JPH07155673A - Application device - Google Patents

Application device

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JPH07155673A
JPH07155673A JP33915793A JP33915793A JPH07155673A JP H07155673 A JPH07155673 A JP H07155673A JP 33915793 A JP33915793 A JP 33915793A JP 33915793 A JP33915793 A JP 33915793A JP H07155673 A JPH07155673 A JP H07155673A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
humidity
temperature
gas
chamber
Prior art date
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Pending
Application number
JP33915793A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihide Kojima
美英 小島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Casio Computer Co Ltd filed Critical Casio Computer Co Ltd
Priority to JP33915793A priority Critical patent/JPH07155673A/en
Publication of JPH07155673A publication Critical patent/JPH07155673A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Spray Control Apparatus (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide an application device which is capable of applying an application agent to an object to be coated without non conformity and is low-priced by keeping application environment such as temperature, humidity and static electricity in order rapidly. CONSTITUTION:An application device is composed of a rotary table 2 which is driven to rotate by a drive motor 3 in an application chamber 13, an application agent drip device 22 which drips a specified quantity of application agent to an object to be coated deposited on the rotary table 2, and a temperature/humidity adjustment device 24 which maintains the interior of the application chamber 13 in a specified condition.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、塗布装置、特に、レ
ジスト剤等の塗布剤を適切な環境下で塗布できる回転塗
布装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating apparatus, and more particularly to a spin coating apparatus capable of coating a coating agent such as a resist agent in an appropriate environment.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置のガラス基板の一面に透明
電極をフォトリソグラフィー法によって形成する場合、
まず、ガラス基板の一面全体にITO等から成る透明電
極形成用の膜を形成する。次に、この膜の上にレジスト
を塗布し、レジストをパターニングする。パターンニン
グされたレジストパンターンをマスクとして透明電極形
成用膜をエッチングして、所望の透明電極を形成してい
る。
2. Description of the Related Art When a transparent electrode is formed on one surface of a glass substrate of a liquid crystal display device by photolithography,
First, a film for forming a transparent electrode made of ITO or the like is formed on the entire surface of the glass substrate. Next, a resist is applied on this film, and the resist is patterned. The transparent electrode forming film is etched using the patterned resist pan pattern as a mask to form a desired transparent electrode.

【0003】図2は、このような場合に使用される回転
レジスト塗布装置の一例を示す。図2において、回転ス
テージ101は、塗布対象物であるガラス基板102を
載置するものであり、ハウジング103の上部内に形成
された塗布室104内に設置されている。回転ステージ
101はその中心軸に固定された駆動モータ105によ
って回転される。駆動モータ105は制御部106によ
り回転速度、回転時間等が制御される。
FIG. 2 shows an example of a rotary resist coating apparatus used in such a case. In FIG. 2, a rotary stage 101 is for mounting a glass substrate 102, which is an object to be coated, and is installed in a coating chamber 104 formed in an upper part of a housing 103. The rotary stage 101 is rotated by a drive motor 105 fixed to its central axis. The control unit 106 controls the rotation speed, rotation time, etc. of the drive motor 105.

