JPH0688862A - Semiconductor integrated circuit device and device and method for testing the same - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device and device and method for testing the same

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JPH0688862A
JPH0688862A JP4239605A JP23960592A JPH0688862A JP H0688862 A JPH0688862 A JP H0688862A JP 4239605 A JP4239605 A JP 4239605A JP 23960592 A JP23960592 A JP 23960592A JP H0688862 A JPH0688862 A JP H0688862A
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JP
Japan
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test
dummy
output
data
integrated circuit
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JP4239605A
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Isao Fukushi
功 福士
Ryoji Tamai
良二 玉井
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To measure the real access time of the storage circuit of an object to be tested so as to make the performance evaluation of the object highly reliable by providing a circuit for dummy test which processes test clock signals in a dummied state separately from a circuit for test. CONSTITUTION:When a register clock RCK is inputted to a circuit 12 for dummy test, a test clock signal TCK and test output data DOUT are respectively held in a dummy register and data output register. In addition, a dummy output signal DTCK fed back from a gate array 26 incorporating a RAM and the data Dout are inputted to a data controller 25 through a test signal input section 24, but the signal DTCK and data DOUT are outputted from the dummy output buffer and test output buffer of the array 26. The controller 25 obtains dummy information regarding the delay time obtained by interposing the apparent access time of a RAM macro Mn containing delay time into the apparent access time of the macro Mn based on the signal DTCK based on the data DOUT and finds access time TAA from the two time lags.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】〔目 次〕 産業上の利用分野 従来の技術(図8,9) 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段(図1,2) 作用 実施例(図3〜7) 発明の効果[Table of Contents] Industrial Application Field of the Prior Art (FIGS. 8 and 9) Problems to be Solved by the Invention Means for Solving the Problems (FIGS. 1 and 2) Action Embodiments (FIGS. 3 to 7) The invention's effect

【0002】[0002]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置,
その試験装置及びその試験方法に関するものであり、更
に詳しく言えば、ゲートアレイやスタンダードセル等の
チップに内蔵された半導体記憶回路を試験する回路の改
善及びその試験方法の向上に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device,
The present invention relates to a test apparatus and a test method thereof, and more specifically, to an improvement of a circuit for testing a semiconductor memory circuit built in a chip such as a gate array or a standard cell and an improvement of the test method.

【0003】近年、半導体装置の高集積,高密度化に伴
いゲートアレイやスタンダードセル等のチップにRAM
(随時書込み/読出し可能なメモリ)マクロを内蔵した
大規模な半導体集積回路(以下LSIという)装置が開
発される傾向にある。また、LSI装置の高機能化,高
性能化の要求に伴い、RAMのアクセスタイムも益々高
速化される傾向にある。
In recent years, as semiconductor devices have been highly integrated and highly densified, RAMs have been mounted on chips such as gate arrays and standard cells.
A large-scale semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as LSI) device having a built-in (writable / readable memory at any time) macro tends to be developed. Further, with the demand for higher performance and higher performance of LSI devices, the access time of RAM tends to be further increased.

【0004】これによれば、大規模LSI装置の試験を
容易にするために、該LSI装置内部に試験入力バッフ
ァ,試験出力バッファ,試験クロック入力バッファ等か
ら成る試験用回路が設けられ、例えば、複数のRAMマ
クロに対して試験入力バッファや試験クロック入力バッ
ファが共通して設けられる。
According to this, in order to facilitate the test of a large-scale LSI device, a test circuit including a test input buffer, a test output buffer, a test clock input buffer, etc. is provided inside the LSI device. A test input buffer and a test clock input buffer are commonly provided for a plurality of RAM macros.

【0005】しかし、それらの試験入/出力配線や試験
クロック配線がチップ内部を長く引き回されるため、そ
こに非常に大きな配線容量や浮遊容量が寄生し、かつ、
試験入/出力バッファが介在するため、それがRAMマ
クロのアクセスタイムの測定に悪影響を及ぼすことがあ
る。
However, since the test input / output wiring and the test clock wiring are laid long inside the chip, a very large wiring capacitance and stray capacitance are parasitic there, and
Because of the interposition of the test input / output buffer, it can adversely affect the RAM macro access time measurement.

【0006】そこで、被試験対象に新たな試験補助回路
を付加して、試験入/出力データや試験クロック信号を
伝送する試験入/出力配線や試験クロック配線及び試験
入/出力バッファの遅延の影響を取り除き、真のアクセ
スタイムを測定することができる装置と方法が望まれて
いる。
Therefore, a new test auxiliary circuit is added to the object to be tested, and the influence of the delay of the test input / output wiring for transmitting the test input / output data and the test clock signal, the test clock wiring, and the test input / output buffer. There is a need for an apparatus and method that can eliminate the noise and measure the true access time.

【0007】[0007]

【従来の技術】図8,9は、従来例に係る説明図であ
る。図8は、従来例に係るRAM内蔵ゲートアレイの構
成図を示している。例えば、試験補助機能を有する試験
用回路を内蔵した被試験対象16の一例となるRAM内
蔵ゲートアレイは、図8において、複数のRAMマクロ
1,ゲートアレイ2,試験入力バッファ3A,試験出力
バッファ3B,試験クロック入力バッファ4,テストモ
ード入力バッファ5,通常入力バッファ6A,通常出力
バッファ6B及びそれらの入出力端子から成る。
2. Description of the Related Art FIGS. 8 and 9 are explanatory views of a conventional example. FIG. 8 shows a block diagram of a gate array with built-in RAM according to a conventional example. For example, a gate array with built-in RAM, which is an example of the device under test 16 having a test circuit having a test assisting function, has a plurality of RAM macros 1, a gate array 2, a test input buffer 3A, and a test output buffer 3B in FIG. , A test clock input buffer 4, a test mode input buffer 5, a normal input buffer 6A, a normal output buffer 6B, and their input / output terminals.

