JPH07244074A - プローブ先端クリーニング部材 - Google Patents

プローブ先端クリーニング部材

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JPH07244074A
JPH07244074A JP6060059A JP6005994A JPH07244074A JP H07244074 A JPH07244074 A JP H07244074A JP 6060059 A JP6060059 A JP 6060059A JP 6005994 A JP6005994 A JP 6005994A JP H07244074 A JPH07244074 A JP H07244074A
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昌男 大久保
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康良 吉光
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数回のクリーニングを繰り返してもプロー
ブの先端が研磨されず、プローブの寿命を長い間保つこ
とができるようにする。 【構成】 シリコンゴム又はウレタンゴムからなる弾性
を有する母材にアルミナ、シリコンカーバイト又はダイ
ヤモンド粉である微粉研磨材200を混入し、全体しと
てプローブにより電気的諸特性の測定が行われる半導体
ウエハと同一形状、同一寸法に形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プローブの先端に付着
した異物を除去するプローブ先端クリーニング部材に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハに形成された半導体チップ
の電気的所特性を測定するプローブカードのプローブ
は、半導体チップのパッドに押圧接触(オーバードライ
ブ)させられる。このため、プローブの先端には、パッ
ドが削りとられたアルミニウムの粉等の異物が付着す
る。この異物をプローブの先端から除去しないと、プロ
ーブとパッドとの間の導通不良が生じ、電気的接触が悪
化するので、正確な特性の測定が不可能になる。また、
プローブを長期間放置しておくと、接触抵抗が高くなる
傾向がある。
【0003】そこで、所定回のプロービングを行うごと
に、プローブの先端をクリーニングして異物を除去する
ことが行われている。このクリーニングには、半導体ウ
エハと同形のセラミック板が用いられる。すなわち、プ
ローブの先端をプロービングと同様にセラミック板にオ
ーバードライブさせ、アルミニウムの粉等の異物をプロ
ーブの先端から除去するのである。
【0004】本願出願人は、かかる問題を解消するため
に、実願平5−51369号を出願した。この出願に係
る考案は、導電性を有する母材に研磨材を付着させたも
のであり、研磨材としてはプローブより硬質であるもの
を使用している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本願出
願人が以前に出願したプローブ先端クリーニング用研磨
板には以下のような問題点がある。すなわち、複数回の
クリーニング行われると、プローブの先端が研磨材によ
り削られるのである。プローブの先端はパッドに対して
滑らかに接触するように球状に形成されているが、この
先端が研磨材により研磨され、平坦になるのである。先
端が平坦になったプローブでは、パッドに対して滑らか
に接触することは不可能であり、接触抵抗の変化や、パ
ッドの削り量が多くなる等の問題が生じる。このよう
に、先端が平坦になったプローブの修正は、ユーザーで
ある半導体素子メーカーでは困難でありプローブカード
メーカーしかできないものである。従って、ユーザーは
先端が平坦になったプローブは廃棄するか、プローブカ
ードメーカーに修正を依頼しなければならなかった。
【0006】本発明は上記事情に鑑みて創案されたもの
で、複数回のクリーニングを繰り返してもプローブの先
端が研磨されず、プローブの寿命を長い間保つことがで
きるプローブ先端クリーニング部材を提供することを目
的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に係るプローブ先
端クリーニング部材は、プローブの先端に付着した異物
を除去するプローブ先端クリーニング部材であって、弾
性を有する母材に微粉研磨材を混入してなる。
【0008】また、前記母材はシリコンゴム又はウレタ
ンゴムである。
【0009】さらに、前記微粉研磨材はアルミナ、シリ
コンカーバイト又はダイヤモンド粉である。
【0010】一方、このプローブ先端クリーニング部材
は、プローブにより電気的諸特性の測定が行われる半導
体ウエハと同一形状、同一寸法に形成されている。
【0011】
【実施例】図1は本発明の一実施例に係るプローブ先端
クリーニング部材の概略的平面図、図2はこのプローブ
先端クリーニング部材の使用方法を示す概略的正面図で
ある。
【0012】本実施例に係るプローブ先端クリーニング
部材100は、プローブ300の先端に付着した異物を
除去するものであって、弾性を有する母材に微粉研磨材
200を混入している。
【0013】まず、母材には、シリコンゴム又はウレタ
ンゴムが用いられ、電気的諸特性の測定が行われる半導
体ウエハと同一形状、同一寸法に形成される。この母材
には、成形前に微粉研磨材200が所定の割合で混入さ
れている。
【0014】微粉研磨材200としては、アルミナ、シ
リコンカーバイト又はダイヤモンド粉が適している。か
かる微粉研磨材200の材質や大きさ等は、プローブ3
00の材質、寸法等に応じて決定される。
【0015】このような微粉研磨材200が混入された
母材を硬化させて半導体ウエハと同一形状、同一寸法に
形成するのである。すると、表面に微粉研磨材200が
均等に露出したプローブ先端クリーニング部材100を
得ることができる。
【0016】このようにして構成されたプローブ先端ク
リーニング部材100の使用方法について図2を参照し
つつ説明する。プローブ先端クリーニング部材100
は、上下動す平坦な台400の上に載せられる。この
際、プローブ先端クリーニング部材100は不用意に動
かないように接着剤や、図示しないクランプ等で台40
0に取り付けられる。
【0017】所定回のプローピングが終了したプローブ
カード500の下方に台400を糸をさせ、プローブ3
00の先端がプローブ先端クリーニング部材100に接
触するように台400を上下動させる。
【0018】プローブ300の先端は、プローブ先端ク
リーニング部材100に接触し、プローブ先端クリーニ
ング部材100の表面に露出した微粉研磨材200がプ
ローブ300の先端の異物を除去する。微粉研磨材20
0が混入された母材は弾性を有しているので、台400
の上下動に応じて変形するため、プローブ300の先端
に過度の力を与えることがない。このため、プローブ3
00の先端が削り取られるのはごく僅かである。
【0019】なお、上述した実施例では、台400を上
下動させるとして説明したが、プローブカード500の
オーバードライブを利用する方法、すなわちプローブカ
ード500を上下動させてもよい。
【0020】また、プローブ先端クリーニング部材10
0を電気的諸特性が測定される複数個のICチップが形
成された半導体ウエハと同一形状、同一寸法に形成して
おけば、プローブ先端クリーニング部材100を半導体
ウエハに混在させることができる。すなわち、所定回の
プローピング毎に確実にプローブ300のクリーニング
が自動的に行われるようになるので、よりスムーズなプ
ローブ300のクリーニングが可能となる。
【0021】