【0004】塗布を行う場合、外部の真空装置(図示せ
ず)により、真空チャック用真空ライン107及び真空
チャック弁108を介してガラス基板102を回転ステ
ージ101の上面に吸着する。次に、塗布室104の上
蓋109を閉じ、上蓋109の中央の穴からガラス基板
102上に液状塗布剤を滴下する。その後、排気ダクト
111から排気を行いながら回転ステージ101を回転
させ、塗布剤をその遠心力によりガラス基板102上に
均等な厚さになるように広げて、塗布する。
When applying, the glass substrate 102 is attracted to the upper surface of the rotary stage 101 via an external vacuum device (not shown) via the vacuum chuck vacuum line 107 and the vacuum chuck valve 108. Next, the upper lid 109 of the coating chamber 104 is closed, and the liquid coating agent is dripped onto the glass substrate 102 through the hole in the center of the upper lid 109. After that, the rotary stage 101 is rotated while exhausting air from the exhaust duct 111, and the coating agent is spread and applied on the glass substrate 102 by the centrifugal force so as to have a uniform thickness.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】塗布装置内の温度、湿
度、静電気等の塗布環境に影響され易い塗布剤、例え
ば、ポリイミド、低沸点溶媒を含む金属アルコキシド等
を使用した場合、従来の塗布装置では、塗布剤と塗布環
境がマッチせず、形成膜の膜厚のムラ、クラック(割れ
目)、白濁等が生じてしまう場合がある。
When a coating material such as polyimide or a metal alkoxide containing a low boiling point solvent is used, which is easily affected by the coating environment such as temperature, humidity and static electricity in the coating apparatus, the conventional coating apparatus is used. In such a case, the coating agent and the coating environment do not match with each other, which may cause unevenness in the film thickness of the formed film, cracks, and cloudiness.

【0006】このため、湿度に関しては、装置全体にド
ライブースを取り付け、塗布装置内の湿度を制御するこ
とも提案されている。しかし、ドライブースによる湿度
制御では、所定の湿度を得るために(特に、湿度を下げ
る場合には)時間がかかってしまう。従って、効率のよ
い除湿を行うためには、ドライブースを常時作動しなけ
ればならず、ランニングコストが高くなってしまうとい
う問題があった。
Therefore, with respect to the humidity, it has also been proposed to attach dries to the entire apparatus to control the humidity in the coating apparatus. However, in humidity control by dry booth, it takes time to obtain a predetermined humidity (especially when the humidity is lowered). Therefore, in order to perform efficient dehumidification, the dry boot must be operated at all times, and there is a problem that the running cost becomes high.

【0007】この発明は、上記実状を鑑みてなされたも
ので、湿度、温度、静電気などの塗布環境を整えること
によって塗布対象物に塗布剤を不具合なく塗布でき、か
つ、安価な塗布装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an inexpensive coating apparatus which can coat a coating material on a coating object without trouble by adjusting the coating environment such as humidity, temperature and static electricity. The purpose is to do.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明にかかる塗布装置は、塗布室と、前記塗布
室内で塗布対象物を載置する回転テーブルと、前記回転
テーブルを回転する駆動部と、前記回転テーブル上の塗
布対象物に塗布剤を滴下する塗布剤滴下部と、前記塗布
室に接続され、前記塗布室内に湿度を調整した気体を送
出することにより前記塗布室内の湿度を調整する湿度制
御部と、前記塗布室に接続され、前記塗布室内に温度を
調整した気体を送出することにより前記塗布室内の温度
を調整する温度制御部とを含むことを特徴とする。さら
に、前記塗布室内の静電気を抑制する除電部を含むこと
もできる。
In order to achieve the above object, a coating apparatus according to the present invention comprises a coating chamber, a rotary table on which an object to be coated is placed in the coating chamber, and a drive for rotating the rotary table. Section, a coating agent dropping section for dropping a coating agent on the object to be coated on the rotary table, and the humidity in the coating chamber by connecting to the coating chamber and sending a gas whose humidity is adjusted into the coating chamber. A humidity control unit for adjusting and a temperature control unit that is connected to the application chamber and adjusts the temperature inside the application chamber by sending out a gas whose temperature is adjusted into the application chamber. Further, a static eliminator for suppressing static electricity in the coating chamber may be included.

【0009】前記湿度制御部は、例えば、所望の湿度の
気体を供給する気体供給手段と前記気体供給手段により
供給された気体をフィルタリングして前記塗布室に供給
するフィルタ手段を含み、前記温度制御部は、例えば、
前記気体供給手段が供給する気体を加熱又は冷却してそ
の温度を制御する手段から構成され、前記除電部は、例
えば、前記フィルタ手段を通過した気体中の静電気を除
去する手段から構成される。
The humidity control unit includes, for example, gas supply means for supplying a gas having a desired humidity and filter means for filtering the gas supplied by the gas supply means and supplying the gas to the coating chamber. The department is, for example,
The gas supply unit includes a unit that heats or cools the gas to control the temperature of the gas, and the static elimination unit includes, for example, a unit that removes static electricity in the gas that has passed through the filter unit.

