JPH07266706A - Rewritable optical data recording method - Google Patents

Rewritable optical data recording method

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JPH07266706A
JPH07266706A JP7066622A JP6662295A JPH07266706A JP H07266706 A JPH07266706 A JP H07266706A JP 7066622 A JP7066622 A JP 7066622A JP 6662295 A JP6662295 A JP 6662295A JP H07266706 A JPH07266706 A JP H07266706A
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film
information recording
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昇 山田
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邦夫 木村
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正敏 高尾
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Abstract

PURPOSE:To embody an optical data recording method excellent in the cycle number of times, long-term preservability and rewriting characteristics. CONSTITUTION:In an optical data recording member wherein a material membrane consisting of at least three elements of Te, Ge and Sb and characterized by that the respective atomic number ratios of Te, Ge and Sb are within the range surrounded by the respective compsn. points A1, B1, C1, D1, E1 in a compsn. diagram showing a compsn. range and the concn. of Te is 50% or more and selected in a compsn. range where free Te is not present is provided on a substrate as a recording layer, the recording layer is irradiated with laser beam to be heated and the irradiated part is quenched to be made amorphous and gradually cooled to be crystallized and a change of optical characteristics based on the generation of reversible phase transition is shown.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光線を用いて、
相変化型の記録部材上に情報信号を高速かつ高密度に記
録、消去、再生することを可能にする光学的情報記録方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention uses a laser beam to
The present invention relates to an optical information recording method capable of recording, erasing, and reproducing information signals on a phase-change recording member at high speed and high density.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報量の増大化、記録、再生の高
速化、高密度化に伴ない、レーザ光線を利用した光ディ
スクが注目されている。光ディスクには、一度のみ記録
可能な追記型と、記録した信号を消去し何度も使用可能
な書き換え可能なものがある。追記型光ディスクには、
記録信号を穴あき状態として再生するものや、凹凸を生
成させて再生するものがある。書き換え可能なものとし
ては、アモルファスと結晶間の可逆的相変化を利用した
Te−Ge系カルコゲナイドガラス薄膜などがよく知ら
れている(例えば特公昭47−26897)。
2. Description of the Related Art In recent years, an optical disk using a laser beam has attracted attention as the amount of information increases, recording and reproduction speeds increase, and density increases. There are two types of optical discs, a write-once type that can be recorded only once and a rewritable type that can erase a recorded signal and can be used many times. The write-once type optical disc,
There are a method of reproducing a recording signal in a perforated state and a method of reproducing by generating unevenness. As a rewritable material, a Te-Ge-based chalcogenide glass thin film utilizing a reversible phase change between amorphous and crystal is well known (for example, Japanese Patent Publication No. 47-26897).

【0003】本発明者らは、先にTe−TeO2 のよう
な酸化物を含んだ系の相転移による反射率変化を信号と
する方式を提案した。また、相転移を利用した書き換え
可能な光ディスクとして、Te−TeO2 に対し各種添
加物を添加(Sn,Ge,Bi,In,Pb,Tl,S
eなど)した例がある(特開昭59−185048)。
これらの記録部材は、C/Nが高く、耐湿性に対しても
優れるという特徴を有している。
The present inventors have previously proposed a system in which a change in reflectance due to a phase transition of a system containing an oxide such as Te-TeO 2 is used as a signal. In addition, as a rewritable optical disk utilizing phase transition, various additives are added to Te—TeO 2 (Sn, Ge, Bi, In, Pb, Tl, S.
e)) (Japanese Patent Laid-Open No. 59-185048).
These recording members are characterized by high C / N and excellent moisture resistance.

【0004】Ge−Sb−Te系材料を記録媒体に適用
することに関する提案は、特開昭61−89889に開
示されている。特開昭61−89889明細書中には、
ポリカーボネイト等の樹脂基板上にGe1-x Sb4xTe
1+5x(0<x<1.0)の組成式で表わされる記録材料を真空
蒸着、スパッタ等の方法で形成したこと、その記録材料
層にレーザ光線を照射することで非晶質から結晶質への
転移を生起させ、大きな反射率変化を得ることが可能な
ことが開示されている。発明の主旨は、GeTeを基準
に、これよりも結晶化転移温度の低い材料を構成したこ
と、それによって結晶化転移に必要なエネルギーを下げ
得ること、すなわち記録感度の高い記録材料が得られる
ということにある。ただし、上記組成が結晶質から非晶
質への転移を生起しうるものであるか否か、もし生起し
うるならいかなる方法でそれを実現するかについての記
載は一切ない。また、くりかえして記録消去を行なう際
に必要な構成上の要件、例えば繰返しによる基板の劣化
を防止するための耐熱層に関する記載もない。
A proposal relating to applying a Ge-Sb-Te-based material to a recording medium is disclosed in JP-A-61-89889. In the specification of JP-A-61-89889,
Ge 1-x Sb 4x Te on a resin substrate such as polycarbonate
A recording material represented by a composition formula of 1 + 5x (0 <x <1.0) was formed by a method such as vacuum deposition or sputtering, and the recording material layer was irradiated with a laser beam to change from amorphous to crystalline. It has been disclosed that it is possible to cause the transition of the above and obtain a large reflectance change. The gist of the invention is that, based on GeTe, a material having a lower crystallization transition temperature than that of GeTe is constituted, and thereby energy required for crystallization transition can be lowered, that is, a recording material having high recording sensitivity can be obtained. Especially. However, there is no description about whether or not the above composition can cause a transition from crystalline to amorphous, and if so, by what method. In addition, there is no description about the structural requirements necessary for repeatedly performing recording and erasing, for example, the heat-resistant layer for preventing deterioration of the substrate due to repetition.