【0008】なお、試験入力バッファ3A,試験出力バ
ッファ3B,試験クロック入力バッファ4及びテストモ
ード入力バッファ5はチップ全体の機能試験のみでは、
RAMマクロ1の全メモリセルの試験を行うことが困難
となるため、当該RAM内蔵ゲートアレイを試験をする
LSIテスタを補助するべく設けられた試験用回路であ
る。これにより、RAMマクロ1を周辺の論理回路と切
り離して単独で、そのRAMのアクセスタイム等の測定
することができる。
Note that the test input buffer 3A, the test output buffer 3B, the test clock input buffer 4 and the test mode input buffer 5 are used only for the functional test of the entire chip.
Since it is difficult to test all the memory cells of the RAM macro 1, this test circuit is provided to assist the LSI tester that tests the RAM built-in gate array. As a result, the RAM macro 1 can be separated from the peripheral logic circuit and the access time of the RAM can be measured independently.

【0009】また、1つのRAMマクロ1の内部構成
は、図9に示すように入力レジスタ1Cに接続されたR
AM1A,通常入力ポートPinや試験入力配線Lin等に
接続された試験切り換え回路1B及び該切り換え回路1
BとRAM1Aとの間に接続された入力レジスタ1Cか
ら成る。
The internal structure of one RAM macro 1 is R connected to the input register 1C as shown in FIG.
AM 1A, test switching circuit 1B connected to normal input port Pin, test input wiring Lin, etc., and switching circuit 1
It consists of an input register 1C connected between B and RAM 1A.

【0010】例えば、RAMマクロ1のRAMのアクセ
スタイム等を測定する場合、図9において、まず、テス
トモード入力バッファ5を介して試験切り換え回路1B
に試験モード信号T/Aを供給し、例えば、それを
「H」レベルにして、RAMマクロ1を試験モードにす
る。これにより、試験切り換え回路1Bが通常入力ポー
トPinを切り離し、試験入力配線Lin側を選択する。
For example, in the case of measuring the access time of the RAM of the RAM macro 1 and the like, in FIG. 9, first, the test switching circuit 1B via the test mode input buffer 5 is used.
Is supplied with the test mode signal T / A, and it is set to the "H" level to put the RAM macro 1 in the test mode. As a result, the test switching circuit 1B disconnects the normal input port Pin and selects the test input wiring Lin side.

【0011】ここで、試験クロック入力バッファ4に接
続された試験クロック配線Ltを介して試験クロック信
号TCKが入力レジスタ1Cに供給され、また、試験入力
バッファ3Aに接続された試験入力配線Linを介してア
ドレス,データ等の必要な試験データDINが入力レジス
タ1Cに与えられる。これにより、一般の単体RAMと
同様に、その通常出力ポートPout に接続された試験出
力バッファ3Bから試験出力データDOUT が得られる。
Here, the test clock signal TCK is supplied to the input register 1C via the test clock wiring Lt connected to the test clock input buffer 4, and also via the test input wiring Lin connected to the test input buffer 3A. Necessary test data DIN such as address and data are given to the input register 1C. As a result, the test output data DOUT can be obtained from the test output buffer 3B connected to the normal output port Pout as in the case of a general single unit RAM.

【0012】なお、通常の使用時には、試験切り換え回
路1Bに試験モード信号T/A=「L」レベルを供給し
て、RAMマクロ1を通常モードにする。これにより、
試験切り換え回路1Bが試験入力配線Lin側を切り離
し、通常入力ポートPinを選択する。
During normal use, the test mode signal T / A = "L" level is supplied to the test switching circuit 1B to put the RAM macro 1 in the normal mode. This allows
The test switching circuit 1B disconnects the test input wiring Lin side and selects the normal input port Pin.

【0013】これにより、ゲートアレイ2にRAMマク
ロ1が接続され、また、所定入力ポートPINに入力デー
タが入力されると、ゲートアレイ2により処理された出
力データが所定出力ポートPOUT から出力される。
As a result, when the RAM macro 1 is connected to the gate array 2 and the input data is input to the predetermined input port PIN, the output data processed by the gate array 2 is output from the predetermined output port POUT. .

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来例のR
AM内蔵ゲートアレイによれば、複数のRAMマクロ1
に対して試験入力バッファ3A,試験クロック入力バッ
ファ4が共通して設けられ、該RAMマクロ1間におい
て、試験入力配線Lin及び試験クロック配線Ltを介し
て試験データDIN及び試験クロック信号TCKが伝送され
る。
By the way, the conventional R
According to the gate array with built-in AM, a plurality of RAM macros 1
A test input buffer 3A and a test clock input buffer 4 are provided in common, and the test data DIN and the test clock signal TCK are transmitted between the RAM macros 1 through the test input wiring Lin and the test clock wiring Lt. It

【0015】RAMマクロ1に対して、個々に試験入力
バッファ3Aや試験クロック入力バッファ4を設ける
と、膨大な数の試験用入力端子が必要になるため、通常
の入力又は出力端子の数を減少せざるを得なくなる。こ
のため、1組の試験入力配線Lin,試験クロック配線L
tに多数のRAMマクロ1を接続して、試験用入力端子
の削減化を図っている。
If the test input buffer 3A and the test clock input buffer 4 are individually provided to the RAM macro 1, a huge number of test input terminals are required, so that the number of normal input or output terminals is reduced. I have no choice but to do it. Therefore, one set of test input wiring Lin and test clock wiring L
A large number of RAM macros 1 are connected to t to reduce the number of test input terminals.

【0016】しかし、試験入力配線Lin,試験クロック
配線Lt及び試験出力配線Lout がチップ内部を長く引
き回されると、RAMマクロ1の入力レジスタ1Cから
試験入力バッファ3A,試験クロック入力バッファ4を
見た場合及び通常出力ポートPout から試験出力バッフ
ァ3Bを見た場合に、そこに非常に大きな入力配線容
量,出力配線容量や浮遊容量が寄生する。
However, when the test input wiring Lin, the test clock wiring Lt, and the test output wiring Lout are laid inside the chip for a long time, the test input buffer 3A and the test clock input buffer 4 are viewed from the input register 1C of the RAM macro 1. When the test output buffer 3B is viewed from the normal output port Pout, a very large input wiring capacitance, output wiring capacitance and stray capacitance are parasitic there.

