JPH07326283A - Multiple cold cathode electron source, driving method thereof, and image forming device - Google Patents

Multiple cold cathode electron source, driving method thereof, and image forming device

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JPH07326283A
JPH07326283A JP11711994A JP11711994A JPH07326283A JP H07326283 A JPH07326283 A JP H07326283A JP 11711994 A JP11711994 A JP 11711994A JP 11711994 A JP11711994 A JP 11711994A JP H07326283 A JPH07326283 A JP H07326283A
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cathode electron
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博彰 戸島
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    • H01J2201/30Cold cathodes
    • H01J2201/316Cold cathodes having an electric field parallel to the surface thereof, e.g. thin film cathodes
    • H01J2201/3165Surface conduction emission type cathodes

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  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce irregularity of brightness in forming a visible image even when irregularity is generated in resistance value characteristics of a cold cathode electron source by connecting a group of resistors having a specified resistance value serially to a wiring connected to the electron source. CONSTITUTION:Specific resistances 53-1-53-n are serially inserted into a wiring between a cold cathode electron source and a signal side driving part 52. As the type of the resistance 53, a thin film resistor, a thick film resistor, a chip part, etc., may be used, and in the case of forming it after the cold cathode electron source for an image display panel is completed, a surface-mount type chip resistor or resistor module element is favorably used. For a resistance value R of the resistance 53, apparent irregularity of the resistance value of the element is set to be a specified percentage or less by specified operation based on an average resistance value and the maximum irregularity of the resistance value of a surface conduction type electron emission element (SCE).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、冷陰極電子源を略同一
平面上に2次元的に複数個配設したマルチ冷陰極電子源
と、該マルチ冷陰極電子源を用いた画像表示装置及び電
子源の駆動方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multi-cold-cathode electron source in which a plurality of cold-cathode electron sources are two-dimensionally arranged on a substantially same plane, and an image display device using the multi-cold-cathode electron source. The present invention relates to a driving method of an electron source.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電子源としては、熱電子源と冷陰
極電子源の2種類が知られている。冷陰極電子源として
は、電界放出型(以下、FEと記す)、金属/絶縁層/
金属(以下、MIMと記す)や表面伝導型電子放出素子
を用いたもの等がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, two types of electron sources are known: a thermoelectron source and a cold cathode electron source. As a cold cathode electron source, a field emission type (hereinafter referred to as FE), metal / insulating layer /
There are those using a metal (hereinafter referred to as MIM) or a surface conduction electron-emitting device.

【0003】FE型の例としては、W.P.Dyke&W.W.Dola
n,"Fieldemission",Advance in Electron Physics,8,8
9,(1956)等が知られている。
As an example of the FE type, WP Dyke & W.W.Dola
n, "Field emission", Advance in Electron Physics, 8,8
9, (1956) etc. are known.

【0004】MIM型の例としては、C.A.Mead,"The Tu
nnel-emissionamplifier,J.Appl.Phys,32,646(1961) や
C.A.Spindt,"Physical properties of thin-film field
emission cathodes with Molybdenum cones",J.Appl.P
hys,47,5248,(1976)等が知られている。
As an example of the MIM type, CAMead, "The Tu
nnel-emissionamplifier, J.Appl.Phys, 32,646 (1961) and
CASpindt, "Physical properties of thin-film field
emission cathodes with Molybdenum cones ", J.Appl.P
hys, 47, 5248, (1976) and the like are known.

【0005】表面伝導型電子放出素子の例としては、M.
I.Elinson, Radio Eng.Electron Phys.,10,(1965)等が
ある。
As an example of the surface conduction electron-emitting device, M.
I. Elinson, Radio Eng. Electron Phys., 10, (1965).

【0006】表面伝導型電子放出素子は、基板上に形成
された小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことに
より、電子放出が生ずる現象を利用するものである。こ
の表面伝導型電子放出素子としては、前記Elinson 等に
よるSnO2薄膜を用いたもの、Au薄膜によるもの[G.Dittm
er:"Thin Solid Films",9,317(1972)]、In203/SnO2薄膜
によるもの[M.Hartwell and C.G.Fonstad:"IEEE Trans.
ED Conf.",519,(1975)] 、カーボン薄膜によるもの[荒
木 久 他:真空、第26巻、第1号、22ページ(198
3)]等が報告されている。
The surface conduction electron-emitting device utilizes a phenomenon that electron emission occurs when a current is passed through a thin film of a small area formed on a substrate in parallel with the film surface. As the surface conduction electron-emitting device, one using the SnO2 thin film by Elinson et al., One using the Au thin film [G. Dittm
er: "Thin Solid Films", 9,317 (1972)], In203 / SnO2 thin film [M.Hartwell and CGFonstad: "IEEE Trans.
ED Conf. ", 519, (1975)], by carbon thin film [Hiraki Araki et al .: Vacuum, Vol. 26, No. 1, p. 22 (198)
3)] etc. have been reported.

【0007】これらの表面伝導型電子放出素子の典型的
な素子構成として、前述のM.Hartwellの素子構成を図1
6に示す。この図において901は、絶縁性基板であ
る。902は電子放出部形成用薄膜であり、スパッタリ
ングで形成されたH型形状の金属酸化物薄膜等からな
り、後述のフォーミングと呼ばれる通電処理により電子
放出部903が形成される。904は、電子放出部90
3を含む薄膜と呼ぶ。
As a typical device configuration of these surface conduction electron-emitting devices, the device configuration of M. Hartwell described above is shown in FIG.
6 shows. In this figure, 901 is an insulating substrate. Reference numeral 902 denotes an electron emitting portion forming thin film, which is made of an H-shaped metal oxide thin film formed by sputtering and the like, and the electron emitting portion 903 is formed by an energization process called forming described later. 904 is an electron emitting portion 90
A thin film containing 3 is called.

【0008】従来、これらの表面伝導型電子放出素子に
おいては、電子放出を行なう前に電子放出部形成用薄膜
902に予めフォーミングと呼ばれる通電処理を施すこ
とによって電子放出部903を形成するのが一般的であ
った。即ち、フォーミングとは、前記電子放出部形成用
薄膜902の両端に電圧を印加し、電子放出部形成用薄
膜を局所的に破壊、変形もしくは変質せしめ、電気的に
高抵抗な状態にした電子放出部903を形成することで
ある。以下、フォーミングにより発生した電子放出部9
03を含む電子放出部形成用薄膜を、電子放出部を含む
薄膜904と呼ぶ。
Conventionally, in these surface conduction electron-emitting devices, the electron-emitting portion 903 is generally formed by subjecting the electron-emitting portion forming thin film 902 to an energization process called forming in advance before electron emission. It was target. That is, the forming means that a voltage is applied to both ends of the electron emitting portion forming thin film 902 to locally destroy, deform or alter the electron emitting portion forming thin film, and the electron emission is made into an electrically high resistance state. To form the portion 903. Hereinafter, the electron emitting portion 9 generated by forming
The thin film for forming an electron emitting portion including 03 is referred to as a thin film 904 including an electron emitting portion.

【0009】前述のフォーミング処理をした表面伝導型
電子放出素子は、上述の電子放出部を含む薄膜904に
電圧を印加し、素子表面に電流を流すことにより、上述
の電子放出部903より電子を放出せしめるものであ
る。
In the surface conduction electron-emitting device which has been subjected to the above-mentioned forming treatment, a voltage is applied to the thin film 904 including the above-mentioned electron-emitting portion and a current is caused to flow on the surface of the device, so that electrons are emitted from the above-mentioned electron-emitting portion 903. It is something that can be released.

【0010】さらに、通常はフォーミング工程の終了後
に、「活性化」と呼ばれる工程が導入されている。この
目的は、フォーミングにより高抵抗化された表面伝導型
電子放出素子に一定の電圧を一定時間通電し続けること
によって、電子放出量を増加せしめることにある。
Furthermore, a step called "activation" is usually introduced after the forming step is completed. The purpose of this is to increase the electron emission amount by continuing to supply a constant voltage for a certain time to the surface conduction electron-emitting device whose resistance has been increased by forming.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上述のフォーミングと
呼ばれる通電処理の工程においては、電子放出部形成用
薄膜902の初期抵抗が、重要なパラメータとなる。
In the energization process called forming described above, the initial resistance of the electron emission portion forming thin film 902 is an important parameter.

【0012】例えば、行方向、列方向に複数の電子放出
部形成用薄膜902を形成し、これにたいしてフォーミ
ング処理を施す場合を考える。例えば、行毎に順次電圧
を印加していく過程で行単位に通電処理を行い、これを
繰り返すことでフォーミング処理を実施する場合を想定
する。このとき、各行及び列を構成する各表面伝導型電
子放出素子の抵抗値は、必ずしも一定の値に形成されな
い。
For example, consider a case in which a plurality of electron emission portion forming thin films 902 are formed in the row direction and the column direction, and a forming process is performed on the thin films. For example, it is assumed that energization processing is performed row by row in the process of sequentially applying a voltage to each row, and the forming processing is performed by repeating this. At this time, the resistance value of each surface conduction electron-emitting device forming each row and column is not necessarily formed to be a constant value.

【0013】この場合、各行単位での行中には印加電圧
に分布がないと仮定したとしても、各素子の抵抗値に分
布があれば、素子の抵抗値の低い素子の方がより大きな
電流が流れ、先にフォーミングが完了する。このこと
は、行を構成している各素子において、フォーミング工
程(フォーミングの開始から通電終了までの)に費やさ
れている時間(以下、フォーミング時間と記す)が異な
ることを示している。例えば、ある行についてみた時、
最初にフォーミング開始した素子においては、同じ行の
最後の素子のフォーミングが終了するまで電圧の印加が
継続されることになり、その間、その素子においては活
性化が進行する。
In this case, even if it is assumed that the applied voltage does not have a distribution in each row, if the resistance value of each element has a distribution, the element having a lower resistance value has a larger current. And the forming is completed first. This indicates that the time spent in the forming process (from the start of forming to the end of energization) (hereinafter referred to as forming time) is different in each element forming the row. For example, when you look at a line,
In the element which started forming first, the voltage application is continued until the formation of the last element in the same row is completed, and in the meantime, activation progresses in that element.

【0014】さらに、各行間(列方向)においても表面
伝導型電子放出素子の抵抗値の分布が存在する。従っ
て、この場合も上記、各行内部での現象と同様に、ある
行のフォーミングが終了しても、最後まで残った行のフ
ォーミングが完了するまで電圧の印加が継続されてしま
う。そのため、先にフォーミングが終了した行に於いて
は活性化が進行してしまう。
Furthermore, there is a distribution of the resistance value of the surface conduction electron-emitting device even between the rows (in the column direction). Therefore, also in this case, similarly to the phenomenon inside each row, even when the forming of a certain row is completed, the voltage application is continued until the forming of the remaining rows is completed. Therefore, activation progresses in the row where the forming has been completed first.

【0015】上記、2つの例でのフォーミング時間のバ
ラツキは、各行内、もしくは行間を構成する表面伝導型
電子放出素子の抵抗値の分布を反映する。すなわち、構
成する素子毎に活性化時間に差異が生じてしまうことを
示している。
The variations in the forming time in the above two examples reflect the distribution of the resistance values of the surface conduction electron-emitting devices which form each row or between rows. That is, it is shown that the activation time varies depending on the constituent elements.

【0016】上述の様にして作製された各表面伝導型電
子放出素子の特性は、活性化時間がバラツキを持ってい
るため、ある駆動電圧における電子ビームの放出量に分
布が発生する。このため、画像表示装置を形成した際に
輝度の分布が生じる要因となる。
The characteristics of each surface conduction electron-emitting device manufactured as described above have a variation in activation time, so that a distribution occurs in the amount of electron beam emission at a certain drive voltage. For this reason, a luminance distribution occurs when the image display device is formed.

【0017】本発明では、上記の問題点に鑑みてなされ
たものであり、マルチ冷陰極電子源を構成する個々の冷
陰極電子源の抵抗値特性にばらつきが生じても、可視画
像の形成時における輝度のばらつきを低減するマルチ冷
陰極電子源、電子源の駆動方法及び画像表示装置を提供
することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and when a visible image is formed even when the resistance value characteristics of the individual cold cathode electron sources forming the multi cold cathode electron source vary. It is an object of the present invention to provide a multi-cold-cathode electron source, a method for driving the electron source, and an image display device that reduce the variation in brightness in the display.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】及び[Means for Solving the Problems] and

【作用】上記の目的を達成するための本発明によるマル
チ冷陰極電子源は、複数の第1配線及び複数の第2配線
と、前記第1及び第2配線のそれぞれの1つに接続さ
れ、略同一平面上に配設された複数の冷陰極電子源と、
前記複数の第1配線の夫々に直列に接続された所定の抵
抗値を有する抵抗群とを備えることを特徴とする。
A multi-cold-cathode electron source according to the present invention for achieving the above object is connected to a plurality of first wirings and a plurality of second wirings, and to each one of the first and second wirings. A plurality of cold cathode electron sources arranged on substantially the same plane,
And a resistor group having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of first wirings.