【0005】Ge−Sb−Te系材料を記録媒体に適用
することに関する別の提案は、特開昭62−53886
に開示されている。特開昭62−53886の原明細書
では、基板上に(Sbx Te1-xy Ge1-y (ただ
し、xは0.05〜0.7、yは0.4〜0.8)の組
成式で表わされる記録材料を蒸着、スパッタ等により形
成すること、この記録層にレーザ光線を照射することで
透過率の減少する変化(吸収係数が大きくなる変化)が
生起されること、記録層の経時変化を防ぐ目的で記録膜
の上下に金属酸化物または窒化物を形成する可能性が開
示されている。ただし、この出願の場合も、変化の方向
は吸収係数が大きくなる方向、すなわち非晶質の結晶化
に付随する特性の変化のみが開示されているだけであっ
て、上記組成が逆に結晶質から非晶質への転移を生起し
うるものであるか否か、もし可ならいかなる方法でそれ
を実現するかについての記載は一切開示されていない。
Another proposal for applying a Ge-Sb-Te-based material to a recording medium is JP-A-62-53886.
Is disclosed in. In the original specification of JP-A-62-53886, (Sb x Te 1-x ) y Ge 1-y (where x is 0.05 to 0.7 and y is 0.4 to 0.8). ) Forming the recording material represented by the compositional formula by vapor deposition, sputtering, etc., and irradiating this recording layer with a laser beam causes a change in decrease in transmittance (a change in increase in absorption coefficient), It is disclosed that metal oxides or nitrides may be formed above and below the recording film for the purpose of preventing the recording layer from changing over time. However, in the case of this application as well, only the direction in which the absorption coefficient increases in the case of this application, that is, only the change in the characteristics accompanying the crystallization of amorphous is disclosed, and the above composition is conversely crystalline. There is no disclosure of whether or not it is possible to cause the transition from amorphous to amorphous and, if possible, how to achieve it.

【0006】Ge−Sb−Te系材料を用いた書換可能
な記録媒体に関しては特開昭62−196181に開示
されている。ここでは樹脂基板上にGe23Sb46Te31
を代表組成とするGeSbTe記録材料層を蒸着、スパ
ッタ等の方法で設けること、この材料薄膜の両側にSi
2 、SiN等の保護層を設けること、上記記録材料層
は、記録時および消去時のいずれの場合においても、レ
ーザ光線の照射によって完全に結晶化することなく、S
bが析出する(GeTe2 +Sb)相とGeが析出する
(Ge+Sb2 Te3 )相という2つの相の間の構造変
化を生起せしめ反射率変化を生起させることが開示され
ている。ただしGe−Sb−Te材料組成で結晶相−ア
モルファス相間の可逆的な相変化が生起するか否かにつ
いて、またそれを生起させる具体的方法については記載
がない。
A rewritable recording medium using a Ge-Sb-Te-based material is disclosed in JP-A-62-196181. Here, Ge 23 Sb 46 Te 31 is formed on the resin substrate.
A GeSbTe recording material layer having a typical composition of: is provided by a method such as vapor deposition and sputtering, and Si is formed on both sides of this material thin film.
Providing a protective layer such as O 2 or SiN, the recording material layer does not completely crystallize by irradiation with a laser beam during recording and erasing, and S
It is disclosed that a structural change between two phases, a (GeTe 2 + Sb) phase in which b is precipitated and a (Ge + Sb 2 Te 3 ) phase in which Ge is precipitated, is caused to cause a change in reflectance. However, there is no description about whether or not a reversible phase change between a crystalline phase and an amorphous phase occurs in a Ge-Sb-Te material composition, and a specific method for causing the reversible phase change.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来、カルコゲン化物
よりなる情報記録部材を用いた書き換え可能な情報記録
方法では、一般的に、記録、消去のくり返しに対する安
定性が悪いといった欠点があった。この理由は、主成分
であるTe、Geとその他の添加成分とが、記録消去の
くり返しの際、膜中でなんらかの相分離を生じ、初期と
くり返し後では局所的に膜の構成成分が異なってしまう
といったことに起因していたと思われる。
Conventionally, the rewritable information recording method using the information recording member made of chalcogenide generally has a drawback that the stability against repeated recording and erasing is poor. The reason for this is that Te, Ge, which is the main component, and other additive components cause some phase separation in the film during repeated recording and erasing, and the constituent components of the film differ locally between the initial stage and the repeated stage. It seems that it was due to the fact that it ended up.

【0008】また、光ディスクでアモルファス−結晶間
の相転移を可逆記録に利用する場合には、記録手段とし
てはレーザ光を用い、レーザ照射によって記録膜を一旦
溶融させ、その後、急冷することによってアモルファス
化するが、現在の半導体レーザにはパワーの上限があ
り、できるだけ融点の低い膜が記録感度上は望ましいこ
とになる。このために、上述したカルコゲン化物よりな
る膜は、記録感度を向上させる目的で、できるだけ融点
の低い組成、すなわちTeがかなり多い共晶点近傍の膜
組成となっていた。ところが、Teが他の添加成分より
多いということは、くり返し時においてそれだけ相分離
を起して、Teだけの相を形成し易いことを意味する
(例えばTe90Ge10は必ずTeとGeTeに分離す
る)。Te相は結晶化温度が室温以下のため、アモルフ
ァス相を不安定にするという課題を生じる。また、相分
離の結果として、系全体の融点や結晶化速度が変化し、
記録感度や消去感度が変化するという課題が生じる。し
たがって融点を下げるために添加した過剰のTeをいか
に固定して動きにくい組成にするかが、くり返し特性
や、CNR,消去率の経時変動に大きな影響を及ぼすこ
とになる。すなわち従来例のGe−Sb−Te系記録膜
の場合においても、単に3つの元素が含まれていればこ
と足りるということはなく、書換え特性を考慮してその
構成比を選ばなければならないという課題があった。
When an amorphous-crystal phase transition is used for reversible recording on an optical disk, laser light is used as the recording means, the recording film is once melted by laser irradiation, and then the amorphous film is rapidly cooled. However, the current semiconductor laser has an upper limit of power, and a film having a melting point as low as possible is desirable in terms of recording sensitivity. For this reason, the film made of the chalcogenide described above has a composition with a melting point as low as possible, that is, a film composition near the eutectic point where Te is considerably large in order to improve recording sensitivity. However, the fact that the content of Te is higher than that of the other additive components means that phase separation is caused by that much at the time of repetition, and a phase only of Te is easily formed (for example, Te 90 Ge 10 is always separated into Te and GeTe. To). Since the Te phase has a crystallization temperature of room temperature or lower, it causes a problem of destabilizing the amorphous phase. Also, as a result of phase separation, the melting point and crystallization rate of the entire system change,
There arises a problem that the recording sensitivity and the erasing sensitivity change. Therefore, how to fix the excessive Te added to lower the melting point to make the composition hard to move has a great influence on the repeated characteristics, the CNR, and the erasing rate variation with time. That is, even in the case of the Ge—Sb—Te system recording film of the conventional example, it is not enough that only three elements are contained, and the composition ratio must be selected in consideration of the rewriting characteristics. there were.