【発明の効果】本発明に係るプローブ先端クリーニング
部材は、プローブの先端に付着した異物を除去するプロ
ーブ先端クリーニング部材であって、弾性を有する母材
に微粉研磨材が混入されることによって構成されている
ので、プローブをクリーニングしても、母材によってプ
ローブの先端が削り取られるのはごく僅かである。この
ため、プローブの寿命をより長くすることができる。
【0022】また、前記母材はシリコンゴム又はウレタ
ンゴムであり、前記微粉研磨材はアルミナ、シリコンカ
ーバイト又はダイヤモンド粉であるので、安価なプロー
ブ先端クリーニング部材とすることができる。
【0023】さらに、プローブ先端クリーニング部材を
プローブにより電気的諸特性の測定が行われる半導体ウ
エハと同一形状、同一寸法に形成しておくと、半導体ウ
エハにプローブ先端クリーニング部材を混在させておく
ことができるので、所定回のプローピング毎に確実にプ
ローブのクリーニングが自動的に行われるようになる。
すなわち、よりスムーズなプローブのクリーニングが可
能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係るプローブ先端クリーニ
ング部材の概略的平面図である。
【図2】このプローブ先端クリーニング部材の使用方法
を示す概略的正面図である。
【符号の説明】
100 プローブ先端クリーニング部材 200 微粉研磨材 300 プローブ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プローブの先端に付着した異物を除去す
    るプローブ先端クリーニング部材において、弾性を有す
    る母材に微粉研磨材を混入してなることを特徴とするプ
    ローブ先端クリーニング部材。
  2. 【請求項2】 前記母材はシリコンゴム又はウレタンゴ
    ムであることを特徴とする請求項1記載のプローブ先端
    クリーニング部材。
  3. 【請求項3】 前記微粉研磨材はアルミナ、シリコンカ
    ーバイト又はダイヤモンド粉であることを特徴とする請
    求項1又は2記載のプローブ先端クリーニング部材。
  4. 【請求項4】 プローブにより電気的諸特性の測定が行
    われる半導体ウエハと同一形状、同一寸法に形成されて
    いることを特徴とする請求項1、2又は3記載のプロー
    ブ先端クリーニング部材。
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Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0864871A2 (en) * 1997-03-10 1998-09-16 Canon Kabushiki Kaisha Cleaning method, device and tool for board electrical-test probes and board electrical-test device and method
US5965943A (en) * 1997-10-01 1999-10-12 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device with bonding pad electrode
US6056627A (en) * 1997-09-03 2000-05-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Probe cleaning tool, probe cleaning method and semiconductor wafer testing method
US6306187B1 (en) 1997-04-22 2001-10-23 3M Innovative Properties Company Abrasive material for the needle point of a probe card
JP2002307316A (ja) * 2001-04-09 2002-10-23 Nihon Micro Coating Co Ltd 接触子先端及び側面クリーニング用具
US6646455B2 (en) 1997-07-24 2003-11-11 Mitsubishi Denki Kabsuhiki Kaisha Test probe for semiconductor devices, method of manufacturing of the same, and member for removing foreign matter
DE10237283A1 (de) * 2002-06-06 2003-12-24 Samsung Electronics Co Ltd Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Sondenkartenkontakten
US6741086B2 (en) 2001-06-13 2004-05-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Member for removing foreign matter adhering to probe tip and method of manufacturing the probe tip, method of cleaning foreign matter adhering to probe tip, probe, and probing apparatus
US6908364B2 (en) * 2001-08-02 2005-06-21 Kulicke & Soffa Industries, Inc. Method and apparatus for probe tip cleaning and shaping pad
US7182672B2 (en) 2001-08-02 2007-02-27 Sv Probe Pte. Ltd. Method of probe tip shaping and cleaning
US7254861B2 (en) 2001-04-09 2007-08-14 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Device for cleaning tip and side surfaces of a probe
KR100853589B1 (ko) * 2001-05-02 2008-08-21 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤 클리닝 시트, 클리닝 시트 제조 방법 및 접촉자 클리닝 방법
KR100893877B1 (ko) * 2007-08-06 2009-04-20 윌테크놀러지(주) 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법
JP2009206353A (ja) * 2008-02-28 2009-09-10 Denso Corp 半導体装置の実装方法
US7712177B2 (en) 2003-03-20 2010-05-11 Nitto Denko Corporation Cleaning sheet and its production method as well as transporting member having such cleaning sheet
JP2012233811A (ja) * 2011-05-06 2012-11-29 Nitto Denko Corp クリーニングシート、クリーニング部材、クリーニング方法、および、導通検査装置
US9825000B1 (en) 2017-04-24 2017-11-21 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