【0019】発明者等は、各表面伝導型電子放出素子の
電子ビームの放出量のばらつきは、各表面伝導がた放出
素子に流れる電流のばらつきと強い相関があることを見
出している。
The inventors have found that the variation in the amount of electron beam emitted from each surface conduction electron-emitting device has a strong correlation with the variation in the current flowing through each surface-conduction type electron-emitting device.

【0020】上記構成によれば、各冷陰極電子源に関し
て駆動側からみた冷陰極電子源の駆動時の抵抗値が、第
1配線に接続された抵抗群の抵抗値と冷陰極電子源の固
有の抵抗値との和となる。抵抗群の抵抗値は略同一値で
あるため、駆動側からみた冷陰極電子源の抵抗値のばら
つきの率を相対的に減少させることができる。即ち、駆
動時に各冷陰極電子源に流れる電流値のばらつきを減少
させることが可能となり、画像表示装置を構成した際に
輝度のばらつきを低減できる。
According to the above structure, the resistance value of each cold cathode electron source when driving the cold cathode electron source as viewed from the driving side is the resistance value of the resistor group connected to the first wiring and the peculiarities of the cold cathode electron source. It becomes the sum with the resistance value of. Since the resistance values of the resistance groups are substantially the same, the rate of variation in the resistance value of the cold cathode electron source viewed from the driving side can be relatively reduced. That is, it is possible to reduce the variation in the value of the current flowing through each cold cathode electron source during driving, and it is possible to reduce the variation in the brightness when the image display device is configured.

【0021】また、前記複数の第2配線の夫々に直列に
接続された所定の抵抗値を有する抵抗群を更に備えた構
成とすることもできる。このように構成すれば、1つの
冷陰極電子源に対して2つの抵抗が接続されることにな
るので、各抵抗における熱の発生を低減できる。
It is also possible to further include a resistor group having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of second wirings. According to this structure, since two resistors are connected to one cold cathode electron source, heat generation in each resistor can be reduced.

【0022】また、上記の目的を達成する本発明の他の
構成のマルチ冷陰極電子源は、複数の行方向配線と、前
記複数の行方向配線のそれぞれとほぼ直交して設けられ
た複数の列方向配線と、前記複数の行方向配線及び複数
の列方向配線のそれぞれの1つに接続された複数の冷陰
極電子源と、前記複数の列方向配線のそれぞれに直列に
接続された所定の抵抗値を有する抵抗とを備えることを
特徴とする。
Further, a multi-cold-cathode electron source having another structure of the present invention which achieves the above-mentioned object is provided with a plurality of row-direction wirings and a plurality of row-direction wirings provided substantially orthogonal to the respective row-direction wirings. A column direction wiring, a plurality of cold cathode electron sources connected to each one of the plurality of row direction wirings and a plurality of column direction wirings, and a predetermined series connection to each of the plurality of column direction wirings And a resistor having a resistance value.

【0023】このように構成することで、駆動側からみ
た各冷陰極電子源の抵抗値のばらつきを低減させるとと
もに、いわゆるマトリクス配線への適用が容易となり、
画像表示装置への組込みが容易となる。
With this structure, it is possible to reduce the variation in the resistance value of each cold cathode electron source viewed from the driving side and to easily apply it to so-called matrix wiring.
It can be easily incorporated into an image display device.

【0024】また、好ましくは、前記抵抗の各々の抵抗
値Rが、前記複数の冷陰極電子源の平均抵抗値をr,抵
抗値のばらつきの最大値をΔr、駆動側よりみた各冷陰
極電子源の抵抗値の目標とするばらつき範囲をy%とし
たときに、 R=((100×Δr)/y)−r で表わされる抵抗値に設定される。このような設定によ
り、目標とするばらつき範囲yを2%に設定して得られ
た抵抗値Rを採用すれば、通常のディスプレイにおいて
輝度のばらつきを満足できる範囲に抑えることができ
る。更に、目標とするばらつき範囲yを1%に設定して
得られた抵抗値Rを採用すれば、輝度のばらつきを高品
位テレビ用のディスプレイとして満足できる範囲に抑え
ることができる。
Further, preferably, the resistance value R of each of the resistors is r, an average resistance value of the plurality of cold cathode electron sources, Δr is a maximum value of variation in resistance values, and each cold cathode electron viewed from the driving side. When the target variation range of the resistance value of the source is y%, the resistance value is set to R = ((100 × Δr) / y) -r. With such a setting, if the resistance value R obtained by setting the target variation range y to 2% is adopted, it is possible to suppress the variation in brightness to a range that can be satisfied in a normal display. Further, if the resistance value R obtained by setting the target variation range y to 1% is adopted, the variation in brightness can be suppressed to a range that can be satisfied as a display for a high-definition television.

【0025】また、好ましくは、前記冷陰極電子源は、
電子放出部形成用薄膜に通電処理を施すことで電子放出
部が形成される表面伝導型電子放出素子である。
Also, preferably, the cold cathode electron source is
It is a surface conduction electron-emitting device in which an electron-emitting portion is formed by applying an electric current to a thin film for forming an electron-emitting portion.

【0026】また、上記の目的を達成する本発明の画像
表示装置は、複数の行方向配線と、前記複数の行方向配
線のそれぞれとほぼ直交して設けられた複数の列方向配
線と、前記複数の行方向配線及び複数の列方向配線のそ
れぞれの1つに接続された複数の冷陰極電子源と、前記
複数の列方向配線のそれぞれに直列に接続された所定の
抵抗値を有する抵抗と、前記複数の行方向配線の夫々を
順次駆動可能状態に切り替える走査手段と、前記走査手
段により駆動可能状態にある行方向配線上の冷陰極電子
源の各々に前記抵抗及び列方向配線を介して駆動信号を
印加する印加手段と、前記走査手段及び印加手段により
駆動された冷陰極電子源から放出された電子を蛍光体に
照射して各画素を発光し、可視像を形成する形成手段
と、を備えることを特徴とする。
Further, the image display device of the present invention which achieves the above object, comprises a plurality of row direction wirings, a plurality of column direction wirings provided substantially orthogonal to each of the plurality of row direction wirings, and A plurality of cold cathode electron sources connected to each one of a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, and a resistor having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of column-direction wirings A scanning unit that sequentially switches each of the plurality of row-direction wiring lines to a drivable state, and a cold cathode electron source on the row-direction wiring line that is in a drivable state by the scanning unit via the resistance and column-direction wiring lines. Applying means for applying a drive signal; and forming means for irradiating the phosphor with electrons emitted from the cold cathode electron source driven by the scanning means and the applying means to cause each pixel to emit light to form a visible image. To be equipped with And butterflies.

【0027】上記の構成によれば、走査手段と印加手段
によりある冷陰極電子源が駆動されたとき、その冷陰極
電子源には所定の抵抗値を有する抵抗が直列に接続され
たのと等価な状態となる。このように、各冷陰極電子源
の駆動時に所定の抵抗値を有する抵抗が直列に接続され
た状態を等価的に形成することで、冷陰極電子源の駆動
時には所定の抵抗値が加わることになり、各冷陰極電子
源に流れる電流のばらつきが低減される。
According to the above construction, when a cold cathode electron source is driven by the scanning means and the applying means, it is equivalent to a resistor having a predetermined resistance value being connected in series to the cold cathode electron source. It will be in a state. Thus, by equivalently forming a state in which resistors having a predetermined resistance value are connected in series when each cold cathode electron source is driven, a predetermined resistance value is added when the cold cathode electron source is driven. Therefore, the variation in the current flowing through each cold cathode electron source is reduced.

【0028】[0028]

【実施例】本発明者等は、表面伝導型放出素子の中で
は、電子放出部もしくはその周辺部を微粒子膜から形成
したものが電子放出特性上、あるいは大面積にわたって
多数個を製造する上で好ましいことを見出している。
The present inventors have found that among surface-conduction type electron-emitting devices, those in which an electron-emitting portion or its peripheral portion is formed of a fine particle film are used in terms of electron-emitting characteristics or in manufacturing a large number over a large area. I find it preferable.

【0029】そこで、以下に述べる本発明の実施例の項
では、微粒子膜を用いて形成した表面伝導型放出素子を
マルチ電子ビーム源として用いた画像表示装置を、本発
明の好ましい例として説明する。
Therefore, in the following description of the embodiments of the present invention, an image display device using a surface conduction electron-emitting device formed by using a fine particle film as a multi-electron beam source will be described as a preferred example of the present invention. .

【0030】本発明は、冷陰極電子源の中でも、とりわ
け多数個の素子を容易に形成できる表面伝導型電子放出
素子を用いた単純マトリックス方式の冷陰極マルチ電子
源において、優れた効果をもたらすものである。
Among the cold cathode electron sources, the present invention brings excellent effects particularly in a simple matrix cold cathode multi electron source using a surface conduction electron-emitting device capable of easily forming a large number of devices. Is.

【0031】従って、まず、本実施例で用いる表面伝導
型電子放出素子、及びこれを用いた画像表示パネルにつ
いて説明する。
Therefore, first, the surface conduction electron-emitting device used in this embodiment and the image display panel using the same will be described.

【0032】表面伝導型電子放出素子の代表的な構成、
製造方法及び特性については、例えば特開平2−568
22に開示されている。以下、本出願人による本発明に
かかわる表面伝導型電子放出素子の基本的な構成と製造
方法及び特性について概説する。
Typical structure of the surface conduction electron-emitting device,
For the manufacturing method and characteristics, see, for example, JP-A-2-568.
22 are disclosed. The basic configuration, manufacturing method and characteristics of the surface conduction electron-emitting device according to the present invention by the applicant will be outlined below.

【0033】[基本的な構成]図7は、本実施例に用い
られる模範的な電子放出素子の構成を示す図面である。
図において、1は絶縁性基板、5と6は素子電極、4は
電子放出部を含む薄膜、3は電子放出部である。
[Basic Structure] FIG. 7 is a view showing the structure of an exemplary electron-emitting device used in this embodiment.
In the figure, 1 is an insulating substrate, 5 and 6 are device electrodes, 4 is a thin film including an electron emitting portion, and 3 is an electron emitting portion.

【0034】電子放出部を含む薄膜4のうち電子放出部
3としては、粒径が数nmの電気伝導性粒子からなり、
電子放出部3以外の電子放出部を含む薄膜4は、微粒子
膜よりなる。なお、ここで述べる微粒子膜とは、複数の
微粒子が集合した膜であり、その微細構造としては、微
粒子が個々に分散した状態のみならず、微粒子が互いに
隣接或は重なりあった状態(島状をも含む)の膜をもさ
すものである。
Of the thin film 4 including the electron emitting portion, the electron emitting portion 3 is made of electrically conductive particles having a particle diameter of several nm.
The thin film 4 including the electron emitting portions other than the electron emitting portion 3 is a fine particle film. The fine particle film described here is a film in which a plurality of fine particles are aggregated, and its fine structure is not only in a state in which the fine particles are individually dispersed but also in a state in which the fine particles are adjacent to each other or overlap each other (island shape). Including) also refers to the film.

【0035】電子放出部を含む薄膜4の具体例として
は、Rd,Ru,Ag,Au,Ti,In,Cu,Cr,Fe,Zn,Sn,Ta,W,Pb等の金
属、PdO,SnO2,In2O3,PbO,Sb2O3等の酸化物、HfB2,ZrB2,
LaB6,CeB6,YB4,GdB4等のホウ化物、TiC,ZrC,HfC,TaC,Si
C,WC等の炭化物、TiN,ZrN,HfN等の窒化物、Si,Ge 等の
半導体、さらにはカーボン、AgMg,NiCu,PbSn等が挙げら
れる。
Specific examples of the thin film 4 including the electron emitting portion include metals such as Rd, Ru, Ag, Au, Ti, In, Cu, Cr, Fe, Zn, Sn, Ta, W, Pb, PdO, SnO2. , Oxides such as In2O3, PbO, Sb2O3, HfB2, ZrB2,
Borides such as LaB6, CeB6, YB4, GdB4, TiC, ZrC, HfC, TaC, Si
Examples thereof include carbides such as C and WC, nitrides such as TiN, ZrN and HfN, semiconductors such as Si and Ge, carbon, AgMg, NiCu and PbSn.

【0036】[製造方法の概要]上述した薄膜の形成方
法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、化学的気
相成長法、分散塗布法、ディッピング法、スピナー法等
が挙げられる。
[Outline of Manufacturing Method] Examples of the method for forming the above-mentioned thin film include a vacuum deposition method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a dispersion coating method, a dipping method and a spinner method.

