JPH07316829A - 無電解めっき方法 - Google Patents
無電解めっき方法Info
- Publication number
- JPH07316829A JPH07316829A JP10865894A JP10865894A JPH07316829A JP H07316829 A JPH07316829 A JP H07316829A JP 10865894 A JP10865894 A JP 10865894A JP 10865894 A JP10865894 A JP 10865894A JP H07316829 A JPH07316829 A JP H07316829A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electroless plating
- plating solution
- component
- electroless
- tank
- Prior art date
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 めっき液中での金属粉の発生を低減し、長期
間にわたり、無電解めっきを安定して行わせることので
きる無電解めっき方法を提供する。 【構成】 無電解めっき液槽１と気体吹き込み手段２と
めっき液成分補給手段５とから構成される無電解めっき
装置９を用いてめっき液成分補給手段５からめっき液成
分７ｓを供給して無電解めっき液７中の成分濃度を調節
する無電解めっき方法であって、上記気体吹き込み手段
２が、無電解めっき液７で満たされた上記無電解めっき
液槽１の内部に、無電解めっき液槽１の側面部１ａから
離されて、スペースのある状態で備えられ、この側面部
１ａと気体吹き込み手段２との間のスペースの上部で、
無電解めっき液７の液面７ａを貫いて上下に仕切り板３
が備えられ、この仕切り板３と上記側面部１ａとの間の
上部に備えられているめっき液成分補給手段５からめっ
き液成分７ｓを仕切り板３と上記側面部１ａとの間に供
給する。
間にわたり、無電解めっきを安定して行わせることので
きる無電解めっき方法を提供する。 【構成】 無電解めっき液槽１と気体吹き込み手段２と
めっき液成分補給手段５とから構成される無電解めっき
装置９を用いてめっき液成分補給手段５からめっき液成
分７ｓを供給して無電解めっき液７中の成分濃度を調節
する無電解めっき方法であって、上記気体吹き込み手段
２が、無電解めっき液７で満たされた上記無電解めっき
液槽１の内部に、無電解めっき液槽１の側面部１ａから
離されて、スペースのある状態で備えられ、この側面部
１ａと気体吹き込み手段２との間のスペースの上部で、
無電解めっき液７の液面７ａを貫いて上下に仕切り板３
が備えられ、この仕切り板３と上記側面部１ａとの間の
上部に備えられているめっき液成分補給手段５からめっ
き液成分７ｓを仕切り板３と上記側面部１ａとの間に供
給する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、プリント配線
板等の表面処理に用いられる無電解めっき方法に関す
る。
板等の表面処理に用いられる無電解めっき方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、無電解めっき方法では、めっき反
応が進行するに伴い、めっき液中の銅イオン等の金属イ
オン等のめっき成分が減少するので、めっきを継続する
ために、これらのめっき成分を補給し、めっき液中の成
分濃度を常に一定に保っておく必要がある。めっき成分
を補給する方法としては、めっき成分を無電解めっき液
槽に直接補給する方法の他に、めっき液調整槽を用いる
ものや、補給液導入管にめっき成分を添加するもの等が
ある。また、めっき液槽がめっき本槽と補給槽とに仕切
られ、めっき本槽からオーバーフローによって、めっき
液を導入して調整後、めっき本槽に戻されるという無電
解めっき装置が実開昭６３−１１９６６９号公報に開示
されている。
応が進行するに伴い、めっき液中の銅イオン等の金属イ
オン等のめっき成分が減少するので、めっきを継続する
ために、これらのめっき成分を補給し、めっき液中の成
分濃度を常に一定に保っておく必要がある。めっき成分
を補給する方法としては、めっき成分を無電解めっき液
