JPH07314143A - プラズマ切断方法 - Google Patents
プラズマ切断方法Info
- Publication number
- JPH07314143A JPH07314143A JP6135169A JP13516994A JPH07314143A JP H07314143 A JPH07314143 A JP H07314143A JP 6135169 A JP6135169 A JP 6135169A JP 13516994 A JP13516994 A JP 13516994A JP H07314143 A JPH07314143 A JP H07314143A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cutting
- plasma
- gas
- piercing
- cut
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K10/00—Welding or cutting by means of a plasma
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Arc Welding In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ドロス付着が少なく切断面がきれいな切断製
品が得られ、また電極消耗が少なく、さらにピアッシン
グ時にも高速切断できるプラズマ切断方法の提供 【構成】 切断時にプラズマガスとして非酸化性ガスを
用いて被切断材を切断するプラズマ切断方法において、
ピアッシング時はプラズマガスとして酸化性ガスを用
い、切断時はプラズマガスとして非酸化性ガスを用いて
被切断材を切断する。
品が得られ、また電極消耗が少なく、さらにピアッシン
グ時にも高速切断できるプラズマ切断方法の提供 【構成】 切断時にプラズマガスとして非酸化性ガスを
用いて被切断材を切断するプラズマ切断方法において、
ピアッシング時はプラズマガスとして酸化性ガスを用
い、切断時はプラズマガスとして非酸化性ガスを用いて
被切断材を切断する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマ切断方法に関
する。
する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマ切断方法には、プラズマガスと
して非酸化性ガスを用いて被切断材を切断するものがあ
る。例えば被切断材がステンレス鋼やアルミニウム合金
等であるときは、プラズマガスとして、窒素ガス、アル
ゴンガス、水素ガス、メタンガス等の非酸化性ガスが用
いられる。このようにすると、切断製品はドロス付着が
少なく、またきれいな切断面が得られる。
して非酸化性ガスを用いて被切断材を切断するものがあ
る。例えば被切断材がステンレス鋼やアルミニウム合金
等であるときは、プラズマガスとして、窒素ガス、アル
ゴンガス、水素ガス、メタンガス等の非酸化性ガスが用
いられる。このようにすると、切断製品はドロス付着が
少なく、またきれいな切断面が得られる。
【０００３】また例えばタングステン電極のように、酸
化すると融点が低くなって消耗が激しくなるような金属
が電極であるときも、プラズマガスとして、上述のよう
な非酸化性ガスが用いられる。このようにすると、電極
の酸化を阻止でき、電極の早期消耗を阻止できる。
化すると融点が低くなって消耗が激しくなるような金属
が電極であるときも、プラズマガスとして、上述のよう
な非酸化性ガスが用いられる。このようにすると、電極
の酸化を阻止でき、電極の早期消耗を阻止できる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】先ずピアッシングスタ
ートについて説明する。これは、例えば図４に示すよう
に、被切断材６を切断してｂ−ｃ−ｄ−ｅで囲まれる切
断製品６２を得る場合、ｂ点から切断開始したのでは、
このｂ点での孔径が大きくまた吹き上げドロスの付着が
多いため、切断品質を維持できない。そこで先ずｂ点の
近傍ａに穿孔（ピアッシング）して孔（ピアス）６１を
穿ち、次いでこのピアス６１からｂ−ｃ−ｄ−ｅ−ｂ−
ｆの順で切断することにより高切断品質の切断製品６２
を得る方法である。被切断材が薄板のときはプラズマ流
