JPH07117847A - Conveying device - Google Patents
Conveying deviceInfo
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- JPH07117847A JPH07117847A JP5285769A JP28576993A JPH07117847A JP H07117847 A JPH07117847 A JP H07117847A JP 5285769 A JP5285769 A JP 5285769A JP 28576993 A JP28576993 A JP 28576993A JP H07117847 A JPH07117847 A JP H07117847A
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- JP
- Japan
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- wafer
- transfer
- stop position
- transport
- carrier
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Control Of Vehicles With Linear Motors And Vehicles That Are Magnetically Levitated (AREA)
- Non-Mechanical Conveyors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造ライン等に
使用される、半導体製造用ウエハ等を高清浄度の環境下
で搬送する搬送装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer device used in a semiconductor manufacturing line or the like for transferring a semiconductor manufacturing wafer or the like in an environment of high cleanliness.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図６に半導体製造ラインの半導体製造装
置の配置の一例を示す。種々の真空処理装置１０が、真
空の搬送トンネル１１で接続され、真空トンネル１１の
中を図示しない搬送台車が半導体ウエハを搭載して移動
し、ウエハをある処理装置１０から次の処理装置１０へ
運んでいく。2. Description of the Related Art FIG. 6 shows an example of arrangement of semiconductor manufacturing equipment in a semiconductor manufacturing line. Various vacuum processing apparatuses 10 are connected by a vacuum transfer tunnel 11, and a transfer carriage (not shown) carries semiconductor wafers in the vacuum tunnel 11 to move the wafer from one processing apparatus 10 to the next processing apparatus 10. Carry.
【０００３】図７は、真空トンネル内をウェハを搬送す
る搬送装置（ここでは磁気浮上搬送装置が用いられてい
る）１１の断面図である。係る構造の磁気浮上搬送装置
については、本出願人により国際特許出願ＰＣＴ／ＪＰ
９３／００９３０等によりその詳細が開示される。トン
ネル隔壁３０の上部には浮上用電磁石３１がトンネルに
沿って列設されている。同様に、トンネル隔壁３０の下
部には、リニアモータを構成する電磁石３２がトンネル
に沿って列設されている。半導体基板３３を搭載する搬
送台１は、その上面に磁性材３４を備え、浮上用電磁石
３１の磁気吸引力により搬送台１は浮上懸架される。搬
送台１は浮上懸架された状態でリニアモータ３２により
水平方向に駆動される。このような搬送装置１１の構成
により、半導体基板３３は搬送台１に搭載され、真空ト
ンネルの隔壁３０から非接触浮上した状態で処理装置１
０間を搬送される。FIG. 7 is a sectional view of a transfer device (here, a magnetic levitation transfer device is used) 11 for transferring a wafer in a vacuum tunnel. Regarding the magnetic levitation transport device having such a structure, the applicant of the present invention has applied for an international patent application PCT / JP.
The details are disclosed in 93/09930 and the like. Above the tunnel partition 30, levitation electromagnets 31 are lined up along the tunnel. Similarly, below the tunnel partition 30, electromagnets 32 forming a linear motor are arranged in a line along the tunnel. The carrier 1 on which the semiconductor substrate 33 is mounted is provided with a magnetic material 34 on its upper surface, and the carrier 1 is suspended by the magnetic attraction force of the levitation electromagnet 31. The carrier table 1 is horizontally driven by a linear motor 32 in a suspended state. With the configuration of the transfer device 11 as described above, the semiconductor substrate 33 is mounted on the transfer table 1 and is floated in a non-contact manner from the partition 30 of the vacuum tunnel in the processing device 1.
It is transported between 0s.
【０００４】ところで、搬送台車は停止点に近づくとト
ンネル隔壁に配設されたリニアモータにより逆推力を与
えられ減速し、最後に停止位置決め装置により予め決め
られた位置に停止する。この位置決め装置に関しては、
例えば特公平３−３５２１５号公報等にて詳細に説明さ
れている。位置決め装置の動作原理を図８に、フィード
バック制御のブロック図を図９に示す。By the way, when the carrier truck approaches the stop point, it is decelerated by being given a reverse thrust by the linear motor arranged in the tunnel partition wall, and finally stopped by the stop positioning device at a predetermined position. Regarding this positioning device,
For example, it is described in detail in Japanese Examined Patent Publication No. 3-35215. FIG. 8 shows the operating principle of the positioning device, and FIG. 9 shows a block diagram of the feedback control.
