JPH07249631A - Manufacture of solder bumps and solder ball and manufacture of semiconductor device - Google Patents

Manufacture of solder bumps and solder ball and manufacture of semiconductor device

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JPH07249631A
JPH07249631A JP7003679A JP367995A JPH07249631A JP H07249631 A JPH07249631 A JP H07249631A JP 7003679 A JP7003679 A JP 7003679A JP 367995 A JP367995 A JP 367995A JP H07249631 A JPH07249631 A JP H07249631A
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solder
solder ball
forming member
recess
ball forming
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Japanese (ja)
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Masayuki Ochiai
正行 落合
Yasuo Yamagishi
康男 山岸
Hidefumi Ueda
秀文 植田
Nobuo Kamehara
伸男 亀原
Rikuro Sono
陸郎 薗
Ichiro Yamaguchi
一郎 山口
Kazuhiko Mitobe
一彦 水戸部
Koki Otake
幸喜 大竹
Junichi Kasai
純一 河西
Masataka Mizukoshi
正孝 水越
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • H05K3/3478Applying solder preforms; Transferring prefabricated solder patterns

Abstract

PURPOSE:To provide a method of forming solder bumps or solder balls of a desired size. CONSTITUTION:A solder ball forming member 10 having a flat surface 10a and a plurality of recessed parts 12 arranged in a specified pattern is prepared. The recessed parts 12 are filled with solder paste 14 composed of solder grains 16 and flux 15. The solder ball forming member 10 is heated, and solder grains 16 contained in the solder paste 14 in each of the recessed part 12 are fused. By the effect of surface tension, round solder balls 20 are formed. A member 22 on which solder bumps are to be formed is made to relatively approach the solder ball forming member 10. The heated solder balls 20 are transferred from the solder ball forming member 10 to the member 22 on which solder bumps are to be formed, in the same pattern as the pattern of the recessed parts 12.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造方法に
関し、例えば半導体チップの電極パッドにはんだバンプ
を効率的に形成するためのはんだバンプの製造方法に関
する。さらに詳細には、本発明ははんだペーストからは
んだボールを形成することによりはんだバンプを形成す
るはんだバンプの製造方法及びはんだペーストからはん
だボールを形成するはんだボールの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device, for example, a method of manufacturing a solder bump for efficiently forming a solder bump on an electrode pad of a semiconductor chip. More specifically, the present invention relates to a solder bump manufacturing method for forming solder bumps by forming solder balls from the solder paste and a solder ball manufacturing method for forming solder balls from the solder paste.

【0002】[0002]

【従来の技術】大量の情報を高速に処理する情報処理装
置においては、半導体チップに電子回路や電子部品を集
積したLSIやVLSI等が多く用いられている。電子
回路が形成されている半導体チップを例えばセラミック
基板に取り付けるために、半導体チップ又はセラミック
基板にはんだバンプを設け、はんだバンプの溶着によ
り、半導体チップをセラミック基板に固定するとともに
電気的な接続を行うことができる。
2. Description of the Related Art LSIs, VLSIs and the like in which electronic circuits and electronic components are integrated on a semiconductor chip are often used in information processing apparatuses for processing a large amount of information at high speed. In order to attach a semiconductor chip on which an electronic circuit is formed to, for example, a ceramic substrate, a solder bump is provided on the semiconductor chip or the ceramic substrate, and by welding the solder bump, the semiconductor chip is fixed to the ceramic substrate and electrically connected. be able to.

【0003】従来は、セラミック基板にはんだペースト
を印刷し、半導体チップに取り付けたリードをセラミッ
ク基板のはんだペーストの上に置き、加熱することによ
りはんだを溶融させ、よって半導体チップをセラミック
基板に機械的及び電気的に接続していた。セラミック基
板にはんだペーストを印刷するために、例えば所定のパ
ターンの開口部を有する金属マスクを使用し、この金属
マスクにはんだペーストを載せて、金属マスクの表面に
沿ってスキージを移動させながら、はんだペーストをセ
ラミック基板に印刷する。
Conventionally, a solder paste is printed on a ceramic substrate, the leads attached to the semiconductor chip are placed on the solder paste of the ceramic substrate, and the solder is melted by heating, so that the semiconductor chip is mechanically attached to the ceramic substrate. And was electrically connected. In order to print the solder paste on the ceramic substrate, for example, a metal mask having openings of a predetermined pattern is used, the solder paste is placed on the metal mask, and the squeegee is moved along the surface of the metal mask while soldering is performed. Print the paste on a ceramic substrate.

【0004】しかし、半導体チップ上の電子回路が集積
されると、入出力端子となるリードの数が増加し、リー
ド間ピッチが小さくなる。そうなると、印刷するはんだ
ペーストの量は少なくなり、はんだペーストの印刷は困
難となる。つまり、はんだペーストは通常粒径が30〜
50μmのはんだ粒子と、松脂や、活性剤や、有機溶剤
などを含むフラックスとからなるものであり、はんだペ
ーストの粘度は室温で20〜30×104 cp程度と高
い。従って、金属マスクの開口部の寸法が100μm程
度と小さくなると、はんだペーストが目詰まりし、金属
マスクの開口部を円滑に通過しなくなり、セラミック基
板に印刷されなくなる。
However, when electronic circuits on a semiconductor chip are integrated, the number of leads serving as input / output terminals increases and the pitch between leads becomes smaller. In that case, the amount of solder paste to be printed becomes small, and it becomes difficult to print the solder paste. That is, the solder paste usually has a particle size of 30-
It consists of 50 μm solder particles and a flux containing pine resin, activator, organic solvent and the like, and the viscosity of the solder paste is as high as about 20 to 30 × 10 4 cp at room temperature. Therefore, when the size of the opening of the metal mask is reduced to about 100 μm, the solder paste is clogged, the paste does not smoothly pass through the opening of the metal mask, and the ceramic substrate cannot be printed.

【0005】最近のフリップチップ構造では、半導体チ
ップにリードを設けることなく、半導体チップにはんだ
バンプを設けて、半導体チップをセラミック基板に直接
に取り付けるようになっている。この場合にも、はんだ
バンプのサイズが小さくなると、はんだペーストの印刷
が難しくなる。そこで、はんだペーストを使用すること
なく、実質的にはんだのみによってはんだバンプを形成
することによって、小さなはんだバンプを形成すること
が提案されており、このような方法として、真空蒸着法
及びはんだメッキ法がある。
In the recent flip-chip structure, solder bumps are provided on the semiconductor chip without mounting the leads on the semiconductor chip, and the semiconductor chip is directly attached to the ceramic substrate. Also in this case, when the size of the solder bump is reduced, it becomes difficult to print the solder paste. Therefore, it has been proposed to form small solder bumps by forming solder bumps substantially only with solder without using a solder paste. As such a method, a vacuum deposition method and a solder plating method are proposed. There is.

【0006】真空蒸着法は、例えば特開平─4─014
834号に記載されており、はんだを真空下で加熱して
蒸発させ、蒸発したはんだを付着させるものである。前
記公報に記載された方法では、石英やガラスなど透明で
耐熱性に優れるが、はんだ濡れ性の劣る転写板と、所定
のパターンの開口部を有する金属マスクとを用いる。転
写板は金属マスクのすぐ上方に配置され、金属マスクの
開口部を通過したはんだ蒸気が転写板に蒸着するように
なっている。従って、転写板には金属マスクの開口部に
相当するパターンではんだバンプが形成される。
The vacuum vapor deposition method is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-014.
No. 834, the solder is heated in a vacuum to evaporate and the evaporated solder is attached. In the method described in the above publication, a transfer plate such as quartz or glass that is transparent and has excellent heat resistance, but has poor solder wettability, and a metal mask having openings of a predetermined pattern are used. The transfer plate is arranged immediately above the metal mask, and the solder vapor that has passed through the opening of the metal mask is deposited on the transfer plate. Therefore, solder bumps are formed on the transfer plate in a pattern corresponding to the openings of the metal mask.

【0007】次に、半導体チップを加熱し、転写板に近
づけ、よって転写板のはんだバンプを半導体チップに転
写する。このようにして、半導体チップに所定のパター
ンではんだバンプが形成される。このような方法をとる
ことにより、はんだバンプを精度よく形成することがで
きるが、所望の厚さ、例えば数10μmの厚さのはんだ
バンプを形成するにはかなり長い蒸発時間を必要とする
問題があった。
Next, the semiconductor chip is heated and brought close to the transfer plate, so that the solder bumps of the transfer plate are transferred to the semiconductor chip. In this way, solder bumps are formed in a predetermined pattern on the semiconductor chip. By adopting such a method, the solder bumps can be formed with high accuracy, but there is a problem that a considerably long evaporation time is required to form the solder bumps having a desired thickness, for example, a thickness of several tens of μm. there were.

【0008】また、はんだメッキ法は、半導体チップの
表面をレジストで被覆した後、パンプ形成位置のレジス
トを窓開けしてはんだメッキを行うものであるが、メッ
キ液によりLSIなどの集積回路が化学的な変化を受け
て、特性劣化が生じ易いことと、析出したはんだの組成
ずれが大きいことが問題となる。
In the solder plating method, after the surface of the semiconductor chip is covered with a resist, the resist at the position where the pump is formed is opened to perform solder plating. However, there is a problem in that the characteristics are likely to be deteriorated due to the mechanical change and the composition deviation of the deposited solder is large.