でピアッシングするが、厚板のときはドリルで予めピア
ッシングしておくのが普通である。
ートについて説明する。これは、例えば図４に示すよう
に、被切断材６を切断してｂ−ｃ−ｄ−ｅで囲まれる切
断製品６２を得る場合、ｂ点から切断開始したのでは、
このｂ点での孔径が大きくまた吹き上げドロスの付着が
多いため、切断品質を維持できない。そこで先ずｂ点の
近傍ａに穿孔（ピアッシング）して孔（ピアス）６１を
穿ち、次いでこのピアス６１からｂ−ｃ−ｄ−ｅ−ｂ−
ｆの順で切断することにより高切断品質の切断製品６２
を得る方法である。被切断材が薄板のときはプラズマ流
でピアッシングするが、厚板のときはドリルで予めピア
ッシングしておくのが普通である。
【０００５】ところで上記、切断時に非酸化性ガスを用
いて被切断材を切断するプラズマ切断方法では、切断時
は、上述の通り、確かにドロス付着が少なく切断面がき
れいであり、さらに電極消耗も少ないが、上記ピアッシ
ングスタートさせると、プラズマガスが酸素ガスＯ2 を
含んでいないため、酸化反応熱を利用できず、このた
め、ピアッシング時間が長くなるという問題がある。こ
れは板厚が厚くなる場合や被切断材がステンレス鋼の場
合、顕著である。さらに時間が長くなるということは、
プラズマトーチに吹き上げドロスが付着し易くなる機会
が増えることであり、このためドロスが付着してプラズ
マトーチにダブルアークが発生し、プラズマトーチの早
期寿命の原因となっている。
いて被切断材を切断するプラズマ切断方法では、切断時
は、上述の通り、確かにドロス付着が少なく切断面がき
れいであり、さらに電極消耗も少ないが、上記ピアッシ
ングスタートさせると、プラズマガスが酸素ガスＯ2 を
含んでいないため、酸化反応熱を利用できず、このた
め、ピアッシング時間が長くなるという問題がある。こ
れは板厚が厚くなる場合や被切断材がステンレス鋼の場
合、顕著である。さらに時間が長くなるということは、
プラズマトーチに吹き上げドロスが付着し易くなる機会
が増えることであり、このためドロスが付着してプラズ
マトーチにダブルアークが発生し、プラズマトーチの早
期寿命の原因となっている。
【０００６】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、
ドロス付着が少なく切断面がきれいな切断製品が得ら
れ、また電極消耗が少なく、さらにピアッシング時にも
高速切断できるプラズマ切断方法を提供することを目的
とする。
ドロス付着が少なく切断面がきれいな切断製品が得ら
れ、また電極消耗が少なく、さらにピアッシング時にも
高速切断できるプラズマ切断方法を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、第１発明なるプラズマ切断方法は、切断時にプラズ
マガスとして非酸化性ガスを用いて被切断材を切断する
プラズマ切断方法において、ピアッシング時はプラズマ
ガスとして酸化性ガスを用い、切断時はプラズマガスと
して非酸化性ガスを用いて被切断材を切断することを特
徴としている。
め、第１発明なるプラズマ切断方法は、切断時にプラズ
マガスとして非酸化性ガスを用いて被切断材を切断する
プラズマ切断方法において、ピアッシング時はプラズマ
ガスとして酸化性ガスを用い、切断時はプラズマガスと
して非酸化性ガスを用いて被切断材を切断することを特
徴としている。
【０００８】
【作用】上記発明によれば、ピアッシング時にプラズマ
ガスとして酸化性ガスを用いるため、ピアッシング時に
酸化反応熱が得られる。このためピアッシング時間が短
くなる。
ガスとして酸化性ガスを用いるため、ピアッシング時に
酸化反応熱が得られる。このためピアッシング時間が短
くなる。
【０００９】
【実施例】第２図は本発明を実施したプラズマ切断機の
例機であり、プラズマトーチ４は中心部の電極１と外周
部のノズル２との間にプラズマガス７の通路１０を備え
ている。通路１０は２つの通路８、９の合流通路であ
り、通路８は開閉弁１３と流量制御弁１２とを備えて窒
素ガスＮ2 の供給源１１に接続されている。他方通路９
は開閉弁１６と流量制御弁１５とを備えて酸素ガスＯ2
の供給源１４に接続されている。尚、上記開閉弁と流量
制御弁との装着順序は逆であっても、また、一体型であ
っても構わない。
例機であり、プラズマトーチ４は中心部の電極１と外周
部のノズル２との間にプラズマガス７の通路１０を備え
