JPH07281171A - Production device for color filter - Google Patents

Production device for color filter

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Publication number
JPH07281171A
JPH07281171A JP6881194A JP6881194A JPH07281171A JP H07281171 A JPH07281171 A JP H07281171A JP 6881194 A JP6881194 A JP 6881194A JP 6881194 A JP6881194 A JP 6881194A JP H07281171 A JPH07281171 A JP H07281171A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
color filter
black matrix
substrate
matrix film
overcoat
Prior art date
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Pending
Application number
JP6881194A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masasuke Miyamoto
昌祐 宮本
Shunji Takahashi
俊二 高橋
Nobuhiro Inoue
信博 井之上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP6881194A priority Critical patent/JPH07281171A/en
Publication of JPH07281171A publication Critical patent/JPH07281171A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To maintain a high working rate, to improve the working efficiency, to decrease the production of defective products, and to obtain a high yield by installing an in-line inspecting device and an extracting device of defective products at a specified position in this order and installing at least two devices adjacent to each other of a device to form a black matrix film, device to process a pattern and device to apply an overcoat. CONSTITUTION:This production device for a color filter includes a device to form a black matrix film, pattern processing device to process each pattern of three primary colors, and a device to apply an overcoat film. In-line inspecting devices 1c, 2b and extracting devices of defective products 1d, 2c are installed in this order at a specified position. Further, at least two of the device to form a black matrix film, pattern processing device, and device to apply an overcoat are successively installed. Further, a supply device 3 to supply a substrate to be treated which responses to the rejection of defective products and supplies a substrate to be treated in the successive stage is installed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はカラーフィルタ製造装
置に関し、さらに詳細にいえば、液晶ディスプレイ(以
下、LCDと略称する)用のカラーフィルタを製造する
ための装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a color filter, and more particularly to an apparatus for manufacturing a color filter for a liquid crystal display (hereinafter abbreviated as LCD).

【0002】[0002]

【従来の技術】LCD用のカラーフィルタを製造するに
当っては、ガラス基板上に格子状のブラックマトリクス
膜を形成する工程、色の3原色のそれぞれのパターン加
工を行なう工程等が必要であり、しかも、これら各工程
は、各種処理(膜形成処理、露光処理、現像処理等)を
順次行なう必要があるので、全体として工程が長く、し
かも複雑になる。
2. Description of the Related Art In manufacturing a color filter for an LCD, a step of forming a grid-like black matrix film on a glass substrate, a step of patterning each of the three primary colors, and the like are necessary. Moreover, in each of these processes, various processes (film forming process, exposure process, development process, etc.) must be sequentially performed, so that the process as a whole becomes long and complicated.

