JPH0737708A - Manufacture of chip component - Google Patents
Manufacture of chip componentInfo
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- JPH0737708A JPH0737708A JP5181157A JP18115793A JPH0737708A JP H0737708 A JPH0737708 A JP H0737708A JP 5181157 A JP5181157 A JP 5181157A JP 18115793 A JP18115793 A JP 18115793A JP H0737708 A JPH0737708 A JP H0737708A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は各種民生電子機器に高密
度実装して用いる小型で薄型なチップ部品の製造方法に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a small and thin chip part for high density mounting on various consumer electronic devices.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、各種民生電子機器の発達により、
それらの機器に高密度実装して用いる小型で薄型なチッ
プ部品において、寸法精度が良く、かつ大量生産が可能
なチップ部品の製造方法が要望されるようになった。2. Description of the Related Art Conventionally, with the development of various consumer electronic devices,
A demand has arisen for a small and thin chip component that is mounted in high density on these devices and that has a high dimensional accuracy and can be mass-produced.
【0003】以下、従来のチップ部品の製造方法につい
て図面を参照しながら説明する。図2は従来のチップ部
品の製造方法を示す工程図である。図2に示すように、
チップ部品の製造方法は、セラミック基板11にブレー
ク溝である分割用スリットを入れて焼成する第1工程
と、焼成したセラミック基板11上に分割用スリットで
分割された分割基板14の両端に電極12を形成する第
2工程と、電極12の端部に重なるように抵抗体13を
印刷・焼成して形成する第3工程と、分割基板14の電
極12側の両端面を分割用スリットに沿って分割する第
4工程と、分割基板14の電極12側の両端面に端面電
極15を形成する第5工程と、分割基板14を分割用ス
リットに沿って分割してチップ部品16を形成する第6
工程とを有したものである。A conventional method of manufacturing a chip component will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 is a process diagram showing a conventional method of manufacturing a chip component. As shown in FIG.
The method of manufacturing a chip component is as follows: a first step in which a dividing slit, which is a break groove, is placed in the ceramic substrate 11 and fired; and electrodes 12 on both ends of a divided substrate 14 divided by the dividing slit on the fired ceramic substrate 11. And a third step of forming the resistor 13 by printing and firing so as to overlap the end portion of the electrode 12, and the end faces of the divided substrate 14 on the electrode 12 side along the dividing slit. A fourth step of dividing, a fifth step of forming the end face electrodes 15 on both end surfaces of the divided substrate 14 on the electrode 12 side, and a sixth step of dividing the divided substrate 14 along the dividing slits to form a chip component 16.
And a process.
【0004】しかしながら上記の方法では、第1工程に
おいて分割用スリットを入れたセラミック基板11を焼
成するので、セラミックの焼成時におけるセラミック基
板11の体積収縮によって、分割基板14の外形寸法に
微小な誤差を生じさせ、第2工程、第3工程における電
極12、抵抗体13の寸法を調整して形成する必要があ
り、ロット間による基板の寸法分類を行ったり、その寸
法に応じた多数の電極及び抵抗印刷用マスクを用いたり
しなければならないという問題点を有していた。また、
分割用スリットに電極及び抵抗印刷用マスクが重なると
きには、ペーストの分割用スリットへの流れ込みが生じ
て、印刷時における印刷にじみを発生させるという問題
点をも有していた。However, in the above method, since the ceramic substrate 11 having the slits for division is fired in the first step, the volumetric shrinkage of the ceramic substrate 11 during firing of the ceramic causes a small error in the outer dimensions of the divided substrate 14. It is necessary to adjust the dimensions of the electrode 12 and the resistor 13 in the second step and the third step to form the substrate, and the size of the substrate is classified according to lots, and a large number of electrodes and There was a problem that a resistance printing mask had to be used. Also,
When the electrode and the resistance printing mask overlap with the dividing slit, the paste flows into the dividing slit, which causes a problem of printing bleeding during printing.