【0009】また、はんだバンプは半導体チップに形成
されるばかりでなく、セラミック基板やセラミックパッ
ケージ等にも形成される。またある応用においては、は
んだペーストを使用することなく、実質的にはんだのみ
の塊としてはんだボールが提供され、このようなはんだ
ボールを使用してはんだバンプを形成することがある。
しかし、従来、はんだボールを簡単に製造する方法がな
く、またはんだボールのサイズのバラツキが大きかっ
た。
The solder bumps are formed not only on the semiconductor chip but also on the ceramic substrate, the ceramic package, or the like. Also, in some applications, solder balls are provided as a lump of solder substantially without the use of solder paste, and such solder balls may be used to form solder bumps.
However, heretofore, there has been no method for easily manufacturing solder balls, or there has been a large variation in the size of the solder balls.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、所望
の大きさのはんだバンプを容易に形成できるはんだバン
プの製造方法を提供することである。本発明の他の目的
は、所望の大きさのはんだボールを容易に形成できるは
んだボールの製造方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a solder bump which can easily form a solder bump having a desired size. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a solder ball that can easily form a solder ball having a desired size.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明によるはんだバン
プの製造方法は、平坦な表面10aと、該平坦な表面に
所定のパターンで配置された複数の凹部12とを有する
はんだボール形成部材10を準備し、はんだボール形成
部材10の凹部12にはんだ粒子16とフラックス15
とからなるはんだペースト14を充填し、はんだボール
形成部材10を加熱して各凹部12内のはんだペースト
14中に含まれるはんだ粒子16が溶融して表面張力に
より丸まったはんだボール20を形成し、はんだバンプ
を形成すべき部材22をはんだボール形成部材10に相
対的に近づけて加熱されたはんだボール20をはんだボ
ール形成部材10から該はんだバンプを形成すべき部材
22に該凹部12のパターンと同じパターンで転写する
ことを特徴とする。
A method of manufacturing a solder bump according to the present invention provides a solder ball forming member 10 having a flat surface 10a and a plurality of recesses 12 arranged in a predetermined pattern on the flat surface. The solder particles 16 and the flux 15 are prepared in the recess 12 of the solder ball forming member 10.
Is filled with the solder paste 14, and the solder ball forming member 10 is heated to melt the solder particles 16 contained in the solder paste 14 in each recess 12 to form a solder ball 20 rounded by surface tension. The solder ball 20 heated by bringing the member 22 on which the solder bumps are to be formed relatively close to the solder ball forming member 10 is the same as the pattern of the recess 12 on the member 22 on which the solder bumps are to be formed. Characterized by transferring in a pattern.

【0012】[0012]

【作用】上記構成においては、はんだボール形成部材の
凹部は互いに実質的に等しい形状及び体積を有し、よっ
てはんだペーストをはんだボール形成部材の凹部に充填
すると全ての凹部のはんだペーストの体積は互いに等し
い。はんだペーストの中には、はんだ粒子が一様に分布
している。はんだボール形成部材をはんだの融点以上に
まで加熱すると、溶融したはんだ粒子が表面張力により
丸まり、全ての凹部内で互いに実質的に等しい体積のは
んだボールが形成される。こうして形成されたはんだボ
ールはフラックスとは分離しており、各凹部からはんだ
ボールのみを取り出すことができる。従って、はんだバ
ンプを形成すべき部材をはんだボール形成部材に相対的
に近づけると、加熱されたはんだボールがはんだボール
形成部材から該はんだバンプを形成すべき部材に該凹部
のパターンと同じパターンで転写されることになる。こ
のようにして、はんだバンプを形成すべき部材には、は
んだボール形成部材の凹部の体積に従った所望の大きさ
のはんだバンプが所定の位置に形成される。
In the above structure, the recesses of the solder ball forming member have substantially the same shape and volume, so that when the solder paste is filled in the recesses of the solder ball forming member, the volumes of the solder paste in all the recesses are mutually equal. equal. Solder particles are uniformly distributed in the solder paste. When the solder ball forming member is heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder, the melted solder particles are rounded by the surface tension, and solder balls having substantially the same volume are formed in all the concave portions. The solder balls thus formed are separated from the flux, and only the solder balls can be taken out from each recess. Therefore, when the member on which the solder bumps are to be formed is brought relatively close to the solder ball forming member, the heated solder balls are transferred from the solder ball forming member to the member on which the solder bumps are to be formed in the same pattern as the concave pattern. Will be done. In this way, a solder bump having a desired size according to the volume of the recess of the solder ball forming member is formed at a predetermined position on the member on which the solder bump is to be formed.

【0013】好ましくは、はんだボール形成部材の少な
くとも該平坦な表面を含む部分が、該はんだバンプを形
成すべき部材のはんだバンプ形成部分よりもはんだ濡れ
性の劣る材料で作られている。これにより、はんだボー
ルがはんだボール形成部材から該はんだバンプを形成す
べき部材へ容易に転写される。
Preferably, at least the portion including the flat surface of the solder ball forming member is made of a material having a solder wettability inferior to the solder bump forming portion of the member on which the solder bump is to be formed. As a result, the solder ball is easily transferred from the solder ball forming member to the member on which the solder bump is to be formed.

【0014】好ましくは、はんだボール形成部材の凹部
にはんだペーストを充填する工程が、はんだボール形成
部材の該平坦な表面に沿ってスキージを移動させること
からなる。これにより、はんだペーストをはんだボール
形成部材の凹部に最も簡単に充填することができるとと
もに、全ての凹部のはんだペーストの体積が互いに等し
くなる。
Preferably, the step of filling the solder paste in the concave portion of the solder ball forming member comprises moving the squeegee along the flat surface of the solder ball forming member. As a result, the solder paste can be filled in the recesses of the solder ball forming member most easily, and the volumes of the solder paste in all the recesses become equal to each other.

【0015】好ましくは、はんだボールの転写の一つの
特徴として、はんだボール形成部材の該凹部が、はんだ
ボール形成工程において各凹部で形成されたはんだボー
ルがはんだボール形成部材の該表面から部分的に突出す
るような形状に定められる。従って、はんだバンプを形
成すべき部材を該平坦な表面側からはんだボール形成部
材に相対的に近づけると、突出したはんだボールがはん
だバンプを形成すべき部材に付着し、簡単に転写され
る。
Preferably, as one of the features of the transfer of the solder balls, the concave portions of the solder ball forming member are partially formed from the surface of the solder ball forming member by the solder balls formed in the concave portions in the solder ball forming step. It is defined to have a protruding shape. Therefore, when the member on which the solder bumps are to be formed is brought relatively close to the solder ball forming member from the flat surface side, the protruding solder balls adhere to the members on which the solder bumps are to be formed and are easily transferred.

【0016】はんだボールの転写は、はんだボールを形
成した直後にはんだボールがまだ加熱された状態で行う
こともできる。あるいは、はんだボールを形成する工程
の後ではんだボールを転写する工程の前に、はんだボー
ル形成部材を冷却する工程を含み、該はんだボールを転
写する工程がはんだボール形成部材を加熱することを含
む。これによって、はんだボールの形成と、はんだボー
ルの転写を別のステージで行うことができる。
The transfer of the solder balls can also be carried out immediately after forming the solder balls while the solder balls are still heated. Alternatively, the step of cooling the solder ball forming member after the step of forming the solder ball and the step of transferring the solder ball may be included, and the step of transferring the solder ball may include heating the solder ball forming member. . Thereby, the formation of the solder balls and the transfer of the solder balls can be performed in different stages.

【0017】好ましくは、はんだボール形成部材の該凹
部が、該平坦な表面における輪郭形状と、底部と、該平
坦な表面から該底部までの深さとを有し、該輪郭形状の
大きさが形成すべきはんだボールの大きさよりも大き
い。これによって、はんだボールがはんだボール形成部
材の該表面から部分的に突出するような形状に定められ
る。これは、該凹部の深さがはんだボールの直径よりも
小さいと表現することなできる。
Preferably, the recess of the solder ball forming member has a contour shape on the flat surface, a bottom portion, and a depth from the flat surface to the bottom portion, and the size of the contour shape is formed. Larger than the size of the solder ball to be. As a result, the solder ball is shaped so as to partially project from the surface of the solder ball forming member. This can be expressed as that the depth of the recess is smaller than the diameter of the solder ball.

【0018】好ましくは、該凹部の該平坦な表面におけ
る輪郭形状が実質的に円形、あるいは多角形とする。好
ましくは、該凹部が定められた位置に最深部を有し、は
んだボールがこの最深部に対応する位置に形成されるよ
うにする。該凹部が深さが深くなるにつれて輪郭形状が
小さくなる。あるいは、該凹部が深さが深くなるにつれ
て段々に輪郭形状が小さくなる。
Preferably, the contour shape of the flat surface of the recess is substantially circular or polygonal. Preferably, the recess has a deepest portion at a defined position, and the solder ball is formed at a position corresponding to the deepest portion. The contour shape decreases as the depth of the recess increases. Alternatively, the contour shape gradually decreases as the depth of the recess increases.

【0019】好ましくは、はんだボール形成部材が一つ
の板からなる。あるいは、はんだボール形成部材が重ね
合わせた複数の板からなり、該複数の板の内の少なくと
も一つが貫通穴を有し、該貫通穴が該凹部の一部を形成
する。これによって、該凹部の形状を深さが深くなるに
つれて変化するようにすることができる。
Preferably, the solder ball forming member is composed of one plate. Alternatively, the solder ball forming member is composed of a plurality of stacked plates, and at least one of the plurality of plates has a through hole, and the through hole forms a part of the recess. This allows the shape of the recess to change as the depth increases.

【0020】好ましくは、はんだボールの転写のもう一
つの特徴として、はんだボール形成部材の該凹部が、該
平坦な表面における輪郭形状と、底部と、該平坦な表面
と該底部とを接続する環状側壁部とからなり、はんだボ
ール形成部材が取り外し可能に重ね合わせた第1及び第
2の板からなり、該第1の板が該平坦な表面と該凹部の
環状側壁部を形成する貫通穴とを有し、該第2の板の表
面が該凹部の底部を形成する。従って、はんだボールを
転写する工程が、はんだボールが該第1の板に保持され
た状態で該第2の板を該第1の板から遠ざける工程と、
該はんだバンプを形成すべき部材を該第1の板の該平坦
な表面とは反対側の表面に相対的に近づける工程とを含
む。このようにして、はんだボールをはんだボール形成
部材の該凹部のある方とは反対側の表面から転写するこ
とができる。
Preferably, as another feature of the transfer of the solder ball, the concave portion of the solder ball forming member connects the contour shape of the flat surface, the bottom portion, and the annular surface connecting the flat surface and the bottom portion. A first side wall and a second side plate on which the solder ball forming member is removably overlapped, and the first plate is a through hole that forms the flat surface and the annular side wall of the recess. And the surface of the second plate forms the bottom of the recess. Therefore, the step of transferring the solder balls includes the step of moving the second plate away from the first plate while the solder balls are held by the first plate,
And relatively bringing the member on which the solder bumps are to be formed closer to the surface of the first plate opposite to the flat surface. In this way, the solder ball can be transferred from the surface of the solder ball forming member opposite to the surface having the recess.

【0021】この場合、該はんだボールを転写する工程
が、さらに該第1の板に保持されたはんだボールを該は
んだバンプを形成すべき部材に向かって押し出す工程を
含むことが好ましい。
In this case, it is preferable that the step of transferring the solder balls further includes a step of extruding the solder balls held by the first plate toward a member on which the solder bumps are to be formed.