ている。通路１０は２つの通路８、９の合流通路であ
り、通路８は開閉弁１３と流量制御弁１２とを備えて窒
素ガスＮ2 の供給源１１に接続されている。他方通路９
は開閉弁１６と流量制御弁１５とを備えて酸素ガスＯ2
の供給源１４に接続されている。尚、上記開閉弁と流量
制御弁との装着順序は逆であっても、また、一体型であ
っても構わない。
【００１０】電極１は電源１７の陰極に接続され、他方
被切断材６は陽極に接続されている。陽極側には電流検
出器１８が備えられている。電流検出器１８、流量制御
弁１２、１５及び開閉弁１３、１６は制御装置１９へ接
続されている。
被切断材６は陽極に接続されている。陽極側には電流検
出器１８が備えられている。電流検出器１８、流量制御
弁１２、１５及び開閉弁１３、１６は制御装置１９へ接
続されている。
【００１１】上記例機における第１実施例を図１（ａ）
及び（ｂ）を参照して説明する。制御装置１９から出力
されたプラズマ起動指令Ａにより開閉弁１６が開き、か
つ、流量制御弁１５の開度が調整される。これにより小
量の酸素ガスＯ2 がプラズマガス７としてプラズマトー
チ４へ流れ、ピアッシングが行なわれる。次に制御装置
１９から切断開始指令Ｂが出力されると、開閉弁１６が
閉じ、酸素ガスＯ2 の供給が停止すると共に、開閉弁１
３が開き、かつ、流量制御弁１５の開度が調整され、こ
れにより大量の窒素ガスＮ2 がプラズマガス７としてプ
ラズマトーチ４へ流れ、切断が行なわれる。尚、切断開
始指令Ｂの出力時期は、例えばプラズマアーク成立時に
生ずる電流を電流検出器１８で検出した時点から起算す
るタイマで行ってもよく、前記プラズマ起動指令Ａの出
力から起算するタイマで行ってもよい。
及び（ｂ）を参照して説明する。制御装置１９から出力
されたプラズマ起動指令Ａにより開閉弁１６が開き、か
つ、流量制御弁１５の開度が調整される。これにより小
量の酸素ガスＯ2 がプラズマガス７としてプラズマトー
チ４へ流れ、ピアッシングが行なわれる。次に制御装置
１９から切断開始指令Ｂが出力されると、開閉弁１６が
閉じ、酸素ガスＯ2 の供給が停止すると共に、開閉弁１
３が開き、かつ、流量制御弁１５の開度が調整され、こ
れにより大量の窒素ガスＮ2 がプラズマガス７としてプ
ラズマトーチ４へ流れ、切断が行なわれる。尚、切断開
始指令Ｂの出力時期は、例えばプラズマアーク成立時に
生ずる電流を電流検出器１８で検出した時点から起算す
るタイマで行ってもよく、前記プラズマ起動指令Ａの出
力から起算するタイマで行ってもよい。
【００１２】第１実施例の試験データを図３に示す。試
験は、電流３００Ａ、酸素ガスＯ2及び窒素ガスＮ2 の
ガス圧６ｋｇ／ｃｍ2 の上記例機を用い、ピアス高さ１
５ｍｍで、被切断材６なるステンレス鋼の各板厚毎にそ
のピアッシング時間を調べたものである。同図におい
て、板厚〔ｍｍ〕を横軸、ピアッシング時間〔秒〕を縦
軸に示す。同図から明らかなように、第１実施例によれ
ば、ピアッシング時には、窒素ガスＮ2 よりも酸素ガス
Ｏ2 を用いた方がピアッシング時間が短いことが分か
る。しかも窒素ガスＮ2 では板厚が約３５ｍｍ以上では
ピアッシング不能であるが、酸素ガスＯ2 では板厚が４
０ｍｍ以上でもピアッシング可能である。
験は、電流３００Ａ、酸素ガスＯ2及び窒素ガスＮ2 の
ガス圧６ｋｇ／ｃｍ2 の上記例機を用い、ピアス高さ１
５ｍｍで、被切断材６なるステンレス鋼の各板厚毎にそ
のピアッシング時間を調べたものである。同図におい
て、板厚〔ｍｍ〕を横軸、ピアッシング時間〔秒〕を縦
軸に示す。同図から明らかなように、第１実施例によれ
ば、ピアッシング時には、窒素ガスＮ2 よりも酸素ガス
Ｏ2 を用いた方がピアッシング時間が短いことが分か
る。しかも窒素ガスＮ2 では板厚が約３５ｍｍ以上では
ピアッシング不能であるが、酸素ガスＯ2 では板厚が４
０ｍｍ以上でもピアッシング可能である。
【００１３】第２実施例を図１（ａ）及び（ｃ）に示
す。制御装置１９が切断開始指令Ｂを出力する少し前Ｂ
１に開閉弁１３を開き、かつ、流量調整弁１２を調整し
て窒素ガスＮ2 を流しており、このようにしてもよい。
尚、実際の制御に際しては、制御装置１９はプラズマ起
動指令Ａを出力した後、切断開始指令Ｂが出力される前
の時刻Ｂ１を見計らってタイマにより、前記動作指令Ｂ
１を開閉弁１３と流量調整弁１２とへ出力することにな
る。
