JPH07256618A - セラミックハニカム押出成形用口金の再生方法 - Google Patents
セラミックハニカム押出成形用口金の再生方法Info
- Publication number
- JPH07256618A JPH07256618A JP5543194A JP5543194A JPH07256618A JP H07256618 A JPH07256618 A JP H07256618A JP 5543194 A JP5543194 A JP 5543194A JP 5543194 A JP5543194 A JP 5543194A JP H07256618 A JPH07256618 A JP H07256618A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- die
- ceramic honeycomb
- wear
- coating layer
- resistant coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B3/00—Producing shaped articles from the material by using presses; Presses specially adapted therefor
- B28B3/20—Producing shaped articles from the material by using presses; Presses specially adapted therefor wherein the material is extruded
- B28B3/26—Extrusion dies
- B28B3/269—For multi-channeled structures, e.g. honeycomb structures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Press-Shaping Or Shaping Using Conveyers (AREA)
- Moulds, Cores, Or Mandrels (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】再生したＣＶＤ口金を使用してセラミックハニ
カムを押出しても、外周壁に荒れの発生のないセラミッ
クハニカムを得ることができるセラミックハニカム押出
成形用口金の再生方法を提供する。 【構成】成形溝とこの成形溝へそれぞれ連通された複数
のセラミック坏土供給孔とを有する口金部材の表面に、
化学蒸着法によって耐摩耗被覆層を設けてなるセラミッ
クハニカム押出成形用口金１の再生方法において、摩耗
の少ない口金１の外周部にマスク２、３を施した状態
で、化学蒸着法により耐摩耗被覆層を形成する。
カムを押出しても、外周壁に荒れの発生のないセラミッ
クハニカムを得ることができるセラミックハニカム押出
成形用口金の再生方法を提供する。 【構成】成形溝とこの成形溝へそれぞれ連通された複数
のセラミック坏土供給孔とを有する口金部材の表面に、
化学蒸着法によって耐摩耗被覆層を設けてなるセラミッ
クハニカム押出成形用口金１の再生方法において、摩耗
の少ない口金１の外周部にマスク２、３を施した状態
で、化学蒸着法により耐摩耗被覆層を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、成形溝とこの成形溝へ
それぞれ連通された複数のセラミック坏土供給孔とを有
する口金部材の表面に、化学蒸着法によって耐摩耗被覆
層を設けてなるセラミックハニカム押出成形用口金の再
生方法に関するものである。
それぞれ連通された複数のセラミック坏土供給孔とを有
する口金部材の表面に、化学蒸着法によって耐摩耗被覆
層を設けてなるセラミックハニカム押出成形用口金の再
生方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、成形溝とこの成形溝へそれぞ
れ連通された複数のセラミック坏土供給孔とを有する口
金部材の表面に、化学蒸着法によって耐摩耗被覆層を設
けることにより、成形溝の幅を決定するセラミックハニ
カム押出成形用の口金、いわゆるＣＶＤ口金は種々のも
のが知られている。これらのＣＶＤ口金は、通常、最終
的な溝幅よりも大きな溝幅を有する成形溝と、この成形
溝へそれぞれ連通された複数のセラミック坏土供給孔と
を有する口金部材を作製し、得られた口金部材をＣＶＤ
装置内にセットして化学蒸着法によって口金部材の表面
に耐摩耗被覆層を形成し、これにより成形溝の幅を最終
的な成形溝の幅としている。
れ連通された複数のセラミック坏土供給孔とを有する口