槽に直接補給する方法の他に、めっき液調整槽を用いる
ものや、補給液導入管にめっき成分を添加するもの等が
ある。また、めっき液槽がめっき本槽と補給槽とに仕切
られ、めっき本槽からオーバーフローによって、めっき
液を導入して調整後、めっき本槽に戻されるという無電
解めっき装置が実開昭６３−１１９６６９号公報に開示
されている。
【０００３】これらの方法の中で、構造が簡単でかつ装
置が簡素化できるため、一般的には、めっき成分を無電
解めっき液槽に直接補給する方法が採られている。とこ
ろが無電解めっき液中には、添加剤として界面活性剤が
含まれており、かつ、めっき反応で消費される酸素を供
給するため、めっき液中に空気の供給が行われているの
で、めっき液面上には、泡が多く発生する。したがっ
て、めっき成分を無電解めっき液槽に直接補給する方法
では、めっき液面上の泡の上に、無電解めっき液より高
濃度のめっき成分が滴下されることになるため、この泡
の部分に金属粉が発生してしまう。すなわち、無電解め
っき液槽は、エアーレーションにより溶存酸素が多い状
態になっているが、金属粉がめっき液中に浮遊すること
により、めっき液槽壁や、特にめっき液の移送用の配管
の内部のように溶存酸素が少ない部分では、銅等の金属
粉が析出し易くなる。この析出した銅等の金属粉にめっ
き反応が起こり水素が発生し、ますます溶存酸素が少な
くなるため、さらに銅等の金属粉が析出し易くなるとい
う悪循環が起こる。すなわち、金属粉がめっき液中に浮
遊することにより、金属粉がめっき液槽壁や移送用配管
の内部で析出して銅等の金属の微粉末が残留したり、移
送用配管の内部に付着したりする。この銅等の金属の微
粉末や付着物のため、上述のように、めっき液が分解し
てしまい、めっき液としての性能が低下してしまうとい
う問題があった。
置が簡素化できるため、一般的には、めっき成分を無電
解めっき液槽に直接補給する方法が採られている。とこ
ろが無電解めっき液中には、添加剤として界面活性剤が
含まれており、かつ、めっき反応で消費される酸素を供
給するため、めっき液中に空気の供給が行われているの
で、めっき液面上には、泡が多く発生する。したがっ
て、めっき成分を無電解めっき液槽に直接補給する方法
では、めっき液面上の泡の上に、無電解めっき液より高
濃度のめっき成分が滴下されることになるため、この泡
の部分に金属粉が発生してしまう。すなわち、無電解め
っき液槽は、エアーレーションにより溶存酸素が多い状
態になっているが、金属粉がめっき液中に浮遊すること
により、めっき液槽壁や、特にめっき液の移送用の配管
の内部のように溶存酸素が少ない部分では、銅等の金属
粉が析出し易くなる。この析出した銅等の金属粉にめっ
き反応が起こり水素が発生し、ますます溶存酸素が少な
くなるため、さらに銅等の金属粉が析出し易くなるとい
う悪循環が起こる。すなわち、金属粉がめっき液中に浮
遊することにより、金属粉がめっき液槽壁や移送用配管
の内部で析出して銅等の金属の微粉末が残留したり、移
送用配管の内部に付着したりする。この銅等の金属の微
粉末や付着物のため、上述のように、めっき液が分解し
てしまい、めっき液としての性能が低下してしまうとい
う問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたもので、その目的とするところは、めっ
き液中での金属粉の発生を低減し、長期間にわたり、無
電解めっきを安定して行わせることのできる無電解めっ
き方法を提供することにある。
鑑みてなされたもので、その目的とするところは、めっ
き液中での金属粉の発生を低減し、長期間にわたり、無
電解めっきを安定して行わせることのできる無電解めっ
き方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る無電解めっ
き方法は、無電解めっき液槽１と気体吹き込み手段２と
めっき液成分補給手段５とから構成される無電解めっき
装置９を用いてめっき液成分補給手段５からめっき液成
分７ｓを供給して無電解めっき液７中の成分濃度を調節
する無電解めっき方法であって、上記気体吹き込み手段
２が、無電解めっき液７で満たされた上記無電解めっき
液槽１の内部に、無電解めっき液槽１の側面部１ａから
離されて、スペースのある状態で備えられ、この側面部
１ａと気体吹き込み手段２との間のスペースの上部で、