【0037】電子放出部3を有する電子放出素子の形成
方法としては様々な方法が考えられるが、その一例を図
8に示す。図8において、2は電子放出部形成用薄膜で
あり、例えば微粒子膜があげられる。尚、電子放出部形
成用薄膜2とは電子放出部3が形成される前の薄膜を指
す。
Various methods are conceivable as a method for forming the electron-emitting device having the electron-emitting portion 3, and an example thereof is shown in FIG. In FIG. 8, reference numeral 2 denotes a thin film for forming an electron emitting portion, which is, for example, a fine particle film. The electron emitting portion forming thin film 2 refers to a thin film before the electron emitting portion 3 is formed.

【0038】次に、図8を参照しつつ、本実施例の表面
伝導型電子放出素子の形成方法を説明する。
Next, a method for forming the surface conduction electron-emitting device of this embodiment will be described with reference to FIG.

【0039】(1)絶縁性基板1を洗剤、純水及び有機
溶剤により十分に洗浄後、真空蒸着技術、フォトリング
ラフィー技術により、該絶縁性基板1の面上に素子電極
5、6を形成する(図8(a))。素子電極の材料とし
ては伝導性を有するものであればどのようなものであっ
ても構わないが、例えばニッケル金属が挙げられ、本例
では、素子電極間隔L1は2μm、素子電極長さW1は
300μm、素子電極5、6の膜厚dは100nmであ
る。
(1) After the insulating substrate 1 is thoroughly washed with a detergent, pure water and an organic solvent, the device electrodes 5 and 6 are formed on the surface of the insulating substrate 1 by the vacuum deposition technique and the photolinography technique. (FIG. 8A). Any material may be used as the material of the element electrodes as long as it has conductivity. For example, nickel metal may be used. In this example, the element electrode interval L1 is 2 μm and the element electrode length W1 is The film thickness d of the device electrodes 5 and 6 is 100 μm.

【0040】(2)絶縁性基板1上に設けられた素子電
極5と6との間に、素子電極5と6を形成してある絶縁
性基板1上に有機金属溶液を塗布して放置することによ
り、有機金属薄膜を形成する。なお、有機金属溶液と
は、前記Rd,Ru,Ag,Au,Ti,In,Cu,Cr,Fe,Zn,Sn,Ta,W,Pb等
の金属を主元素とする有機化合物の溶液である。この
後、有機金属薄膜を過熱焼成処理してリフトオフ、エッ
チング等によりパターニングし、電子放出部形成用薄膜
2を形成する(図8(b))。
(2) Between the device electrodes 5 and 6 provided on the insulating substrate 1, an organic metal solution is applied to the insulating substrate 1 on which the device electrodes 5 and 6 are formed and left to stand. As a result, an organic metal thin film is formed. The organic metal solution is a solution of an organic compound containing a metal such as Rd, Ru, Ag, Au, Ti, In, Cu, Cr, Fe, Zn, Sn, Ta, W, Pb as a main element. . Then, the organometallic thin film is subjected to heating treatment by heating and patterned by lift-off, etching or the like to form the thin film 2 for forming an electron emitting portion (FIG. 8B).

【0041】(3)続いて、フォーミングと呼ばれる通
電処理を行う。この処理によれば、素子電極5、6間に
電圧を印加することにより、電子放出部形成用薄膜2
に、構造の変化した電子放出部3が形成される(図8
(c))。即ち、この通電処理によって電子放出部形成
用薄膜2を局所的に破壊、変形もしくは変質せしめるこ
とで得られる構造の変化した部位を電子放出部3と呼
ぶ。先に説明した様に電子放出部3は金属微粒子で構成
されている場合があることを本出願人らは観察してい
る。
(3) Subsequently, energization processing called forming is performed. According to this process, by applying a voltage between the device electrodes 5 and 6, the thin film 2 for forming an electron emission portion is formed.
The electron emitting portion 3 having a changed structure is formed on the surface (FIG. 8).
(C)). That is, a portion having a changed structure obtained by locally destroying, deforming, or modifying the electron-emitting-portion-forming thin film 2 by this energization process is called an electron-emitting portion 3. The applicants have observed that the electron emitting portion 3 may be composed of metal fine particles as described above.

【0042】[素子の基本的特性]上述のような製造方
法によって作成され、上述のような素子構成を有する電
子放出素子の基本特性について図9と図10を用いて説
明する。
[Basic Characteristics of Element] Basic characteristics of an electron-emitting device having the above-described element structure produced by the above-described manufacturing method will be described with reference to FIGS. 9 and 10.

【0043】図9は、図7で示した構成を有する電子放
出素子の電子放出特性を測定するための測定評価装置の
概略構成図である。図9において、1は絶縁性基板、
5、6は素子電極、4は電子放出部を含む薄膜、3は電
子放出部を示す。また、31は素子に素子電圧Vf を印
加するための電源、30は素子電極5、6間の電子放出
部を含む薄膜4を流れる素子電流If を測定する為の電
流計、34は素子の電子放出部より放出される放出電流
Ie を捕捉する為のアノード電極、33はアノード電極
34に電圧を印加する為の高圧電源、32は素子の電子
放出部3より放出される放出電流Ie を測定する為の電
流計である。
FIG. 9 is a schematic block diagram of a measurement / evaluation apparatus for measuring electron emission characteristics of the electron-emitting device having the configuration shown in FIG. In FIG. 9, 1 is an insulating substrate,
Reference numerals 5 and 6 are device electrodes, 4 is a thin film including an electron emitting portion, and 3 is an electron emitting portion. Further, 31 is a power source for applying a device voltage Vf to the device, 30 is an ammeter for measuring a device current If flowing through the thin film 4 including the electron emitting portion between the device electrodes 5 and 6, and 34 is an electron of the device. An anode electrode for capturing the emission current Ie emitted from the emission portion, 33 is a high voltage power source for applying a voltage to the anode electrode 34, and 32 is an emission current Ie emitted from the electron emission portion 3 of the device. Ammeter for the purpose.

【0044】電子放出素子の上記素子電流If 、放出電
流Ie の測定にあたっては、素子電極5、6に電源31
と電流計30とを接続し、該電子放出素子の上方に電源
33と電流計32とを接続したアノード電極34を配置
している。また、本電子放出素子及びアノード電極34
は真空装置内に設置され、その真空装置には排気ポンプ
及び真空計等の真空装置に必要な機器が具備されてお
り、所望の真空下にて本素子の測定評価を行なえるよう
になっている。なお、アノード電極の電圧は1〜10k
V、アノード電極と電子放出素子との距離Hは3〜8m
mの範囲で測定した。
To measure the above-mentioned device current If and emission current Ie of the electron-emitting device, the power supply 31 is applied to the device electrodes 5 and 6.
And an ammeter 30 are connected to each other, and an anode electrode 34 to which a power source 33 and an ammeter 32 are connected is arranged above the electron-emitting device. Further, the electron-emitting device and the anode electrode 34
Is installed in a vacuum device, and the vacuum device is equipped with equipment necessary for a vacuum device such as an exhaust pump and a vacuum gauge, so that this device can be measured and evaluated under a desired vacuum. There is. The voltage of the anode electrode is 1 to 10k.
V, the distance H between the anode electrode and the electron-emitting device is 3 to 8 m
It was measured in the range of m.

【0045】図9に示した測定評価装置により測定され
た放出電流Ie 及び素子電流If と素子電圧Vf の関係
の典型的な例を図10に示す。なお、図10は任意単位
で示されており、放出電流Ie は素子電流If のおよそ
1000分の1程度である。図からも明らかなように、
本電子放出素子は放出電流Ie に対して3つの特性を有
する。
FIG. 10 shows a typical example of the relationship between the emission current Ie and the device current If and the device voltage Vf measured by the measurement / evaluation apparatus shown in FIG. Note that FIG. 10 is shown in arbitrary units, and the emission current Ie is about 1/1000 of the device current If. As is clear from the figure,
This electron-emitting device has three characteristics with respect to the emission current Ie.

【0046】第1に、本素子はある電圧(閾値電圧と呼
ぶ、図10中のVth)以上の素子電圧を印加すると、急
激に放出電流Ie が増加し、一方、閾値電圧以下では放
出電流Ie がほとんど検出されない。即ち、放出電流I
e に対する明確な閾値電圧Vthを持った非線形素子であ
る。
First, in the present device, when a device voltage higher than a certain voltage (called a threshold voltage, Vth in FIG. 10) is applied, the emission current Ie rapidly increases, while below the threshold voltage, the emission current Ie. Is hardly detected. That is, the emission current I
It is a non-linear element having a clear threshold voltage Vth for e.

【0047】第2に、放出電流Ie が素子電圧Vf に依
存する為、放出電流Ie は素子電圧Vf で制御できる。
Secondly, since the emission current Ie depends on the device voltage Vf, the emission current Ie can be controlled by the device voltage Vf.

【0048】第3に、アノード電極34に捕捉される電
荷量は、素子電圧Vf を印加する時間により制御でき
る。
Thirdly, the amount of charge trapped in the anode electrode 34 can be controlled by the time for which the device voltage Vf is applied.

【0049】以上のような特性を有する為、上述の電子
放出素子は、多方面への応用が期待される。また、素子
電流If は素子電圧Vf に対して単調増加する(MI)
特性の例を図10に示したが、この他にも、素子電流I
f が素子電圧Vf に対して電圧制御型負性抵抗(VCNR)
特性を示す場合もある。この場合も電子放出素子は上述
した3つの特性を有する。なお、予め導電性微粒子を分
散して構成した表面伝導型電子放出素子においては、上
述の基本的な素子構成における基本的な製造方法の一部
を変更しても構成できる。
Since the electron-emitting device has the above characteristics, it is expected to be applied to various fields. Further, the device current If increases monotonically with the device voltage Vf (MI).
An example of the characteristics is shown in FIG. 10, but in addition to this, the device current I
f is a voltage controlled negative resistance (VCNR) with respect to the device voltage Vf
It may also show characteristics. Also in this case, the electron-emitting device has the above-mentioned three characteristics. The surface conduction electron-emitting device in which the conductive fine particles are dispersed in advance can be configured by partially changing the basic manufacturing method in the above-described basic device configuration.

【0050】[画像表示パネル]次に、上述の表面伝導
型電子放出素子を用いた画像表示パネルの構成例につい
て図11を参照して説明する。
[Image Display Panel] Next, an example of the configuration of an image display panel using the above-mentioned surface conduction electron-emitting device will be described with reference to FIG.

【0051】本発明が適用されるからカラー画像表示装
置の代表的な構成としては、まず、上述の特開平2−5
6822のような製造方法により作成される電子放出素
子を複数個、基板101上に形成する。該基板101を
リアプレート102上に固定した後、基板101の5m
m上方にフェースプレート110(ガラス基板107の
内面に蛍光体膜108とメタルバック109が形成され
て構成される)を支持枠103を介して配置する。フェ
ースプレート110、支持枠103、リアプレート10
2の接合部にフリットガラスを塗布し、大気中もしくは
窒素雰囲気中にて400℃ないし500℃で10分間以
上焼成することで封着した。また、リアプレート102
への基板101の固定もフリットガラスにて行なった。
As a typical configuration of a color image display device to which the present invention is applied, first, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 2-5
A plurality of electron-emitting devices manufactured by a manufacturing method such as 6822 are formed on the substrate 101. After fixing the substrate 101 on the rear plate 102, 5 m of the substrate 101
A face plate 110 (configured by forming a phosphor film 108 and a metal back 109 on the inner surface of a glass substrate 107) is arranged above the support frame 103. Face plate 110, support frame 103, rear plate 10
Frit glass was applied to the joint portion of No. 2 and baked by baking at 400 ° C. to 500 ° C. for 10 minutes or more in the air or in a nitrogen atmosphere for sealing. Also, the rear plate 102
The substrate 101 was also fixed to the frit glass.

【0052】また、図11において、104は電子放出
部、105、106は夫々X方向及びY方向の素子電極
である。なお、ここではフェースプレート110、支持
枠103、リアプレート102で外囲器111を構成し
ているが、リアプレート102は主に基板101の強度
を補強する目的で設けられる為、基板101自体で十分
な強度を有する場合には、別体のリアプレート102は
不要である。この場合、基板101に直接、支持枠10
3を封着し、フェースプレート110、支持枠103、
基板101にて外囲器111を構成する。また、蛍光体
膜108の内面側には、通常、メタルバック109が設
けられる。メタルバックの目的は、蛍光体の発光のうち
内面側への光をフェースプレート110側へ鏡面反射す
ることにより輝度を向上すること、電子ビーム加速電圧
を印加する為の電極として作用すること、外囲器内で発
生した負イオンの衝突によるダメージから蛍光体を保護
すること等である。
Further, in FIG. 11, 104 is an electron emitting portion, and 105 and 106 are element electrodes in the X and Y directions, respectively. Although the face plate 110, the support frame 103, and the rear plate 102 form the envelope 111 here, since the rear plate 102 is provided mainly for the purpose of reinforcing the strength of the substrate 101, the substrate 101 itself is used. If it has sufficient strength, the separate rear plate 102 is unnecessary. In this case, the support frame 10 is directly attached to the substrate 101.
3, the face plate 110, the support frame 103,
The substrate 101 constitutes the envelope 111. A metal back 109 is usually provided on the inner surface side of the phosphor film 108. The purpose of the metal back is to improve the brightness by specularly reflecting the light to the inner surface side of the light emitted from the phosphor to the face plate 110 side, to act as an electrode for applying an electron beam accelerating voltage, and This is to protect the phosphor from damage caused by collision of negative ions generated in the enclosure.