金部材の表面に、化学蒸着法によって耐摩耗被覆層を設
けることにより、成形溝の幅を決定するセラミックハニ
カム押出成形用の口金、いわゆるＣＶＤ口金は種々のも
のが知られている。これらのＣＶＤ口金は、通常、最終
的な溝幅よりも大きな溝幅を有する成形溝と、この成形
溝へそれぞれ連通された複数のセラミック坏土供給孔と
を有する口金部材を作製し、得られた口金部材をＣＶＤ
装置内にセットして化学蒸着法によって口金部材の表面
に耐摩耗被覆層を形成し、これにより成形溝の幅を最終
的な成形溝の幅としている。
【０００３】上述したＣＶＤ口金の製造方法として、本
出願人は、特開平３−２８１３０６号公報において、口
金部材２枚を同時に処理する技術を提案するとともに、
特開平５−２６９７１９号公報において、化学蒸着法に
用いるガスの流れを規制しながら口金部材を複数枚同時
に化学蒸着処理する技術を開示している。
出願人は、特開平３−２８１３０６号公報において、口
金部材２枚を同時に処理する技術を提案するとともに、
特開平５−２６９７１９号公報において、化学蒸着法に
用いるガスの流れを規制しながら口金部材を複数枚同時
に化学蒸着処理する技術を開示している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した口金部材で
は、セラミック坏土の押出を続けると、徐々に耐摩耗被
覆層が摩耗して、初期の成形溝幅を維持することができ
なくなり、耐摩耗被覆層の摩耗量が一定の値よりも大き
くなった場合には寿命となる。その場合はＣＶＤ口金の
使用ができなくなるが、ＣＶＤ口金は高価なものである
ため、通常は成形溝幅を初期の幅にするための再生を行
っている。すなわち、耐摩耗被覆層上に再度化学蒸着法
によるコーティングを行うことにより耐目網被覆層を形
成し、初期の成形溝幅としている。
は、セラミック坏土の押出を続けると、徐々に耐摩耗被
覆層が摩耗して、初期の成形溝幅を維持することができ
なくなり、耐摩耗被覆層の摩耗量が一定の値よりも大き
くなった場合には寿命となる。その場合はＣＶＤ口金の
使用ができなくなるが、ＣＶＤ口金は高価なものである
ため、通常は成形溝幅を初期の幅にするための再生を行
っている。すなわち、耐摩耗被覆層上に再度化学蒸着法
によるコーティングを行うことにより耐目網被覆層を形
成し、初期の成形溝幅としている。
【０００５】しかしながら、セラミックハニカムを押出
成形するためのＣＶＤ口金の坏土押出による摩耗は、そ
の中心部と外周部とで異なっている。すなわち、ＣＶＤ
口金の中心部はすべてセラミックハニカムのセル壁を形
成するのに使用されるため均一に坏土が流通し、耐摩耗
被覆層の摩耗量は一定であるが、外周部の数セルの幅に
対応する成形溝の部分は、セラミックハニカムの外周壁
を形成するのに使用されるため、中心部と比較して耐摩
耗被覆層の摩耗量は極端に少なくなる。
成形するためのＣＶＤ口金の坏土押出による摩耗は、そ
の中心部と外周部とで異なっている。すなわち、ＣＶＤ
口金の中心部はすべてセラミックハニカムのセル壁を形
成するのに使用されるため均一に坏土が流通し、耐摩耗
被覆層の摩耗量は一定であるが、外周部の数セルの幅に
対応する成形溝の部分は、セラミックハニカムの外周壁
を形成するのに使用されるため、中心部と比較して耐摩
耗被覆層の摩耗量は極端に少なくなる。
【０００６】図４は口金の成形溝の状態を示す図であ
る、図４（ａ）は口金の断面を示し、図４（ｂ）は図４
（ａ）のＡ−Ａ’断面における成形溝の位置を成形溝幅
との関係を示すグラフである。図４に従って説明する
と、まず１１が化学蒸着を行う前の基準となる口金部材
を示している。このとき、中心部の成形溝幅は２００μ
m であり、外周部の成形溝幅も２００μm である。次
に、１２に示すように、化学蒸着法によって厚さ１０μ
m の耐摩耗被覆層を設けて最初のＣＶＤ口金を得る。こ
のとき、中心部の成形溝幅は１８０μm であり、外周部
の成形溝幅も１８０μm である。
る、図４（ａ）は口金の断面を示し、図４（ｂ）は図４
（ａ）のＡ−Ａ’断面における成形溝の位置を成形溝幅
との関係を示すグラフである。図４に従って説明する
と、まず１１が化学蒸着を行う前の基準となる口金部材
を示している。このとき、中心部の成形溝幅は２００μ
m であり、外周部の成形溝幅も２００μm である。次
に、１２に示すように、化学蒸着法によって厚さ１０μ
m の耐摩耗被覆層を設けて最初のＣＶＤ口金を得る。こ
のとき、中心部の成形溝幅は１８０μm であり、外周部
の成形溝幅も１８０μm である。
【０００７】その後、寿命に達したＣＶＤ口金の成形溝
幅を１３に示す。このとき、中心部の成形溝幅は１９０
μm であり、外周部の中心部近傍の一部も１９０μm で
あり、均一に摩耗しているが、外周部の最外周は摩耗せ
