JPH07192853A - 流体加熱装置 - Google Patents

流体加熱装置

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Publication number
JPH07192853A
JPH07192853A JP33305793A JP33305793A JPH07192853A JP H07192853 A JPH07192853 A JP H07192853A JP 33305793 A JP33305793 A JP 33305793A JP 33305793 A JP33305793 A JP 33305793A JP H07192853 A JPH07192853 A JP H07192853A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluid
heating
heating element
purity
heated
Prior art date
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Pending
Application number
JP33305793A
Other languages
English (en)
Inventor
Keiji Mihara
啓嗣 三原
Yoshitaka Matsumoto
義隆 松元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
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  • Surface Heating Bodies (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)
  • Instantaneous Water Boilers, Portable Hot-Water Supply Apparatuses, And Control Of Portable Hot-Water Supply Apparatuses (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 流体の純度を保った状態で加熱することがで
きる流体加熱装置を提供する。 【構成】 線状の加熱要素が埋設された合成樹脂からな
る管状部材1が複数連結されている。これらの加熱要素
2のそれぞれ両端が通電端子3a、3bに接続され、そ
してこれらの通電端子3a、3bが通電手段に接続され
ている。管状部材1中に流体を流し、そして加熱要素2
に通電して発熱させると、流体は加熱要素に接触するこ
とがなく流体の純度を保った状態で加熱される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、流体を一定温度に加熱
する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置等の精密機器の分野では、例
えば、基板表面を洗浄するのに温純水が用いられ、また
水酸化ナトリウムの工業的製造には70〜80℃に加熱
された飽和食塩水が用いられる等、流体を加熱して使用
することが多い。流体の加熱は、例えば、第2図に示す
ような加熱装置を用いて行われている。この装置は、純
水の入った本体11に表面がチタン等の金属で被われた
ヒーター12を挿入して加熱する装置である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の加熱
装置においては流体が直接ヒーター12と接触するた
め、流体中にヒーター表面の金属等が溶出して純度が低
下していた。このような流体を、例えば上記の用途に使
用すると、基板表面の汚染や水酸化ナトリウムの純度の
低下といった問題を引き起こす。
【0004】本発明は上記の点を解決するもので、その
目的は、流体の純度を保ったままで一定温度に加熱する
ことができる装置を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの構成を、実施例図面である図1を参照に説明する
と、線状の加熱要素が埋設された合成樹脂からなる管状
部材が複数連結され、かつこれらの加熱要素のそれぞれ
が通電手段に接続されているように構成されていること
によって特徴づけられる。
【0006】
【作用】複数連結された管状部材1中に流体を流しなが
ら加熱すると、加熱要素2が管状部材1に埋設されてい
るため、流体が加熱要素2に接触せず加熱要素2から流
体への溶出がない。従って、純度を保ったままで流体を
加熱することができる。
【0007】
【実施例】図1は本発明実施例の流体加熱装置の要部を
示す図であり、(a)は断面図、(b)は(a)の一部
の拡大図である。
【0008】PPS(ポリフェニレンサルファイド)か
らなるL字形および直管形の各管状部材1の内周部近傍
には、加熱要素としてのニクロム線2が管状部材1の軸
を中心として螺旋状に埋設され、ニクロム線2の両端は
管状部材1の外周に固設された2つの通電端子3a、3
bにそれぞれ接続されている。この通電端子3a、3b
のそれぞれは図示していない通電手段に接続されてい
る。このような各管状部材1はその両端を溶着接合され
て蛇行形に配管されている。加熱要素が埋設された管状
部材1は、例えばPPSで被覆されたニクロム線を予め
螺旋状に巻き、これを芯としてPPSを射出成形するこ
とにより得る。
【0009】各通電端子3a、3bに電流を流してニク
ロム線2を発熱させて、管状部材1の内周部分を加熱す
る。この配管の一方向より加熱しようとする流体を流す
と、流体は加熱された管状部材1の内周部と接触して加
熱される。この時、流体はニクロム線2に接触せずに加
熱されるため、ニクロム線2からの流体への溶出がな
く、従って流体の純度を保ったままで加熱される。本実
施例では、ニクロム線の埋設位置を管状部材1の内周部
近傍とし、かつニクロム線を螺旋状に巻いたため、流体
の加熱効率が良好となる。また管状部材1の口径は加熱
効率を考慮すると25A以下であることが好ましい。さ
らに管状部材1の材質は、低溶出性、耐薬品性および4
00℃程度の耐熱性を有する合成樹脂であればよく、P
PS以外に例えばPEEK(ポリエーテルエーテルケト
ン)等が使用され得る。さらにまた加熱要素としては、
電熱材料であればよく、ニクロム線以外に例えば鉄クロ
ム合金等が使用され得る。流体の加熱温度は、加熱要素
の径、巻き数、電流量、流体の速度、配管の長さ等を適
宜選択することにより所望の温度に調節され得る。
【0010】このように本発明の流体加熱装置は、上記
した基板等の洗浄用の純水の加熱や水酸化ナトリウム製
造用の飽和食塩水の加熱だけでなく、例えば、飲料等の
殺菌等、流体の純度を保ったままでの加熱を必要とする
種々の分野に利用され得る。
【0011】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
流体加熱装置によれば、加熱要素に接触させることなく
流体を加熱するので、流体への加熱要素からの溶出がな
く、従って、純度を保ったまま流体を一定温度に加熱で
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例である流体加熱装置の要部を示
す図であり、(a)は断面図、(b)は(a)の一部の
拡大図である。
【図2】従来の純水加熱装置を示す図であり、(a)は
正面図、(b)は右側面図である。
【符号の説明】
1 管状部材 2 加熱要素 3a、3b 通電端子 11 本体 12 ヒーター

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 線状の加熱要素が埋設された合成樹脂か
    らなる管状部材が複数連結され、かつこれらの加熱要素
    のそれぞれが通電手段に接続されていることを特徴とす
    る流体加熱装置。
JP33305793A 1993-12-27 1993-12-27 流体加熱装置 Pending JPH07192853A (ja)

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JP33305793A JPH07192853A (ja) 1993-12-27 1993-12-27 流体加熱装置

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33305793A JPH07192853A (ja) 1993-12-27 1993-12-27 流体加熱装置

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JPH07192853A true JPH07192853A (ja) 1995-07-28

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ID=18261789

Family Applications (1)

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JP33305793A Pending JPH07192853A (ja) 1993-12-27 1993-12-27 流体加熱装置

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