【0010】[0010]

【作用】上記構成によれば、例えば、温度と湿度の調整
された気体を塗布室内に送出することにより、塗布室内
の温度及び湿度を制御する。従って、装置外部の温度・
湿度に影響されず、高速に塗布室内の温度及び湿度の制
御が可能となる。また、低湿度の場合、静電気が発生し
やすくなるが、除電部により静電気対策を施すことがで
きる。従って、塗布室内の環境が塗布に好適な状態に維
持され、膜厚のムラ、クラック、白濁等のない膜を塗布
できる。
According to the above construction, for example, the temperature and humidity inside the coating chamber are controlled by sending out a gas whose temperature and humidity are adjusted into the coating chamber. Therefore, the temperature outside the device
The temperature and humidity in the coating chamber can be controlled at high speed without being affected by humidity. Further, when the humidity is low, static electricity is easily generated, but the static elimination unit can take measures against static electricity. Therefore, the environment in the coating chamber is maintained in a suitable state for coating, and a film without unevenness in film thickness, cracks, cloudiness, etc. can be coated.

【0011】[0011]

【実施例】以下に、図面を参照してこの発明の塗布装置
の一実施例を説明する。本実施例においては、塗布対象
物を液晶表示装置のガラス基板とし、塗布剤をレジスト
とする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the coating apparatus of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, the application target is the glass substrate of the liquid crystal display device, and the coating agent is the resist.

【0012】図1はこの実施例にかかる塗布装置の構成
を示す。図1において、ハウジング1の内の中央部に回
転テーブル2が設けられている。回転テーブル2はその
中心軸に固定された駆動モータ3により回転駆動され
る。駆動モータ3は、回転速度、回転時間等が制御盤5
の設定に応じて制御される。駆動モータ3はハウジング
1内に固定されたケース4上に配置されている。ケース
4内に、制御盤5によって開閉される真空チャック電磁
弁6が設けられている。真空チャック電磁弁6の入口ポ
ート7に、塗布装置の外側に設けられて常時稼働してい
る真空装置(図示せず)に接続される真空パイプ8、及
び、ハウジング内に先端が開口しているパイプ33が固
定されている。また、真空パイプ9が、真空チャック電
磁弁6の出口ポート10からケース4と駆動モータ3を
通って回転テーブル2の複数の孔を有する上面11の下
に形成された吸着室12に延びており、真空チャック電
磁弁6を介して真空パイプ8およびパイプ33に接続さ
れている。
FIG. 1 shows the structure of a coating apparatus according to this embodiment. In FIG. 1, a rotary table 2 is provided in the center of the housing 1. The rotary table 2 is rotationally driven by a drive motor 3 fixed to its central axis. The drive motor 3 controls the rotation speed, rotation time, etc. of the control panel 5.
It is controlled according to the setting of. The drive motor 3 is arranged on a case 4 fixed in the housing 1. A vacuum chuck solenoid valve 6 that is opened and closed by a control panel 5 is provided in the case 4. The inlet port 7 of the vacuum chuck solenoid valve 6 has a vacuum pipe 8 connected to a vacuum device (not shown) provided outside the coating device and always operating, and a tip opening inside the housing. The pipe 33 is fixed. Further, the vacuum pipe 9 extends from the outlet port 10 of the vacuum chuck electromagnetic valve 6 through the case 4 and the drive motor 3 to the adsorption chamber 12 formed below the upper surface 11 of the rotary table 2 having a plurality of holes. Are connected to the vacuum pipe 8 and the pipe 33 via the vacuum chuck solenoid valve 6.