【0017】また、従来例のRAMマクロ1のアクセス
タイムの測定方法によれば、試験クロック入力バッファ
4が接続された試験用クロック入力端子に試験クロック
信号TCKが入力されてから、試験出力バッファ3Bが接
続された試験用出力端子に試験出力データDOUT が出力
される間の時間差を測定することにより行われる。
Further, according to the conventional method of measuring the access time of the RAM macro 1, the test clock buffer TBC is input to the test clock input terminal to which the test clock input buffer 4 is connected, and then the test output buffer 3B is input. This is performed by measuring the time difference between the output of the test output data DOUT to the test output terminal connected to.

【0018】このため、試験入力バッファ4と試験出力
バッファ3Bの遅延時間に加え、チップ内部を長く引き
回された試験クロック配線Ltや試験出力配線Lout に
よる試験データDIN,試験クロック信号TCK及び試験出
力データDOUT の遅延時間がRAMマクロ1の真のアク
セスタイムに介入することとなる。このことで、半導体
集積回路装置の高機能化,高性能化に伴い、益々高速化
されるRAM1Aのアクセスタイムに対して、真の評価
をしようとすると、これらの遅延時間を無視することが
できない。
Therefore, in addition to the delay time of the test input buffer 4 and the test output buffer 3B, the test data DIN, the test clock signal TCK, and the test output by the test clock wiring Lt and the test output wiring Lout which are laid long inside the chip are provided. The delay time of the data DOUT will interfere with the true access time of the RAM macro 1. Therefore, if the semiconductor integrated circuit device is highly functionalized and has high performance, the delay time cannot be neglected when the true evaluation is attempted with respect to the access time of the RAM 1A, which is further increased in speed. .

【0019】これにより、半導体集積回路装置の高集積
化,高密度化に伴い、RAM1Aのアクセスタイムに比
べて遅延時間が非常に大きくなることから、その正確な
アクセスタイムを測定することが困難となる。また、従
来例のような測定方法では真の評価をすることができな
いという問題がある。
As a result, as the semiconductor integrated circuit device becomes highly integrated and highly densified, the delay time becomes much larger than the access time of the RAM 1A, making it difficult to measure the accurate access time. Become. Further, there is a problem that a true evaluation cannot be performed by the measuring method as in the conventional example.

【0020】本発明は、かかる従来例の問題点に鑑み創
作されたものであり、被試験対象に新たな試験補助回路
を付加して、試験入/出力データや試験クロック信号を
伝送する試験入/出力配線や試験クロック配線及び試験
入/出力バッファの遅延の影響を取り除き、真のアクセ
スタイムを測定すること、及び、当該装置の精度の向上
を図ることが可能となる半導体集積回路装置,その試験
装置及びその試験方法の提供を目的とする。
The present invention was created in view of the problems of the conventional example, and adds a new test auxiliary circuit to an object to be tested to transmit test input / output data and a test clock signal. / A semiconductor integrated circuit device capable of measuring the true access time by removing the influence of the delay of the output wiring, the test clock wiring, and the test input / output buffer, and improving the accuracy of the device, The purpose is to provide a test device and a test method thereof.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】図1(a),(b)は、
本発明に係る半導体集積回路装置の原理図であり、図2
は、本発明に係る半導体集積回路装置の試験装置及びそ
の試験方法の原理図をそれぞれ示している。
[Means for Solving the Problems] FIGS. 1 (a) and 1 (b) are
2 is a principle diagram of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, and FIG.
2A and 2B respectively show principle diagrams of a semiconductor integrated circuit device test apparatus and a test method therefor according to the present invention.

【0022】本発明の半導体集積回路装置は、図1
(a)に示すように、クロック信号に基づいて動作する
内部集積回路11の試験を補助する試験用回路11Aが組
み込まれた半導体集積回路装置において、前記試験用回
路11Aとは別に試験クロック信号TCKのダミー処理をす
るダミー試験用回路12が設けられることを特徴とす
る。
The semiconductor integrated circuit device of the present invention is shown in FIG.
As shown in (a), in the semiconductor integrated circuit device in which the test circuit 11A for assisting the test of the internal integrated circuit 11 operating based on the clock signal is incorporated, the test clock signal TCK is provided separately from the test circuit 11A. The dummy test circuit 12 for performing the dummy process is provided.

【0023】なお、本発明の半導体集積回路装置におい
て、前記ダミー試験用回路12が図1(b)に示すよう
に、試験補助クロック信号RCKを入力する試験補助クロ
ック入力手段12Aと、前記試験補助クロック信号RCKに
基づいて試験クロック信号TCKを保持するダミー保持手
段12Bと、前記試験補助クロック信号RCKに基づいて試
験出力データDOUT を保持する試験データ保持手段12C
と、前記ダミー保持手段12Bで保持された試験クロック
信号TCKをダミー出力信号DTCK として出力をするダミ
ー出力手段12Dから成ることを特徴とする。
In the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the dummy test circuit 12 has a test auxiliary clock input means 12A for inputting a test auxiliary clock signal RCK and the test auxiliary as shown in FIG. 1B. Dummy holding means 12B for holding the test clock signal TCK based on the clock signal RCK and test data holding means 12C for holding the test output data DOUT based on the test auxiliary clock signal RCK.
And a dummy output means 12D for outputting the test clock signal TCK held by the dummy holding means 12B as a dummy output signal DTCK.

【0024】また、本発明の半導体集積回路装置におい
て、前記ダミー保持手段12Bと試験データ保持手段12C
とが同一回路から成り、前記内部集積回路11とダミー
保持手段12Bとが近接して配置されることを特徴とす
る。
Further, in the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the dummy holding means 12B and the test data holding means 12C are provided.
Are composed of the same circuit, and the internal integrated circuit 11 and the dummy holding means 12B are arranged close to each other.