【0053】メタルバックは、蛍光体膜作成後、蛍光体
膜の内面の平滑処理(通常フィルミングと呼ばれる)を
行ない、その後Alを真空蒸着することで作成する。フ
ェースプレート110には、さらに蛍光体膜108の伝
導性を高める為、蛍光体膜108の外面側に透明電極
(図示せず)が設けられる場合もある。前述の封着を行
なう際、カラー画像表示装置の場合には、各色に対応す
る蛍光体と電子放出素子との位置合わせを十分に行なう
必要がある。このようにして作成されるガラス容器内の
雰囲気を排気管(図示せず)を通じて真空ポンプにて排
気し、十分な真空度に達した後、容器外端子Dx1〜Dxm
とDy1〜Dyn を通じ素子電極105、106間に電圧
を印加し、前述のフォーミング処理を実施し、電子放出
部104を形成して電子放出素子を作成する。
The metal back is formed by performing a smoothing process (usually called filming) on the inner surface of the phosphor film after forming the phosphor film, and then vacuum-depositing Al. The face plate 110 may be provided with a transparent electrode (not shown) on the outer surface side of the phosphor film 108 in order to further enhance the conductivity of the phosphor film 108. When performing the above-mentioned sealing, in the case of a color image display device, it is necessary to sufficiently align the phosphors corresponding to the respective colors with the electron-emitting devices. The atmosphere in the glass container thus created is exhausted by a vacuum pump through an exhaust pipe (not shown), and after reaching a sufficient degree of vacuum, the external terminals Dx 1 to Dx m
And Dy 1 a voltage is applied between the device electrodes 105 and 106 through the ~Dy n, implemented forming process described above, to create the electron-emitting device by forming an electron emission portion 104.

【0054】最後に、ガラス容器内が10-6トール程度
の真空度にて排気管を熱して溶着し、外囲器の封止を行
ない完成する。さらに、封止後に容器内の真空度を維持
する為に、ゲッター処理なる工程を実施する。これは、
封止を行なう直前あるいは封止後に、抵抗加熱あるいは
高周波加熱により、画像表示装置の所定の位置(図示せ
ず)に配設されたゲッターを加熱して蒸着膜を形成する
処理である。ゲッターとしては、通常、Ba 等が主成分
であり、該蒸着膜の吸着作用により真空度を維持するも
のである。
Finally, the inside of the glass container is heated and welded at a vacuum degree of about 10 -6 torr to seal and seal the envelope. Further, in order to maintain the degree of vacuum in the container after sealing, a step called getter processing is carried out. this is,
Immediately before or after the sealing, resistance heating or high-frequency heating is used to heat a getter arranged at a predetermined position (not shown) of the image display device to form a vapor deposition film. As the getter, Ba or the like is usually the main component, and the degree of vacuum is maintained by the adsorption action of the deposited film.

【0055】以上のような製造方法により構成される画
像表示装置において、各電子放出素子には容器外端子D
x1〜DxmないしDy1〜Dyn を通じて電圧を印加するこ
とにより電子放出させる。また高圧端子Hv を通じてメ
タルバック109または透明電極に数kV以上の高圧を
印加することにより電子ビームを加速し、蛍光体膜10
8に衝突させて蛍光体を励起・発光させることにより画
像が形成される。もちろん、これらの構成は画像表示装
置を作成する上で必要な構成の概略であり、各部材の材
料等は上述の内容に限るものではない。
In the image display device constructed by the above manufacturing method, each electron-emitting device has a terminal D outside the container.
emit electrons by to not x 1 ~Dx m applying a voltage through Dy 1 ~Dy n. Further, by applying a high voltage of several kV or more to the metal back 109 or the transparent electrode through the high voltage terminal Hv, the electron beam is accelerated and the phosphor film 10 is formed.
An image is formed by colliding with 8 to excite and emit the phosphor. Of course, these configurations are the outlines of the configurations necessary for producing the image display device, and the materials and the like of each member are not limited to the above contents.

【0056】蛍光体膜108は、モノクローム表示の場
合には蛍光体のみからなる。一方、カラー表示の場合
は、図12に示すように、蛍光体の配列によりブラック
ストライプ(図12の(A))あるいはブラックマトリ
クス(図12の(B))と呼ばれる黒色電気伝導材料1
2と蛍光体13とで構成される。黒色電気伝導材12が
設けられる目的は、カラー表示の場合に必要となる三原
色蛍光体の、各蛍光体13の塗りわけ部分を黒くするこ
とで混色等を目立たなくすること、蛍光体膜108にお
ける外光反射によるコントラストの低下を抑制すること
でにある。該黒色電気伝導材料12としては、通常、黒
鉛を主成分とするものが多いが、電気伝導性があり、光
の透過および反射が少ない材料であれば、これに限られ
るものではない。
In the case of monochrome display, the phosphor film 108 is made of only phosphor. On the other hand, in the case of color display, as shown in FIG. 12, a black electrically conductive material 1 called a black stripe ((A) in FIG. 12) or a black matrix ((B) in FIG. 12) depending on the arrangement of phosphors.
2 and phosphor 13. The purpose of providing the black electrically conductive material 12 is to make the mixed colors of the three primary color phosphors necessary for color display inconspicuous by making the painted portions of each phosphor 13 black, and in the phosphor film 108. This is to suppress the decrease in contrast due to the reflection of external light. Many of the black electrically conductive materials 12 usually contain graphite as a main component, but the material is not limited to this as long as it is a material having electrical conductivity and little transmission and reflection of light.

【0057】また、ガラス基板107に蛍光体を塗布す
る方法としては、モノクロームの場合には沈殿法、印刷
法等がある。カラーでは、スラリー法等がある。もちろ
ん、カラーにて印刷法を用いることも可能である。
Further, as a method of applying the phosphor to the glass substrate 107, in the case of monochrome, there are a precipitation method, a printing method and the like. For color, there is a slurry method or the like. Of course, it is also possible to use a printing method in color.

【0058】[実施例1]次に、本発明の好適な実施例
を示して、例陰極電子ビーム源を用いた画像表示装置に
おける、輝度分布の補正方法を説明する。
[Embodiment 1] Next, a preferred embodiment of the present invention will be shown to explain a method of correcting the luminance distribution in an image display device using an example cathode electron beam source.

【0059】図1は、本実施例による画像表示パネルの
冷陰極電子源の構成を示すブロック図である。同図の
(A)の如く、本実施例の画像表示パネルは冷陰極電子
ビーム源の信号入力側の各列配線に固有抵抗を接続した
構成を有する。又、図1の(B)は、1つの表面伝導型
電子放出素子に着目した場合の、素子駆動時の等価回路
図を示す。
FIG. 1 is a block diagram showing the structure of the cold cathode electron source of the image display panel according to this embodiment. As shown in FIG. 9A, the image display panel of this embodiment has a structure in which a specific resistance is connected to each column wiring on the signal input side of the cold cathode electron beam source. In addition, FIG. 1B shows an equivalent circuit diagram at the time of driving the element when focusing on one surface conduction electron-emitting device.

【0060】まず図1を参照して本実施例の動作原理を
説明する。図1(A)は、画像表示装置を構成する冷陰
極電子源と該電子源と直列に接続された固有抵抗を示す
ものである。図1(A)のような単純マトリクスパネル
において、各画素を一つ一つを取り出してみると、夫々
の駆動時においては図1(B)のように単純な回路で表
わすことができる。以下、冷陰極電子源として、上述の
表面伝導型電子放出素子(SCE素子)を適用した例を
説明する。
First, the operating principle of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1A shows a cold cathode electron source that constitutes an image display device and a specific resistance connected in series with the electron source. In the simple matrix panel as shown in FIG. 1A, when each pixel is taken out individually, each pixel can be represented by a simple circuit as shown in FIG. 1B. Hereinafter, an example in which the above-mentioned surface conduction electron-emitting device (SCE device) is applied as a cold cathode electron source will be described.

【0061】図1において、固有抵抗の抵抗値をR
[Ω]、画像表示パネルを構成するフォーミング後の表
面伝導型電子放出素子の平均抵抗値をr[Ω]、抵抗値
のバラツキの最大値をΔrとすると、素子抵抗値のバラ
ツキの割合は、 Δr/(r+R)=k/A (Aは任意の実数) で表わされる。ここで、k/Aをy[%]以下におさえ
るとすると、 k/A≦y/100 と置き換えることができ、従って、 A≧(100・Δr)/(y・r) となる。以上より、 R≧((100・Δr)/y)−r …(1) が導かれる。
In FIG. 1, the resistance value of the specific resistance is R
[Ω], the average resistance value of the surface conduction electron-emitting device after forming which constitutes the image display panel is r [Ω], and the maximum resistance value variation is Δr, the ratio of the element resistance value variation is Δr / (r + R) = k / A (A is an arbitrary real number). Here, if k / A is suppressed to y [%] or less, k / A ≦ y / 100 can be replaced, and therefore A ≧ (100 · Δr) / (y · r). From the above, R ≧ ((100 · Δr) / y) −r (1) is derived.

【0062】即ち、見掛け上の抵抗値のバラツキをy
[%]以下にする為には、接続する固有抵抗の各抵抗値
は、((100・Δr)−r[Ω]以上の抵抗値を持っ
た抵抗とすればよいことがわかる。
That is, the variation in the apparent resistance value is y
It can be understood that each resistance value of the specific resistance to be connected may be a resistance having a resistance value of ((100 · Δr) −r [Ω] or more in order to reduce the resistance value to [%] or less.

【0063】ここで、画像表示パネルを構成する各表面
伝導型電子放出素子のΔr、rは画像表示パネルを作製
後に測定することが可能である。従って、駆動時のみか
けの抵抗分布を何%以下におさえるかを決定すれば、接
続する固有抵抗の値を決定することが可能となる。
Here, Δr, r of each surface conduction electron-emitting device that constitutes the image display panel can be measured after the image display panel is manufactured. Therefore, it is possible to determine the value of the specific resistance to be connected by determining what percentage or less the apparent resistance distribution during driving is kept.

【0064】一般に表示装置としての輝度ムラは3%以
下に抑えられればよく、更に2%以下に抑えられれば好
ましいとされている。従って、y=2もしくはy=3と
して固有抵抗の値を算出し、これを列方向配線(信号側
の配線)に直列に接続すればよい。更に、高品位テレビ
用のディスプレイにおける輝度ムラは1%以下に抑える
ことが好ましい。
Generally, it is said that the luminance unevenness as a display device should be suppressed to 3% or less, and further preferably to 2% or less. Therefore, the value of the specific resistance may be calculated with y = 2 or y = 3, and this may be connected in series to the column-direction wiring (wiring on the signal side). Further, it is preferable to suppress the luminance unevenness in the display for high definition television to 1% or less.

【0065】次に、固有抵抗の値を決定するために必要
なデータ、即ち各電子放出素子の抵抗値の測定方法、実
際に装着する固有抵抗の抵抗値の決定方法について説明
を加える。
Next, the data necessary for determining the value of the specific resistance, that is, the method of measuring the resistance value of each electron-emitting device and the method of determining the resistance value of the specific resistance to be actually mounted will be described.

【0066】 研究開発レベルもしくは少量生産の場
合 この場合は、例えば、発行パネルを構成する各素子にプ
ローブをあて、各素子の抵抗値を実際に直接測定し、そ
のデータよりΔr,rを計算する方法が、最も簡単かつ
正確な方法である。Δr,rが計算されれば、Rの値は
(1)式より容易に算出できる。
In the case of research and development level or small-volume production In this case, for example, a probe is applied to each element constituting the issuing panel, the resistance value of each element is directly measured, and Δr, r is calculated from the data. The method is the easiest and most accurate method. If Δr, r is calculated, the value of R can be easily calculated from the equation (1).

【0067】 大量生産時の場合 量産時においては、各パネル毎に全素子の抵抗値を実測
することは現実的ではない。量産時には、ある程度製造
プロセスも安定しているものとすれば、画像表示パネル
を構成する電子放出素子の平均抵抗値r及びばらつきΔ
rのデータを各ロット単位等で、抜き取り検査によって
蓄積しておき、このデータにより固有抵抗の値を決定す
ればよい。
In case of mass production In mass production, it is not realistic to measure the resistance value of all the elements for each panel. In mass production, assuming that the manufacturing process is stable to some extent, the average resistance value r and the variation Δ of the electron-emitting devices that form the image display panel.
The data of r may be accumulated for each lot or the like by sampling inspection, and the value of the specific resistance may be determined by this data.