【0009】酸化物を含んだ記録部材にも、以下に記述
する欠点がある。すなわち、消去率が録再消去のくり返
しによって低下することである。書き換え可能な光ディ
スクは、通常、初期状態を結晶状態とし、記録状態を非
晶質として記録を行なう。消去は初期状態と同様に結晶
質とする。この記録部材の結晶質−非晶質間の相転移
は、レーザの徐冷−急冷の条件変化によって達成され
る。すなわち、レーザ光による加熱後、徐冷によって結
晶質となり、急冷によって非晶質となる。したがって記
録、消去のくり返しによって、膜は何度も結晶質、非晶
質状態を経ることになる。この場合、膜に酸化物が存在
すると、膜の粘性が高いためにカルコゲン化物の泳動性
が少なくなり、膜組成の偏析が生じやすくなる。さら
に、酸化物の存在は膜自身の熱伝導を低下させるので、
レーザ光の入射側と反対側の膜厚方向間で温度分布差を
生じ、膜組成の偏析はやはり生ずる。こうした理由によ
り、酸化物を含んだ膜は、記録、消去のくり返しによっ
て次第に特性が変化するなどの欠点を有していた。
Recording members containing oxides also have the drawbacks described below. That is, the erasing rate is reduced by repeated recording and re-erasing. A rewritable optical disc is normally recorded in an initial crystalline state and an amorphous recording state. Erasure is made crystalline as in the initial state. The crystalline-amorphous phase transition of the recording member is achieved by changing the conditions of laser slow cooling-quick cooling. That is, after heating with laser light, it becomes crystalline by slow cooling and becomes amorphous by rapid cooling. Therefore, the film goes through a crystalline state and an amorphous state many times due to repeated recording and erasing. In this case, when an oxide is present in the film, the mobility of the chalcogenide is reduced due to the high viscosity of the film, and segregation of the film composition is likely to occur. In addition, the presence of oxides reduces the heat transfer of the film itself,
A temperature distribution difference occurs between the laser light incident side and the opposite side in the film thickness direction, and segregation of the film composition also occurs. For these reasons, the oxide-containing film has a drawback that the characteristics gradually change due to repeated recording and erasing.

【0010】本発明は、酸化物材料やカルコゲン化物よ
りなる従来組成の欠点(C/Nが低い、消去率が充分で
はない、耐湿性、耐熱性が悪い、くり返し性が充分では
ない)を克服し、書換え特性に優れた光学情報記録方法
の提供を行なうものである。
The present invention overcomes the drawbacks of the conventional composition consisting of an oxide material and a chalcogenide (low C / N, insufficient erasing rate, poor moisture resistance, poor heat resistance, insufficient repeatability). However, the present invention provides an optical information recording method having excellent rewriting characteristics.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、基板上に記録層としてのTe−Ge−Sb
系の組成物から成る薄膜を形成した光学情報記録部材を
採用し、薄膜は、Te,Ge,Sbの原子数比が、組成
の範囲を示す組成図である図1においてA,B,C,
D,Eの点を結んだ領域内にあり、かつTe濃度が50
%以上であり、かつフリーのTeが存在しない組成、す
なわちGeTeとSb2 Te3 の2つの化合物組成点を
結んだ組成線よりもTeの少ない領域内に属する組成と
したものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides Te-Ge-Sb as a recording layer on a substrate.
1. An optical information recording member having a thin film formed of a composition of a system is adopted, and the thin film has a composition ratio of Te, Ge, and Sb in which the atomic ratio is Te, Ge, and Sb.
It is in the region connecting the points D and E, and the Te concentration is 50
% Or more and free Te does not exist, that is, a composition belonging to a region in which Te is less than the composition line connecting two compound composition points of GeTe and Sb 2 Te 3 .

【0012】記録消去に際しては、記録時と消去時とで
同じパルス幅でレーザ照射を行なうか、もしくは結晶化
の場合にアモルファス化に比して相対的に長いパルス幅
のレーザ照射を行ない、記録時にはレーザ光線を照射し
て加熱した後、急冷して照射部の記録層を局部的にアモ
ルファス状態に転換し、消去時にはレーザ光線を照射し
て加熱した後、徐冷することでアモルファス部を結晶状
態に転換する。
During recording and erasing, laser irradiation is performed with the same pulse width during recording and erasing, or in the case of crystallization, laser irradiation with a pulse width relatively longer than that of amorphization is performed to perform recording. Sometimes, after irradiating with a laser beam and heating, it is rapidly cooled to locally change the recording layer in the irradiated part to an amorphous state, and during erasing, a laser beam is irradiated and heated, and then the amorphous part is crystallized by slow cooling. Switch to a state.

【0013】[0013]

【作用】本発明の光学的情報記録方法に適用する記録材
料薄膜の特徴は、Te−Ge系にSbを添加して過剰の
Teを固定することにある。つまり、Teの濃度が50
%よりも十分に多いTe−Ge系では、系の安定な構造
はGeTe−Teという形になり、融点の低いTe(融
点450℃)と融点の高い化学量論的化合物GeTe
(融点725℃)という、特性の大きく異なる2相に分
離してしまう。そこで、Sbを添加すると、このSbは
Teと化合して化学量論化合物Sb2 Te3を形成すべ
く機能する。
The feature of the recording material thin film applied to the optical information recording method of the present invention is that Sb is added to the Te-Ge system to fix excess Te. That is, the Te concentration is 50
%, The stable structure of the system is in the form of GeTe-Te, which has a low melting point Te (melting point 450 ° C.) and a high melting point stoichiometric compound GeTe.
(Melting point of 725 ° C.), the two phases having greatly different characteristics are separated. Therefore, when Sb is added, this Sb functions to combine with Te to form the stoichiometric compound Sb 2 Te 3 .

【0014】この過剰TeがSb2Te3として固定され
た時、Te濃度が50at%以上のTe−Ge−Sb系に
おいて、その融点は600℃近傍になる。すなわち、こ
の近傍で安定に存在し得る材料相は、3元化合物である
Ge2 Sb2 Te5 (融点630℃)、GeSb2 Te
4 (融点615℃)、GeSb4 Te7 (融点605
℃)、2元化合物のSb2 Te3 (融点622℃)とそ
れぞれ融点が非常に近く、溶融−凝固のプロセスを繰返
しても相分離を生じにくいことが予想される。またTe
を固定した残りのSbが存在しても、これも融点が63
0℃であり、上記化合物群と混じりやすいという利点が
ある。
When this excess Te is fixed as Sb 2 Te 3 , in the Te-Ge-Sb system having a Te concentration of 50 at% or more, its melting point is around 600 ° C. That is, the material phases that can stably exist in the vicinity are Ge 2 Sb 2 Te 5 (melting point 630 ° C.), GeSb 2 Te, which are ternary compounds.
4 (melting point 615 ° C.), GeSb 4 Te 7 (melting point 605
C) and the melting points of the binary compounds Sb 2 Te 3 (melting point 622 ° C.) are very close to each other, and it is expected that phase separation hardly occurs even if the melting-solidification process is repeated. See Te
Even if the remaining Sb that fixed the
Since it is 0 ° C., there is an advantage that it is easily mixed with the above compound group.