【０００５】位置決め装置は、軌道側には一対の磁極１
３ａ，１４ａを備えている。磁極１３ａ，１４ａにはそ
れぞれコイル１３ｂ，１４ｂが巻回されている。同様
に、軌道側には変位センサ１２を備えている。一方、搬
送台１側には磁性材１３ｃ，１４ｃを備えている。又変
位センサのターゲットとなる傾斜した部材１５を備えて
いる。変位センサ１２がターゲット部材１５との間隔を
測定することにより、搬送台１の移動方向の変位が検出
される。搬送台の停止位置の目標値と検出された搬送台
１の変位を比較し、その偏差をゼロにするように搬送台
位置コントローラ１６から電源１７に信号が送られ、コ
イル１３ｂ，１４ｂに励磁電流ＩL ，ＩR が印加され、
磁極１３ａは磁性材１３ｃに対して、磁極１４ａは磁性
材１４ｃに対して、それぞれ磁気吸引力を作用させる。
即ち、一対の位置決め装置１３，１４の磁気吸引力を制
御することにより、搬送台１は目標停止位置Ｃに位置決
めされる。The positioning device has a pair of magnetic poles 1 on the track side.
It is provided with 3a and 14a. Coils 13b and 14b are wound around the magnetic poles 13a and 14a, respectively. Similarly, a displacement sensor 12 is provided on the track side. On the other hand, the carrier 1 side is provided with magnetic materials 13c and 14c. It also has an inclined member 15 that serves as a target of the displacement sensor. The displacement sensor 12 measures the distance from the target member 15 to detect the displacement of the carrier table 1 in the moving direction. The target value of the stop position of the carrier is compared with the detected displacement of the carrier 1, and a signal is sent from the carrier position controller 16 to the power source 17 so as to make the deviation zero, and the exciting current is supplied to the coils 13b and 14b. I L and I R are applied,
The magnetic pole 13a applies a magnetic attraction force to the magnetic material 13c, and the magnetic pole 14a applies a magnetic attraction force to the magnetic material 14c.
That is, the carriage 1 is positioned at the target stop position C by controlling the magnetic attraction force of the pair of positioning devices 13 and 14.
【０００６】搬送台１が停止すると、真空処理装置１０
の移載ロボットがアームを伸ばし、ウエハを搬送台から
プロセスチャンバへ移載し所定の処理を行なった後、こ
の移載ロボットが、真空処理装置からウエハを取りだ
し、搬送台に再び載せる。その後、搬送台は移動してウ
エハを搬送し、次の処理装置の所で停止し、また同様の
動作が繰り返される。When the carrier 1 stops, the vacuum processing apparatus 10
The transfer robot extends the arm, transfers the wafer from the carrier to the process chamber and performs a predetermined process, and then the transfer robot takes out the wafer from the vacuum processing apparatus and mounts it again on the carrier. After that, the transfer table moves to transfer the wafer, stops at the next processing apparatus, and the same operation is repeated.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところで、このウエハ
の移載及び搬送工程を繰り返すうちに、移載／搬送時の
ウエハ位置誤差が累積され、搬送台車にウエハが載せら
れた時、ウエハの実際の位置は所定の位置からづれてし
まう事がある。一度づれてしまうと、図１０に示す様に
ウエハはロボットアームに対して所定の位置からづれて
載ってしまう。即ち、符号１９はあらかじめ設定された
ウエハの停止位置である。これに対して、符号２０は実
際のウエハの所在位置である。即ち、符号２１に示すウ
エハ中心のズレが生じる。尚、符号２２はロボットアー
ムの先端である。その為、本来はぶつかるはずのない、
バルブにウエハが接触してエッジが欠けたり、ひどい場
合は、ウエハが搬送台から落下してしまう。By the way, while the wafer transfer and transfer steps are repeated, wafer position errors during transfer / transfer are accumulated, and when the wafer is placed on the transfer carriage, the actual wafer is transferred. The position of may shift from the predetermined position. Once misaligned, the wafer will be misaligned with respect to the robot arm and mounted as shown in FIG. That is, reference numeral 19 is a preset wafer stop position. On the other hand, reference numeral 20 is the actual position of the wafer. That is, the wafer center deviation indicated by reference numeral 21 occurs. Reference numeral 22 is the tip of the robot arm. Therefore, originally it should not hit,
If the wafer comes into contact with the valve and the edge is chipped, or if it is severe, the wafer will drop from the carrier.