【0022】さらに、本発明によるはんだボールの製造
方法は、平坦な表面と、該平坦な表面に所定のパターン
で配置された複数の凹部とを有するはんだボール形成部
材を準備し、はんだボール形成部材の凹部にはんだ粒子
とフラックスとからなるはんだペーストを充填し、はん
だボール形成部材を加熱して各凹部内のはんだペースト
中に含まれるはんだ粒子が溶融して表面張力により丸ま
ったはんだボールを形成し、はんだボール形成部材を冷
却し、はんだボールをはんだボール形成部材の凹部から
取り出すことを特徴とする。
Further, in the method for manufacturing a solder ball according to the present invention, a solder ball forming member having a flat surface and a plurality of concave portions arranged in a predetermined pattern on the flat surface is prepared, and the solder ball forming member is prepared. The concave portion of is filled with a solder paste composed of solder particles and flux, and the solder ball forming member is heated to melt the solder particles contained in the solder paste in each concave portion to form a rounded solder ball by surface tension. It is characterized in that the solder ball forming member is cooled and the solder ball is taken out from the concave portion of the solder ball forming member.

【0023】この構成においても、はんだボール形成部
材の凹部は互いに実質的に等しい形状及び体積を有し、
よって該凹部に充填されたはんだペーストの体積は互い
に等しい。はんだボール形成部材を加熱すると、溶融し
たはんだ粒子が表面張力により丸まり、全ての凹部内で
互いに実質的に等しい体積のはんだボールが形成され
る。こうして形成されたはんだボールはフラックスとは
分離されている。そこで、はんだボール形成部材を冷却
し、はんだボールを個々の塊とし、はんだボールを各凹
部から取り出すことができる。フラックスははんだボー
ルの外側に付着しているが、洗浄を行うことによって、
フラックスをはんだボールから除去することができる。
Also in this structure, the recesses of the solder ball forming member have substantially the same shape and volume,
Therefore, the volumes of the solder paste filled in the recesses are equal to each other. When the solder ball forming member is heated, the molten solder particles are rounded by the surface tension to form the solder balls having substantially the same volume in all the recesses. The solder balls thus formed are separated from the flux. Therefore, the solder ball forming member can be cooled, the solder balls can be made into individual lumps, and the solder balls can be taken out from each recess. Flux adheres to the outside of the solder ball, but by cleaning it,
Flux can be removed from the solder balls.

【0024】[0024]

【実施例】図1は本発明の第1実施例を示す図である。
本発明によるはんだバンプの製造方法においては、最初
に、(A)に示されるように、はんだボール形成部材1
0を準備する。はんだボール形成部材10は耐熱性の優
れたステンレス鋼の板(SUS304)で作られ、その
平坦な表面10aに複数の等しい形状の凹部12を30
0μmのピッチでマトリックス状に設けてある。各凹部
12は、表面10aにおける輪郭形状が直径200μm
の円形であり、深さが50μmである。凹部12の形状
は深さが深くなるにつれて直径が小さくなっている。凹
部12ははんだボール形成部材10の表面10aを切削
加工して形成される。
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention.
In the method of manufacturing a solder bump according to the present invention, first, as shown in FIG.
Prepare 0. The solder ball forming member 10 is made of a stainless steel plate (SUS304) having excellent heat resistance, and a plurality of recesses 12 having the same shape are formed on the flat surface 10a.
They are arranged in a matrix with a pitch of 0 μm. Each concave portion 12 has a contour shape of 200 μm in diameter on the surface 10a.
Is circular and has a depth of 50 μm. The shape of the concave portion 12 has a smaller diameter as the depth increases. The recess 12 is formed by cutting the surface 10 a of the solder ball forming member 10.

【0025】はんだボール形成部材10はステンレス、
クロム、ガラス、セラミック、チタン等のはんだ濡れ性
の劣る材料で形成されることが好ましく、あるいはその
表面にクロム、チタン、SiO2 等のはんだ濡れ性の劣
る材料を被覆されるのが好ましい。実施例においては、
凹部12を形成した後、はんだボール形成部材10の表
面10aに黒色クロム(Cr)メッキ(略称BCR)を
施した。
The solder ball forming member 10 is made of stainless steel,
It is preferably formed of a material having poor solder wettability such as chromium, glass, ceramics or titanium, or the surface thereof is preferably coated with a material having poor solder wettability such as chromium, titanium or SiO 2 . In the example,
After forming the recess 12, the surface 10a of the solder ball forming member 10 was plated with black chrome (Cr) (abbreviated as BCR).

【0026】図3及び図4は、ステンレス鋼の板で作ら
れたはんだボール形成部材10の平坦な表面10aにエ
ッチングにより形成された凹部12を示す。この場合、
はんだボール形成部材10の平坦な表面10aにレジス
ト(図示せず)を塗布し、露光及び現像によりレジスト
に所定のパターンの開口部を設け、塩化第2鉄溶液をエ
ッチャントとしてエッチングしたものである。図4にお
いて、凹部12はマトリックス状に設けてある。
3 and 4 show a recess 12 formed by etching in a flat surface 10a of a solder ball forming member 10 made of a stainless steel plate. in this case,
A resist (not shown) is applied to the flat surface 10a of the solder ball forming member 10, an opening having a predetermined pattern is provided in the resist by exposure and development, and etching is performed using a ferric chloride solution as an etchant. In FIG. 4, the recesses 12 are provided in a matrix.

【0027】図5は、はんだボール形成部材10を比較
的に剛性のある平坦なステンレス鋼の板10bと、凹部
12に相当する貫通穴10dを有するステンレス鋼の板
10cとを重ねて形成した例を示す図である。図6は、
はんだボール形成部材10を比較的に剛性のある平坦な
ステンレス鋼の板10bと、凹部12に相当する丸みの
ある貫通穴10eを有するステンレス鋼の板10cとを
重ねて形成した例を示す図である。図5及び図6におい
て、板10cの厚さは凹部12の深さに相当する。これ
によって、はんだボール形成部材10の凹部12の深さ
を確実にすることができる。
FIG. 5 shows an example in which the solder ball forming member 10 is formed by stacking a relatively rigid flat stainless steel plate 10b and a stainless steel plate 10c having a through hole 10d corresponding to the recess 12. FIG. Figure 6
FIG. 3 is a diagram showing an example in which the solder ball forming member 10 is formed by stacking a relatively rigid flat stainless steel plate 10 b and a stainless steel plate 10 c having a rounded through hole 10 e corresponding to the recess 12. is there. In FIGS. 5 and 6, the thickness of the plate 10c corresponds to the depth of the recess 12. This ensures the depth of the recess 12 of the solder ball forming member 10.

【0028】図1(A)及び(B)に示されるように、
はんだボール形成部材10を準備した後、はんだペース
ト14をはんだボール形成部材10の凹部12に充填す
る。このために、(A)に示されるように、はんだボー
ル形成部材10の平坦な表面10a上にはんだペースト
14を載せる。
As shown in FIGS. 1A and 1B,
After the solder ball forming member 10 is prepared, the solder paste 14 is filled in the recess 12 of the solder ball forming member 10. For this purpose, as shown in (A), the solder paste 14 is placed on the flat surface 10 a of the solder ball forming member 10.

【0029】はんだペースト14ははんだ粒子16とフ
ラックス15とからなり、フラックス15は松脂や、活
性剤や、有機溶剤などを含む。はんだ粒子16ははんだ
ペースト14中に非常に高い密度で配置され、よっては
んだペースト14中にはんだ成分が均一に分布してい
る。はんだ粒子16を高い密度で配置するために、はん
だ粒子16は種々の大きさの成分を含む。例えば、実施
例においては、全はんだ粒子16中、20μm以下の粒
子が約60パーセント、30μm以下の粒子が約30パ
ーセント、40μm以下の粒子が約5パーセントあっ
た。また、はんだペースト14中におけるはんだ粒子1
6の割合は、約90重量パーセントであり、且つ約44
体積パーセントである。はんだは、Pb−5Sn(融点
が300〜314℃)からなるものであった。なお、そ
の他の構成のはんだを使用することもできる。例えば、
Sn,Pb,In,Bi,Ag,Zn,Au,Ge,S
i,Sbのいずれか一つを構成元素として含むはんだを
使用することができる。
The solder paste 14 comprises solder particles 16 and a flux 15, and the flux 15 contains pine resin, an activator, an organic solvent and the like. The solder particles 16 are arranged in the solder paste 14 at a very high density, so that the solder components are uniformly distributed in the solder paste 14. In order to arrange the solder particles 16 with high density, the solder particles 16 include components of various sizes. For example, in the examples, out of all the solder particles 16, about 60% of particles are 20 μm or less, about 30% of particles of 30 μm or less, and about 5% of particles of 40 μm or less. In addition, the solder particles 1 in the solder paste 14
The ratio of 6 is about 90 weight percent and about 44
Volume percent. The solder was made of Pb-5Sn (melting point: 300 to 314 ° C.). It should be noted that solder having other configurations can also be used. For example,
Sn, Pb, In, Bi, Ag, Zn, Au, Ge, S
A solder containing any one of i and Sb as a constituent element can be used.

【0030】はんだペースト14の充填は、スキージ1
8をはんだボール形成部材10の平坦な表面10aに沿
って例えば矢印Aの方向に移動させることによって行わ
れる。はんだボール形成部材10の凹部12の体積は全
て等しいので、凹部12の中のはんだペースト14の体
積も全て等しい。はんだペースト14の中には、はんだ
粒子16が実質的に均一に分布しているので、凹部12
の中のはんだ粒子16の体積も実質的に全て等しい。
The squeegee 1 is used to fill the solder paste 14.
8 is moved along the flat surface 10a of the solder ball forming member 10 in the direction of arrow A, for example. Since the recesses 12 of the solder ball forming member 10 all have the same volume, the solder paste 14 in the recesses 12 also has the same volume. Since the solder particles 16 are substantially evenly distributed in the solder paste 14, the recess 12
The volumes of the solder particles 16 in are also substantially equal.

【0031】次に、図1(C)に示されるように、はん
だボール形成部材10をはんだの融点以上(例えば35
0℃)にまで加熱する。はんだペースト14中のはんだ
粒子16が溶融し、はんだが表面張力により丸まって各
凹部内12内に1つのはんだボール20が形成される。
フラックス15ははんだボール20とは分離される。な
お、はんだボール形成部材10を加熱すると、フラック
ス15の中の溶剤の蒸発が起こり、活性剤などの一部分
解を生じる。また、このような溶剤の蒸発を起こすため
に、低い温度でプレヒートを行うこともできる。
Next, as shown in FIG. 1C, the solder ball forming member 10 is heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder (for example, 35).
Heat to 0 ° C). The solder particles 16 in the solder paste 14 are melted and the solder is curled by the surface tension to form one solder ball 20 in each recess 12.
The flux 15 is separated from the solder balls 20. When the solder ball forming member 10 is heated, the solvent in the flux 15 evaporates, and the activator or the like is partially decomposed. Further, in order to cause such evaporation of the solvent, preheating can be performed at a low temperature.