ず１８０μm のままとなっている。そのため、再生のた
め化学蒸着法により７．５μm の厚さの耐摩耗被覆層を
形成すると、１４に示すように、中心部は１８０μm と
なり、外周部の中心部近傍の一部も１８０μm となり再
生できるが、外周部の最外周は１６５μm となり初期の
成形溝幅よりも狭くなってしまう。
幅を１３に示す。このとき、中心部の成形溝幅は１９０
μm であり、外周部の中心部近傍の一部も１９０μm で
あり、均一に摩耗しているが、外周部の最外周は摩耗せ
ず１８０μm のままとなっている。そのため、再生のた
め化学蒸着法により７．５μm の厚さの耐摩耗被覆層を
形成すると、１４に示すように、中心部は１８０μm と
なり、外周部の中心部近傍の一部も１８０μm となり再
生できるが、外周部の最外周は１６５μm となり初期の
成形溝幅よりも狭くなってしまう。
【０００８】そのため、このように中心部と外周部とで
摩耗量の異なる寿命に達したＣＶＤ口金を再生するため
に、そのままＣＶＤ装置にセットして中心部の摩耗量を
基準にして化学蒸着法により一様な厚さに耐摩耗被覆層
を形成すると、外周部の成形溝は初期の成形溝幅と比較
して極端に狭くなる問題があった。その結果、このよう
にして再生したＣＶＤ口金を使用してセラミックハニカ
ムの押出を再開すると、外周壁に荒れが発生する不良が
生じる問題があった。
摩耗量の異なる寿命に達したＣＶＤ口金を再生するため
に、そのままＣＶＤ装置にセットして中心部の摩耗量を
基準にして化学蒸着法により一様な厚さに耐摩耗被覆層
を形成すると、外周部の成形溝は初期の成形溝幅と比較
して極端に狭くなる問題があった。その結果、このよう
にして再生したＣＶＤ口金を使用してセラミックハニカ
ムの押出を再開すると、外周壁に荒れが発生する不良が
生じる問題があった。
【０００９】本発明の目的は上述した課題を解消して、
再生したＣＶＤ口金を使用してセラミックハニカムを押
出しても、外周壁に荒れの発生のないセラミックハニカ
ムを得ることができるセラミックハニカム押出成形用口
金の再生方法を提供しようとするものである。
再生したＣＶＤ口金を使用してセラミックハニカムを押
出しても、外周壁に荒れの発生のないセラミックハニカ
ムを得ることができるセラミックハニカム押出成形用口
金の再生方法を提供しようとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のセラミックハニ
カム押出成形用口金の再生方法は、成形溝とこの成形溝
へそれぞれ連通された複数のセラミック坏土供給孔とを
有する口金部材の表面に、化学蒸着法によって耐摩耗被
覆層を設けてなるセラミックハニカム押出成形用口金の
再生方法において、摩耗の少ない口金の外周部にマスク
を施した状態で、化学蒸着法により耐摩耗被覆層を形成
することを特徴とするものである。
カム押出成形用口金の再生方法は、成形溝とこの成形溝
へそれぞれ連通された複数のセラミック坏土供給孔とを
有する口金部材の表面に、化学蒸着法によって耐摩耗被
覆層を設けてなるセラミックハニカム押出成形用口金の
再生方法において、摩耗の少ない口金の外周部にマスク
を施した状態で、化学蒸着法により耐摩耗被覆層を形成
することを特徴とするものである。
【００１１】
【作用】上述した構成において、マスクを摩耗の少ない
口金の外周部に設けることで、ＣＶＤ装置で中心部の摩
耗量を基準として一様の厚さに耐摩耗被覆層を形成して
再生しても、外周部の耐摩耗被覆層上には再生時にほと
んど耐摩耗被覆層が形成されず、中心部も外周部もほぼ
均一の成形溝幅を有するＣＶＤ口金を再生することがで
きる。その結果、本発明に従って再生したＣＶＤ口金を
使用して押出を再開しても、セラミックハニカムの外周
壁に異常は発生しない。
口金の外周部に設けることで、ＣＶＤ装置で中心部の摩
耗量を基準として一様の厚さに耐摩耗被覆層を形成して
再生しても、外周部の耐摩耗被覆層上には再生時にほと
んど耐摩耗被覆層が形成されず、中心部も外周部もほぼ
均一の成形溝幅を有するＣＶＤ口金を再生することがで
きる。その結果、本発明に従って再生したＣＶＤ口金を
使用して押出を再開しても、セラミックハニカムの外周
壁に異常は発生しない。
【００１２】
【実施例】図１は本発明のセラミックハニカム押出成形
用口金の再生方法を実施する状態の一例を示す図であ
る。図１に示す例において、１は寿命に達した再生する
ための口金、２は口金１の成形溝側にセットしたマス
ク、３は口金１の坏土供給孔側にセットしたマスクであ
る。このように、口金１の外周部の部分をマスク２、３
でマスキングした状態で、化学蒸着装置内でガスを流す
ことにより、耐摩耗被覆層を形成して口金１の再生を行
っている。なお、化学蒸着法については、従来から知ら