【0025】さらに、本発明の半導体集積回路装置の試
験装置は、本発明の半導体集積回路装置を試験する装置
であって、図2に示すように、前記被試験対象16に、
非試験/試験モード信号T/A,試験クロック信号TC
K,試験データDIN及び試験補助クロック信号RCKを出
力する試験信号出力手段13と、前記ダミー出力信号D
TCK 及び試験出力データDOUT を入力する試験信号入力
手段14と、前記試験信号出力手段13及び試験信号入
力手段14の入出力を制御する制御手段15とを具備
し、前記制御手段15が、被試験対象16に設けられた
ダミー試験用回路12から帰還するダミー出力信号DTC
K に基づいて内部集積回路11の遅延時間の求値制御を
することを特徴とする。
Further, the semiconductor integrated circuit device testing device of the present invention is a device for testing the semiconductor integrated circuit device of the present invention, and as shown in FIG.
Non-test / test mode signal T / A, test clock signal TC
K, test data DIN, and test signal output means 13 for outputting the test auxiliary clock signal RCK, and the dummy output signal D
The test signal input means 14 for inputting the TCK and the test output data DOUT and the control means 15 for controlling the input / output of the test signal output means 13 and the test signal input means 14 are provided, and the control means 15 is under test. Dummy output signal DTC returned from the dummy test circuit 12 provided in the target 16
The present invention is characterized in that the delay time of the internal integrated circuit 11 is controlled based on K.

【0026】また、本発明の半導体集積回路装置の試験
方法は、本発明の半導体集積回路装置を試験する方法で
あって、前記被試験対象16に、非試験/試験モード信
号T/A,試験クロック信号TCK,試験データDIN及び
試験補助クロック信号RCKの供給処理をし、前記ダミー
出力信号DTCK 及び試験出力データDOUT の取得処理を
し、前記被試験対象16の試験用回路11Aとは別に設け
られたダミー試験用回路12から帰還するダミー出力信
号DTCK に基づいて内部集積回路11の遅延時間の求値
処理をすることを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device testing method of the present invention is a method of testing the semiconductor integrated circuit device of the present invention, in which the non-test / test mode signal T / A, test The clock signal TCK, the test data DIN, and the test auxiliary clock signal RCK are supplied, the dummy output signal DTCK and the test output data DOUT are acquired, and are provided separately from the test circuit 11A of the device under test 16. It is characterized in that the delay time of the internal integrated circuit 11 is calculated based on the dummy output signal DTCK fed back from the dummy test circuit 12.

【0027】なお、本発明の半導体集積回路装置の試験
方法であって、前記内部集積回路11の遅延時間の求値
処理は、前記被試験対象16の期待値と試験出力データ
DOUT とを比較する条件下において、試験クロック信号
TCKと試験補助クロック信号RCKとの時間差を縮小し、
前記試験出力データDOUT が被試験対象16の期待値に
一致する限界に係る第1の時間差データD1の取得処理
をし、かつ、前記被試験対象16の期待値とダミー出力
信号DTCK とを比較する条件下において、試験クロック
信号TCKと試験補助クロック信号RCKとの時間差を縮小
し、前記ダミー出力信号DTCK が被試験対象16の期待
値に一致する限界に係る第2の時間差データD2の取得
処理をし、前記第1,第2の時間差データD1,D2の
差の算出処理をすることを特徴とし、上記目的を達成す
る。
In the method of testing a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, in the process of calculating the delay time of the internal integrated circuit 11, the expected value of the device under test 16 is compared with the test output data DOUT. Under the condition, the time difference between the test clock signal TCK and the test auxiliary clock signal RCK is reduced,
Acquisition processing of the first time difference data D1 relating to the limit at which the test output data DOUT matches the expected value of the DUT 16 is performed, and the expected value of the DUT 16 is compared with the dummy output signal DTCK. Under the condition, the time difference between the test clock signal TCK and the test auxiliary clock signal RCK is reduced, and the second time difference data D2 relating to the limit at which the dummy output signal DTCK matches the expected value of the DUT 16 is acquired. The difference between the first and second time difference data D1 and D2 is calculated, and the above object is achieved.

【0028】[0028]

【作 用】本発明の半導体集積回路装置によれば、図1
(a)に示すように、試験用回路11Aが組み込まれた半
導体集積回路装置において、試験用回路11Aとは別に試
験クロック信号TCKのダミー処理をするダミー試験用回
路12が設けられる。
[Operation] According to the semiconductor integrated circuit device of the present invention, FIG.
As shown in (a), in the semiconductor integrated circuit device in which the test circuit 11A is incorporated, a dummy test circuit 12 for performing dummy processing of the test clock signal TCK is provided separately from the test circuit 11A.

【0029】このため、記憶回路Mを含む内部集積回路
11の試験をする場合であって、従来例のように複数の
記憶回路素子Mに対して試験用回路11Aが共通して設け
られ、試験クロック配線や試験出力配線がチップ内部を
長く引き回された場合であっても、その遅延時間等に係
るダミー情報をダミー試験用回路12から外部の試験装
置等に提供することが可能となる。
Therefore, in the case of testing the internal integrated circuit 11 including the memory circuit M, the test circuit 11A is commonly provided for a plurality of memory circuit elements M as in the conventional example, and the test is performed. Even when the clock wiring and the test output wiring are laid long inside the chip, it is possible to provide the dummy information regarding the delay time and the like from the dummy test circuit 12 to an external test device or the like.

【0030】これにより、被試験対象16の記憶回路M
の真のアクセスタイムを測定することができ、当該装置
の性能評価の信頼性の向上を図ることが可能となる。ま
た、本発明の半導体集積回路装置の試験装置によれば、
図2に示すように、試験信号出力手段13,試験信号入
力手段14及び制御手段15が具備され、該制御手段1
5により、被試験対象16のダミー試験用回路12から
帰還するダミー出力信号DTCK や試験補助クロック信号
RCKに基づいて記憶回路MのアクセスタイムTAAが求
値制御される。
As a result, the memory circuit M of the device under test 16 is
The true access time can be measured, and the reliability of performance evaluation of the device can be improved. Further, according to the semiconductor integrated circuit device testing apparatus of the present invention,
As shown in FIG. 2, a test signal output means 13, a test signal input means 14 and a control means 15 are provided.
5, the access time TAA of the memory circuit M is value-controlled based on the dummy output signal DTCK fed back from the dummy test circuit 12 of the device under test 16 and the test auxiliary clock signal RCK.