【0013】回転テーブル2は、内部に塗布室13を形
成する塗布ケース14によって覆われている。塗布室1
3は、上端に複数の孔を有する蓋15が設けられると共
に、下端は回転テーブル2を囲む受け皿16を有してい
る。回転テーブル2の回転によって生じる塗布室13内
の気体の乱流を避けるための整流板17が設けられてい
る。塗布室13の内部はダクト19とこの中に設けられ
た逆止弁20を介して塗布装置外に設置された排気装置
(図示せず)に接続されている。
The rotary table 2 is covered with a coating case 14 which forms a coating chamber 13 therein. Coating room 1
3 has a lid 15 having a plurality of holes at its upper end, and has a tray 16 surrounding the rotary table 2 at its lower end. A rectifying plate 17 is provided for avoiding turbulent gas flow in the coating chamber 13 caused by rotation of the rotary table 2. The inside of the coating chamber 13 is connected to an exhaust device (not shown) installed outside the coating device via a duct 19 and a check valve 20 provided therein.

【0014】塗布室13の蓋15の下面に滴下ノズル2
1を有する塗布剤滴下装置22が設けられ、滴下ノズル
21から回転テーブル1上に載置されたガラス基板23
の表面中央部に所定量の塗布剤を滴下するようになって
いる。
On the lower surface of the lid 15 of the coating chamber 13, the dripping nozzle 2
1 is provided with a coating material dropping device 22 and a glass substrate 23 placed on the rotary table 1 from the dropping nozzle 21.
A predetermined amount of the coating agent is dropped on the central portion of the surface of the.

【0015】塗布室13の蓋15の上方に温度湿度調整
装置24が設置されている。この温度湿度調整装置24
は、底が気体を通過させるヘパフィルタ25で形成され
た箱体26内に除湿用パイプ27と加湿用パイプ28を
設けて構成されている。除湿用パイプ27は、乾燥気体
供給装置27aに接続され、ドライエア、或いは、不活
性ガス等からなる乾燥気体を箱体26内に供給する。加
湿用パイプ28は、加湿気体供給装置28aに接続さ
れ、箱体26内に加湿気体を供給する。加湿気体として
は空気に水蒸気を混合したもの、外気等を使用できる。
乾燥気体供給装置27aと加湿気体供給装置28aは、
それぞれ、供給する気体を加熱又は冷却する温度調整部
を内蔵する。
A temperature / humidity adjusting device 24 is installed above the lid 15 of the coating chamber 13. This temperature and humidity controller 24
Is constructed by providing a dehumidifying pipe 27 and a humidifying pipe 28 in a box 26 whose bottom is formed by a hepa filter 25 that allows gas to pass therethrough. The dehumidifying pipe 27 is connected to the dry gas supply device 27a and supplies dry air or a dry gas such as an inert gas into the box body 26. The humidifying pipe 28 is connected to the humidifying body supply device 28 a and supplies the humidifying body into the box 26. As the humidifying body, a mixture of air and water vapor, or outside air can be used.
The dry gas supply device 27a and the humidified body supply device 28a are
Each has a built-in temperature adjusting unit for heating or cooling the supplied gas.

【0016】塗布室13内に温度及び湿度を検出するセ
ンサ29が設けられ、センサ29は制御装置30に温度
信号及び湿度信号を供給する。制御装置30は、供給さ
れた信号に基づいて、乾燥気体供給装置27A及び加湿
気体供給装置28Aを制御し、各気体の供給量、温度等
を制御する。
A sensor 29 for detecting temperature and humidity is provided in the coating chamber 13, and the sensor 29 supplies a temperature signal and a humidity signal to the control device 30. The control device 30 controls the dry gas supply device 27A and the humidifying body supply device 28A based on the supplied signals, and controls the supply amount, temperature, etc. of each gas.