れているどのような方法でも利用することができ、例え
ば本出願人による特開平３−２８１３０６号公報や特開
平５−２６９７１９号公報に示した製造方法を好適に利
用することができる。
用口金の再生方法を実施する状態の一例を示す図であ
る。図１に示す例において、１は寿命に達した再生する
ための口金、２は口金１の成形溝側にセットしたマス
ク、３は口金１の坏土供給孔側にセットしたマスクであ
る。このように、口金１の外周部の部分をマスク２、３
でマスキングした状態で、化学蒸着装置内でガスを流す
ことにより、耐摩耗被覆層を形成して口金１の再生を行
っている。なお、化学蒸着法については、従来から知ら
れているどのような方法でも利用することができ、例え
ば本出願人による特開平３−２８１３０６号公報や特開
平５−２６９７１９号公報に示した製造方法を好適に利
用することができる。
【００１３】ここで重要なのは、マスク２、３の端部２
ａ、３ａの口金１に対する位置である。通常、摩耗の少
ない部分、すなわち図４（ｂ）に示した例において、寿
命がきても摩耗しない最外周の部分に対応して設ければ
本発明の目的は達成できるが、実際の化学蒸着法ではマ
スク２、３の存在する部分でも端部２ａ，３ａの近傍に
は耐摩耗被覆層が若干形成されるため、端部２ａ、３ａ
が摩耗しない最外周部よりも若干内側にまで存在するよ
う位置決めすることが好ましい。
ａ、３ａの口金１に対する位置である。通常、摩耗の少
ない部分、すなわち図４（ｂ）に示した例において、寿
命がきても摩耗しない最外周の部分に対応して設ければ
本発明の目的は達成できるが、実際の化学蒸着法ではマ
スク２、３の存在する部分でも端部２ａ，３ａの近傍に
は耐摩耗被覆層が若干形成されるため、端部２ａ、３ａ
が摩耗しない最外周部よりも若干内側にまで存在するよ
う位置決めすることが好ましい。
【００１４】また、端部２ａ、３ａの形状についても、
図１に示す例では口金１に対して垂直に立ち上げたが、
端部２ａ、３ａは斜めのテーパ形状に形成する等他の形
状でもかまわないことはいうまでもない。さらに、図１
に示す例では、端部２ａ、３ａの形状を同じ形状とした
が、ガスの流れ方向に対し上流側の端部３ａをテーパ形
状とし、下流側の端部２ａを図１に示すように口金１に
対して垂直に立ち上げた形状とすることもできる。
図１に示す例では口金１に対して垂直に立ち上げたが、
端部２ａ、３ａは斜めのテーパ形状に形成する等他の形
状でもかまわないことはいうまでもない。さらに、図１
に示す例では、端部２ａ、３ａの形状を同じ形状とした
が、ガスの流れ方向に対し上流側の端部３ａをテーパ形
状とし、下流側の端部２ａを図１に示すように口金１に
対して垂直に立ち上げた形状とすることもできる。
【００１５】図２は本発明の再生方法で使用するマスク
２（３）の他の例の構成を示す図である。図２におい
て、図２（ａ）は正面図を、図２（ｂ）平面図を、図２
（ｃ）は側面図をそれぞれ示している。図２に示す例で
は、マスク２（３）をグラファイトの薄板をＬ字形状に
することにより形成し、端部２ａ（３ａ）とその外周の
２ｂ，３ｂの部分までを斜めのテーパ形状としている。
本例では、マスク２（３）のＬ字形状に垂直に立ち上が
った部分２ｃ（３ｃ）を口金に対する位置決めに使用す
ることができる。
２（３）の他の例の構成を示す図である。図２におい
て、図２（ａ）は正面図を、図２（ｂ）平面図を、図２
（ｃ）は側面図をそれぞれ示している。図２に示す例で
は、マスク２（３）をグラファイトの薄板をＬ字形状に
することにより形成し、端部２ａ（３ａ）とその外周の
２ｂ，３ｂの部分までを斜めのテーパ形状としている。
本例では、マスク２（３）のＬ字形状に垂直に立ち上が
った部分２ｃ（３ｃ）を口金に対する位置決めに使用す
ることができる。
【００１６】通常、再生後の口金に実際にセラミック坏
土を通過させて押出を行い、押出されたセラミックハニ
カムの外周壁の状態が荒れがなくなるまでセラミック坏
土を通過させることにより、再生した口金の最終的な調
整を行っている。そこで、再生後の成形溝の均一性を、
最終的な調整字に口金を通過したセラミック坏土の押出
距離で判断するため、本発明に従ってマスクＡ、マスク
Ｂを使用して再生した口金と、マスクを使用しないで再
生した口金とに対し、上記セラミック坏土の押出距離を
求めた。結果を図３に示す。
土を通過させて押出を行い、押出されたセラミックハニ
カムの外周壁の状態が荒れがなくなるまでセラミック坏
土を通過させることにより、再生した口金の最終的な調
整を行っている。そこで、再生後の成形溝の均一性を、
最終的な調整字に口金を通過したセラミック坏土の押出
距離で判断するため、本発明に従ってマスクＡ、マスク
Ｂを使用して再生した口金と、マスクを使用しないで再