【0015】この温度(600℃近傍)は共晶近傍組成
のTe−Ge系(共晶点375℃),Te−Sn系(共
晶点405℃)などの融点と比較して200℃近く高い
が、通常ガラス物質の結晶化転移温度は絶対温度にし
て、融点の1/2から2/3といわれ、融点と結晶化転
移温度とは強い相関性があることが知られている(作花
済夫著「ガラス非晶質の科学P51)。すなわち、融点
を高くすることで、上記構成の組成物の熱転移温度(加
熱によってアモルファス状態より結晶状態へ転移する温
度)が上昇し、熱的な安定性も高められる。すなわち、
Te−Ge−Sb系薄膜を書き換え可能なメモリー媒体
として用いると(結晶状態を加熱急冷してアモルファス
化し、これを記録状態として用いるのが通例である
が)、このアモルファス状態の記録部が加熱に対して安
定になり、したがって記録情報の長期に亘る安定性が確
保されることになる。
This temperature (around 600 ° C.) is higher by about 200 ° C. than the melting points of Te-Ge system (eutectic point 375 ° C.) and Te-Sn system (eutectic point 405 ° C.) having a composition near the eutectic. However, the crystallization transition temperature of a glass substance is usually said to be 1/2 to 2/3 of the melting point in absolute temperature, and it is known that there is a strong correlation between the melting point and the crystallization transition temperature. Sui, "Science of Glass Amorphous P51). That is, by increasing the melting point, the thermal transition temperature (the temperature at which the amorphous state changes to the crystalline state by heating) of the composition having the above-mentioned composition rises, and Stability is also increased:
When a Te-Ge-Sb-based thin film is used as a rewritable memory medium (usually, the crystalline state is heated and rapidly cooled to become amorphous, and this is used as a recording state), the recording portion in the amorphous state is heated. On the other hand, it becomes stable, so that the stability of the recorded information for a long period of time is secured.

【0016】一方、上記融点600℃は化学量論組成の
Te−Ge.Te−SnすなわちTe50Ge50(融点7
25℃)、Te50Sn50(融点750℃)の融点に比べ
ると150℃近く低い。このことは、Te−Ge−Sb
系薄膜を書き換え可能なメモリー媒体として用いる場
合、アモルファス化記録(結晶状態にあるメモリー薄膜
の微小部分を加熱後、急冷してアモルファス化する)を
行なう場合、記録に要するエネルギーが少なくてすむこ
とを意味する。
On the other hand, the melting point of 600 ° C. is Te-Ge. Te-Sn or Te 50 Ge 50 (melting point 7
25 ° C.) and the melting point of Te 50 Sn 50 (melting point 750 ° C.) are about 150 ° C. lower. This means that Te-Ge-Sb
When a system thin film is used as a rewritable memory medium, the energy required for recording is small when performing amorphized recording (heating a minute portion of the memory thin film in a crystalline state and then rapidly cooling it to become amorphous). means.

【0017】以上のことから、Te−Ge系にSbを添
加して過剰のTeを固定することによって、しかもTe
の濃度を50%以上にすることによって、レーザ光照射
による記録感度(アモルファス感度)を著しく低下させ
ることなく、記録信号の熱的安定性にすぐれ、かつ記録
(アモルファス化)、消去(結晶化)の過程で相分離が
進行する可能性の少ない書き換え可能なメモリー媒体が
得られ、これを用いて記録消去の繰返し特性に優れた書
き換え記録を行なうことが可能となる。
From the above, by adding Sb to the Te-Ge system to fix excess Te,
By setting the concentration of 50% or more to 50% or more, the recording sensitivity (amorphous sensitivity) due to laser light irradiation is not significantly reduced, and the thermal stability of the recording signal is excellent, and recording (amorphization) and erasing (crystallization) are performed. A rewritable memory medium that is less likely to undergo phase separation during the process is obtained, and rewritable recording having excellent repetitive recording and erasing characteristics can be performed using the rewritable memory medium.

【0018】[0018]

【実施例】以下本発明の光学情報記録方法に用いる記録
部材について、その1実施例を図面に基づいて説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A recording member used in the optical information recording method of the present invention will be described below with reference to the drawings with reference to the drawings.

【0019】本発明の光学的情報記録方法に適用される
光学情報記録部材の記録層はTe−Ge−Sbにより構
成される。本発明において、TeはGeあるいはSbと
結合して存在する。これがアモルファス状態および結晶
状態における光学濃度変化を主として担う成分と考えら
れる。
The recording layer of the optical information recording member applied to the optical information recording method of the present invention is made of Te-Ge-Sb. In the present invention, Te exists in the form of being bound to Ge or Sb. It is considered that this is the component mainly responsible for the optical density change in the amorphous state and the crystalline state.

【0020】Te−Ge系において、化学量論組成のT
50Ge50ではその融点が約725℃であり、これを加
熱融解し、急冷してアモルファス化するには大きなエネ
ルギー、たとえばレーザー光を用いる場合は大きなレー
ザパワーを必要とする。一方、共晶組成点では、その融
点は約375℃であり、記録に要するレーザパワーは少
なくてすむ。ただし、前述したようにこの共晶組成では
過剰なTeが存在するためにTe−TeGeの分離を生
じやすく、これが記録(アモルファス化)及び消去(結
晶化)をくり返した場合膜に部分的な組成の不均一を生
じる原因となる。組成が異なれば光学的な特性も異なる
のは当然であるから、上記組成の不均一性は、光学的に
ノイズとして検出されることになる。
In the Te-Ge system, the stoichiometric composition of T
The melting point of e 50 Ge 50 is about 725 ° C., and a large amount of energy is required to heat and melt this, and to rapidly cool it to an amorphous state, for example, a large laser power is required when laser light is used. On the other hand, at the eutectic composition point, the melting point is about 375 ° C., and the laser power required for recording can be small. However, as described above, in this eutectic composition, since Te is excessively present, Te-TeGe separation is likely to occur, and when recording (amorphization) and erasing (crystallization) are repeated, a partial composition in the film is generated. Cause non-uniformity. Since it is natural that different compositions have different optical characteristics, the nonuniformity of the composition is optically detected as noise.