無電解めっき液７の液面７ａを貫いて上下に仕切り板３
が備えられ、この仕切り板３と上記側面部１ａとの間の
上部に備えられているめっき液成分補給手段５からめっ
き液成分７ｓを仕切り板３と上記側面部１ａとの間に供
給することを特徴とする。
き方法は、無電解めっき液槽１と気体吹き込み手段２と
めっき液成分補給手段５とから構成される無電解めっき
装置９を用いてめっき液成分補給手段５からめっき液成
分７ｓを供給して無電解めっき液７中の成分濃度を調節
する無電解めっき方法であって、上記気体吹き込み手段
２が、無電解めっき液７で満たされた上記無電解めっき
液槽１の内部に、無電解めっき液槽１の側面部１ａから
離されて、スペースのある状態で備えられ、この側面部
１ａと気体吹き込み手段２との間のスペースの上部で、
無電解めっき液７の液面７ａを貫いて上下に仕切り板３
が備えられ、この仕切り板３と上記側面部１ａとの間の
上部に備えられているめっき液成分補給手段５からめっ
き液成分７ｓを仕切り板３と上記側面部１ａとの間に供
給することを特徴とする。
【０００６】
【作用】本発明に係る無電解めっき方法では、めっき反
応により減少しためっき液成分７ｓを仕切り板３と無電
解めっき液槽１の側面部１ａとの間、すなわち、めっき
液面７ａ上で泡８のない部分に供給するので、めっき液
成分７ｓを無電解めっき液７に添加した際、金属粉が発
生し難く、長期間にわたり、無電解めっきを安定に行わ
せることができる。
応により減少しためっき液成分７ｓを仕切り板３と無電
解めっき液槽１の側面部１ａとの間、すなわち、めっき
液面７ａ上で泡８のない部分に供給するので、めっき液
成分７ｓを無電解めっき液７に添加した際、金属粉が発
生し難く、長期間にわたり、無電解めっきを安定に行わ
せることができる。
【０００７】
【実施例】次に、図面に基づいて本発明の一実施例を示
す。
す。
【０００８】図１は、本発明の一実施例の概略図であ
る。図１に示すように、めっきを行う無電解めっき液槽
１の材質として耐熱塩化ビニル又はポリプロピレン等が
用いられ、この無電解めっき液槽１には、被めっき処理
物４にめっきを施すための無電解めっき液７が満たされ
ている。この無電解めっき液７には、例えば銅イオン等
の金属イオンとして硫酸銅五水和物等、錯化剤として例
えばエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム等、ｐＨ調整
剤として例えば水酸化ナトリウム等、還元剤として例え
ば３５％ホルマリン水溶液等、安定剤として例えばシア
ン化ナトリウム等及び界面活性剤として例えばポリエチ
レングリコール等が含まれている。
る。図１に示すように、めっきを行う無電解めっき液槽
１の材質として耐熱塩化ビニル又はポリプロピレン等が
用いられ、この無電解めっき液槽１には、被めっき処理
物４にめっきを施すための無電解めっき液７が満たされ
ている。この無電解めっき液７には、例えば銅イオン等
の金属イオンとして硫酸銅五水和物等、錯化剤として例
えばエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム等、ｐＨ調整
剤として例えば水酸化ナトリウム等、還元剤として例え
ば３５％ホルマリン水溶液等、安定剤として例えばシア
ン化ナトリウム等及び界面活性剤として例えばポリエチ
レングリコール等が含まれている。
【０００９】また、めっき反応に必要な酸素を無電解め
っき液７に溶存酸素として供給するためにエアーレーシ
ョンを行うための気体吹き込み管や気体吹き込みフィル
タ等の気体吹き込み手段２が、無電解めっき液７で満た
された無電解めっき液槽１に備えられている。この気体
吹き込み手段２は、被めっき処理物４の下方に備える方
が、無電解めっき液７への酸素の溶解効率を高め、無電
解めっき液槽１内の無電解めっき液７の濃度分布ばらつ
きを小さくするので好ましい。したがって、気体吹き込
み手段２は、無電解めっき液槽１の内部の底部付近に設
置され、しかも、無電解めっき液槽１の側面部１ａから
離されて、スペースのある状態で備えられている。すな
わち、気体吹き込み手段２のエアレーション端部２ａ
が、無電解めっき液槽１の側面部１ａから離れている。
気体吹き込み手段２は、気体吹き込み配管６ａを介して
ブロワ６とつながっており、このブロワ６を作動させる