【0031】例えば、被試験対象16の記憶回路Mのア
クセスタイムを測定する場合であって、その試験用回路
11Aが組み込まれた被試験対象16に、非試験/試験モ
ード信号T/A,試験クロック信号TCK,試験データD
IN及び試験補助クロック信号RCKが試験信号出力手段1
3から試験用回路11Aやダミー試験用回路12に出力さ
れる。
For example, when the access time of the memory circuit M of the device under test 16 is measured, the test circuit
The test object 16 in which 11A is incorporated includes a non-test / test mode signal T / A, a test clock signal TCK, and test data D.
IN and the test auxiliary clock signal RCK are test signal output means 1
3 is output to the test circuit 11A and the dummy test circuit 12.

【0032】この際に、図1(b)に示すように、試験
補助クロック信号RCKがダミー試験用回路12の試験補
助クロック入力手段12Aに入力されると、試験補助クロ
ック信号RCKに基づいて試験クロック信号TCKがダミー
保持手段12Bにより保持され、同様に、該試験補助クロ
ック信号RCKに基づいて試験出力データDOUT が試験デ
ータ保持手段12Cに保持される。
At this time, as shown in FIG. 1B, when the test auxiliary clock signal RCK is input to the test auxiliary clock input means 12A of the dummy test circuit 12, the test auxiliary clock signal RCK is tested based on the test auxiliary clock signal RCK. The clock signal TCK is held by the dummy holding means 12B, and similarly, the test output data DOUT is held in the test data holding means 12C based on the test auxiliary clock signal RCK.

【0033】また、被試験対象16から帰還する試験ク
ロック信号TCK,すなわち、ダミー出力信号DTCK 及び
試験出力データDOUT が試験信号入力手段14を介して
制御手段15に入力される。この際に、ダミー保持手段
12Bやデータ出力手段12Cを経たダミー出力信号DTCK
や試験出力データDOUT がダミー出力手段12Dや試験用
回路11Aから出力される。
Further, the test clock signal TCK fed back from the device under test 16, that is, the dummy output signal DTCK and the test output data DOUT are input to the control means 15 via the test signal input means 14. At this time, the dummy holding means
Dummy output signal DTCK through 12B and data output means 12C
And test output data DOUT are output from the dummy output means 12D and the test circuit 11A.

【0034】これにより、制御手段15では、まず、試
験出力データDOUT とその期待値と比較してそれが一致
すれば、パス(Pass )という条件下において、試験ク
ロック信号TCKと試験補助クロックRCKとの時間差を縮
小し、Pass となる限界の時間差を求めることで、見か
け上の記憶回路Mのアクセスタイムを測定する。
As a result, the control means 15 first compares the test output data DOUT with its expected value, and if they match, the test clock signal TCK and the test auxiliary clock RCK under the condition of path (Pass). The apparent access time of the memory circuit M is measured by reducing the time difference of Ps and obtaining the limit time difference of Pass.

【0035】次に、ダミー出力信号DTCK とその期待値
と比較してそれが一致すれば、パス(Pass )という条
件下において、ダミー出力信号DTCK と試験補助クロッ
クRCKとの時間差を縮小し、Pass となる限界の時間差
を求めることで、見かけ上の記憶回路Mのアクセスタイ
ムに介入した遅延時間等に係るダミー情報が取得され
る。これにより、2つの状態に係る時間差データD1,
D2(TRAM,TREG)に基づいて記憶回路Mのア
クセスタイムTAAが求値される。
Next, the dummy output signal DTCK is compared with its expected value, and if they match, the time difference between the dummy output signal DTCK and the test auxiliary clock RCK is reduced under the condition of "pass" (Pass), and Pass is reduced. By obtaining the time difference of the limit, the dummy information regarding the delay time and the like intervening in the apparent access time of the memory circuit M is acquired. Thereby, the time difference data D1, relating to the two states,
The access time TAA of the memory circuit M is calculated based on D2 (TRAM, TREG).

【0036】このため、従来例のように複数の記憶回路
Mに対して試験用回路11Aが共通して設けられ、試験ク
ロック配線や試験出力配線がチップ内部を長く引き回さ
れた場合であっても、そのダミー情報に基づいて該試験
クロック配線や試験出力配線に係る遅延時間等の影響を
取り除くことが可能となる。
Therefore, as in the conventional example, the test circuit 11A is commonly provided for the plurality of memory circuits M, and the test clock wiring and the test output wiring are laid long inside the chip. Also, it is possible to eliminate the influence of the delay time and the like related to the test clock wiring and the test output wiring based on the dummy information.

【0037】これにより、非試験/試験モード信号A/
T等に基づいて内部集積回路11から記憶回路Mのみを
切り離し、試験用回路11Aを介してそのアクセスタイム
を正確に測定することが可能となる。また、当該装置の
試験精度の向上を図ることが可能となる。
As a result, the non-test / test mode signal A /
It becomes possible to disconnect only the memory circuit M from the internal integrated circuit 11 based on T etc. and accurately measure the access time via the test circuit 11A. Further, it is possible to improve the test accuracy of the device.

【0038】さらに、本発明の半導体集積回路装置の試
験方法によれば、被試験対象16の試験用回路11Aとは
別に設けられたダミー試験用回路12を用いて記憶回路
MのアクセスタイムTAAが求値処理される。
Further, according to the test method of the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the access time TAA of the memory circuit M is controlled by using the dummy test circuit 12 provided separately from the test circuit 11A of the device under test 16. Value calculation is performed.

【0039】例えば、試験出力データDOUT とその期待
値と比較してそれが一致すれば、パス(Pass )という
条件下において、試験クロック信号TCKと試験補助クロ
ックRCKとの時間差が縮小され、該時間差がPass とな
る限界まで縮小した際の第1の時間差データD1(TR
AM)が取得処理され、かつ、ダミー出力信号DTCKと
その期待値と比較してそれが一致すれば、パス(Pass
)という条件下において、ダミー出力信号DTCK と試
験補助クロックRCKとの時間差が縮小され、該時間差が
Pass となる限界まで縮小した際の第2の時間差データ
D2(TREG)が取得処理される。
For example, if the test output data DOUT is compared with its expected value and they match, the time difference between the test clock signal TCK and the test auxiliary clock RCK is reduced under the condition of path (Pass), and the time difference is reduced. The first time difference data D1 (TR
AM) is acquired and compared with the dummy output signal DTCK and its expected value, and if they match, the path (Pass
), The time difference between the dummy output signal DTCK and the test auxiliary clock RCK is reduced, and the second time difference data D2 (TREG) obtained when the time difference is reduced to the limit of Pass is acquired.