【0003】そして、カラーフィルタ製造装置全体とし
ての稼働率を高く維持するとともに、何れかの工程が故
障等に起因して停機した場合における加工不良品の発生
を低減するために、上記各工程は互に独立させられてい
る。したがって、各工程の停機等が直接的に他の工程に
影響を及ぼすという不都合を解消することができ、カラ
ーフィルタ製造装置全体としての稼働率を高く維持する
ことができるとともに、加工不良品の発生の可能性を低
減することができる。ここで、加工不良品の発生に関し
ては、例えば、ブラックマトリクス膜形成工程、パター
ン加工工程等に含まれる現像処理においては、所定時間
だけ被処理基板を現像液に浸漬させることが必要であ
り、この浸漬時間をかなり高精度に制御することが要求
されるのである。しかし、次の工程が故障により停機し
たような場合であって、両工程を連続させている場合に
は、被処理基板が必要以上に長時間停止してしまう。こ
の結果、現像時間が著しく長くなって、加工不良品が発
生してしまう。これに対して、各工程をそれぞれ独立さ
せておけば、次の工程が停機したような場合であって
も、該当する工程における処理所要時間等を正確に制御
することができ、上述のように加工不良品が発生する可
能性を著しく低減することができる。また、稼働率に関
しては、複数の工程が連続させられている場合であっ
て、何れかの工程が停機した場合には、被処理基板が次
の工程に送られなくなってしまい、次の工程以降の全て
の工程を稼働させることができなくなってしまうので、
カラーフィルタ製造装置全体としての稼働率が著しく低
下してしまう。しかし、各工程を独立させておけば、何
れかの工程が停機した場合であっても、他の工程を動作
させ続けることができ、カラーフィルタ製造装置全体と
しての稼働率を高めることができる。
In order to maintain a high operating rate of the color filter manufacturing apparatus as a whole and to reduce the production of defective products when one of the steps is stopped due to a failure or the like, the above steps are performed. They are independent of each other. Therefore, it is possible to eliminate the inconvenience that the stoppage of each process directly affects the other processes, and it is possible to maintain a high operating rate of the color filter manufacturing apparatus as a whole and to generate defective products. It is possible to reduce the possibility of Here, regarding the occurrence of defective products, for example, in the development processing included in the black matrix film forming step, the pattern processing step, etc., it is necessary to immerse the substrate to be processed in a developing solution for a predetermined time. It is necessary to control the immersion time with a very high precision. However, when the next process is stopped due to a failure and both processes are continued, the substrate to be processed is stopped for an unnecessarily long time. As a result, the developing time becomes extremely long, resulting in defective products. On the other hand, if each process is independent of each other, even if the next process is stopped, the processing required time in the corresponding process can be accurately controlled, and as described above. The possibility of producing defective products can be significantly reduced. Regarding the operation rate, when a plurality of processes are continuous and one of the processes is stopped, the substrate to be processed is not sent to the next process, Since it will not be possible to operate all the processes of
The operating rate of the color filter manufacturing apparatus as a whole is significantly reduced. However, if each process is made independent, even if one of the processes is stopped, the other processes can continue to operate, and the operating rate of the color filter manufacturing apparatus as a whole can be increased.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、各工程を他の
工程から独立させれば、1の工程と他の工程との間にお
いてガラス基板をハンドリングしなければならないの
で、カラーフィルタ製造装置全体としての作業効率を高
めることができないとともに、加工収率を余り高めるこ
とかできない。
However, if each process is made independent of other processes, the glass substrate must be handled between one process and the other process, so that the color filter manufacturing apparatus as a whole has to be handled. It is not possible to increase the working efficiency of No. 1 and the processing yield can not be increased so much.

【0005】これらの点についてさらに詳細に説明す
る。各工程を他の工程から独立させ、ハンドリング部を
設ける場合には、予め一体的に装置構成を設定してなる
工程を配置し、各工程の配置が定まった後に、これらの
配置に対応させて被処理基板をハンドリングするための
ハンドリング部を配置することになる。したがって、各
工程の配置状態によっては、ハンドリング所要距離が長
いハンドリング部とハンドリング所要距離が短いハンド
リング部とが混在することになり、ハンドリング部にお
ける所要時間がばらついてしまう。この結果、カラーフ
ィルタ製造装置全体としての作業効率が、最も所要時間
が長いハンドリング部により規定されてしまうのであ
る。
These points will be described in more detail. When each process is independent of other processes and a handling part is provided, the processes configured by integrally setting the device configuration are arranged in advance, and after the arrangement of each process is determined, the arrangement is made to correspond to these arrangements. A handling unit for handling the substrate to be processed is arranged. Therefore, depending on the arrangement state of each process, the handling section with a long handling required distance and the handling section with a short handling required distance coexist, and the required time in the handling section varies. As a result, the working efficiency of the color filter manufacturing apparatus as a whole is regulated by the handling unit that takes the longest time.

【0006】また、カラーフィルタの加工収率を向上さ
せるためには、塵芥の発生源になる作業者によるハンド
リングの機会を少なくすること、被処理基板を、工程間
ハンドリングに使用されるカセットに出し入れする回数
を少なくすることが有効であることが知られている。し
かし、各工程を他の工程から独立させると、作業者によ
るハンドリングの機会、工程間ハンドリングに使用され
るカセットへの被処理基板の出し入れ回数が必然的に増
加することになるので、加工収率を余り高めることがで
きない。
Further, in order to improve the processing yield of the color filter, it is necessary to reduce the chance of handling by a worker who becomes a source of dust, and to put the substrate to be processed into and out of a cassette used for handling between steps. It is known that it is effective to reduce the number of times to do. However, if each process is made independent of other processes, the chance of handling by the operator and the number of times the substrate to be processed is taken in and out of the cassette used for inter-process handling will inevitably increase. Can not be raised too much.