【0021】上述したようにTe−Ge−Sb系におい
ては、その融点は、組成によって多少異なるが、およそ
600℃〜630℃である。したがって、Te−Ge系
に比べて記録に必要なレーザパワーが少なくてすむ。ま
た、TeがSbと結合することによって結晶化速度が向
上するというメリットも生じる。これは例えば共晶組成
においては、Te−GeもしくはTe−Sbのいずれの
結合にもあずからないフリーのTeが存在するが、Te
の配位が融液中では3配位を含み、結晶中では2配位の
み安定であることによる。すなわち、融液から除冷する
ことによって結晶化する際、融液状態のTeには3配位
が存在するが、これが冷却されるときに一時的に保持さ
れるためと考えられる。Teは結晶状態では−Te−T
e−Te−という2配位のチェーン構造が安定であるた
めに、いったん凍結された3配位の結合を2配位に組み
直すという時間的経過を必要とし結晶化速度が遅くな
る。一方、Sbを添加した場合には、融液から固化する
際に、直ちにTe−Sbの結合をつくって固定化するた
めに、結晶化速度が向上すると考えられる。結晶化速度
が向上することで、情報の消去に要する時間が短縮で
き、実用可能な書き換え型メモリー媒体を実現できる。
As described above, the melting point of the Te-Ge-Sb system is about 600 ° C to 630 ° C, although it varies somewhat depending on the composition. Therefore, the laser power required for recording is smaller than that of the Te-Ge system. In addition, there is a merit that the crystallization speed is improved by combining Te with Sb. This is because, for example, in the eutectic composition, there is free Te that is not associated with either Te-Ge or Te-Sb bond.
This is because the coordination of 3 contains 3 coordinations in the melt and only 2 coordinations are stable in the crystal. That is, it is considered that when crystallizing by removing the melt from the melt, Te in the melt has three-coordinates, which are temporarily retained when cooled. Te is -Te-T in the crystalline state.
Since the two-coordinate chain structure of e-Te- is stable, it is necessary to reassemble the once-frozen three-coordinate bond into two-coordination, which slows the crystallization rate. On the other hand, when Sb is added, it is considered that the Te-Sb bond is immediately formed and fixed upon solidification from the melt, so that the crystallization rate is improved. By increasing the crystallization speed, the time required for erasing information can be shortened and a rewritable memory medium that can be used practically can be realized.

【0022】Sbの添加量はGeと結合した残りの過剰
Teを固定するので、その必要な濃度はTe/Geの量
に支配される。図1に本発明のTe−Ge−Sbにより
構成される記録部材の適正範囲を示した。図1におい
て、各点は以下の組成である。
Since the amount of Sb added fixes the remaining excess Te bound to Ge, the required concentration is governed by the amount of Te / Ge. FIG. 1 shows the proper range of the recording member composed of Te-Ge-Sb of the present invention. In FIG. 1, each point has the following composition.

【0023】A1 点:(Te80Ge5 Sb15) B1 点:(Te55Ge5 Sb40) C1 点:(Te45Ge15Sb40) D1 点:(Te45Ge40Sb15) E1 点:(Te53Ge40Sb7 ) Sbの添加量はTe−Ge−Sbの組成比により異な
る。たとえば、Ge高濃度域では、Te−Geの結晶化
速度が大きいのでSb濃度は比較的低く、Ge成分の少
ない領域では、結晶化速度が小さいため比較的高濃度の
Sb添加を必要とする。上記範囲外にある場合、たとえ
ばGe(rich)側では高融点のGe−TeGeが母体とな
るために、記録に非常な高パワーを必要とし、メモリー
材料として不適である。また、Te(rich)側では、アモ
ルファスから結晶への熱転移温度が100℃近傍まで低
下し、熱安定性にすぐれたメモリー媒体が得られない。
さらにSb(rich)側では記録部と未記録部の信号の光学
的コントラストが得にくくなり、充分な記録特性が得ら
れない。
A 1 point: (Te 80 Ge 5 Sb 15 ) B 1 point: (Te 55 Ge 5 Sb 40 ) C 1 point: (Te 45 Ge 15 Sb 40 ) D 1 point: (Te 45 Ge 40 Sb 15) ) E 1 point: (Te 53 Ge 40 Sb 7 ) The amount of Sb added varies depending on the composition ratio of Te-Ge-Sb. For example, in the high Ge concentration region, the crystallization rate of Te-Ge is high, so the Sb concentration is relatively low, and in the region with a small amount of Ge component, the crystallization rate is low, so it is necessary to add a relatively high concentration of Sb. When the content is out of the above range, Ge-TeGe having a high melting point serves as a base material on the Ge (rich) side, for which extremely high power is required for recording and it is unsuitable as a memory material. On the Te (rich) side, the thermal transition temperature from amorphous to crystal is lowered to around 100 ° C., and a memory medium excellent in thermal stability cannot be obtained.
Further, on the Sb (rich) side, it becomes difficult to obtain optical contrast between the signals of the recorded portion and the unrecorded portion, and sufficient recording characteristics cannot be obtained.

【0024】以上述べた理由により、本発明は、図1に
おいて、点A1 −B1 −C1 −D1−E1 で囲まれた範
囲内に限定される。すなわち、この範囲内のTe−Ge
−Sbの組成物をもちいた場合、実用上、結晶質と非晶
質の可逆性を利用して、情報の記録、消去、書き換えが
可能となる。
For the reasons described above, the present invention is limited to the range surrounded by the points A 1 -B 1 -C 1 -D 1 -E 1 in FIG. That is, Te-Ge within this range
When the composition of —Sb is used, information can be recorded, erased and rewritten practically by utilizing the reversibility of crystalline and amorphous.

【0025】次に、図1の点A2 −B2 −C2 −D2
2 によって囲まれた領域について述べる。この領域
は、図1の点A1 −B1 −C1 −D1 −E1 で囲まれた
範囲より、より実用的な組成範囲を示してある。図1に
おいて、A2 ,B2 ,C2 ,D 2 ,E2 の各点の組成を
以下に示す。
Next, point A in FIG.2 -B2 -C2 -D2 −
E2 The area surrounded by is described. This area
Is point A in FIG.1 -B1 -C1 -D1 -E1 Surrounded by
The range is more practical than the range. In Figure 1
A2 , B2 , C2 , D 2 , E2 The composition of each point of
It is shown below.

