JPH07291903A - N,n−ジ置換ベンジルアミンの製造方法 - Google Patents
N,n−ジ置換ベンジルアミンの製造方法Info
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Abstract
ジ置換ベンジルアミンを製造することのできる方法を提
供する。 【構成】 ベンズアルデヒドと一般式(1):R1R2 N
H(式中、R1及びR2 は同じか、或は異なってアルキル
基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基を
示す。)で表わされる第2級アミンとを反応させ、得ら
れた反応生成物を白金族触媒の存在下、水素化して次の
一般式(2): 【化1】 (式中、R1及びR2 は上記と同じ。)で表わされるN,
N−ジ置換ベンジルアミンを製造する。
Description
ルアミンの製造方法に関する。N,N−ジ置換ベンジル
アミンはウレタンフォーム用触媒、乳化剤、分散剤、防
錆剤、殺菌剤、繊維染色助剤、繊維柔軟処理剤用の中間
体等に用いられる有用な物質である。
ミン等のN,N−ジ置換ベンジルアミンの製造方法につ
いては種々知られている。例えばジメチルベンジルアミ
ンの製造法としては、ベンジルアミンをホルムアルデ
ヒドでN−メチル化して製造する方法、第4級アンモ
ニウム塩のジメチルジベンジルアンモニウム・クロリド
をNaOHで脱ベンジル化して得る方法(特公昭50−
7569)、N,N−ジメチルベンズアミドをNaB
H4で水素化して得る方法(特開昭54−14430
1)等がある。又、類縁体である置換基を有するベン
ズアルデヒドとジメチルアミンより、対応する第3級ア
ミンを得る方法(J.Am.Chem.Soc.,10
5,4136(1983))等がある。
〜の方法は、ほぼ定量的に進行するものもあるが、出
発物質に高価な化合物を使用しなければならない。又、
の方法では最も良いものでも第3級アミンの収率が8
3%に過ぎない。このように、従来法には高価な出発物
質の使用、工業的に満足し難い収率等、N,N−ジ置換
ベンジルアミンの工業的製造において不利な点が存在す
る。本発明は、安価な出発物質を用いて、高収率でN,
N−ジ置換ベンジルアミンを製造することのできる方法
を提供することを目的とする。
術の問題点を解決すべく鋭意検討した結果、先ず安価な
ベンズアルデヒドと第2級アミンとを反応させ、次に得
られた反応生成物を白金族触媒の存在下で水素化する
と、N,N−ジ置換ベンジルアミンが極めて高収率で製
造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
アミンとを反応させて得られる反応生成物を白金族触媒
の存在下、水素化することを特徴とするN,N−ジ置換
ベンジルアミンの製造方法に関する。本発明において
は、ベンズアルデヒドと第2級アミンとを反応させて得
られた反応生成物を水素化すること、及び水素化触媒と
して白金族触媒を用いること、この両者を適用すること
がN,N−ジ置換ベンジルアミンを高収率で製造するた
めに重要である。本発明は、かかる知見に基づいて完成
したものである。
おいて使用される第2級アミンは、一般式(1):R1
R2 NH(式中、R1及びR2 は同じか、或は異なってア
ルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリー
ル基を示す。)で表わされる第2級アミンであり、この
第2級アミンとベンズアルデヒドを出発物質として、一
般式(2):
N−ジ置換ベンジルアミンが得られる。
1及びR2 は同じか、或は異なってアルキル基、シクロア
ルキル基、アラルキル基又はアリール基を示し、アルキ
ル基は炭素数1〜6のアルキル基であり、具体的にはメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げ
られる。シクロアルキル基は炭素数3〜6のシクロアル
キル基であり、例えばシクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ
る。アラルキル基としてはベンジル基、フェネチル基等
が挙げられ、アリール基としてはフェニル基、トルイル
基等が挙げられる。
ては、例えばジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン、ジイソブチルアミン、メチルエチルア
ミン、エチルプロピルアミン、エチルヘキシルアミン、
ジシクロヘキシルアミン、メチルベンジルアミン、エチ
ルベンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフェニルアミ
ン等が好適に使用されるがこれらに限定されるものでは
ない。これら第2級アミンはそのままで、又は水溶液で
使用することができる。
N,N−ジ置換ベンジルアミンの具体例としては、例え
ばN,N−ジメチルベンジルアミン、N,N−ジエチル
ベンジルアミン、N,N−ジイソプロピルベンジルアミ
ン、N,N−ジイソブチルベンジルアミン、N−メチル
−N−エチルベンジルアミン、N−エチル−N−プロピ
ルベンジルアミン、N−エチル−N−ヘキシルベンジル
アミン、N,N−ジシクロヘキシルベンジルアミン、N
−メチルジベンジルアミン、N−エチルジベンジルアミ
ン、トリベンジルアミン、N,N−ジフェニルベンジル
アミン等が挙げられるがこれらに限定されるものではな
い。
反応器に第2級アミンの水溶液を仕込み、ここへ撹拌
下、所望の温度まで昇温しながらベンズアルデヒドを加
えて反応を行う。その後同温度に保ち数時間反応を続け
る。反応終了後、反応液を冷却して、分離したオイル状
のベンズアルデヒドと第2級アミンとの反応生成物(以
下、オイル状反応生成物という。)と水層とを分液す
る。オイル状反応生成物を分液した後、このオイル状反
応生成物をオートクレーブに白金族触媒と共に仕込み、
加熱、撹拌下、水素を導入しながら水素化を行うと、目
的とするN,N−ジ置換ベンジルアミンが生成する。
反応は1対1のモル比で反応が起るため、第2級アミン
の使用量はベンズアルデヒドと当モル以上であれば特に
制限はない。反応は常圧〜2MPa、好ましくは常圧〜
0.5MPaの圧力下、0〜100℃、好ましくは20
〜80℃の温度でベンズアルデヒドを数時間かけて加え
る。その後同温度に1〜5時間保ち反応を完結させ、室
温付近まで冷却する。原料に用いる第2級アミンが水溶
液の場合、反応液は二層に分離しており、このときは分
液してオイル状反応生成物を得る。第2級アミンをその
まま原料として使用する場合には均一な反応液が得ら
れ、反応液をそのまま次の水素化へ供することができる
が、過剰に使用した原料の第2級アミンを除くために、
反応液に水を加えて分液し、過剰の第2級アミンを水層
へ除去したオイル状反応生成物を得てもよい。ここで、
分液して得られたオイル状反応生成物には、実質的に水
分が含有されている状態でも含有されていない状態で
も、後の水素化反応において副生成物として水が生成し
てくるためいずれも適用することができるが、分液して
得たオイル状反応生成物をNa2SO4、MgSO4等で
脱水処理したものが好ましい。
媒の存在下で水素化すると目的とするN,N−ジ置換ベ
ンジルアミンが生成する。この水素化において使用され
る白金族触媒は、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、
オスミウム、イリジウム及び白金からなる群から選ばれ
る1種又は2種以上の金属、或はその化合物が好適に使
用でき、これらが適当な担体に担持されていても、担持
されてなくてもよい。担体に担持されたものを使用する
場合、担体としては、シリカ、アルミナ、シリカアルミ
ナ、希土類金属酸化物等の金属酸化物、無機塩類、活性
炭、樹脂などが挙げられるがこの限りではない。白金族
触媒の使用量はオイル状反応生成物に対して、例えば市
販品として入手が容易な5%パラジウム−カーボン(以
下、5%−Pd/Cという。)を使用する場合、通常
0.001〜10重量%、好ましくは0.01〜5重量
%である。他の触媒を使用するときも、これに準じた量
の金属を含むような触媒量を使用すればよい。
宜反応条件を選択することができるが、通常は、反応圧
0.1〜20MPa、好ましくは、0.1〜6MPa、
反応温度20〜250℃、好ましくは40〜140℃の
条件下で行われる。このような条件下で水素化を行うと
工業的生産において実用的な反応速度が維持され、副反
応がほとんど起こらず、高収率で目的のN,N−ジ置換
ベンジルアミンが生成する。この水素化は回分式でも、
流通式でも前記オイル状反応生成物を用いるのであれば
適用することができる。
んど生じないため、N,N−ジ置換ベンジルアミンの精
製は、蒸留を行うだけで容易に純度99%以上の高純度
N,N−ジ置換ベンジルアミンが得られる。例えば、水
素化反応終了後、反応液を濾過して触媒を濾別し、濾液
に含まれる副生の水を分液して除き、オイル層を蒸留す
ると、精製されたN,N−ジ置換ベンジルアミンが得ら
れる。
詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例によりなん
ら限定されるものではない。 実施例1 容量2リットルの反応器に50%ジメチルアミン水溶液
