JPH07328490A - ロータリーアトマイザの噴霧盤 - Google Patents
ロータリーアトマイザの噴霧盤Info
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- JPH07328490A JPH07328490A JP6132085A JP13208594A JPH07328490A JP H07328490 A JPH07328490 A JP H07328490A JP 6132085 A JP6132085 A JP 6132085A JP 13208594 A JP13208594 A JP 13208594A JP H07328490 A JPH07328490 A JP H07328490A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B3/00—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements
- B05B3/02—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements
- B05B3/10—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces
- B05B3/1007—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces characterised by the rotating member
- B05B3/1021—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces characterised by the rotating member with individual passages at its periphery
Landscapes
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Nozzles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 安価な材料で、腐蝕に耐え、かつ磨耗にも耐
えるロータリーアトマイザの噴霧盤を提供する。 【構成】 ロータリーアトマイザ１の噴霧盤１７の表面
に、Ｎｉ−５％Ａｌのアンダーコート２２と、Ａｌ2 Ｏ
3 のセラミックスの被膜２３を溶射にて形成し、さら
に、セラミックスの被膜２３に樹脂を含浸せしめた。
えるロータリーアトマイザの噴霧盤を提供する。 【構成】 ロータリーアトマイザ１の噴霧盤１７の表面
に、Ｎｉ−５％Ａｌのアンダーコート２２と、Ａｌ2 Ｏ
3 のセラミックスの被膜２３を溶射にて形成し、さら
に、セラミックスの被膜２３に樹脂を含浸せしめた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ロータリーアトマイザ
の噴霧盤に関し、詳しくはゴミ焼却炉における燃焼排ガ
スに含まれる酸性ガス成分、例えば、硫黄酸化物等を中
和するために、アルカリ性のスラリーを噴霧するのに好
適なロータリーアトマイザの噴霧盤に関する。
の噴霧盤に関し、詳しくはゴミ焼却炉における燃焼排ガ
スに含まれる酸性ガス成分、例えば、硫黄酸化物等を中
和するために、アルカリ性のスラリーを噴霧するのに好
適なロータリーアトマイザの噴霧盤に関する。
【０００２】
【従来の技術】ゴミ焼却時に出る燃焼排ガスに含まれる
酸性ガス成分を中和するために、アルカリ性のスラリー
を噴霧するロータリーアトマイザの噴霧盤は、スラリー
のアルカリと燃焼排ガス中の酸性ガス成分とが反応して
生成する塩類やもともと燃焼排ガス中に含まれる酸によ
り、噴霧盤の腐食が発生する可能性があり、耐久性に問
題が生ずるばかりでなく、噴霧盤のアンバランスにより
ロータリーアトマイザの振動の原因及び増速機構の損傷
の原因にもなっている。
酸性ガス成分を中和するために、アルカリ性のスラリー
を噴霧するロータリーアトマイザの噴霧盤は、スラリー
のアルカリと燃焼排ガス中の酸性ガス成分とが反応して
生成する塩類やもともと燃焼排ガス中に含まれる酸によ
り、噴霧盤の腐食が発生する可能性があり、耐久性に問
題が生ずるばかりでなく、噴霧盤のアンバランスにより
ロータリーアトマイザの振動の原因及び増速機構の損傷
の原因にもなっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この腐食を防止するた
めに、ハステロイやインコネルといった耐蝕性の高い特
殊合金の使用や、セラミックスの溶射被膜加工が考えら
れるが、特殊合金は高価な材料であり、また、セラミッ
クスの大気中における溶射被膜加工は、被膜中に小孔や
微小クラックが存在し、小孔から基材にアルカリや酸が
侵入して腐蝕を生じたり、噴霧盤の高速回転の遠心力で
生ずる応力による剥離がでる。
めに、ハステロイやインコネルといった耐蝕性の高い特
殊合金の使用や、セラミックスの溶射被膜加工が考えら
れるが、特殊合金は高価な材料であり、また、セラミッ
クスの大気中における溶射被膜加工は、被膜中に小孔や
微小クラックが存在し、小孔から基材にアルカリや酸が
侵入して腐蝕を生じたり、噴霧盤の高速回転の遠心力で
生ずる応力による剥離がでる。