【0007】即ち、高稼働率の維持、作業効率の向上、
加工不良品の発生の低減、高収率化を全て満足すること
ができるカラーフィルタ製造装置は提供されていなかっ
た。
That is, maintaining a high operating rate, improving work efficiency,
There has not been provided a color filter manufacturing apparatus capable of satisfying all of the reduction of defective products and the high yield.

【0008】[0008]

【発明の目的】この発明は上記の問題点に鑑みてなされ
たものであり、高稼働率の維持、作業効率の向上、加工
不良品の発生の低減、高収率化を満足することができる
カラーフィルタ製造装置を提供することを目的としてい
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to satisfy the requirements of maintaining a high operating rate, improving working efficiency, reducing the occurrence of defective products, and increasing the yield. An object is to provide a color filter manufacturing apparatus.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1のカラーフィル
タ製造装置は、カラーフィルタを製造するための、ブラ
ックマトリクス膜を形成するブラックマトリクス膜形成
装置、色の3原色の各色のパターン加工を行なうパター
ン加工装置、オーバーコート膜を塗布するオーバーコー
ト塗布装置を含むカラーフィルタ製造装置であって、所
定位置に、インライン検査装置および不良品抜き出し装
置をこの順に配置してある。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a color filter manufacturing apparatus, which comprises a black matrix film forming apparatus for forming a black matrix film and a pattern processing for each of the three primary colors. A color filter manufacturing device including a pattern processing device and an overcoat coating device for coating an overcoat film, in which an in-line inspection device and a defective product extraction device are arranged in this order at predetermined positions.

【0010】請求項2のカラーフィルタ製造装置は、ブ
ラックマトリクス膜形成装置、パターン加工装置、オー
バーコート塗布装置の少なくとも2つの装置が連続して
配置されてある。請求項3のカラーフィルタ製造装置
は、不良品の抜き出しに応答して、次段の装置で処理を
行なうべき被処理基板を供給する被処理基板供給装置を
さらに含んでいる。
In the color filter manufacturing apparatus of the second aspect, at least two apparatuses, that is, a black matrix film forming apparatus, a pattern processing apparatus, and an overcoat coating apparatus are continuously arranged. The color filter manufacturing apparatus according to a third aspect of the present invention further includes a processed substrate supply device that supplies a processed substrate to be processed by the next-stage device in response to the removal of the defective product.

【0011】請求項4のカラーフィルタ製造装置は、カ
ラーフィルタを製造するための、ブラックマトリクス膜
を形成するブラックマトリクス膜形成装置、色の3原色
の各色のパターン加工を行なうパターン加工装置、オー
バーコート膜を塗布するオーバーコート塗布装置を含む
カラーフィルタ製造装置であって、連続配置された装置
の接続部に、アンローダ手段と、ローダ手段と、アンロ
ーダ手段およびローダ手段をバイパスするバイパス手段
とを配置してある。
A color filter manufacturing apparatus according to a fourth aspect is a black matrix film forming apparatus for forming a black matrix film for manufacturing a color filter, a pattern processing apparatus for performing pattern processing for each of the three primary colors, and an overcoat. A color filter manufacturing apparatus including an overcoat coating apparatus for coating a film, wherein an unloader means, a loader means, and a bypass means for bypassing the unloader means and the loader means are arranged at a connection portion of the continuously arranged apparatuses. There is.

【0012】請求項5のカラーフィルタ製造装置は、ブ
ラックマトリクス膜形成装置、パターン加工装置、オー
バーコート塗布装置の少なくとも2つの装置が連続して
配置されてある。
In the color filter manufacturing apparatus of the fifth aspect, at least two apparatuses, that is, a black matrix film forming apparatus, a pattern processing apparatus, and an overcoat coating apparatus are continuously arranged.