す。制御装置１９が切断開始指令Ｂを出力する少し前Ｂ
１に開閉弁１３を開き、かつ、流量調整弁１２を調整し
て窒素ガスＮ2 を流しており、このようにしてもよい。
尚、実際の制御に際しては、制御装置１９はプラズマ起
動指令Ａを出力した後、切断開始指令Ｂが出力される前
の時刻Ｂ１を見計らってタイマにより、前記動作指令Ｂ
１を開閉弁１３と流量調整弁１２とへ出力することにな
る。
【００１４】尚、酸化性ガスは、酸素ガス又は酸素ガス
を含むガスであり、かつ、非酸化性ガスは、少なくとも
窒素ガス、アルゴンガス、水素ガス、メタンガス等を含
むガスである。
を含むガスであり、かつ、非酸化性ガスは、少なくとも
窒素ガス、アルゴンガス、水素ガス、メタンガス等を含
むガスである。
【００１５】
【発明の効果】以上の実施例の説明から明らかなよう
に、本発明は、要するに、請求の範囲記載の手段を講じ
た構成であって、上記実施例の説明から明らかなよう
に、次のような効果を奏する。
に、本発明は、要するに、請求の範囲記載の手段を講じ
た構成であって、上記実施例の説明から明らかなよう
に、次のような効果を奏する。
【００１６】（１）切断時、最適選択された非酸化性ガ
スを用いるため、切断製品の切断部は、ドロス付着が少
なく、その切断面がきれいであり、さらに電極消耗も少
ない。 （２）ピアッシング時、酸化性ガスを用いるため、酸化
反応熱を利用できる。このためピアッシング時間が短く
なる。 （３）ピアッシング時間が短くなるため、プラズマトー
チへのドロス付着が少なく、このためプラズマトーチの
ダブルアークを防止でき、プラズマトーチの寿命延長を
図ることができる。 （４）ピアッシング可能板厚が厚くなる。このため、ド
リルで予めピアッシングしておくという前工程を省略で
きる板厚範囲が広くなる。
スを用いるため、切断製品の切断部は、ドロス付着が少
なく、その切断面がきれいであり、さらに電極消耗も少
ない。 （２）ピアッシング時、酸化性ガスを用いるため、酸化
反応熱を利用できる。このためピアッシング時間が短く
なる。 （３）ピアッシング時間が短くなるため、プラズマトー
チへのドロス付着が少なく、このためプラズマトーチの
ダブルアークを防止でき、プラズマトーチの寿命延長を
図ることができる。 （４）ピアッシング可能板厚が厚くなる。このため、ド
リルで予めピアッシングしておくという前工程を省略で
きる板厚範囲が広くなる。
【００１７】また上記第２実施例のように、酸化性ガス
から非酸化性ガスへの移行時において、酸化性ガスの供
給停止前に非酸化性ガスを供給すると、さらに次のよう
な効果も奏する。 （５）供給ガスに途切れがなくなるため、プラズマアー
クが安定する。即ち、切断品質が安定する。 （６）ガス圧変動が、非酸化性ガスの供給と酸化性ガス
の停止とが同時に行われる場合と比較し、段階的に行わ
れるため、プラズマアークが安定する。即ち、切断品質
が安定する。 （７）電極が、例えばタングステンのように、酸化する
と溶融点が下がるような金属である場合、非酸化性ガス
によって酸化性ガスによる該電極の酸化を幾分でも阻止
できるようになる。つまり電極の寿命延長にも寄与する
ようになる。
から非酸化性ガスへの移行時において、酸化性ガスの供
給停止前に非酸化性ガスを供給すると、さらに次のよう
な効果も奏する。 （５）供給ガスに途切れがなくなるため、プラズマアー
クが安定する。即ち、切断品質が安定する。 （６）ガス圧変動が、非酸化性ガスの供給と酸化性ガス
の停止とが同時に行われる場合と比較し、段階的に行わ
れるため、プラズマアークが安定する。即ち、切断品質
が安定する。 （７）電極が、例えばタングステンのように、酸化する
と溶融点が下がるような金属である場合、非酸化性ガス
によって酸化性ガスによる該電極の酸化を幾分でも阻止
できるようになる。つまり電極の寿命延長にも寄与する
ようになる。
【００１８】プラズマ切断は低コストであるにも係わら
ず、ガス切断とレーザ切断との中間の切断品質を提供で
きる利点がある。近時、この利点が着目され、プラズマ
切断装置が大量生産ラインにも投入されつつある。かか
る実情において、本発明なるプラズマ切断方法は、大量
生産に欠かせない、１つの被切断材から多数の切断製品
を得るときのピアッシングスタートについての最良の方
法の一つを提供するものであり、産業上の利用性は極め
て高い。
ず、ガス切断とレーザ切断との中間の切断品質を提供で
