JPH07176846A - Composition of conductor paste for filling via hole, both-sided and multilayered printed board using it, and its manufacture - Google Patents

Composition of conductor paste for filling via hole, both-sided and multilayered printed board using it, and its manufacture

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JPH07176846A
JPH07176846A JP6257804A JP25780494A JPH07176846A JP H07176846 A JPH07176846 A JP H07176846A JP 6257804 A JP6257804 A JP 6257804A JP 25780494 A JP25780494 A JP 25780494A JP H07176846 A JPH07176846 A JP H07176846A
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weight
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晃司 川北
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誠一 中谷
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Masatoshi Suehiro
雅利 末広
Koichi Iwasako
浩一 祝迫
Hideo Akiyama
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    • H01L2924/01Chemical elements
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Abstract

PURPOSE:To obtain a low-viscosity and low-volatile conductor paste composition by dispersing a conductive filler having a specific ability in an epoxy resin having specific properties. CONSTITUTION:Conductor paste for filling via hole is composed of 80-92wt.% of a conductive filler having a mean particle diameter of 0.5-20mum and specific surface area of 0.1-1.5m<2>/g, 8-20wt.% of a liquid epoxy resin which has a cold viscosity of <=15Pa.sec and contains two or more epoxy groups, and 0.5-5wt.% of a hardening agent. The paste is prepared so that its viscosity can become <=2,000Pa.sec and the amount of volatile matters contained in the paste can become 42.0wt.%. When the viscosity is >2,000Pa.sec, the filling work of via holes becomes difficult and, when the amount of volatile matters is not 42.0wt.%, the volatile matters are volatilized at the time of heating and compressing the paste after filling a via hole with the paste, leaving voids in the filling structure of the via hole or causing the stripping off of prepreg.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はビアホール充填用導体ペ
ースト組成物と、それを用いた両面プリント基板および
多層プリント基板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a via-hole filling conductor paste composition, a double-sided printed board and a multilayer printed board using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の高性能化、小型化に伴
い、回路基板には高多層、高密度化が求められている。
IC間や部品間を最短距離で結合できる基板の層間の接
続方式としてインナビアホール接続によって、高密度化
が図れることが知られている。一般のガラスエポキシ多
層基板に用いられるようなスルーホール接続において
は、貫通孔にメッキすることで接続を行うため、必要な
層間のみの接続は困難であり、また基板最上層に電極の
ランドを有する構成のため、その部分に表面実装部品の
電極ランドを構成することができないことからこれらの
制約により実装密度を上げることは難しい。これらを解
決する方法として貫通孔でなく、基板の半分までの孔を
開け貫通孔を減らす方法や、スルーホールに導体ペース
トを充填し更にメッキする工程にて基板最上層の孔を塞
ぎ、実装密度を向上させる方法などが行われているが、
製造工程が複雑になりコストならびに量産性が課題とな
る。これに対して、インナビアホール接続では、必要な
各層間のみの接続が可能であり、さらに基板最上層にも
貫通孔がなく実装性も優れている。
2. Description of the Related Art In recent years, circuit boards have been required to have high multi-layers and high densities as electronic devices have become higher in performance and smaller in size.
It is known that a high density can be achieved by the inner via hole connection as a connection method between the layers of the substrate that can connect the ICs and the parts with the shortest distance. In through-hole connection such as used for general glass epoxy multilayer boards, it is difficult to connect only the necessary layers because the connection is made by plating the through-holes, and the electrode land is provided on the top layer of the board. Because of the structure, it is difficult to form the electrode land of the surface mount component in that portion, and it is difficult to increase the mounting density due to these restrictions. As a method to solve these problems, not a through hole but a method of opening a hole up to half of the board to reduce the through hole, or a method of filling the through hole with a conductor paste and further plating to close the hole in the uppermost layer of the board to reduce the mounting density. There is a method to improve
The manufacturing process becomes complicated, and cost and mass productivity become problems. On the other hand, in the inner via hole connection, it is possible to connect only each required layer, and there is no through hole in the uppermost layer of the substrate, and the mountability is excellent.

【0003】しかしこの接続方式を樹脂基板(例えば、
ガラスエポキシ基板)に適用した例では、両面基板では
低粘度の溶剤型銀ペーストを貫通孔に印刷法を用いて埋
め込み、乾燥硬化させ導通をとる基板があるが、その接
続固有抵抗値は10-3Ω・cm程度と高く、またヒート
サイクル等の耐熱衝撃における信頼性が乏しい。
However, this connection method is applied to a resin substrate (for example,
In the example applied to a glass epoxy substrate), a double-sided substrate has a substrate in which a low-viscosity solvent-type silver paste is embedded in a through-hole by a printing method and dried to be hardened to make conduction, but its connection specific resistance value is 10 −. High as high as 3 Ω · cm, and poor reliability in thermal shock such as heat cycle.

【0004】従来から導体ペーストの低粘度化の方法
は、導体フィラー量や比表面積を少なくするために大き
な粒子を用いたり、低沸点の溶剤あるいは反応性希釈材
を添加する方法が行われていた。
Conventionally, a method for reducing the viscosity of a conductor paste has been to use large particles in order to reduce the amount of conductor filler or specific surface area, or to add a solvent having a low boiling point or a reactive diluent. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、導体フ
ィラーの添加量を減らしたり、または大きな粒子を用い
ることは、フィラー同士の接触点が少なくなりビアホー
ル接続抵抗値が大きくなり、またヒートサイクル等の熱
応力が発生する試験では信頼性が確保できない問題があ
った。
However, when the amount of the conductive filler added is reduced or large particles are used, the contact points between the fillers are reduced, the via hole connection resistance value is increased, and the heat of heat cycle or the like is increased. There was a problem that reliability could not be ensured in a test in which stress was generated.

【0006】また、低沸点の溶剤または反応性希釈剤を
添加する方法では、熱プレスの硬化中にこれら成分の揮
発による重量減少が大きく、この揮発成分のために基材
に膨れが生じたり、または配線銅箔との接着力が弱くな
る問題があった。
Further, in the method of adding a solvent having a low boiling point or a reactive diluent, the weight loss due to volatilization of these components is large during curing of the hot press, and the volatile component causes swelling of the substrate, Alternatively, there is a problem that the adhesive strength with the wiring copper foil becomes weak.

【0007】また、分散剤の添加がない系においては、
低粘度化を行うためには粒子形状が限られたり、比較的
低粘度のものでも印刷時の高シェアー下のもとでは、粘
度が上昇しビアホールへの印刷充填性が難しいという問
題があった。
Further, in a system without the addition of a dispersant,
In order to lower the viscosity, there was a problem that the particle shape was limited, and even with a relatively low viscosity, the viscosity increased and printing fillability into the via hole was difficult under a high share during printing. .

【0008】本発明は上記課題点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、インナビアホール接
続による電極層間の電気的接続ならびに耐熱衝撃性が得
られる、低粘度で低揮発性の導体ペースト組成物を得る
ことにあり、またこのペーストを用いたインナビアホー
ル接続を含んだ両面プリント基板から多層プリント基板
までを得ることにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to obtain electrical connection between electrode layers by inner via hole connection, thermal shock resistance, low viscosity and low volatility. It is to obtain a conductor paste composition, and to obtain a double-sided printed board including an inner via hole connection using this paste to a multilayer printed board.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明のビアホール充填用導体ペースト組成物は、
(a)平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面積が
0.1〜1.5m2 /gの導体フィラー80〜92重量
%、(b)常温粘度15Pa・sec以下で2ヶ以上の
エポキシ基を含有した液状エポキシ樹脂8〜20重量
%、(c)硬化剤0.5〜5重量%からなる組成物であ
って、その粘度が2,000Pa・sec以下でかつ揮
発量が2.0重量%以下であることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the via-hole-filling conductor paste composition of the present invention comprises:
(A) 80 to 92% by weight of a conductor filler having an average particle size of 0.5 to 20 μm and a specific surface area of 0.1 to 1.5 m 2 / g, (b) 2 or more at room temperature viscosity of 15 Pa · sec or less Of 8 to 20% by weight of liquid epoxy resin containing epoxy group and 0.5 to 5% by weight of (c) curing agent, the viscosity of which is 2,000 Pa · sec or less and the volatilization amount is 2 It is characterized in that it is 0.0% by weight or less.

【0010】前記構成において、(a)〜(c)の組成
物100重量部に対し、さらに分散剤を0.01〜1.
5重量%含有することが好ましい。また前記構成におい
ては、導体フィラーが、金、銀、パラジウム、銅、ニッ
ケル、錫、鉛から選ばれる少なくとも一つの微粒子であ
ることが好ましい。前記微粒子の平均粒径の範囲は0.
5〜20μmが好ましい。
In the above-mentioned constitution, a dispersant is further added in an amount of 0.01 to 1. with respect to 100 parts by weight of the compositions (a) to (c).
It is preferable to contain 5% by weight. Further, in the above structure, the conductor filler is preferably at least one fine particle selected from gold, silver, palladium, copper, nickel, tin, and lead. The range of the average particle size of the fine particles is 0.
It is preferably 5 to 20 μm.

【0011】また前記構成において、導体フィラーが、
その表面酸素濃度が1.0重量%以下の銅であることが
好ましい。また前記構成においては、エポキシ樹脂が、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型
エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、アミン型エポキシ
樹脂、グリシジルエステル化エポキシ樹脂から選ばれる
少なくとも一つの液状エポキシ樹脂であることが好まし
い。
In the above structure, the conductor filler is
Copper having a surface oxygen concentration of 1.0% by weight or less is preferable. In the above configuration, the epoxy resin is
At least one liquid epoxy resin selected from bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, amine type epoxy resin, and glycidyl esterified epoxy resin is preferable.

【0012】また前記構成においては、液状エポキシ樹
脂が、ダイマー酸をグリシジルエステル化したエポキシ
樹脂を液状エポキシ樹脂中に10重量%以上含有するこ
とが好ましい。
Further, in the above constitution, it is preferable that the liquid epoxy resin contains 10 wt% or more of the epoxy resin obtained by converting dimer acid into glycidyl ester in the liquid epoxy resin.

【0013】また前記構成においては、液状エポキシ樹
脂が、ビスフェノールA及びビスフェノールFから選ば
れる少なくとも一つのエポキシ樹脂50重量%以下と、
ダイマー酸をグリシジルエステル化したエポキシ当量3
00〜600g/eqの範囲のエポキシ樹脂50重量%
以上の組成物であることが好ましい。
In the above construction, the liquid epoxy resin is 50 wt% or less of at least one epoxy resin selected from bisphenol A and bisphenol F,
Epoxy equivalent of dimer acid converted to glycidyl ester 3
50% by weight of epoxy resin in the range of 00 to 600 g / eq
The above composition is preferable.

【0014】また前記構成においては、硬化剤が、ジシ
アンジアミド、カルボン酸ヒドラジド等のアミン系硬化
剤、3−(3,4−ジクロロフェニル)−1、1−ジメ
チル尿素等の尿素系硬化剤、無水フタル酸、無水メチル
ナジック酸、無水ピロメリット酸、無水ヘキサヒドロフ
タール酸等の酸無水物系硬化剤、ジアミノジフェニルメ
タン、ジアミノジフェニルスルフォン酸等の芳香族アミ
ン系(アミンアダクト)硬化剤から選ばれる少なくとも
一つの硬化剤であることが好ましい。
In the above construction, the curing agent is an amine-based curing agent such as dicyandiamide or carboxylic acid hydrazide, a urea-based curing agent such as 3- (3,4-dichlorophenyl) -1,1-dimethylurea, or anhydrous phthalic acid. Acid, methyl nadic acid anhydride, pyromellitic anhydride, acid anhydride type curing agent such as hexahydrophthalic anhydride, diaminediphenylmethane, at least selected from aromatic amine type (amine adduct) curing agent such as diaminodiphenyl sulfonic acid It is preferably one curing agent.

【0015】また前記構成においては、硬化剤が潜在性
硬化剤であることが好ましい。ここで潜在性硬化剤と
は、エポキシ樹脂と硬化剤との混合物において、室温で
は長時間特性が変わることなく保存可能で、所定の温度
以上に加熱したときに速やかに硬化する機能を有するも
のをいう。
Further, in the above constitution, it is preferable that the curing agent is a latent curing agent. Here, the latent curing agent is a mixture of an epoxy resin and a curing agent, which can be stored at room temperature without changing its properties for a long time and has a function of rapidly curing when heated to a predetermined temperature or higher. Say.

【0016】また前記構成においては、分散剤が、高級
脂肪酸のエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加エ
ステル化物、ゾルビタンと脂肪酸のエステル化合物、ゾ
ルビタン等の多価アルコールのエチレンオキシド、プロ
ピレンオキシド付加エーテル化合物、アルキルベンゼン
のエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加物等の非
イオン性分散剤、アルキルベンゼンスルフォン酸アルカ
リ塩、高級アルコール硫酸エステルアルカリ塩、リン酸
エステル化合物、高級脂肪酸、高級脂肪酸のエチレンオ
キシド、プロピレンオキシド付加物のサルファートアル
カリ塩等のアニオン系分散剤、4級アンモニウム塩タイ
プのカチオン系分散剤から選ばれる少なくとも一つの分
散剤であることが好ましい。
Further, in the above constitution, the dispersant is ethylene oxide of higher fatty acid, propylene oxide addition esterified product, ester compound of sorbitan and fatty acid, ethylene oxide of polyhydric alcohol such as sorbitan, propylene oxide addition ether compound, ethylene oxide of alkylbenzene, Nonionic dispersants such as propylene oxide adducts, alkylbenzene sulfonic acid alkali salts, higher alcohol sulfuric acid ester alkali salts, phosphate ester compounds, higher fatty acids, higher fatty acid ethylene oxide, anions such as propylene oxide adduct sulfate alkaline salts The dispersant is preferably at least one dispersant selected from quaternary ammonium salt type cationic dispersants.

【0017】次に本発明の両面プリント基板は、絶縁基
材内に開けられたビアホール中に、平均粒径が0.5〜
20μmで、その比表面積が0.1〜1.5m2 /gの
導体フィラー80〜92重量%と、エポキシ開環したエ
ポキシ樹脂8〜20重量%を含む導電性樹脂組成物が充
填され、かつ前記絶縁基材表面の上下電極層が電気的に
接続されているという構成を備えたものである。
Next, the double-sided printed circuit board of the present invention has an average particle size of 0.5 to 0.5 in the via hole opened in the insulating base material.
A conductive resin composition containing 80 to 92 wt% of a conductor filler having a specific surface area of 20 μm and a specific surface area of 0.1 to 1.5 m 2 / g and 8 to 20 wt% of an epoxy ring-opened epoxy resin, and The upper and lower electrode layers on the surface of the insulating base material are electrically connected.

【0018】前記構成においては、絶縁基材がアラミド
繊維と熱硬化性樹脂の複合材であることが好ましい。ま
た前記構成においては、絶縁基材がアラミド不織布とエ
ポキシ樹脂の複合材であることが好ましい。
In the above construction, the insulating base material is preferably a composite material of aramid fiber and thermosetting resin. Further, in the above structure, the insulating base material is preferably a composite material of aramid nonwoven fabric and epoxy resin.

【0019】次に本発明の多層プリント基板は、複数枚
の絶縁基材層と2つ以上の電極層をもち、各々の絶縁基
材内に開けられたビアホール中に、平均粒径が0.5〜
20μmで、その比表面積が0.1〜1.5m2 /gの
導体フィラー80〜92重量%と、エポキシ開環したエ
ポキシ樹脂8〜20重量%を含む導電性樹脂組成物が充
填され、各電極層毎に電気的接続された構造を持つとい
う構成を備えたものである。
Next, the multilayer printed circuit board of the present invention has a plurality of insulating base layers and two or more electrode layers, and the via holes formed in each insulating base has an average particle size of 0. 5-
A conductive resin composition containing 80 to 92% by weight of a conductor filler having a specific surface area of 20 μm and a specific surface area of 0.1 to 1.5 m 2 / g and 8 to 20% by weight of an epoxy ring-opened epoxy resin is filled. The structure is such that each electrode layer is electrically connected.

【0020】前記構成においては、絶縁基材がアラミド
繊維と熱硬化性樹脂の複合材であることが好ましい。ま
た前記構成においては、絶縁基材がアラミド不織布とエ
ポキシ樹脂の複合材であることが好ましい。
In the above structure, the insulating base material is preferably a composite material of aramid fiber and thermosetting resin. Further, in the above structure, the insulating base material is preferably a composite material of aramid nonwoven fabric and epoxy resin.

【0021】次に本発明の両面プリント基板の製造方法
は、プリント基板の製造に用いられるプリプレグにあら
かじめビアホールを形成し、このビアホールに、(a)
平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面積が0.1
〜1.5m2 /gの導体フィラー80〜92重量%、
(b)常温粘度15Pa・sec以下で2ヶ以上のエポ
キシ基を含有した液状エポキシ樹脂8〜20重量%、
(c)硬化剤0.5〜5重量%からなる組成物であっ
て、その粘度が2,000Pa・sec以下でかつ揮発
量が2.0重量%以下である導体ペースト組成物を充填
した後、前記プリプレグの上下層に銅箔を挟んで加熱加
圧後、銅箔をエッチングすることにより回路を形成する
ことを特徴とする。
Next, according to the method for manufacturing a double-sided printed circuit board of the present invention, a via hole is previously formed in a prepreg used for manufacturing the printed circuit board, and the via hole is formed with (a).
The average particle size is 0.5 to 20 μm, and the specific surface area is 0.1.
80 to 92% by weight of a conductor filler of ~ 1.5 m 2 / g,
(B) 8 to 20% by weight of a liquid epoxy resin containing two or more epoxy groups at room temperature viscosity of 15 Pa · sec or less,
(C) after filling with a conductor paste composition having a curing agent of 0.5 to 5% by weight and having a viscosity of 2,000 Pa · sec or less and a volatilization amount of 2.0% by weight or less A circuit is formed by sandwiching a copper foil between the upper and lower layers of the prepreg, applying heat and pressure, and etching the copper foil.

【0022】前記構成においては、プリプレグがアラミ
ド繊維と熱硬化性樹脂の複合材であることが好ましい。
また前記構成においては、プリプレグがアラミド不織布
に熱硬化性エポキシ樹脂を含浸したシートであることが
好ましい。
In the above structure, the prepreg is preferably a composite material of aramid fiber and thermosetting resin.
Further, in the above structure, the prepreg is preferably a sheet obtained by impregnating an aramid nonwoven fabric with a thermosetting epoxy resin.

【0023】次に本発明の多層プリント基板の第1番目
の製造方法は、プリント基板の製造に用いられるプリプ
レグにあらかじめビアホールを形成しこのビアホール
に、(a)平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面
積が0.1〜1.5m2 /gの導体フィラー80〜92
重量%、(b)常温粘度15Pa・sec以下で2ヶ以
上のエポキシ基を含有した液状エポキシ樹脂8〜20重
量%、(c)硬化剤0.5〜5重量%からなる組成物で
あって、その粘度が2,000Pa・sec以下でかつ
揮発量が2.0重量%以下である導体ペースト組成物を
充填した後、両面プリント基板の上下に配置し、さらに
前記プリプレグの最外層に銅箔を挟んで加熱加圧後、銅
箔をエッチングすることにより回路を形成することを特
徴とする。
Next, in the first method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, a via hole is previously formed in a prepreg used for manufacturing the printed circuit board, and (a) the average particle size is 0.5 to 20 μm. And a conductor filler having a specific surface area of 0.1 to 1.5 m 2 / g 80 to 92
%, (B) 8 to 20% by weight of liquid epoxy resin containing 2 or more epoxy groups at room temperature viscosity of 15 Pa · sec or less, and (c) 0.5 to 5% by weight of a curing agent. After being filled with a conductive paste composition having a viscosity of 2,000 Pa · sec or less and a volatilization amount of 2.0 wt% or less, the conductive paste composition is placed on the upper and lower sides of a double-sided printed circuit board, and a copper foil is further provided on the outermost layer of the prepreg. A circuit is formed by heating and pressurizing the copper foil and then etching the copper foil.

【0024】前記構成においては、プリプレグがアラミ
ド繊維と熱硬化性樹脂の複合材であることが好ましい。
また前記構成においては、プリプレグがアラミド不織布
に熱硬化性エポキシ樹脂を含浸したシートであることが
好ましい。
In the above structure, the prepreg is preferably a composite material of aramid fiber and thermosetting resin.
Further, in the above structure, the prepreg is preferably a sheet obtained by impregnating an aramid nonwoven fabric with a thermosetting epoxy resin.

【0025】次に本発明の多層プリント基板の第2番目
の製造方法は、プリント基板の製造に用いられるプリプ
レグにあらかじめビアホールを形成しこのビアホール
に、(a)平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面
積が0.1〜1.5m2 /gの導体フィラー80〜92
重量%、(b)常温粘度15Pa・sec以下で2ヶ以
上のエポキシ基を含有した液状エポキシ樹脂8〜20重
量%、(c)硬化剤0.5〜5重量%からなる組成物で
あって、その粘度が2,000Pa・sec以下でかつ
揮発量が2.0重量%以下である導体ペースト組成物を
充填した後、両面プリント基板を上下に配置し、加熱加
圧して回路を形成することを特徴とする。
Next, in the second method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, a via hole is previously formed in a prepreg used for manufacturing the printed circuit board, and (a) the average particle size is 0.5 to 20 μm. And a conductor filler having a specific surface area of 0.1 to 1.5 m 2 / g 80 to 92
%, (B) 8 to 20% by weight of liquid epoxy resin containing 2 or more epoxy groups at room temperature viscosity of 15 Pa · sec or less, and (c) 0.5 to 5% by weight of a curing agent. After filling with a conductor paste composition having a viscosity of 2,000 Pa · sec or less and a volatilization amount of 2.0 wt% or less, a double-sided printed circuit board is placed vertically and heated and pressed to form a circuit. Is characterized by.

【0026】前記構成においては、プリプレグがアラミ
ド繊維と熱硬化性樹脂の複合材であることが好ましい。
また前記構成においては、プリプレグがアラミド不織布
に熱硬化性エポキシ樹脂を含浸したシートであることが
好ましい。
In the above construction, the prepreg is preferably a composite material of aramid fiber and thermosetting resin.
Further, in the above structure, the prepreg is preferably a sheet obtained by impregnating an aramid nonwoven fabric with a thermosetting epoxy resin.

【0027】[0027]

【作用】前記した本発明によれば、特定性能を有する導
電フィラーを特定性状を有するエポキシ樹脂中に分散す
ることによって一液性無溶剤化した導体組成物を得、更
にこの導体組成物をビアホールに充填することで信頼性
の高いビアホール接続を有した両面プリント基板および
多層プリント基板を得ることが出来るようにするもので
ある。
According to the present invention described above, a one-liquid solvent-free conductor composition is obtained by dispersing a conductive filler having a specific performance in an epoxy resin having a specific property. By filling in, it is possible to obtain a double-sided printed circuit board and a multilayer printed circuit board having highly reliable via hole connection.

【0028】まず、導体フィラーについて説明する。導
体フィラーは本発明の目的から言って導体組成中に高濃
度に含有される必要がある。その理由は、前記したよう
に導体フィラー同士の接触確率を高めることによる接続
ビアホールの低抵抗化および熱または機械的応力による
基板歪みが加わった際にも導通信頼性を保持する必要が
あるからである。
First, the conductor filler will be described. For the purpose of the present invention, the conductor filler needs to be contained in a high concentration in the conductor composition. The reason is that it is necessary to maintain the conduction reliability even when the resistance of the connecting via hole is lowered by increasing the contact probability between the conductor fillers and the substrate strain is applied by heat or mechanical stress as described above. is there.

【0029】導体フィラーを高濃度に分散させるために
は、導体フィラーの平均粒径が0.2−20μmの範囲
にあっても、その比表面積が小さい程よく、その値は
0.1−1.5m2 /gが適当であり、更に望ましくは
0.1−1.0m2 /gである。導体フィラーとして
は、金、銀、パラジウムなどの貴金属のもの、または
銅、ニッケル、錫、鉛などの卑金属のものが挙げられる
が、これら2種以上を併用することも出来る。また、導
体フィラーの形状についても球状、フレーク状等の上記
特性を有するものであれば使用可能である。
In order to disperse the conductor filler in a high concentration, the smaller the specific surface area is, the better, even if the average particle diameter of the conductor filler is in the range of 0.2-20 μm. 5 m 2 / g are suitable, more preferably is 0.1 to 1.0 M 2 / g. Examples of the conductor filler include noble metals such as gold, silver, and palladium, and base metals such as copper, nickel, tin, and lead, but two or more kinds of them can be used in combination. As for the shape of the conductor filler, any one having the above-mentioned characteristics such as a spherical shape or a flake shape can be used.

【0030】特に銅粉末を導体フィラーとして用いるこ
とは、マイグレーションの抑制、経済的供給と価格の安
定性の面から望ましい。しかし、銅粉末は一般に酸化さ
れ易いため、本目的でビアホール充填用として用いる場
合には、銅粉末の酸化が導電性を阻害することとなるた
め銅粉末の酸素濃度は1.0重量%以下であることが好
ましい。
In particular, it is desirable to use copper powder as the conductor filler from the viewpoint of suppressing migration, economical supply and cost stability. However, since the copper powder is generally easily oxidized, when used for filling the via hole for this purpose, the oxidation of the copper powder hinders the conductivity, so that the oxygen concentration of the copper powder is 1.0 wt% or less. Preferably there is.

【0031】次に、特定性状のエポキシ樹脂について説
明する。一液で無溶剤型の導体組成物を形成するため
に、エポキシ樹脂としては液状樹脂が基本的に必要であ
る。前記した導体フィラーを高濃度に分散するために
は、エポキシ樹脂の粘度が15Pa・sec以下が必要
であり、それ以上の粘度のエポキシ樹脂を用いると導体
組成物をペースト化した際ペーストの粘度が著しく高く
なり、ペースト粘度が2,000Pa・sec以上では
ビアホール充填作業が出来ないと言う不具合を生じる。
またエポキシ樹脂の好ましい粘度の下限値は0.2P
a、secである一方、本組成物はビアホールに充填さ
れた後加熱圧縮される時、揮発成分が揮散してビアホー
ル充填構造物中にボイドが発生したり、またはプリプレ
グの剥離を生じたりすることがないよう揮発分の抑制が
必要である。その揮発量は出来るだけ少ない方が望まし
いが、2.0重量%以下だと上記のような不具合は起こ
らない。
Next, the epoxy resin having a specific property will be described. In order to form a solvent-free conductor composition with one liquid, a liquid resin is basically necessary as the epoxy resin. In order to disperse the above-mentioned conductor filler in a high concentration, the viscosity of the epoxy resin needs to be 15 Pa · sec or less. When an epoxy resin having a viscosity higher than that is used, the viscosity of the paste when the conductor composition is made into a paste is When the paste viscosity becomes 2,000 Pa · sec or more, the via hole filling operation cannot be performed.
The lower limit of the preferable viscosity of the epoxy resin is 0.2P.
On the other hand, when the composition is a or sec, when the composition is heated and compressed after being filled in a via hole, a volatile component is volatilized to generate a void in the structure filled with a via hole or peeling of a prepreg. It is necessary to control volatile matter so that there is no such matter. It is desirable that the volatilization amount be as small as possible, but if the content is 2.0% by weight or less, the above-mentioned problems do not occur.

【0032】使用し得るエポキシ樹脂としては、ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ
シ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、アミン型エポキシ樹脂等
2ヶ以上のエポキシ基を含有した液状エポキシ樹脂があ
るが、揮発分を少なくするために液状エポキシ樹脂を分
子蒸留したものも使用され得る。
Epoxy resins that can be used include liquid epoxy resins containing two or more epoxy groups such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, alicyclic epoxy resin and amine type epoxy resin. Molecularly distilled liquid epoxy resins may also be used to reduce volatiles.

【0033】中でも、ダイマー酸をグリシジルエステル
化したエポキシ樹脂は低粘度(たとえば0.2〜0.9
Pa・sec)であると同時に硬化物が可とう性を示
し、応力に対する緩和効果が大きいためエポキシ樹脂中
に10重量部以上配合するとビアホール構造体の信頼性
が高くなる。
Among them, the epoxy resin obtained by converting dimer acid into glycidyl ester has a low viscosity (for example, 0.2 to 0.9).
(Pa · sec) at the same time, the cured product exhibits flexibility and has a large stress relaxation effect, so the reliability of the via-hole structure becomes high when it is mixed in an epoxy resin in an amount of 10 parts by weight or more.

【0034】また前記において、液状エポキシ樹脂が、
ビスフェノールA及びビスフェノールFから選ばれる少
なくとも一つのエポキシ樹脂50重量%以下と、ダイマ
ー酸をグリシジルエステル化したエポキシ当量300〜
600g/eqの範囲のエポキシ樹脂50重量%以上の
組成物であるという好ましい例によれば、さらに低粘度
で、硬化物が可とう性を示し、応力に対する緩和効果が
大きく、ビアホール構造体の信頼性が高くなる。
In the above, the liquid epoxy resin is
50% by weight or less of at least one epoxy resin selected from bisphenol A and bisphenol F, and an epoxy equivalent of dimer acid converted to glycidyl ester of 300 to
According to the preferable example of the composition of 50% by weight or more of the epoxy resin in the range of 600 g / eq, the viscosity of the cured product is further low, the cured product exhibits flexibility, the stress relaxation effect is large, and the reliability of the via hole structure is high. Will be more likely.

【0035】硬化剤については、一般的な硬化剤が使用
可能である。ジシアンジアミド、カルボン酸ヒドラジド
等のアミン系硬化剤、3−(3,4−ジクロロフェニ
ル)−1、1−ジメチル尿素等の尿素系硬化剤、無水フ
タル酸、無水メチルナジック酸、無水ピロメリット酸、
無水ヘキサヒドロフタール酸等の酸無水物系硬化剤、ジ
アミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォ
ン酸等の芳香族アミン系(アミンアダクト)硬化剤が代
表的に用いられる。これらのうちでも、特に組成物の安
定性および作業性の観点より、固形状の潜在性硬化剤が
望ましい。ここで固形状の潜在性硬化剤とは、数種類の
アミン成分とエポキシ樹脂とをある程度反応させ、樹脂
粒子化し、アミン等の活性基をポリマーの三次元構造中
に封じ込めておき、エポキシ樹脂に配合すると粒子表面
は一部反応するが、ここで反応はストップし、室温では
長時間特性が変わることなく保存可能で、所定の温度以
上に加熱したときに粒子が溶融または溶解し、封じ込め
られていた活性基が現れ、一斉に反応が開始され、速や
かに硬化する機能を有するものをいう。
As the curing agent, a general curing agent can be used. Amine type curing agents such as dicyandiamide and carboxylic acid hydrazide, urea type curing agents such as 3- (3,4-dichlorophenyl) -1,1-dimethylurea, phthalic anhydride, methylnadic acid anhydride, pyromellitic anhydride,
An acid anhydride-based curing agent such as hexahydrophthalic anhydride and an aromatic amine-based (amine adduct) curing agent such as diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfonic acid are typically used. Among these, a solid latent curing agent is preferable from the viewpoint of stability and workability of the composition. Here, the solid latent curing agent is obtained by reacting several kinds of amine components with an epoxy resin to some extent to form resin particles, and encapsulating active groups such as amines in the three-dimensional structure of the polymer and blending with the epoxy resin. Then, part of the particle surface reacts, but the reaction stops here and it can be stored at room temperature without changing its properties for a long time, and when it is heated above a predetermined temperature, the particle melts or melts and is contained. An active group appears, the reaction is started all at once, and it has a function of rapidly curing.

【0036】分散剤については、一般に使用される分散
剤が使用可能である。第一は、高級脂肪酸のエチレンオ
キシド、プロピレンオキシド付加エステル化物、ゾルビ
タンと脂肪酸のエステル化合物、ゾルビタン等の多価ア
ルコールのエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加
エーテル化合物、アルキルベンゼンのエチレンオキシ
ド、プロピレンオキシド付加物等の非イオン性分散剤、
第二には、アルキルベンゼンスルフォン酸アルカリ塩、
高級アルコール硫酸エステルアルカリ塩、リン酸エステ
ル化合物、高級脂肪酸、高級脂肪酸のエチレンオキシ
ド、プロピレンオキシド付加物のサルファートアルカリ
塩等のアニオン系分散剤、第三に4級アンモニウム塩タ
イプのカチオン系分散剤が代表的に用いられる。
As the dispersant, a generally used dispersant can be used. First, non-ionic compounds such as ethylene oxide of higher fatty acids, propylene oxide adducts, ester compounds of sorbitan and fatty acids, ethylene oxide of polyhydric alcohols such as sorbitan, propylene oxide adduct ether compounds, ethylene oxide of alkylbenzenes and propylene oxide adducts. Dispersant,
Secondly, alkylbenzene sulfonic acid alkali salt,
Higher alcohol sulfate ester alkali salt, phosphate ester compound, higher fatty acid, ethylene oxide of higher fatty acid, anionic dispersant such as sulfate alkali salt of propylene oxide adduct, and thirdly, quaternary ammonium salt type cationic dispersant. It is typically used.

【0037】ここにいう分散剤とは、ペースト中におい
て金属粒子表面とバインダとして配合される有機樹脂と
の親和性を増すことによって、ペーストの低粘度化と、
ペーストにシェアーを加えたとき金属粒子に流動性を付
加する効果を持つ。現象的には、スクリーン印刷時に高
シェアー下においてもペースト粘度が高くならず、基板
上のビアホールへのペースト充填性を容易にならしめる
作用を示す。
The dispersant referred to herein is to reduce the viscosity of the paste by increasing the affinity between the surface of the metal particles in the paste and the organic resin blended as a binder.
It has the effect of adding fluidity to the metal particles when shear is added to the paste. Phenomenonally, the paste viscosity does not increase even under a high shear during screen printing, and the paste filling property into the via holes on the substrate is easily exhibited.

【0038】またプリプレグとしては、ガラスエポキ
シ、紙フェノール、アラミドエポキシ等、プレス時にそ
の厚みがプリプレグより硬化後薄くなるものであればほ
とんどのものが使用可能である。
As the prepreg, almost any one can be used, such as glass epoxy, paper phenol, and aramid epoxy, as long as the thickness of the prepreg becomes smaller than that of the prepreg after curing.

【0039】本発明の上記した方法によれば、低粘度で
低揮発性のビアホール充填用導体ペースト組成物ならび
に、容易にインナビアホール接続を含んだ信頼性の優れ
た両面プリント基板及び多層プリント基板を形成するこ
とが可能となる。なお、インナビアホール接続とは、両
面、および多層プリント基板の各層間を任意の位置で接
続を得る方法である。
According to the above-mentioned method of the present invention, a low-viscosity and low-volatility conductive paste composition for filling via holes, and a highly reliable double-sided printed circuit board and multi-layer printed circuit board which easily include inner via hole connections are provided. Can be formed. The inner via hole connection is a method of connecting both surfaces and each layer of the multilayer printed board at an arbitrary position.

【0040】[0040]

【実施例】以下、本発明のビアホール充填用導体ペース
トを用いた両面プリント基板およびその形成方法ならび
にそれを用いた多層プリント基板の実施例を図面に基づ
き詳細に説明する。
EXAMPLES Examples of a double-sided printed board using the conductor paste for filling via holes of the present invention, a method for forming the same, and a multilayer printed board using the same will be described in detail with reference to the drawings.

【0041】図1は本発明の両面プリント基板の一実施
例の構造断面図である。両面プリント基板104は積層
基材101、銅箔102(図の場合は配線パターンの銅
箔)、導体ペーストが硬化した導体ビアホール103と
からなっている。本発明のポイントは、導体ペースト組
成物が低粘度で低揮発性によって充填が容易であり、か
つ高含有量の導体フィラーが満たされた接続であり基板
として信頼性が優れていることにある。積層基材101
としては、現在知られている積層基材が使える。例え
ば、ガラスエポキシ基材、アラミドエポキシ基材、紙フ
ェノール基材等が使える。加熱加圧する前はプリプレグ
といわれ、芯材のガラスクロスまたは不織布に未硬化の
樹脂を含浸してある。
FIG. 1 is a structural sectional view of an embodiment of a double-sided printed circuit board according to the present invention. The double-sided printed circuit board 104 is composed of a laminated base material 101, a copper foil 102 (a copper foil of a wiring pattern in the figure), and a conductor via hole 103 in which a conductor paste is hardened. The point of the present invention is that the conductor paste composition is low in viscosity and easy to fill due to low volatility, and is a connection filled with a high content of the conductor filler, and is excellent in reliability as a substrate. Laminated substrate 101
For this, the currently known laminated base material can be used. For example, glass epoxy base material, aramid epoxy base material, paper phenol base material and the like can be used. Prior to heating and pressurization, it is called a prepreg, and the glass cloth or nonwoven fabric of the core material is impregnated with uncured resin.

【0042】導電フィラーとしては、金、銀等の貴金属
または銅、錫、ニッケル、鉛等の卑金属などほとんどの
ものが使用可能である。また、純粋な金属だけでなく合
金やまたは、図5に示すような金属または絶縁性の核に
導電性の材料で覆ったものも使用可能である。図5にお
いて501は球形の核であり、502は導電性材料であ
り核の表面を覆い導電性フィラーとしての役割を果た
す。
As the conductive filler, most of the noble metals such as gold and silver or base metals such as copper, tin, nickel and lead can be used. Further, not only a pure metal but also an alloy, or a metal or insulating nucleus as shown in FIG. 5 covered with a conductive material can be used. In FIG. 5, 501 is a spherical nucleus, and 502 is a conductive material that covers the surface of the nucleus and serves as a conductive filler.

【0043】図2(a)〜(d)は本発明の両面基板の
形成方法の工程図である。図2において積層基材201
はプリプレグである。このプリプレグに貫通孔を明け
る。一般にはドリルがよく使われるが、材料によっては
レーザビームで加工することも可能である。図2(b)
は、図2(a)を銅箔202ではさんだ状態を示してい
る。図2(c)は、図2(b)に加熱加圧を加えた後の
状態を示している。図2(c)は、プリプレグに開けた
貫通孔に加熱加圧後に金属充填量が増えている状態を示
している。プリプレグは圧縮されて厚みが薄くなり、
且、樹脂が硬化している。導体ペースト203は圧縮さ
れた状態になっている。この状態の導体103が上下両
面の電気的接続の役割を果たす。図2(d)は表面の銅
箔202を加工(エッチング等)して配線パターンを形
成した後の状態を示している。加工後の銅箔102は回
路導体となる。実用に供せられるプリント基板はこの
後、半田レジストを塗布したり、文字や記号を印刷した
り、挿入部品用の穴を開けるなどの工程があるが、ここ
では本質ではないので省略する。
2A to 2D are process diagrams of the method for forming a double-sided substrate of the present invention. In FIG. 2, the laminated base material 201
Is a prepreg. A through hole is opened in this prepreg. Generally, a drill is often used, but it can be processed with a laser beam depending on the material. Figure 2 (b)
Shows a state in which FIG. 2A is sandwiched by the copper foil 202. FIG. 2C shows a state after applying heat and pressure to FIG. 2B. FIG. 2C shows a state in which the metal filling amount is increased in the through hole opened in the prepreg after heating and pressing. The prepreg is compressed and thinned,
Moreover, the resin is hardened. The conductor paste 203 is in a compressed state. The conductor 103 in this state plays a role of electrical connection between the upper and lower surfaces. FIG. 2D shows a state after processing (etching or the like) the surface copper foil 202 to form a wiring pattern. The processed copper foil 102 becomes a circuit conductor. A printed circuit board that can be put to practical use thereafter has steps such as applying a solder resist, printing letters and symbols, and making holes for insertion parts, but this step is not essential here, so it is omitted.

【0044】図3(a)、(b)は上記に述べた両面プ
リント基板の形成方法を繰り返し用いて多層プリント基
板を作る工程を示している。図3(a)は芯になる両面
プリント基板104の両側(上下面)に図2(a)の貫
通孔に導体ペーストを充填したものを配置し、更に銅箔
202をおいた状態を示している。この状態で、上下面
から加熱加圧すれば図3(b)の多層プリント基板が得
られ、すでにインナビアホール接続が出来上がってい
る。さらに上下面の銅箔をパターン状に加工すれば4層
の多層プリント基板が完成する。以後、この工程を繰り
返し、より層数の多い多層プリント基板を作ることが出
来る。
FIGS. 3 (a) and 3 (b) show a process of making a multilayer printed circuit board by repeatedly using the above-mentioned method for forming a double-sided printed circuit board. FIG. 3A shows a state in which the through-holes of FIG. 2A filled with the conductive paste are arranged on both sides (upper and lower surfaces) of the double-sided printed circuit board 104 which is the core, and the copper foil 202 is further placed. There is. In this state, by heating and pressing from the upper and lower surfaces, the multilayer printed board shown in FIG. 3B is obtained, and the inner via hole connection is already completed. Further, by processing the copper foils on the upper and lower surfaces into a pattern, a multilayer printed circuit board of four layers is completed. After that, this process can be repeated to make a multilayer printed circuit board having a larger number of layers.

【0045】図3の多層プリント基板の形成方法におい
て、芯の両面プリント基板は本発明の両面プリント基板
を用いたが、必ずしもその必要はなく、従来あるスルー
ホール両面プリント基板が使えることは容易にわかる。
この場合、スルーホールの貫通孔は前もって埋めておい
たほうがよい。ここでスルーホール基板とは、樹脂基板
のことをいう。スルーホール基板ばかりでなくセラミッ
クの基板等が使える。
In the method for forming a multilayer printed circuit board of FIG. 3, the double-sided printed circuit board of the present invention was used as the core double-sided printed circuit board, but it is not always necessary and it is easy to use a conventional through-hole double-sided printed circuit board. Recognize.
In this case, the through holes of the through holes should be filled in advance. Here, the through-hole substrate means a resin substrate. Not only through-hole boards but also ceramic boards can be used.

【0046】図4は多層プリント基板の他の形成方法を
示している。図4(a)においては、導体ペースト20
3を充填した加熱加圧前のプリプレグ201を2枚の両
面プリント基板104ではさんでいる。この状態で加熱
加圧し、図4(b)の4層の多層プリント基板を得るこ
とが出来る。4層ばかりでなく、複数枚の両面プリント
基板を用意し、前記の導電フィラーを充填した加熱加圧
前の積層基材を各両面プリント基板の間に挟んで加熱加
圧すればより多層の多層プリント基板を得ることが出来
る。
FIG. 4 shows another method for forming a multilayer printed board. In FIG. 4A, the conductor paste 20
The two-sided printed circuit board 104 sandwiches the prepreg 201 before heating and pressurizing which is filled with 3. By heating and pressing in this state, the four-layered multilayer printed board shown in FIG. 4B can be obtained. Not only 4 layers but also multiple double-sided printed circuit boards are prepared, and the laminated base material before heating and pressurizing filled with the above-mentioned conductive filler is sandwiched between the double-sided printed circuit boards and heated and pressed to obtain a multi-layered structure. A printed circuit board can be obtained.

【0047】図4の多層プリント基板の形成方法におい
て、両面プリント基板は本発明の両面プリント基板を用
いたが、必ずしもその必要はなく、従来あるスルーホー
ル両面プリント基板が使える。スルーホール基板ばかり
出なくセラミックの基板等が使える。
In the method for forming a multilayer printed circuit board of FIG. 4, the double-sided printed circuit board of the present invention is used as the double-sided printed circuit board, but it is not always necessary and a conventional through-hole double-sided printed circuit board can be used. Not only through-hole boards but also ceramic boards can be used.

【0048】以下の実施例において、エポキシ樹脂の内
容は次の通りである。 (1)ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エピコート8
28 油化シェルエポキシ製、エポキシ当量184〜1
94g/eq) (2)ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エピコート8
07 油化シェルエポキシ製、エポキシ当量160〜1
75g/eq) (3)脂環式エポキシ樹脂(ST−1000 東都化成
製、エポキシ当量200〜220g/eq) (4)アミン型エポキシ樹脂(ELN−125 住友化
学工業製、エポキシ当量110〜130g/eq) (5)ダイマー酸をグルシジルエステル化したエポキシ
樹脂(エポキシ当量390〜470g/eq)。なお本
実施例においては、グリシジルエステル系エポキシ樹脂
ともいう。構造式は下記の式(化1)の通りである。
In the examples below, the contents of the epoxy resin are as follows. (1) Bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 8
28 made of oiled shell epoxy, epoxy equivalent 184-1
94g / eq) (2) Bisphenol F type epoxy resin (Epicoat 8
07 Oiled shell epoxy, epoxy equivalent 160-1
75 g / eq) (3) Alicyclic epoxy resin (ST-1000 manufactured by Tohto Kasei, epoxy equivalent 200-220 g / eq) (4) Amine type epoxy resin (ELN-125 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 110-130 g / eq) eq) (5) Glycidyl esterified epoxy resin of dimer acid (epoxy equivalent 390 to 470 g / eq). In this example, it is also called a glycidyl ester-based epoxy resin. The structural formula is as shown below (Formula 1).

【0049】[0049]

【化1】 [Chemical 1]

【0050】(実施例1)本発明の第1の実施例では図
1に示すようにプリプレグとしては200μmの厚みの
アラミド・エポキシシート(帝人(株)製TA−01)
を使用し、このプリプレグの片面に厚み20μmのポリ
エチレンテレフタレートフィルムを接着剤を用いて張り
合わせ、ドリルを用いてこの基材に直径0.2mmの貫
通孔を形成した。
Example 1 In the first example of the present invention, as shown in FIG. 1, an aramid epoxy sheet having a thickness of 200 μm (TA-01 manufactured by Teijin Ltd.) was used as a prepreg.
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 μm was attached to one surface of the prepreg using an adhesive, and a through hole having a diameter of 0.2 mm was formed in the base material using a drill.

【0051】この貫通孔にビアホール充填用ペーストと
して、銀、金、銅、ニッケルの球形状ならびにフレーク
形状の金属粒子85重量%と、樹脂組成としてビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂(エピコート828 油化シェ
ルエポキシ製)3重量%とダイマー酸をグルシジルエス
テル化したエポキシ樹脂(YD−171 東都化成製)
9重量%および硬化剤としてアミンアダクト硬化剤(M
Y−24 味の素製)3重量%を三本ロールにて混練し
たものを充填した。表1に金属粒子の形状、平均粒径お
よび比表面積とビアホール充填用ペーストの室温におけ
るE型粘度計で0.5rpm時の粘度示す。
85% by weight of silver, gold, copper, and nickel spherical and flake-shaped metal particles as a paste for filling a via hole in this through hole, and a bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828 manufactured by Yuka Shell Epoxy) as a resin composition. ) Epoxy resin obtained by converting 3% by weight of dimer acid into glycidyl ester (YD-171 manufactured by Tohto Kasei)
9% by weight and an amine adduct curing agent (M
Y-24 (manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) 3% by weight was kneaded with a three-roll mill and charged. Table 1 shows the shape, average particle size and specific surface area of the metal particles and the viscosity of the paste for filling via holes at room temperature at 0.5 rpm with an E-type viscometer.

【0052】[0052]

【表1】 [Table 1]

【0053】ペーストが充填されたプリプレグに、35
μmの銅箔102をプリプレグの上下面に張り合わせ、
これを熱プレスを用いてプレス温度180℃、圧力50
Kg/cm2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成
した。
Add 35 to the prepreg filled with paste.
The copper foil 102 of μm is attached to the upper and lower surfaces of the prepreg,
Using a hot press, this is pressed at a temperature of 180 ° C. and a pressure of 50.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressing at Kg / cm 2 for 60 minutes.

【0054】ペースト粘度が2,000Pa・sec以
上のものは高粘度のためビアホールへの充填作業性が困
難である。以上のような方法を用いて形成した両面銅張
板を公知のエッチング技術を用いて電極パターンを形成
した。
When the paste viscosity is 2,000 Pa · sec or more, the workability of filling the via hole is difficult because of the high viscosity. An electrode pattern was formed on the double-sided copper clad plate formed by the above method by using a known etching technique.

【0055】表1にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。いずれのペ
ーストを用いても比抵抗値は絶縁性の樹脂を含んでいな
がらも導体の固有抵抗値の10倍以下である低抵抗の接
続が得られた。金属のそれぞれの固有抵抗値は、銀
(1.6×10-6Ωcm)、金(2.3×10-6Ωc
m)、銅(1.7×10-6Ωcm)、ニッケル(6.8
×10-6Ωcm)である。
Table 1 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. With any of the pastes, it was possible to obtain a low resistance connection in which the specific resistance value was 10 times or less of the specific resistance value of the conductor even though it contained an insulating resin. The specific resistance of each metal is silver (1.6 × 10 −6 Ωcm) and gold (2.3 × 10 −6 Ωc).
m), copper (1.7 × 10 −6 Ωcm), nickel (6.8)
× 10 −6 Ωcm).

【0056】(実施例2)第1の実施例と同様に、第2
の実施例では、直径0.2mmの貫通孔を形成したプリ
プレグに、導電ペーストの金属粒子として平均粒径2μ
mの銅粉を85重量%と、樹脂として12重量%のビス
フェノールA型エポキシ樹脂(エピコート828 油化
シェルエポキシ製)、ビスフェノールF型エポキシ樹脂
(エピコート807 油化シェルエポキシ製)、脂環式
エポキシ樹脂(ST−1000 東都化成製)、アミン
型エポキシ樹脂(ELN−125 住友化学工業製)、
またはダイマー酸をグルシジルエステル化したエポキシ
樹脂)、および硬化剤としてアミンアダクト硬化剤(P
N−23 味の素製)3重量%を三本ロールにて混練
し、これを充填した。表2にビアホール充填用ペースト
の室温における粘度と、昇温速度10℃/分で300℃
まで加熱したときのペーストの重量減すなわち揮発量を
示す。揮発量はいずれのペーストにおいても2重量%以
下であり、基板作製時の膨れは見あたらなかった。
(Embodiment 2) Similar to the first embodiment, the second embodiment
In the example, the average particle diameter of 2 μm as the metal particles of the conductive paste is applied to the prepreg in which the through holes having the diameter of 0.2 mm are formed.
85% by weight of copper powder of m, and 12% by weight of bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828 oiled shell epoxy), bisphenol F type epoxy resin (Epicoat 807 oiled shell epoxy), alicyclic epoxy as resin Resin (ST-1000 manufactured by Tohto Kasei), amine type epoxy resin (ELN-125 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.),
Or an epoxy resin obtained by converting dimer acid into glycidyl ester) and an amine adduct curing agent (P
3% by weight of N-23 (manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) was kneaded with a three-roll and filled. Table 2 shows the viscosity of the paste for filling via holes at room temperature and 300 ° C at a temperature rising rate of 10 ° C / min.
Shows the weight loss of the paste when heated up to, ie, the amount of volatilization. The volatilization amount was 2% by weight or less in any of the pastes, and no swelling was observed during the production of the substrate.

【0057】[0057]

【表2】 [Table 2]

【0058】穴開け加工を施したプリプレグにこのペー
ストを充填した後、銅箔102をプリプレグの上下面に
張り合わせ、これを熱プレスを用いてプレス温度180
℃、圧力50kg/cm2 で60分間加熱加圧して両面
銅張板を形成し、公知のエッチング技術を用いて電極パ
ターンを形成した。
After filling this paste in a prepreg which has been subjected to perforation processing, copper foil 102 is stuck to the upper and lower surfaces of the prepreg, and this is pressed at a pressing temperature of 180 using a hot press.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 50 ° C. and a pressure of 50 kg / cm 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0059】表2にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。いずれのペ
ーストを用いても比抵抗値は絶縁性の樹脂を含んでいな
がらも導体の固有抵抗値の10倍以下である低抵抗の接
続が得られた。
Table 2 shows the connection resistance value of the inner via hole when each paste is used. With any of the pastes, it was possible to obtain a low resistance connection in which the specific resistance value was 10 times or less of the specific resistance value of the conductor even though it contained an insulating resin.

【0060】また、図6にヒートサイクル試験(−55
℃〜125℃各30分)の1000サイクルまでのビア
ホール抵抗値の変化を示す。各ペーストのサンプルのビ
アホール抵抗値の変化は初期抵抗値に対して10%以下
であり、ビアホールの信頼性が損なわれていない。特
に、グルシジルエステル系おいては変化率は1%以下で
あり、樹脂が可とう性を有することに起因して熱衝撃に
対し変化が少なく、ビアホール接続信頼性がきわめて良
好であった。
Further, FIG. 6 shows a heat cycle test (-55
The change in via-hole resistance value up to 1000 cycles of 30 ° C. to 125 ° C. for 30 minutes each is shown. The change in the via hole resistance value of each paste sample is 10% or less with respect to the initial resistance value, and the reliability of the via hole is not impaired. In particular, in the glycidyl ester system, the rate of change was 1% or less, the change was small with respect to thermal shock due to the flexibility of the resin, and the via hole connection reliability was extremely good.

【0061】(実施例3)第3の実施例では、第1の実
施例と同様に、直径0.2mmの貫通孔を形成したプリ
プレグに、導電ペーストの金属粒子として平均粒径2μ
mの銅粉を85重量%と、A群(ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂)とB群
(脂環式エポキシ樹脂、アミン型エポキシ樹脂、または
ダイマー酸をグルシジルエステル化したエポキシ樹脂)
の2種類の樹脂をブレンドした総量12重量%と、硬化
剤としてアミンアダクト系硬化剤(MY−24)3重量
%を三本ロールにて混練したものを充填した。表3にビ
アホール充填用ペーストの室温におけるE型粘度計で
0.5rpmの回転で測定したときの粘度を示す。
(Embodiment 3) In the third embodiment, similarly to the first embodiment, a prepreg having a through hole having a diameter of 0.2 mm has an average particle diameter of 2 μm as metal particles of a conductive paste.
85% by weight of copper powder of m, group A (bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin) and group B (alicyclic epoxy resin, amine type epoxy resin, or glycidyl esterified dimer acid) resin)
A total of 12% by weight of the above two kinds of resins blended with each other and 3% by weight of an amine adduct-based curing agent (MY-24) as a curing agent were kneaded with a three-roll mill to fill the mixture. Table 3 shows the viscosity of the paste for filling via holes, which was measured at a room temperature with an E-type viscometer at a rotation of 0.5 rpm.

【0062】[0062]

【表3】 [Table 3]

【0063】このペーストが充填されたプリプレグに、
銅箔102をプリプレグの上下面に張り合わせ、これを
熱プレスを用いてプレス温度180℃、圧力50kg/
cm2で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成し、公
知のエッチング技術を用いて電極パターンを形成した。
A prepreg filled with this paste,
The copper foil 102 is attached to the upper and lower surfaces of the prepreg, and this is heat-pressed at a press temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg /
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressing at 60 cm 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed by using a known etching technique.

【0064】表3にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。いずれのペ
ーストを用いても比抵抗値は絶縁性の樹脂を含んでいな
がらも導体の固有抵抗値の10倍以下である低抵抗の接
続が得られた。
Table 3 shows the connection resistance value of the inner via hole when each paste is used. With any of the pastes, it was possible to obtain a low resistance connection in which the specific resistance value was 10 times or less of the specific resistance value of the conductor even though it contained an insulating resin.

【0065】また、図7にヒートサイクル試験(−55
℃〜125℃各30分)の1000サイクルまでのビア
ホール抵抗値の変化を示す。各ペーストのサンプルのビ
アホール抵抗値の変化は初期抵抗値に対して10%以下
であり、ビアホールの信頼性が損なわれていない。特
に、グルシジルエステル系を混合した系においては、そ
の含有量が50重量%以上では変化率は1%以下であ
り、ビアホール接続信頼性を損なわない。
Further, FIG. 7 shows a heat cycle test (-55
The change in via-hole resistance value up to 1000 cycles of 30 ° C. to 125 ° C. for 30 minutes each is shown. The change in the via hole resistance value of each paste sample is 10% or less with respect to the initial resistance value, and the reliability of the via hole is not impaired. Particularly, in the system in which the glycidyl ester system is mixed, the change rate is 1% or less when the content is 50% by weight or more, and the via hole connection reliability is not impaired.

【0066】(実施例4)第4の実施例では、第1の実
施例と同様に直径0.2mmの貫通孔を形成したプリプ
レグに、導電ペーストの金属粒子として平均粒径2μm
の銀粉または銅粉を75〜92.5重量%と、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂とタイイマー酸をグルシジルエ
ステル化したエポキシ樹脂の重量比を25対75に2種
類の樹脂をブレンドした総量4.5〜22重量%と、硬
化剤としてアミンアダクト硬化剤(MY−24)3重量
%を三本ロールにて混練した。表4にビアホール充填用
ペーストの室温における粘度を示す。
(Embodiment 4) In the fourth embodiment, as in the first embodiment, a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm has an average particle diameter of 2 μm as metal particles of a conductive paste.
75 to 92.5% by weight of silver powder or copper powder, and a total weight of 4.5, in which two kinds of resins are blended in a weight ratio of 25:75 of a bisphenol A type epoxy resin and an epoxy resin obtained by glucidyl esterification of timeric acid. -22% by weight and 3% by weight of an amine adduct curing agent (MY-24) as a curing agent were kneaded with a three-roll mill. Table 4 shows the viscosity of the paste for filling via holes at room temperature.

【0067】[0067]

【表4】 [Table 4]

【0068】このペーストが充填されたプリプレグに、
銅箔102をプリプレグの上下面に張り合わせ、これを
熱プレスを用いてプレス温度180℃、圧力50 kg/cm
2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成し、公知の
エッチング技術を用いて電極パターンを形成した。
A prepreg filled with this paste,
The copper foil 102 is pasted on the upper and lower surfaces of the prepreg, and this is heat-pressed at a press temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0069】表4にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。いずれのペ
ーストを用いても比抵抗値は絶縁性の樹脂を含んでいな
がらも導体の固有抵抗値の10倍以下である低抵抗の接
続が得られた。一方、金属の含有量が80重量%以下で
は、導体金属が不足し、ビアホール抵抗値が大きい。ま
た金属含有量が92重量%以上ではペースト粘度が高く
なりビアホール充填性が困難である。
Table 4 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. With any of the pastes, it was possible to obtain a low resistance connection in which the specific resistance value was 10 times or less of the specific resistance value of the conductor even though it contained an insulating resin. On the other hand, when the metal content is 80% by weight or less, the conductive metal is insufficient and the via hole resistance value is large. Further, when the metal content is 92% by weight or more, the paste viscosity becomes high and the via hole filling property becomes difficult.

【0070】(実施例5)第5の実施例では、第1の実
施例と同様に、直径0.2mmの貫通孔を形成したプリ
プレグに、導電ペーストの金属粒子として平均粒径2μ
mの銀粉または銅粉を85重量%と、ビスフェノールA
型エポキシ樹脂とダイマー酸をグルシジルエステル化し
たエポキシ樹脂の重量比を25対75に2種類の樹脂を
ブレンドした総量12重量%と、硬化剤として3重量%
のジシアンジアミド(DICY7油化シェルエポキシ
製)、または酸無水物(リカシッドMH 新日本理化
製)、アミンアダクト硬化剤(PN−23、MY−24
味の素製)を三本ロールにて混練し、充填した。表5
にビアホール充填用ペーストの室温における粘度と、昇
温速度10℃/分で300℃まで加熱したときのペース
トの揮発量を示す。
(Embodiment 5) In the fifth embodiment, as in the first embodiment, a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm has an average particle diameter of 2 μm as metal particles of a conductive paste.
85% by weight of silver powder or copper powder of m, and bisphenol A
Type epoxy resin and dimer acid glycidyl esterified epoxy resin weight ratio of 25:75, a total amount of 12% by weight of two kinds of resin blended, and 3% by weight as a curing agent
Dicyandiamide (manufactured by DICY7 oily shell epoxy), or acid anhydride (manufactured by RIKACID MH Shin Nihon Rika), amine adduct curing agent (PN-23, MY-24)
(Made by Ajinomoto Co., Inc.) was kneaded with three rolls and filled. Table 5
Shows the viscosity of the paste for filling via holes at room temperature and the volatilization amount of the paste when heated to 300 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min.

【0071】[0071]

【表5】 [Table 5]

【0072】ペーストが充填されたプリプレグに、銅箔
102をプリプレグの上下面に張り合わせ、これを熱プ
レスを用いてプレス温度180℃、圧力50kg/cm
2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成し、公知の
エッチング技術を用いて電極パターンを形成した。
The prepreg filled with the paste is pasted with the copper foil 102 on the upper and lower surfaces of the prepreg, and this is heat-pressed at a press temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0073】表5にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。硬化剤の種
類に関わらず、いずれのペーストを用いても比抵抗値は
絶縁性の樹脂を含んでいながらも導体の固有抵抗値の1
0倍以下である低抵抗の接続が得られた。
Table 5 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. Regardless of the type of curing agent, the specific resistance value is 1 of the specific resistance value of the conductor even if it contains an insulating resin regardless of which paste is used.
A low resistance connection, which is 0 times or less, was obtained.

【0074】(実施例6)第6の実施例では、第1の実
施例と同様に、直径0.2mmの貫通孔を形成したプリ
プレグに、導電ペーストの金属粒子として平均粒径2μ
mの銅粉を85重量%と、ビスフェノールA型エポキシ
樹脂とグルシジルエステル化したエポキシ樹脂の重量比
を25対75に2種類の樹脂をブレンドした総量8〜1
4.5重量%と、硬化剤として0.5〜7重量%の無水
フタル酸、またはアミンアダクト系硬化剤(MY−2
4)を三本ロールにて混練し、これを充填した。表6に
ビアホール充填用ペーストの室温の粘度と、昇温速度1
0℃/分で300℃まで加熱したときのペーストの揮発
量を示す。
(Embodiment 6) In the sixth embodiment, similarly to the first embodiment, a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm has an average particle diameter of 2 μm as metal particles of a conductive paste.
85% by weight of copper powder of m, the weight ratio of the bisphenol A type epoxy resin and the glycidyl esterified epoxy resin is 25:75, and the total amount of the two resins is 8 to 1
4.5% by weight and 0.5 to 7% by weight of phthalic anhydride as a curing agent, or amine adduct type curing agent (MY-2
4) was kneaded with a triple roll and filled. Table 6 shows the viscosity of the paste for filling via holes at room temperature and the heating rate 1
The volatilization amount of the paste when heated to 300 ° C. at 0 ° C./minute is shown.

【0075】[0075]

【表6】 [Table 6]

【0076】ペーストが充填されたプリプレグに、銅箔
102をプリプレグの上下面に張り合わせ、これを熱プ
レスを用いてプレス温度180℃、圧力50kg/cm
2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成し、公知の
エッチング技術を用いて電極パターンを形成した。
The prepreg filled with the paste is laminated with the copper foil 102 on the upper and lower surfaces of the prepreg, and this is heat-pressed at a press temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0077】表6にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。硬化剤の重
量比に関わらず、いずれのペーストを用いても比抵抗値
は絶縁性の樹脂を含んでいながらも導体の固有抵抗値の
10倍以下である低抵抗の接続が得られた。しかしアミ
ンアダクト硬化剤のような固体の粉体では添加量が多く
なるとペースト粘度が高くなり、硬化剤が5重量%を超
える添加ペーストではビアホール充填が困難であり、ま
た酸無水物のような揮発性が大きいものでは、その揮発
量が2重量%を越えるものは基材と電極の膨れにより満
足な両面銅張板が得られない。
Table 6 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. Regardless of the weight ratio of the curing agent, a low resistance connection in which the specific resistance value was not more than 10 times the specific resistance value of the conductor was obtained even though the insulating resin was included, regardless of which paste was used. However, in the case of solid powder such as amine adduct curing agent, the paste viscosity increases as the addition amount increases, and it is difficult to fill via holes with the addition paste containing more than 5% by weight of the curing agent, and volatilization such as acid anhydride occurs. If the amount of volatilization exceeds 2% by weight, a satisfactory double-sided copper clad plate cannot be obtained due to the swelling of the substrate and the electrode.

【0078】(実施例7)第7の実施例では、第1の実
施例と同様に、直径0.2mmの貫通孔を形成したプリ
プレグに、導電ペーストの金属粒子として表面酸素濃度
が異なる平均粒径2μmの銅粉を85重量%と、ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂とグルシジルエステル化した
エポキシ樹脂の重量比を25対75に2種類の樹脂をブ
レンドした総量12重量%と、硬化剤として3重量%の
アミンアダクト硬化剤(MY−24)を三本ロールにて
混練し、これを充填した。表7にビアホール充填用ペー
ストの室温の粘度を示す。
(Embodiment 7) In the seventh embodiment, similarly to the first embodiment, a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm is formed, and the average particle having different surface oxygen concentration is used as the metal particle of the conductive paste. 85% by weight of copper powder having a diameter of 2 μm, 12% by weight of a total of 12% by weight of a bisphenol A type epoxy resin and a glycidyl esterified epoxy resin blended with 25:75, and 3% by weight as a curing agent. % Of the amine adduct curing agent (MY-24) was kneaded with a three-roll and filled. Table 7 shows the viscosity of the paste for filling via holes at room temperature.

【0079】[0079]

【表7】 [Table 7]

【0080】ペーストが充填されたプリプレグに、銅箔
102をプリプレグの上下面に張り合わせ、これを熱プ
レスを用いてプレス温度180℃、圧力50kg/cm
2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成し、公知の
エッチング技術を用いて電極パターンを形成した。
The prepreg filled with the paste is laminated with the copper foil 102 on the upper and lower surfaces of the prepreg, and this is heat-pressed at a press temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0081】表7にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。銅の表面酸
素濃度が1.0重量%以下のペーストでは比抵抗値は絶
縁性の樹脂を含んでいながらも導体の固有抵抗値の10
倍以下である低抵抗の接続が得られた。しかし表面酸素
濃度の増大とともに、インアビアホール接続抵抗が高く
なり、その量が1.0重量%を越えると急激に抵抗値が
増大し導体の固有抵抗値の10倍以下である低抵抗の接
続が得られない。
Table 7 shows the connection resistance value of the inner via hole when each paste is used. With a paste having a surface oxygen concentration of copper of 1.0% by weight or less, the specific resistance value is 10% of the specific resistance value of the conductor even though it contains an insulating resin.
A low resistance connection that is less than double is obtained. However, as the surface oxygen concentration increases, the in-via hole connection resistance increases, and when the amount exceeds 1.0% by weight, the resistance value rapidly increases and a low resistance connection, which is less than 10 times the specific resistance value of the conductor, is established. I can't get it.

【0082】(実施例8)導電ペーストの金属粒子とし
て平均粒径2μmの銅粉を85重量%と、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂とグルシジルエステル化したエポキ
シ樹脂の比を25対75に2種類の樹脂をブレンドした
総量12重量%と、硬化剤として3重量%のアミンアダ
クト硬化剤(MY−24)を三本ロールにて混練したも
のを用いて、接続抵抗を測定するためのパターンが形成
されているアラミド・エポキシ両面基板2枚の間に、上
記のペーストを直径0.2mmの貫通孔を形成したプリ
プレグに充填したアラミド−エポキシプレプレグをはさ
み、これを熱プレスを用いてプレス温度180℃、圧力
50kg/cm2 で60分間加熱加圧して4層プリント
基板を形成した。
Example 8 85% by weight of copper powder having an average particle size of 2 μm was used as the metal particles of the conductive paste, and the ratio of the bisphenol A type epoxy resin to the glycidyl esterified epoxy resin was set to 25:75. A total of 12% by weight of the resin blended with 3% by weight of an amine adduct curing agent (MY-24) as a curing agent was kneaded with a three-roll mill to form a pattern for measuring connection resistance. An aramid-epoxy prepreg in which the above paste is filled in a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm is sandwiched between two aramid / epoxy double-sided substrates, and the temperature is 180 ° C. using a hot press. A 4-layer printed circuit board was formed by heating and pressurizing at a pressure of 50 kg / cm 2 for 60 minutes.

【0083】4層基板の2,3層間に形成されたインナ
ビアホールの接続抵抗は、実施例1と同様の抵抗値を示
した。同様に6層プリント基板においても、4層と同じ
接続抵抗値で、同様の信頼性が得られた。
The connection resistance of the inner via hole formed between the second and third layers of the four-layer substrate showed the same resistance value as in Example 1. Similarly, also in the 6-layer printed circuit board, similar reliability was obtained with the same connection resistance value as the 4 layers.

【0084】また、上記のペーストを用いて実施例1と
同様の方法にて作製したアラミド・エポキシ両面基板1
枚の両側に、上記のペーストを直径0.2mmの貫通孔
を形成したプリプレグに充填した2枚のアラミド−エポ
キシプレプレグをはさみ、これを熱プレスを用いてプレ
ス温度180℃、圧力50kg/cm2 で60分間加熱
加圧して4層プリント基板を形成した方法においても、
同等のビアホールの接続抵抗が得られた。さらにこの方
法を用いて作製した6層プリント基板においても、同様
の信頼性が得られた。
Further, an aramid-epoxy double-sided board 1 produced by the same method as in Example 1 using the above paste.
On both sides of the sheet, two aramid-epoxy prepregs in which the above paste was filled in a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm were sandwiched, and this was pressed using a hot press at a press temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm. Even in the method of forming a 4-layer printed circuit board by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes,
An equivalent via hole connection resistance was obtained. Further, similar reliability was obtained also in a 6-layer printed circuit board manufactured by using this method.

【0085】また実施例1と同様の方法にて作製したア
ラミド・エポキシ両面基板の代わりに回路形成されたセ
ラミック基板を用いても同様のビアホール接続抵抗の信
頼性が得られた。
Similar reliability of via-hole connection resistance was obtained by using a circuit-formed ceramic substrate instead of the aramid-epoxy double-sided substrate produced by the same method as in Example 1.

【0086】(実施例9)本発明の第9の実施例では図
1に示すようにプリプレグとしては200μmの厚みの
アラミド・エポキシシート(帝人(株)製TA−01)
を使用し、このプリプレグの片面に厚み20μmのポリ
エチレンテレフタレートフィルムを接着剤を用いて張り
合わせ、ドリルを用いてこの基材に直径0.2mmの貫
通孔を形成した。
(Embodiment 9) In a ninth embodiment of the present invention, as shown in FIG. 1, an aramid epoxy sheet (TA-01 manufactured by Teijin Ltd.) having a thickness of 200 μm as a prepreg.
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 μm was attached to one surface of the prepreg using an adhesive, and a through hole having a diameter of 0.2 mm was formed in the base material using a drill.

【0087】この貫通孔にビアホール充填用ペーストと
して、銀、金、銅、ニッケルの球形状ならびにフレーク
形状の金属粒子85重量%と、樹脂組成としてビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂(エピコート828 油化シェ
ルエポキシ製)3重量%とダイマー酸をグルシジルエス
テル化したエポキシ樹脂(YD−171 東都化成製)
9重量%、硬化剤としてアミンアダクト硬化剤(MY−
24 味の素製)3重量%および分散剤として金属、樹
脂、硬化剤の総重量に対して0.01〜2.0重量%の
ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル(非イオ
ン界面活性剤”ソルゲン”TW 第一工業製薬製)、リ
ン酸エステル(陰イオン界面活性剤”プライサーフ”
第一工業製薬製)、陽イオン界面活性剤”カチオーゲ
ン”(第一工業製薬製)を、三本ロールにて混練したも
のを充填した。表8に金属粒子の形状、平均粒径、比表
面積および分散剤の種類と配合量(重量%)とビアホー
ル充填用ペーストの室温におけるE型粘度計で0.5r
pm時の粘度示す。
As a paste for filling a via hole in this through hole, 85 wt% of silver, gold, copper, nickel spherical and flake-shaped metal particles, and a resin composition of bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828 oil-made shell epoxy ) Epoxy resin obtained by converting 3% by weight of dimer acid into glycidyl ester (YD-171 manufactured by Tohto Kasei)
9% by weight, amine adduct curing agent (MY-
24 Ajinomoto) 3% by weight and 0.01 to 2.0% by weight relative to the total weight of metal, resin and curing agent as a dispersant, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester (nonionic surfactant "Sorgen" TW No. Ichigo Pharmaceutical Co., Ltd., phosphoric acid ester (anionic surfactant "Prysurf")
(Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) and a cationic surfactant "Cathiogen" (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) were kneaded with a three-roll mill and filled. Table 8 shows the shape of metal particles, average particle diameter, specific surface area, kind and amount of dispersant (% by weight), and 0.5 r of the via hole filling paste at room temperature with an E-type viscometer.
The viscosity at pm is shown.

【0088】[0088]

【表8】 [Table 8]

【0089】ペーストが充填されたプリプレグに、35
μmの銅箔102をプリプレグの上下面に張り合わせ、
これを熱プレスを用いてプレス温度180℃、圧力50
kg/cm2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成
した。
The prepreg filled with the paste, 35
The copper foil 102 of μm is attached to the upper and lower surfaces of the prepreg,
Using a hot press, this is pressed at a temperature of 180 ° C. and a pressure of 50.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressing at 60 kg / cm 2 for 60 minutes.

【0090】本発明の請求項の範囲外であるペースト粘
度が2,000Pa・sec以上のものは高粘度のため
ビアホールへの充填作業性が困難である。以上のような
方法を用いて形成した両面銅張板を公知のエッチング技
術を用いて電極パターンを形成した。
When the paste viscosity is out of the scope of the claims of the present invention and the paste viscosity is 2,000 Pa · sec or more, the workability of filling the via hole is difficult because of the high viscosity. An electrode pattern was formed on the double-sided copper clad plate formed by the above method by using a known etching technique.

【0091】表8にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。いずれのペ
ーストを用いても比抵抗値は絶縁性の樹脂を含んでいな
がらも導体の固有抵抗値の10倍以下である低抵抗の接
続が得られた。ここで実施例で用いた金属のそれぞれの
固有抵抗値は、銀(1.6×10-6Ωcm)、金(2.
3×10-6Ωcm)、銅(1.7×10-6Ωcm)、ニ
ッケル(6.8×10-6Ωcm)である。
Table 8 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. With any of the pastes, it was possible to obtain a low resistance connection in which the specific resistance value was 10 times or less of the specific resistance value of the conductor even though it contained an insulating resin. The specific resistance values of the metals used in the examples are silver (1.6 × 10 −6 Ωcm) and gold (2.
3 × 10 −6 Ωcm), copper (1.7 × 10 −6 Ωcm), and nickel (6.8 × 10 −6 Ωcm).

【0092】また、図8にE型粘度計にて回転数を変え
てペーストにシェアをかけたときのペースト粘度変化に
ついて示す。ペーストとしては、シェアのない状態より
印刷時の高シェア下で粘度が低下するものが、ペースト
の充填性として望ましい。分散剤を添加しないものは、
シェアをかけると粘度が増大し、ペースト充填が難し
い。それに対して分散剤を添加したものは、高シェア時
には粘度の上昇は少なく、また添加量が0.5重量部を
越えるものは、高シェア下において粘度が低下して、充
填が容易となる。しかし、分散剤の添加量が2.0重量
%以上では、金属粒子の接続を阻害し、ビア接続抵抗が
上昇した。
FIG. 8 shows a change in paste viscosity when shearing is applied to the paste by changing the number of revolutions with an E-type viscometer. As the paste, a paste whose viscosity decreases under high shear during printing as compared with the state without shear is desirable as the filling property of the paste. Those that do not add a dispersant,
When the shear is applied, the viscosity increases, making it difficult to fill the paste. On the other hand, when the dispersant is added, the viscosity does not increase at a high share, and when the amount added exceeds 0.5 part by weight, the viscosity decreases at a high share, and the filling becomes easy. However, when the amount of the dispersant added was 2.0% by weight or more, the connection of metal particles was hindered and the via connection resistance increased.

【0093】(実施例10)第9の実施例と同様に、第
10の実施例では、直径0.2mmの貫通孔を形成した
プリプレグに、導電ペーストの金属粒子として平均粒径
2μmの銅粉を85重量%と、樹脂として12重量%の
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型
エポキシ樹脂(エピコート807 油化シェルエポキシ
製)、脂環式エポキシ樹脂(ST−1000 東都化成
製)、アミン型エポキシ樹脂(ELN−125 住友化
学工業製)、またはダイマー酸をグルシジルエステル化
したエポキシ樹脂、硬化剤としてアミンアダクト硬化剤
(PN−23 味の素製)3重量%および分散剤とし
て、金属、樹脂、硬化剤の総重量に対して0.2重量%
のリン酸エステル(プライサーフ 第一工業製薬製)を
三本ロールにて混練し、これを充填した。表9にビアホ
ール充填用ペーストの室温における粘度と、昇温速度1
0℃/分で300℃まで加熱したときのペーストの重量
減すなわち揮発量を示す。揮発量はいずれのペーストに
おいても2重量%以下であり、基板作製時の膨れは見あ
たらない。
(Embodiment 10) Similar to the ninth embodiment, in the tenth embodiment, a copper powder having an average particle diameter of 2 μm is used as a metal particle of a conductive paste in a prepreg having a through hole having a diameter of 0.2 mm. Of 85% by weight and 12% by weight of bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin (Epicote 807 made by Yuka Shell Epoxy), alicyclic epoxy resin (ST-1000 manufactured by Toto Kasei), amine type epoxy Resin (ELN-125 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) or epoxy resin obtained by glucidyl esterification of dimer acid, 3% by weight of amine adduct curing agent (PN-23 manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) as a curing agent, and metal, resin, curing as a dispersant. 0.2% by weight based on the total weight of the agent
Of the phosphoric acid ester (produced by PRYSURF Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) was kneaded with a triple roll and filled. Table 9 shows the viscosity of the paste for filling via holes at room temperature and the heating rate 1
The weight loss of the paste, ie, the amount of volatilization, when heated to 300 ° C. at 0 ° C./minute is shown. The volatilization amount was 2% by weight or less in any of the pastes, and no swelling was found during the production of the substrate.

【0094】[0094]

【表9】 [Table 9]

【0095】穴開け加工を施したプリプレグにこのペー
ストを充填した後、銅箔102をプリプレグの上下面に
張り合わせ、これを熱プレスを用いてプレス温度180
℃、圧力50kg/cm2 で60分間加熱加圧して両面
銅張板を形成し、公知のエッチング技術を用いて電極パ
ターンを形成した。
After filling this paste in a prepreg that has been subjected to perforation processing, copper foil 102 is attached to the upper and lower surfaces of the prepreg and this is pressed at a pressing temperature of 180 using a hot press.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 50 ° C. and a pressure of 50 kg / cm 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0096】表9にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。いずれのペ
ーストを用いても比抵抗値は絶縁性の樹脂を含んでいな
がらも導体の固有抵抗値の10倍以下である低抵抗の接
続が得られた。
Table 9 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. With any of the pastes, it was possible to obtain a low resistance connection in which the specific resistance value was 10 times or less of the specific resistance value of the conductor even though it contained an insulating resin.

【0097】(実施例11)第11の実施例では、第8
の実施例と同様に、直径0.2mmの貫通孔を形成した
プリプレグに、導電ペーストの金属粒子として平均粒径
2μmの銅粉を85重量%と、A群(ビスフェノールA
型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂)と
B群(脂環式エポキシ樹脂、アミン型エポキシ樹脂、ま
たはダイマー酸をグルシジルエステル化したエポキシ樹
脂)の2種類の樹脂をブレンドした総量12重量%と、
硬化剤としてアミンアダクト系硬化剤(MY−24)3
重量%および分散剤として、金属、樹脂、硬化剤の総重
量に対して0.2重量%のリン酸エステル(プライサー
フ 第一工業製薬製)を三本ロールにて混練したものを
充填した。表10にビアホール充填用ペーストの室温に
おけるE型粘度計で0.5RPSの時の粘度を示す。
(Embodiment 11) In the eleventh embodiment, the eighth
In the same manner as in the above example, 85% by weight of copper powder having an average particle size of 2 μm as metal particles of the conductive paste was added to a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm.
Type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin) and Group B (alicyclic epoxy resin, amine type epoxy resin, or epoxy resin obtained by glucidyl esterification of dimer acid), and the total amount is 12% by weight. ,
Amine adduct type curing agent (MY-24) 3 as a curing agent
As a weight% and as a dispersant, 0.2 wt% of a phosphoric acid ester (manufactured by PRYSURF Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) with respect to the total weight of the metal, the resin and the curing agent was kneaded by a three-roll mill and filled. Table 10 shows the viscosity of the paste for filling via holes at room temperature when measured with an E-type viscometer at 0.5 RPS.

【0098】[0098]

【表10】 [Table 10]

【0099】このペーストが充填されたプリプレグに、
銅箔102をプリプレグの上下面に張り合わせ、これを
熱プレスを用いてプレス温度180℃、圧力50 kg/cm
2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成し、公知の
エッチング技術を用いて電極パターンを形成した。
A prepreg filled with this paste,
The copper foil 102 is pasted on the upper and lower surfaces of the prepreg, and this is heat-pressed at a press temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0100】表10にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。いずれのペ
ーストを用いても比抵抗値は絶縁性の樹脂を含んでいな
がらも導体の固有抵抗値の10倍以下である低抵抗の接
続が得られた。
Table 10 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. With any of the pastes, it was possible to obtain a low resistance connection in which the specific resistance value was 10 times or less of the specific resistance value of the conductor even though it contained an insulating resin.

【0101】(実施例12)第12の実施例では、第8
の実施例と同様に直径0.2mmの貫通孔を形成したプ
リプレグに、導電ペーストの金属粒子として平均粒径2
μmの銀粉または銅粉を75〜92.5重量%と、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂とダイマー酸をグルシジル
エステル化したエポキシ樹脂の重量比を25対75に2
種類の樹脂をブレンドした総量4.5〜22重量%と、
硬化剤としてアミンアダクト硬化剤(MY−24)3重
量%および分散剤として、金属、樹脂、硬化剤の総重量
に対して0.2重量%のリン酸エステル(プライサーフ
第一工業製薬製)を三本ロールにて混練した。表11
にビアホール充填用ペーストの室温における粘度を示
す。
(Embodiment 12) In the twelfth embodiment, the eighth embodiment
In the same manner as in the above example, a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm was formed.
75 to 92.5% by weight of silver powder or copper powder of μm, and the weight ratio of the bisphenol A type epoxy resin and the epoxy resin obtained by converting dimer acid into glycidyl ester is 25:75.
4.5 to 22% by weight of a total of 4.5 to 22 kinds of resins blended,
3% by weight of an amine adduct curing agent (MY-24) as a curing agent and 0.2% by weight of a phosphoric acid ester (Prysurf Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) based on the total weight of metal, resin and curing agent as a dispersant. Was kneaded with three rolls. Table 11
Shows the viscosity of the via hole filling paste at room temperature.

【0102】[0102]

【表11】 [Table 11]

【0103】このペーストが充填されたプリプレグに、
銅箔102をプリプレグの上下面に張り合わせ、これを
熱プレスを用いてプレス温度180℃、圧力50 kg/cm
2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成し、公知の
エッチング技術を用いて電極パターンを形成した。
A prepreg filled with this paste,
The copper foil 102 is pasted on the upper and lower surfaces of the prepreg, and this is heat-pressed at a press temperature of 180 ° C and a pressure of 50 kg / cm
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0104】表11にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。いずれのペ
ーストを用いても比抵抗値は絶縁性の樹脂を含んでいな
がらも導体の固有抵抗値の10倍以下である低抵抗の接
続が得られが、本発明の請求の範囲外の組成において
は、金属の含有量が80重量%以下では、導体金属が不
足し、ビアホール抵抗値が大きい。また金属含有量が9
2.5重量%以上ではペースト粘度が高くなりビアホー
ル充填性が困難である。
Table 11 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. Any of the pastes can be used to obtain a low resistance connection in which the specific resistance value is 10 times or less of the specific resistance value of the conductor even though the insulating resin is included, but the composition outside the scope of the claims of the present invention is obtained. When the metal content is 80% by weight or less, the conductor metal is insufficient and the via hole resistance value is large. The metal content is 9
When it is 2.5% by weight or more, the paste viscosity becomes high and the via hole filling property becomes difficult.

【0105】(実施例13)第13の実施例では、第8
の実施例と同様に、直径0.2mmの貫通孔を形成した
プリプレグに、導電ペーストの金属粒子として平均粒径
2μmの銀粉または銅粉を85重量%と、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂とダイマー酸をグルシジルエステル
化したエポキシ樹脂の重量比を25対75に2種類の樹
脂をブレンドした総量12重量%と、硬化剤として3重
量%のジシアンジアミド(DICY7油化シェルエポキ
シ製)、または酸無水物(リカシッドMH 新日本理化
製)、アミンアダクト硬化剤(PN−23、MY−24
味の素製)および分散剤として、金属、樹脂、硬化剤
の総重量に対して0.2重量%のリン酸エステル(プラ
イサーフ 第一工業製薬製)を三本ロールにて混練し、
充填した。表12にビアホール充填用ペーストの室温
(25℃)における粘度と、昇温速度10℃/分で30
0℃まで加熱したときのペーストの揮発量を示す。
(Embodiment 13) In the thirteenth embodiment, the eighth embodiment
In the same manner as in Example 1, 85 wt% of silver powder or copper powder having an average particle size of 2 μm as metal particles of the conductive paste, bisphenol A type epoxy resin and dimer acid were added to a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm. The total weight of the glycidyl esterified epoxy resin is 25:75, and the total amount is 12% by weight, and 3% by weight of dicyandiamide (made by DICY7 oil shell epoxy) or acid anhydride ( RIKACID MH, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., amine adduct curing agent (PN-23, MY-24)
Ajinomoto) and as a dispersant, a metal, resin, 0.2% by weight phosphoric acid ester (Prysurf Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) based on the total weight of the curing agent is kneaded with a triple roll,
Filled. Table 12 shows the viscosity of the via hole filling paste at room temperature (25 ° C.) and the viscosity at a temperature rising rate of 10 ° C./min.
The volatile amount of the paste when heated to 0 ° C is shown.

【0106】[0106]

【表12】 [Table 12]

【0107】ペーストが充填されたプリプレグに、銅箔
102をプリプレグの上下面に張り合わせ、これを熱プ
レスを用いてプレス温度180℃、圧力50kg/cm
2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成し、公知の
エッチング技術を用いて電極パターンを形成した。
The copper foil 102 was adhered to the upper and lower surfaces of the prepreg with the paste-filled prepreg, and this was pressed using a hot press at a pressing temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0108】表12にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。硬化剤の種
類に関わらず、いずれのペーストを用いても比抵抗値は
絶縁性の樹脂を含んでいながらも導体の固有抵抗値の1
0倍以下である低抵抗の接続が得られた。
Table 12 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. Regardless of the type of curing agent, the specific resistance value is 1 of the specific resistance value of the conductor even if it contains an insulating resin regardless of which paste is used.
A low resistance connection, which is 0 times or less, was obtained.

【0109】(実施例14)第14の実施例では、第8
の実施例と同様に、直径0.2mmの貫通孔を形成した
プリプレグに、導電ペーストの金属粒子として平均粒径
2μmの銅粉を85重量%と、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂とダイマー酸をグルシジルエステル化した系エ
ポキシ樹脂の重量比を25対75に2種類の樹脂をブレ
ンドした総量8〜14.5重量%と、硬化剤として0.
5〜7重量%の無水フタル酸、またはアミンアダクト系
硬化剤(MY−24)および分散剤として、金属、樹
脂、硬化剤の総重量に対して0.2重量%のリン酸エス
テル(プライサーフ 第一工業製薬製)を三本ロールに
て混練し、これを充填した。表13にビアホール充填用
ペーストの室温の粘度と、昇温速度10℃/分で300
℃まで加熱したときのペーストの揮発量を示す。
(Embodiment 14) In the fourteenth embodiment, the eighth
In the same manner as in the above Example, 85 wt% of copper powder having an average particle size of 2 μm as metal particles of the conductive paste, bisphenol A type epoxy resin and dimer acid were glucidyl in a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm. The total weight of the esterified epoxy resin was 25 to 75, and the total amount was 8 to 14.5% by blending two kinds of resins.
5 to 7% by weight of phthalic anhydride or amine adduct type curing agent (MY-24) and, as a dispersant, 0.2% by weight of phosphoric acid ester (plysurf) based on the total weight of metal, resin and curing agent. (Manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) was kneaded with three rolls and filled. Table 13 shows the viscosity of the paste for filling via holes at room temperature and the temperature rise rate of 10 ° C./min.
The volatile amount of the paste when heated to ℃ is shown.

【0110】[0110]

【表13】 [Table 13]

【0111】ペーストが充填されたプリプレグに、銅箔
102をプリプレグの上下面に張り合わせ、これを熱プ
レスを用いてプレス温度180℃、圧力50kg/cm
2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成し、公知の
エッチング技術を用いて電極パターンを形成した。
The copper foil 102 was pasted on the upper and lower surfaces of the prepreg filled with the paste, and the prepreg was heat-pressed at a pressing temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0112】表13にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。硬化剤の重
量比に関わらず、いずれのペーストを用いても比抵抗値
は絶縁性の樹脂を含んでいながらも導体の固有抵抗値の
10倍以下である低抵抗の接続が得られた。しかしアミ
ンアダクト硬化剤のような固体の粉体では添加量が多く
なるとペースト粘度が高くなり、硬化剤が5重量%を超
える添加ペーストではビアホール充填が困難であり、ま
た酸無水物のような揮発性が大きいものでは、その揮発
量が2重量%を越えるものは基材と電極の膨れにより満
足な両面銅張板が得られない。
Table 13 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. Regardless of the weight ratio of the curing agent, a low resistance connection in which the specific resistance value was not more than 10 times the specific resistance value of the conductor was obtained even though the insulating resin was included, regardless of which paste was used. However, in the case of solid powder such as amine adduct curing agent, the paste viscosity increases as the addition amount increases, and it is difficult to fill via holes with the addition paste containing more than 5% by weight of the curing agent, and volatilization such as acid anhydride occurs. If the amount of volatilization exceeds 2% by weight, a satisfactory double-sided copper clad plate cannot be obtained due to the swelling of the substrate and the electrode.

【0113】(実施例15)第15の実施例では、第8
の実施例と同様に、直径0.2mmの貫通孔を形成した
プリプレグに、導電ペーストの金属粒子として表面酸素
濃度が異なる平均粒径2μmの銅粉を85重量%と、ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂とダイマー酸をグルシジ
ルエステル化した系エポキシ樹脂の比を25対75に2
種類の樹脂をブレンドした総量12重量%と、硬化剤と
して3重量%のアミンアダクト硬化剤(MY−24)お
よび分散剤として、金属、樹脂、硬化剤の総重量に対し
て0.2重量%のリン酸エステル(プライサーフ 第一
工業製薬製)を三本ロールにて混練し、これを充填し
た。表14にビアホール充填用ペーストの室温の粘度を
示す。
(Embodiment 15) In the fifteenth embodiment, the eighth embodiment
In the same manner as in the above Example, 85 wt% of copper powder having an average particle diameter of 2 μm having different surface oxygen concentrations as metal particles of a conductive paste was added to a prepreg having a through hole having a diameter of 0.2 mm, and a bisphenol A type epoxy resin. The ratio of glycidyl esterified dimer acid epoxy resin is 25:75 to 2
A total of 12% by weight of various kinds of resins blended, 3% by weight of amine adduct curing agent (MY-24) as a curing agent and 0.2% by weight with respect to the total weight of metal, resin and curing agent as a dispersant. Of the phosphoric acid ester (produced by PRYSURF Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) was kneaded with a triple roll and filled. Table 14 shows the viscosity of the paste for filling via holes at room temperature.

【0114】[0114]

【表14】 [Table 14]

【0115】ペーストが充填されたプリプレグに、銅箔
102をプリプレグの上下面に張り合わせ、これを熱プ
レスを用いてプレス温度180℃、圧力50kg/cm
2 で60分間加熱加圧して両面銅張板を形成し、公知の
エッチング技術を用いて電極パターンを形成した。
The copper foil 102 was attached to the upper and lower surfaces of the prepreg with the paste-filled prepreg, and this was pressed using a hot press at a pressing temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm.
A double-sided copper clad plate was formed by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes, and an electrode pattern was formed using a known etching technique.

【0116】表14にそれぞれのペーストを用いたとき
の、インナビアホールの接続抵抗値を示す。銅の表面酸
素濃度が1.0重量%以下のペーストでは比抵抗値は絶
縁性の樹脂を含んでいながらも導体の固有抵抗値の10
倍以下である低抵抗の接続が得られた。しかし表面酸素
濃度の増大とともに、インアビアホール接続抵抗が高く
なり、その量が1.0重量%を越えると急激に抵抗値が
増大し導体の固有抵抗値の10倍以下である低抵抗の接
続が得られない。
Table 14 shows the connection resistance values of the inner via holes when the respective pastes were used. With a paste having a surface oxygen concentration of copper of 1.0% by weight or less, the specific resistance value is 10% of the specific resistance value of the conductor even though it contains an insulating resin.
A low resistance connection that is less than double is obtained. However, as the surface oxygen concentration increases, the in-via hole connection resistance increases, and when the amount exceeds 1.0% by weight, the resistance value rapidly increases and a low resistance connection, which is less than 10 times the specific resistance value of the conductor, is established. I can't get it.

【0117】(実施例16)導電ペーストの金属粒子と
して平均粒径2μmの銅粉を85重量%と、ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂とダイマー酸をグルシジルエステ
ル化したエポキシ樹脂の比を25対75に2種類の樹脂
をブレンドした総量12重量%と、硬化剤として3重量
%のアミンアダクト硬化剤(MY−24)および分散剤
として、金属、樹脂、硬化剤の総重量に対して0.2重
量%のリン酸エステル(プライサーフ第一工業製薬製)
を三本ロールにて混練したものを用いて、接続抵抗を測
定するためのパターンが形成されているアラミド・エポ
キシ両面基板2枚の間に、上記のペーストを直径0.2
mmの貫通孔を形成したプリプレグに充填したアラミド
−エポキシプレプレグをはさみ、これを熱プレスを用い
てプレス温度180℃、圧力50kg/cm2 で60分
間加熱加圧して4層プリント基板を形成した。
Example 16 85% by weight of copper powder having an average particle size of 2 μm was used as the metal particles of the conductive paste, and the ratio of the bisphenol A type epoxy resin and the epoxy resin obtained by glucidyl esterification of dimer acid was adjusted to 25:75. A total of 12% by weight of two kinds of resins blended, 3% by weight of an amine adduct curing agent (MY-24) as a curing agent and 0.2% by weight with respect to the total weight of metal, resin and curing agent as a dispersant. % Phosphoric acid ester (Prysurf Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
Was kneaded with a three-roll mill, and the above paste was applied to a diameter of 0.2 between two aramid / epoxy double-sided boards on which a pattern for measuring the connection resistance was formed.
A aramid-epoxy prepreg filled in a prepreg having mm through holes is sandwiched, and this is heated and pressed at a press temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm 2 for 60 minutes using a hot press to form a four-layer printed board. .

【0118】4層基板の2,3層間に形成されたインナ
ビアホールの接続抵抗は、実施例1と同様の抵抗値を示
した。同様に6層プリント基板においても、4層と同じ
接続抵抗値で、同様の信頼性が得られた。
The connection resistance of the inner via hole formed between the second and third layers of the four-layer substrate showed the same resistance value as in Example 1. Similarly, also in the 6-layer printed circuit board, similar reliability was obtained with the same connection resistance value as the 4 layers.

【0119】また、上記のペーストを用いて実施例8と
同様の方法にて作製したアラミド・エポキシ両面基板1
枚の両側に、上記のペーストを直径0.2mmの貫通孔
を形成したプリプレグに充填した2枚のアラミド−エポ
キシプレプレグをはさみ、これを熱プレスを用いてプレ
ス温度180℃、圧力50kg/cm2 で60分間加熱
加圧して4層プリント基板を形成した方法においても、
同等のビアホールの接続抵抗が得られた。さらにこの方
法を用いて作製した6層プリント基板においても、同様
の信頼性が得られた。
Further, an aramid-epoxy double-sided board 1 produced by the same method as in Example 8 using the above paste.
On both sides of the sheet, two aramid-epoxy prepregs in which the above paste was filled in a prepreg having a through hole with a diameter of 0.2 mm were sandwiched, and this was pressed using a hot press at a press temperature of 180 ° C. and a pressure of 50 kg / cm. Even in the method of forming a 4-layer printed circuit board by heating and pressurizing at 2 for 60 minutes,
An equivalent via hole connection resistance was obtained. Further, similar reliability was obtained also in a 6-layer printed circuit board manufactured by using this method.

【0120】また実施例8と同様の方法にて作製したア
ラミド・エポキシ両面基板の代わりに回路形成されたセ
ラミック基板を用いても同様のビアホール接続抵抗の信
頼性が得られた。
Similar reliability of via-hole connection resistance was obtained by using a circuit-formed ceramic substrate instead of the aramid-epoxy double-sided substrate produced by the same method as in Example 8.

【0121】[0121]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明のビアホ
ール充填用ペーストを用いた両面プリント基板とその形
成方法およびそれを用いた多層基板によればスルーホー
ルメッキ技術を用いることなく簡便にインナ・ヴァイア
・ホールを備えた両面プリント基板を実現することがで
き、その多層化も容易に実現することができる。
As described above, according to the double-sided printed circuit board using the paste for filling via holes of the present invention, the method for forming the same, and the multilayer board using the same, it is possible to simply and easily use an inner layer without using a through-hole plating technique.・ A double-sided printed circuit board with via holes can be realized, and its multilayer structure can be easily realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例における両面プリント基板を示
す構造断面図
FIG. 1 is a structural cross-sectional view showing a double-sided printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施例における両面プリント基板の形成方法
の工程図
FIG. 2 is a process diagram of a method for forming a double-sided printed circuit board in the example.

【図3】同実施例における多層プリント基板の形成方法
の工程図
FIG. 3 is a process diagram of a method for forming a multilayer printed circuit board according to the same embodiment.

【図4】同実施例における多層プリント基板の他の形成
方法の工程図
FIG. 4 is a process diagram of another method for forming a multilayer printed board according to the embodiment.

【図5】同実施例におけるプリント基板に用いた導電性
粒子の構造図
FIG. 5 is a structural diagram of conductive particles used for the printed circuit board in the example.

【図6】同実施例におけるプリント基板に各エポキシ樹
脂を含むペーストで作製したビアホール接続抵抗値のヒ
ートサイクル試験における変化と試験回数の関係を示す
FIG. 6 is a diagram showing a relationship between a change in a via hole connection resistance value produced by a paste containing each epoxy resin on a printed circuit board in the same example in a heat cycle test and the number of tests.

【図7】同実施例におけるプリント基板に配合組成が異
なるエポキシ樹脂を含むペーストで作製したビアホール
接続抵抗値のヒートサイクル試験における変化と試験回
数の関係を示す図
FIG. 7 is a diagram showing a relationship between a change in a via-hole connection resistance value and a number of times of tests in a heat cycle test, which are prepared by using a paste containing an epoxy resin having a different composition in the printed circuit board in the example.

【図8】同実施例における分散剤とその添加量の異なる
ペーストのE型粘度計における回転数(シェア)と粘度
の関係を示す図
FIG. 8 is a diagram showing a relationship between a rotational speed (share) and a viscosity of an E-type viscometer of a dispersant and a paste having a different addition amount in the same example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 積層基材 102 加工後の銅箔 103 導電粒子 104 両面プリント基板 201 加熱加圧前の積層基材 202 銅箔 203 導電粒子 501 核 502 導電性材料 101 laminated base material 102 copper foil after processing 103 conductive particles 104 double-sided printed circuit board 201 laminated base material before heating and pressurization 202 copper foil 203 conductive particles 501 nucleus 502 conductive material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08J 5/04 CFC 7310−4F 5/24 CFC 7310−4F C08K 3/08 C08L 63/00 NKU C09D 5/34 PRC H01B 1/00 H 7244−5G H05K 1/03 D 7011−4E 1/11 N 7511−4E 3/40 K 7511−4E 3/46 N 6921−4E S 6921−4E T 6921−4E (72)発明者 中谷 誠一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 小川 立夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 末広 雅利 京都府京都市西京区川島栗田町50−8 (72)発明者 祝迫 浩一 京都府宇治市小倉町西山48−29 (72)発明者 秋山 英男 京都府京都市伏見区深草西浦町4−81 メ ゾン深草210号─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C08J 5/04 CFC 7310-4F 5/24 CFC 7310-4F C08K 3/08 C08L 63/00 NKU C09D 5/34 PRC H01B 1/00 H 7244-5G H05K 1/03 D 7011-4E 1/11 N 7511-4E 3/40 K 7511-4E 3/46 N 6921-4E S 6921-4E T 6921-4E ( 72) Inventor Seiichi Nakatani 1006, Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Tatsuo Ogawa, 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor, Suehiro Gauri Kyoto Prefecture 50-8 Kawashima Kurita-cho, Nishikyo-ku, Kyoto (72) Inventor Koichi Kousaku 48-29 Nishiyama, Ogura-machi, Uji-shi, Kyoto (72) Hideo Akiyama 4-8 Fukakusa-Nishiura-cho, Fushimi-ku, Kyoto-shi, Kyoto 1 Maison Fukakusa No. 210

Claims (35)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(a)平均粒径が0.5〜20μmで、そ
の比表面積が0.1〜1.5m2 /gの導体フィラー8
0〜92重量%、(b)常温粘度15Pa・sec以下
で2ヶ以上のエポキシ基を含有した液状エポキシ樹脂
4.5〜20重量%、(c)硬化剤0.5〜5重量%か
らなる組成物であって、その粘度が2,000Pa・s
ec以下でかつ揮発量が2.0重量%以下であることを
特徴とするビアホール充填用導体ペースト組成物。
1. A conductive filler 8 having an average particle size of 0.5 to 20 μm and a specific surface area of 0.1 to 1.5 m 2 / g.
0 to 92% by weight, (b) 4.5 to 20% by weight of liquid epoxy resin containing 2 or more epoxy groups at room temperature viscosity of 15 Pa · sec or less, and (c) 0.5 to 5% by weight of curing agent. A composition having a viscosity of 2,000 Pa · s
A conductor paste composition for filling via holes, which has an ec or less and a volatilization amount of 2.0 wt% or less.
【請求項2】前記(a)〜(c)の組成物100重量部
に対し、さらに分散剤を0.01〜1.5重量%含有す
る請求項1に記載のビアホール充填用導体ペースト組成
物。
2. The via-hole-filling conductor paste composition according to claim 1, further comprising 0.01 to 1.5% by weight of a dispersant based on 100 parts by weight of the compositions (a) to (c). .
【請求項3】導体フィラーが、金、銀、パラジウム、
銅、ニッケル、錫、鉛から選ばれる少なくとも一つの微
粒子である請求項1に記載のビアホール充填用導体ペー
スト組成物。
3. The conductor filler is gold, silver, palladium,
The conductor paste composition for filling via holes according to claim 1, which is at least one fine particle selected from copper, nickel, tin, and lead.
【請求項4】導体フィラーが、その表面酸素濃度が1.
0重量%以下の銅である請求項1または2に記載のビア
ホール充填用導体ペースト組成物。
4. The conductor filler has a surface oxygen concentration of 1.
The via-hole-filling conductor paste composition according to claim 1 or 2, which comprises 0% by weight or less of copper.
【請求項5】エポキシ樹脂が、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、脂環式エ
ポキシ樹脂、アミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステ
ル化エポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一つの液状エ
ポキシ樹脂である請求項1に記載のビアホール充填用導
体ペースト組成物。
5. The epoxy resin is at least one liquid epoxy resin selected from bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, amine type epoxy resin and glycidyl esterified epoxy resin. The conductor paste composition for filling via holes according to 1.
【請求項6】液状エポキシ樹脂が、ダイマー酸をグリシ
ジルエステル化したエポキシ樹脂を10重量%以上含有
する請求項1または2に記載のビアホール充填用導体ペ
ースト組成物。
6. The conductor paste composition for filling via holes according to claim 1, wherein the liquid epoxy resin contains 10% by weight or more of an epoxy resin obtained by converting dimer acid into glycidyl ester.
【請求項7】液状エポキシ樹脂が、ビスフェノールA及
びビスフェノールFから選ばれる少なくとも一つのエポ
キシ樹脂50重量%以下と、ダイマー酸をグリシジルエ
ステル化したエポキシ当量300〜600g/eqの範
囲のエポキシ樹脂50重量%以上の組成物である請求項
1または2に記載のビアホール充填用導体ペースト組成
物。
7. A liquid epoxy resin comprising 50% by weight or less of at least one epoxy resin selected from bisphenol A and bisphenol F, and 50% by weight of epoxy resin obtained by converting dimer acid into glycidyl ester in an epoxy equivalent of 300 to 600 g / eq. % Or more composition, The conductor paste composition for filling via holes according to claim 1 or 2.
【請求項8】硬化剤が、アミン系硬化剤、尿素系硬化
剤、酸無水物系硬化剤、及び芳香族アミン系(アミンア
ダクト)硬化剤から選ばれる少なくとも一つの硬化剤で
ある請求項1に記載のビアホール充填用導体ペースト組
成物。
8. The curing agent is at least one curing agent selected from amine-based curing agents, urea-based curing agents, acid anhydride-based curing agents, and aromatic amine-based (amine adduct) curing agents. The conductor paste composition for filling via holes according to [4].
【請求項9】硬化剤が潜在性硬化剤である請求項1また
は2に記載のビアホール充填用導体ペースト組成物。
9. The conductor paste composition for filling via holes according to claim 1, wherein the curing agent is a latent curing agent.
【請求項10】分散剤が、非イオン性分散剤、アニオン
系分散剤、及びカチオン系分散剤から選ばれる少なくと
も一つの分散剤である請求項1に記載のビアホール充填
用導体ペースト組成物。
10. The conductor paste composition for filling via holes according to claim 1, wherein the dispersant is at least one dispersant selected from a nonionic dispersant, an anionic dispersant, and a cationic dispersant.
【請求項11】絶縁基材内に開けられたビアホール中
に、平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面積が
0.1〜1.5m2 /gの導体フィラー80〜92重量
%と、エポキシ開環したエポキシ樹脂4.5〜20重量
%を含む導電性樹脂組成物が充填され、かつ前記絶縁基
材表面の上下電極層が電気的に接続されている両面プリ
ント基板。
11. A conductor filler having an average particle diameter of 0.5 to 20 μm and a specific surface area of 0.1 to 1.5 m 2 / g in a via hole opened in an insulating base material in an amount of 80 to 92% by weight. And a conductive resin composition containing 4.5 to 20% by weight of epoxy ring-opened epoxy resin, and the upper and lower electrode layers on the surface of the insulating base material are electrically connected.
【請求項12】絶縁基材がアラミド繊維と熱硬化性樹脂
の複合材である請求項11に記載の両面プリント基板。
12. The double-sided printed circuit board according to claim 11, wherein the insulating base material is a composite material of aramid fiber and thermosetting resin.
【請求項13】絶縁基材がアラミド不織布とエポキシ樹
脂の複合材である請求項11に記載の両面プリント基
板。
13. The double-sided printed circuit board according to claim 11, wherein the insulating base material is a composite material of aramid nonwoven fabric and epoxy resin.
【請求項14】複数枚の絶縁基材層と2つ以上の電極層
をもち、各々の絶縁基材内に開けられたビアホール中
に、平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面積が
0.1〜1.5m2 /gの導体フィラー80〜92重量
%と、エポキシ開環したエポキシ樹脂4.5〜20重量
%を含む導電性樹脂組成物が充填され、各電極層毎に電
気的接続された構造を持つ多層プリント基板。
14. A via hole having a plurality of insulating base material layers and two or more electrode layers, and having an average particle diameter of 0.5 to 20 μm in a via hole opened in each insulating base material and having a specific surface area. Is filled with a conductive resin composition containing 80 to 92% by weight of a conductor filler of 0.1 to 1.5 m 2 / g and 4.5 to 20 % by weight of an epoxy ring-opened epoxy resin. Multi-layer printed circuit board with electrically connected structure.
【請求項15】絶縁基材がアラミド繊維と熱硬化性樹脂
の複合材である請求項14記載の多層プリント基板。
15. The multilayer printed circuit board according to claim 14, wherein the insulating base material is a composite material of aramid fiber and thermosetting resin.
【請求項16】絶縁基材がアラミド不織布とエポキシ樹
脂の複合材である請求項14記載の多層プリント基板。
16. The multilayer printed board according to claim 14, wherein the insulating base material is a composite material of aramid nonwoven fabric and epoxy resin.
【請求項17】プリント基板の製造に用いられるプリプ
レグにあらかじめビアホールを形成し、このビアホール
に、(a)平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面
積が0.1〜1.5m2 /gの導体フィラー80〜92
重量%、(b)常温粘度15Pa・sec以下で2ヶ以
上のエポキシ基を含有した液状エポキシ樹脂4.5〜2
0重量%、(c)硬化剤0.5〜5重量%からなる組成
物であって、その粘度が2,000Pa・sec以下で
かつ揮発量が2.0重量%以下である導体ペースト組成
物を充填した後、前記プリプレグの上下層に銅箔を挟ん
で加熱加圧後、銅箔をエッチングすることにより回路を
形成することを特徴とする両面プリント基板の製造方
法。
17. A prepreg used for manufacturing a printed circuit board is preliminarily formed with a via hole, and (a) the average particle size is 0.5 to 20 μm and the specific surface area is 0.1 to 1.5 m 2 in the via hole. / G conductor filler 80-92
% By weight, (b) 4.5 to 2 liquid epoxy resin containing 2 or more epoxy groups at room temperature viscosity of 15 Pa · sec or less
A conductor paste composition having a viscosity of 2,000 Pa · sec or less and a volatilization amount of 2.0 wt% or less, which is a composition comprising 0 wt% and (c) a curing agent of 0.5 to 5 wt%. After filling with, the copper foil is sandwiched between the upper and lower layers of the prepreg, heated and pressed, and the circuit is formed by etching the copper foil to form a circuit.
【請求項18】プリプレグがアラミド繊維と熱硬化性樹
脂の複合材である請求項17記載の両面プリント基板の
製造方法。
18. The method for producing a double-sided printed circuit board according to claim 17, wherein the prepreg is a composite material of aramid fiber and thermosetting resin.
【請求項19】プリプレグがアラミド不織布に熱硬化性
エポキシ樹脂を含浸したシートである請求項17記載の
両面プリント基板の製造方法。
19. The method for producing a double-sided printed circuit board according to claim 17, wherein the prepreg is a sheet obtained by impregnating an aramid nonwoven fabric with a thermosetting epoxy resin.
【請求項20】前記(a)〜(c)の組成物100重量
部に対し、さらに分散剤を0.01〜1.5重量%含有
する請求項17に記載の両面プリント基板の製造方法。
20. The method for producing a double-sided printed circuit board according to claim 17, further comprising 0.01 to 1.5% by weight of a dispersant with respect to 100 parts by weight of the compositions (a) to (c).
【請求項21】導体フィラーが、金、銀、パラジウム、
銅、ニッケル、錫、鉛から選ばれる少なくとも一つの微
粒子である請求項17に記載の両面プリント基板の製造
方法。
21. The conductor filler is gold, silver, palladium,
The method for producing a double-sided printed circuit board according to claim 17, wherein the fine particle is at least one fine particle selected from copper, nickel, tin, and lead.
【請求項22】導体フィラーが、その表面酸素濃度が
1.0重量%以下の銅である請求項17に記載の両面プ
リント基板の製造方法。
22. The method for producing a double-sided printed circuit board according to claim 17, wherein the conductor filler is copper having a surface oxygen concentration of 1.0% by weight or less.
【請求項23】エポキシ樹脂が、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、脂環式
エポキシ樹脂、アミン型エポキシ樹脂、グリシジルエス
テル化エポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一つの液状
エポキシ樹脂である請求項17に記載の両面プリント基
板の製造方法。
23. The epoxy resin is at least one liquid epoxy resin selected from bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, amine type epoxy resin and glycidyl esterified epoxy resin. 17. The method for manufacturing a double-sided printed circuit board according to item 17.
【請求項24】液状エポキシ樹脂が、ダイマー酸をグリ
シジルエステル化したエポキシ樹脂を10重量%以上含
有する請求項17に記載の両面プリント基板の製造方
法。
24. The method for producing a double-sided printed board according to claim 17, wherein the liquid epoxy resin contains 10% by weight or more of an epoxy resin obtained by converting dimer acid into glycidyl ester.
【請求項25】液状エポキシ樹脂が、ビスフェノールA
及びビスフェノールFから選ばれる少なくとも一つのエ
ポキシ樹脂50重量%以下と、ダイマー酸をグリシジル
エステル化したエポキシ等量300〜600g/eqの
範囲のエポキシ樹脂50重量%以上の組成物である請求
項17に記載の両面プリント基板の製造方法。
25. The liquid epoxy resin is bisphenol A.
And 50% by weight or less of at least one epoxy resin selected from bisphenol F and 50% by weight or more of an epoxy resin obtained by converting glycidyl ester of dimer acid into an epoxy equivalent of 300 to 600 g / eq. A method for manufacturing the double-sided printed circuit board described.
【請求項26】硬化剤が、アミン系硬化剤、尿素系硬化
剤、酸無水物系硬化剤、及び芳香族アミン系(アミンア
ダクト)硬化剤から選ばれる少なくとも一つの硬化剤で
ある請求項17に記載の両面プリント基板の製造方法。
26. The curing agent is at least one curing agent selected from amine-based curing agents, urea-based curing agents, acid anhydride-based curing agents, and aromatic amine-based (amine adduct) curing agents. A method for manufacturing a double-sided printed circuit board according to.
【請求項27】プリント基板の製造に用いられるプリプ
レグにあらかじめビアホールを形成しこのビアホール
に、(a)平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面
積が0.1〜1.5m2 /gの導体フィラー80〜92
重量%、(b)常温粘度15Pa・sec以下で2ヶ以
上のエポキシ基を含有した液状エポキシ樹脂4.5〜2
0重量%、(c)硬化剤0.5〜5重量%からなる組成
物であって、(d)その粘度が2,000Pa・sec
以下でかつ揮発量が2.0重量%以下である導体ペース
ト組成物を充填した後、(e)両面プリント基板の上下
に配置し、さらに前記プリプレグの最外層に銅箔を挟ん
で加熱加圧後、銅箔をエッチングするか、または両面プ
リント基板を上下に配置し、加熱加圧して回路を形成す
ることを特徴とする多層プリント基板の製造方法。
27. A via hole is previously formed in a prepreg used for manufacturing a printed circuit board, and (a) the average particle size is 0.5 to 20 μm and the specific surface area is 0.1 to 1.5 m 2 / g conductor filler 80-92
% By weight, (b) 4.5 to 2 liquid epoxy resin containing 2 or more epoxy groups at room temperature viscosity of 15 Pa · sec or less
A composition comprising 0% by weight and (c) 0.5 to 5% by weight of a curing agent, the viscosity of which is (d) 2,000 Pa · sec.
After filling with a conductor paste composition having the following content and a volatilization amount of 2.0% by weight or less, (e) the conductive paste composition is placed on the upper and lower sides of a double-sided printed circuit board, and a copper foil is sandwiched between the outermost layers of the prepreg and heated and pressed. After that, the copper foil is etched, or the double-sided printed boards are arranged one above the other, and heated and pressed to form a circuit.
【請求項28】プリプレグがアラミド繊維と熱硬化性樹
脂の複合材である請求項27記載の多層プリント基板の
製造方法。
28. The method for producing a multilayer printed circuit board according to claim 27, wherein the prepreg is a composite material of aramid fiber and a thermosetting resin.
【請求項29】プリプレグがアラミド不織布に熱硬化性
エポキシ樹脂を含浸したシートである請求項27記載の
多層プリント基板の製造方法。
29. The method for producing a multilayer printed circuit board according to claim 27, wherein the prepreg is a sheet obtained by impregnating an aramid nonwoven fabric with a thermosetting epoxy resin.
【請求項30】前記(a)〜(c)の組成物100重量
部に対し、さらに分散剤を0.01〜1.5重量%含有
する請求項27に記載の多層プリント基板の製造方法。
30. The method for producing a multilayer printed circuit board according to claim 27, further comprising 0.01 to 1.5% by weight of a dispersant based on 100 parts by weight of the compositions (a) to (c).
【請求項31】導体フィラーが、金、銀、パラジウム、
銅、ニッケル、錫、鉛から選ばれる少なくとも一つの微
粒子である請求項27に記載の多層プリント基板の製造
方法。
31. The conductor filler is gold, silver, palladium,
The method for producing a multilayer printed board according to claim 27, wherein the fine particles are at least one fine particle selected from copper, nickel, tin, and lead.
【請求項32】導体フィラーが、その表面酸素濃度が
1.0重量%以下の銅である請求項27に記載の多層プ
リント基板の製造方法。
32. The method for producing a multilayer printed board according to claim 27, wherein the conductor filler is copper having a surface oxygen concentration of 1.0% by weight or less.
【請求項33】エポキシ樹脂が、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、脂環式
エポキシ樹脂、アミン型エポキシ樹脂、グリシジルエス
テル化エポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一つの液状
エポキシ樹脂である請求項27に記載の多層プリント基
板の製造方法。
33. The epoxy resin is at least one liquid epoxy resin selected from bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, amine type epoxy resin and glycidyl esterified epoxy resin. 27. The method for manufacturing a multilayer printed board according to 27.
【請求項34】液状エポキシ樹脂が、ダイマー酸をグリ
シジルエステル化したエポキシ樹脂を10重量%以上含
有する請求項27に記載の多層プリント基板の製造方
法。
34. The method for producing a multilayer printed board according to claim 27, wherein the liquid epoxy resin contains 10% by weight or more of an epoxy resin obtained by converting dimer acid into glycidyl ester.
【請求項35】液状エポキシ樹脂が、ビスフェノールA
及びビスフェノールFから選ばれる少なくとも一つのエ
ポキシ樹脂50重量%以下と、ダイマー酸をグリシジル
エステル化したエポキシ当量300〜600g/eqの
範囲のエポキシ樹脂50重量%以上の組成物である請求
項27に記載の多層プリント基板の製造方法。
35. The liquid epoxy resin is bisphenol A.
28. A composition comprising 50% by weight or less of at least one epoxy resin selected from bisphenol F and 50% by weight or more of an epoxy resin having a glycidyl ester of dimer acid and having an epoxy equivalent of 300 to 600 g / eq. For manufacturing a multilayer printed circuit board.
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