【0013】[0013]

【作用】請求項1のカラーフィルタ製造装置であれば、
カラーフィルタを製造するための、ブラックマトリクス
膜を形成するブラックマトリクス膜形成装置、色の3原
色の各色のパターン加工を行なうパターン加工装置、オ
ーバーコート膜を塗布するオーバーコート塗布装置を含
むカラーフィルタ製造装置を用いてカラーフィルタを製
造するに当って、所定位置に配置されたインライン検査
装置により処理が正常に行なわれたか否かを検査し、正
常に行なわれていない場合に、該当する不良品を不良品
抜き出し装置により抜き取ることができ、不良品に対し
て次段以降の処理を行なうことを未然に防止することが
できる。したがって、不良品に対する加工処理を必要最
小限にでき、最終的な不良品の発生を大幅に低減し、高
収率化を達成することができる。また、不良品の発生に
より次段以降の工程が影響される可能性が著しく低減さ
れるので、装置全体として高稼働率を維持することがで
きる。
According to the color filter manufacturing apparatus of claim 1,
A color filter manufacturing apparatus including a black matrix film forming apparatus for forming a black matrix film, a pattern processing apparatus for patterning each of the three primary colors, and an overcoat coating apparatus for coating an overcoat film for manufacturing a color filter. When manufacturing a color filter using the device, an in-line inspection device placed at a predetermined position inspects whether or not the process has been performed normally. The defective product can be extracted by the defective product extracting device, and it is possible to prevent the defective product from being processed in the subsequent steps. Therefore, the processing for defective products can be minimized, the final generation of defective products can be significantly reduced, and a high yield can be achieved. Further, the possibility that the subsequent steps are affected by the generation of defective products is significantly reduced, so that the high operation rate of the entire apparatus can be maintained.

【0014】請求項2のカラーフィルタ製造装置であれ
ば、ブラックマトリクス膜形成装置、パターン加工装
置、オーバーコート塗布装置の少なくとも2つの装置が
連続して配置されてあるのて、装置全体としての作業効
率を高めることができるほか、従来の連続加工工程では
達成不可能であった、請求項1と同様の作用をも達成す
ることができる。
In the color filter manufacturing apparatus according to the second aspect, at least two apparatuses, that is, the black matrix film forming apparatus, the pattern processing apparatus and the overcoat coating apparatus are continuously arranged, so that the operation of the apparatus as a whole is performed. Besides improving efficiency, it is possible to achieve the same effect as that of claim 1 which could not be achieved by the conventional continuous machining process.

【0015】請求項3のカラーフィルタ製造装置であれ
ば、不良品の抜き出しに応答して、次段の装置で処理を
行なうべき被処理基板を供給する被処理基板供給装置を
さらに含んでいるので、不良品の抜き出しに拘らず、次
段の装置に必要な数の被処理基板を供給することがで
き、カラーフィルタ製造装置の製造能力を最大限に発揮
させることができる。
In the color filter manufacturing apparatus according to the third aspect of the present invention, the processing apparatus further includes a processing substrate supply device that supplies a processing substrate to be processed by the next-stage device in response to the removal of the defective product. The required number of substrates to be processed can be supplied to the next-stage device regardless of the defective product extraction, and the manufacturing capability of the color filter manufacturing device can be maximized.

【0016】請求項4のカラーフィルタ製造装置であれ
ば、カラーフィルタを製造するための、ブラックマトリ
クス膜を形成するブラックマトリクス膜形成装置、色の
3原色の各色のパターン加工を行なうパターン加工装
置、オーバーコート膜を塗布するオーバーコート塗布装
置を含むカラーフィルタ製造装置を用いてカラーフィル
タを製造するに当って、連続配置された装置の接続部
に、アンローダ手段と、ローダ手段と、アンローダ手段
およびローダ手段をバイパスするバイパス手段とを配置
してあるので、何れの装置も故障していない場合には、
バイパス手段を動作させることにより、所期のカラーフ
ィルタ製造作業を遂行させることができる。また、何れ
かの装置が故障した場合には、前段のアンローダ手段に
より被処理基板を搬出し、次段のローダ手段により被処
理基板を搬入することにより、故障が発生していない装
置を動作させることができ、カラーフィルタ製造装置全
体としての稼働率の低下を必要最小限にすることができ
る。
According to the color filter manufacturing apparatus of claim 4, a black matrix film forming apparatus for forming a black matrix film for manufacturing a color filter, a pattern processing apparatus for performing pattern processing for each of the three primary colors, In manufacturing a color filter using a color filter manufacturing apparatus including an overcoat coating apparatus that coats an overcoat film, an unloader means, a loader means, an unloader means and a loader are provided at a connection portion of continuously arranged apparatuses. By-pass means for bypassing the means is arranged, so if none of the devices is out of order,
By operating the bypass means, the desired color filter manufacturing operation can be performed. Further, when any one of the devices fails, the substrate to be processed is carried out by the unloader means of the previous stage, and the substrate to be processed is carried in by the loader means of the next stage, thereby operating the device in which no failure has occurred. Therefore, it is possible to minimize a decrease in the operating rate of the color filter manufacturing apparatus as a whole.