【0026】A2 点:(Te78Ge8 Sb14) B2 点:(Te62Ge8 Sb30) C2 点:(Te50Ge20Sb30) D2 点:(Te50Ge30Sb20) E2 点:(Te60Ge30Sb10) この領域はTe≧50at%の組成範囲であり、アモル
ファスから結晶への熱転移温度は130℃〜195℃で
ある。転移温度はA2 が最も低く、B2 ,C2,D2
2 の方向にGeあるいはSb濃度が増大するに従って
熱転移温度は上昇する。とくにGe濃度への依存性が大
きい。この点A2 −B2 −C2 −D2 −E2 で囲まれた
領域内では熱的安定性およびレーザ光記録感度ともにす
ぐれている。図1中、A2 −B2 −C2 −D2 −E2
範囲外であって、かつA1 −B1−C1 −D1 −E1
範囲内の組成物に関しては、用途、目的に応じた使い分
けが必要である。すなわち、上記組成物のうち、Ge(r
ich)側では多少大きいレーザパワーを必要とするが、熱
安定性にすぐれている。また、Te(rich)側では熱的安
定性はやや劣るが極めて高感度なメモリー媒体が得られ
る。
A 2 points: (Te 78 Ge 8 Sb 14 ) B 2 points: (Te 62 Ge 8 Sb 30 ) C 2 points: (Te 50 Ge 20 Sb 30 ) D 2 points: (Te 50 Ge 30 Sb 20) ) E 2 point: (Te 60 Ge 30 Sb 10 ). This region is a composition range of Te ≧ 50 at%, and the thermal transition temperature from amorphous to crystal is 130 ° C. to 195 ° C. A 2 has the lowest transition temperature, B 2 , C 2 , D 2 ,
The thermal transition temperature rises as the Ge or Sb concentration increases in the E 2 direction. Especially, the dependence on the Ge concentration is large. This point A is 2 -B 2 -C in a region surrounded by 2 -D 2 -E 2 is excellent in both thermal stability and laser beam recording sensitivity. In Figure 1, for a outside the range of A 2 -B 2 -C 2 -D 2 -E 2, and the composition in the range of A 1 -B 1 -C 1 -D 1 -E 1, application , It is necessary to use them properly according to the purpose. That is, of the above compositions, Ge (r
ich) side requires a little larger laser power, but has better thermal stability. Further, on the Te (rich) side, a memory medium having extremely low thermal stability but extremely high sensitivity can be obtained.

【0027】Te−Ge系に対するSbの添加効果は一
般的に、メモリー媒体の熱的安定性を意味する熱転移温
度を上昇させるとともに、膜の融点を下げ、アモルファ
ス化を容易にする。
The effect of adding Sb to the Te-Ge system generally raises the thermal transition temperature, which means the thermal stability of the memory medium, and lowers the melting point of the film to facilitate amorphization.

【0028】以上述べた理由により、本発明のTe−G
e−Sbの最適組成は限定される。次に本発明による光
学情報記録部材の製法について述べる。図2は、本発明
の記録層を用いて構成した光ディスクの断面の模式図で
ある。図2において、1,5は基板を示し、材質はポリ
カーボネート、アクリル樹脂、ガラス、ポリエステルな
どの透明な基材を用いることが可能である。2,4は基
板1,5の内側に設けられた保護層であり、種々の酸化
物、硫化物、炭化物を用いることができる。この保護層
2,4はその間に介装された記録膜3の記録、消去の繰
り返しによる基材の熱劣化を防ぐものであり、さらに、
記録膜3を湿度より保護するものである。従って、保護
層2,4の材質、膜質は、上述した観点より決定され
る。記録膜3は蒸着、スパッタリングなどによって形成
される。蒸着でおこなう場合は各組成を単独に蒸着可能
な3ソース蒸着機を用いるのが、均一膜を作成できるの
で望ましい。記録膜3の膜厚は保護層2,4の光学特性
とのマッチング、すなわち記録部と未記録部との反射率
の差が大きくとれる値とする。
For the reasons described above, the Te-G of the present invention is used.
The optimal composition of e-Sb is limited. Next, a method for manufacturing the optical information recording member according to the present invention will be described. FIG. 2 is a schematic view of a cross section of an optical disc formed by using the recording layer of the present invention. In FIG. 2, reference numerals 1 and 5 denote substrates, and it is possible to use a transparent base material such as polycarbonate, acrylic resin, glass or polyester. Reference numerals 2 and 4 are protective layers provided inside the substrates 1 and 5, and various oxides, sulfides, and carbides can be used. The protective layers 2 and 4 prevent thermal deterioration of the substrate due to repeated recording and erasing of the recording film 3 interposed therebetween.
The recording film 3 is protected from humidity. Therefore, the material and film quality of the protective layers 2 and 4 are determined from the above viewpoints. The recording film 3 is formed by vapor deposition, sputtering or the like. In the case of vapor deposition, it is preferable to use a 3-source vapor deposition machine capable of vapor depositing each composition independently, because a uniform film can be formed. The film thickness of the recording film 3 is set to a value that allows a large matching with the optical characteristics of the protective layers 2 and 4, that is, a large difference in reflectance between the recorded portion and the unrecorded portion.