【0017】温度湿度調整装置24のヘパフィルタ25
と塗布室13の蓋15の間に水平な除電バー31が設け
られ、これがイオン発生装置32に接続されている。そ
して、これら除電バー31とイオン発生装置32とは除
電器を構成する。
The hepa filter 25 of the temperature / humidity adjusting device 24
A horizontal static elimination bar 31 is provided between the cover 15 and the lid 15 of the coating chamber 13, and this is connected to the ion generator 32. Then, the static elimination bar 31 and the ion generator 32 constitute a static eliminator.

【0018】次に、この実施例の塗布装置の動作を説明
する。まず、回転テーブル2上に塗布対象物であるガラ
ス基板23を載置し、真空チャック電磁弁6がパイプ3
3を閉じ、真空パイプ8を開いて、真空装置が真空パイ
プ8を介して真空引きをすることにより、ガラス基板2
3を回転テーブル2の上面に吸着固定し、逆止弁20を
開いてハウジング1内の気体を引く。また、センサ29
からの温度信号及び湿度信号により、制御部30は乾燥
気体供給装置27a及び加湿気体供給装置28aを制御
し、ハウジング1内の温度及び湿度を所定の値にする。
これに応じて、イオン発生器32及び除電バー31を作
動させる。温度湿度調整装置24から流出する気体はヘ
パフィルタ25でフィルタリングされ、気体内のパーテ
ィクルが塗布室に侵入することが防止される。また、除
電バー31で気体の流動により浮動する静電気を帯電し
たパーティクルを吸着させる。このため、塗布室13内
を、迅速に所定の温度及び所定の湿度で、静電気のない
クリーンな環境にすることができる。
Next, the operation of the coating apparatus of this embodiment will be described. First, the glass substrate 23, which is an object to be coated, is placed on the rotary table 2, and the vacuum chuck solenoid valve 6 is attached to the pipe 3.
3 is closed, the vacuum pipe 8 is opened, and the vacuum device draws a vacuum through the vacuum pipe 8 so that the glass substrate 2
3 is adsorbed and fixed on the upper surface of the rotary table 2, the check valve 20 is opened, and the gas in the housing 1 is drawn. In addition, the sensor 29
The control unit 30 controls the dry gas supply device 27a and the humidified body supply device 28a by the temperature signal and the humidity signal from the control unit 30 to set the temperature and humidity in the housing 1 to predetermined values.
In response to this, the ion generator 32 and the static elimination bar 31 are operated. The gas flowing out from the temperature / humidity adjusting device 24 is filtered by the hepa filter 25 to prevent particles in the gas from entering the coating chamber. Further, the static elimination bar 31 adsorbs particles charged with static electricity floating due to the flow of gas. Therefore, the inside of the coating chamber 13 can be quickly brought to a clean environment free of static electricity at a predetermined temperature and a predetermined humidity.

【0019】この状態で、塗布剤滴下装置22の滴下ノ
ズル21から、回転テーブル2上のガラス基板23上面
の中央部に一定量の塗布剤を滴下し、制御盤5の設定に
従って、駆動モータ3により回転テーブル2を所定の速
度で所定時間回転させる。ガラス基板23上の塗布剤は
この回転による遠心力により外側へ放射状に広がってゆ
き、塗布剤からなる均一な厚さの膜をガラス基板23上
全面に形成する。膜の厚さは、ガラス基板23上面の面
積、滴下された塗布剤の量、回転数、回転時間等により
制御される。
In this state, a certain amount of the coating agent is dropped from the dropping nozzle 21 of the coating agent dropping device 22 onto the central portion of the upper surface of the glass substrate 23 on the rotary table 2, and the drive motor 3 is set according to the setting of the control panel 5. Thus, the turntable 2 is rotated at a predetermined speed for a predetermined time. The coating agent on the glass substrate 23 radially spreads outward due to the centrifugal force due to this rotation, and a film of the coating agent having a uniform thickness is formed on the entire surface of the glass substrate 23. The thickness of the film is controlled by the area of the upper surface of the glass substrate 23, the amount of the applied coating agent, the rotation speed, the rotation time, and the like.