きる利点がある。近時、この利点が着目され、プラズマ
切断装置が大量生産ラインにも投入されつつある。かか
る実情において、本発明なるプラズマ切断方法は、大量
生産に欠かせない、１つの被切断材から多数の切断製品
を得るときのピアッシングスタートについての最良の方
法の一つを提供するものであり、産業上の利用性は極め
て高い。
【図１】本発明のタイムチャートであり、（ａ）は第１
実施例及び第２実施例に共通のプラズマ起動指令、
（ｂ）は第１実施例であって（ｂ１）は酸化性ガス用開
閉弁の駆動、（ｂ２）は非酸化性ガス用開閉弁の駆動、
（ｃ）は第２実施例であって（ｃ１）は酸化性ガス用開
閉弁の駆動、（ｃ２）は非酸化性ガス用開閉弁の駆動で
ある。
実施例及び第２実施例に共通のプラズマ起動指令、
（ｂ）は第１実施例であって（ｂ１）は酸化性ガス用開
閉弁の駆動、（ｂ２）は非酸化性ガス用開閉弁の駆動、
（ｃ）は第２実施例であって（ｃ１）は酸化性ガス用開
閉弁の駆動、（ｃ２）は非酸化性ガス用開閉弁の駆動で
ある。
【図２】本発明の実施例を実施したプラズマ切断機の概
要説明図である。
要説明図である。
【図３】本発明の試験成績グラフである。
【図４】ピアッシングスタートを説明する図である。
１・・・・電極 ２・・・・ノズル ４・・・・プラズマトーチ ６・・・・被切断材６ ７・・・・プラズマガス ８、９、１０・・・・通路 １２・・・・窒素ガス用の流量制御弁 １３・・・・窒素ガス用の開閉弁 １５・・・・酸素ガス用の流量制御弁 １６・・・・酸素ガス用の開閉弁 １７・・・・電源 １８・・・・電流検出器 １９・・・・制御装置
Claims (1)
- 【請求項１】 切断時にプラズマガスとして非酸化性ガ
スを用いて被切断材を切断するプラズマ切断方法におい
て、ピアッシング時はプラズマガスとして酸化性ガスを
用い、切断時はプラズマガスとして非酸化性ガスを用い
て被切断材を切断することを特徴とするプラズマ切断方
法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6135169A JPH07314143A (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | プラズマ切断方法 |
| KR1019950008915A KR950031350A (ko) | 1994-05-25 | 1995-04-15 | 플라즈마절단방법 |
| PCT/JP1995/000979 WO1995032072A1 (fr) | 1994-05-25 | 1995-05-23 | Procede et appareil de decoupage au plasma |
| US08/750,033 US5801355A (en) | 1994-05-25 | 1995-05-23 | Plasma piercing with non-oxidative plasma gas and plasma cutting with oxidative plasma gas |
| CA002191208A CA2191208A1 (en) | 1994-05-25 | 1995-05-23 | Method and apparatus for plasma cutting |
| CN95193103A CN1148355A (zh) | 1994-05-25 | 1995-05-23 | 等离子切割方法及其装置 |
| EP95918763A EP0768139A4 (en) | 1994-05-25 | 1995-05-23 | METHOD AND DEVICE FOR PLASMA CUTTING |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6135169A JPH07314143A (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | プラズマ切断方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07314143A true JPH07314143A (ja) | 1995-12-05 |
Family