【0068】以上のように、画像表示装置を構成する表
面伝導型電子放出素子において、走査側の素子を一群と
して直列に固有抵抗を接続する(即ち、信号側の取り出
し配線側の各列に固有抵抗を直列に接続する)ことによ
り、駆動時のみかけの各素子の抵抗値のバラツキを補償
できる。
As described above, in the surface conduction electron-emitting device that constitutes the image display device, the scanning side devices are connected as a group and the specific resistances are connected in series (that is, the specific wiring is unique to each column on the extraction wiring side on the signal side). By connecting the resistors in series), it is possible to compensate for the variation in the resistance value of each element during driving.

【0069】また、各表面伝導型電子放出素子に流れる
電流が直列に接続された固有抵抗によって支配され、か
つ一定の範囲内にバラツキの制御された電流となる。こ
のことにより、最終的に画像表示装置を構成する表面伝
導型電子放出素子より放出される電子ビーム量のバラツ
キが補償され、輝度分布が改善される。
Further, the current flowing through each surface conduction electron-emitting device is controlled by the specific resistance connected in series, and has a controlled variation within a certain range. As a result, variations in the amount of electron beams emitted from the surface conduction electron-emitting devices that finally constitute the image display device are compensated, and the luminance distribution is improved.

【0070】次に、図2を参照しつつ、第1の実施例を
説明する。図2は本実施例の画像表示装置の構成を表わ
すブロック図である。本実施例の構成は、走査側の素子
を一群として考え、信号側の各列に固有抵抗を形成する
ことを基本形としている。尚、図2は、回路記号を用い
てかかれた原理図であり、実際には、図3のようなパタ
ーンとなる。図3は、本実施例の冷陰極マルチ電子源の
形成パターンを表わす図である。
Next, the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the image display device of this embodiment. The configuration of the present embodiment is based on the consideration that the elements on the scanning side are considered as a group and a specific resistance is formed in each column on the signal side. Note that FIG. 2 is a principle diagram created by using circuit symbols, and actually has a pattern as shown in FIG. FIG. 3 is a diagram showing a formation pattern of the cold cathode multi-electron source of this embodiment.

【0071】図2において、51は走査駆動部であり、
走査側の各配線(行方向配線)の端子Dx1〜Dxmに対し
て負電圧を順次切り替えて印加する。尚、負電圧印加の
切り替えのタイミングは同期信号発生部54よりの同期
信号に同期して行われる。52は信号側駆動部であり、
各走査ライン毎に画像データに応じた信号(正電圧)を
印加する。信号側駆動部52は1走査ライン分の信号に
基づいてDy1〜Dynの各端子に信号を同時に印加する。
走査駆動部51との同期は、同期信号発生部54よりの
同期信号により行われる。このような構成により、走査
駆動部51により負電圧が印加された配線上の電子放出
素子のうち信号側駆動部52により正電圧が印加された
素子が駆動する。そして、駆動した電子放出素子に対向
する蛍光体を発光せしめ、可視画像を形成する。53-1
〜53-nは抵抗値Rを有する固有抵抗値である。
In FIG. 2, reference numeral 51 is a scan driver.
Sequentially switch and a negative voltage is applied to the terminal Dx 1 ~Dx m of each wiring of the scanning (row wirings). The timing of switching the negative voltage application is synchronized with the synchronization signal from the synchronization signal generator 54. 52 is a signal side drive unit,
A signal (positive voltage) corresponding to the image data is applied to each scanning line. The signal side driver 52 simultaneously applies a signal to the terminals of Dy 1 ~Dy n based on the signal of one scanning line.
The synchronization with the scan drive unit 51 is performed by the synchronization signal from the synchronization signal generation unit 54. With such a configuration, among the electron-emitting devices on the wiring to which the negative voltage is applied by the scan driving unit 51, the device to which the positive voltage is applied by the signal side driving unit 52 is driven. Then, the phosphor facing the driven electron-emitting device is caused to emit light to form a visible image. 53-1
53-n are specific resistance values having a resistance value R.

【0072】ここで、Dy1端子を有する列方向配線につ
ながる表面伝導型電子放出素子への電圧の印加状態を図
4を用いて説明する。尚、Dy1〜Dyn端子が信号側であ
り、Dx1〜Dxm端子が走査側である。図4に示されてい
るように、走査側の端子には負電圧が順次切り替えによ
り印加されていく。また、信号側の端子にはこの走査側
の端子への電圧印加の切り替えに同期して、各走査ライ
ン毎の表示信号(正の電圧)が印加される。例えば、端
子Dy1を有する列方向配線に接続された表面伝導型電子
放出素子(図2の(1,1)、(1,2)、(1,3)
…)の各々がオンとなるような場合、Dy1に対しては図
4の如きタイミングで電圧が印加される。
Here, the state of voltage application to the surface conduction electron-emitting device connected to the column direction wiring having the Dy 1 terminal will be described with reference to FIG. Incidentally, Dy 1 ~Dy n terminal is the signal side, Dx 1 ~Dx m terminal is scanning side. As shown in FIG. 4, a negative voltage is sequentially applied to the scanning-side terminal by switching. Further, a display signal (positive voltage) for each scanning line is applied to the signal side terminal in synchronization with the switching of voltage application to the scanning side terminal. For example, a surface conduction electron-emitting device ((1,1), (1,2), (1,3) in FIG. 2) connected to a column-direction wiring having a terminal Dy 1 .
.) Are turned on, a voltage is applied to Dy 1 at the timing shown in FIG.

【0073】このように、各列方向について1つずつの
電子放出素子が駆動されることになるので、前述の図1
(B)の如き等価回路が本実施例の冷陰極マルチ電子源
上の各電子放出素子について成立することになる。よっ
て、信号側の列方向配線に直列に接続された固有抵抗の
抵抗値Rにより、上述の(1)式が適用でき、各電子放
出素子に流れる電流のばらつきが低減される。
Since one electron-emitting device is driven in each column direction in this manner, the above-mentioned FIG.
The equivalent circuit as shown in (B) is established for each electron-emitting device on the cold cathode multi electron source of this embodiment. Therefore, the above equation (1) can be applied by the resistance value R of the specific resistance connected in series to the signal-side column direction wiring, and the variation in the current flowing through each electron-emitting device can be reduced.

【0074】次に、本実施例における固有抵抗の形成方
法について説明する。抵抗の種類としては、一般に、薄
膜プロセスを利用して形成される薄膜抵抗、抵抗ペース
ト等の印刷法により形成される厚膜抵抗、さらには、チ
ップ部品として供給される抵抗等がある。画像表示パネ
ルの冷陰極電子源が完成した後に補正用の抵抗を形成す
る場合には、薄膜プロセスや厚膜プロセスを再度実行す
ることは、実際問題として適切でない。従って、信号側
の各配線に固有抵抗を形成する場合には、表面実装用の
チップ抵抗を用いる方法(この場合のプロセスはかんた
んな熱工程のみである)、もしくはいくつかの抵抗がモ
ジュール化されている抵抗モジュール素子を用いるのが
適している。
Next, the method of forming the specific resistance in this embodiment will be described. Generally, the types of resistors include a thin film resistor formed by using a thin film process, a thick film resistor formed by a printing method such as a resistance paste, and a resistor supplied as a chip component. When the resistance for correction is formed after the cold cathode electron source of the image display panel is completed, it is actually not appropriate to execute the thin film process or the thick film process again. Therefore, when forming a specific resistance in each wiring on the signal side, a method of using a chip resistor for surface mounting (the process in this case is only a simple thermal process) or some resistors are modularized. It is suitable to use a resistive module element which is present.

【0075】ここで実施例1における固有抵抗の形成方
法について、図5に従って簡単に説明する。図中、1は
絶縁基板、41は取り出し配線用電極、42は電気伝導
性ペースト、43はチップ抵抗器、45はマトリクス部
分を示す。マトリクス部分について、表面伝導型電子放
出素子を形成(図5(A))後、走査側の取り出し配線
部分の電極に電気伝導性ペーストを印刷法もしくはディ
スペンサ等により塗布する(図5(B))。次に、表面
実装用チップ抵抗を所定の位置に部品セットし、熱工程
を経ることによりペーストが硬化し電気的に接続される
(図5(C))。
Here, the method of forming the specific resistance in the first embodiment will be briefly described with reference to FIG. In the figure, 1 is an insulating substrate, 41 is a take-out wiring electrode, 42 is an electrically conductive paste, 43 is a chip resistor, and 45 is a matrix portion. After forming a surface conduction electron-emitting device in the matrix portion (FIG. 5 (A)), an electrically conductive paste is applied to the electrodes of the lead-out wiring portion on the scanning side by a printing method or a dispenser (FIG. 5 (B)). . Next, the surface-mounting chip resistor is set at a predetermined position, and the paste is cured and electrically connected through a heating process (FIG. 5 (C)).

【0076】尚、本実施例1では、各行に接続される固
有抵抗の形成方法として、表面実装用のチップ抵抗器4
3を電気伝導性ペースト42により接着する方法を用い
た。尚、ここでは、Amicon製銀ペーストC-990 を用い、
120℃で1時間加熱することによりチップ抵抗器43
を接着させた。
In the first embodiment, as a method of forming the specific resistance connected to each row, the surface mounting chip resistor 4 is used.
The method of adhering 3 with the electrically conductive paste 42 was used. In this case, Amicon silver paste C-990 was used,
By heating at 120 ℃ for 1 hour, the chip resistor 43
Glued.

【0077】尚、接着の方法には、銀ペーストの他に、
はんだペーストを用いても良い。また、抵抗器の固定の
みを絶縁性ペーストで行ない、ワイヤーボンディング等
で電気的な接続を達成するようにしてもよい。
As a bonding method, in addition to the silver paste,
You may use solder paste. Alternatively, only the resistor may be fixed with the insulating paste, and the electrical connection may be achieved by wire bonding or the like.

【0078】本実施例1の場合、形成された表面伝導型
電子放出素子の抵抗値の平均rは約11kΩ、抵抗値の
バラツキΔrは±1.2kΩであった。この値より、抵
抗バラツキの抑制率を3%として固有抵抗の抵抗値を計
算すると、 R=29kΩ となる。この固有抵抗を接続した時、駆動時の外部印加
電圧を65.5Vにすることにより、各表面伝導型電子
放出素子に約18Vの電圧が印加されるようになり、素
子に流れる電流は固有抵抗Rに支配される。
In the case of Example 1, the average r of the resistance values of the formed surface conduction electron-emitting devices was about 11 kΩ, and the variation Δr of the resistance values was ± 1.2 kΩ. From this value, when the resistance value of the specific resistance is calculated by setting the resistance variation suppression rate to 3%, R = 29 kΩ. When this specific resistance is connected, by setting the externally applied voltage during driving to 65.5V, a voltage of about 18V is applied to each surface conduction electron-emitting device, and the current flowing through the device is the specific resistance. Controlled by R.

【0079】以上説明したように実施例1によれば、各
冷陰極マルチ電子源における各電子源間の抵抗のばらつ
きに基づく電子放出量のばらつきを所望の範囲に抑える
ことが可能となり、画像表示装置における輝度のばらつ
きが改善される。
As described above, according to the first embodiment, it becomes possible to suppress the variation in the electron emission amount due to the variation in the resistance between the electron sources in each cold cathode multi-electron source within a desired range, and display an image. The brightness variation in the device is improved.

【0080】[実施例2]信号側の配線に直列に接続さ
れる抵抗器としては上記実施例1に限られるものではな
い。例えば、抵抗ネットワーク等を用いて図11の如き
画像表示パネルに外付けするように構成してもよい。本
実施例2では、ベックマン(株)製の厚膜抵抗ネットワ
ークModelH10-33kΩを使用し、固有抵抗を画像表示パネ
ルに外付けした例を説明する。
[Embodiment 2] The resistor connected in series to the signal side wiring is not limited to that of Embodiment 1. For example, a resistor network or the like may be used to externally attach the image display panel as shown in FIG. In the second embodiment, an example in which a thick film resistance network Model H10-33 kΩ manufactured by Beckman Co., Ltd. is used and a specific resistance is externally attached to the image display panel will be described.

【0081】例えば、図6に示すごとく、抵抗ネットワ
ーク61を信号側配線の駆動用IC(信号側駆動部5
2)の出力端子に直列に接続することによって本発明の
構成を実現することが可能である。図6は、実施例2に
おける固有抵抗の装着状態を説明する図である。このよ
うな構成によれば、抵抗ネットワークをはんだ付けする
作業が画像表示パネルの外部で行われ、上記実施例1の
ように熱工程を付加する必要がなくなる。このため、画
像表示パネル側に悪影響を与えることがない。
For example, as shown in FIG. 6, the resistor network 61 is connected to a signal side wiring driving IC (signal side driving section 5).
The configuration of the present invention can be realized by connecting the output terminal of 2) in series. FIG. 6 is a diagram illustrating a mounting state of the specific resistance according to the second embodiment. With such a configuration, the work of soldering the resistor network is performed outside the image display panel, and it is not necessary to add a heating step as in the first embodiment. Therefore, the image display panel side is not adversely affected.