ことにより、気体吹き込み手段２から空気等の気体８ａ
が無電解めっき液７に送り込まれる。無電解めっき液槽
１の側面部１ａと気体吹き込み手段２との間のスペース
の上部で、無電解めっき液７の液面７ａを貫いて液面７
ａの上下に仕切り板３が備えられている。この仕切り板
３と上記側面部１ａとの間の上部に備えられているめっ
き液成分補給管等のめっき液成分補給手段５からめっき
液成分７ｓを仕切り板３と無電解めっき液槽１の側面部
１ａとの間に供給する。上記仕切り板３は、空気等の気
体８ａの吹き込み領域で発生した泡８がめっき液成分７
ｓを供給する部分の無電解めっき液７の液面７ａに侵入
してくるのを防止する。仕切り板３は、無電解めっき液
槽１の側面部１ａと平行で、上部高さが、無電解めっき
液槽１と同じであることが好ましい。また、仕切り板３
の下端は、無電解めっき液７の液面７ａから３〜１０ｃ
ｍ程度下であることが好ましい。この理由は、補給され
ためっき液成分７ｓが、瞬時に撹拌、混合され無電解め
っき液７中に均一分散されるようにするためである。
っき液７に溶存酸素として供給するためにエアーレーシ
ョンを行うための気体吹き込み管や気体吹き込みフィル
タ等の気体吹き込み手段２が、無電解めっき液７で満た
された無電解めっき液槽１に備えられている。この気体
吹き込み手段２は、被めっき処理物４の下方に備える方
が、無電解めっき液７への酸素の溶解効率を高め、無電
解めっき液槽１内の無電解めっき液７の濃度分布ばらつ
きを小さくするので好ましい。したがって、気体吹き込
み手段２は、無電解めっき液槽１の内部の底部付近に設
置され、しかも、無電解めっき液槽１の側面部１ａから
離されて、スペースのある状態で備えられている。すな
わち、気体吹き込み手段２のエアレーション端部２ａ
が、無電解めっき液槽１の側面部１ａから離れている。
気体吹き込み手段２は、気体吹き込み配管６ａを介して
ブロワ６とつながっており、このブロワ６を作動させる
ことにより、気体吹き込み手段２から空気等の気体８ａ
が無電解めっき液７に送り込まれる。無電解めっき液槽
１の側面部１ａと気体吹き込み手段２との間のスペース
の上部で、無電解めっき液７の液面７ａを貫いて液面７
ａの上下に仕切り板３が備えられている。この仕切り板
３と上記側面部１ａとの間の上部に備えられているめっ
き液成分補給管等のめっき液成分補給手段５からめっき
液成分７ｓを仕切り板３と無電解めっき液槽１の側面部
１ａとの間に供給する。上記仕切り板３は、空気等の気
体８ａの吹き込み領域で発生した泡８がめっき液成分７
ｓを供給する部分の無電解めっき液７の液面７ａに侵入
してくるのを防止する。仕切り板３は、無電解めっき液
槽１の側面部１ａと平行で、上部高さが、無電解めっき
液槽１と同じであることが好ましい。また、仕切り板３
の下端は、無電解めっき液７の液面７ａから３〜１０ｃ
ｍ程度下であることが好ましい。この理由は、補給され
ためっき液成分７ｓが、瞬時に撹拌、混合され無電解め
っき液７中に均一分散されるようにするためである。
【００１０】この無電解めっき液７の成分の濃度やｐＨ
等をコントロールするのがコントローラであり、このコ
ントローラは、銅イオン、ホルマリン及びエチレンジア
ミン四酢酸二ナトリウム等の濃度を測定する吸光光度計
並びにｐＨを測定するｐＨ計を備えている。上記コント
ローラにより、銅イオン、ホルマリン及びエチレンジア
ミン四酢酸二ナトリウム等の不足分が補給され、無電解
めっき液７の中の各成分の濃度が一定に保たれ、またｐ
Ｈを一定に保つため、水酸化ナトリウム等のｐＨ調整剤
が添加される。このようにして無電解めっき装置９が構
成されている。
等をコントロールするのがコントローラであり、このコ
ントローラは、銅イオン、ホルマリン及びエチレンジア
ミン四酢酸二ナトリウム等の濃度を測定する吸光光度計
並びにｐＨを測定するｐＨ計を備えている。上記コント
ローラにより、銅イオン、ホルマリン及びエチレンジア
ミン四酢酸二ナトリウム等の不足分が補給され、無電解
めっき液７の中の各成分の濃度が一定に保たれ、またｐ
Ｈを一定に保つため、水酸化ナトリウム等のｐＨ調整剤
が添加される。このようにして無電解めっき装置９が構
成されている。
【００１１】したがって、本発明の無電解めっき方法で
は、めっき反応により減少しためっき液成分７ｓを仕切
り板３と無電解めっき液槽１の側面部１ａとの間、すな