【0020】所定時間が経過すると、回転テーブル2が
停止する。形成された膜が安定すると温度湿度調整装置
24が気体の塗布室13への供給を停止し、逆止弁20
が閉じて塗布室13内からの気体の引きを停止する。つ
いで、真空チャック電磁弁6が真空パイプ8を閉じてか
らパイプ33を開き、ガラス基板23の回転テーブル2
への吸着を解く。最後に、ガラス基板23を回転テーブ
ル2から取り外して、塗布作業の1サイクルが完了す
る。
When the predetermined time has elapsed, the rotary table 2 stops. When the formed film becomes stable, the temperature / humidity adjusting device 24 stops the supply of gas to the coating chamber 13, and the check valve 20
Is closed and the drawing of gas from the coating chamber 13 is stopped. Then, the vacuum chuck solenoid valve 6 closes the vacuum pipe 8 and then opens the pipe 33 to turn the rotary table 2 of the glass substrate 23.
Release adsorption to. Finally, the glass substrate 23 is removed from the rotary table 2, and one cycle of the coating operation is completed.

【0021】上記構成によれば、温度と湿度の調整され
た気体を供給することにより、塗布室13内の温度及び
湿度を制御する。従って、装置外部の温度・湿度に影響
されないですばやく温度及び湿度を制御できる。また、
低湿度の場合、静電気が発生しやすくなるが、除電部3
1、32により静電気が除去される。従って、塗布室1
3内の環境が塗布に好適な状態に維持され、膜厚のム
ラ、クラック、白濁等のない膜を塗布できる。
According to the above construction, the temperature and humidity inside the coating chamber 13 are controlled by supplying the gas whose temperature and humidity are adjusted. Therefore, the temperature and humidity can be quickly controlled without being affected by the temperature and humidity outside the device. Also,
When the humidity is low, static electricity tends to be generated, but the static elimination unit 3
Static electricity is removed by 1, 32. Therefore, the coating chamber 1
The environment in 3 is maintained in a suitable state for coating, and a film without unevenness in film thickness, cracks, cloudiness, etc. can be applied.

【0022】塗布対象物はガラス基板に限定されず、任
意の対象物でよい。塗布剤も、レジストに限らず、有機
物、樹脂等何でも良い。また上記実施例では、乾燥気体
及び加湿気体の両方をパイプ27、28から温度湿度制
御装置24に供給したが、所望の湿度に設定した1種類
の気体を供給するようにしてもよい。上記実施例では、
除湿気体及び加湿気体を加熱又は冷却することにより塗
布室13内の温度を制御したが、装置内に温度調整器を
配置しても良い。上記実施例では、温度制御、湿度制御
及び除電制御の全てを行っているが、塗布対象物に応じ
て任意の1つまたはこれらの組合せ制御のみを行うよう
にしてもよい。
The object to be coated is not limited to the glass substrate and may be any object. The coating agent is not limited to the resist, and may be any organic material, resin, or the like. Further, in the above embodiment, both the dry gas and the humidified body are supplied to the temperature / humidity control device 24 from the pipes 27 and 28, but one kind of gas set to a desired humidity may be supplied. In the above example,
Although the temperature inside the coating chamber 13 is controlled by heating or cooling the dehumidifying body and the humidifying body, a temperature regulator may be arranged in the apparatus. Although the temperature control, the humidity control, and the static elimination control are all performed in the above-described embodiment, any one or a combination control thereof may be performed depending on the application target.

【0023】[0023]