生した口金とに対し、上記セラミック坏土の押出距離を
求めた。結果を図３に示す。
【００１７】図３の結果から、本発明に従ったマスク
Ａ、マスクＢを使用して再生した口金は、マスクを使用
しないで再生した口金と比較して、最終調整に必要とな
るセラミック坏土を少なくすることができ、その結果か
ら本発明に従って再生した口金の方が均一な成形溝を得
ることができ、従来例に比べて外周壁の荒れをなくすこ
とができることがわかる。
Ａ、マスクＢを使用して再生した口金は、マスクを使用
しないで再生した口金と比較して、最終調整に必要とな
るセラミック坏土を少なくすることができ、その結果か
ら本発明に従って再生した口金の方が均一な成形溝を得
ることができ、従来例に比べて外周壁の荒れをなくすこ
とができることがわかる。
【００１８】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、マスクを摩耗の少ない口金の外周部に設けて
いるため、ＣＶＤ装置で中心部の摩耗量を基準として一
様の厚さに耐摩耗被覆層を形成して再生しても、外周部
の耐摩耗被覆層上には再生時にほとんど耐摩耗被覆層が
形成されず、中心部も外周部もほぼ均一の成形溝幅を有
するＣＶＤ口金を再生することができる。その結果、本
発明に従って再生したＣＶＤ口金を使用して押出を再開
しても、セラミックハニカムの外周壁に異常は発生しな
い。
によれば、マスクを摩耗の少ない口金の外周部に設けて
いるため、ＣＶＤ装置で中心部の摩耗量を基準として一
様の厚さに耐摩耗被覆層を形成して再生しても、外周部
の耐摩耗被覆層上には再生時にほとんど耐摩耗被覆層が
形成されず、中心部も外周部もほぼ均一の成形溝幅を有
するＣＶＤ口金を再生することができる。その結果、本
発明に従って再生したＣＶＤ口金を使用して押出を再開
しても、セラミックハニカムの外周壁に異常は発生しな
い。
【図１】本発明のセラミックハニカム押出成形用口金の
再生方法を実施する状態の一例を示す図である。
再生方法を実施する状態の一例を示す図である。
【図２】本発明の再生方法に使用するマスクの他の例の
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図３】再生後の成形溝の均一性を比較するためのグラ
フである。
フである。
【図４】従来の問題点を説明するための図である。
１ 口金、２、３ マスク、２ａ、３ａ 端部
Claims (2)
- 【請求項１】成形溝とこの成形溝へそれぞれ連通された
複数のセラミック坏土供給孔とを有する口金部材の表面
に、化学蒸着法によって耐摩耗被覆層を設けてなるセラ
ミックハニカム押出成形用口金の再生方法において、摩
耗の少ない口金の外周部にマスクを施した状態で、化学
蒸着法により耐摩耗被覆層を形成することを特徴とする
セラミックハニカム押出成形用口金の再生方法。 - 【請求項２】前記マスクの材料がグラファイトである請
求項１記載のセラミックハニカム押出成形用口金の再生
方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6055431A JP2693716B2 (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | セラミックハニカム押出成形用口金の再生方法 |
| DE1995610256 DE69510256T2 (de) | 1994-03-25 | 1995-03-24 | Verfahren zur Wiederherstellung von Formen zum Extrudieren keramischer Körper mit Honigwaben-Struktur |
| EP19950301973 EP0674018B1 (en) | 1994-03-25 | 1995-03-24 | Method of regenerating dies for extruding ceramic honeycomb structural bodies |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6055431A JP2693716B2 (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | セラミックハニカム押出成形用口金の再生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07256618A true JPH07256618A (ja) | 1995-10-09 |
| JP2693716B2 JP2693716B2 (ja) | 1997-12-24 |
Family
