助ステージと前記XY位
置決めステージとの間で前記防護キャビンに設けられて
開閉される窓を介して搬出入させる搬送手段を備えたこ
とを特徴とする請求項12記載のX線検査装置。
15. An auxiliary stage is further provided outside the protective cabin, and the mounting table is carried in and out through a window provided in the protective cabin and opened and closed between the auxiliary stage and the XY positioning stage. 13. The X-ray inspection apparatus according to claim 12, further comprising a conveying unit.
【請求項16】更に、前記X線源から照射されるX線の
強度を測定するX線測定手段を設け、該X線測定手段で
測定されるX線の強度に応じて前記レベル補正手段によ
り検出信号レベルを補正するように構成したことを特徴
とする請求項12記載のX線検査装置。
16. An X-ray measuring means for measuring the intensity of X-rays emitted from said X-ray source is further provided, and said level correcting means is provided according to the intensity of X-rays measured by said X-ray measuring means. The X-ray inspection apparatus according to claim 12, wherein the X-ray inspection apparatus is configured to correct the detection signal level.
【請求項17】更に、前記X線源から照射されるX線の
強度を測定するX線測定手段と、該X線測定手段で測定
されるX線の強度に応じてX線源から出射されるX線を
制御する制御手段とを備えたことを特徴とする請求項1
2記載のX線検査装置。
17. X-ray measuring means for measuring the intensity of X-rays emitted from said X-ray source, and the X-ray source emitting said radiation according to the intensity of the X-rays measured by said X-ray measuring means. Control means for controlling the X-rays according to claim 1.
The X-ray inspection apparatus described in 2.
【請求項18】更に、前記レベル補正手段で補正された
透過濃淡X線画像信号を表示する表示手段を備えたこと
を特徴する請求項12記載のX線検査装置。
18. The X-ray inspection apparatus according to claim 12, further comprising display means for displaying the transmission gray-scale X-ray image signal corrected by the level correcting means.
【請求項19】一あるいは複数のX線以外の第2の検出
手段を併用し、X線による検出座標に基づいて前記第2
の検出手段による検出結果を参照することにより検出異
物の存在する部位を識別することを特徴とする請求項1
2記載のX線検査装置。
19. A second detection means other than one or a plurality of X-rays is used together, and the second detection means is based on the detection coordinates by the X-rays.
The part in which the detected foreign substance is present is identified by referring to the detection result of the detecting means of claim 1.
The X-ray inspection apparatus described in 2.
【請求項20】前記光電変換手段を、検出光学系と光電
変換器とで構成し、該検出光学系は前記X線光変換手段
で発生する歪みを補正するよう構成したことを特徴とす
る請求項12記載のX線検査装置。
20. The photoelectric conversion means comprises a detection optical system and a photoelectric converter, and the detection optical system is configured to correct the distortion generated in the X-ray light conversion means. Item 12. The X-ray inspection apparatus according to item 12.
【請求項21】前記X線光変換手段で発生する歪みを補
正するように該光電変換器の読み出し走査信号を与える
よう構成したことを特徴とする請求項20記載のX線検
査装置。
21. An X-ray inspection apparatus according to claim 20, wherein the X-ray inspection apparatus is configured to provide a read scanning signal of the photoelectric converter so as to correct the distortion generated in the X-ray light converting means.
【請求項22】前記光電変換器において、検出視野中心
部の画素寸法に対し周辺部にいくにつれて順次画素寸法
を拡大するように構成したことを特徴とする請求項12
記載のX線検査装置。
22. The photoelectric conversion device according to claim 12, wherein the pixel size is sequentially increased toward the peripheral part with respect to the pixel size in the central part of the detection visual field.
The X-ray inspection apparatus described.
【請求項23】レベル補正手段を複数用意しこれを切り
替える機構を設け、あるいは該レベル補正手段の補正値
を書き換え可能とする機構を設けることにより、前記X
線光変換手段の感度特性や被検査試料の種別変更による
検出感度の変動を予め規定された基準特性に補正するこ
とを特徴とする請求項12記載のX線検査装置。
23. By providing a plurality of level correction means and providing a mechanism for switching between them, or by providing a mechanism capable of rewriting the correction value of the level correction means, the X
13. The X-ray inspection apparatus according to claim 12, wherein variations in detection sensitivity due to a change in the sensitivity characteristics of the line-light conversion means and the type of sample to be inspected are corrected to a predetermined reference characteristic.