わち、めっき液面７ａ上で泡８のない部分に供給するの
で、めっき液成分７ｓを無電解めっき液７に添加した
際、めっき液面７ａ上に存在する泡８の影響による金属
粉の発生が起こり難く、長期間にわたり、無電解めっき
を安定に行わせることができる。
は、めっき反応により減少しためっき液成分７ｓを仕切
り板３と無電解めっき液槽１の側面部１ａとの間、すな
わち、めっき液面７ａ上で泡８のない部分に供給するの
で、めっき液成分７ｓを無電解めっき液７に添加した
際、めっき液面７ａ上に存在する泡８の影響による金属
粉の発生が起こり難く、長期間にわたり、無電解めっき
を安定に行わせることができる。
【００１２】（実施例１）無電解めっき液７として、水
１リットルに対して硫酸銅五水和物を１０ｇ／リット
ル、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウムを３０ｇ／リ
ットル、水酸化ナトリウムを無電解めっき液７をｐＨ１
２とする量、３５％ホルマリン水溶液を５ｇ／リット
ル、シアン化ナトリウムを１０ｍｇ／リットル及びポリ
エチレングリコールを２００ｍｇ／リットル含有してい
るものを使用した。無電解めっき液７の温度を６０℃に
した。
１リットルに対して硫酸銅五水和物を１０ｇ／リット
ル、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウムを３０ｇ／リ
ットル、水酸化ナトリウムを無電解めっき液７をｐＨ１
２とする量、３５％ホルマリン水溶液を５ｇ／リット
ル、シアン化ナトリウムを１０ｍｇ／リットル及びポリ
エチレングリコールを２００ｍｇ／リットル含有してい
るものを使用した。無電解めっき液７の温度を６０℃に
した。
【００１３】空気の供給は、ブロワ６を用いて行った。
気体吹き込み手段２として、多孔性フッ素樹脂製のフィ
ルターを用いて無電解めっき液槽１の内部の底部に設置
した。この気体吹き込み手段２は、無電解めっき液槽１
の底部の全面には、設置せず、無電解めっき液槽１の側
面部１ａとの間に空気の吹き込みを行わない領域を設
け、この空気の吹き込みを行わない領域と空気吹き込み
領域とを仕切るために、仕切り板３を設置した。この仕
切り板３は、無電解めっき液槽１の側面部１ａと平行
で、上部高さを無電解めっき液槽１と同じにし、仕切り
板３の下端が無電解めっき液７の液面７ａから５ｃｍ程
度下になるようにした。めっき液成分補給手段５とし
て、めっき液成分補給管を空気の吹き込みを行わない領
域に配設した。
気体吹き込み手段２として、多孔性フッ素樹脂製のフィ
ルターを用いて無電解めっき液槽１の内部の底部に設置
した。この気体吹き込み手段２は、無電解めっき液槽１
の底部の全面には、設置せず、無電解めっき液槽１の側
面部１ａとの間に空気の吹き込みを行わない領域を設
け、この空気の吹き込みを行わない領域と空気吹き込み
領域とを仕切るために、仕切り板３を設置した。この仕
切り板３は、無電解めっき液槽１の側面部１ａと平行
で、上部高さを無電解めっき液槽１と同じにし、仕切り
板３の下端が無電解めっき液７の液面７ａから５ｃｍ程
度下になるようにした。めっき液成分補給手段５とし
て、めっき液成分補給管を空気の吹き込みを行わない領
域に配設した。
【００１４】この状態で、無電解銅めっきを継続してお
こなった。この結果、めっきの老朽化度を示す１０ター
ンまで無電解銅めっきをおこなったが、無電解めっき液
槽１内への銅の析出はなく、この間、被めっき処理物４
のめっき被膜の析出は、良好であった。
こなった。この結果、めっきの老朽化度を示す１０ター
ンまで無電解銅めっきをおこなったが、無電解めっき液
槽１内への銅の析出はなく、この間、被めっき処理物４
のめっき被膜の析出は、良好であった。
【００１５】（比較例１）実施例１において、仕切り板
３を設置しなかった以外は、実施例１と同様に無電解銅
めっき処理を行った。仕切り板３を設置しなかったた
め、無電解めっき液槽１のめっき液面７ａの全面に泡８
が浮遊し、この泡８の上にめっき液成分７ｓの補給が行
われた。この結果、めっきの老朽化度を示す４ターンで
無電解銅めっき液槽１の壁面部に銅が析出し、無電解め
っき液７は、６ターンまでしか使用できなかった。ま
た、この間、被めっき処理物４の表面には、銅粉が付着
し、被めっき処理物４の表面は、ざらついたものになっ