【0032】次に、図1(D)に示されるように、はん
だバンプを形成すべき部材22をはんだボール形成部材
10に相対的に近づけて、はんだバンプを形成すべき部
材22を加熱されたはんだボール20に突き当て、はん
だボール20をはんだボール形成部材10からはんだバ
ンプを形成すべき部材22に転写する。はんだボール形
成部材10ははんだバンプを形成すべき部材22よりも
はんだ濡れ性の劣る材料で形成され、又は被覆されてい
るので、はんだボール20ははんだボール形成部材10
からはんだバンプを形成すべき部材22に容易に転写さ
れる(移動する)。
Next, as shown in FIG. 1D, the member 22 on which the solder bumps are to be formed is brought relatively close to the solder ball forming member 10, and the member 22 on which the solder bumps are to be formed is heated. The solder balls 20 are abutted, and the solder balls 20 are transferred from the solder ball forming member 10 to the members 22 on which solder bumps are to be formed. Since the solder ball forming member 10 is formed of or coated with a material having a solder wettability lower than that of the member 22 on which the solder bumps are to be formed, the solder ball forming member 10 includes the solder balls 20.
Is easily transferred (moved) to the member 22 on which the solder bump is to be formed.

【0033】この場合、はんだボール20は、その配置
を変化させることなく、はんだボール形成部材10上の
配置のままで、従って凹部12の配置のパターンと同じ
パターンではんだバンプを形成すべき部材22に転写さ
れる。このようにして、半導体チップ上に整然と並ん
だ、例えば100μm以下の小さなはんだバンプを得る
ことができた。
In this case, the solder balls 20 remain arranged on the solder ball forming member 10 without changing their arrangement, and therefore the members 22 on which the solder bumps should be formed in the same pattern as the arrangement pattern of the recesses 12. Is transcribed to. In this way, small solder bumps of, for example, 100 μm or less arranged in order on the semiconductor chip could be obtained.

【0034】実施例においては、はんだバンプを形成す
べき部材22はLSIやVLSIとして形成した半導体
チップであり、集積回路(図示せず)に接続された電極
パッド24を備えている。はんだボール形成部材10の
凹部12は、はんだバンプを形成すべき部材22の電極
パッド24と同じパターンで設けられている。すなわ
ち、電極パッド24はシリコン(Si)基板上に300
μmピッチで形成されている。電極パッド24は例えば
直径100μmである。電極パッド24はシリコン基板
上に設けた厚さが1000Å/5000Åの金(Au)
とニッケル(Ni)の層からなり、はんだ付け性の優れ
た構成をとっている。
In the embodiment, the member 22 on which the solder bump is to be formed is a semiconductor chip formed as an LSI or VLSI, and is provided with an electrode pad 24 connected to an integrated circuit (not shown). The recesses 12 of the solder ball forming member 10 are provided in the same pattern as the electrode pads 24 of the member 22 on which solder bumps are to be formed. That is, the electrode pad 24 is formed on the silicon (Si) substrate by 300
It is formed with a μm pitch. The electrode pad 24 has a diameter of 100 μm, for example. The electrode pad 24 is formed on a silicon substrate and has a thickness of 1000Å / 5000Å of gold (Au).
And a layer of nickel (Ni) and have excellent solderability.

【0035】はんだバンプを形成すべき部材22ははん
だボール形成部材10に対して適切に位置合わせされ、
はんだボール20が電極パッド24に付着するようにな
っている。こうして、図1(E)に示されるように、は
んだボール20が部材22のはんだバンプとなる。
The member 22 on which the solder bumps are to be formed is properly aligned with the solder ball forming member 10,
The solder balls 20 adhere to the electrode pads 24. Thus, as shown in FIG. 1E, the solder balls 20 become the solder bumps of the member 22.

【0036】図1の実施例においては、はんだボール2
0の転写時に、はんだバンプを形成すべき部材22を平
坦な表面10a側からはんだボール形成部材10に相対
的に近づけるようなっている。従って、溶融状態のはん
だボール20の転写を可能とするためには、はんだボー
ル20が平坦な表面10aから外に部分的に突出し、は
んだバンプを形成すべき部材22と直接に接触できるよ
うになっている必要がある。凹部12の形状を下記のよ
うに定めることにより、はんだボール20が平坦な表面
10aから外に部分的に突出するようになる。
In the embodiment of FIG. 1, the solder balls 2
At the time of 0 transfer, the member 22 on which the solder bump is to be formed is brought relatively close to the solder ball forming member 10 from the flat surface 10a side. Therefore, in order to enable the transfer of the molten solder ball 20, the solder ball 20 partially protrudes outward from the flat surface 10a and can directly contact the member 22 on which the solder bump is to be formed. Need to be. By defining the shape of the recess 12 as described below, the solder ball 20 partially protrudes from the flat surface 10a to the outside.

【0037】上記したように、はんだペースト14中に
おけるはんだ粒子16の割合は、約44体積パーセント
である。従って、はんだボール20が平坦な表面10a
から外に部分的に突出するようにするためには、凹部1
2は比較的に浅い溝でなければならず、且つ平坦な表面
10aにおける凹部12の輪郭形状の大きさが形成すべ
きはんだボール20の大きさよりも大きいことが必要で
ある。
As mentioned above, the proportion of the solder particles 16 in the solder paste 14 is about 44 volume percent. Therefore, the solder ball 20 has a flat surface 10a.
In order to partially project outward from the recess 1,
2 must be a relatively shallow groove, and the size of the contour of the recess 12 on the flat surface 10a must be larger than the size of the solder ball 20 to be formed.

【0038】図2は本発明の第2実施例を示す図であ
る。第1実施例と同様に、図2(A)から(C)に示さ
れるように、はんだボール形成部材10を準備し、はん
だペースト14をはんだボール形成部材10の凹部12
に充填し、はんだボール形成部材10を加熱してはんだ
ボール20を形成する。
FIG. 2 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. As in the first embodiment, as shown in FIGS. 2A to 2C, the solder ball forming member 10 is prepared, and the solder paste 14 is applied to the recess 12 of the solder ball forming member 10.
And the solder ball forming member 10 is heated to form the solder balls 20.

【0039】次に、図2(D)に示されるように、はん
だボール20を形成する工程の後ではんだボール20を
転写する工程の前に、はんだボール形成部材10を冷却
し、場合によってはフラックス15を溶剤により洗浄す
る。次に、図2(E)に示されるように、はんだボール
20をはんだボール形成部材10からはんだバンプを形
成すべき部材22に転写する。このときには、再び、は
んだボール形成部材10を加熱する。
Next, as shown in FIG. 2D, after the step of forming the solder balls 20, but before the step of transferring the solder balls 20, the solder ball forming member 10 is cooled, and in some cases, The flux 15 is washed with a solvent. Next, as shown in FIG. 2E, the solder balls 20 are transferred from the solder ball forming member 10 to the members 22 on which solder bumps are to be formed. At this time, the solder ball forming member 10 is heated again.

【0040】図7から図10は、このようにして製造し
たはんだバンプを形成すべき部材(半導体チップ)22
を含む半導体パッケージの例を示す図である。図7はピ
ングリッドアレイ(PGA)と呼ばれる半導体パッケー
ジであり、セラミック基板40の表面には電極パターン
又は電極パッド42が設けられており、セラミック基板
40の下面からピン44が延びている。電極パッド42
はピン44に接続され、ピン44を例えばプリント回路
板に取り付けることにより、PGAをプリント回路板に
取り付けることができる。
7 to 10 show a member (semiconductor chip) 22 on which solder bumps thus manufactured are to be formed.
It is a figure which shows the example of the semiconductor package containing. FIG. 7 shows a semiconductor package called a pin grid array (PGA), in which an electrode pattern or electrode pad 42 is provided on the surface of the ceramic substrate 40, and pins 44 extend from the lower surface of the ceramic substrate 40. Electrode pad 42
Is connected to a pin 44, and the PGA can be attached to the printed circuit board by attaching the pin 44 to the printed circuit board, for example.

【0041】はんだバンプを形成すべき部材(半導体チ
ップ)22は、はんだバンプ(はんだボール)20が電
極パッド42の上に位置するようにしてPGA上に位置
せしめられ、加熱することにより、はんだバンプ(はん
だボール)20を電極パッド42に溶着させる。最後に
樹脂46により封止を行う。
The member (semiconductor chip) 22 on which the solder bumps are to be formed is placed on the PGA so that the solder bumps (solder balls) 20 are located on the electrode pads 42, and the solder bumps are formed by heating. The (solder ball) 20 is welded to the electrode pad 42. Finally, the resin 46 is used for sealing.

【0042】図8はボールグリッドアレイ(BGA)と
呼ばれる半導体パッケージであり、PGAの下面のピン
44の代わりに、ボール48が設けられている。その他
の構成は図7のPGAと類似している。ボール48は、
プリント回路板に溶着される。従って、このボール48
も、はんだバンプの一種であり、図1及び図2の製造方
法及び後で説明する製造方法によって製造されることが
できる。この場合には、例えば、直径1000μm、深
さ500μmの凹部12を1270μmピッチで形成す
る。はんだは例えばSn−37Pbを使用し、この場合
には215℃に加熱してはんだボール20を形成する。
FIG. 8 shows a semiconductor package called a ball grid array (BGA), in which balls 48 are provided instead of the pins 44 on the lower surface of the PGA. Other configurations are similar to those of the PGA of FIG. 7. Ball 48
It is welded to the printed circuit board. Therefore, this ball 48
Is also a type of solder bump, and can be manufactured by the manufacturing method of FIGS. 1 and 2 and a manufacturing method described later. In this case, for example, the recesses 12 having a diameter of 1000 μm and a depth of 500 μm are formed at a pitch of 1270 μm. Sn-37Pb, for example, is used as the solder, and in this case, it is heated to 215 ° C. to form the solder ball 20.