【０００８】本発明は係る従来技術の問題点に鑑みて為
されたものであり、搬送台に載置されたウエハの位置を
搬送台の停止位置で修正できる機能（センタリング機
能）を備えた搬送装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the problems of the related art, and has a function (centering function) for correcting the position of the wafer placed on the transfer table at the stop position of the transfer table. The purpose is to provide a device.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の搬送装置は、被
搬送物を搭載した搬送台車を停止位置決めする装置を備
えた搬送装置において、前記被搬送物移載の為の前記搬
送台車の停止位置に、被搬送物の所在位置を検出するセ
ンサを設け、該被搬送物の停止位置と、予め設定された
被搬送物の所在位置とを比較して、そのずれがゼロとな
る様に、前記搬送台車の位置決め装置を動作させて前記
搬送台車を移動させ、前記被搬送物を所定の停止位置に
移動させる手段を備えたことを特徴とする。According to another aspect of the present invention, there is provided a transporting device including a device for stopping and positioning a transporting vehicle having an object to be transported, wherein the transporting vehicle is stopped for transferring the transported object. A sensor for detecting the location of the transported object is provided at the position, and the stop position of the transported object is compared with the preset location of the transported object so that the deviation becomes zero. It is characterized by further comprising means for operating the positioning device for the transport carriage to move the transport carriage to move the object to be transported to a predetermined stop position.
【００１０】[0010]
【作用】搬送台をまず所定の停止位置に停止させた後、
搬送台に載っているウエハの位置を計測し、あらかじめ
設定された所定の位置に対してづれている場合は、その
ウエハが所定の位置に来るように、停止位置決め装置の
保持電流のバランスを変化させて搬送台車の位置を変え
て、ウエハが所定の位置に来るようにするものである。[Operation] First, after stopping the carrier at a predetermined stop position,
The position of the wafer on the carrier is measured, and if it is offset with respect to the preset preset position, the balance of the holding current of the stop positioning device is changed so that the wafer comes to the preset position. The position of the carrier is changed so that the wafer comes to a predetermined position.
【００１１】[0011]
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面を参照しな
がら説明する。尚、各図中の同一符号は同一又は相当部
分を示す。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The same reference numerals in each drawing indicate the same or corresponding parts.
【００１２】図１に磁気浮上搬送装置に本発明を適用し
た例を示す。図は搬送台１の停止位置近傍を示す。搬送
方向Ｍに図示しない浮上用電磁石により浮上懸架され、
リニアモータによって推進力及び減速力を受け走行する
搬送台１は、一対の位置決め装置１３，１４により所定
の停止位置に停止位置決めされる。搬送台１の停止点で
は、変位センサ１２が搬送台１に固設されたターゲット
１５との間隔を検出することから搬送台１の移動方向Ｍ
の位置を検出する。そして、搬送台１の位置に応じて位
置決め装置１３，１４の電磁石コイル１３ｂ，１４ｂに
電流を流し励磁することにより、搬送台に固設された磁
性材１３ｃ，１４ｃに磁気吸引力を及ぼし、所定の目標
位置に搬送台１を停止位置決めする。尚、図示しないが
搬送方向Ｍとその水平面内の直角方向（紙面に垂直な方
向）にも位置決め装置１３，１４と同様な位置決め装置
が備えられ、搬送方向Ｍに対して直角な方向にも搬送台
１を位置決めする。FIG. 1 shows an example in which the present invention is applied to a magnetic levitation transport device. The figure shows the vicinity of the stop position of the carrier 1. Suspended and suspended in the transport direction M by a levitation electromagnet (not shown),
The carriage 1 that travels by receiving the propulsive force and the decelerating force by the linear motor is stopped and positioned at a predetermined stop position by the pair of positioning devices 13 and 14. At the stop point of the carrier table 1, the displacement sensor 12 detects the distance between the displacement sensor 12 and the target 15 fixed to the carrier table 1.
Detect the position of. Then, by applying a current to the electromagnet coils 13b, 14b of the positioning devices 13, 14 according to the position of the carrier table 1 to excite them, a magnetic attraction force is exerted on the magnetic materials 13c, 14c fixedly mounted on the carrier table, and a predetermined force is applied. The carriage 1 is stopped and positioned at the target position. Although not shown, a positioning device similar to the positioning devices 13 and 14 is provided in the transport direction M and in a direction perpendicular to the transport plane M (perpendicular to the paper surface). Position the table 1.