【0017】請求項5のカラーフィルタ製造装置であれ
ば、ブラックマトリクス膜形成装置、パターン加工装
置、オーバーコート塗布装置の少なくとも2つの装置が
連続して配置されてあるので、装置全体としての作業効
率を高めることができるほか、従来の連続加工工程では
達成不可能であった、請求項4と同様の作用をも達成す
ることができる。
In the color filter manufacturing apparatus according to the fifth aspect, since at least two devices, that is, the black matrix film forming device, the pattern processing device and the overcoat coating device are arranged in series, the working efficiency of the entire device is improved. Besides, it is possible to achieve the same effect as that of claim 4 which could not be achieved by the conventional continuous processing step.

【0018】[0018]

【実施例】以下、実施例を示す添付図面によってこの発
明を詳細に説明する。図1はこの発明のカラーフィルタ
製造装置の一実施例の一部を示す概略図であり、色の3
原色の各パターンの加工処理を行なう工程のうち、2つ
のみを示している。そして、一方を第1工程1、他方を
第2工程2と称する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings showing embodiments. FIG. 1 is a schematic view showing a part of an embodiment of the color filter manufacturing apparatus of the present invention.
Only two of the steps for processing each primary color pattern are shown. One is referred to as a first step 1 and the other is referred to as a second step 2.

【0019】第1工程1は、被処理基板を搬入するロー
ダ1a、第1工程1の処理を行なう処理装置1b、イン
ライン検査装置1c、互に並列配置された不良品抜き出
し装置1dおよびバイパス装置1e、第1工程1の残余
の処理を行なう処理装置1fをこの順に配置してなるも
のである。また、第2工程2は、第2工程2の処理を行
なう処理部2a、インライン検査装置2b、互に並列配
置された不良品抜き出し装置2cおよびバイパス装置2
d、第2工程2の残余の処理を行なう処理装置2e、被
処理基板を排出するアンローダ2fをこの順に配置して
なるものである。そして、第1工程1と第2工程2と
を、被処理基板補充機能を有する搬送装置3を介して接
続している。
In the first step 1, a loader 1a for carrying in a substrate to be processed, a processing apparatus 1b for performing the processing of the first step 1, an in-line inspection apparatus 1c, a defective product extracting apparatus 1d and a bypass apparatus 1e arranged in parallel with each other. , A processing device 1f for performing the remaining processing of the first step 1 is arranged in this order. In the second step 2, the processing section 2a for performing the process of the second step 2, the in-line inspection device 2b, the defective product extracting device 2c and the bypass device 2 arranged in parallel with each other.
d, a processing device 2e for performing the remaining processing in the second step 2, and an unloader 2f for discharging the substrate to be processed are arranged in this order. Then, the first step 1 and the second step 2 are connected via a transfer device 3 having a function of supplementing the substrate to be processed.

【0020】したがって、ローダ1aにより供給される
被処理基板に対して、処理装置1bにより必要な処理を
行ない、インライン検査装置1cにより、加工された基
板の検査を行なう。そして、検査の結果、不良品であっ
た場合には、不良品抜き出し装置1dにより加工ライン
外へ抜き出され、次段以降の加工処理が行なわれること
を未然に防止する。逆に、不良品でなかった場合には、
バイパス装置1eにより処理装置1fに搬送され、第1
工程1の残余の処理を行なう。
Therefore, the substrate to be processed supplied by the loader 1a is subjected to necessary processing by the processing device 1b, and the processed substrate is inspected by the in-line inspection device 1c. Then, as a result of the inspection, if the product is defective, it is prevented that the defective product extracting device 1d extracts the product from the processing line to perform the subsequent processing. On the contrary, if the product is not defective,
By the bypass device 1e is conveyed to the processing device 1f,
The rest of the process in step 1 is performed.