【０００４】そこで本発明は、安価な材料で、腐蝕に耐
え、かつ磨耗にも耐えるロータリーアトマイザの噴霧盤
を提供することを目的としている。
え、かつ磨耗にも耐えるロータリーアトマイザの噴霧盤
を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため本発明は、本体ケースに内蔵した増速機構の出力軸
先端に取付けられるロータリーアトマイザの噴霧盤にお
いて、該噴霧盤の表面にＮｉ−Ａｌ系あるいはＮｉ−Ｃ
ｒ系のアンダーコートと、アルミナ系のセラミックスの
被膜を溶射にて形成し、さらに、該セラミックスの被膜
に樹脂を含浸せしめたことを特徴としている。
ため本発明は、本体ケースに内蔵した増速機構の出力軸
先端に取付けられるロータリーアトマイザの噴霧盤にお
いて、該噴霧盤の表面にＮｉ−Ａｌ系あるいはＮｉ−Ｃ
ｒ系のアンダーコートと、アルミナ系のセラミックスの
被膜を溶射にて形成し、さらに、該セラミックスの被膜
に樹脂を含浸せしめたことを特徴としている。
【０００６】
【作 用】上記構成によれば、アルカリや酸に対して抵
抗力の強いセラミックスでコーティングされ、かつ樹脂
を含浸させることにより強度的に安定したものとなる。
抗力の強いセラミックスでコーティングされ、かつ樹脂
を含浸させることにより強度的に安定したものとなる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明を、図面に示す実施例に基づい
て、さらに詳細に説明する。
て、さらに詳細に説明する。
【０００８】ロータリーアトマイザ１は、チャンバ２上
部の取付板３に設置されるもので、該ロータリーアトマ
イザ１は、本体ケース４の上部に駆動モータ５を備え、
本体ケース４には、スラリー等の供給管６と、高圧エア
ー供給装置７からのエアー供給管８とが接続されてい
る。
部の取付板３に設置されるもので、該ロータリーアトマ
イザ１は、本体ケース４の上部に駆動モータ５を備え、
本体ケース４には、スラリー等の供給管６と、高圧エア
ー供給装置７からのエアー供給管８とが接続されてい
る。
【０００９】本体ケース４は、取付板３の上部に着脱可
能に設けられる円筒状の上部ケース９と、取付板３の下
部に着脱可能に設けられる逆円錐形状の下部ケース１０
とから構成され、上部ケース９内には、増速機構を内蔵
した円筒ケース１１が着脱可能に設けられ、下部ケース
１０内は、内側の潤滑油タンク１２と、該潤滑油タンク
１２外側の冷却室１３との二重構造に形成されている。
能に設けられる円筒状の上部ケース９と、取付板３の下
部に着脱可能に設けられる逆円錐形状の下部ケース１０
とから構成され、上部ケース９内には、増速機構を内蔵
した円筒ケース１１が着脱可能に設けられ、下部ケース
１０内は、内側の潤滑油タンク１２と、該潤滑油タンク
１２外側の冷却室１３との二重構造に形成されている。
【００１０】円筒ケース１１の下部から突出する増速機
構の出力軸１４は、潤滑油タンク１２内に形成された円
筒部１５と、下部ケース１０の潤滑油タンク１２下部に
形成された出力軸挿通孔１６を貫通し、下部ケース１０
下端から突出する先端に噴霧盤１７を取付けている。
構の出力軸１４は、潤滑油タンク１２内に形成された円
筒部１５と、下部ケース１０の潤滑油タンク１２下部に
形成された出力軸挿通孔１６を貫通し、下部ケース１０
下端から突出する先端に噴霧盤１７を取付けている。
【００１１】出力軸挿通孔１６の側面には、冷却室１３
内を貫通して設けられたエアー供給管８と連通するエア
ー供給口１８が開口し、また、下部ケース１０の下面に
は、冷却室１３内を貫通して設けられたスラリー等の供
給管６と連通するスラリー等の供給口１９が複数個等間
隔に開口し、さらに、下部ケース１０の下面には、図示
していない別のエアー供給管から冷却室１３に供給され
る高圧エアーを噴霧盤１７上面に高速噴気するエアー噴
出口２０が周状に開口している。
内を貫通して設けられたエアー供給管８と連通するエア
ー供給口１８が開口し、また、下部ケース１０の下面に
は、冷却室１３内を貫通して設けられたスラリー等の供
給管６と連通するスラリー等の供給口１９が複数個等間
隔に開口し、さらに、下部ケース１０の下面には、図示
していない別のエアー供給管から冷却室１３に供給され
る高圧エアーを噴霧盤１７上面に高速噴気するエアー噴
出口２０が周状に開口している。
【００１２】噴霧盤１７は、側面に複数の噴射ノズル２
１を等間隔に備え、出力軸１４によって高速回転し、ス
ラリー等の供給口１９から供給されるスラリー等を、回
転による遠心力で噴射ノズル２１からチャンバ２内に噴
射して噴霧化する。
１を等間隔に備え、出力軸１４によって高速回転し、ス
ラリー等の供給口１９から供給されるスラリー等を、回
転による遠心力で噴射ノズル２１からチャンバ２内に噴
射して噴霧化する。
【００１３】噴霧盤１７は、その表面にＮｉ−５％Ａｌ
のアンダーコート２２と、アルミナ系（Ａｌ2 Ｏ3 ）セ
ラミックスの被膜２３を溶射にて形成し、さらに、該セ
ラミックスの被膜２３にアクリル系の樹脂を含浸させて
いる。
のアンダーコート２２と、アルミナ系（Ａｌ2 Ｏ3 ）セ
ラミックスの被膜２３を溶射にて形成し、さらに、該セ
ラミックスの被膜２３にアクリル系の樹脂を含浸させて
いる。
【００１４】この表面加工は、噴霧盤１７をアルカリ浴
にて脱脂後、ショットブラストで錆、酸化物の除去及び