US9833818B2 (en) 2004-09-28 2017-12-05 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
US10195648B2 (en) 2009-12-03 2019-02-05 International Test Solutions, Inc. Apparatuses, device, and methods for cleaning tester interface contact elements and support hardware
US10717618B2 (en) 2018-02-23 2020-07-21 International Test Solutions, Inc. Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US10792713B1 (en) 2019-07-02 2020-10-06 International Test Solutions, Inc. Pick and place machine cleaning system and method
US11035898B1 (en) 2020-05-11 2021-06-15 International Test Solutions, Inc. Device and method for thermal stabilization of probe elements using a heat conducting wafer
US11211242B2 (en) 2019-11-14 2021-12-28 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning contact elements and support hardware using functionalized surface microfeatures
US11318550B2 (en) 2019-11-14 2022-05-03 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning wire bonding machines using functionalized surface microfeatures
US11756811B2 (en) 2019-07-02 2023-09-12 International Test Solutions, Llc Pick and place machine cleaning system and method

Cited By (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0864871A2 (en) * 1997-03-10 1998-09-16 Canon Kabushiki Kaisha Cleaning method, device and tool for board electrical-test probes and board electrical-test device and method
EP0864871A3 (en) * 1997-03-10 2000-05-03 Canon Kabushiki Kaisha Cleaning method, device and tool for board electrical-test probes and board electrical-test device and method
US6118289A (en) * 1997-03-10 2000-09-12 Canon Kabushiki Kaisha Cleaning method and cleaning device and cleaning tool for board electrical-test probes, and board electrical-test device and method
US6306187B1 (en) 1997-04-22 2001-10-23 3M Innovative Properties Company Abrasive material for the needle point of a probe card
EP1621893A1 (en) * 1997-07-24 2006-02-01 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Device for removing foreign matter adhering to a probe tip face
US6888344B2 (en) 1997-07-24 2005-05-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Test probe for semiconductor devices, method of manufacturing of the same, and member for removing foreign matter
US6646455B2 (en) 1997-07-24 2003-11-11 Mitsubishi Denki Kabsuhiki Kaisha Test probe for semiconductor devices, method of manufacturing of the same, and member for removing foreign matter
US6056627A (en) * 1997-09-03 2000-05-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Probe cleaning tool, probe cleaning method and semiconductor wafer testing method
US5965943A (en) * 1997-10-01 1999-10-12 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device with bonding pad electrode
JP2002307316A (ja) * 2001-04-09 2002-10-23 Nihon Micro Coating Co Ltd 接触子先端及び側面クリーニング用具
KR100857642B1 (ko) * 2001-04-09 2008-09-08 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤 접촉자 선단 및 측면 클리닝 용구
US7254861B2 (en) 2001-04-09 2007-08-14 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Device for cleaning tip and side surfaces of a probe
WO2002083364A1 (fr) * 2001-04-09 2002-10-24 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Outil pour nettoyer la pointe et la surface laterale d'un contacteur
KR100853589B1 (ko) * 2001-05-02 2008-08-21 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤 클리닝 시트, 클리닝 시트 제조 방법 및 접촉자 클리닝 방법