【0005】これらの問題点を解決するために、近年特
開平4−24140号公報記載のようなレーザースクラ
イブ工法を用いた製造方法が提案されている。この製造
方法は、上記の製造方法におけるブレーク溝である分割
用スリットを形成する工程を電極、抵抗体を形成した後
に行い、しかも分割用スリットをレーザービームを用い
て形成する。このとき、電極、抵抗体を形成したセラミ
ック基板をレーザービームで照射し、熱エネルギーによ
りセラミック基板を熱溶融しながら、アシストガスによ
って融解物を飛散させ分割用スリットを形成していくも
のである。In order to solve these problems, a manufacturing method using a laser scribing method as disclosed in JP-A-4-24140 has been proposed in recent years. In this manufacturing method, the step of forming the dividing slit which is the break groove in the above manufacturing method is performed after forming the electrodes and the resistors, and further, the dividing slit is formed using a laser beam. At this time, the ceramic substrate on which the electrodes and the resistors are formed is irradiated with a laser beam, the ceramic substrate is thermally melted by thermal energy, and the melt is scattered by the assist gas to form the slit for division.
【0006】この結果、分割用スリットを形成したセラ
ミック基板を焼成することがなく、焼成したセラミック
基板を用いて分割用スリットを形成するので、セラミッ
ク基板の焼成による分割用スリットの寸法誤差が生じず
寸法精度の良いチップ部品を得ることができるものであ
る。As a result, since the dividing slit is formed by using the fired ceramic substrate without firing the ceramic substrate having the dividing slit formed therein, dimensional error of the dividing slit due to firing of the ceramic substrate does not occur. It is possible to obtain a chip component with high dimensional accuracy.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
のチップ部品の製造方法では、レーザービームを用いて
セラミック基板に分割用スリットを形成するので、レー
ザービームの熱エネルギーによりセラミック基板を熱溶
融しながら、アシストガスによって融解物を飛散させる
際に、飛散したセラミック基板のセラミック材料がセラ
ミック基板上に形成した電極、抵抗体面に付着したり、
分割用スリットに沿って切断したブレーク切断面の加工
形状が平滑でなくなったりするといった問題点を有して
いた。However, in the above-mentioned conventional method of manufacturing a chip component, since the slit for division is formed in the ceramic substrate by using the laser beam, the thermal energy of the laser beam causes the ceramic substrate to be melted by heat. When the melted material is scattered by the assist gas, the ceramic material of the scattered ceramic substrate adheres to the electrodes formed on the ceramic substrate or the resistor surface,
There is a problem that the shape of the break cut surface cut along the dividing slit may not be smooth.
【0008】本発明は上記問題点を解決するために、分
割用スリットを形成する手段としてセラミック基板より
も硬度の高い鋭利な角度形状を有する回転加工刃を用い
て切削することにより、セラミック基板に形成した電
極、抵抗体面に切削屑を付着させたり、切断面の加工形
状を非平滑にしたりすることがないとともに、分割用ス
リットの寸法誤差を生じさせないため寸法精度が良く、
歩留まりが良いチップ部品の製造方法を提供することを
目的とするものである。In order to solve the above problems, the present invention cuts a ceramic substrate by using a rotary working blade having a sharp angle shape having a hardness higher than that of the ceramic substrate as a means for forming a slit for division. The formed electrodes and resistor surfaces do not adhere to cutting chips, and the processed shape of the cut surface does not become uneven, and the dimensional accuracy of the dividing slit does not occur, so dimensional accuracy is good,
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a chip component having a high yield.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のチップ部品の製造方法では、焼成後の基板
の片面上に機能材料を形成する第1工程と、機能材料を
形成した基板に分割用スリットを形成する第2工程と、
機能材料を形成した基板を分割用スリットに沿って分割
する第3工程とを有し、前記第2工程における分割用ス
リットを形成する手段として、基板より硬度の高い鋭利
な角度形状を備えた回転加工刃を用いて、かつ前記回転
加工刃を基板に対して垂直方向に加圧切削するようにし
たものである。In order to achieve the above object, in the method for manufacturing a chip component of the present invention, a first step of forming a functional material on one surface of a substrate after firing and a functional material are formed. A second step of forming a dividing slit on the substrate,
A third step of dividing the substrate on which the functional material is formed along the dividing slits, and as a means for forming the dividing slits in the second step, rotation with a sharp angular shape having higher hardness than the substrate A processing blade is used, and the rotary processing blade is pressure-cut in a direction perpendicular to the substrate.