【0082】本実施例2の場合、画像パネルは実施例1
と同様のものとすれば、形成された表面伝導型電子放出
素子の抵抗値の平均rは約11kΩ、抵抗値のバラツキ
Δrは±1.2kΩであるから、抵抗バラツキの抑制率
を3%として固有抵抗の抵抗値を計算すると、R=29
kΩとなる。ここで、33kΩの抵抗ネットワークを用
いれば、バラツキ抑制率は3%よりも良好となる。この
固有抵抗を接続した時、駆動時の外部印加電圧を72V
にすることにより各表面伝導型電子放出素子に約18V
の電圧がかかる。また、素子に流れる電流は、主として
Rに支配される。
In the case of the second embodiment, the image panel is the first embodiment.
In the same manner as above, since the average r of the resistance values of the formed surface conduction electron-emitting device is about 11 kΩ and the variation Δr of the resistance value is ± 1.2 kΩ, the suppression rate of the resistance variation is 3%. When calculating the resistance value of the specific resistance, R = 29
It becomes kΩ. Here, if a 33 kΩ resistor network is used, the variation suppression rate is better than 3%. When this specific resistance is connected, the external voltage applied during driving is 72V.
About 18V to each surface conduction electron-emitting device
Voltage is applied. The current flowing through the element is mainly controlled by R.

【0083】以上説明したように、実施例2によれば、
固有抵抗を画像表示パネルの外側で固有抵抗の装着処理
が行われるので、画像表示パネルへの熱影響等を排除で
きる。
As described above, according to the second embodiment,
Since the mounting process of the specific resistance is performed outside the image display panel, it is possible to eliminate the influence of heat on the image display panel.

【0084】以上説明したように、上記各実施例によれ
ば、冷陰極マルチ電子源、特に表面伝導型電子放出素子
を用いた画像表示装置において、各画素を構成する表面
伝導型電子放出素子の特性を、パネルが完成した後に補
正用の固有抵抗を接続することにより、表面伝導型電子
放出素子に流れる電流を一定の範囲内に制御することが
可能となる。これにより、素子駆動時の電子の放出量の
ばらつきを抑えることができ、画像表示装置における輝
度のばらつきを改善することが可能となる。
As described above, according to each of the above embodiments, in the image display device using the cold cathode multi-electron source, especially the surface conduction electron-emitting device, the surface conduction electron-emitting device constituting each pixel is By connecting a characteristic resistance for correction after the panel is completed, it becomes possible to control the current flowing through the surface conduction electron-emitting device within a certain range. As a result, it is possible to suppress variations in the amount of electrons emitted when the elements are driven, and it is possible to improve variations in brightness in the image display device.

【0085】尚、上記各実施例では信号駆動側に固有抵
抗を挿入しているが、走査側の配線に固有抵抗を接続す
るようにすることもできる。この状態を図13に示す。
但し、このような構成とした場合、信号側駆動部52の
駆動方法は、図14に示すようなタイミングで、1素子
ずつ順次駆動するようにする。また、場合によっては、
Dy1〜Dynを同時に出力し、n素子ずつ順次駆動しても
よい。
In each of the above embodiments, the specific resistance is inserted on the signal drive side, but it is also possible to connect the specific resistance to the wiring on the scanning side. This state is shown in FIG.
However, in such a configuration, the driving method of the signal side driving section 52 is to sequentially drive one element at a time as shown in FIG. Also, in some cases,
It is also possible to output Dy 1 to Dy n at the same time and sequentially drive n elements at a time.

【0086】更に、図14の如き駆動方法によれば、固
有抵抗を信号側と駆動側の双方に接続した構成とするこ
ともできる。このように構成すれば、固有抵抗の抵抗値
を2分割することができ、個々の固有抵抗による発熱等
を抑えることができる。
Further, according to the driving method as shown in FIG. 14, the specific resistance can be connected to both the signal side and the driving side. According to this structure, the resistance value of the specific resistance can be divided into two, and heat generation or the like due to each specific resistance can be suppressed.

【0087】尚、上述した各実施例に適用された画像表
示パネルには各種の応用が可能であるが、以下にその代
表的な例を説明する。
The image display panel applied to each of the above-described embodiments can be applied in various ways, but typical examples will be described below.

【0088】図15は、前記説明のディスプレイパネル
に、たとえばテレビジョン放送をはじめとする種々の画
像情報源より提供される画像情報を表示できるように構
成した表示装置の一例を示すための図である。図中11
00はディスプレイパネル、1101はディスプレイパ
ネルの駆動回路、1102はディスプレイコントロー
ラ、1103はマルチプレクサ、1104はデコーダ、
1105は入出力インターフェース回路、1106はC
PU、1107は画像生成回路、1108および110
9および1110は画像メモリインターフェース回路、
1111は画像入力インターフェース回路、1112お
よび1113はTV信号受信回路、1114は入力部で
ある。
FIG. 15 is a diagram showing an example of a display device configured to display image information provided from various image information sources such as television broadcasting on the display panel described above. is there. 11 in the figure
00 is a display panel, 1101 is a display panel drive circuit, 1102 is a display controller, 1103 is a multiplexer, 1104 is a decoder,
1105 is an input / output interface circuit, 1106 is C
PU, 1107 is an image generation circuit, 1108 and 110.
9 and 1110 are image memory interface circuits,
Reference numeral 1111 is an image input interface circuit, 1112 and 1113 are TV signal receiving circuits, and 1114 is an input unit.

【0089】(なお、本図においては、テレビジョンを
はじめとする各入力信号の音声成分に関する処理回路や
スピーカなどは省略している。) 以下、画像信号の流れに沿って各部の機能を説明してゆ
く。
(It should be noted that, in this figure, the processing circuit for the audio component of each input signal such as a television, the speaker, etc. are omitted.) Hereinafter, the function of each part will be described along the flow of the image signal. Do it.

【0090】まず、TV信号受信回路1113は、たと
えば電波や空間光通信などのような無線伝送系を用いて
伝送されるTV画像信号を受信する為の回路である。受
信するTV信号の方式は特に限られるものではなく、た
とえば、NTSC方式,PAL方式,SECAM方式な
どの諸方式でもよい。また、これよりさらに多数の走査
線よりなるTV信号(たとえばMUSE方式をはじめと
するいわゆる高品位TV)は、大面積化や大画素数化に
適した前記ディスプレイパネルの利点を生かすのに好適
な信号源である。TV信号受信回路1113で受信され
たTV信号は、デコーダ1114に出力される。
First, the TV signal receiving circuit 1113 is a circuit for receiving a TV image signal transmitted using a wireless transmission system such as radio waves or spatial optical communication. The system of the TV signal to be received is not particularly limited, and for example, various systems such as NTSC system, PAL system and SECAM system may be used. Further, a TV signal (for example, a so-called high-definition TV such as the MUSE system) including a larger number of scanning lines than this is suitable for taking advantage of the display panel suitable for a large area and a large number of pixels. It is a signal source. The TV signal received by the TV signal receiving circuit 1113 is output to the decoder 1114.

【0091】また、TV信号受信回路1112は、たと
えば同軸ケーブルや光ファイバーなどのような有線伝送
系を用いて伝送されるTV画像信号を受信するための回
路である。前記TV信号受信回路1113と同様に、受
信するTV信号の方式は特限られるものではなく、また
本回路で受信されたTV信号もデコーダ1104に出力
される。
The TV signal receiving circuit 1112 is a circuit for receiving a TV image signal transmitted using a wire transmission system such as a coaxial cable or an optical fiber. Similar to the TV signal receiving circuit 1113, the system of the TV signal to be received is not particularly limited, and the TV signal received by this circuit is also output to the decoder 1104.

【0092】また、画像入力インターフェース回路11
11は、たとえばTVカメラや画像読み取りスキャナな
どの画像入力装置から供給される画像信号を取り込むた
めの回路で、取り込まれた画像信号はデコーダ1104
に出力される。
Further, the image input interface circuit 11
Reference numeral 11 denotes a circuit for capturing an image signal supplied from an image input device such as a TV camera or an image reading scanner. The captured image signal is a decoder 1104.
Is output to.

【0093】また、画像メモリインターフェース回路1
110は、ビデオテープレコーダ(以下VTRと略す)
に記憶されている画像信号を取り込むための回路で、取
り込まれた画像信号はデコーダ1104に出力される。
Further, the image memory interface circuit 1
110 is a video tape recorder (hereinafter abbreviated as VTR)
The circuit for fetching the image signal stored in is output to the decoder 1104.

【0094】また、画像メモリインターフェース回路1
109は、ビデオディスクに記憶されている画像信号を
取り込むための回路で、取り込まれた画像信号はデコー
ダ1104に出力される。
Further, the image memory interface circuit 1
Reference numeral 109 is a circuit for capturing the image signal stored in the video disc, and the captured image signal is output to the decoder 1104.

【0095】また、画像メモリインターフェース回路1
108は、いわゆる静止画ディスクのように、静止画像
データを記憶している装置から画像信号を取り込むため
の回路で、取り込まれた静止画像データはデコーダ11
04に出力される。
Further, the image memory interface circuit 1
Reference numeral 108 denotes a circuit for capturing an image signal from a device that stores still image data, such as a so-called still image disk. The captured still image data is decoded by the decoder 11
It is output to 04.

【0096】また、入出力インターフェース回路110
5は、本表示装置と、外部のコンピュータもしくはコン
ピュータネットワークもしくはプリンタなどの出力装置
とを接続するための回路である。画像データや文字・図
形情報の入出力を行うのはもちろんのこと、場合によっ
ては本表示装置の備えるCPU1106と外部との間で
制御信号や数値データの入出力などを行うことも可能で
ある。
Further, the input / output interface circuit 110
Reference numeral 5 is a circuit for connecting the present display device to an external computer, a computer network, or an output device such as a printer. It is of course possible to input / output image data and character / graphic information, and in some cases, input / output control signals and numerical data between the CPU 1106 of the display device and the outside.

【0097】また、画像生成回路1107は、前記入出
力インターフェース回路1105を介して外部から入力
される画像データや文字・図形情報や、あるいはCPU
1106より出力される画像データや文字・図形情報に
もとづき表示用画像データを生成するための回路であ
る。本回路の内部には、たとえば画像データや文字・図
形情報を蓄積するための書き換え可能メモリや、文字コ
ードに対応する画像パターンが記憶されている読み出し
専用メモリや、画像処理を行うためのプロセッサなどを
はじめとして画像の生成に必要な回路が組み込まれてい
る。
Further, the image generation circuit 1107 is provided with image data, character / graphic information, or a CPU which is externally input through the input / output interface circuit 1105.
1106 is a circuit for generating display image data based on image data and character / graphic information output from 1106. Inside this circuit, for example, a rewritable memory for accumulating image data and character / graphic information, a read-only memory in which an image pattern corresponding to a character code is stored, a processor for performing image processing, etc. And the circuits necessary for image generation are incorporated.

【0098】本回路により生成された表示用画像データ
は、デコーダ1104に出力されるが、場合によっては
前記入出力インターフェース回路1105を介して外部
のコンピュータネットワークやプリンタに出力すること
も可能である。
The display image data generated by this circuit is output to the decoder 1104, but in some cases, it can be output to an external computer network or printer via the input / output interface circuit 1105.

【0099】また、CPU1106は、主として本表示
装置の動作制御や、表示画像の生成や選択や編集に関わ
る作業を行う。
Further, the CPU 1106 mainly performs operations related to operation control of the display device and generation, selection and editing of a display image.

【0100】たとえば、マルチプレクサ1103に制御
信号を出力し、ディスプレイパネルに表示する画像信号
を適宜選択したり組み合わせたりする。また、その際に
は表示する画像信号に応じてディスプレイパネルコント
ローラ1102に対して制御信号を発生し、画面表示周
波数や走査方法(たとえばインターレースかノンインタ
ーレースか)や一画面の走査線の数など表示装置の動作
を適宜制御する。
For example, a control signal is output to the multiplexer 1103 to appropriately select or combine image signals to be displayed on the display panel. At that time, a control signal is generated to the display panel controller 1102 according to the image signal to be displayed, and the screen display frequency, the scanning method (for example, interlaced or non-interlaced), the number of scanning lines in one screen, etc. are displayed. The operation of the device is controlled appropriately.

【0101】また、前記画像生成回路1107に対して
画像データや文字・図形情報を直接出力したり、あるい
は前記入出力インターフェース回路1105を介して外
部のコンピュータやメモリをアクセスして画像データや
文字・図形情報を入力する。
Image data or character / graphic information is directly output to the image generation circuit 1107, or an external computer or memory is accessed through the input / output interface circuit 1105 to obtain image data or character / figure information. Enter graphic information.