【0021】第1工程1の加工処理が行なわれた被処理
基板は搬送装置3により第2工程2に搬送されるが、不
良品抜き出し装置1dにより抜き出された被処理基板に
対応する位置には、搬送装置3の被処理基板補充機能に
より代わりの被処理基板が補充される。したがって、第
2工程2には、抜けがない状態で被処理基板が供給され
る。尚、第2工程2における処理は第1工程1における
処理と同様であるから詳細な説明を省略する。以上の説
明から明らかなように、第1工程1において不良品が発
生し、抜き出された場合であっても、第2工程2には抜
けがない状態で被処理基板が供給され、全体としての稼
働率を高めることができる。
The substrate to be processed which has been subjected to the processing in the first step 1 is conveyed to the second step 2 by the conveying device 3, and is placed at a position corresponding to the substrate to be extracted extracted by the defective product extracting device 1d. With the substrate to be processed replenishing function of the transfer device 3, a substitute substrate to be processed is replenished. Therefore, in the second step 2, the substrate to be processed is supplied without any omission. Since the process in the second step 2 is the same as the process in the first step 1, detailed description will be omitted. As is clear from the above description, even if a defective product is generated and extracted in the first step 1, the substrate to be processed is supplied in the second step 2 without any omission, and the entire substrate is The operating rate of can be increased.

【0022】尚、図1には示していないが、各工程の途
中にインラインバッファを設けることが可能であり、こ
の場合には、小停機、停機に起因する稼働率の低下を未
然に防止することができる。
Although not shown in FIG. 1, it is possible to provide an inline buffer in the middle of each process, and in this case, it is possible to prevent a reduction in the operating rate due to a small stop or stop. be able to.

【0023】[0023]

【実施例2】図2はこの発明のカラーフィルタ製造装置
の他の実施例の一部を示す概略図であり、色の3原色の
各パターンの加工処理を行なう工程のうち、2つのみを
示している。そして、一方を第1工程1、他方を第2工
程2と称する。この実施例においては、第1工程1と第
2工程2との間にアンローダ4aとローダ4bとがこの
順に配置されているとともに、アンローダ4aおよびロ
ーダ4bをバスパイするバイパス搬送装置4cが配置さ
れている。尚、第1工程1,2の構成は従来公知の構成
である。即ち、インライン検査装置、不良品抜き出し装
置、バイパス搬送装置を含まない構成である。
[Embodiment 2] FIG. 2 is a schematic view showing a part of another embodiment of the color filter manufacturing apparatus according to the present invention, in which only two of the steps for processing each pattern of the three primary colors are performed. Shows. One is referred to as a first step 1 and the other is referred to as a second step 2. In this embodiment, the unloader 4a and the loader 4b are arranged in this order between the first step 1 and the second step 2, and the bypass transfer device 4c for vaping the unloader 4a and the loader 4b is arranged. There is. The configurations of the first steps 1 and 2 are conventionally known configurations. That is, the configuration does not include an in-line inspection device, a defective product extraction device, and a bypass conveyance device.

【0024】したがって、第1工程1,2が正常に動作
している場合には、第1工程1において加工された被処
理基板を、バイパス搬送装置4cにより第2工程2に搬
送することができ、第1工程1による加工、第2工程2
による加工を順次行なわせることができる。また、第1
工程1が停機した場合には、ローダ4bにより被処理基
板を第2工程2に供給し、第2工程2による加工を行な
わせることができる。逆に、第2工程2が停機した場合
には、第1工程1により加工された被処理基板をアンロ
ーダ4aにより抜き出すことができ、この結果、第1工
程1による加工を継続させることができる。
Therefore, when the first steps 1 and 2 are operating normally, the substrate to be processed processed in the first step 1 can be transferred to the second step 2 by the bypass transfer device 4c. , Processing by the first step 1, second step 2
Can be sequentially processed. Also, the first
When the step 1 is stopped, the substrate to be processed can be supplied to the second step 2 by the loader 4b and the processing in the second step 2 can be performed. On the contrary, when the second step 2 stops, the substrate to be processed processed in the first step 1 can be extracted by the unloader 4a, and as a result, the processing in the first step 1 can be continued.