【0040】このため、ステップP3Cで第1,第2の時
間差データD1,D2の差の算出処理をすることによ
り、従来例のように複数の記憶回路Mに対して試験用回
路11Aを共通して設け、その試験クロック配線や試験出
力配線がチップ内部を長く引き回した場合であっても、
そのダミー情報に基づいて該試験クロック配線や試験出
力配線に係る遅延時間等の影響を取り除くことができ、
記憶回路Mの真のアクセスタイムTAAを測定すること
が可能となる。
Therefore, in step P3C, the difference between the first and second time difference data D1 and D2 is calculated, so that the test circuit 11A is shared by the plurality of memory circuits M as in the conventional example. Even if the test clock wiring and test output wiring run around the inside of the chip for a long time,
Based on the dummy information, it is possible to remove the influence of the delay time related to the test clock wiring and the test output wiring,
It becomes possible to measure the true access time TAA of the memory circuit M.

【0041】これにより、これらの遅延時間を考慮した
高精度のアクセスタイムTAAが測定されることで、半
導体集積回路装置の高機能化,高性能化に伴い益々高速
化される記憶回路Mの真の評価をすることが可能とな
る。
As a result, by measuring the highly accurate access time TAA in consideration of these delay times, the true speed of the memory circuit M is further increased as the function and performance of the semiconductor integrated circuit device are improved. It becomes possible to evaluate.

【0042】[0042]

【実施例】次に、図を参照しながら本発明の実施例につ
いて説明をする。図3〜8は、本発明の実施例に係る半
導体集積回路装置,その試験装置及びその試験方法を説
明する図であり、図3は、本発明の実施例に係る半導体
集積回路装置の構成図を示している。また、図4はその
RAMマクロの内部構成図である。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. 3 to 8 are views for explaining a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention, a test apparatus therefor and a test method therefor, and FIG. 3 is a configuration diagram of the semiconductor integrated circuit device according to the embodiment of the present invention. Is shown. FIG. 4 is an internal block diagram of the RAM macro.

【0043】例えば、半導体集積回路装置の一例となる
RAM内蔵ゲートアレイ26は図3において、n個のR
AMマクロM1〜Mn,ゲートアレイ21,レジスタク
ロック入力22A,ダミー出力バッファ22D,試験入力バ
ッファ101 ,試験出力バッファ102 ,試験クロック入力
バッファ103 ,テストモード入力バッファ104 ,通常入
力バッファ26A,通常出力バッファ26B及び各種入出力
端子T1〜T5等から成る。
For example, a gate array 26 with a built-in RAM, which is an example of a semiconductor integrated circuit device, is shown in FIG.
AM macros M1 to Mn, gate array 21, register clock input 22A, dummy output buffer 22D, test input buffer 101, test output buffer 102, test clock input buffer 103, test mode input buffer 104, normal input buffer 26A, normal output buffer 26B and various input / output terminals T1 to T5.

【0044】すなわち、n個のRAMマクロM1〜Mn
はゲートアレイ21で各種論理処理されるデータやその
結果データを一時記憶するものである。なお、1つのR
AMマクロM1の内部構成については、図4において詳
述する。
That is, n RAM macros M1 to Mn
Is a memory for temporarily storing various logically processed data in the gate array 21 and resultant data. One R
The internal structure of the AM macro M1 will be described in detail with reference to FIG.

【0045】ゲートアレイ21は論理積,論理和等の論
理ゲート回路から成り、通常入力バッファ26A,通常出
力バッファ26Bやn個のRAMマクロM1〜Mnの通常
入力ポートPinや通常出力ポートPout に接続される。
The gate array 21 is composed of logical gate circuits such as logical product and logical sum, and is connected to the normal input buffer 26A, the normal output buffer 26B and the normal input port Pin and the normal output port Pout of the n RAM macros M1 to Mn. To be done.

【0046】レジスタクロック入力22Aは試験補助クロ
ック入力手段12Aの一実施例であり、ダミー試験用回路
12の一部を構成する。また、レジスタクロック入力22
Aは試験入力バッファ101 ,試験クロック入力バッファ
103 及びテストモード入力バッファ104 とは別に試験ク
ロック信号TCKのダミー処理に係る試験補助クロック信
号RCKの一例となるレジスタクロックを入力するもので
ある。また、レジスタクロック入力22Aの入力部はレジ
スタクロック入力端子T1に接続され、その出力部がレ
ジスタクロック配線Lin2に接続されて、n個のRAM
マクロM1〜Mnのダミーレジスタ22Bやデータ出力レ
ジスタ22Cに至る。
The register clock input 22A is an embodiment of the test auxiliary clock input means 12A and constitutes a part of the dummy test circuit 12. Also, register clock input 22
A is a test input buffer 101, a test clock input buffer
Separately from 103 and the test mode input buffer 104, a register clock which is an example of the test auxiliary clock signal RCK related to the dummy processing of the test clock signal TCK is input. Further, the input portion of the register clock input 22A is connected to the register clock input terminal T1 and the output portion thereof is connected to the register clock wiring Lin2, and n RAMs are connected.
It reaches the dummy register 22B and the data output register 22C of the macros M1 to Mn.

【0047】ダミー出力バッファ22Dはダミー出力手段
12Dの一実施例であり、ダミー試験用回路12の一部の
実施例を構成する。また、ダミー出力バッファ22Dは試
験出力バッファ102 とは別にダミー出力信号DTCK を出
力するものである。また、ダミー出力バッファ22Dの入
力部はダミーレジスタ22Bの出力部に接続され、その出
力部が試験クロック出力端子T5に接続される。
The dummy output buffer 22D is a dummy output means.
This is an example of 12D and constitutes a part of the example of the dummy test circuit 12. The dummy output buffer 22D outputs a dummy output signal DTCK separately from the test output buffer 102. The input part of the dummy output buffer 22D is connected to the output part of the dummy register 22B, and the output part is connected to the test clock output terminal T5.