【0043】図9はマルチチップモジュール(MCM)
と呼ばれる半導体パッケージである。MCMは、図7の
セラミック基板40と同様のセラミック基板40に、は
んだバンプを形成すべき部材(半導体チップ)22を複
数個含むものである。この場合にも、はんだバンプ(は
んだボール)20が電極パッド42に溶着され、樹脂4
6により封止される。なお、MCMを、図8のセラミッ
ク基板40と同様のセラミック基板40で構成してもよ
い。
FIG. 9 shows a multi-chip module (MCM)
It is a semiconductor package called. The MCM includes a ceramic substrate 40 similar to the ceramic substrate 40 of FIG. 7 and a plurality of members (semiconductor chips) 22 on which solder bumps are to be formed. Also in this case, the solder bumps (solder balls) 20 are welded to the electrode pads 42 and the resin 4
6 is sealed. The MCM may be composed of a ceramic substrate 40 similar to the ceramic substrate 40 of FIG.

【0044】図10はクワッドフラットパッケージ(Q
FP)と呼ばれる半導体パッケージである。はんだバン
プを形成すべき部材(半導体チップ)22のはんだバン
プ(はんだボール)20は、リード50に溶着され、樹
脂46により封止される。
FIG. 10 shows a quad flat package (Q
It is a semiconductor package called FP). The solder bumps (solder balls) 20 of the member (semiconductor chip) 22 on which the solder bumps are to be formed are welded to the leads 50 and sealed with the resin 46.

【0045】図11は、はんだバンプを形成すべき部材
(半導体チップ)22をプリント回路板(PWB)54
に取り付けた例を示す図である。プリント回路板54は
電極パッド56を有し、はんだバンプ(はんだボール)
20はプリント回路板54の電極パッド56に溶着され
る。なお、はんだバンプ(はんだボール)20をプリン
ト回路板54に設けることもできる。
In FIG. 11, a member (semiconductor chip) 22 on which solder bumps are to be formed is printed circuit board (PWB) 54.
It is a figure which shows the example attached to. The printed circuit board 54 has electrode pads 56 and solder bumps (solder balls).
20 is welded to the electrode pad 56 of the printed circuit board 54. The solder bumps (solder balls) 20 may be provided on the printed circuit board 54.

【0046】図12及び図13は、TAB部品58には
んだボール20を設けて、はんだバンプとした例を示す
図である。このTAB部品58が図1及び図2のはんだ
バンプを形成すべき部材22に相当し、はんだボール2
0は図1及び図2に示した製造方法に従ってTAB部品
58に形成されたものである。TAB部品58は中央開
口部60aを有するプラスチックのテープ60にリード
62を取り付けたものであり、はんだボール20はリー
ド62に取り付けられる。電極パッド66を有する半導
体チップ64がTAB部品58の中央開口部60aにお
いてリード62上に置かれ、はんだボール20を溶着す
ることによりTAB部品58に取り付けられる。半導体
チップ64は樹脂68により封止される。
12 and 13 are views showing an example in which the solder balls 20 are provided on the TAB component 58 to form solder bumps. This TAB component 58 corresponds to the member 22 on which the solder bumps of FIGS.
0 is formed on the TAB component 58 according to the manufacturing method shown in FIGS. The TAB component 58 is a plastic tape 60 having a central opening 60 a with leads 62 attached thereto, and the solder balls 20 are attached to the leads 62. The semiconductor chip 64 having the electrode pad 66 is placed on the lead 62 in the central opening 60a of the TAB component 58 and attached to the TAB component 58 by welding the solder balls 20. The semiconductor chip 64 is sealed with resin 68.

【0047】図1から図6に示したはんだボール形成部
材10の凹部12は、平坦な表面10aにおける輪郭形
状が形成されたはんだボール20の直径よりも大きく、
且つ深さが全体的に浅いものであった。図14に示すよ
うに、このような凹部12の底部は概して平坦になりや
すく、最深部が一定の位置にならない可能性がある。ボ
ール20の形成においては溶融はんだの重量が凹部12
の最深部にかかるのではんだボール20は最深部におい
て形成される。もし凹部12の最深部の位置が一定でな
いと、はんだボール20の位置が凹部12内でバラツク
ことになる。このため、はんだボール20の転写時に、
はんだボール20の位置がはんだバンプを形成すべき部
材22の電極パッド24に対してずれることになる。
The recess 12 of the solder ball forming member 10 shown in FIGS. 1 to 6 is larger than the diameter of the solder ball 20 in which the contour shape on the flat surface 10a is formed.
And the depth was shallow as a whole. As shown in FIG. 14, the bottom of such a recess 12 tends to be generally flat, and the deepest portion may not be located at a fixed position. In forming the ball 20, the weight of the molten solder is
The solder ball 20 is formed in the deepest part. If the position of the deepest part of the recess 12 is not constant, the position of the solder ball 20 will vary within the recess 12. Therefore, when the solder balls 20 are transferred,
The position of the solder ball 20 is displaced with respect to the electrode pad 24 of the member 22 on which the solder bump is to be formed.

【0048】溶融したはんだボール20を電極パッド2
4に付着させるとセルフアライメントが行われる性質が
あり、溶融したはんだボール20は一般的に電極パッド
24の中心に付着するので、はんだボール20の位置が
ずれていても多くの場合には問題ない。しかし、はんだ
ボール20の位置ずれが大きいとはんだボール20が電
極パッド24にきちんと付着しなくなる可能性がある。
従って、凹部12にはっきりと最深部を設けるのが好ま
しい。凹部12を機械加工により形成する場合には、所
定の位置が深くなるように削る。
The molten solder ball 20 is used as the electrode pad 2
4 has a property that self-alignment is performed, and the melted solder ball 20 generally adheres to the center of the electrode pad 24. Therefore, even if the position of the solder ball 20 is misaligned, there is no problem in many cases. . However, if the displacement of the solder balls 20 is large, the solder balls 20 may not be properly attached to the electrode pads 24.
Therefore, it is preferable to form the deepest portion in the recess 12. When the recess 12 is formed by machining, the recess 12 is ground so that a predetermined position becomes deep.

【0049】図15から図24は、はんだボール20が
凹部12の中心で形成されるように、凹部12に意図的
に最深部を設ける例を示す図である。図15及び図16
においては、はんだボール形成部材10を平坦な表面1
0aが〈100〉となるシリコンの板で作り、平坦な表
面10aに異方性エッチングを行うことにより凹部12
を形成した。エッチングにおいては、円形の開口部を有
するレジストを使用したので、円錐形の凹部12が形成
され、底部の最深部Dは凹部12の中心にある。
FIGS. 15 to 24 are views showing an example in which the deepest portion is intentionally provided in the recess 12 so that the solder ball 20 is formed at the center of the recess 12. 15 and 16
The solder ball forming member 10 on the flat surface 1
0a becomes <100> silicon plate, and the flat surface 10a is anisotropically etched to form the recess 12
Was formed. In the etching, since a resist having a circular opening was used, a conical recess 12 was formed, and the deepest portion D of the bottom was at the center of the recess 12.

【0050】図17及び図18においては、はんだボー
ル形成部材10を同様にシリコンの板で作り、平坦な表
面10aに異方性エッチングを行った。エッチングにお
いては、正方形の開口部を有するレジストを使用したの
で、四角錐形の凹部12が形成された。
In FIGS. 17 and 18, the solder ball forming member 10 is similarly made of a silicon plate, and the flat surface 10a is anisotropically etched. In the etching, since a resist having a square opening was used, a quadrangular pyramidal recess 12 was formed.

【0051】図19及び図20においては、はんだボー
ル形成部材10をステンレス鋼の板で作り、平坦な表面
10aに2回のエッチングを行うことにより凹部12を
形成した。最初のエッチングにおいては、小さな開口部
を有するレジストを使用し、2回目のエッチングにおい
ては、最初のエッチングの場合の開口部と同じ位置にそ
れよりも大きな開口部を有するレジストを使用した。従
って、凹部12は二段の穴になり、各凹部12の中心部
に最深部が形成された。
In FIGS. 19 and 20, the solder ball forming member 10 is made of a stainless steel plate, and the flat surface 10a is etched twice to form the recess 12. In the first etching, a resist having a small opening was used, and in the second etching, a resist having a larger opening at the same position as the opening in the first etching was used. Therefore, the recess 12 has a two-stage hole, and the deepest part is formed at the center of each recess 12.

【0052】図21及び図22においては、はんだボー
ル形成部材10を重ね合わせた複数のステンレス鋼の板
10f、10g、10hで作った。1層目の板10fは
比較的剛性が高く平坦であり、2層目の板10gは小さ
な穴10iを有し、3層目の板10hは大きな穴10j
を有している。従って、各凹部12は底部の小さな穴1
0iと上部の大きな穴10jとからなる二段の穴として
構成され、各凹部12の中心部に最深部が形成される。
複数のステンレス鋼の板10f、10g、10hは加
圧、熱処理により一体化される。あるいは、プロジェク
ション溶接により一体化させることもできる。
In FIGS. 21 and 22, a plurality of stainless steel plates 10f, 10g and 10h on which the solder ball forming member 10 is stacked are used. The first-layer plate 10f is relatively rigid and flat, the second-layer plate 10g has a small hole 10i, and the third-layer plate 10h is a large hole 10j.
have. Therefore, each recess 12 has a small hole 1 at the bottom.
0i and a large hole 10j in the upper part are formed as a two-stage hole, and the deepest part is formed at the center of each recess 12.
The plurality of stainless steel plates 10f, 10g, 10h are integrated by pressure and heat treatment. Alternatively, they can be integrated by projection welding.

【0053】図23及び図24においては、はんだボー
ル形成部材10をステンレス鋼の板10kと、複数の樹
脂膜10l、10m、10nとを重ね合わせて構成す
る。ステンレス鋼の板10kは比較的剛性が高く平坦で
あり、樹脂膜10l、10m、10nは順に大きくなる
穴10o、10p、10qを有する。各凹部12はこれ
らの穴10o、10p、10qで構成され、各凹部12
の中心部に最深部が形成される。
In FIG. 23 and FIG. 24, the solder ball forming member 10 is constructed by stacking a stainless steel plate 10k and a plurality of resin films 10l, 10m and 10n. The stainless steel plate 10k is relatively rigid and flat, and the resin films 10l, 10m, and 10n have holes 10o, 10p, and 10q that become larger in order. Each recess 12 is composed of these holes 10o, 10p, 10q.
The deepest part is formed in the central part of the.