US6741086B2 (en) 2001-06-13 2004-05-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Member for removing foreign matter adhering to probe tip and method of manufacturing the probe tip, method of cleaning foreign matter adhering to probe tip, probe, and probing apparatus
US7182672B2 (en) 2001-08-02 2007-02-27 Sv Probe Pte. Ltd. Method of probe tip shaping and cleaning
US6908364B2 (en) * 2001-08-02 2005-06-21 Kulicke & Soffa Industries, Inc. Method and apparatus for probe tip cleaning and shaping pad
DE10237283B4 (de) * 2002-06-06 2006-06-08 Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Sondennadeln einer Testsondenvorrichtung
US6813804B2 (en) 2002-06-06 2004-11-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for cleaning probe card contacts
CN100356541C (zh) * 2002-06-06 2007-12-19 三星电子株式会社 用于清洁探针板接点的设备与方法
KR100435529B1 (ko) * 2002-06-06 2004-06-11 삼성전자주식회사 프로브 카드의 접촉 부위를 세정하기 위한 장치 및 방법
DE10237283A1 (de) * 2002-06-06 2003-12-24 Samsung Electronics Co Ltd Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Sondenkartenkontakten
US7712177B2 (en) 2003-03-20 2010-05-11 Nitto Denko Corporation Cleaning sheet and its production method as well as transporting member having such cleaning sheet
US9833818B2 (en) 2004-09-28 2017-12-05 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
US10239099B2 (en) 2004-09-28 2019-03-26 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
US10406568B2 (en) 2004-09-28 2019-09-10 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
KR100893877B1 (ko) * 2007-08-06 2009-04-20 윌테크놀러지(주) 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법
JP2009206353A (ja) * 2008-02-28 2009-09-10 Denso Corp 半導体装置の実装方法
US10195648B2 (en) 2009-12-03 2019-02-05 International Test Solutions, Inc. Apparatuses, device, and methods for cleaning tester interface contact elements and support hardware
JP2012233811A (ja) * 2011-05-06 2012-11-29 Nitto Denko Corp クリーニングシート、クリーニング部材、クリーニング方法、および、導通検査装置
US9825000B1 (en) 2017-04-24 2017-11-21 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
US10361169B2 (en) 2017-04-24 2019-07-23 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
US10717618B2 (en) 2018-02-23 2020-07-21 International Test Solutions, Inc. Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US10843885B2 (en) 2018-02-23 2020-11-24 International Test Solutions, Inc. Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US11155428B2 (en) 2018-02-23 2021-10-26 International Test Solutions, Llc Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US11434095B2 (en) 2018-02-23 2022-09-06 International Test Solutions, Llc Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US10792713B1 (en) 2019-07-02 2020-10-06 International Test Solutions, Inc. Pick and place machine cleaning system and method
US11756811B2 (en) 2019-07-02 2023-09-12 International Test Solutions, Llc Pick and place machine cleaning system and method
US11211242B2 (en) 2019-11-14 2021-12-28 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning contact elements and support hardware using functionalized surface microfeatures
US11318550B2 (en) 2019-11-14 2022-05-03 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning wire bonding machines using functionalized surface microfeatures
US11035898B1 (en) 2020-05-11 2021-06-15 International Test Solutions, Inc. Device and method for thermal stabilization of probe elements using a heat conducting wafer

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