【0010】[0010]
【作用】上記方法により、焼成後の基板に機能材料を形
成して分割用スリットを形成するので、分割用スリット
を形成した基板を焼成する時に発生するような、分割用
スリットの寸法誤差に応じて機能材料を形成するという
必要がなく、製造工程中におけるチップ部品の信頼性の
向上と簡素化を図ることができる。さらに、分割用スリ
ットの形成時には、回転加工刃が基板に対して垂直方向
に加圧しながら切削するので、基板に数μmの切削加工
溝を形成しつつ切削加工溝の先端部からマイクロクラッ
クの機械的破断を直線的に内包させ、分割用スリットと
なる切削加工溝に沿って基板を分割する際に、切削加工
溝の先端部からの直線的なマイクロクラックによって、
基板の分割面の形状を直線的な形状にして基板の分割面
を平滑にすることができるとともに、基板表面に基板の
切削屑を付着させることがなく歩留まり低下を防止する
ことができる。According to the above method, the functional material is formed on the substrate after firing to form the slits for division, so that it is possible to deal with the dimensional error of the slits for division which occurs when the substrate having the slits for division is fired. Since it is not necessary to form a functional material by using it, the reliability and simplification of the chip component can be improved during the manufacturing process. Further, when the slit for division is formed, the rotary working blade presses the substrate in a direction perpendicular to the cutting, so that a cutting groove of several μm is formed on the substrate, and a micro crack machine is formed from the tip of the cutting groove. When the substrate is divided along the cutting grooves that will be the slits for division, the linear microcracks from the tip of the cutting grooves cause
The shape of the divided surface of the substrate can be made linear so that the divided surface of the substrate can be made smooth, and the yield reduction can be prevented without adhering cutting chips of the substrate to the surface of the substrate.
【0011】[0011]
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
しながら説明する。図1は本発明のチップ部品の製造方
法を示す工程図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a process drawing showing a method for manufacturing a chip component of the present invention.
【0012】図1に示すように、ガラス55%、アルミ
ナ45%の組成を有する基板寸法が縦6cm、横5c
m、厚み0.5mmの基板を低温焼結してセラミック基
板1を形成する第1工程と、低温焼結したセラミック基
板の表面に銀−パラジウム電極ペーストを用いてチップ
サイズ2.0×1.25mmのチップ抵抗用として所定
の電極パターンを印刷形成する第2工程と、印刷乾燥さ
れたセラミック基板1を850℃の焼成温度にて電極2
を焼成する第3工程と、焼成されたセラミック基板1に
酸化ルテニウムを主成分とする抵抗ペーストを用いて上
記電極パターンに対応して設計された抵抗パターンを印
刷形成する第4工程と、印刷乾燥されたセラミック基板
1を850℃の焼成温度にて焼成して抵抗3を形成する
第5工程と、上記電極2と抵抗3とを形成したセラミッ
ク基板1上に分割用スリットを入れて分割基板9を形成
する第6工程と、分割基板9の電極2側の両端面を分割
する第7工程と、分割基板9の電極2側の両端面に端面
電極ペーストを用いて端面電極5を形成する第8工程
と、端面電極5を形成した分割基板9を分割してチップ
部品を形成する第9工程とを有し、前記第6工程におけ
る分割用スリットを形成する手段として、セラミック基
板1より硬度の高い鋭利な角度形状を備えた回転加工刃
を用いて、かつ前記回転加工刃をセラミック基板1に対
して垂直方向に加圧切削するものである。As shown in FIG. 1, a substrate having a composition of 55% glass and 45% alumina has a dimension of 6 cm in length and 5 c in width.
m, the thickness of 0.5 mm is low-temperature sintered to form the ceramic substrate 1; and a chip size of 2.0 × 1. The second step of printing and forming a predetermined electrode pattern for the chip resistance of 25 mm, and the printed and dried ceramic substrate 1 at the firing temperature of 850 ° C.