【0054】図23及び図24の構成を得るための一例
においては、樹脂膜10l、10m、10nは最初に個
別に穴10o、10p、10qを形成され、それから重
ね合わせられる。図23及び図24の構成を得るための
他の例においては、樹脂膜10l、10m、10nをそ
れぞれ光硬化性の樹脂とし、最初に樹脂膜10lを塗布
し、マスクをして光を照射する。光の当たった樹脂の部
分が硬化し、光の当たらなかった部分は洗浄により溶け
て穴10oとなる。次に樹脂膜10mを塗布し、同様に
光を照射して穴10pを形成する。それから、樹脂膜1
0nを塗布し、同様に光を照射して穴10qを形成す
る。
In one example for obtaining the configuration of FIGS. 23 and 24, the resin films 10l, 10m, 10n are first individually formed with holes 10o, 10p, 10q and then overlaid. In another example for obtaining the configuration of FIGS. 23 and 24, the resin films 10l, 10m, and 10n are each a photocurable resin, the resin film 10l is first applied, masked, and irradiated with light. . The resin part exposed to light is cured, and the part not exposed to light is melted by washing to form the hole 10o. Next, a resin film 10m is applied and light is similarly irradiated to form a hole 10p. Then, the resin film 1
0n is applied and light is similarly irradiated to form the hole 10q.

【0055】図25は本発明の第3実施例を示す図であ
る。(A)に示されるように、まず、凹部12を備えた
はんだボール形成部材10を準備する。この実施例にお
いては、はんだボール形成部材10は取り外し可能に重
ね合わせた第1及び第2のステンレス鋼の板10r、1
0sからなる。第1の板10rは平坦な表面10aと凹
部12の環状側壁部を形成する貫通穴10tとを有す
る。第2の板10sは実質的に平坦であり、凹部12の
底部を形成する。
FIG. 25 is a diagram showing a third embodiment of the present invention. As shown in (A), first, a solder ball forming member 10 having a recess 12 is prepared. In this embodiment, the solder ball forming member 10 includes first and second stainless steel plates 10r, 1 removably stacked together.
It consists of 0s. The first plate 10r has a flat surface 10a and a through hole 10t forming an annular side wall of the recess 12. The second plate 10s is substantially flat and forms the bottom of the recess 12.

【0056】前の実施例と同様に、はんだボール形成部
材10ははんだ濡れ性の劣る材料で形成され、あるいは
その表面にはんだ濡れ性の劣る材料を被覆される。次
に、図25(A)及び(B)に示されるように、スキー
ジ18を使用して、はんだペースト14を凹部12に充
填する。
As in the previous embodiment, the solder ball forming member 10 is formed of a material having poor solder wettability, or the surface thereof is coated with a material having poor solder wettability. Next, as shown in FIGS. 25A and 25B, the squeegee 18 is used to fill the recess 12 with the solder paste 14.

【0057】次に、図25(C)に示されるように、は
んだボール形成部材10をはんだの融点以上に加熱し、
はんだペースト14中のはんだ粒子16を溶融し、はん
だが表面張力により丸まって各凹部内12内に1つのは
んだボール20を形成する。フラックス15ははんだボ
ール20とは分離する。
Next, as shown in FIG. 25C, the solder ball forming member 10 is heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder,
The solder particles 16 in the solder paste 14 are melted, and the solder is curled by surface tension to form one solder ball 20 in each recess 12. The flux 15 is separated from the solder balls 20.

【0058】この実施例においては、凹部12の形状
を、はんだボール20が平坦な表面10aから突出する
ように形成する必要はない。従って、凹部12の平坦な
表面10aにおける輪郭形状を大きくすることなく、凹
部12の深さを深くすることによって、所望の大きさの
はんだボール20を形成することができる。従って、凹
部12をより小さいピッチで配置することができる。
In this embodiment, it is not necessary to form the recess 12 so that the solder ball 20 projects from the flat surface 10a. Therefore, the solder ball 20 having a desired size can be formed by increasing the depth of the recess 12 without increasing the contour shape of the flat surface 10a of the recess 12. Therefore, the recesses 12 can be arranged at a smaller pitch.

【0059】はんだボール20は凹部12の環状側壁部
(第1の板10rの貫通穴10t)に接触しており、温
度が低下すると、はんだボール20は凹部12の環状側
壁部(第1の板10rの貫通穴10t)に保持される。
そこで、図25(D)に示されるように、はんだボール
形成部材10の第2の板10sを第1の板10rから遠
ざける。フラックス15を洗浄すると、はんだボール2
0のみが凹部12の環状側壁部(第1の板10rの貫通
穴10t)に保持された状態になる。
The solder ball 20 is in contact with the annular side wall portion of the recess 12 (the through hole 10t of the first plate 10r), and when the temperature decreases, the solder ball 20 moves to the annular side wall portion of the recess 12 (the first plate 10r). It is held in the through hole 10t) of 10r.
Therefore, as shown in FIG. 25D, the second plate 10s of the solder ball forming member 10 is moved away from the first plate 10r. When the flux 15 is washed, the solder balls 2
Only 0 is held in the annular side wall of the recess 12 (the through hole 10t of the first plate 10r).

【0060】そこで、図25(E)に示されるように、
はんだバンプを形成すべき部材(半導体チップ)22を
第1の板10rの平坦な表面10aとは反対側の表面に
相対的に近づけ、はんだバンプを形成すべき部材22を
加熱されたはんだボール20に突き当てる。はんだボー
ル形成部材10の第1の板10rは適当な時期に加熱さ
れている。よってはんだボール20をはんだボール形成
部材10の第1の板10rからはんだバンプを形成すべ
き部材22に転写する。
Therefore, as shown in FIG.
A member (semiconductor chip) 22 on which a solder bump is to be formed is brought relatively close to the surface of the first plate 10r opposite to the flat surface 10a, and the member 22 on which a solder bump is to be formed is heated to the solder ball 20. Hit against. The first plate 10r of the solder ball forming member 10 is heated at an appropriate time. Therefore, the solder balls 20 are transferred from the first plate 10r of the solder ball forming member 10 to the member 22 on which solder bumps are to be formed.

【0061】さらに、押し板72が使用される。押し板
72ははんだボール形成部材10の凹部12(第1の板
10rの貫通穴10t)に入るのに適した突起74を有
しており、押し板72をはんだボール形成部材10の第
1の板10rに向かって移動させることによって、突起
74がはんだボール20を押し出すとともに、はんだボ
ール20をはんだバンプを形成すべき部材(半導体チッ
プ)22に対して押し付け、はんだボール20が確実に
付着してはんだバンプとなるようにする。
Furthermore, a push plate 72 is used. The pressing plate 72 has a protrusion 74 suitable for entering into the concave portion 12 of the solder ball forming member 10 (the through hole 10t of the first plate 10r). By moving toward the plate 10r, the protrusions 74 push out the solder balls 20 and press the solder balls 20 against the member (semiconductor chip) 22 on which the solder bumps are to be formed, so that the solder balls 20 are securely attached. Make it a solder bump.

【0062】図26は本発明の第4実施例を示す図であ
る。この実施例は、はんだボール20の製造方法を示す
ものである。図26(A)に示されるように、まず、凹
部12を備えたはんだボール形成部材10を準備する。
前の実施例と同様に、このはんだボール形成部材10は
取り外し可能に重ね合わせた第1及び第2のステンレス
鋼の板10r、10sからなる。第1の板10rは平坦
な表面10aと凹部12の環状側壁部を形成する貫通穴
10tとを有する。第2の板10sは実質的に平坦であ
り、凹部12の底部を形成する。
FIG. 26 is a diagram showing a fourth embodiment of the present invention. This embodiment shows a method of manufacturing the solder balls 20. As shown in FIG. 26A, first, the solder ball forming member 10 having the recess 12 is prepared.
Similar to the previous embodiment, the solder ball forming member 10 comprises first and second stainless steel plates 10r, 10s removably superposed. The first plate 10r has a flat surface 10a and a through hole 10t forming an annular side wall of the recess 12. The second plate 10s is substantially flat and forms the bottom of the recess 12.

【0063】前の実施例と同様に、はんだボール形成部
材10ははんだ濡れ性の劣る材料で形成され、あるいは
その表面にはんだ濡れ性の劣る材料を被覆される。次
に、図26(A)及び(B)に示されるように、スキー
ジ18を使用して、はんだペースト14を凹部12に充
填する。
As in the previous embodiment, the solder ball forming member 10 is formed of a material having poor solder wettability, or its surface is coated with a material having poor solder wettability. Next, as shown in FIGS. 26A and 26B, the recess 12 is filled with the solder paste 14 using the squeegee 18.

【0064】次に、図26(C)に示されるように、は
んだボール形成部材10をはんだの融点以上に加熱し、
はんだペースト14中のはんだ粒子16を溶融し、はん
だが表面張力により丸まって各凹部内12内に1つのは
んだボール20を形成する。はんだボール20の大きさ
は凹部12の形状に従って形成される。凹部12の形状
が一定であれば、形成されるはんだボール20の大きさ
は一定になる。
Next, as shown in FIG. 26C, the solder ball forming member 10 is heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder,
The solder particles 16 in the solder paste 14 are melted, and the solder is curled by surface tension to form one solder ball 20 in each recess 12. The size of the solder ball 20 is formed according to the shape of the recess 12. If the shape of the recess 12 is constant, the size of the solder ball 20 formed is constant.

【0065】そこで、はんだボール形成部材10の第2
の板10sを第1の板10rから遠ざけ、はんだボール
形成部材10の第1の板10rを冷却し、フラックス1
5を洗浄する。なお、この場合には、はんだボール形成
部材10の凹部12の形状を、冷却されて塊の状態にあ
るはんだボール20が凹部12にきつく保持されないよ
うにする。
Therefore, the second solder ball forming member 10
The first plate 10r of the solder ball forming member 10 is cooled away from the first plate 10r of the solder ball forming member 10 by the flux 1
Wash 5. In this case, the shape of the recess 12 of the solder ball forming member 10 is set so that the solder ball 20 in a lump state that has been cooled is not tightly held in the recess 12.