【請求項24】透過X線画像中の検出信号変化の変化度
合を検出する信号処理回路を設け、該変化度合から異物
の存在する部位を識別することを特徴とする請求項12
記載のX線検査装置。
24. A signal processing circuit for detecting a degree of change of a detected signal change in a transmission X-ray image is provided, and a portion where a foreign substance exists is identified from the degree of change.
The X-ray inspection apparatus described.
【請求項25】透過X線画像中の検出信号変化の変化度
合を検出する信号処理回路を設けて該変化度合から異物
の種類を分類し、更には、請求項21記載の第2の検出
手段によって得られる座標位置の対応した検出結果を併
用して異物の種類を分類して出力することを特徴とする
請求項12記載のX線検査装置。
25. A second processing means according to claim 21, further comprising a signal processing circuit for detecting the degree of change of the detection signal change in the transmitted X-ray image, classifying the type of foreign matter based on the degree of change. 13. The X-ray inspection apparatus according to claim 12, wherein the type of foreign matter is classified and output together with the detection results corresponding to the coordinate positions obtained by.
【請求項26】防護キャビンの外側に設けられた補助ス
テージと、被検査試料を搭載する搭載台をXおよびY軸
方向に移動して位置決めするXY位置決めステージと、
前記載置台を、前記補助ステージと前記XY位置決めス
テージとの間で前記防護キャビンに設けられて開閉され
る窓を介して搬出入させる搬送手段と、電子ビ−ム等を
微小な領域に収束させてタ−ゲット材に照射して微小な
領域からX線を発生させるように構成したX線源と、該
X線源より出射されたX線を前記XY位置決めステージ
により位置決めされた被検査試料に照射して該被検査試
料を透過した透過X線像をフィルムに撮像して感光させ
てX線透過像を得る感光手段とを備え、該感光手段によ
り前記被検査試料中に混入した異物および表面に付着し
た異物を検査するように構成したことを特徴とするX線
検査装置。
26. An auxiliary stage provided outside the protective cabin, and an XY positioning stage for moving and positioning a mounting table on which a sample to be inspected is mounted in the X and Y axis directions.
Conveying means for loading and unloading the mounting table through a window provided in the protective cabin and opened and closed between the auxiliary stage and the XY positioning stage, and an electronic beam etc. are converged on a minute area. An X-ray source configured to irradiate a target material with X-rays to generate X-rays from a minute area, and X-rays emitted from the X-ray source to an inspected sample positioned by the XY positioning stage. A transparent X-ray image that has passed through the sample to be inspected and is exposed to light to obtain an X-ray transmission image, and the foreign matter and the surface mixed in the sample to be inspected by the photosensitive unit. An X-ray inspection apparatus characterized in that it is configured to inspect foreign matter adhering to the.
【請求項27】プレプレグにX線を照射して透過X線濃
淡画像に基づいて、プレプレグの内部および表面に規定
されている導電性異物が混入または付着されているか否
かを検査することを特徴とするプレプレグの検査方法。
27. The prepreg is irradiated with X-rays, and it is inspected on the basis of a transmission X-ray gray-scale image whether or not conductive foreign substances defined in the inside and the surface of the prepreg are mixed or attached. Inspection method for prepreg.
【請求項28】プレプレグにX線を照射して透過X線濃
淡画像に基づいて、プレプレグの内部および表面に規定
されている導電性異物が混入または付着されているか否
かを検査して内部および表面に規定されている導電性異
物が混入または付着されていないプレプレグを準備し、
該準備されたプレプレグと絶縁材料上に配線パターンを
形成した配線基板とを積層加熱して多層配線基板を製造
することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
28. The prepreg is irradiated with X-rays, and based on a transmission X-ray gray-scale image, it is inspected whether or not conductive foreign matter defined on the inside and the surface of the prepreg is mixed or attached. Prepare a prepreg that does not have mixed or adhered conductive foreign substances specified on the surface,
A method for manufacturing a multilayer wiring board, comprising: stacking and heating the prepared prepreg and a wiring board having a wiring pattern formed on an insulating material to manufacture a multilayer wiring board.