And a fourth step of printing and forming a resistance pattern designed corresponding to the above electrode pattern on the fired ceramic substrate 1 by using a resistance paste containing ruthenium oxide as a main component, and print drying. A fifth step of firing the formed ceramic substrate 1 at a firing temperature of 850 ° C. to form the resistor 3, and a division substrate 9 in which a slit for division is formed on the ceramic substrate 1 on which the electrode 2 and the resistor 3 are formed. And a seventh step of dividing both end surfaces of the divided substrate 9 on the electrode 2 side, and a sixth step of forming end surface electrodes 5 on both end surfaces of the divided substrate 9 on the electrode 2 side by using an end surface electrode paste. It has eight steps and a ninth step of dividing the divided substrate 9 on which the end face electrodes 5 are formed to form a chip component. As means for forming the dividing slit in the sixth step, the divided substrate 9 having a hardness higher than that of the ceramic substrate 1 is used. high Using a rotary machining blade having a Convenient angular shape, and is intended to press the cutting in a vertical direction the rotary machining blade relative to the ceramic substrate 1.
【0013】以上のようなチップ部品の製造方法につい
て、以下より詳細に説明する。セラミック基板に分割用
スリットを形成するための方法について詳述する。算盤
玉の形状を有する回転加工刃6の形状にダイヤモンド刃
を加工する。このときの回転加工刃6の先端角度aは1
30度に加工してある。このダイヤモンド刃(回転加工
刃6)の回転中心には支持棒を貫通させるための貫通孔
をあける。このダイヤモンド刃の貫通孔にガイドピンを
貫通させて支持する(ガイド部7となる)。The method of manufacturing the above chip component will be described in more detail below. The method for forming the dividing slits on the ceramic substrate will be described in detail. A diamond blade is processed into the shape of the rotary processing blade 6 having the shape of an abacus ball. At this time, the tip angle a of the rotary processing blade 6 is 1
It is processed to 30 degrees. A through hole for penetrating the support rod is formed in the center of rotation of the diamond blade (rotation processing blade 6). The guide pin is passed through the through hole of the diamond blade and supported (it becomes the guide portion 7).
【0014】この時、貫通孔とガイドピンのスリ合わせ
寸法は分割用スリット寸法に影響を与えるので、許容さ
れる範囲で組立精度を上げるのが好ましい。このような
構造を有するダイヤモンド刃(回転加工刃6)は、セラ
ミック基板1の表面をガイド部7のガイドピンを介して
0.5〜1.0kg/cm2の圧力を加えながらセラミ
ック基板1の表面を回転させながら加工する。このと
き、セラミック基板1表面には数μmの深さにダイヤモ
ンド刃(回転加工刃6)による切削加工溝が加工でき
る。そしてセラミック基板1を裏返した状態で、弾性を
有するゴム板などの上にて分割用スリットと平行にし
て、切削加工溝の上から均等に機械的応力を加えて押圧
すると分割用スリットに沿って、棒状のセラミック基板
1にブレークする。できたブレーク面4の表面は平滑
で、寸法精度の高いものである。At this time, the size of the through-hole and the guide pin in the slit alignment affects the size of the slit for division, so that it is preferable to increase the assembling accuracy within an allowable range. The diamond blade (rotation processing blade 6) having such a structure applies a pressure of 0.5 to 1.0 kg / cm 2 to the surface of the ceramic substrate 1 via the guide pins of the guide portion 7 while applying a pressure of 0.5 to 1.0 kg / cm 2 . Process while rotating the surface. At this time, a cutting groove with a diamond blade (rotating blade 6) can be formed on the surface of the ceramic substrate 1 to a depth of several μm. Then, when the ceramic substrate 1 is turned upside down, it is made parallel to the dividing slit on an elastic rubber plate or the like, and even if mechanical stress is applied evenly from above the cutting groove, it is pressed along the dividing slit. , Break into the rod-shaped ceramic substrate 1. The surface of the break surface 4 thus formed is smooth and has high dimensional accuracy.