ID=12998404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6055431A Expired - Lifetime JP2693716B2 (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | セラミックハニカム押出成形用口金の再生方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0674018B1 (ja) |
| JP (1) | JP2693716B2 (ja) |
| DE (1) | DE69510256T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0769570A1 (en) | 1995-10-17 | 1997-04-23 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of regenerating extrusion die for ceramic honeycomb structural bodies |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6426126B1 (en) * | 1997-12-19 | 2002-07-30 | Amt Holdings, Inc. | Preparation of metal coatings |
| JP2003136516A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-14 | Ngk Insulators Ltd | ハニカム押出成形用口金 |
| US7303782B2 (en) | 2004-11-30 | 2007-12-04 | Corning Incorporated | Extrusion die coating method |
| WO2020139580A1 (en) | 2018-12-28 | 2020-07-02 | Corning Incorporated | System and method for vapor deposition coating of extrusion dies using impedance disks |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4448797A (en) * | 1981-02-04 | 1984-05-15 | Xerox Corporation | Masking techniques in chemical vapor deposition |
| JPH0645130B2 (ja) * | 1989-03-23 | 1994-06-15 | 日本碍子株式会社 | セラミックハニカム押出ダイスの製造法 |
| JP2505318B2 (ja) * | 1991-03-25 | 1996-06-05 | 日本碍子株式会社 | セラミックハニカム押出成形用口金の製造方法 |
-
1994
- 1994-03-25 JP JP6055431A patent/JP2693716B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-03-24 DE DE1995610256 patent/DE69510256T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-03-24 EP EP19950301973 patent/EP0674018B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0769570A1 (en) | 1995-10-17 | 1997-04-23 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of regenerating extrusion die for ceramic honeycomb structural bodies |
| US5858463A (en) * | 1995-10-17 | 1999-01-12 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of regenerating extrusion die for ceramic honeycomb structural bodies |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2693716B2 (ja) | 1997-12-24 |