947gを仕込み、撹拌下、25℃から最終的に60℃
に昇温しながらベンズアルデヒド1061gを2時間か
けて滴下し、更に60℃で2時間熟成を行った。反応終
了後、反応液を室温まで冷却し、オイル層と水層とに分
液した。分液して得られたオイル層1513gのうち、
600gを1リットルのオートクレーブに5%−Pd/
C0.6gと共に仕込み、水素を導入しながら、水素圧
4MPa下、80℃、3時間で水素化した。水素化終了
後、反応液を室温まで冷却して取り出し、触媒を濾別し
た後、濾液に含まれる副生の水を分液して除き、オイル
層を蒸留すると、純度99.8%のN,N−ジメチルベ
ンジルアミン513g(収率95%)が得られた。
に、水素化温度を120℃に代えておこなった以外は、
実施例1と同様に実施した。その結果、純度99.6%
のN,N−ジメチルベンジルアミン526g(収率98
%)を得た。
りにラネーニッケル30gを用いた以外は実施例1と同
様に実施した。その結果、純度62.7%のN,N−ジ
メチルベンジルアミン398g(収率46.7%)を得
た。
ミン279gと5%−Pd/C23gを仕込んだ後、水
素圧4MPa、120℃でベンズアルデヒド318gを
3時間かけて圧入しながら、且つ水素を導入しながら反
応を行った。反応終了後、触媒を濾過し、濾液を分液し
て得られたオイル層744.7gをガスクロマトグラフ
ィーで分析するとN,N−ジメチルベンジルアミン収率
0.41%分が観測された。
価なベンズアルデヒドと第2級アミンから極めて高収率
で目的とするN,N−ジ置換ベンジルアミンを製造する
ことができる。又、本発明の方法によると水以外の副生
成物がほとんどないため、蒸留により容易に高純度の
N,N−ジ置換ベンジルアミンを得ることができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 ベンズアルデヒドと第2級アミンとを反
応させて得られる反応生成物を白金族触媒の存在下、水
素化することを特徴とするN,N−ジ置換ベンジルアミ
ンの製造方法。 - 【請求項2】 第2級アミンが、一般式(1):R1R2
NH(式中、R1及びR2 は同じか、或は異なってアルキ
ル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基
を示す。)で表わされる第2級アミンである請求項1又
は2記載の方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP11213594A JP3544701B2 (ja) | 1994-04-26 | 1994-04-26 | N,n−ジ置換ベンジルアミンの製造方法 |
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JPH07291903A true JPH07291903A (ja) | 1995-11-07 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017025012A (ja) * | 2015-07-17 | 2017-02-02 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | メチルアミノ基を有する芳香族化合物又はフラン誘導体の製造法 |
CN115184529A (zh) * | 2022-06-29 | 2022-10-14 | 河北广祥制药有限公司 | 一种n-甲基苄胺有关物质的检测方法 |
CN115845881A (zh) * | 2022-12-19 | 2023-03-28 | 山东中科新材料研究院有限公司 | 一种加氢催化剂及其制备方法和一种n,n-二甲基苄胺的制备方法 |
CN115850087A (zh) * | 2022-08-25 | 2023-03-28 | 重庆合汇制药有限公司 | 一种制备n,n-二甲基苄胺的方法 |
-
1994
- 1994-04-26 JP JP11213594A patent/JP3544701B2/ja not_active Expired - Fee Related
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CN115845881B (zh) * | 2022-12-19 | 2024-04-26 | 山东中科新材料研究院有限公司 | 一种加氢催化剂及其制备方法和一种n,n-二甲基苄胺的制备方法 |
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