【発明の効果】この発明によれば、塗布室内の環境を塗
布条件に適した状態に維持できるので、形成される膜の
膜厚のムラ、クラック、白濁化等が発生しない塗布装置
が得られる。また、装置の構造が簡単であり、しかも、
塗装室内の環境設定が確実迅速に行なわれるので、製造
コストも運転コストも安い。
According to the present invention, since the environment in the coating chamber can be maintained in a state suitable for the coating conditions, it is possible to obtain a coating apparatus in which unevenness in film thickness of formed film, cracks, turbidity and the like do not occur. . Moreover, the structure of the device is simple, and moreover,
Since the environment inside the coating room is set reliably and quickly, the manufacturing cost and operating cost are low.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例にかかる塗布装置の概略断
面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a coating apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】従来技術の塗布装置の概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view of a conventional coating device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・ハウジング、2・・・回転テーブル、3・・・駆動モー
タ、4・・・ケース、5・・・制御盤、6・・・真空チャック電
磁弁、8、9・・・真空パイプ、12・・・吸着室、13・・・
塗布室、17・・・整流板、19・・・ダクト、21・・・滴下
ノズル、22・・・塗布剤滴下装置、23・・・ガラス基板、
24・・・温度湿度調整装置、25・・・ヘパフィルタ、27
・・除湿用パイプ、27A・・・乾燥気体供給装置、28・・・
加湿用パイプ、28A・・・加湿気体供給装置、29・・・セ
ンサ、30・・・制御装置、31・・・除電バー、32・・・イ
オン発生装置、33・・・パイプ
1 ... Housing, 2 ... Rotating table, 3 ... Drive motor, 4 ... Case, 5 ... Control panel, 6 ... Vacuum chuck solenoid valve, 8, 9 ... Vacuum pipe , 12 ... adsorption chamber, 13 ...
Coating chamber, 17 ... Current plate, 19 ... Duct, 21 ... Dripping nozzle, 22 ... Coating material dropping device, 23 ... Glass substrate,
24 ... Temperature and humidity adjusting device, 25 ... Hepa filter, 27
..Dehumidifying pipe, 27A ... Dry gas supply device, 28 ...
Humidifying pipe, 28A ... Humidifying body supply device, 29 ... Sensor, 30 ... Control device, 31 ... Static elimination bar, 32 ... Ion generator, 33 ... Pipe

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】塗布室と、 前記塗布室内で塗布対象物を載置する回転テーブルと、 前記回転テーブルを回転する駆動部と、 前記回転テーブル上の塗布対象物に塗布剤を滴下する塗
布剤滴下部と、 前記塗布室に接続され、前記塗布室内に湿度を調整した
気体を送出することにより前記塗布室内の湿度を調整す
る湿度制御部と、 前記塗布室内の温度を調整する温度制御部とを含むこと
を特徴とする塗布装置。
1. A coating chamber, a rotary table on which an object to be coated is placed in the chamber, a drive unit that rotates the rotary table, and a coating agent that drops the coating agent onto the target to be coated on the rotary table. A drip unit, a humidity control unit that is connected to the coating chamber, adjusts the humidity inside the coating chamber by sending out a gas whose humidity is adjusted, and a temperature control unit that adjusts the temperature inside the coating chamber. A coating device comprising:
【請求項2】前記塗布室は、その内部の静電気を抑制す
る除電部を含むことを特徴とする請求項1記載の塗布装
置。
2. The coating apparatus according to claim 1, wherein the coating chamber includes a static eliminator that suppresses static electricity inside.
【請求項3】前記除電部は前記塗布室内の静電気を除去
する手段から構成されることを特徴とする請求項2記載
の塗布装置。
3. The coating apparatus according to claim 2, wherein the static elimination unit is composed of means for removing static electricity in the coating chamber.
【請求項4】前記湿度制御部は、所望の湿度の気体を供
給する気体供給手段と前記気体供給手段により供給され
た気体をフィルタリングして前記塗布室に供給するフィ
ルタ手段を含み、 前記温度制御部は、前記気体供給手段が供給する気体を
加熱又は冷却してその温度を制御する手段から構成され
ることを特徴とする請求項1、2又は3記載の塗布装
置。
4. The temperature control unit includes a gas supply unit for supplying a gas having a desired humidity and a filter unit for filtering the gas supplied by the gas supply unit and supplying the filtered gas to the coating chamber. The coating unit according to claim 1, 2 or 3, wherein the section is constituted by means for heating or cooling the gas supplied by the gas supply means to control the temperature thereof.
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