た。
３を設置しなかった以外は、実施例１と同様に無電解銅
めっき処理を行った。仕切り板３を設置しなかったた
め、無電解めっき液槽１のめっき液面７ａの全面に泡８
が浮遊し、この泡８の上にめっき液成分７ｓの補給が行
われた。この結果、めっきの老朽化度を示す４ターンで
無電解銅めっき液槽１の壁面部に銅が析出し、無電解め
っき液７は、６ターンまでしか使用できなかった。ま
た、この間、被めっき処理物４の表面には、銅粉が付着
し、被めっき処理物４の表面は、ざらついたものになっ
た。
【００１６】
【発明の効果】本発明に係る無電解めっき方法は、上記
のように構成されているので、めっき液中での金属粉の
発生を低減し、長期間にわたり、無電解めっきを安定し
て行わせることのできる。
のように構成されているので、めっき液中での金属粉の
発生を低減し、長期間にわたり、無電解めっきを安定し
て行わせることのできる。
【図１】本発明の実施例に係る無電解めっき方法の概略
図である。
図である。
１ 無電解めっき液槽 １ａ 側面部 ２ 気体吹き込み手段 ３ 仕切り板 ５ めっき液成分補給手段 ７ 無電解めっき液 ７ａ 液面 ７ｓ めっき液成分 ９ 無電解めっき装置
Claims (1)
- 【請求項１】 無電解めっき液槽（１）と気体吹き込み
手段（２）とめっき液成分補給手段（５）とから構成さ
れる無電解めっき装置（９）を用いてめっき液成分補給
手段（５）からめっき液成分（７ｓ）を供給して無電解
めっき液（７）中の成分濃度を調節する無電解めっき方
法であって、上記気体吹き込み手段（２）が、無電解め
っき液（７）で満たされた上記無電解めっき液槽（１）
の内部に、無電解めっき液槽（１）の側面部（１ａ）か
ら離されて、スペースのある状態で備えられ、この側面
部（１ａ）と気体吹き込み手段（２）との間のスペース
の上部で、無電解めっき液（７）の液面（７ａ）を貫い
て上下に仕切り板（３）が備えられ、この仕切り板
（３）と上記側面部（１ａ）との間の上部に備えられて
いるめっき液成分補給手段（５）からめっき液成分（７
ｓ）を仕切り板（３）と上記側面部（１ａ）との間に供
給することを特徴とする無電解めっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10865894A JPH07316829A (ja) | 1994-05-23 | 1994-05-23 | 無電解めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10865894A JPH07316829A (ja) | 1994-05-23 | 1994-05-23 | 無電解めっき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07316829A true JPH07316829A (ja) | 1995-12-05 |
Family
ID=14490398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10865894A Withdrawn JPH07316829A (ja) | 1994-05-23 | 1994-05-23 | 無電解めっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07316829A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010084168A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Hitachi Ltd | 湿式処理方法，無電解銅めっき方法およびプリント配線板 |
-
1994
- 1994-05-23 JP JP10865894A patent/JPH07316829A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010084168A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Hitachi Ltd | 湿式処理方法，無電解銅めっき方法およびプリント配線板 |
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