表面の粗面化をして、Ｎｉ−５％Ａｌを溶射して膜厚２
００μｍ±５０μｍのアンダーコート２２を形成し、こ
の上に膜厚３００μｍ±５０μｍのＡｌ2 Ｏ3 のセラミ
ックスの被膜２３を溶射にて形成する。尚、アンダーコ
ート２２はＮｉ−Ｃｒでも良い。
にて脱脂後、ショットブラストで錆、酸化物の除去及び
表面の粗面化をして、Ｎｉ−５％Ａｌを溶射して膜厚２
００μｍ±５０μｍのアンダーコート２２を形成し、こ
の上に膜厚３００μｍ±５０μｍのＡｌ2 Ｏ3 のセラミ
ックスの被膜２３を溶射にて形成する。尚、アンダーコ
ート２２はＮｉ−Ｃｒでも良い。
【００１５】セラミックスの被膜２３を形成した後に、
セラミックスの封孔処理のために、アクリル系の熱硬化
型樹脂を減圧下でセラミックスの被膜２３に充填し、の
ち加圧して含浸させ、加熱硬化する含浸工程を２回行
う。
セラミックスの封孔処理のために、アクリル系の熱硬化
型樹脂を減圧下でセラミックスの被膜２３に充填し、の
ち加圧して含浸させ、加熱硬化する含浸工程を２回行
う。
【００１６】このように加工された噴霧盤１７は、セラ
ミックスの被膜２３の小孔や微小クラックに樹脂が含浸
されることによって、アルカリや酸の侵入を防止できて
耐蝕性が向上できると共に、セラミックスの被膜２３の
靭性が向上し、高速回転の遠心力で生ずる応力による剥
離を防止でき、強度的に安定した噴霧盤１７を形成でき
るので、コスト的にも安価なものとすることができる。
ミックスの被膜２３の小孔や微小クラックに樹脂が含浸
されることによって、アルカリや酸の侵入を防止できて
耐蝕性が向上できると共に、セラミックスの被膜２３の
靭性が向上し、高速回転の遠心力で生ずる応力による剥
離を防止でき、強度的に安定した噴霧盤１７を形成でき
るので、コスト的にも安価なものとすることができる。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ロータリ
ーアトマイザの噴霧盤の表面に、Ｎｉ−Ａｌ系あるいは
Ｎｉ−Ｃｒ系のアンダーコートと、アルミナ系のセラミ
ックスの被膜を溶射にて形成し、さらに、該セラミック
スの被膜に樹脂を含浸せしめたから、セラミックスの被
膜の小孔や微小クラックに樹脂が含浸されることによっ
て、アルカリや酸の侵入を防止できて耐蝕性が向上でき
ると共に、セラミックスの被膜の靭性が向上し、高速回
転の遠心力で生ずる応力による剥離を防止し、強度的に
安定してコスト的にも安価なものとすることができる。
ーアトマイザの噴霧盤の表面に、Ｎｉ−Ａｌ系あるいは
Ｎｉ−Ｃｒ系のアンダーコートと、アルミナ系のセラミ
ックスの被膜を溶射にて形成し、さらに、該セラミック
スの被膜に樹脂を含浸せしめたから、セラミックスの被
膜の小孔や微小クラックに樹脂が含浸されることによっ
て、アルカリや酸の侵入を防止できて耐蝕性が向上でき
ると共に、セラミックスの被膜の靭性が向上し、高速回
転の遠心力で生ずる応力による剥離を防止し、強度的に
安定してコスト的にも安価なものとすることができる。
【図１】 本発明の一実施例を示す拡大断面図である。
【図２】 溶射被膜の拡大図である。
【図３】 ロータリーアトマイザーの取付状態の正面図
である。
である。
【図４】 ロータリーアトマイザーの正面図である。
１…ロータリーアトマイザ、２…チャンバ、４…本体ケ
ース、１４…出力軸、１７…噴霧盤、２２…アンダーコ
ート、２３…セラミックスの被膜
ース、１４…出力軸、１７…噴霧盤、２２…アンダーコ
ート、２３…セラミックスの被膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 洞口 光弘 神奈川県横浜市中区錦町12番地 三菱重工 業株式会社横浜研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 本体ケースに内蔵した増速機構の出力軸
先端に取付けられるロータリーアトマイザの噴霧盤にお
いて、該噴霧盤の表面にＮｉ−Ａｌ系あるいはＮｉ−Ｃ
ｒ系のアンダーコートと、アルミナ系のセラミックスの
被膜を溶射にて形成し、さらに、該セラミックスの被膜
に樹脂を含浸せしめたことを特徴とするロータリーアト
マイザの噴霧盤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13208594A JP3511181B2 (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | ロータリーアトマイザの噴霧盤の表面加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13208594A JP3511181B2 (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | ロータリーアトマイザの噴霧盤の表面加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07328490A true JPH07328490A (ja) | 1995-12-19 |
| JP3511181B2 JP3511181B2 (ja) | 2004-03-29 |
Family