【0015】分割用スリットは数μmであるのに、裏側
まで何故寸法精度が高くブレークできるかというと、切
削される寸法は数ミクロンであるが、加圧しながら切削
していくのでその鋭利な回転加工刃6から機械的応力が
セラミック基板1に印加されるのでセラミック基板1の
裏側までマイクロクラック8を内包した状態でアウクラ
イブできるためである。加圧することによって目に見え
ないマイクロクラック8を内包させることができる作用
を持っている。Although the slit for division is several μm, the reason why it is possible to make a break with high dimensional accuracy to the back side is that the size to be cut is several microns, but since it is cut while applying pressure, its sharp rotation. This is because mechanical stress is applied to the ceramic substrate 1 from the processing blade 6, and the microcrack 8 can be scribed up to the back side of the ceramic substrate 1 in an encapsulated state. By applying a pressure, it has a function of containing invisible microcracks 8 therein.
【0016】また、電極印刷焼成、抵抗印刷焼成などの
各プロセスは分割用スリットを形成する前に行うもので
あるので、セラミック基板の亀裂、ワレなどの製造上の
トラブルは皆無である。また焼成後に分割用スリットを
形成するので寸法精度は非常に高くなる。Since each process such as electrode printing firing and resistance printing firing is performed before forming the slits for division, there are no manufacturing troubles such as cracks and cracks in the ceramic substrate. Further, since the dividing slit is formed after firing, the dimensional accuracy becomes very high.
【0017】このように本実施例によれば、分割用スリ
ットを形成する手段として、基板よりも硬度の高い鋭利
な角度形状を有する回転加工刃を用いて切削することに
より、基板に形成した電極、抵抗体などの機能材料面に
切削屑を付着させたり、切断面の加工形状を非平滑にし
たりすることがないとともに、分割用スリットの形成を
基板の焼成後に行うので、分割用スリットの寸法誤差を
生じさせることがない。As described above, according to the present embodiment, the electrode formed on the substrate by cutting using the rotary processing blade having a sharp angle shape with higher hardness than the substrate as a means for forming the dividing slit. , The size of the slit for dividing is not formed because cutting chips are not attached to the surface of the functional material such as the resistor and the processed shape of the cut surface is not smoothed, and the slit for dividing is formed after baking the substrate. No error will occur.
【0018】上記の実施例はチップ型抵抗器の製造に適
用した場合であるが、本発明はセラミック基板の上に厚
膜コンデンサを形成した後に分割用スリットを形成した
チップコンデンサの製造方法、チップコイルの製造方
法、セラミック基板上に回路素子を形成した各種セン
サ、または半導体部品を実装したチップモジュールなど
の電子部品を製造する方法としても最適な方法であるこ
とはいうまでもない。Although the above-mentioned embodiment is applied to the manufacture of a chip type resistor, the present invention is a method for manufacturing a chip capacitor in which a thick film capacitor is formed on a ceramic substrate and then a slit for division is formed, It goes without saying that it is also the most suitable method as a method for manufacturing a coil, various sensors in which circuit elements are formed on a ceramic substrate, or a method for manufacturing electronic components such as chip modules in which semiconductor components are mounted.
【0019】又、基板として低温焼結基板、アルミナ基
板、ガラス基板など回転加工刃にて分割用スリット形成
できる材質であれば適用できる。As the substrate, any material can be applied, such as a low temperature sintered substrate, an alumina substrate, or a glass substrate, as long as it can be formed into a slit for division by a rotary processing blade.