| DE69510256T2 (de) | 1999-11-11 |
| EP0674018B1 (en) | 1999-06-16 |
| DE69510256D1 (de) | 1999-07-22 |
| EP0674018A1 (en) | 1995-09-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1649994B1 (en) | Die and method for extrusion forming of ceramics | |
| DE69003137T2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Strangpressdüsen für keramische Wabenstruktur. | |
| US8226400B2 (en) | Die for molding honeycomb structure and manufacturing method thereof | |
| US4235583A (en) | Extrusion die and method for making same | |
| US5089203A (en) | Method and apparatus for forming an outer skin or honeycomb structures | |
| JPS5838083B2 (ja) | ハニカム構造体押出成形用ダイス装置 | |
| JP2693716B2 (ja) | セラミックハニカム押出成形用口金の再生方法 | |
| EP2082856B1 (en) | Mold for extrusion forming of ceramic articles | |
| JP2505318B2 (ja) | セラミックハニカム押出成形用口金の製造方法 | |
| US20030102209A1 (en) | Metal foil electrolytic manufacturing apparatus | |
| JPH09109126A (ja) | ハニカム成形用口金の再生方法 | |
| JP3220971B2 (ja) | ハニカム構造体押出装置 | |
| US7524448B2 (en) | Honeycomb extrusion die | |
| JP3832515B2 (ja) | ハニカム構造体押出方法 | |
| KR19980071110A (ko) | 압출 금형 가공 방법 | |
| US4834640A (en) | Extrusion-forming jig | |
| JP2000189878A (ja) | 塗布装置および磁気記録媒体 | |
| JP3032394B2 (ja) | ハニカム構造体の製造方法 | |
| US7303782B2 (en) | Extrusion die coating method | |
| JP2892693B2 (ja) | タイヤ成形用金型 | |
| JPH105850A (ja) | 押出加工用ダイス | |
| JPH05131427A (ja) | ハニカム構造体の押出成形用ダイス | |
| JPH085111B2 (ja) | ハニカム構造体の製造装置 | |
| JP2010228285A (ja) | ハニカム構造体成形用口金 | |
| JP4739005B2 (ja) | ダイスおよびフィルムの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970805 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070905 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080905 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090905 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100905 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120905 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120905 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130905 Year of fee payment: 16 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |