JPH07161622A - Projection aligner - Google Patents

Projection aligner

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JPH07161622A
JPH07161622A JP31050893A JP31050893A JPH07161622A JP H07161622 A JPH07161622 A JP H07161622A JP 31050893 A JP31050893 A JP 31050893A JP 31050893 A JP31050893 A JP 31050893A JP H07161622 A JPH07161622 A JP H07161622A
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JP
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Patent type
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pupil filter
pupil
means
pattern
optical system
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Withdrawn
Application number
JP31050893A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Masuyuki
崇 舛行
Original Assignee
Nikon Corp
株式会社ニコン
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Exposure apparatus for microlithography
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • GPHYSICS
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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    • G03F7/70Exposure apparatus for microlithography
    • G03F7/70216Systems for imaging mask onto workpiece
    • G03F7/70258Projection system adjustment, alignment during assembly of projection system

Abstract

PURPOSE: To prevent exposure under the state, wherein a pupil filter is erroneously provided in the vicinity of the pupil surface of a projecting optical system when a pattern, which does not require the pupil filter, is exposed.
CONSTITUTION: Exposing light IL from the light source image from a fly-eye lens 1 is cast on a reticle R through a condenser lens 18 and the like. The pattern image of the reticle R is projected on a wafer W through a projecting optical system 1A, and exposure is performed. When the reticle R is the reticle for a contact hole pattern, a pupil filter 43A is provided at the pupil position of the projecting optical system 1A. A photoreceptor element 27A is provided on a light screening film 44A of the pupil filter 43A. Whether the pupil filter 43A is set at the pupil position or not and the kind of the pattern of the reticle R are discriminated based on the output signal from the photoreceptor element 27A.
COPYRIGHT: (C)1995,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体素子製造用のフォトリソグラフィ工程で使用される投影露光装置に関し、特に投影光学系の瞳面付近に所定の透過率分布又は位相分布を有する所謂瞳フィルタが設置される投影露光装置に関する。 The present invention relates has, for example, relates to a projection exposure apparatus used in a photolithography process for manufacturing semiconductor devices, in particular predetermined transmittance distribution or phase distribution in the vicinity of a pupil plane of the projection optical system Tokoroihitomi a projection exposure apparatus in which the filter is installed.

【0002】 [0002]

【従来の技術】半導体素子又は液晶表示素子等を製造するためのフォトリソグラフィ工程において、フォトマスク又はレチクル(以下、「レチクル」を例に取って説明する)のパターンを投影光学系を介してフォトレジストが塗布されたウエハ(又はガラスプレート等)上に投影露光する投影露光装置が使用されている。 In a photolithography process for manufacturing the Related Art Semiconductor devices or liquid crystal display element or the like, the photomask or reticle patterns (hereinafter, will be described by way of example a "reticle") through a projection optical system Images resist projection exposure apparatus has been used for the projection exposure onto a wafer coated (or a glass plate or the like). 近年、半導体素子等のパターンが益々高集積化されるのに伴い、投影露光装置においてもより高い解像力でパターンを露光することが求められている。 Recently, as the pattern such as semiconductor devices are increasingly high integration, it is required to expose a pattern with higher resolving power in the projection exposure apparatus. この場合、単に投影光学系の開口数を高めて解像力を向上するのでは、その開口数の2乗に反比例して焦点深度が浅くなって、ウエハ上のショット領域の全面に高解像力でレチクルのパターン像を露光するのが困難となる。 In this case, of simply improve the resolving power by increasing the numerical aperture of the projection optical system, shallower depth of focus in inverse proportion to the square of the numerical aperture of the reticle over the entire surface to a high resolution of the shot areas on the wafer it becomes difficult to expose the pattern image.

【0003】また、露光光としてより短波長の光を用いて解像力を向上する方法も考えられるが、投影光学系のレンズエレメントの硝材として短波長の光を透過させる適当なものがないこと、及び短波長の光に感光する適当なフォトレジストがないこと等から、短波長化には現状では限界がある。 [0003] A method of improving the resolution by using a more light in the short wavelength as the exposure light is also conceivable, but none is suitable for transmitting light of shorter wavelength as the glass material of the lens element of the projection optical system, and from such that there is no suitable photoresist sensitive to short-wavelength light, the shorter wavelength at present is limited. そこで、露光光の波長(露光波長)を変えずに、焦点深度を浅くすることなく解像力を向上させるための種々の研究が行われている。 Therefore, without changing the wavelength of exposure light (exposure wavelength), various studies have been made to improve the resolution without a shallow focal depth.

【0004】その中の1つとして、公知になっていないが例えば特願平4−263521号において、投影光学系の瞳(レチクルのパターンのフーリエ変換像が形成される領域)付近に、遮光板等の光学的フィルタ(以下、 [0004] As one of them, in but for example Japanese Patent Application No. Hei 4-263521 not been known, in the vicinity of the projection optical system of the pupil (region Fourier transform image is formed of a pattern of the reticle), the light shielding plate optical filters etc. (hereinafter,
「瞳フィルタ」と呼ぶ)を配置することにより、コンタクトホールパターンのような孤立的パターンを投影する際の解像力、及び焦点深度を向上させる所謂瞳フィルタ法が提案されている。 Placing the called "pupil filter"), the resolution at the time of projecting the isolated patterns such as contact hole pattern, and so-called pupil filtering method for improving the depth of focus has been proposed. 瞳フィルタとしては、遮光板、若しくはガラス基板に遮光膜を形成したもの等の他に、偏光板を使用して異なる領域を通過した光束の偏光方向を直交させてそれら異なる領域を通過した光束間の可干渉性を低減させたもの、又はガラス基板の厚さの分布を変える等の手法により異なる領域を通過する光束間に可干渉距離を超える光路長差を付与するもの等が使用できる。 The pupil filter, the light shielding plate, or in addition, such as those obtained by forming the light shielding film on the glass substrate, between the light beam and by orthogonal polarization direction of the light beams passing through different regions use has passed through them different areas of polarizer those with reduced coherence, or intended to impart an optical path length difference greater than the coherence length between the light beams passing through different regions by a technique such as changing the thickness distribution of the glass substrate or the like can be used.

【0005】この瞳フィルタ法は、主にコンタクトホールパターンの露光を行う際に有効であり、それ以外の例えばライン・アンド・スペースパターンのような周期的なパターンの露光時にはその瞳フィルタは不要となる。 [0005] The pupil filtering method is mainly be effective in performing the exposure of the contact hole pattern, at the time of exposure of the periodic pattern, such as the other example, a line-and-space pattern that pupil filter unnecessary Become.
そこで、特願平4−263521号においては、露光するパターンに応じて投影光学系の瞳面(レチクルのパターン形成面のフーリエ変換面)又はこの瞳面の近傍の面に瞳フィルタを着脱するための着脱機構が備えられている。 Therefore, in the Japanese Patent Application No. Hei 4-263521, the pupil plane of the projection optical system in accordance with the pattern to be exposed (the Fourier transform plane of the pattern formation surface of the reticle) or for mounting and dismounting the pupil filter to the surface in the vicinity of the pupil plane the detaching mechanism is provided.

【0006】 [0006]

【発明が解決しようとする課題】このような瞳フィルタの着脱機構を備えた投影露光装置を使って、コンタクトホールパターン以外の露光を行う際に、誤って瞳フィルタを投影光学系内に設置して露光を行うと、瞳フィルタが露光光のエネルギーを吸収して加熱され、この加熱が長時間続くと瞳フィルタが損傷する可能性がある。 Using the projection exposure apparatus having a INVENTION Problems to be Solved detaching mechanism of such pupil filter, when performing exposure other than the contact hole pattern, incorrectly installed a pupil filter in the projection optical system When performing exposure Te, the pupil filter is heated by absorbing the energy of the exposure light, the pupil filter when the heating continues for a long time may be damaged. また、瞳フィルタの存在により却って解像力が低下してしまう恐れもあり、更に、瞳フィルタの加熱により投影光学系内の温度が上昇すると、投影光学系の収差等が発生し、解像力が次第に低下する恐れもある。 There is also a risk that rather resolution by the presence of the pupil filter is reduced, further, the temperature within the projection optical system by heating of the pupil filter is increased, and aberration of the projection optical system occurs, the resolution is reduced gradually fear also.

【0007】これに対して、コンタクトホールパターン用のレチクルは、全体のパターン領域に対する遮光部(クロム膜等)の面積の割合が、ライン・アンド・スペースパターン用のレチクルに比べて大きく、瞳フィルタに照射されるエネルギーが少ないため、上述のような瞳フィルタの加熱現象は殆ど起こらない。 [0007] In contrast, reticle for contact hole pattern, the ratio of the area of ​​the light-shielding portion (chromium film) for the entire pattern area is larger than the reticle for a line and space pattern, the pupil filter since less energy is irradiated to the heating phenomenon of the pupil filter, such as described above hardly occurs. 本発明は斯かる点に鑑み、瞳フィルタを必要としないパターンを露光する場合に、誤って投影光学系の瞳面付近に瞳フィルタを設置して露光を行うことがない投影露光装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the points mow 斯, when exposing a pattern which does not require the pupil filter, erroneously provides no projection exposure apparatus that performs exposure by installing a pupil filter in the vicinity of the pupil plane of the projection optical system and an object thereof.

【0008】 [0008]

【課題を解決するための手段】本発明による第1の投影露光装置は、例えば図1に示すように、マスク(R)上に形成された転写用のパターンの像を投影光学系(1 The first projection exposure apparatus according to the present invention SUMMARY OF THE INVENTION may, for example, as shown in FIG. 1, a mask (R) an image of a pattern to be transferred formed on a projection optical system (1
A)を介して感光基板(W)上に投影する投影露光装置において、投影光学系(1A)の瞳面(マスク面に対するフーリエ変換面)又はこの瞳面の近傍の面内であってマスク(R)からの光束が通過する領域に所定の透過率分布又は位相分布を有する瞳フィルタ(43A)を設置すると共に、そのマスクからの光束が通過する領域から瞳フィルタ(43A)を退避させる瞳フィルタ着脱手段(26)と;そのマスク上のパターンの種類に応じて予め定められたその瞳フィルタの着脱情報を入力する着脱情報入力手段と;この着脱情報入力手段により入力されたその瞳フィルタの着脱情報に基づいて瞳フィルタ着脱手段(26)の動作を制御する制御手段(22)と;瞳フィルタ(43A)の着脱状態を検出する着脱状態検出手段(28)と; In a projection exposure apparatus for projecting on the photosensitive substrate (W) via the A), a plane near the pupil plane (Fourier transform plane with respect to the mask surface) or the pupil plane of the projection optical system (1A) Mask ( with installing a pupil filter (43A) having a predetermined transmittance in the region where the light beams pass distribution or phase distribution from R), the pupil filter retracting the pupil filter (43A) from a region where the light beams pass from the mask detachment means (26); attachment and detachment of the pupil filter input by the removable information input means; removable information input means and for inputting the removable information of the pupil filter predetermined according to the type of the pattern on the mask control means for controlling the operation of the pupil filter detachable means (26) on the basis of the information (22); detachment state detecting means for detecting a detachment state of the pupil filter (43A) and (28); の着脱状態検出手段により検出された瞳フィルタ(43A)の着脱状態がその着脱情報入力手段により入力されたその瞳フィルタの着脱情報に対応するかどうかを確認する確認手段と;を有するものである。 Those having; a confirmation means for confirming whether it corresponds to removable information of the pupil filter input by the removable information input unit detachment state of the pupil filter is detected (43A) by detachment state detection means .

【0009】この場合、その着脱状態検出手段(28) [0009] In this case, the detachment state detecting means (28)
の一例は、瞳フィルタ(43A)の投影光学系(1A) One example is the projection optical system of the pupil filter (43A) of the (1A)
に対する相対的な位置を検出する位置検出手段である。 A position detecting means for detecting a relative position with respect to.
また、その着脱情報入力手段の一例は、マスクのパターンの種類に応じて予め定められた瞳フィルタの着脱情報を記憶する記憶手段(22)と、マスク上の転写用のパターンの種類を判別するマスク判別手段(25)と、その記憶手段に記憶されたその瞳フィルタの着脱情報から判別されたその転写用パターンの種類に応じたその瞳フィルタの最適着脱情報を選択する選択手段(22)と、 Further, an example of the removable information input means includes a storage means for storing the removable information of the pupil filter is predetermined according to the type of the pattern of the mask (22) determines the type of pattern to be transferred on the mask a mask determination means (25), and selection means for selecting an optimal detachment information of the pupil filter according to the type of the transfer pattern is determined from the stored detachable information of the pupil filter to the storage means (22) ,
を有するものである。 And it has a. この場合、その制御手段(22) In this case, the control means (22)
は、その最適着脱情報に基づいて瞳フィルタ着脱手段(26)の動作を制御し、その確認手段は、着脱状態検出手段(28)により検出されたその瞳フィルタの着脱状態がその最適着脱情報に対応するかどうかを確認することが望ましい。 Controls the operation of the pupil filter detachable means (26) based on the optimum removable information, the confirmation means, the detachable state of the pupil filter detected by the detachment state detection means (28) is the optimum removable information it is desirable to check whether the corresponding.

【0010】また、本発明による第2の投影露光装置は、例えば図1に示すように、マスク(R)上に形成された転写用のパターンの像を投影光学系(1A)を介して感光基板(W)上に投影する投影露光装置において、 Further, the second projection exposure apparatus according to the present invention, for example as shown in FIG. 1, via the mask image projection optical system of a transfer pattern formed on the (R) (1A) photosensitive in a projection exposure apparatus for projecting on a substrate (W),
投影光学系(1A)の瞳面又はこの瞳面の近傍の面内であってマスク(R)からの光束が通過する領域に対して着脱自在に支持され、所定の透過率分布又は位相分布を有する瞳フィルタ(43A)と;マスク(R)上のパターンの種類に応じて予め定められた瞳フィルタ(43 The light beam from the pupil plane or mask a plane in the vicinity of the pupil plane of the projection optical system (1A) (R) is detachably supported to a region through a predetermined transmittance distribution or phase distribution pupil filter (43 predetermined in accordance with the type of pattern on the mask (R); a pupil filter (43A) and having
A)の着脱情報を入力する着脱情報入力手段と;瞳フィルタ(43A)上に設けられ、マスク(R)からの光束の光量に応じた信号を出力する光電変換手段(27A) Removable information input means and for inputting the removable information A); a pupil filter (provided over 43A), the mask (photoelectric conversion means for outputting a signal corresponding to the light amount of the light beam from the R) (27A)
と;この光電変換手段の出力信号に基づいてマスク(R)のパターンの種類及び瞳フィルタ(43A)の着脱状態を判別する判別手段(22)と;この判別手段により判別されたその瞳フィルタの着脱状態が、その着脱情報入力手段により入力されたその瞳フィルタの着脱情報と対応するかどうかを確認する確認手段(22)と; When; pattern type and discriminating means for discriminating a detachment state of the pupil filter (43A) and (22) of the mask (R) on the basis of the output signal of the photoelectric conversion means; the pupil filter discriminated by the discriminating means detachable state, confirmation means for confirming whether the corresponding attaching and detaching information of the pupil filter input by the removable information input means (22);
を有するものである。 And it has a.

【0011】この場合、瞳フィルタ(43A)が、所定の減光特性を有する減光領域(44A)を有するものであるとき、光電変換手段(27A)を減光領域(44 [0011] In this case, the pupil filter (43A) is, when those having a dimming region (44A) having a predetermined dimming characteristic, reducing the photoelectric conversion means (27A) light region (44
A)上に設けることが望ましい。 It is desirable to provide over A).

【0012】 [0012]

【作用】斯かる本発明の第1の投影露光装置によれば、 According to the first projection exposure apparatus of the present invention,
例えばライン・アンド・スペースパターンの露光を行う際には、その着脱情報入力手段から、投影光学系(1 For example, when performing exposure of the line-and-space pattern, from the removable information input means, the projection optical system (1
A)の瞳面付近のマスクからの結像光束が通過する領域から瞳フィルタ(43A)を退避させるようにとの着脱情報が入力される。 Removable information from the area where imaging light beam from the mask near the pupil plane of A) passes so as to retreat the pupil filter (43A) is input. この着脱情報に応じて、制御手段(22)が瞳フィルタ着脱手段(26)を介して瞳フィルタ(43A)を退避させる。 Depending on the removable information, the control means (22) to retract the pupil filter (43A) through the pupil filter detachable means (26). その後、例えば瞳フィルタ(43A)の現在の位置を検出するエンコーダ(位置検出手段)等からなる着脱状態検出手段(28)により、瞳フィルタ(43A)が投影光学系(1A)から退避されているかどうかを検出する。 Then, for example, by the pupil filter encoder for detecting the current position of (43A) (position detection means) composed of such detachable state detecting means (28), or pupil filter (43A) is retracted from the projection optical system (1A) to detect how. そして、確認手段(22)が着脱状態検出手段(28)の検出結果が退避状態を示しているかどうかを確認する。 The confirmation means (22) is the detection result of the detachment state detection means (28) to check whether shows a retracted state. これにより、誤って瞳フィルタ(43A)が設置された状態で露光が行われることがなくなる。 Thus, exposure in a state in which erroneously pupil filter (43A) is installed is that eliminates carried out.

【0013】また、その着脱情報入力手段が、マスク(R)上の転写用のパターンの種類を判別するマスク判別手段(25)を有する場合、露光対象とするマスク(R)がライン・アンド・スペースパターン用のマスクであるときには、そのマスク判別手段(25)により実際にそのマスク(R)がライン・アンド・スペースパターン用のマスクであることが判別される。 Further, the removable information input means, if having a mask mask discriminating means for discriminating the type of the pattern to be transferred on (R) (25), the mask to be exposed (R) is a line and when a mask for space pattern is actually the mask by the mask determination means (25) (R) that is the mask for line and space pattern is determined. そして、この判別結果に基づいて瞳フィルタ(43A)の最適着脱情報、即ちこの場合には瞳フィルタ(43A)を退避させるという情報が選択され、この退避情報に基づいて瞳フィルタ(43A)が投影光学系(1A)から退避される。 Then, the optimal detachment information of the pupil filter based on the determination result (43A), i.e. information that retracting the pupil filter (43A) is selected in this case, the pupil filter based on the backup information (43A) is projected It is retracted from the optical system (1A). 従って、瞳フィルタ(43A)のみならず、マスク(R)側でもパターンの種類のチェックが行われるため、マスク(R)と瞳フィルタ(43A)との組み合せを誤る確率が更に低下する。 Therefore, not only the pupil filter (43A) only, because the type checking pattern is also performed by the mask (R) side, the probability of mistaking the combination of the mask (R) and a pupil filter (43A) is further reduced.

【0014】次に、本発明の第2の投影露光装置によれば、瞳フィルタ(43A)上には光電変換手段(27 [0014] Next, according to the second projection exposure apparatus of the present invention, the photoelectric conversion means on the pupil filter (43A) (27
A)が設けられている。 A) is provided. 一般に、コンタクトホールパターンは全体のパターン領域の面積に対する遮光部の面積の割合が、ライン・アンド・スペースパターンに比べて大きく、コンタクトホールパターンを通過する光量はライン・アンド・スペースパターンを通過する光量に比べて小さい。 Generally, the light quantity ratio of the area of ​​the light-shielding portion contact hole pattern to the area of ​​the entire pattern area is larger than the line-and-space pattern, the amount of light passing through the contact hole pattern is passing through the line-and-space pattern small compared to. そこで、露光光源をオンにして、光電変換手段(27A)の出力信号をモニタすることにより、現在ロードされているマスク(R)に形成されているパターンがコンタクトホールパターンかライン・アンド・スペースパターンかが判別される。 Therefore, turn on the exposure light source, by monitoring the output signal of the photoelectric conversion means (27A), now loaded with which the mask pattern formed in (R) is a contact hole pattern or line-and-space pattern or it is determined.

【0015】更に、露光光源をオンにしたときにその光電変換手段(27A)からの出力信号が大きくなれば、 Furthermore, the larger the output signal from the photoelectric conversion means (27A) while turning on the exposure light source,
瞳フィルタ(43A)が投影光学系(1A)の瞳面付近に設置されていることが分かり、逆に露光光源をオンにしたときにその光電変換手段(27A)からの出力信号が小さいままであれば、瞳フィルタ(43A)が投影光学系(1A)の瞳面付近から退避されていることが分かる。 Remains pupil filter (43A) is found to be installed in the vicinity of the pupil plane of the projection optical system (1A), the output signal from the photoelectric conversion means (27A) is small when you turn on the exposure light source in the opposite if it is found that the pupil filter (43A) is evacuated from the vicinity of the pupil plane of the projection optical system (1A). 従って、光電変換手段(27A)の検出信号から、 Therefore, from the detection signal of the photoelectric conversion means (27A),
現在ロードされているマスク(R)がライン・アンド・ Mask that is currently loaded (R) is a line and
スペースパターン用のマスクであることが判別された場合には、露光光源をオン又はオフにして瞳フィルタ(4 If it is determined a mask for space pattern, the pupil filter (4 in the exposure light source on or off
3A)が退避されているかどうかを確認する。 3A) to check whether it is saved. これにより誤ってライン・アンド・スペースパターンに対して瞳フィルタ(43A)が使用されることがなくなる。 Thus erroneous pupil filter for the line-and-space pattern (43A) is to be that there is no use.

【0016】また、瞳フィルタ(43A)が減光領域(44A)を有する場合には、その減光領域(44A) Further, if the pupil filter (43A) has a dimming region (44A), the dimming region (44A)
では光の透過率が小さくてもよいため、減光領域(44 In order may be small light transmittance, light attenuation region (44
A)上に光電変換手段(27A)を配置することにより、結像特性に対する悪影響がなくなる。 By disposing the photoelectric conversion means (27A) on A), adverse effect disappears for imaging characteristics.

【0017】 [0017]

【実施例】以下、本発明による投影露光装置の一実施例につき図1〜図3を参照して説明する。 EXAMPLES Hereinafter, will be explained with reference to FIGS. 1 to 3 per an embodiment of a projection exposure apparatus according to the present invention. 図1は、本実施例の投影露光装置の概略構成を示し、この図1において、水銀ランプ6から射出された露光光は、楕円鏡7で反射された後、インプットレンズ9、所定の波長帯の光を選択して通過させる干渉フィルタ板10を経てフライアイレンズ11に入射し、フライアイレンズ11の後側(レチクル側)焦点面に多数の光源像が形成される。 Figure 1 shows a schematic arrangement of a projection exposure apparatus of this embodiment, in FIG. 1, the exposure light emitted from the mercury lamp 6 is reflected by the elliptic mirror 7, an input lens 9, a predetermined wavelength band enters the fly's eye lens 11 through an interference filter plate 10 to the selectively passes the light, a large number of light source images on the side (reticle side) focal plane of the fly's eye lens 11 is formed. 楕円鏡7の第2焦点の近傍に露光光の照射及び遮断を切り換えるためのシャッタ8が配置され、装置全体の動作を制御する主制御系22が駆動装置23を介してシャッタ8の開閉を行う。 The shutter 8 for switching the illumination on and off of the exposure light in the vicinity of the second focus of the elliptical mirror 7 is disposed to open and close the shutter 8 main control system 22 for controlling the operation of the entire device via the driving device 23 .

【0018】フライアイレンズ11の後側焦点面に、露光光用の開口絞り(以下、「σ絞り」という)12が配置され、σ絞り12内の多数の光源像からの露光光IL [0018] on the rear focal plane of the fly's eye lens 11, an aperture stop for exposure light (hereinafter, "sigma aperture" hereinafter) 12 is arranged, sigma exposure light IL from a number of light source images of the diaphragm 12
が、ミラー13で反射された後、第1のリレーレンズ1 But after being reflected by a mirror 13, a first relay lens 1
4、可変視野絞り(レチクルブラインド)15、第2のリレーレンズ16、ミラー17及びコンデンサーレンズ18を介して、レチクルRのパターン領域を均一な照度で照明する。 4, a variable field stop (reticle blind) 15, a second relay lens 16, via a mirror 17 and a condenser lens 18 to illuminate the pattern area of ​​the reticle R with a uniform illuminance. この場合、可変視野絞り15の配置面はレチクルRのパターン形成面と共役であり、σ絞り12の配置面は、投影光学系1Aの瞳面(レチクルRのパターン領域のフーリエ変換面)FTPと共役である。 In this case, the arrangement plane of the variable field stop 15 is a pattern forming surface conjugate of the reticle R, the arrangement surface of the σ diaphragm 12 (the Fourier transform plane of the pattern area of ​​reticle R) pupil plane of the projection optical system 1A and FTP it is the conjugate. 主制御系22が、駆動装置24を介してσ絞り12及び可変視野絞り15の開口部の形状を所定の形状に設定する。 The main control system 22 sets the shape of the opening of the σ diaphragm 12 and the variable field stop 15 through the drive device 24 into a predetermined shape.

【0019】また、レチクルRはレチクルテージRST [0019] In addition, the reticle R is a reticle stage RST
上に保持され、レチクルステージRSTの近傍にレチクルリーダ25が配置されている。 Held above the reticle reader 25 is disposed in the vicinity of the reticle stage RST. 図示省略されたレチクルローダ系によりレチクルRをレチクルステージRST The reticle stage RST and the reticle R by a reticle loader system, which is not shown
上にロードする際に、レチクルR上に形成されたレチクル情報(バーコード等)をレチクルリーダ25で読み取り、読み取ったレチクル情報を主制御系22に供給する。 When loading on, and supplies the reticle information formed on the reticle R (the bar code or the like) read by the reticle reader 25, the reticle information read to the main control system 22. これにより、主制御系22は、現在レチクルステージRST上に保持されているレチクルRの内容(コンタクトホールパターン又はライン・アンド・スペースパターン等のパターンの種類、パターンの最小線幅等)を認識できる。 Thus, the main control system 22 can recognize the contents of the reticle R held on the current reticle stage RST (contact hole pattern or line-and-space pattern types such as pattern, the minimum line width of the pattern, etc.) .

【0020】コンデンサーレンズ18から射出される露光光ILのもとで、レチクルRのパターン像が投影光学系1Aを介してフォトレジストが塗布されたウエハW上に投影露光される。 [0020] Under the exposure light IL emitted from the condenser lens 18, the pattern image of the reticle R photoresist is a projection exposure onto the wafer W coated through a projection optical system 1A. ウエハWはウエハステージWST上に載置され、ウエハステージWSTは、ウエハWを投影光学系1Aの光軸AXに垂直なXY平面内で位置決めするXYステージ、及びウエハWを光軸AXに平行なZ方向に位置決めするZステージ等より構成されている。 Wafer W is placed on the wafer stage WST, wafer stage WST is parallel XY stage for positioning the wafer W in a vertical XY plane to the optical axis AX of the projection optical system 1A, and the wafer W in the optical axis AX It is formed of a Z stage, etc. for positioning in the Z direction. ウエハステージWSTの2次元座標はレーザ干渉計19により常時計測され、計測結果がウエハステージ駆動装置20に供給され、ウエハステージ駆動装置20は、主制御系22から供給された目標座標にウエハステージWS Two-dimensional coordinates of the wafer stage WST is constantly measured by the laser interferometer 19, the measurement result is supplied to the wafer stage drive system 20, a wafer stage drive unit 20, the wafer stage WS to the target coordinates supplied from the main control system 22
Tの位置決めを行う。 The positioning of T. これにより、ウエハWの所望のショット領域が投影光学系1Aの露光フィールド内に位置決めされる。 Thus, the desired shot area of ​​the wafer W is positioned in the exposure field of the projection optical system 1A.

【0021】また、投影光学系1Aの近傍に、ウエハW [0021] In the vicinity of the projection optical system 1A, the wafer W
の露光面のフォーカス位置(光軸AX方向の位置)及び傾斜角を検出するためのフォーカス・レベリングセンサ21が設けられ、このフォーカス・レベリングセンサ2 Focus position of the exposure surface of the focus leveling sensor 21 for detecting the (optical axis AX direction position) and inclination angle are provided, the focus leveling sensor 2
1による計測結果もウエハステージ駆動装置20に供給されている。 Measurement results of 1 is also supplied to the wafer stage drive system 20. ウエハステージ駆動装置20が、ウエハステージWST内のレベリングステージ等を介してウエハWの露光面を投影光学系1Aの像面に合致させることにより、オートフォーカス及びオートレベリングが行われる。 Wafer stage drive system 20, by matching the exposed surfaces of the wafer W with the image plane of the projection optical system 1A through leveling stage of the wafer stage WST, etc., autofocus and auto-leveling are performed.

【0022】また、主制御系22は着脱装置26を介して、必要に応じて投影光学系1Aの瞳面FTP上でレチクルRからの結像光束が通過する領域(即ち、瞳)に瞳フィルタ43A等を配置する。 Further, the main control system 22 via the unloading device 26, imaging light beam from the reticle R on the pupil plane FTP of the projection optical system 1A as needed to pass through a region (i.e., the pupil) pupil filter to place the 43A or the like. 瞳フィルタ43Aは、ガラス基板上に遮光膜44Aを形成したものである。 Pupil filter 43A is obtained by forming the light shielding film 44A on a glass substrate. 本実施例では、後述のように種々の瞳フィルタが用意されており、主制御系22からの指示に応じて、着脱装置26 In this embodiment, various pupil filter are prepared as described below, in accordance with an instruction from the main control system 22, unloading device 26
はレチクルRのパターンに応じた瞳フィルタを投影光学系1Aの瞳位置に設置すると共に、瞳フィルタを必要としないパターンを露光するときには、着脱装置26は投影光学系1Aの瞳から瞳フィルタを退避させて代わりにダミーのガラス基板を設置する。 Together to install a pupil filter in accordance with the pattern of the reticle R at the pupil position of the projection optical system 1A, when exposing a pattern which does not require the pupil filter attachment apparatus 26 retracts the pupil filter from the pupil of the projection optical system 1A It is allowed to install the glass substrate of the dummy in place by. 具体的に、コンタクトホールパターンを露光する際には、コンタクトホールパターンの開口の大きさ等に応じて最適な瞳フィルタが投影光学系1Aの瞳位置に設置され、ライン・アンド・スペースパターンを露光する際には投影光学系1Aの瞳位置にはダミーのガラス基板が設置される。 Specifically, when exposing a contact hole pattern, the optimal pupil filter according to the size of the opening of the contact hole pattern is disposed at the pupil position of the projection optical system 1A, exposed to a line-and-space pattern glass substrate of the dummy is placed on the pupil position of the projection optical system 1A is when.

【0023】本実施例では、着脱装置26による設定状態を示す位置情報、即ち現在投影光学系1Aの瞳位置に設置されている瞳フィルタ又はダミーのガラス基板の種類に対応する信号を検出するためのロータリエンコーダ28が設けられ、このロータリエンコーダ28の検出信号が主制御系22に供給されている。 [0023] In the present embodiment, position information indicating a setting state by detaching device 26, i.e. for detecting a signal corresponding to the type of pupil filter or a dummy glass substrate is disposed at the pupil position of the current projection optical system 1A the rotary encoder 28 is provided, the detection signal of the rotary encoder 28 is supplied to the main control system 22. 主制御系22は、 The main control system 22,
ロータリエンコーダ28からの検出信号により、現在投影光学系1Aの瞳位置に設置されている瞳フィルタ又はダミーのガラス基板の種類を認識できる。 The detection signal from the rotary encoder 28 can recognize the pupil filter or a dummy kind of a glass substrate is disposed at the pupil position of the current projection optical system 1A.

【0024】また、本実施例の瞳フィルタ43A上の遮光膜44A上には、フォトダイオード等からなり、露光光ILに対して感度を有する受光素子27Aが固定され、受光素子27Aからの光電変換信号が判別回路29 Further, on the light shielding film 44A on the pupil filter 43A of this embodiment is made of a photodiode or the like, the light-receiving element 27A having sensitivity is fixed with respect to the exposure light IL, the photoelectric conversion of the light receiving element 27A signal discriminating circuit 29
に供給されている。 It is supplied to. レチクルRがコンタクトホールパターン用のレチクルである場合には、投影光学系1Aの瞳を通過する光量が少なく、レチクルRがライン・アンド・スペースパターン用のレチクルである場合には、投影光学系1Aの瞳を通過する光量が大きいことを利用して、判別回路29は、受光素子27Aの光電変換信号の大きさからレチクルRのパターンの種類を判別する。 When the reticle R is a reticle for the contact hole pattern has less amount of light passing through the pupil of the projection optical system 1A, when the reticle R is a reticle for a line and space pattern, the projection optical system 1A by utilizing the fact that the amount of light is large to pass through the pupil, the determination circuit 29 determines the type of the pattern of the reticle R from the size of the photoelectric conversion signals of the light receiving element 27A. この判別結果の情報が主制御系22に供給されている。 Information of the determination results are supplied to the main control system 22.

【0025】また、判別回路29は、受光素子27Aからの光電変換信号が所定のノイズレベルよりも大きいときにハイレベル“1”となり、それ以外のときにローレベル“0”となる着脱判別信号をも主制御系22に供給する。 Further, judgment circuit 29, the high level "1" when the photoelectric conversion signal is greater than a predetermined noise level from the light receiving elements 27A, detachable discrimination signal at other times the low level "0" also supplied to the main control system 22. 主制御系22は、駆動装置23を介してシャッタ8を開状態としたときに、その判別回路29からの着脱判別信号がハイレベル“1”となったときには、瞳フィルタ43Aが投影光学系1Aの瞳位置に設置されていることを確認できる。 The main control system 22, when the shutter 8 via the driving device 23 to the open state, when the detachable discriminating signal from the determination circuit 29 becomes a high level "1", the pupil filter 43A is the projection optical system 1A can confirm that are installed at the pupil position. 逆に、シャッタ8を開状態としたときに、その判別回路29からの着脱判別信号がローレベル“0”のままであるときには、主制御系22は、瞳フィルタ43Aが投影光学系1Aの瞳位置から退避されていることを確認できる。 Conversely, when the shutter 8 in the open state, when the detachable discriminating signal from the discriminating circuit 29 remains at a low level "0", the main control system 22, the pupil filter 43A is the pupil of the projection optical system 1A It can ensure that it is retracted from the position.

【0026】更に、ウエハステージWST上のウエハW [0026] In addition, the wafer W on the wafer stage WST
の近傍には光電変換素子よりなる照射量モニタ30が設置され、この照射量モニタ30の出力信号が主制御系2 Irradiation monitor 30 consisting of a photoelectric conversion element is disposed in the vicinity of the output signal of the dose monitor 30 is the main control system 2
2に供給されている。 It is supplied to the 2. 例えば瞳フィルタ43Aが投影光学系1Aの瞳位置から退避され、その瞳位置にダミーのガラス基板が設置されている場合には、主制御系22 For example pupil filter 43A is evacuated from the pupil position of the projection optical system 1A, when a glass substrate of the dummy is placed on the pupil position, the main control system 22
は、ウエハステージWSTを移動させてその照射量モニタ30を投影光学系1Aの露光フィールド内に設置する。 Wafer stage WST is moved to install the irradiation monitor 30 in the exposure field of the projection optical system 1A. そして、照射量モニタ30の出力信号の大小から、 Then, the magnitude of the output signal of the dose monitor 30,
主制御系22は、レチクルRのパターンがコンタクトホールパターン又はライン・アンド・スペースパターンかを判別する。 The main control system 22, the pattern of the reticle R is to determine whether a contact hole pattern or line-and-space pattern.

【0027】次に、図1の着脱装置26の詳細な構成につき図2を参照して説明する。 Next, it will be described with reference to FIG. 2 per detailed configuration of the attachment apparatus 26 of FIG. 1. この着脱装置26は、レボルバー式で瞳フィルタの交換又は着脱を行うものである。 The attachment apparatus 26 is intended to exchange or removable pupil filter revolver type. 図2(b)は本実施例の投影光学系1A及び着脱装置26の正面断面図、図2(a)は投影光学系1A及び着脱装置26の平面図であり、図2(b)に示すように、投影光学系1Aは、上から順にレンズ3 1 〜3 nより構成される前群レンズ系3及び開口絞り5を前群鏡筒2A内に固定し、後群レンズ系4を後群鏡筒2B内に固定して構成されている。 2 (b) is a front sectional view of a projection optical system 1A and unloading device 26 of the present embodiment, FIG. 2 (a) is a plan view of a projection optical system 1A and unloading device 26, shown in FIG. 2 (b) as such, the projection optical system 1A fixes the lens 3 1 to 3 groups before comprised of n lens system 3 and the aperture stop 5 in order from the top to the front group lens barrel 2A, the group trailing the rear-group lens system 4 It is constructed by fixing in a lens barrel 2B. 開口絞り5は、鏡筒2Aの最下部の瞳面付近に取り付けられている。 Aperture stop 5 is attached to the vicinity of the pupil plane of the bottom of the barrel 2A.

【0028】そして、鏡筒2Aと鏡筒2Bとの間に、着脱装置26の回転板41を配し、回転板41を光軸AX [0028] Between the barrel 2A and barrel 2B, arranged rotary plate 41 of the attachment apparatus 26, the rotating plate 41 the optical axis AX
に平行な軸41aを中心としてモータ42により回転自在に支持する。 Rotatably supported by the motor 42 about an axis parallel 41a to. 光軸AXと回転軸41aとの間隔はR1 Distance between the optical axis AX and the rotation shaft 41a is R1
である。 It is. 図2(a)に示すように、回転板41の上には5個の瞳フィルタ43A,43B,43D〜43F及びダミーのガラス基板43Cを配し、瞳フィルタ及びダミーのガラス基板43Cの中心を、回転板41上の軸41 As shown in FIG. 2 (a), 5 pieces of the pupil filter 43A is on a rotating plate 41, 43B, arranged 43D~43F and the dummy glass substrate 43C, the center of the pupil filter and the dummy glass substrate 43C , the axis of the rotating plate 41 41
aを中心とした半径R1の円周上にほぼ等角度間隔で位置決めしておく。 Previously positioned at equal angular intervals about the circumference of radius R1 centered on a. 瞳フィルタ43A,43B,43D〜 Pupil filter 43A, 43B, 43D~
43Fは、それぞれガラス基板上に直径の異なる遮光膜44A,44B,44D〜44Fが形成されたものであり、遮光膜44A,44B,44D〜44F上にそれぞれフォトダイオード等からなる受光素子27A,27 43F is different shielding film 44A having a diameter on a glass substrate, respectively, 44B, are those 44D~44F is formed, the light-shielding film 44A, 44B, the light receiving elements 27A made of each of the 44D~44F photodiode or the like, 27
B,27D〜27Fが固定されている。 B, 27D~27F is fixed. これら受光素子27A,27B,27D〜27Fの光電変換信号は並列に図1の判別回路29に供給され、判別回路29では、 These light receiving elements 27A, 27B, the photoelectric conversion signal of 27D~27F is supplied to the discrimination circuit 29 of FIG. 1 in parallel, the determination circuit 29,
各受光素子毎にレチクルRのパターンの判別及び瞳フィルタの着脱状態を判別して、判別結果の情報を主制御系22に供給する。 For each light receiving element to determine the detachment state of determination and the pupil filter of the pattern of the reticle R, and supplies the information of the determination result to the main control system 22.

【0029】この場合、受光素子27A,27B,27 [0029] In this case, the light-receiving element 27A, 27B, 27
D〜27Fはそれぞれ遮光膜上に設置されているため、 Since D~27F is installed on the respective light-shielding film,
投影光学系1Aの瞳位置に瞳フィルタを設置したときに、それら受光素子により結像特性が悪影響を受けることがない。 When you install the pupil filter in the pupil position of the projection optical system 1A, the imaging characteristics will not be adversely affected by their light-receiving element. なお、瞳フィルタ43A,43B,43D〜 It should be noted that the pupil filter 43A, 43B, 43D~
43Fとしては、直径の異なる遮光板を細い支柱で支持するだけのフィルタを使用でき、この場合には瞳フィルタ43Cは単なる空間となる。 The 43F, can use a filter that only support the different shading plate diameter in thin struts, pupil filter 43C in this case is simply a space.

【0030】この投影光学系1Aを図1の投影露光装置に装着した場合、露光するパターンに応じて図2(a) In the case of mounting the projection optical system 1A in the projection exposure apparatus of FIG. 1, in accordance with the pattern to be exposed FIGS. 2 (a)
のθ1方向に回転板41を回転して、瞳フィルタの内の最適の瞳フィルタ又はダミーのガラス基板43Cの中心を投影光学系1Aの光軸AX上に位置決めする。 By rotating the rotating plate 41 in the θ1 direction, to position the optimum center of the pupil filter or a dummy glass substrate 43C of the pupil filter on the optical axis AX of the projection optical system 1A. これにより、露光するパターンに応じて高い解像力、且つ深い焦点深度で露光が行われる。 Thereby, high resolving power depending on the pattern to be exposed, the exposure and a deep depth of focus is performed.

【0031】また、図2(a)に示すように、回転板4 Further, as shown in FIG. 2 (a), the rotary plate 4
1上には所定の角度ピッチで格子パターンが配列された周期的トラック32、及び所定の原点の位置のみにパターンが配列された原点トラック31が形成され、これら周期的トラック32及び原点トラック31上にロータリエンコーダ28が設置されている。 Predetermined angular pitch period track 32 lattice patterns are arranged at the origin track 31 and the pattern positioned on only the predetermined origin are arranged, is formed on the 1, these periodic track 32 and the origin track 31 on rotary encoder 28 is installed in. 回転板41が回転すると、ロータリエンコーダ28は、周期的トラック32 When the rotating plate 41 is rotated, the rotary encoder 28 periodically tracks 32
の回転角に応じて生成されるアップ・ダウンのパルス信号を積算し、原点トラック31の原点パターンがその下を通過した時点でその積算値をリセットする。 It integrates the pulse signal of the up-down that is generated according to the rotation angle of the origin patterns of origin track 31 resets the integrated value at the time having passed under it. これにより、回転板41の絶対回転角がロータリエンコーダ28 Thus, the absolute of the rotary plate 41 rotating angle rotary encoder 28
により常時検出され、この絶対回転角の情報が図1の主制御系22に供給されている。 By always detected, information of the absolute rotation angle is supplied to the main control system 22 of FIG. 1.

【0032】本実施例では、予め瞳フィルタ又はダミーのガラス基板43Cが投影光学系1Aの瞳に設置されているときにロータリエンコーダ28により検出される絶対回転角が求められている。 [0032] In this embodiment, the absolute rotation angle detected by the rotary encoder 28 is required when the glass substrate 43C of the pre pupil filter or dummy is placed on the pupil of the projection optical system 1A. 従って、主制御系22は、 Accordingly, the main control system 22,
その絶対回転角の情報から現在投影光学系1Aの瞳に設定されている瞳フィルタ又はダミーのガラス基板の種類を判別できる。 As the information of the absolute rotation angle can determine the type of pupil filter or a dummy glass substrate is set to the pupil of the current projection optical system 1A.

【0033】次に、本実施例でコンタクトホールパターンの露光を行う場合の全体の動作の一例につき図3のフローチャートを参照して説明する。 Next, it will be described with reference to the flowchart of FIG. 3 per an example of the overall operation of the case of performing the exposure of the contact hole pattern in the present embodiment. 先ず図3のステップ101において、図1のレチクルステージRST上にコンタクトホールパターン用のレチクルをロードする。 First, in step 101 of FIG. 3, it loads the reticle for a contact hole pattern on the reticle stage RST in FIG. その際に、主制御系22はレチクルリーダ25を介して、 At this time, the main control system 22 via a reticle reader 25,
ロードされるレチクルに形成されているバーコードを読み取る。 Reading a bar code formed on a reticle to be loaded. これにより、ロードされるレチクルがコンタクトホールパターン用のレチクルかどうかが確認される。 As a result, the reticle to be loaded is whether or not the reticle for a contact hole pattern is confirmed.
コンタクトホールパターン用のレチクルでない場合には、レチクル収納棚(不図示)にある正しいレチクルとの交換が行われる。 If not reticle for contact hole patterns, the exchange of the correct reticle in reticle storage rack (not shown) is performed.

【0034】なお、レチクルがコンタクトホールパターン用のレチクルかどうかを確認する方法としては、バーコードを読み取る方法以外に、レチクル収納棚からレチクルステージRST上にレチクルを搬送する途中で、透過率測定装置によりレチクルのパターン領域の透過率(透過光量/入射光量)を測定する方法を用いてもよい。 [0034] As a method of reticle To determine whether a reticle for the contact hole pattern, in addition to the method of reading a bar code, in the course of transporting the reticle from the reticle storage rack on the reticle stage RST, transmittance measuring device a method may be used to measure the transmittance of the pattern area of ​​the reticle (the transmitted light amount / incident light amount) by. 一般にコンタクトホールパターンでは全体のパターン領域の面積に対する遮光部の面積の割合が、ライン・ In general the ratio of the area of ​​the light-shielding portion to the area of ​​the entire pattern area in the contact hole pattern, line
アンド・スペースパターンのようなパターンに比べて大きい。 Larger than the pattern, such as the and-space pattern. 即ち、コンタクトホールパターンの透過率は他のパターンに比べて小さいため、透過率の計測からコンタクトホールパターンか否かを判別できる。 That is, the transmittance of the contact hole pattern is small compared to the other patterns, can be determined whether or not the contact hole pattern from the measurement of transmittance.

【0035】その後、ステップ102において、主制御系22は着脱装置26を動作させて、図2(a)の瞳フィルタ43A,43B,43D〜43Fの内から露光対象とするレチクルに形成されたコンタクトホールパターンに対応する瞳フィルタ(これを瞳フィルタ43Aとする)を選択して、投影光学系1Aの瞳位置に設定する。 [0035] Thereafter, in step 102, the main control system 22 operates the attachment apparatus 26, the contact formed on a reticle to be exposed pupil filter 43A, 43B, from among 43D~43F in FIGS. 2 (a) select the pupil filter corresponding to the hole pattern (referred to as pupil filter 43A), is set to the pupil position of the projection optical system 1A.
この際に、主制御系22は、図2のロータリエンコーダ28からの位置信号のモニタし、選択された瞳フィルタ43Aが実際に投影光学系1Aの瞳位置に設定されたかどうかを確認し、別の瞳フィルタが設定されている場合には、着脱装置26を介してその瞳フィルタを交換する。 At this time, the main control system 22 monitors the position signal from the rotary encoder 28 in FIG. 2, to verify whether it has been set to the pupil position of the pupil filter 43A selected actually the projection optical system 1A, another If the pupil filter is set to replace the pupil filter through the attachment apparatus 26.

【0036】次に、主制御系22は、ステップ103において図1のシャッタ8を開いて露光光ILの照射を開始し、ステップ104において、判別回路29を介して瞳フィルタ43A上の受光素子27Aの出力信号をモニタする。 Next, the main control system 22 opens the shutter 8 in FIG. 1 starts the irradiation of the exposure light IL in step 103, in step 104, in the pupil filter 43A through the determination circuit 29 receiving element 27A to monitor the output of the signal. そして、ステップ105において、判別回路2 Then, in step 105, the determination circuit 2
9は、受光素子27Aの出力信号がノイズレベルより大きいかどうかを検査し、この検査結果を主制御系22に供給する。 9, checks whether the output signal of the light receiving element 27A is greater than the noise level, and supplies the inspection result to the main control system 22. 受光素子27Aの出力信号がそのノイズレベル以下である場合には、瞳フィルタ43Aが投影光学系1Aの瞳位置に設置されていないことになり、何等かの誤動作が生じている恐れがあるため、ステップ106において主制御系22はオペレータコールを行う。 Since the output signal of the light receiving element 27A is the case where the noise level below will be pupil filter 43A is not provided at the pupil position of the projection optical system 1A, there is a possibility that some kind of malfunction occurs, the main control system in step 106 22 performs operator call. これに応じてオペレータは、着脱装置26の動作を調べる。 In response to this the operator checks the operation of the detachable unit 26.

【0037】一方、ステップ105において、受光素子27Aの出力信号がそのノイズレベルより大きい場合には、瞳フィルタ43Aが投影光学系1Aの瞳位置に設置されていることが確認できたため、ステップ107に移行して、受光素子1Aの出力信号のレベルがコンタクトホールパターンに対応するレベルかどうかを検査する。 On the other hand, in step 105, when the output signal of the light receiving element 27A is greater than the noise level, because that pupil filter 43A is disposed at the pupil position of the projection optical system 1A was confirmed, in step 107 and migrated, the level of the output signal of the light receiving element 1A is to check whether the level corresponding to the contact hole pattern.
その出力信号がコンタクトホールパターンに対応するレベルである場合には、ステップ108に移行して、シャッタ8を閉じた後、露光対象のウエハをウエハステージWST上にロードして露光を行う。 If the output signal is a level corresponding to the contact hole pattern, the process proceeds to step 108, after closing the shutter 8, the exposure is performed to load the wafer to be exposed on the wafer stage WST. また、受光素子1A The light receiving element 1A
の出力信号のレベルがコンタクトホールパターンに対応するレベルでない場合には、ステップ106に移行して主制御系22はオペレータコールを行う。 When the level of the output signal is not a level corresponding to the contact hole pattern, the main control system 22 proceeds to step 106 performs operator call. オペレータは、レチクルテージRST上に載置されているレチクルの種類を確認する。 The operator checks the type of a reticle resting on the reticle stage RST.

【0038】以上のように本実施例によれば、瞳フィルタ43A上の受光素子27Aの出力信号を用いて、瞳フィルタ43Aが投影光学系1Aの瞳位置に実際に設定されているかどうか、及び露光対象とするパターンがコンタクトホールパターンかどうかを確認しているため、コンタクトホールパターンの露光を行う際に誤って瞳フィルタを設置しないという事態が確実に回避できる。 [0038] According to this embodiment, as described above, by using the output signal of the light receiving element 27A on the pupil filter 43A, whether the pupil filter 43A is actually set to the pupil position of the projection optical system 1A, and since the pattern to be exposed is to check whether the contact hole patterns, a situation that by mistake in performing exposure of contact hole patterns not place the pupil filter can be reliably avoided.

【0039】次に、コンタクトホールパターン以外の例えばライン・アンド・スペースパターン(L&Sパターン)の露光を行う場合の全体の動作の一例につき図3のフローチャートを参照して説明する。 Next, it will be described with reference to the flowchart of FIG. 3 per an example of the overall operation of the case where the exposure of other example, a line-and-space pattern contact hole pattern (L & S pattern). 先ず図3のステップ111において、図1のレチクルステージRST上にL&Sパターン用のレチクルをロードする。 First, in step 111 of FIG. 3, it loads the reticle for L & S pattern on the reticle stage RST in FIG. その際に、 At that time,
レチクルリーダ25を介してレチクルに形成されているバーコードを読み取り、ロードされるレチクルがL&S Reading a bar code formed on the reticle through the reticle reader 25, a reticle L & S loaded
パターン用のレチクルかどうかを確認する。 To confirm whether or not the reticle for a pattern. L&Sパターン用のレチクルでない場合には、レチクル収納棚にある正しいレチクルとの交換が行われる。 L & If this is not the reticle for a S pattern, the exchange of the correct reticle in the reticle storage shelf is carried out.

【0040】その後、ステップ112において、主制御系22は着脱装置26を動作させて、図2(a)のダミーのガラス基板43Cを投影光学系1Aの瞳位置に設定する。 [0040] Thereafter, in step 112, the main control system 22 operates the detachable unit 26, sets a dummy glass substrate 43C shown in FIG. 2 (a) to the pupil position of the projection optical system 1A. この際に、主制御系22は、図2のロータリエンコーダ28からの位置信号のモニタし、ダミーのガラス基板43Cが実際に投影光学系1Aの瞳位置に設定されたかどうかを確認し、瞳フィルタが設定されている場合には、着脱装置26を介してその瞳フィルタを交換する。 At this time, the main control system 22 monitors the position signal from the rotary encoder 28 in FIG. 2, to determine whether a dummy glass substrate 43C is actually set to the pupil position of the projection optical system 1A, pupil filter There if it is set, replace the pupil filter through the attachment apparatus 26.

【0041】次に、主制御系22は、ステップ113において図1のシャッタ8を開いて露光光ILの照射を開始し、ステップ114において、判別回路29を介して瞳フィルタ43A,43B,43D〜43F上の受光素子27A,27B,27D〜27Fの出力信号をモニタする。 Next, the main control system 22 opens the shutter 8 in FIG. 1 starts the irradiation of the exposure light IL in step 113, in step 114, the pupil filter 43A through the determination circuit 29, 43B, 43D~ light-receiving element 27A on 43F, 27B, which monitors the output signal of 27D~27F. そして、ステップ115において、判別回路29 Then, in step 115, the determination circuit 29
は、受光素子27A,27B,27D〜27Fの出力信号がノイズレベルより小さいかどうかを検査し、この検査結果を主制御系22に供給する。 The light receiving elements 27A, 27B, the output signal of 27D~27F examines whether below the noise level, and supplies the inspection result to the main control system 22. 受光素子の中に出力信号がそのノイズレベル以上であるものが存在する場合には、何等かの瞳フィルが誤って投影光学系1Aの瞳位置に設置されていることになり、何等かの誤動作が生じている恐れがあるため、ステップ116において主制御系22はオペレータコールを行う。 If those output signals in the light receiving element is the noise level or higher is present, will be some kind of pupil fill is installed in the pupil position of the projection optical system 1A accidentally, some kind of malfunction because it may have occurred, the main control system 22 in step 116 performs the operator call. これに応じてオペレータは、着脱装置26の動作を調べる。 In response to this the operator checks the operation of the detachable unit 26.

【0042】一方、ステップ115において、全ての受光素子の出力信号がそのノイズレベルより小さい場合には、瞳フィルタは投影光学系1Aの瞳位置に設置されていないことが確認できたため、ステップ117に移行して、図1の照射量モニタ30を投影光学系1Aの露光フィールド内に移動し、照射量モニタ30の出力信号をモニタする。 On the other hand, in step 115, when the output signals of all the light receiving elements is smaller than the noise level, because the pupil filter was confirmed that not installed in the pupil position of the projection optical system 1A, the step 117 and migrated to move the irradiation monitor 30 of FIG. 1 in the exposure field of the projection optical system. 1A, it monitors the output signal of the dose monitor 30. その後、ステップ118において、照射量モニタ30の出力信号のレベルがL&Sパターンに対応するレベルかどうかを検査する。 Thereafter, in step 118, the level of the output signal of the dose monitor 30 checks whether the level corresponding to the L & S pattern. その出力信号がL&Sパターンに対応するレベルである場合には、ステップ11 If the output signal is a level corresponding to the L & S pattern, step 11
9に移行して、シャッタ8を閉じた後、露光対象のウエハをウエハステージWST上にロードして露光を行う。 The process proceeds to 9, after closing the shutter 8, the exposure is performed to load the wafer to be exposed on the wafer stage WST.
また、照射量モニタ30の出力信号のレベルがL&Sパターンに対応するレベルでない場合には、ステップ11 Further, when the level of the output signal of the dose monitor 30 is not at a level corresponding to the L & S pattern, step 11
6に移行して主制御系22はオペレータコールを行う。 The main control system 22 proceeds to 6 do operator call.
オペレータは、レチクルテージRST上に載置されているレチクルの種類を確認する。 The operator checks the type of a reticle resting on the reticle stage RST.

【0043】以上のように本実施例によれば、L&Sパターンの露光を行う場合に、瞳フィルタ上の受光素子の出力信号を用いて、瞳フィルタが投影光学系1Aの瞳位置に設定されていないことを確認しているため、誤って瞳フィルタを設置した状態で露光を行うことが確実に防止される。 [0043] According to this embodiment, as described above, when performing exposure of L & S pattern, using the output signal of the light receiving element on the pupil filter, the pupil filter is set to the pupil position of the projection optical system 1A since it has been confirmed that no, performing exposure while installing the pupil filter accidentally is reliably prevented. 従って、大きなエネルギーの露光光の照射により瞳フィルタが損傷を受けることもなくなる。 Therefore, the pupil filter by irradiation with large energy of the exposure light is eliminated also be damaged. 更に、 In addition,
照射量モニタ30の出力信号から、露光対象とするパターンがライン・アンド・スペースパターンかどうかを確認しているため、他のレチクルのパターンを誤って露光することが確実に回避できる。 From the output signal of the dose monitor 30, a pattern to be exposed is because it verify that the line-and-space pattern, be exposed accidentally pattern of another reticle can be reliably avoided.

【0044】なお、特に注意を要することは、瞳フィルタが投影光学系1Aの瞳位置に設置されている状態で、 It should be noted, in particular, it takes care, in a state where pupil filter is provided at the pupil position of the projection optical system 1A,
コンタクトホールパターン以外の露光を行うこと(瞳フィルタにコンタクトホールパターン以外の露光時の露光量が照射されること)である。 A performing exposure other than the contact hole pattern (the exposure amount at the time of exposure other than the contact hole pattern in the pupil filter is irradiated). そこで、レチクル交換後にウエハの第1ショット領域へ露光する際の露光量を下げることにより、瞳フィルタにいきなり高い照射量の露光光が照射されないようにする方法も考えられる。 Therefore, by lowering the exposure amount at the time of exposure to the first shot area of ​​the wafer after the reticle exchange, the exposure light suddenly higher dose to the pupil filter is also conceivable to not irradiated.

【0045】次に、本発明の他の実施例につき図4を参照して説明する。 Next, will be explained with reference to Figure 4 to another embodiment of the present invention. この実施例はスライド式で瞳フィルタの交換又は着脱を行うものである。 This embodiment is to exchange or removable pupil filters sliding. 図4(b)は本実施例の投影光学系1B及び瞳フィルタの着脱装置33の正面断面図、図4(a)は投影光学系1B及び瞳フィルタの着脱装置33の平面図であり、図2に対応する部分には同一符号を付してある。 4 (b) is a front sectional view of a projection optical system 1B and pupil filter attachment apparatus 33 of this embodiment, a plan view of FIG. 4 (a) projection optical system 1B and pupil filter attachment apparatus 33, FIG. portions corresponding to 2 are denoted by the same reference numerals. 図4(b)に示すように、投影光学系1Bは、鏡筒2C内に上から順に前群レンズ系3、開口絞り5、及び後群レンズ系4を固定して構成され、鏡筒2Cの開口絞り5の直下の部分、即ち投影光学系1Bの瞳面付近に開口45A及び45Bが穿設されている。 As shown in FIG. 4 (b), the projection optical system 1B is, barrel 2C sequentially front group lens system from above in 3, is constructed by fixing the aperture stop 5, and the rear-group lens system 4, the lens barrel 2C portion just under the aperture stop 5, i.e. in the vicinity of the pupil plane of the projection optical system 1B openings 45A and 45B are drilled in. そして、開口45A及び45Bを通して光軸AX Then, the optical axis AX through openings 45A and 45B
を垂直に横切るX軸方向にスライド板46を配し、スライド板46を送り装置47でX方向に摺動自在に支持する。 The arranged slide plate 46 in the X-axis direction transverse to the vertical, is slidably supported in the X-direction slide plate 46 the feed device 47. 図4(a)に示すように、スライド板46上には、 As shown in FIG. 4 (a), on the slide plate 46,
X軸上に中心を有するように瞳フィルタ43B,43 Pupil filter 43B so as to have centered on the X axis, 43
D,43E及びダミーのガラス基板43Cを配置する。 D, and place the 43E and the dummy glass substrate 43C.

【0046】本実施例では、露光するパターンに応じてスライド板46をX軸方向に移動させて、最適な瞳フィルタ又はガラス基板43Cの中心を投影光学系1Bの光軸AXに合致させる。 [0046] In this embodiment, the slide plate 46 in accordance with the pattern to be exposed is moved in the X-axis direction, to match the optical axis AX of the projection optical system 1B of the center of the optimal pupil filter or a glass substrate 43C. これにより、露光するパターンに応じて、高い解像力、且つ深い焦点深度で露光が行われる。 Thus, depending on the pattern to be exposed, high resolution, exposure and a deep depth of focus is performed. また、図4(a)に示すように、瞳フィルタ43 Further, as shown in FIG. 4 (a), the pupil filter 43
B,43D,43Eの遮光膜上にそれぞれ受光素子27 B, 43D, respectively receiving element on the light-shielding film of 43E 27
B,27D,27Eが固定され、これら受光素子の出力信号が図1の判別回路29に供給される。 B, 27D, 27E is fixed, the output signal of the light receiving element is supplied to the discrimination circuit 29 of FIG. 1. 図2の実施例と同様に、図4の受光素子27B,27D,27Eの出力信号より、瞳フィルタの投影光学系1Bの瞳位置への設置状態、及び露光対象とするパターンの種類が判別できる。 As with the embodiment of FIG. 2, the light receiving element 27B in FIG. 4, 27D, the output signal of 27E, installation state of the pupil position of the projection optical system 1B of the pupil filter, and the type of pattern to be exposed can be determined .

【0047】また、スライド板46上には、X方向に直線状のスケール34が設置され、このスケール34の絶対位置をリニアエンコーダ35により検出できるようになっており、リニアエンコーダ35の計測結果が図1の主制御系22に供給されている。 Further, on the slide plate 46, a linear scale 34 is installed in the X-direction, it has become the absolute position of the scale 34 can be detected by the linear encoder 35, the measurement result of the linear encoder 35 It is supplied to the main control system 22 of FIG. 1. 主制御系22は、リニアエンコーダ35の計測結果より現在投影光学系1Bの瞳位置に設置されている瞳フィルタの種類を認識できる。 The main control system 22 can recognize the type of pupil filters from the measurement results of the linear encoder 35 is disposed at the pupil position of the current projection optical system 1B. 他の構成及び動作は図1及び図2の実施例と同様である。 Other configurations and operations are similar to the embodiment of FIGS.

【0048】なお、上述実施例では、瞳フィルタとして径の異なる遮光膜が形成されたガラス基板が使用されているが、瞳フィルタとしては、例えば偏光板を組み合わせたフィルタ、中心部と周辺部とで所定の光路長差を設けたフィルタ等を使用することができる。 [0048] In the above embodiment, a glass substrate having different light-shielding film in diameter as the pupil filter is formed is used, the pupil filter, and for example, a filter combines a polarizing plate, the central portion and the peripheral portion in can be used a filter or the like having a predetermined optical path length difference. このように、 in this way,
本発明は上述実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。 The present invention is not restricted to the above-described embodiments may take a variety of configurations without departing from the gist of the present invention.

【0049】 [0049]

【発明の効果】本発明の第1の投影露光装置によれば、 According to the first projection exposure apparatus of the present invention,
着脱状態検出手段により検出した瞳フィルタの着脱状態が、露光対象とするマスクに応じて定められた瞳フィルタの着脱情報に対応するかどうかを確認しているため、 Since the check whether detachment state of the pupil filter detected corresponds to the pupil removable filter information defined in accordance with the mask to be exposed by detaching state detecting means,
瞳フィルタを必要としないパターンを露光する場合に、 When exposing a pattern which does not require the pupil filter,
誤って投影光学系の瞳面付近に瞳フィルタを設置して露光を行うことがないという利点がある。 Incorrectly there is an advantage that is not to perform the installation to expose the pupil filter in the vicinity of the pupil plane of the projection optical system.

【0050】従って、照射エネルギーによる瞳フィルタの加熱又は損傷、及びそれに伴う投影光学系内の温度上昇を防止することができるため、投影光学系の冷却時間を取る必要がなくなり、露光工程のスループットの低下を防止することができる。 [0050] Therefore, heating or damage to the pupil filter according to the irradiation energy, and it is possible to prevent a temperature rise in the projection optical system associated therewith, it is not necessary to take a cooling time of the projection optical system, the throughput of the exposure step it is possible to prevent the deterioration. また、着脱状態検出手段が、 Further, the detachment state detection means,
瞳フィルタの投影光学系に対する相対的な位置を検出する位置検出手段である場合には、機械的な位置関係から確実且つ簡便に瞳フィルタが投影光学系の瞳面付近に設置されているかどうかを検出できる。 When a position detecting means for detecting a relative position with respect to the projection optical system of the pupil filter, whether securely and conveniently pupil filter from the mechanical positional relationship is installed in the vicinity of the pupil plane of the projection optical system It can be detected.

【0051】また、着脱情報入力手段が、マスクのパターンの種類に応じて予め定められた瞳フィルタの着脱情報を記憶する記憶手段と、マスク上の転写用のパターンの種類を判別するマスク判別手段と、その記憶手段に記憶された瞳フィルタの着脱情報から判別された転写用パターンの種類に応じた瞳フィルタの最適着脱情報を選択する選択手段とを有し、制御手段が、その最適着脱情報に基づいて瞳フィルタ着脱手段の動作を制御し、確認手段が、着脱状態検出手段により検出された瞳フィルタの着脱状態がその最適着脱情報に対応するかどうかを確認する場合には、マスク上の実際のパターンに対応する瞳フィルタが選択されるため、マスクと瞳フィルタとの対応関係を誤ることがない。 [0051] Further, detachable information input means, storage means for storing the removable information of the pupil filter is predetermined according to the type of the pattern of the mask, the mask determination means for determining the type of pattern to be transferred on the mask When, and selection means for selecting an optimal detachment information of the pupil filter according to the type of the transfer pattern is determined from the removable information storage pupil filter in the storage means, the control means, the optimum detachable information It controls the operation of the pupil filter detachable means on the basis of the confirmation means, when the detachment state of the pupil filter detected by the detachment state detection means to check whether it corresponds to the optimum detachable information on the mask since the pupil filter corresponding to the actual pattern is selected, never wrong correspondence between the mask and the pupil filter.

【0052】次に、本発明の第2の投影露光装置によれば、瞳フィルタ上に設けた光電変換手段の出力信号から、マスクのパターンの種類及び瞳フィルタの着脱状態を判別するようにしているため、瞳フィルタを必要としないパターンを露光する場合に、誤って投影光学系の瞳面付近に瞳フィルタを設置して露光を行うことがないという利点がある。 Next, according to the second projection exposure apparatus of the present invention, from the output signal of the photoelectric conversion means provided on the pupil filter, so as to determine the type and detachment state of the pupil filter of the pattern of the mask because you are, in the case of exposing a pattern that does not require a pupil filter, there is an advantage that is not to perform incorrectly exposed by installing a pupil filter in the vicinity of the pupil plane of the projection optical system.

【0053】この場合、その光電変換手段を瞳フィルタ上の減光領域上に設けた場合には、光電変換手段による投影光学系の結像特性に対する影響が小さいという利点がある。 [0053] In this case, in which case the photoelectric conversion means provided on a dimming region on the pupil filter has the advantage that influence on the image formation characteristic of the projection optical system by the photoelectric conversion means is small.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明による投影露光装置の一実施例の全体を示す構成図である。 1 is a configuration diagram showing the whole of an embodiment of a projection exposure apparatus according to the present invention.

【図2】(a)はその実施例の投影光学系及び瞳フィルタの着脱装置を示す平面図、(b)はその投影光学系及び着脱装置を示す正面断面図である。 2 (a) is a plan view showing the attachment apparatus of the projection optical system and the pupil filter in the embodiment is a front sectional view showing a (b) is the projection optical system and removable device.

【図3】実施例でレチクルのパターンを露光する場合の動作の一例を示すフローチャートである。 3 is a flowchart showing an example of operation when exposing a pattern of a reticle in the Examples.

【図4】(a)は本発明の他の実施例の投影光学系及び瞳フィルタの着脱装置を示す平面図、(b)はその投影光学系及び着脱装置を示す正面断面図である。 4 (a) is a plan view showing a projection optical system and unloading device of the pupil filter of another embodiment of the present invention, (b) is a front sectional view showing the projection optical system and removable device.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1A,1B 投影光学系 2A 前部鏡筒 2B 後部鏡筒 2C 鏡筒 5 開口絞り 6 水銀ランプ 8 シャッタ 11 フライアイレンズ 18 コンデンサーレンズ R レチクル W ウエハ 22 主制御系 25 レチクルリーダ 26 着脱装置 27A,27B,27D〜27E 受光素子 28 ロータリエンコーダ 29 判別回路 30 照射量モニタ 41 回転板 43A,43B,43D〜43F 瞳フィルタ 43C ダミーのガラス基板 1A, 1B projection optical system 2A front barrel 2B rear barrel 2C barrel 5 aperture stop 6 mercury lamp 8 shutter 11 fly's eye lens 18 condenser lens R reticle W wafer 22 main control system 25 reticle reader 26 detachable device 27A, 27B , 27D~27E light receiving element 28 a rotary encoder 29 determining circuit 30 irradiation monitor 41 rotating plate 43A, 43B, the glass substrate 43D~43F pupil filter 43C dummy

Claims (5)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 マスク上に形成された転写用のパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に投影する投影露光装置において、 前記投影光学系の瞳面又は該瞳面の近傍の面内であって前記マスクからの光束が通過する領域に所定の透過率分布又は位相分布を有する瞳フィルタを設置すると共に、 1. A projection exposure apparatus for projecting onto the photosensitive substrate through the image of the pattern to be transferred formed on a mask projection optical system, the surface in the vicinity of the pupil plane or the pupil plane of the projection optical system with a inner installing a pupil filter having a predetermined transmittance in the region where the light beams pass distribution or phase distribution from the mask,
    前記マスクからの光束が通過する領域から該瞳フィルタを退避させる瞳フィルタ着脱手段と;前記マスク上のパターンの種類に応じて予め定められた前記瞳フィルタの着脱情報を入力する着脱情報入力手段と;該着脱情報入力手段により入力された前記瞳フィルタの着脱情報に基づいて前記瞳フィルタ着脱手段の動作を制御する制御手段と;前記瞳フィルタの着脱状態を検出する着脱状態検出手段と;該着脱状態検出手段により検出された前記瞳フィルタの着脱状態が前記着脱情報入力手段により入力された前記瞳フィルタの着脱情報に対応するかどうかを確認する確認手段と;を有することを特徴とする投影露光装置。 A removable information input means for inputting a removable information of the pupil filter which is determined in advance in accordance with the pattern type on the mask; light flux and pupil filter detachable means for retracting the pupil filter from the region passing from the mask ; and control means on the basis of the removable information of the pupil filter that is inputted by the detachable information input means for controlling the operation of the pupil filter detachable means; a mounting and dismounting detecting device that detects mounting and dismounting of the pupil filter, said detachable projection exposure, characterized in that it comprises a; detachment state of the pupil filter which is detected by the state detecting means and confirmation means for confirming whether it corresponds to removable information of the pupil filter that is inputted by the detachable information input means apparatus.
  2. 【請求項2】 前記着脱状態検出手段は、前記瞳フィルタの前記投影光学系に対する相対的な位置を検出する位置検出手段であることを特徴とする請求項1記載の投影露光装置。 Wherein the detachable state detecting means is a projection exposure apparatus according to claim 1, characterized in that the position detecting means for detecting a relative position with respect to the projection optical system of the pupil filter.
  3. 【請求項3】 前記着脱情報入力手段は、前記マスクのパターンの種類に応じて予め定められた前記瞳フィルタの着脱情報を記憶する記憶手段と、前記マスク上の前記転写用のパターンの種類を判別するマスク判別手段と、 Wherein said detachable information input means, storage means for storing the removable information of the pupil filter predetermined according to the kind of pattern of the mask, the kind of pattern for the transfer on the mask a mask determination means for determining,
    前記記憶手段に記憶された前記瞳フィルタの着脱情報から判別された前記転写用パターンの種類に応じた前記瞳フィルタの最適着脱情報を選択する選択手段と、を有し、 前記制御手段は、前記最適着脱情報に基づいて前記瞳フィルタ着脱手段の動作を制御し、前記確認手段は、前記着脱状態検出手段により検出された前記瞳フィルタの着脱状態が前記最適着脱情報に対応するかどうかを確認することを特徴とする請求項1又は2記載の投影露光装置。 Anda selection means for selecting an optimal detachment information of the pupil filter in accordance with the type of the transfer pattern that is determined from the removable information of the pupil filter stored in the storage means, the control means, wherein based on the optimal detachable information to control the operation of the pupil filter detachable means, said confirmation means, detachment state of the pupil filter detected by the detachment state detection means to determine whether corresponding to the optimum detachable information projection exposure apparatus according to claim 1 or 2, wherein the.
  4. 【請求項4】 マスク上に形成された転写用のパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に投影する投影露光装置において、 前記投影光学系の瞳面又は該瞳面の近傍の面内であって前記マスクからの光束が通過する領域に対して着脱自在に支持され、所定の透過率分布又は位相分布を有する瞳フィルタと;前記マスク上のパターンの種類に応じて予め定められた前記瞳フィルタの着脱情報を入力する着脱情報入力手段と;前記瞳フィルタ上に設けられ、前記マスクからの光束の光量に応じた信号を出力する光電変換手段と;該光電変換手段の出力信号に基づいて前記マスクのパターンの種類及び前記瞳フィルタの着脱状態を判別する判別手段と;該判別手段により判別された前記瞳フィルタの着脱状態が、前記着脱情報入力手段により入 4. A projection exposure apparatus for projecting onto the photosensitive substrate through the image of the pattern to be transferred formed on a mask projection optical system, the surface in the vicinity of the pupil plane or the pupil plane of the projection optical system light beams from said mask is detachably supported to a region through an inner, pupil filter and having a predetermined transmittance distribution or phase distribution; predetermined according to the type of the pattern on the mask provided on the pupil filter, a photoelectric conversion means and for outputting a signal corresponding to the light amount of the light beam from the mask; removable information input means and for inputting the removable information of the pupil filter to the output signal of the photoelectric conversion means discriminating means and for discriminating the type and detachment state of the pupil filter of the pattern of the mask based; dismounting of the pupil filter is determined by 該判 by means, input by the detachable information input means された前記瞳フィルタの着脱情報と対応するかどうかを確認する確認手段と;を有することを特徴とする投影露光装置。 Projection exposure apparatus characterized by having: a confirmation means for confirming whether been associated with detachable information of the pupil filter.
  5. 【請求項5】 前記瞳フィルタは、所定の減光特性を有する減光領域を有し、前記光電変換手段を該減光領域上に設けたことを特徴とする請求項4記載の投影露光装置。 Wherein said pupil filter has a dimming region having a predetermined dimming characteristic, the projection exposure apparatus according to claim 4, characterized by providing said photoelectric conversion means into the reduced light region .
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