【0066】そこで、フラックス15を洗浄すると、は
んだボール20が凹部12から転がり出すので、図25
(E)に示されるように、はんだボール20を容器76
に集める。はんだボール20が凹部12から簡単に転が
り出さない場合には、押し板72が使用される。押し板
72ははんだボール形成部材10の凹部12(第1の板
10rの貫通穴10t)に入るのに適した突起74を有
しており、押し板72をはんだボール形成部材10の第
1の板10rに向かって移動させることによって、突起
74がはんだボール20を押し出す。
Therefore, when the flux 15 is washed, the solder balls 20 roll out from the recesses 12, and therefore the solder balls 20 shown in FIG.
As shown in (E), the solder balls 20 are placed in a container 76.
To collect. If the solder balls 20 do not easily roll out of the recess 12, a push plate 72 is used. The pressing plate 72 has a protrusion 74 suitable for entering into the concave portion 12 of the solder ball forming member 10 (the through hole 10t of the first plate 10r). The protrusion 74 pushes the solder ball 20 by moving it toward the plate 10r.

【0067】図27は本発明の第5実施例を示す図であ
る。この実施例も、はんだボール20の製造方法を示す
ものである。図27(A)に示されるように、まず、凹
部12を備えたはんだボール形成部材10を準備する。
はんだボール形成部材10ははんだ濡れ性の劣る材料で
形成され、あるいはその表面にはんだ濡れ性の劣る材料
を被覆される。次に、図27(A)及び(B)に示され
るように、スキージ18を使用して、はんだペースト1
4を凹部12に充填する。
FIG. 27 is a diagram showing a fifth embodiment of the present invention. This embodiment also shows a method of manufacturing the solder balls 20. As shown in FIG. 27A, first, the solder ball forming member 10 having the recess 12 is prepared.
The solder ball forming member 10 is formed of a material having poor solder wettability, or its surface is coated with a material having poor solder wettability. Next, as shown in FIGS. 27A and 27B, the squeegee 18 is used to solder 1
4 is filled in the recess 12.

【0068】次に、図27(C)に示されるように、は
んだボール形成部材10をはんだの融点以上に加熱し、
はんだペースト14中のはんだ粒子16を溶融し、はん
だが表面張力により丸まって各凹部内12内に1つのは
んだボール20を形成する。はんだボール20の大きさ
は凹部12の形状に従って形成される。凹部12の形状
が一定であれば、形成されるはんだボール20の大きさ
は一定になる。
Next, as shown in FIG. 27C, the solder ball forming member 10 is heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder,
The solder particles 16 in the solder paste 14 are melted, and the solder is curled by surface tension to form one solder ball 20 in each recess 12. The size of the solder ball 20 is formed according to the shape of the recess 12. If the shape of the recess 12 is constant, the size of the solder ball 20 formed is constant.

【0069】そこで、はんだボール形成部材10を冷却
し、フラックス15を洗浄する。すると、はんだボール
20が凹部12から転がり出すので、図25(D)に示
されるように、はんだボール20を容器76に集める。
この場合には、凹部12の形状が、はんだボール20と
比べて大きく且つ深さが浅いので、はんだボール20は
容易に取り出される。
Therefore, the solder ball forming member 10 is cooled and the flux 15 is washed. Then, the solder balls 20 roll out from the recesses 12, so that the solder balls 20 are collected in the container 76 as shown in FIG.
In this case, since the shape of the recess 12 is larger and the depth thereof is smaller than that of the solder ball 20, the solder ball 20 can be easily taken out.

【0070】このようにして製造したはんだボール20
は、あらゆる電気/電子装置のはんだバンプを形成する
のに使用できる。例えば、図8に示したBGAのボール
48を形成するのに使用することができる。はんだボー
ル20を一つずつBGAに配置してもよいが、例えば図
28に示したようなボール配置治具80を使用して一括
してはんだボール20をBGAに配置することもでき
る。ボール配置治具80はBGAのボール48の位置に
相当するパターンで穴82を備えており、穴82の大き
さははんだボール20の大きさよりもわずかに大きい。
従って、ボール配置治具80をBGAに載せて、はんだ
ボール20をボール配置治具80の表面で転がすと、は
んだボール20が1個ずつ穴82に入る。そこで、ボー
ル配置治具80又はBGAを加熱すると、はんだボール
20がBGAに溶着する。本発明によれば、大きさのバ
ラツキが小さいはんだボール20を得ることができるの
で、このようなボール配置治具80を使用することがで
きる。
Solder ball 20 manufactured in this way
Can be used to form solder bumps for any electrical / electronic device. For example, it can be used to form the BGA ball 48 shown in FIG. Although the solder balls 20 may be arranged one by one in the BGA, the solder balls 20 may be collectively arranged in the BGA by using a ball arranging jig 80 as shown in FIG. 28, for example. The ball placement jig 80 has holes 82 in a pattern corresponding to the positions of the balls 48 of the BGA, and the size of the holes 82 is slightly larger than the size of the solder balls 20.
Therefore, when the ball placement jig 80 is placed on the BGA and the solder balls 20 are rolled on the surface of the ball placement jig 80, the solder balls 20 enter the holes 82 one by one. Therefore, when the ball arranging jig 80 or the BGA is heated, the solder balls 20 are welded to the BGA. According to the present invention, the solder ball 20 having a small variation in size can be obtained, and thus such a ball arranging jig 80 can be used.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
比較的簡単な方法ではんだバンプを形成することがで
き、これにより量産に適したバンプの製造方法を確立す
ることができる。
As described above, according to the present invention,
The solder bumps can be formed by a relatively simple method, and thus a bump manufacturing method suitable for mass production can be established.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図3】はんだボール形成部材の他の例を示す断面図で
ある。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing another example of the solder ball forming member.

【図4】図3のはんだボール形成部材の平面図である。FIG. 4 is a plan view of the solder ball forming member of FIG.

【図5】はんだボール形成部材の他の例を示す断面図で
ある。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing another example of the solder ball forming member.

【図6】はんだボール形成部材の他の例を示す断面図で
ある。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing another example of the solder ball forming member.

【図7】はんだバンプを使用したPGAの例を示す断面
図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of PGA using solder bumps.

【図8】はんだバンプを使用したBGAの例を示す断面
図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing an example of a BGA using solder bumps.

【図9】はんだバンプを使用したMCMの例を示す断面
図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of an MCM using solder bumps.

【図10】はんだバンプを使用したQFPの例を示す断
面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing an example of QFP using solder bumps.

【図11】はんだバンプを使用したプリント回路板の例
を示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing an example of a printed circuit board using solder bumps.

【図12】はんだバンプを使用したTAB部品の例を示
す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing an example of a TAB component using solder bumps.

【図13】図12のTAB部品に半導体チップを取り付
けた例を示す断面図である。
13 is a sectional view showing an example in which a semiconductor chip is attached to the TAB component of FIG.

【図14】はんだボール形成位置の極端な例を示す断面
図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing an extreme example of solder ball formation positions.

【図15】最深部を備えたはんだボール形成部材の例を
示す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing an example of a solder ball forming member having a deepest portion.

【図16】図15のはんだボール形成部材の平面図であ
る。
16 is a plan view of the solder ball forming member of FIG.

【図17】はんだボール形成部材の他の例を示す平面図
である。
FIG. 17 is a plan view showing another example of the solder ball forming member.

【図18】図17の線XVIII −XVIII に沿った断面図で
ある。
FIG. 18 is a cross-sectional view taken along the line XVIII-XVIII in FIG.

【図19】はんだボール形成部材の他の例を示す平面図
である。
FIG. 19 is a plan view showing another example of the solder ball forming member.

【図20】図19の線XX−XXに沿った断面図である。20 is a cross-sectional view taken along the line XX-XX of FIG.

【図21】はんだボール形成部材の他の例を示す平面図
である。
FIG. 21 is a plan view showing another example of the solder ball forming member.

【図22】図21の線XXII−XXIIに沿った断面図であ
る。
22 is a cross-sectional view taken along the line XXII-XXII of FIG.

【図23】はんだボール形成部材の他の例を示す平面図
である。
FIG. 23 is a plan view showing another example of the solder ball forming member.

【図24】図23の線XXIV−XXIVに沿った断面図であ
る。
24 is a cross-sectional view taken along the line XXIV-XXIV of FIG. 23.

【図25】本発明の第3実施例を示す図である。FIG. 25 is a diagram showing a third embodiment of the present invention.

【図26】本発明の第4実施例を示す図である。FIG. 26 is a diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

【図27】本発明の第5実施例を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing a fifth embodiment of the present invention.

【図28】ボール配置軸を示す部分断面斜視図である。FIG. 28 is a partial cross-sectional perspective view showing a ball placement axis.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…はんだボール形成部材 12…凹部 14…はんだペースト 15…フラックス 16…はんだ粒子 18…スキージ 20…はんだボール 22…はんだバンプを形成すべき部材 10 ... Solder ball forming member 12 ... Recessed portion 14 ... Solder paste 15 ... Flux 16 ... Solder particles 18 ... Squeegee 20 ... Solder ball 22 ... Member to form solder bump

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亀原 伸男 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 薗 陸郎 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 山口 一郎 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 水戸部 一彦 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 大竹 幸喜 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 河西 純一 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 水越 正孝 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Nobuo Kamehara, Nobuo Kamehara, 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki, Kanagawa, Fujitsu Limited (72) Inventor, Rikuro Sonoda, 1015, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki, Kanagawa 72) Inventor Ichiro Yamaguchi 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited (72) Inventor Kazuhiko Mito, 1015, Kamikodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Fujitsu Limited (72) Inventor, Yukiki Otake Kanagawa Prefecture 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi Fujitsu Limited (72) Inventor Junichi Kasai 1015 Kamikodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Kanagawa Prefecture (72) Masataka Mizukoshi 1015 Kamedota-anaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Within Fujitsu Limited