【請求項29】任意のプリプレグに接する前記配線基板
の設計情報に基づいて前記配線基板に配線パターンが存
在する部分のみを抽出して、前記プリプレグあるいは配
線基板の当該部分のみを検査して不良を排除して多層配
線基板を製造することを特徴とする請求項28記載の多
層配線基板の製造方法。
29. Based on the design information of the wiring board in contact with an arbitrary prepreg, only the portion where the wiring pattern exists on the wiring board is extracted, and only the relevant portion of the prepreg or the wiring board is inspected for defects. 29. The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 28, characterized in that the multilayer wiring board is manufactured by removing it.
【請求項30】X線用試料を搭載するX線用試料搭載台
において、X線に対して透過率の低い材料で形成された
被検査試料の保持部と、保持部の周辺部のみを支持する
ことによって検出の障害とならないように保持部を支持
するフレーム部からなることを特徴とするX線用試料搭
載台。
30. An X-ray sample mounting base for mounting an X-ray sample, which supports only a holding portion for a sample to be inspected, which is made of a material having a low transmittance for X-rays, and a peripheral portion of the holding portion. An X-ray sample mounting base comprising a frame portion that supports the holding portion so as not to interfere with detection.
【請求項31】X線光変換手段で発生する糸巻き状歪み
を補正するように被検査試料を凸形状に歪ませるような
形状で構成したことを特徴とする請求項30記載のX線
用試料搭載台。
31. An X-ray sample according to claim 30, wherein the sample to be inspected is formed into a convex shape so as to correct the pincushion distortion generated in the X-ray light converting means. Mounting base.
【請求項32】予めX線透過量の明らかになっている標
準試料を用意し、被検査試料の検査開始前に該標準試料
のX線透過量を検出することによって検出信号レベルの
基準値を得て、該基準値に基づいて、前記レベル補正手
段により検出信号レベルを補正する、あるいは、前記X
線を制御する制御手段によってX線源から出射されるX
線を制御することを特徴とするX線検査装置。
32. A standard sample having a known X-ray transmission amount is prepared in advance, and the reference value of the detection signal level is determined by detecting the X-ray transmission amount of the standard sample before the inspection of the sample to be inspected. Then, based on the reference value, the level correction means corrects the detection signal level, or
X emitted from the X-ray source by the control means for controlling the X-ray
An X-ray inspection apparatus characterized by controlling X-rays.
【請求項33】X線用試料をXY軸方向に位置決めする
XY位置決めステージにおいて、フレーム部にX線を通
過させるような通路を設け、該通路上に予めX線透過量
の明らかになっている標準試料を設置し、被検査試料の
検査開始前に該標準試料のX線透過量を検出することに
よって検出信号レベルの基準値を得て、該基準値に基づ
いて、前記レベル補正手段により検出信号レベルを補正
する、あるいは、前記X線を制御する制御手段によって
X線源から出射されるX線を制御することを可能とする
ことを特徴とするXY位置決めステージ。
33. In an XY positioning stage for positioning an X-ray sample in the XY axis directions, a passage for passing X-rays is provided in the frame portion, and the X-ray transmission amount is previously clarified on the passage. A standard sample is installed, a reference value of the detection signal level is obtained by detecting the X-ray transmission amount of the standard sample before the inspection of the sample to be inspected, and the level correction means detects the reference value based on the reference value. An XY positioning stage, which is capable of correcting a signal level or controlling an X-ray emitted from an X-ray source by a control means for controlling the X-ray.
【請求項34】集塵フィルタや粘着シート等を適当に配
置し、該集塵フィルタや粘着シート等をX線を用いて検
査することにより、塵埃の発生状況を管理するシステ
ム。
34. A system for managing a dust generation state by appropriately disposing a dust collecting filter, an adhesive sheet or the like, and inspecting the dust collecting filter, the adhesive sheet or the like using X-rays.
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