ID=15073153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13208594A Expired - Fee Related JP3511181B2 (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | ロータリーアトマイザの噴霧盤の表面加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3511181B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103920608A (zh) * | 2013-01-10 | 2014-07-16 | 林文斌 | 用于旋转喷头的氧化铝陶瓷材料及润滑方法 |
| JP2014184634A (ja) * | 2013-03-22 | 2014-10-02 | Seiko Epson Corp | 流路ユニット、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、及び、流路ユニットの製造方法 |
| EP2349582B1 (de) | 2008-11-07 | 2015-06-03 | Dürr Systems GmbH | Beschichtetes beschichtungsanlagenbauteil, insbesondere glockenteller, und entsprechendes herstellungsverfahren |
| EP2612710B1 (de) | 2009-12-08 | 2018-02-07 | Dürr Systems AG | Lackieranlagenbauteil mit einer modifizierten oberfläche |
| CN117504540A (zh) * | 2023-11-08 | 2024-02-06 | 南京华瑞微集成电路有限公司 | 一种cvd尾气处理设备 |
-
1994
- 1994-06-14 JP JP13208594A patent/JP3511181B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2349582B1 (de) | 2008-11-07 | 2015-06-03 | Dürr Systems GmbH | Beschichtetes beschichtungsanlagenbauteil, insbesondere glockenteller, und entsprechendes herstellungsverfahren |
| US10471445B2 (en) | 2008-11-07 | 2019-11-12 | Dürr Systems GmbH | Coating machine component including a functional element that is a coating |
| EP2349582B2 (de) † | 2008-11-07 | 2023-01-18 | Dürr Systems AG | Beschichtetes beschichtungsanlagenbauteil, insbesondere glockenteller, und entsprechendes herstellungsverfahren |
| EP2612710B1 (de) | 2009-12-08 | 2018-02-07 | Dürr Systems AG | Lackieranlagenbauteil mit einer modifizierten oberfläche |
| EP2509714B1 (de) | 2009-12-08 | 2018-02-07 | Dürr Systems AG | Lackieranlagenbauteil mit einer modifizierten oberfläche |
| EP2509714B2 (de) † | 2009-12-08 | 2020-06-24 | Dürr Systems AG | Lackieranlagenbauteil mit einer modifizierten oberfläche |
| CN103920608A (zh) * | 2013-01-10 | 2014-07-16 | 林文斌 | 用于旋转喷头的氧化铝陶瓷材料及润滑方法 |
| JP2014184634A (ja) * | 2013-03-22 | 2014-10-02 | Seiko Epson Corp | 流路ユニット、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、及び、流路ユニットの製造方法 |
| CN117504540A (zh) * | 2023-11-08 | 2024-02-06 | 南京华瑞微集成电路有限公司 | 一种cvd尾气处理设备 |
| CN117504540B (zh) * | 2023-11-08 | 2024-05-07 | 南京华瑞微集成电路有限公司 | 一种cvd尾气处理设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3511181B2 (ja) | 2004-03-29 |
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