【００１３】停止点のトンネル上部には、ガラス窓３が
あり、その外気側にはトンネルに対するウエハの位置を
検出する為のイメージセンサ２が設置されている。搬送
台１の上面には、図２に示す様に４箇所の開口５があ
り、ここを経由して、ウエハ３３の外周４箇所がイメー
ジセンサ２によって検知される。ウエハ３３には通常オ
リフラ(Orientation Flat)と呼ばれる切り欠き３６があ
るので、これを考慮して、図示しない演算処理装置によ
り、ウエハの中心位置が認識される。A glass window 3 is provided above the tunnel at the stop point, and an image sensor 2 for detecting the position of the wafer with respect to the tunnel is installed on the outside air side of the glass window 3. As shown in FIG. 2, there are four openings 5 on the upper surface of the carrier table 1, and the four outer circumferences of the wafer 33 are detected by the image sensor 2 via the openings 5. Since the wafer 33 usually has a notch 36 called an orientation flat, an arithmetic processing unit (not shown) recognizes the center position of the wafer in consideration of this.
【００１４】図３は、ウエハの中心位置を認識する手順
を示す。まず、４箇所の開口５から撮像されたウエハの
外周４点の座標（ＸI ，ＹI ），Ｉ＝１・・・４の読み
込みを行う。次に円の中心（Ｘ0 ，Ｙ0 ）及び円の半径
ｒを連立方程式を解いて求める。求められた解から半径
ｒが一番小さな中心位置（Ｘ0 ，Ｙ0 ）をウエハの実際
の中心位置と認識する。FIG. 3 shows a procedure for recognizing the center position of the wafer. First, the coordinates (X I , Y I ) and I = 1 ... 4 of the four points on the outer periphery of the wafer, which are imaged from the four openings 5, are read. Next, the center (X 0 , Y 0 ) of the circle and the radius r of the circle are obtained by solving simultaneous equations. From the obtained solution, the center position (X 0 , Y 0 ) with the smallest radius r is recognized as the actual center position of the wafer.
【００１５】図４には、第１実施例の制御系のブロック
線図を示す。すなわち搬送台の位置を検出してこの位置
が設定値になる様、フィードバック制御する従来の制御
ループに加えて、ウエハの位置を検出して、その位置が
設定の値になる様に、搬送台車の位置決めの目標値を徐
々に変化させるフィードバック制御がスイッチによって
制御系に入る様になっている。FIG. 4 shows a block diagram of the control system of the first embodiment. That is, in addition to the conventional control loop that performs feedback control so that the position of the carrier is detected and this position becomes the set value, the carrier carriage is detected so that the position of the wafer is detected and the position becomes the set value. Feedback control for gradually changing the target value for positioning is entered into the control system by a switch.
【００１６】図５には、第２実施例の制御系のブロック
線図を示す。第１実施例では制御の基本的な考え方とし
て、ウエハの位置を検出して搬送台車の位置のフィード
バック制御系の目標値を変化させる、いわば適応制御の
考え方を用いた。第２実施例では、ウエハの位置の信号
を直接用いてフィードバック制御系を組んだものであ
る。FIG. 5 shows a block diagram of the control system of the second embodiment. In the first embodiment, as a basic concept of control, the concept of adaptive control in which the position of the wafer is detected and the target value of the feedback control system for the position of the carrier is changed is used. In the second embodiment, a feedback control system is constructed by directly using the signal of the wafer position.
【００１７】尚、以上の説明は磁気浮上搬送装置に適用
したものを示したが、搬送装置としては例えば通常の車
輪を有する搬送台車を用いた接触式の搬送装置にも適用
できることは勿論のことである。このように、本発明の
趣旨を逸脱することなく各種の変形実施例が可能であ
る。Although the above description has been applied to the magnetic levitation transfer device, it goes without saying that the transfer device can also be applied to, for example, a contact type transfer device using a transfer carriage having ordinary wheels. Is. As described above, various modified embodiments are possible without departing from the spirit of the present invention.
【００１８】[0018]
【発明の効果】本発明は、ウエハの搬送等に使用される
搬送装置において、搬送台車停止位置を搬送台車に載っ
ているウエハの位置が所定の位置に来るように、停止位
置決め装置の保持電流のバランスを変化させて搬送台車
の位置を変える様にしたものである。この結果搬送／移
載中に被搬送物の位置が累積誤差によって所定の位置か
らずれていってしまう事を防止する事ができる。すなわ
ち搬送装置に被搬送物のセンタリング機能を付与するこ
とができる。According to the present invention, in the transfer device used for transferring a wafer, the holding current of the stop positioning device is adjusted so that the position of the transfer carriage stop position of the wafer placed on the transfer carriage is at a predetermined position. The balance of is changed to change the position of the carriage. As a result, it is possible to prevent the position of the transferred object from being displaced from the predetermined position due to an accumulated error during the transfer / transfer. That is, it is possible to add the function of centering the transferred object to the transfer device.