【0025】以上から明らかなように、何れかの工程が
停機した場合であっても、他方の工程による被処理基板
の加工を継続させることができ、カラーフィルタ製造装
置全体として稼働率の低下を大幅に抑制することができ
る。尚、図2には示していないが、各工程の途中にイン
ラインバッファを設けることが可能であり、この場合に
は、小停機、停機に起因する稼働率の低下を一層抑制す
ることができる。
As is clear from the above, even if any one of the processes is stopped, the processing of the substrate to be processed by the other process can be continued, and the operating rate of the color filter manufacturing apparatus as a whole is reduced. It can be suppressed significantly. Although not shown in FIG. 2, it is possible to provide an inline buffer in the middle of each process, and in this case, it is possible to further suppress a decrease in operating rate due to a small stop or stop.

【0026】[0026]

【実施例3】図3はこの発明のカラーフィルタ製造装置
のさらに他の実施例の一部を示す概略図であり、図1の
実施例と異なる点は、被処理基板補充機能を有する搬送
装置3に換えて、図2の実施例のアンローダ4a、ロー
ダ4bおよびバイパス搬送装置4cを採用した点のみで
ある。
[Embodiment 3] FIG. 3 is a schematic view showing a part of still another embodiment of the color filter manufacturing apparatus of the present invention. The difference from the embodiment of FIG. 3 instead of using the unloader 4a, the loader 4b and the bypass transfer device 4c of the embodiment of FIG.

【0027】したがって、この実施例の場合には、図1
の実施例の作用および図2の実施例の作用を達成するこ
とができる。尚、この実施例においても、上記実施例と
同様にインラインバッファを設けることが可能である。
Therefore, in the case of this embodiment, FIG.
The effect of the embodiment of FIG. 2 and the effect of the embodiment of FIG. 2 can be achieved. Incidentally, also in this embodiment, an in-line buffer can be provided as in the above embodiment.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上のように請求項1の発明は、不良品
に対する加工処理を必要最小限にでき、最終的な不良品
の発生を大幅に低減し、高収率化を達成することができ
るとともに、不良品の発生により次段以降の工程が影響
される可能性を著しく低減して、装置全体として高稼働
率を維持することができるという特有の効果を奏する。
請求項2の発明は、装置全体としての作業効率を高める
ことができるほか、従来の連続加工工程では達成不可能
であった、請求項1と同様の効果をも達成することがで
きる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the processing of defective products can be minimized, the final generation of defective products can be significantly reduced, and a high yield can be achieved. In addition, it is possible to significantly reduce the possibility that the subsequent steps will be affected by the generation of defective products, and it is possible to maintain a high operating rate of the entire apparatus.
The invention of claim 2 can improve the working efficiency of the entire apparatus, and can also achieve the same effect as that of claim 1 which cannot be achieved by the conventional continuous machining process.

【0029】請求項3の発明は、不良品の抜き出しに拘
らず、次段の装置に必要な数の被処理基板を供給するこ
とができ、カラーフィルタ製造装置の製造能力を最大限
に発揮させることができる。請求項4の発明は、何れか
の装置が故障した場合に、前段のアンローダ手段により
被処理基板を搬出し、次段のローダ手段により被処理基
板を搬入することにより、故障が発生していない装置を
動作させることができ、カラーフィルタ製造装置全体と
しての稼働率の低下を必要最小限にすることができると
いう特有の効果を奏する。
According to the third aspect of the present invention, the required number of substrates to be processed can be supplied to the next-stage device regardless of the defective product extraction, and the manufacturing capability of the color filter manufacturing device can be maximized. be able to. According to the invention of claim 4, when any one of the devices fails, the substrate to be processed is carried out by the unloader means in the previous stage and the substrate to be processed is carried in by the loader means in the next stage, so that no failure occurs. It is possible to operate the apparatus, and it is possible to achieve a unique effect that the reduction in the operating rate of the color filter manufacturing apparatus as a whole can be minimized.

【0030】請求項5の発明は、装置全体としての作業
効率を高めることができるほか、従来の連続加工工程で
は達成不可能であった、請求項4と同様の効果をも達成
することができる。
The invention of claim 5 can improve the working efficiency of the entire apparatus, and can also achieve the same effect as that of claim 4 which cannot be achieved by the conventional continuous machining process. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明のカラーフィルタ製造装置の一実施例
の一部を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a part of an embodiment of a color filter manufacturing apparatus of the present invention.