【0029】以下、具体的な例で本発明を詳述する。 (実施例1)3源蒸着が可能な電子ビーム蒸着機を用い
て、Te,Ge,Sbをそれぞれのソースから基材上に
同時に蒸着した。用いた基材は厚さ0. 3mm×φ8m
mのガラス板で、蒸着は真空度が1×10-5Torr基材の
回転速度150rpmで行い、膜厚は1000Åとした。
各ソースからの蒸着速度は記録膜中のTe,Ge,Sb
の原子数の割合を調整するため、変化させた。表1の組
成の割合は、この蒸着の速度より換算した値であるが、
代表的な組成をX線マイクロアナライザー(XMA)で
行ったところ、仕込値とほぼ同様の定量結果が得られ
た。したがって、表中の仕込組成は、膜中でも同じと思
われる。この製法によって作成された試験片の評価方法
を以下に記す。 [転移温度]転移温度とは、蒸着直後の非晶質状態の膜
が熱によって結晶状態になる開始温度を意味する。測定
は、膜の透過率の測定が可能な装置を用い、ヒーターに
より試験片の温度を昇温速度1℃/SEC で上昇させたと
きに透過率が減少を開始する温度において測定した。転
移温度が高いことは、膜が熱的に安定であることを意味
する。 [黒化、白化特性]黒化特性とは、非晶質から結晶質へ
の変態に対しての転移速度を示したものであり、白化特
性は結晶質から非晶質の転移感度を示したものである。
測定はφ8mmのガラス片上の記録膜にレンズを用いて
レーザ光を集光させ、サンプル片を上下、左右移動可能
とした装置を用いて行った。レーザ光のスポットは45
×0.4μmの矩形とし、パルス幅200ns(発光サ
イクルは毎秒500回),パワー密度10.6mW/μ
2 、波長は900nmとした。黒化特性は、試験片を
比較的緩やかに移動させた場合の変態(非晶質から結晶
質)の速度を観察し、速度が充分早く、かつ未記録部分
と記録部分のコントラスト比が充分大きいものを◎とし
た。×は緩やかに移動させても黒化しないもの、あるい
は、コントラスト比が小さいものを示す。○、△は◎と
×の中間に位置する。この定性的な表現において、実用
可能な黒化特性は○以上である。
The present invention will be described in detail below with reference to specific examples. (Example 1) Te, Ge, and Sb were simultaneously vapor-deposited from the respective sources on a substrate by using an electron beam vapor deposition machine capable of vapor deposition of three sources. The base material used is 0.3 mm thick x 8 m
On a glass plate of m, vapor deposition was carried out at a rotation speed of 150 rpm of a substrate with a vacuum of 1 × 10 −5 Torr and a film thickness of 1000 Å.
The evaporation rate from each source is Te, Ge, Sb in the recording film.
Was changed to adjust the ratio of the number of atoms of. The composition ratios in Table 1 are values converted from the deposition rate,
When a typical composition was analyzed by an X-ray microanalyzer (XMA), a quantitative result almost similar to the charged value was obtained. Therefore, the charging composition in the table seems to be the same in the film. The evaluation method of the test piece prepared by this manufacturing method is described below. [Transition temperature] The transition temperature means a temperature at which an amorphous film immediately after vapor deposition becomes crystalline by heat. The measurement was performed using a device capable of measuring the transmittance of the film, at a temperature at which the transmittance started to decrease when the temperature of the test piece was raised by a heater at a temperature rising rate of 1 ° C./SEC. A high transition temperature means that the film is thermally stable. [Blackening and whitening characteristics] The blackening characteristics indicate the transition rate from the amorphous to crystalline transformation, and the whitening characteristics indicate the transition sensitivity from crystalline to amorphous. It is a thing.
The measurement was performed by using a device in which laser light was focused on a recording film on a φ8 mm glass piece by using a lens and the sample piece could be moved vertically and horizontally. 45 spots of laser light
× 0.4 μm rectangle, pulse width 200 ns (light emission cycle is 500 times per second), power density 10.6 mW / μ
m 2 and wavelength were 900 nm. As for the blackening characteristic, the speed of transformation (amorphous to crystalline) is observed when the test piece is moved relatively slowly, and the speed is sufficiently high, and the contrast ratio between the unrecorded portion and the recorded portion is sufficiently large. The item was marked as ◎. “X” indicates that the blackening does not occur even if it is gently moved, or that the contrast ratio is small. ○ and △ are located between ◎ and ×. In this qualitative expression, the practical blackening characteristic is ◯ or higher.

【0030】次に白化特性について述べる。白化特性を
観る場合は、一旦、黒化し、その上を試験片を速やかに
移動させて急冷状態をつくり、白化(結晶質から非結晶
質)させる。白化状態が◎のものは、移動速度が比較的
緩やかでも白化し、しかも非晶質部分と結晶質部分のコ
ントラスト比が大きいものを示す。×は全く白化しない
ものを示している。○と△は、◎と×の中間に位置す
る。
Next, the whitening characteristics will be described. When observing the whitening characteristics, the material is once blackened, and the test piece is quickly moved over the blackened portion to form a rapidly cooled state, and whitening (from crystalline to amorphous) is performed. When the whitening state is ⊚, the whitening occurs even when the moving speed is relatively slow, and the contrast ratio between the amorphous part and the crystalline part is large. X indicates that no whitening occurs. ○ and △ are located between ◎ and ×.

【0031】上記実験で、発光サイクルは500回/秒
であるから、移動速度が緩やかな場合には、前回のパル
スで照射された部分と今回の照射部分との間隔が小さ
く、前に照射した部分からの熱伝導の影響を受け、冷却
速度がやや低下し結晶化しやすくなる。一方、移動速度
が速い場合には、前の照射を行なった部分と次の照射が
行なわれる部分が熱的に完全に遮断され、冷却速度が増
大してアモルファス化しやすくなる。
In the above experiment, since the light emission cycle is 500 times / second, when the moving speed is slow, the interval between the part irradiated by the previous pulse and the part irradiated this time is small, and the irradiation is performed before. Due to the influence of heat conduction from the part, the cooling rate is slightly lowered and it becomes easier to crystallize. On the other hand, when the moving speed is high, the part irradiated with the previous irradiation and the part irradiated with the next irradiation are thermally completely cut off, and the cooling speed is increased to easily become amorphous.

【0032】したがって、移動速度が十分大きい場合に
は、上述した表現によれば、黒化、白化特性とも非常に
すぐれているときは、◎、◎となるが、実際問題として
は同じ移動速度で、どちらも◎となることはあり得ず、
望ましい材料としては、◎、○あるいは◎、△と多少黒
化特性が優れているものである。上記条件下では、結晶
化とアモルファス化のいずれもが同じパルス幅のレーザ
照射で実現できた。表1に、本発明の範囲で作成した膜
の転移温度と、黒化、白化特性の結果を示す。
Therefore, when the moving speed is sufficiently high, according to the above-mentioned expression, when the blackening and whitening characteristics are very excellent, ⊚ and ⊚ are obtained. , Neither can be ◎,
Desirable materials are ⊚, ∘, ⊚, and Δ, which are somewhat excellent in blackening characteristics. Under the above conditions, both crystallization and amorphization could be realized by laser irradiation with the same pulse width. Table 1 shows the results of the transition temperature and the blackening and whitening characteristics of the film prepared in the range of the present invention.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】表1の結果より明らかなように、本発明の
範囲にあるTe−Ge−Sb系記録薄膜は、同じパルス
幅のレーザ照射によって黒化および白化がそれぞれ可能
である。すなわちこの範囲内にある記録部材は、加熱条
件、例えば照射するレーザ光線の照射強度、照射時間を
適当に選ぶことで、非晶質状態と結晶質状態のいずれの
状態をもとることが可能であり、光学的に情報を記録
し、かつ消去することが可能である。 (実施例2)基材として光ガイド用のトラックを備えた
厚さ1.2mm×φ200mmのポリカーボネイト樹脂
基材を用い、記録膜としてTe65Ge15Sb20組成の薄
膜を用いて光ディスクを試作した。
As is clear from the results of Table 1, the Te-Ge-Sb recording thin film within the scope of the present invention can be blackened and whitened by laser irradiation with the same pulse width. That is, the recording member within this range can be in either an amorphous state or a crystalline state by appropriately selecting the heating conditions, for example, the irradiation intensity of the laser beam to be irradiated and the irradiation time. Yes, it is possible to record and erase information optically. (Example 2) An optical disk was experimentally produced by using a 1.2 mm × φ200 mm thick polycarbonate resin base material having a light guide track as a base material and a thin film of Te 65 Ge 15 Sb 20 composition as a recording film. .