【図１】本発明の一実施例の搬送装置の断面図。FIG. 1 is a sectional view of a carrying device according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１における搬送台の（Ａ）上面図、（Ｂ）斜
視図。2 (A) is a top view and FIG. 2 (B) is a perspective view of the carrier table in FIG.
【図３】ウエハの中心位置を認識するプログラムの説明
図。FIG. 3 is an explanatory diagram of a program for recognizing the center position of the wafer.
【図４】本発明の第１実施例の搬送台車の位置制御のブ
ロック図。FIG. 4 is a block diagram of position control of the carrier vehicle according to the first embodiment of the present invention.
【図５】本発明の第２実施例の搬送台車の位置制御のブ
ロック図。FIG. 5 is a block diagram of position control of a carrier vehicle according to a second embodiment of the present invention.
【図６】真空処理装置が真空トンネルで接続された配置
を示す説明図。FIG. 6 is an explanatory view showing an arrangement in which vacuum processing devices are connected by a vacuum tunnel.
【図７】磁気浮上搬送装置の一例を示す断面図。FIG. 7 is a sectional view showing an example of a magnetic levitation transport device.
【図８】位置決め装置の原理を示す説明図。FIG. 8 is an explanatory diagram showing the principle of a positioning device.
【図９】従来の位置決め装置の制御系のブロック図。FIG. 9 is a block diagram of a control system of a conventional positioning device.
【図１０】ウエハのあらかじめ設定された位置に対する
実際の所在位置のズレを示す説明図。FIG. 10 is an explanatory diagram showing a deviation of an actual location position from a preset position of a wafer.
１ 搬送台 ２ イメージセンサ ３ ガラス ５ 開口 １１ 真空トンネル（磁気浮上搬送装置） １２ 位置センサ １３，１４ 位置決め装置 １３ａ，１４ａ 磁極 １３ｂ，１４ｂ コイル １３ｃ，１４ｃ 位置決めターゲット部材 １５ 変位センサターゲット ３３ ウエハ Ｍ 搬送台車の移動方向 1 Transport Platform 2 Image Sensor 3 Glass 5 Opening 11 Vacuum Tunnel (Magnetic Levitation Transport System) 12 Position Sensor 13, 14 Positioning Device 13a, 14a Magnetic Pole 13b, 14b Coil 13c, 14c Positioning Target Member 15 Displacement Sensor Target 33 Wafer M Transport Cart Direction of movement
Claims (3)
決めする装置を備えた搬送装置において、前記被搬送物
移載の為の前記搬送台車の停止位置に、被搬送物の所在
位置を検出するセンサを設け、該被搬送物の停止位置
と、予め設定された被搬送物の所在位置とを比較して、
そのずれがゼロとなる様に、前記搬送台車の位置決め装
置を動作させて前記搬送台車を移動させ、前記被搬送物
を所定の停止位置に移動させる手段を備えたことを特徴
とする搬送装置。1. A transfer device comprising a device for stopping and positioning a transfer vehicle carrying a transferred object, wherein a position of the transferred object is detected at a stop position of the transfer vehicle for transferring the transferred object. Is provided, and the stop position of the transported object is compared with the preset position of the transported object,
A transport device comprising means for moving the transport carriage to move the transport object to a predetermined stop position by operating a positioning device for the transport carriage so that the deviation becomes zero.
ることを特徴とする請求項１記載の搬送装置。2. The transfer device according to claim 1, wherein the transfer device is a magnetic levitation transfer device.
内の直角方向とを位置決めする手段を備え、前記被搬送
物の水平面内の所在位置からあらかじめ設定された所定
の位置に移動させることを特徴とする請求項１記載の搬
送装置。3. The carrying device comprises means for positioning a carrying direction and a direction perpendicular to the horizontal plane, and moving the carried object from a position in the horizontal plane to a predetermined position set in advance. The transport device according to claim 1, wherein the transport device is a transport device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5285769A JPH07117847A (en) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | Conveying device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5285769A JPH07117847A (en) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | Conveying device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07117847A true JPH07117847A (en) | 1995-05-09 |
Family
ID=17695822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5285769A Pending JPH07117847A (en) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | Conveying device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07117847A (en) |
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-
1993
- 1993-10-21 JP JP5285769A patent/JPH07117847A/en active Pending
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