【0020】[0020]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、焼成後の
基板に機能材料を形成して分割用スリットを形成するの
で、分割用スリットを形成した基板を焼成する時に発生
するような、分割用スリットの寸法誤差に応じて機能材
料を形成するという必要がなく、製造工程中におけるチ
ップ部品の信頼性の向上と簡素化を図ることができるも
のである。さらに、分割用スリットの形成時には、回転
加工刃が基板に対して垂直方向に加圧しながら切削する
ので、基板に数μmの切削加工溝を形成しつつ切削加工
溝の先端部からマイクロクラックの機械的破断を直線的
に内包させ、分割用スリットとなる切削加工溝に沿って
基板を分割する際に、切削加工溝の先端部からの直線的
なマイクロクラックによって、基板の分割面の形状を直
線的な形状にして基板の全分割面を統一させることがで
きるとともに、基板表面に基板の切削屑を付着させるこ
とがなく歩留まり低下を防止することもできるものであ
る。As described above, according to the present invention, since the functional material is formed on the substrate after baking to form the slits for division, such a problem occurs when the substrate having the slits for division is fired. It is not necessary to form the functional material according to the dimensional error of the dividing slit, and the reliability and the simplification of the chip component during the manufacturing process can be improved. Further, when the slit for division is formed, the rotary working blade presses the substrate in a direction perpendicular to the cutting, so that a cutting groove of several μm is formed on the substrate, and a micro crack machine is formed from the tip of the cutting groove. When the substrate is divided along the cutting groove that serves as the dividing slit by linearly embedding a mechanical break, the shape of the dividing surface of the substrate is linear due to the linear microcracks from the tip of the cutting groove. It is possible to make all the divided surfaces of the substrate uniform and to prevent the cutting waste of the substrate from adhering to the surface of the substrate and prevent the yield from decreasing.
【図1】本発明のチップ部品の製造方法を示す工程説明
図FIG. 1 is a process explanatory view showing a method for manufacturing a chip part of the present invention.
【図2】従来のチップ抵抗器の製造方法を示す工程説明
図FIG. 2 is a process explanatory view showing a conventional method for manufacturing a chip resistor.
1 セラミック基板 2 電極 3 抵抗 4 ブレーク面 5 端面電極 6 回転加工刃(スクライブ刃) 7 ガイド部 8 マイクロクラック 9 分割基板 1 Ceramic Substrate 2 Electrode 3 Resistance 4 Break Surface 5 End Surface Electrode 6 Rotating Machining Blade (Scribe Blade) 7 Guide Section 8 Micro Crack 9 Divided Substrate
Claims (2)
工程と、機能材料を形成した基板に分割用スリットを形
成する第2工程と、機能材料を形成した基板を分割用ス
リットに沿って分割する第3工程とを有し、前記第2工
程における分割用スリットを形成する手段として基板よ
り硬度の高い鋭利な角度形状を備えた回転加工刃を用い
てかつ前記回転加工刃を基板に対して垂直方向に加圧切
削するチップ部品の製造方法。1. A first method for forming a functional material on one surface of a substrate.
A step of forming a dividing slit on the substrate on which the functional material is formed, and a third step of dividing the substrate on which the functional material is formed along the dividing slit, and the division in the second step A method of manufacturing a chip component, wherein a rotary machining blade having a sharp angle shape having a hardness higher than that of a substrate is used as a means for forming a slit for use, and the rotary machining blade is pressure-cut in a direction perpendicular to the substrate.
な面に加工面を設置し、加工裏面より分割用スリットに
沿って機械的応力を加える事により分割する請求項1に
記載のチップ部品の製造方法。2. The chip component according to claim 1, wherein the substrate on which the dividing slit is formed is divided by providing a processed surface on a flat surface and applying a mechanical stress from the processed back surface along the dividing slit. Manufacturing method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5181157A JPH0737708A (en) | 1993-07-22 | 1993-07-22 | Manufacture of chip component |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5181157A JPH0737708A (en) | 1993-07-22 | 1993-07-22 | Manufacture of chip component |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0737708A true JPH0737708A (en) | 1995-02-07 |
Family
ID=16095890
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5181157A Pending JPH0737708A (en) | 1993-07-22 | 1993-07-22 | Manufacture of chip component |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0737708A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003086408A (en) * | 2001-09-11 | 2003-03-20 | Mitsubishi Materials Corp | Method of manufacturing chip resistor |
US7145106B2 (en) | 2002-06-05 | 2006-12-05 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Heater module for semiconductor manufacturing equipment |
-
1993
- 1993-07-22 JP JP5181157A patent/JPH0737708A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003086408A (en) * | 2001-09-11 | 2003-03-20 | Mitsubishi Materials Corp | Method of manufacturing chip resistor |
US7145106B2 (en) | 2002-06-05 | 2006-12-05 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Heater module for semiconductor manufacturing equipment |
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