【0102】なお、CPU1106は、むろんこれ以外
の目的の作業にも関わるものであって良い。たとえば、
パーソナルコンピュータやワードプロセッサなどのよう
に、情報を生成したり処理する機能に直接関わっても良
い。
It should be noted that the CPU 1106 may of course be involved in work for other purposes. For example,
It may be directly related to the function of generating and processing information, such as a personal computer or a word processor.

【0103】あるいは、前述したように入出力インター
フェース回路1105を介して外部のコンピュータネッ
トワークと接続し、たとえば数値計算などの作業を外部
機器と協同して行っても良い。
Alternatively, as described above, the input / output interface circuit 1105 may be connected to an external computer network to perform work such as numerical calculation in cooperation with an external device.

【0104】また、入力部1114は、前記CPU11
06に使用者が命令やプログラム、あるいはデータなど
を入力するためのものであり、たとえばキーボードやマ
ウスのほか、ジョイスティック、バーコードリーダ、音
声認識装置など多様な入力機器を用いる事が可能であ
る。
The input unit 1114 is the CPU 11
A user inputs commands, programs, data, etc. at 06. For example, various input devices such as a keyboard, a mouse, a joystick, a bar code reader, and a voice recognition device can be used.

【0105】また、デコーダ1104は、前記1107
ないし1113より入力される種々の画像信号を3原色
信号、または輝度信号とI信号,Q信号に逆変換するた
めの回路である。なお、同図中に点線で示すように、デ
コーダ1104は内部に画像メモリを備えるのが望まし
い。これは、たとえばMUSE方式方式をはじめとし
て、逆変換するに際して画像メモリを必要とするような
テレビ信号を扱うためである。また、画像メモリを備え
る事により、静止画の表示が容易になる、あるいは前記
画像生成回路1107およびCPU1106と協同して
画像の間引き、補間,拡大,合成をはじめとする画像処
理や編集が容易に行えるようになるという利点が生まれ
るからである。
Further, the decoder 1104 has the above-mentioned 1107.
Is a circuit for inversely converting various image signals input from the signals 1 to 1113 into three primary color signals or luminance signals and I signals and Q signals. It is desirable that the decoder 1104 has an image memory therein, as indicated by a dotted line in the figure. This is for handling a television signal that requires an image memory for reverse conversion, including the MUSE system. Further, the provision of the image memory facilitates the display of a still image, or facilitates image processing and editing such as image thinning, interpolation, enlargement, and synthesis in cooperation with the image generation circuit 1107 and the CPU 1106. This is because the advantage of being able to do it is born.

【0106】また、マルチプレクサ1103は、前記C
PU1106より入力される制御信号にもとづき表示画
像を適宜選択するものである。すなわち、マルチプレク
サ1103はデコーダ1104から入力される逆変換さ
れた画像信号のうちから所望の画像信号を選択して駆動
回路1101に出力する。その場合には、一画面表示時
間内で画像信号を切り替えて選択することにより、いわ
ゆる多画面テレビのように、一画面を複数の領域に分け
て領域によって異なる画像を表示することも可能であ
る。
Further, the multiplexer 1103 uses the C
The display image is appropriately selected based on the control signal input from the PU 1106. That is, the multiplexer 1103 selects a desired image signal from the inversely converted image signals input from the decoder 1104 and outputs it to the drive circuit 1101. In that case, by switching and selecting image signals within one screen display time, it is possible to divide one screen into a plurality of areas and display different images depending on the areas, as in a so-called multi-screen television. .

【0107】また、ディスプレイパネルコントローラ1
102は、前記CPU1106より入力される制御信号
にもとづき駆動回路1101の動作を制御するための回
路である。
Also, the display panel controller 1
Reference numeral 102 is a circuit for controlling the operation of the drive circuit 1101 based on a control signal input from the CPU 1106.

【0108】まず、ディスプレイパネルの基本的な動作
に関わるものとして、たとえばディスプレイパネルの駆
動用電源(図示せず)の動作シーケンスを制御するため
の信号を駆動回路1101に対して出力する。
First, regarding the basic operation of the display panel, for example, a signal for controlling the operation sequence of a display panel drive power source (not shown) is output to the drive circuit 1101.

【0109】また、ディスプレイパネルの駆動方法に関
わるものとして、たとえば画面表示周波数や走査方法
(たとえばインターレースかノンインターレースか)を
制御するための信号を駆動回路1101に対して出力す
る。
Further, regarding the driving method of the display panel, for example, a signal for controlling the screen display frequency and the scanning method (for example, interlace or non-interlace) is output to the drive circuit 1101.

【0110】また、場合によっては表示画像の輝度やコ
ントラストや色調やシャープネスといった画質の調整に
関わる制御信号を駆動回路1101に対して出力する場
合もある。
In some cases, control signals relating to image quality adjustment such as brightness, contrast, color tone and sharpness of a display image may be output to the drive circuit 1101.

【0111】また、駆動回路1101は、ディスプレイ
パネル1100に印加する駆動信号を発生するための回
路であり、前記マルチプレクサ1103から入力される
画像信号と、前記ディスプレイパネルコントローラ11
02より入力される制御信号にもとづいて動作するもの
である。
The drive circuit 1101 is a circuit for generating a drive signal to be applied to the display panel 1100, and the image signal input from the multiplexer 1103 and the display panel controller 11 are provided.
It operates on the basis of a control signal inputted from 02.

【0112】以上、各部の機能を説明したが、図15に
例示した構成により、本表示装置においては多様な画像
情報源より入力される画像情報をディスプレイパネル1
100に表示する事が可能である。すなわち、テレビジ
ョン放送をはじめとする各種の画像信号はデコーダ11
04において逆変換された後、マルチプレクサ1103
において適宜選択され、駆動回路1101に入力され
る。一方、ディスプレイコントローラ1102は、表示
する画像信号に応じて駆動回路1101の動作を制御す
るための制御信号を発生する。駆動回路1101は、上
記画像信号と制御信号にもとづいてディスプレイパネル
1100に駆動信号を印加する。これにより、ディスプ
レイパネル1100において画像が表示される。これら
の一連の動作は、CPU1106により統括的に制御さ
れる。
The functions of the respective parts have been described above. With the configuration illustrated in FIG. 15, the display panel 1 displays image information input from various image information sources in this display device.
It is possible to display 100. That is, various image signals such as television broadcast are transmitted to the decoder 11
After inverse conversion at 04, multiplexer 1103
Are selected appropriately and input to the drive circuit 1101. On the other hand, the display controller 1102 generates a control signal for controlling the operation of the drive circuit 1101 according to the image signal to be displayed. The drive circuit 1101 applies a drive signal to the display panel 1100 based on the image signal and the control signal. As a result, the image is displayed on the display panel 1100. A series of these operations is controlled by the CPU 1106 as a whole.

【0113】また、本表示装置においては、前記デコー
ダ1104に内蔵する画像メモリや、画像生成回路11
07およびCPU1106が関与することにより、単に
複数の画像情報の中から全多久したものを表示するだけ
でなく、表示する画像情報に対して、たとえば拡大,縮
小,回転,移動,エッジ強調,間引き,補間,色変換,
画像の縦横比変換などをはじめとする画像処理や、合
成,消去,接続,入れ換え,はめ込みなどをはじめとす
る画像編集を行う事も可能である。また、本実施例の説
明では特に触れなかったが、上記画像処理や画像編集と
同様に、音声情報に関しても処理や編集を行なうための
専用回路を設けても良い。
In this display device, the image memory built in the decoder 1104 and the image generation circuit 11 are also provided.
Due to the involvement of the CPU 07 and the CPU 1106, not only is a plurality of pieces of image information that are long-lived displayed, but also image information to be displayed is enlarged, reduced, rotated, moved, edge emphasized, thinned, or the like. Interpolation, color conversion,
It is also possible to perform image processing such as image aspect ratio conversion, and image editing such as composition, deletion, connection, replacement, and fitting. Further, although not particularly mentioned in the description of the present embodiment, a dedicated circuit for processing and editing voice information may be provided as in the above-mentioned image processing and image editing.

【0114】したがって、本表示装置は、テレビジョン
放送の表示機器,テレビ会議の端末機器,画像の編集機
器,コンピュータの端末機器,ワードプロセッサをはじ
めとする事務用端末機器,ゲーム機などの機能を一台で
兼ね備えることが可能で、産業用あるいは民生用として
極めて応用範囲が広い。しかも、ディスプレイパネルの
薄形化が容易なため、装置の奥行きを小さくすることが
できる。それに加えて、大画面化が容易で輝度が高く視
野角特性にも優れるため、臨場感あふれる画像を視認性
良く表示する事が可能である。
Therefore, the present display device has functions such as a display device for television broadcasting, a terminal device for video conference, an image editing device, a computer terminal device, an office terminal device such as a word processor, and a game machine. It can be combined with a stand, and has a very wide range of applications for industrial or consumer use. Moreover, since the display panel can be easily thinned, the depth of the device can be reduced. In addition, it is possible to display a highly realistic image with good visibility because it is easy to enlarge the screen, has high brightness, and has excellent viewing angle characteristics.

【0115】[0115]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、形
成された冷陰極マルチ電子源の各電子放出素子の特性に
ばらつきが生じても、画像表示の際の輝度のばらつきを
改善することが可能となる。
As described above, according to the present invention, even if the characteristics of the electron-emitting devices of the formed cold cathode multi-electron source vary, it is possible to improve the variation in brightness at the time of image display. Is possible.

【0116】[0116]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本実施例による画像表示パネルの冷陰極マルチ
電子源の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a cold cathode multi-electron source of an image display panel according to this embodiment.

【図2】本実施例の画像表示装置の制御構成を表わすブ
ロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a control configuration of the image display device of the present embodiment.

【図3】本実施例の冷陰極マルチ電子源の形成パターン
を表わす図である。
FIG. 3 is a diagram showing a formation pattern of a cold cathode multi electron source according to the present embodiment.

【図4】列方向配線につながる表面伝導型電子放出素子
への電圧の印加タイミングを表わす図である。
FIG. 4 is a diagram showing a timing of applying a voltage to a surface conduction electron-emitting device connected to a column-direction wiring.

【図5】実施例1における固有抵抗の形成方法を説明す
る図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a method of forming a specific resistance according to the first exemplary embodiment.

【図6】実施例2における固有抵抗の装着状態を説明す
る図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a mounted state of a specific resistance according to a second exemplary embodiment.

【図7】本実施例に用いられる模範的な電子放出素子の
構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of an exemplary electron-emitting device used in this example.

【図8】電子放出部を有する電子放出素子の形成方法の
一例を表わす図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating an example of a method of forming an electron-emitting device having an electron-emitting portion.

【図9】電子放出素子の電子放出特性を測定するための
測定評価装置の概略構成図である。
FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a measurement / evaluation apparatus for measuring electron emission characteristics of an electron emission element.

【図10】図9の電子放出素子の放出電流Ie 及び素子
電流If と素子電圧Vf の関係の典型的な例を示す図で
ある。
10 is a diagram showing a typical example of the relationship between the emission current Ie and the device current If of the electron-emitting device of FIG. 9 and the device voltage Vf.

【図11】表面伝導型電子放出素子を用いた画像表示パ
ネルの構成例を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a configuration example of an image display panel using a surface conduction electron-emitting device.

【図12】蛍光体膜の構成例を説明する図である。FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration example of a phosphor film.

【図13】本実施例の画像形成装置の変形例を示すブロ
ック図である。
FIG. 13 is a block diagram showing a modified example of the image forming apparatus of this embodiment.

【図14】図13の画像形成装置における素子の駆動タ
イミングを表わす図である。
FIG. 14 is a diagram illustrating drive timing of elements in the image forming apparatus in FIG.

【図15】テレビジョン放送をはじめとする種々の画像
情報源より提供される画像情報を表示できるように構成
した表示装置の一例を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing an example of a display device configured to display image information provided from various image information sources such as television broadcasting.