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平坦な表面(10a)と、該平坦な表面
に所定のパターンで配置された複数の凹部(12)とを
有するはんだボール形成部材(10)を準備し、 はんだボール形成部材の凹部(12)にはんだ粒子(1
6)とフラックス(15)とからなるはんだペースト
(14)を充填し、 はんだボール形成部材(10)を加熱して各凹部(1
2)内のはんだペースト(14)中に含まれるはんだ粒
子(16)が溶融して表面張力により丸まったはんだボ
ール(20)を形成し、 はんだバンプを形成すべき部材(22)をはんだボール
形成部材(10)に相対的に近づけて加熱されたはんだ
ボール(20)をはんだボール形成部材(10)から該
はんだバンプを形成すべき部材(22)に転写すること
を特徴とするはんだバンプの製造方法。
1. A solder ball forming member (10) having a flat surface (10a) and a plurality of recesses (12) arranged in a predetermined pattern on the flat surface is prepared. Solder particles (1
6) and a flux (15) are filled with a solder paste (14), and the solder ball forming member (10) is heated to form each recess (1).
Solder particles (16) contained in the solder paste (14) in 2) are melted to form a rounded solder ball (20) due to surface tension, and a solder ball is formed on a member (22) on which a solder bump is to be formed. Manufacture of solder bumps, characterized in that a solder ball (20) heated relatively close to a member (10) is transferred from the solder ball forming member (10) to a member (22) on which the solder bump is to be formed. Method.
【請求項2】 はんだバンプを形成すべき部材(22)
が、半導体チップ、半導体パッケージ、プリント回路
板、及びTAB部品の中の一つであり、はんだボール形
成部材(10)の少なくとも該平坦な表面(10a)を
含む部分が、該はんだバンプを形成すべき部材(22)
のはんだバンプ形成部分よりもはんだ濡れ性の劣る材料
で作られていることを特徴とする請求項1に記載のはん
だバンプの製造方法。
2. A member (22) for forming a solder bump.
Is a semiconductor chip, a semiconductor package, a printed circuit board, or a TAB component, and at least a portion of the solder ball forming member (10) including the flat surface (10a) forms the solder bump. Power element (22)
The solder bump manufacturing method according to claim 1, wherein the solder bump forming portion is made of a material having a solder wettability inferior to that of the solder bump forming portion.
【請求項3】 はんだバンプを形成すべき部材(22)
が、ICチップであることを特徴とする請求項1に記載
のはんだバンプの製造方法。
3. A member (22) for forming a solder bump.
Is an IC chip, and the method for manufacturing a solder bump according to claim 1, wherein
【請求項4】 はんだバンプを形成すべき部材(22)
が、TABテープ上のリードであることを特徴とする請
求項1に記載のはんだバンプの製造方法。
4. A member (22) for forming a solder bump.
Is a lead on a TAB tape, The method for manufacturing a solder bump according to claim 1, wherein
【請求項5】 はんだボール形成部材(10)の凹部
(12)にはんだペースト(14)を充填する工程が、
はんだボール形成部材の該平坦な表面に沿ってスキージ
(18)を移動させることからなることを特徴とする請
求項1に記載のはんだバンプの製造方法。
5. The step of filling the solder paste (14) into the recess (12) of the solder ball forming member (10) comprises:
The method of claim 1, wherein the squeegee (18) is moved along the flat surface of the solder ball forming member.
【請求項6】 はんだボール形成部材(10)の該凹部
(12)が、はんだボール形成工程において各凹部で形
成されるはんだボール(20)がはんだボール形成部材
(10)の該表面(10a)から部分的に突出するよう
な形状に定められ、 該はんだボール(20)を転写する工程が、該はんだバ
ンプを形成すべき部材(22)を該平坦な表面側からは
んだボール形成部材に相対的に近づけることからなるこ
とを特徴とする請求項1に記載のはんだバンプの製造方
法。
6. The surface (10a) of the solder ball forming member (10) is obtained by forming the recess (12) of the solder ball forming member (10) in the solder ball forming step. The step of transferring the solder balls (20) is determined such that the members (22) on which the solder bumps are to be formed are relatively projected from the flat surface side to the solder ball forming members. The method for manufacturing a solder bump according to claim 1, characterized in that the method comprises:
【請求項7】 該はんだボールを形成する工程の後では
んだボールを転写する工程の前に、はんだボール形成部
材(10)を冷却する工程を含み、該はんだボールを転
写する工程がはんだボール形成部材(10)及び該はん
だボールを形成すべき部材(22)の少くとも一方を加
熱することを含むことを特徴とすとする請求項6に記載
のはんだバンプの製造方法。
7. A step of cooling the solder ball forming member (10) after the step of forming the solder ball and before the step of transferring the solder ball, wherein the step of transferring the solder ball includes forming the solder ball. A method according to claim 6, characterized in that it comprises heating at least one of the member (10) and the member (22) on which the solder balls are to be formed.
【請求項8】 はんだボール形成部材(10)の該凹部
(12)が、該平坦な表面(10a)における輪郭形状
と、底部と、該平坦な表面から該底部までの深さとを有
し、該輪郭形状の大きさが形成すべきはんだボール(2
0)の大きさよりも大きいことを特徴とする請求項6に
記載のはんだバンプの製造方法。
8. The concave portion (12) of the solder ball forming member (10) has a contour shape on the flat surface (10a), a bottom portion, and a depth from the flat surface to the bottom portion. Solder balls (2
The solder bump manufacturing method according to claim 6, wherein the solder bump is larger than 0).
【請求項9】 該凹部(12)の深さがはんだボールの
直径よりも小さいことを特徴とする請求項8に記載のは
んだバンプの製造方法。
9. The method of manufacturing a solder bump according to claim 8, wherein the depth of the recess (12) is smaller than the diameter of the solder ball.
【請求項10】 該凹部(12)の該平坦な表面(10
a)における輪郭形状が実質的に円形であることを特徴
とする請求項6に記載のはんだバンプの製造方法。
10. The flat surface (10) of the recess (12).
The method of manufacturing a solder bump according to claim 6, wherein the contour shape in a) is substantially circular.
【請求項11】 該凹部(12)の該平坦な表面(10
a)における輪郭形状が実質的に多角形であることを特
徴とする請求項6に記載のはんだバンプの製造方法。
11. The flat surface (10) of the recess (12).
The solder bump manufacturing method according to claim 6, wherein the contour shape in a) is substantially polygonal.
【請求項12】 該凹部(12)が定められた位置に最
深部を有することを特徴とする請求項8に記載のはんだ
バンプの製造方法。
12. The method of manufacturing a solder bump according to claim 8, wherein the recessed portion (12) has a deepest portion at a defined position.
【請求項13】 該凹部(12)が深さが深くなるにつ
れて輪郭形状が小さくなることを特徴とする請求項12
に記載のはんだバンプの製造方法。
13. The contour shape decreases as the depth of the recess (12) increases.
The method for manufacturing a solder bump according to.
【請求項14】 該凹部(12)が深さが深くなるにつ
れて段々に輪郭形状が小さくなることを特徴とする請求
項12に記載のはんだバンプの製造方法。
14. The method for manufacturing a solder bump according to claim 12, wherein the contour shape gradually decreases as the depth of the recess (12) increases.
【請求項15】 はんだボール形成部材(10)が一枚
の板からなることを特徴とする請求項1に記載のはんだ
バンプの製造方法。
15. The method of manufacturing a solder bump according to claim 1, wherein the solder ball forming member (10) is composed of a single plate.
【請求項16】 はんだボール形成部材(10)が重ね
合わせた複数の板からなり、該複数の板の内の少なくと
も一つが貫通穴を有し、該貫通穴が該凹部の一部を形成
することを特徴とする請求項1に記載のはんだバンプの
製造方法。
16. The solder ball forming member (10) comprises a plurality of stacked plates, at least one of the plurality of plates having a through hole, the through hole forming a part of the recess. The method of manufacturing a solder bump according to claim 1, wherein
【請求項17】 はんだボール形成部材(10)の該凹
部(12)が、該平坦な表面(10a)における輪郭形
状と、底部と、該平坦な表面と該底部とを接続する環状
側壁部とからなり、はんだボール形成部材が取り外し可
能に重ね合わせた第1及び第2の板からなり、該第1の
板が該平坦な表面と該凹部の環状側壁部を形成する貫通
穴とを有し、該第2の板の表面が該凹部の底部を形成
し、 該はんだボールを転写する工程が、はんだボールが該第
1の板に保持された状態で該第2の板を該第1の板から
遠ざける工程と、該はんだバンプを形成すべき部材を該
第1の板の該平坦な表面とは反対側の表面に相対的に近
づける工程とを含むことを特徴とする請求項1に記載の
はんだバンプの製造方法。
17. The solder ball forming member (10) has the concave portion (12) having a contour shape on the flat surface (10a), a bottom portion, and an annular side wall portion connecting the flat surface and the bottom portion. And the solder ball forming member is composed of first and second plates removably superposed, the first plate having the flat surface and a through hole forming an annular side wall of the recess. The step of transferring the solder balls by forming the bottom of the recess by the surface of the second plate, the step of transferring the second plate to the first plate with the solder balls held by the first plate is performed. 2. The method according to claim 1, further comprising a step of moving away from the plate, and a step of bringing a member on which the solder bumps are to be formed relatively close to a surface of the first plate opposite to the flat surface. Of manufacturing solder bumps of.
【請求項18】 該はんだボールを転写する工程が、さ
らに該第1の板に保持されたはんだボールを該はんだバ
ンプを形成すべき部材に向かって押し出す工程を含むこ
とを特徴とする請求項17に記載のはんだバンプの製造
方法。
18. The step of transferring the solder balls further comprises the step of extruding the solder balls held on the first plate toward a member on which the solder bumps are to be formed. The method for manufacturing a solder bump according to.
【請求項19】 平坦な表面(10a)と、該平坦な表
面に所定のパターンで配置された複数の凹部(12)と
を有するはんだボール形成部材(10)を準備し、 はんだボール形成部材(10)の凹部(12)にはんだ
粒子(16)とフラックス(15)とからなるはんだペ
ースト(14)を充填し、 はんだボール形成部材(10)を加熱して各凹部内(1
2)のはんだペースト(14)中に含まれるはんだ粒子
が溶融して表面張力により丸まったはんだボール(2
0)を形成し、 はんだボール形成部材(10)を冷却し、 はんだボール(20)をはんだボール形成部材(10)
の凹部(12)から取り出すことを特徴とするはんだボ
ールの製造方法。
19. A solder ball forming member (10) having a flat surface (10a) and a plurality of recesses (12) arranged in a predetermined pattern on the flat surface is prepared. The concave portion (12) of (10) is filled with a solder paste (14) composed of solder particles (16) and a flux (15), and the solder ball forming member (10) is heated so that each concave portion (1)
Solder particles contained in the solder paste (14) of 2) are melted and rounded by the surface tension.
0) is formed, the solder ball forming member (10) is cooled, and the solder ball (20) is formed into a solder ball forming member (10).
A method of manufacturing a solder ball, characterized in that the solder ball is taken out from the concave portion (12).
【請求項20】 はんだボール形成部材の凹部にはんだ
ペーストを充填する工程が、はんだボール形成部材の該
平坦な表面に沿ってスキージ(18)を移動させること
を特徴とする請求項19に記載のはんだボールの製造方
法。
20. The squeegee (18) of claim 19, wherein the step of filling the solder ball forming member with the solder paste in the concave portion moves the squeegee (18) along the flat surface of the solder ball forming member. Solder ball manufacturing method.
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