【0048】試験入力バッファ101 ,試験出力バッファ
102 ,試験クロック入力バッファ103 及びテストモード
入力バッファ104 は試験用回路11Aの一実施例を構成
し、ゲートアレイ21からRAMマクロM1〜Mnを切
り離してその試験を補助する回路である。試験入力バッ
ファ101 は試験データDINを入力するものであり、試験
入力端子T2や試験入力配線Lin1に接続されて各RA
MマクロMnの試験切り換え回路21Bに至る。
Test input buffer 101, test output buffer
Reference numeral 102, test clock input buffer 103 and test mode input buffer 104 constitute one embodiment of the test circuit 11A and are circuits for separating the RAM macros M1 to Mn from the gate array 21 and assisting the test. The test input buffer 101 is for inputting the test data DIN, and is connected to the test input terminal T2 and the test input wiring Lin1 and connected to each RA.
The test switching circuit 21B for the M macro Mn is reached.

【0049】また、試験出力バッファ102 は試験出力デ
ータDOUT を出力するものであり、試験出力端子T6や
試験出力配線Lout に接続されて各RAMマクロMnの
データ出力レジスタ22Cに至る。試験クロック入力バッ
ファ103 は試験クロック信号TCKを入力するものであ
り、試験クロック入力端子T3や試験クロック配線Lt
に接続されて各RAMマクロMnの試験切り換え回路21
Bとダミーレジスタ22Bに至る。
The test output buffer 102 outputs the test output data DOUT and is connected to the test output terminal T6 and the test output wiring Lout and reaches the data output register 22C of each RAM macro Mn. The test clock input buffer 103 inputs the test clock signal TCK, and is connected to the test clock input terminal T3 and the test clock line Lt.
Test switching circuit 21 for each RAM macro Mn connected to
B and the dummy register 22B.

【0050】テストモード入力バッファ104 は非試験/
試験モード信号T/Aを入力するものであり、モード入
力端子T4や各RAMマクロMnの試験切り換え回路21
Bに接続される。なお、通常入力バッファ26A,通常出
力バッファ26Bはゲートアレイ21や所定入力ポートP
INや所定出力ポートPOUT に接続され、通常使用時の各
種データを入出力するものである。
The test mode input buffer 104 is not tested /
The test mode signal T / A is input, and the test switching circuit 21 of the mode input terminal T4 and each RAM macro Mn is input.
Connected to B. The normal input buffer 26A and the normal output buffer 26B are the gate array 21 and the predetermined input port P.
It is connected to IN and a predetermined output port POUT, and inputs and outputs various data during normal use.

【0051】また、1つのRAMマクロM1の内部構成
は、図4に示すようにRAM21A,試験切り換え回路21
B,入力レジスタ21C,ダミーレジスタ22B及びデータ
出力レジスタ22Cから成る。
The internal structure of one RAM macro M1 is, as shown in FIG. 4, a RAM 21A and a test switching circuit 21.
B, input register 21C, dummy register 22B and data output register 22C.

【0052】すなわち、RAM21Aは記憶回路Mの一実
施例であり、その試験時や通常使用時に、その試験デー
タDINや通常データを一時記憶するものである。試験切
り換え回路21Bは非試験/試験モード信号T/Aに基づ
いて入力レジスタ21Cの入力ソースを切り換えるもので
ある。例えば、非試験時,すなわち、通常使用時には通
常入力ポートPinを入力レジスタ21Cに接続し、試験時
は試験クロック配線Ltや試験入力配線Lin1を入力レ
ジスタ21Cに接続する。なお、入力レジスタ21Cは、そ
の試験時には、試験クロック信号TCKに基づいて試験デ
ータDINを保持する。RAM21A,試験切り換え回路21
B,入力レジスタ21Cは内部集積回路11の一実施例で
ある。
That is, the RAM 21A is an embodiment of the memory circuit M, and temporarily stores the test data DIN and the normal data at the time of the test or the normal use. The test switching circuit 21B switches the input source of the input register 21C based on the non-test / test mode signal T / A. For example, the normal input port Pin is connected to the input register 21C during non-test, that is, in normal use, and the test clock line Lt and the test input line Lin1 are connected to the input register 21C during test. The input register 21C holds the test data DIN based on the test clock signal TCK during the test. RAM21A, test switching circuit 21
B and the input register 21C are an embodiment of the internal integrated circuit 11.

【0053】ダミーレジスタ22Bはダミー保持手段12B
の一実施例であり、ダミー試験用回路12を構成する。
また、ダミーレジスタ22BはレジスタクロックRCKに基
づいて試験クロック信号TCKを保持するものである。デ
ータ出力レジスタ22Cは試験データ保持手段12Cの一実
施例であり、ダミー試験用回路12を構成する。また、
データ出力レジスタ22CはレジスタクロックRCKに基づ
いて試験出力データDOUT を保持するものである。
The dummy register 22B is a dummy holding means 12B.
This is an embodiment of the present invention and constitutes a dummy test circuit 12.
The dummy register 22B holds the test clock signal TCK based on the register clock RCK. The data output register 22C is an embodiment of the test data holding means 12C and constitutes the dummy test circuit 12. Also,
The data output register 22C holds the test output data DOUT based on the register clock RCK.

【0054】なお、ダミーレジスタ22Bとデータ出力レ
ジスタ22Cとは同一回路から成り、試験切り換え回路21
B,入力レジスタ21C, RAM21A,ダミーレジスタ22
B,データ出力レジスタ22Cとは近接して配置されるこ
とを特徴とする。
The dummy register 22B and the data output register 22C are composed of the same circuit, and the test switching circuit 21
B, input register 21C, RAM 21A, dummy register 22
B and the data output register 22C are arranged close to each other.