【0035】まず、基材上に耐熱層としてZnS薄膜を
900Å蒸着し、その上に記録層を約1000Åの厚さ
に蒸着し、さらにその上に同じく耐熱層としてZnS薄
膜を1800Å蒸着した。この光ディスクの基板側から
光学系を用いて絞り込んだレーザ光線を照射して信号を
記録し、直ちに消去を行った。記録に先だって、スポッ
ト形状が1μm×10μmの長楕円形のレーザ光線を1
4mWの強さでトラックに沿って照射し、トラック内の
記録膜を結晶化し、次に0.9μmφに絞り込んだレー
ザ光線を8mWの強さで照射した。記録周波数は2MH
z、ディスクの回転速度は5m/sである。このとき照
射部は非晶質化され、トラックに沿って信号が記録され
た。スペクトラムアナライザーによりC/Nを測定した
ところ、50dBが得られた。このトラック上に前述の
長楕円スポットを照射したところ、信号は、完全に消去
された。上記の実施例において、実効照射時間はスポッ
トの長さを回転線速度で除したものと考えられるから、
この場合、アモルファス化の場合には180ns,結晶
化には2μsのレーザ照射を行なったことになる。 (実施例3)実施例2における光ディスクを用いて、寿
命試験を80℃、80%RHの条件下で行った。試験方
法は、予め情報を記録しておき、上記条件で保持後のC
/Nの劣化をみた。1ケ月経過後のC/Nの低下は、−
0.5dBと,無視できる程度であった。 (実施例4)実施例3における光ディスクの記録、消去
の繰り返し特性を評価した。10万回記録、消去を繰り
返した後のC/Nの低下は約1dB程度であった。
First, a ZnS thin film as a heat-resistant layer was vapor-deposited on a substrate at 900 Å, a recording layer was vapor-deposited thereon to a thickness of about 1000 Å, and a ZnS thin film as a heat-resistant layer was also vapor-deposited at 1800 Å thereon. A signal was recorded by irradiating a laser beam narrowed down from the substrate side of this optical disk using an optical system, and erasing was immediately performed. Prior to recording, an elliptical laser beam with a spot shape of 1 μm × 10 μm
Irradiation was performed along the track with an intensity of 4 mW to crystallize the recording film in the track, and then a laser beam focused to 0.9 μmφ was applied with an intensity of 8 mW. Recording frequency is 2MH
The rotation speed of z and the disk is 5 m / s. At this time, the irradiated portion was amorphized and a signal was recorded along the track. When C / N was measured with a spectrum analyzer, 50 dB was obtained. When the above elliptical spot was irradiated on this track, the signal was completely erased. In the above example, the effective irradiation time is considered to be the length of the spot divided by the rotational linear velocity,
In this case, laser irradiation was performed for 180 ns in the case of amorphization and 2 μs for crystallization. (Example 3) Using the optical disk of Example 2, a life test was conducted under the conditions of 80 ° C and 80% RH. The test method is to record the information in advance, and to hold C under the above conditions.
The deterioration of / N was observed. The decrease in C / N after one month is-
It was a negligible level of 0.5 dB. (Example 4) The recording / erasing repetition characteristics of the optical disk of Example 3 were evaluated. The reduction in C / N after recording and erasing 100,000 times was about 1 dB.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、耐熱性
および耐湿性に極めて優れ、記録、消去を繰り返しても
相分離に伴う記録・消去・書換特性変化、ノイズ成分の
増加、及び/または膜の破壊がなく、実用上、極めて優
れた書換え特性を実現できる。
As described above, according to the present invention, the heat resistance and the moisture resistance are extremely excellent, and even when recording and erasing are repeated, the recording / erasing / rewriting characteristics change due to the phase separation, the increase of the noise component, and the It is possible to realize extremely excellent rewriting characteristics practically without breaking the film.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用する光学情報記録部材の組成範囲
を示す組成図である。
FIG. 1 is a composition diagram showing a composition range of an optical information recording member to which the present invention is applied.

【図2】本発明を適用する光学情報記録部材の膜構成の
一実施例を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a film structure of an optical information recording member to which the present invention is applied.

【符号の説明】 1 基板 2 保護層 3 記録層 4 保護層 5 基板(保護板)[Explanation of reference numerals] 1 substrate 2 protective layer 3 recording layer 4 protective layer 5 substrate (protective plate)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐内 進 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Susumu Sanai 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、少なくともTe、Geならび
にSbの3元素からなり、かつそのTe、GeおよびS
bの各原子数比が、Te濃度が50%以上、かつフリー
なTeの存在しない組成範囲内に選ばれた材料薄膜を記
録層として備えた光学情報記録部材を用い、上記記録層
にレーザ光線を照射して照射部を加熱した後、急冷する
ことによってアモルファス化し、徐冷することによって
結晶化し、もって可逆的相転移を生じることに基づく光
学特性の変化を呈させしめることを特徴とする書換え可
能な光学的情報記録方法。
1. A substrate comprising at least three elements of Te, Ge and Sb, and Te, Ge and S thereof.
An optical information recording member having a material layer selected as a recording layer in which the atomic ratio of b is 50% or more in Te concentration and a free Te-free composition range is used, and a laser beam is applied to the recording layer. Rewriting, which is characterized by irradiating the irradiated part with light and heating the irradiated part to make it amorphous, and then gradually cooling to crystallize, thereby causing a change in optical properties based on the occurrence of a reversible phase transition. Possible optical information recording method.
【請求項2】 結晶化する際に、アモルファス化すると
きと同等時間、もしくはアモルファス化するときよりも
相対的に長い時間のレーザ照射を行なうことを特徴とす
る請求項1記載の書換え可能な光学的情報記録方法。
2. The rewritable optics according to claim 1, wherein the laser irradiation is performed during crystallization for the same time as during amorphization, or for a relatively longer time than during amorphization. Information recording method.
【請求項3】 情報の記録に先立って記録層に長円形の
レーザスポットを照射し、記録層を消去状態に転換して
おくことを特徴とする請求項1記載の書換え可能な光学
的情報記録方法。
3. The rewritable optical information recording according to claim 1, wherein the recording layer is irradiated with an elliptical laser spot before the information recording to convert the recording layer to an erased state. Method.
JP7066622A 1995-03-27 1995-03-27 Rewritable optical information recording method Expired - Lifetime JP2650868B2 (en)

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