【図2】この発明のカラーフィルタ製造装置の他の実施
例の一部を示す概略図である。
FIG. 2 is a schematic view showing a part of another embodiment of the color filter manufacturing apparatus of the invention.

【図3】この発明のカラーフィルタ製造装置のさらに他
の実施例の一部を示す概略図である。
FIG. 3 is a schematic view showing a part of still another embodiment of the color filter manufacturing apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1工程 2 第2工程 1c,2b インライン検査装置 1d,2c 不良
品抜き出し装置 3 被処理基板補充機能を有する搬送装置 4a ア
ンローダ 4b ローダ 4c バイパス搬送装置
1 1st process 2 2nd process 1c, 2b In-line inspection device 1d, 2c Defective product extraction device 3 Conveying device having a substrate replenishing function 4a Unloader 4b Loader 4c Bypass conveying device

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 カラーフィルタを製造するための、ブラ
ックマトリクス膜を形成するブラックマトリクス膜形成
装置、色の3原色の各色のパターン加工を行なうパター
ン加工装置、オーバーコート膜を塗布するオーバーコー
ト塗布装置を含むカラーフィルタ製造装置であって、所
定位置に、インライン検査装置(1c)(2b)および
不良品抜き出し装置(1d)(2c)をこの順に配置し
てあることを特徴とするカラーフィルタ製造装置。
1. A black matrix film forming apparatus for forming a black matrix film for manufacturing a color filter, a pattern processing apparatus for patterning each of the three primary colors, and an overcoat coating apparatus for coating an overcoat film. A color filter manufacturing apparatus including a color filter manufacturing apparatus, wherein an in-line inspection device (1c) (2b) and a defective product extracting device (1d) (2c) are arranged in this order at a predetermined position. .
【請求項2】 ブラックマトリクス膜形成装置、パター
ン加工装置、オーバーコート塗布装置の少なくとも2つ
の装置が連続して配置されてある請求項1に記載のカラ
ーフィルタ製造装置。
2. The color filter manufacturing device according to claim 1, wherein at least two devices, that is, a black matrix film forming device, a pattern processing device, and an overcoat coating device are continuously arranged.
【請求項3】 不良品の抜き出しに応答して、次段の装
置で処理を行なうべき被処理基板を供給する被処理基板
供給装置(3)をさらに含んでいる請求項1または請求
項2に記載のカラーフィルタ製造装置。
3. The substrate supply apparatus (3) according to claim 1, further comprising a substrate supply device (3) for supplying a substrate to be processed by a next-stage device in response to extraction of a defective product. The described color filter manufacturing apparatus.
【請求項4】 カラーフィルタを製造するための、ブラ
ックマトリクス膜を形成するブラックマトリクス膜形成
装置、色の3原色の各色のパターン加工を行なうパター
ン加工装置、オーバーコート膜を塗布するオーバーコー
ト塗布装置を含むカラーフィルタ製造装置であって、連
続配置された装置(1)(2)の接続部に、アンローダ
手段(4a)と、ローダ手段(4b)と、アンローダ手
段(4a)およびローダ手段(4b)をバイパスするバ
イパス手段(4c)とを配置してあることを特徴とする
カラーフィルタ製造装置。
4. A black matrix film forming apparatus for forming a black matrix film, a pattern processing apparatus for patterning each of the three primary colors, and an overcoat coating apparatus for coating an overcoat film for manufacturing a color filter. An apparatus for manufacturing a color filter including a unloader means (4a), a loader means (4b), an unloader means (4a) and a loader means (4b) at a connection portion of continuously arranged devices (1) and (2). And a bypass means (4c) for bypassing (4) is arranged.
【請求項5】 ブラックマトリクス膜形成装置、パター
ン加工装置、オーバーコート塗布装置の少なくとも2つ
の装置が連続して配置されてある請求項4に記載のカラ
ーフィルタ製造装置。
5. The color filter manufacturing device according to claim 4, wherein at least two devices, that is, a black matrix film forming device, a pattern processing device, and an overcoat coating device are continuously arranged.
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