【図16】表面伝導型電子放出素子の典型的な素子構成
例を表わす図である。
FIG. 16 is a diagram showing a typical device configuration example of a surface conduction electron-emitting device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁性基板 2 電子放出部形成用薄膜 3 電子放出部 4 電子放出部を含む薄膜 5、6 素子電極 51 走査駆動部 52 信号側駆動部 53-1〜53-n 固有抵抗 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating substrate 2 Electron emission part forming thin film 3 Electron emission part 4 Thin film including electron emission part 5 and 6 Element electrode 51 Scan drive part 52 Signal side drive part 53-1 to 53-n Specific resistance

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の第1配線及び複数の第2配線と、 前記第1及び第2配線のそれぞれの1つに接続され、略
同一平面上に配設された複数の冷陰極電子源と、 前記複数の第1配線の夫々に直列に接続された所定の抵
抗値を有する抵抗群とを備えることを特徴とするマルチ
冷陰極電子源。
1. A plurality of first wirings and a plurality of second wirings, and a plurality of cold cathode electron sources connected to each one of the first and second wirings and arranged on substantially the same plane. A multi-cold-cathode electron source comprising: a resistor group having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of first wirings.
【請求項2】 前記複数の第2配線の夫々に直列に接続
された所定の抵抗値を有する抵抗群を更に備えることを
特徴とする請求項1に記載のマルチ冷陰極電子源。
2. The multi-cold-cathode electron source according to claim 1, further comprising a resistor group having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of second wirings.
【請求項3】 複数の行方向配線と、 前記複数の行方向配線のそれぞれとほぼ直交して設けら
れた複数の列方向配線と、 前記複数の行方向配線及び複数の列方向配線のそれぞれ
の1つに接続された複数の冷陰極電子源と、 前記複数の列方向配線のそれぞれに直列に接続された所
定の抵抗値を有する抵抗とを備えることを特徴とするマ
ルチ冷陰極電子源。
3. A plurality of row-direction wirings, a plurality of column-direction wirings provided substantially orthogonal to each of the plurality of row-direction wirings, and a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, respectively. A multi-cold-cathode electron source, comprising: a plurality of cold-cathode electron sources connected together; and a resistor having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of column-direction wirings.
【請求項4】 前記抵抗の各々の抵抗値Rが、前記複数
の冷陰極電子源の平均抵抗値をr,抵抗値のばらつきの
最大値をΔr、駆動側よりみた各冷陰極電子源の抵抗値
の目標とするばらつき範囲をy%としたときに、 R=((100×Δr)/y)−r で表わされることを特徴とする請求項2に記載のマルチ
冷陰極電子源。
4. The resistance value R of each of the resistors is r, the average resistance value of the plurality of cold cathode electron sources, Δr is the maximum value of the variation in resistance values, and the resistance of each cold cathode electron source viewed from the driving side. 3. The multi-cold-cathode electron source according to claim 2, wherein R = ((100 × Δr) / y) −r when the target variation range of the value is y%.
【請求項5】 前記抵抗の各々が、前記目標とするばら
つき範囲yを2%に設定して得られた抵抗値Rを有する
ことを特徴とする請求項3に記載のマルチ冷陰極電子
源。
5. The multi-cold-cathode electron source according to claim 3, wherein each of the resistors has a resistance value R obtained by setting the target variation range y to 2%.
【請求項6】 前記抵抗の各々が、前記目標とするばら
つき範囲yを1%に設定して得られた抵抗値Rを有する
ことを特徴とする請求項3に記載のマルチ冷陰極電子
源。
6. The multi-cold-cathode electron source according to claim 3, wherein each of the resistors has a resistance value R obtained by setting the target variation range y to 1%.
【請求項7】 前記冷陰極電子源は、電子放出部形成用
薄膜に通電処理を施すことで電子放出部が形成される表
面伝導型電子放出素子であることを特徴とする請求項2
に記載のマルチ冷陰極電子源。
7. The cold cathode electron source is a surface conduction electron-emitting device in which an electron-emitting portion is formed by subjecting a thin film for forming an electron-emitting portion to an energization process.
The multi-cold-cathode electron source according to 1.
【請求項8】 前記複数の行方向配線に対して直列に接
続された所定の抵抗値を有する抵抗を更に備えることを
特徴とする請求項2に記載のマルチ冷陰極電子源。
8. The multi-cold-cathode electron source according to claim 2, further comprising a resistor having a predetermined resistance value connected in series to the plurality of row-direction wirings.
【請求項9】 複数の行方向配線と、 前記複数の行方向配線のそれぞれとほぼ直交して設けら
れた複数の列方向配線と、 前記複数の行方向配線及び複数の列方向配線のそれぞれ
の1つに接続された複数の冷陰極電子源と、 前記複数の列方向配線のそれぞれに直列に接続された所
定の抵抗値を有する抵抗と、 前記複数の行方向配線の夫々を順次駆動可能状態に切り
替える走査手段と、 前記走査手段により駆動可能状態にある行方向配線上の
冷陰極電子源の各々に前記抵抗及び列方向配線を介して
駆動信号を印加する印加手段と、 前記走査手段及び印加手段により駆動された冷陰極電子
源から放出された電子を蛍光体に照射して各画素を発光
し、可視像を形成する形成手段と、 を備えることを特徴とする画像表示装置。
9. A plurality of row-direction wirings, a plurality of column-direction wirings provided substantially orthogonal to each of the plurality of row-direction wirings, and a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, respectively. A plurality of cold cathode electron sources connected to one, a resistor having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of column-direction wirings, and a state capable of sequentially driving each of the plurality of row-direction wirings Scanning means for switching to, and an applying means for applying a drive signal to each of the cold cathode electron sources on the row-direction wirings that can be driven by the scanning means through the resistors and the column-direction wirings, the scanning means and the applying means. An image display device comprising: a forming unit configured to irradiate a phosphor with electrons emitted from a cold cathode electron source driven by the unit to emit light from each pixel to form a visible image.
【請求項10】 前記印加手段は、前記走査手段により
駆動可能状態にある行方向配線上の冷陰極電子源群の各
々に対して、前記抵抗及び列方向配線を介して駆動信号
を同時に印加することを特徴とする請求項8に記載の画
像表示装置。
10. The applying means simultaneously applies a drive signal to each of the cold cathode electron source groups on the row-direction wirings which can be driven by the scanning means via the resistance and the column-direction wirings. The image display device according to claim 8, wherein.
【請求項11】 複数の行方向配線と、 前記複数の行方向配線のそれぞれとほぼ直交して設けら
れた複数の列方向配線と、 前記複数の行方向配線及び複数の列方向配線のそれぞれ
の1つに接続された複数の冷陰極電子源と、 前記複数の行方向配線のそれぞれに直列に接続された所
定の抵抗値を有する抵抗と、 前記複数の行方向配線の夫々を前記抵抗を介して順次駆
動可能状態に切り替える走査手段と、 前記走査手段により駆動可能状態にある行方向配線上の
冷陰極電子源の各々に前記列方向配線を介して駆動信号
を順次切り替えて印加する印加手段と、 前記走査手段及び印加手段により駆動された冷陰極電子
源から放出された電子を蛍光体に照射して各画素を発光
し、可視像を形成する形成手段と、 を備えることを特徴とする画像表示装置。
11. A plurality of row-direction wirings, a plurality of column-direction wirings provided substantially orthogonal to each of the plurality of row-direction wirings, and a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, respectively. A plurality of cold cathode electron sources connected to one, a resistor having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of row-direction wirings, and a plurality of row-direction wirings via the resistors Scanning means for sequentially switching to a drivable state by the scanning means, and an application means for sequentially switching and applying a driving signal to each of the cold cathode electron sources on the row-directional wiring that is drivable by the scanning means through the column-directional wiring. Forming means for irradiating the phosphor with electrons emitted from the cold cathode electron source driven by the scanning means and the applying means to cause each pixel to emit light, and forming a visible image. Image display device .
【請求項12】 複数の行方向配線と、 前記複数の行方向配線のそれぞれとほぼ直交して設けら
れた複数の列方向配線と、 前記複数の行方向配線及び複数の列方向配線のそれぞれ
の1つに接続された複数の冷陰極電子源と、 前記複数の行方向配線のそれぞれに直列に接続された所
定の抵抗値を有する行方向抵抗と、 前記複数の列方向配線のそれぞれに直列に接続された所
定の抵抗値を有する列方向抵抗と、 前記複数の行方向配線の夫々を前記行方向抵抗を介して
順次駆動可能状態に切り替える走査手段と、 前記走査手段により駆動可能状態にある行方向配線上の
冷陰極電子源の各々に前記列方向抵抗及び列方向配線を
介して駆動信号を順次切り替えて印加する印加手段と、 前記走査手段及び印加手段により駆動された冷陰極電子
源から放出された電子を蛍光体に照射して各画素を発光
し、可視像を形成する形成手段と、 を備えることを特徴とする画像表示装置。
12. A plurality of row-direction wirings, a plurality of column-direction wirings provided substantially orthogonal to each of the plurality of row-direction wirings, and a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, respectively. A plurality of cold cathode electron sources connected to one, a row-direction resistance having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of row-direction wirings, and a series of connection to each of the plurality of column-direction wirings A column-direction resistance having a predetermined resistance value connected thereto, a scanning unit that sequentially switches each of the plurality of row-direction wiring lines to a drivable state through the row-direction resistance, and a row that is drivable by the scanning unit. Applying means for sequentially switching and applying a drive signal to each of the cold cathode electron sources on the directional wiring through the column resistance and the column directional wiring, and emitting from the cold cathode electron sources driven by the scanning means and the applying means. Electrons to be irradiated to the phosphor to emit each pixel, the image display apparatus characterized by comprising: a forming means for forming a visible image, a.
【請求項13】 複数の行方向配線と、前記複数の行方
向配線のそれぞれとほぼ直交して設けられた複数の列方
向配線と、前記複数の行方向配線及び複数の列方向配線
のそれぞれの1つに接続された複数の冷陰極電子源と、
前記複数の列方向配線のそれぞれに直列に接続された所
定の抵抗値を有する抵抗とを具備したマルチ冷陰極電子
源の駆動方法であって、 前記複数の行方向配線の夫々を順次駆動可能状態に切り
替える走査工程と、 前記走査工程により駆動可能状態にある行方向配線上の
冷陰極電子源の各々に前記抵抗及び列方向配線を介して
駆動信号を印加する印加工程と、 を備えることを特徴とする電子源の駆動方法。
13. A plurality of row-direction wirings, a plurality of column-direction wirings provided substantially orthogonal to each of the plurality of row-direction wirings, and a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, respectively. A plurality of cold cathode electron sources connected together,
A method of driving a multi-cold-cathode electron source, comprising: a resistor having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of column-direction wirings, wherein each of the plurality of row-direction wirings can be sequentially driven. And a applying step of applying a drive signal to each of the cold cathode electron sources on the row-direction wirings in the drivable state by the scanning step via the resistance and the column-direction wirings. And driving method of the electron source.
【請求項14】 複数の行方向配線と、前記複数の行方
向配線のそれぞれとほぼ直交して設けられた複数の列方
向配線と、前記複数の行方向配線及び複数の列方向配線
のそれぞれの1つに接続された複数の冷陰極電子源と、
前記複数の行方向配線のそれぞれに直列に接続された所
定の抵抗値を有する抵抗とを具備したマルチ冷陰極電子
源の駆動方法であって、、 前記複数の行方向配線の夫々を前記抵抗を介して順次駆
動可能状態に切り替える走査工程と、 前記走査工程により駆動可能状態にある行方向配線上の
冷陰極電子源の各々に前記列方向配線を介して駆動信号
を順次切り替えて印加する印加工程と、 を備えることを特徴とする電子源の駆動方法。
14. A plurality of row-direction wirings, a plurality of column-direction wirings provided substantially orthogonal to each of the plurality of row-direction wirings, and a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, respectively. A plurality of cold cathode electron sources connected together,
A method for driving a multi-cold-cathode electron source comprising: a resistor having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of row-direction wirings, wherein each of the plurality of row-direction wirings is connected to the resistor. Scanning step for sequentially switching to a drivable state via the scanning step, and an application step for sequentially switching and applying a driving signal to each of the cold cathode electron sources on the row-directional wirings in the drivable state by the scanning step via the column-directional wirings And a driving method of an electron source, comprising:
【請求項15】 複数の行方向配線と、前記複数の行方
向配線のそれぞれとほぼ直交して設けられた複数の列方
向配線と、前記複数の行方向配線及び複数の列方向配線
のそれぞれの1つに接続された複数の冷陰極電子源と、
前記複数の行方向配線のそれぞれに直列に接続された所
定の抵抗値を有する行方向抵抗と、前記複数の列方向配
線のそれぞれに直列に接続された所定の抵抗値を有する
列方向抵抗とを具備したマルチ冷陰極電子源の駆動方法
であって、 前記複数の行方向配線の夫々を前記行方向抵抗を介して
順次駆動可能状態に切り替える走査工程と、 前記走査工程により駆動可能状態にある行方向配線上の
冷陰極電子源の各々に前記列方向抵抗及び列方向配線を
介して駆動信号を順次切り替えて印加する印加工程と、 を備えることを特徴とする電子源の駆動方法。
15. A plurality of row-direction wirings, a plurality of column-direction wirings provided substantially orthogonal to each of the plurality of row-direction wirings, and a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, respectively. A plurality of cold cathode electron sources connected together,
A row-direction resistance having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of row-direction wirings, and a column-direction resistance having a predetermined resistance value connected in series to each of the plurality of column-direction wirings. A method for driving a multi-cold-cathode electron source, comprising: a scanning step of sequentially switching each of the plurality of row-direction wiring lines to a driveable state via the row-direction resistance; and a row in a driveable state by the scanning step. A driving method of an electron source, comprising: an applying step of sequentially switching and applying a drive signal to each of the cold cathode electron sources on the direction wiring through the column direction resistance and the column direction wiring.
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