ID=15145452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6135169A Pending JPH07314143A (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | プラズマ切断方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5801355A (ja) |
| EP (1) | EP0768139A4 (ja) |
| JP (1) | JPH07314143A (ja) |
| KR (1) | KR950031350A (ja) |
| CN (1) | CN1148355A (ja) |
| CA (1) | CA2191208A1 (ja) |
| WO (1) | WO1995032072A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09201674A (ja) * | 1996-01-22 | 1997-08-05 | Ondo Kogyo Kk | 溶接方法及び溶接装置 |
| WO2006126339A1 (ja) * | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Komatsu Industries Corporation | プラズマ切断装置及び方法 |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2787363B1 (fr) * | 1998-12-22 | 2001-01-19 | Soudure Autogene Francaise | Procede d'oxycoupage avec prechauffage par plasma de materiaux ferreux, tels les aciers de construction |
| US6232574B1 (en) * | 2000-01-13 | 2001-05-15 | The Esab Group, Inc. | Method and apparatus for improving plasma ARC consumable life |
| FR2805192B1 (fr) * | 2000-02-18 | 2002-06-28 | Air Liquide | Procede et installation de travail a l'arc plasma avec gaz a teneurs controlees en o2 et n2 |
| US6359251B1 (en) | 2000-04-10 | 2002-03-19 | Hypertherm, Inc. | Centralized control architecture for a plasma arc system |
| US6622058B1 (en) | 2000-04-10 | 2003-09-16 | Tate S. Picard | Centralized control architecture for a plasma arc system |
| US6772040B1 (en) | 2000-04-10 | 2004-08-03 | Hypertherm, Inc. | Centralized control architecture for a plasma arc system |
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| JP3652350B2 (ja) * | 2002-12-17 | 2005-05-25 | コマツ産機株式会社 | プラズマ加工方法 |
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| JP2004351449A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Komatsu Sanki Kk | プラズマ切断装置及びそれの制御装置 |
| US20060163220A1 (en) | 2005-01-27 | 2006-07-27 | Brandt Aaron D | Automatic gas control for a plasma arc torch |
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