【0055】これは、ダミーレジスタ22Bとデータ出力
レジスタ22Cとに至るレジスタクロックの時間差及び入
力レジスタ21Cとダミーレジスタ22Bとに至る試験クロ
ック信号TCKの時間差を無視できる程度に小さく抑える
ためである。
This is to suppress the time difference between the register clocks reaching the dummy register 22B and the data output register 22C and the time difference between the test clock signals TCK reaching the input register 21C and the dummy register 22B to a negligible level.

【0056】このようにして、本発明の実施例に係るR
AM内蔵ゲートアレイによれば、図3,5に示すよう
に、試験入力バッファ101 ,試験出力バッファ102 ,試
験クロック入力バッファ103 ,テストモード入力バッフ
ァ104 等の試験用回路11Aが組み込まれたRAM内蔵ゲ
ートアレイにおいて、該試験用回路11Aとは別に試験ク
ロック信号TCKのダミー処理をするレジスタクロック入
力22A,ダミーレジスタ22B,データ出力レジスタ22
C,ダミー出力バッファ22Dから成るダミー試験用回路
12が設けられる。
Thus, R according to the embodiment of the present invention
According to the AM-incorporated gate array, as shown in FIGS. 3 and 5, a built-in RAM in which a test circuit 11A such as a test input buffer 101, a test output buffer 102, a test clock input buffer 103, and a test mode input buffer 104 is incorporated. In the gate array, in addition to the test circuit 11A, a register clock input 22A, a dummy register 22B, and a data output register 22 for performing dummy processing of the test clock signal TCK are provided.
A dummy test circuit 12 including C and a dummy output buffer 22D is provided.

【0057】このため、ゲートアレイ21からRAMマ
クロM1〜Mnを切り離して、そのアクセスタイムTA
Aを測定する場合であって、従来例のように複数のRA
MマクロM1〜Mnに対して個々に試験出力バッファ10
2 が設けられ、試験クロック入力バッファ103 が共通し
て設けられ、試験クロック配線Lt,試験データ出力配
線がチップ内部を長く引き回された場合であっても、そ
の遅延時間等に係るダミー情報をダミーバッファから外
部の試験装置等に提供することが可能となる。
Therefore, the RAM macros M1 to Mn are separated from the gate array 21, and the access time TA
When measuring A, a plurality of RAs as in the conventional example
Test output buffer 10 for each of M macros M1 to Mn
2 is provided, the test clock input buffer 103 is provided in common, and even when the test clock wiring Lt and the test data output wiring are laid long inside the chip, dummy information regarding the delay time and the like is provided. The dummy buffer can be provided to an external test device or the like.

【0058】すなわち、あるRAMマクロMnから試験
クロック入力バッファ103 や試験出力バッファ102 等を
見た場合に寄生する入力配線容量,出力配線容量や浮遊
容量を原因とする遅延時間,入出力バッファの遅延及び
入力レジスタ21Cのセットアップ時間等に相当するダミ
ー情報をダミーレジスタ22Bから外部に出力することが
可能となる。
That is, when looking at the test clock input buffer 103, the test output buffer 102, etc. from a certain RAM macro Mn, the parasitic input wiring capacitance, the delay time due to the output wiring capacitance and the stray capacitance, the delay of the input / output buffer, etc. Also, dummy information corresponding to the setup time of the input register 21C and the like can be output from the dummy register 22B to the outside.

【0059】これにより、ゲートアレイ21からRAM
マクロM1〜Mnを切り離して、その真のアクセスタイ
ムTAAを測定することができ、当該ゲートアレイ21
の性能評価の信頼性の向上を図ることが可能となる。
As a result, the gate array 21 is connected to the RAM.
It is possible to separate the macros M1 to Mn and measure their true access time TAA.
It is possible to improve the reliability of the performance evaluation of.

【0060】なお、通常の使用時には、試験切り換え回
路21Bに非試験/試験モード信号T/A=「L」レベル
を供給して、RAMマクロM1を通常モードにする。こ
れにより、試験切り換え回路21Bが試験入力配線Lin1
側を切り離し、通常入力ポートPinを選択する。この際
に、ゲートアレイ26にRAMマクロM1〜Mnが接続
され、また、所定入力ポートPINに入力データが入力さ
れると、ゲートアレイ26により処理された出力データ
が所定出力ポートPOUT から出力される。
During normal use, the test switching circuit 21B is supplied with the non-test / test mode signal T / A = "L" level to put the RAM macro M1 in the normal mode. As a result, the test switching circuit 21B causes the test input wiring Lin1
The side is separated and the normal input port Pin is selected. At this time, when the RAM macros M1 to Mn are connected to the gate array 26 and the input data is input to the predetermined input port PIN, the output data processed by the gate array 26 is output from the predetermined output port POUT. .

【0061】次に、本発明の実施例に係る半導体集積回
路装置の試験装置について、当該RAM内蔵ゲートアレ
イ26のダミー試験用回路の動作を補足しながら説明を
する。
Next, a semiconductor integrated circuit device testing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described, supplementing the operation of the dummy testing circuit of the RAM built-in gate array 26.

【0062】図5は、本発明の実施例に係るRAM内蔵
ゲートアレイの試験システム装置の構成図である。例え
ば、該試験用回路11Aとは別に試験クロック信号TCKの
ダミー処理をするダミー試験用回路12が設けられたR
AM内蔵ゲートアレイ26のゲートアレイ21からRA
MマクロM1〜Mnを切り離して、そのアクセスタイム
TAAを測定する装置は、図5において、試験信号出力
部23,試験信号入力部24及びデータ制御装置25か
ら成る。
FIG. 5 is a block diagram of a test system device for a gate array with built-in RAM according to an embodiment of the present invention. For example, in addition to the test circuit 11A, a dummy test circuit 12 for performing a dummy process of the test clock signal TCK is provided R
RA from the gate array 21 of the gate array 26 with built-in AM
The device for separating the M macros M1 to Mn and measuring the access time TAA thereof comprises a test signal output unit 23, a test signal input unit 24 and a data control device 25 in FIG.

【0063】すなわち、試験信号出力部23は試験信号
出力手段13の一実施例であり、非試験/試験モード信
号T/A,試験クロック信号TCK,試験データDIN及び
レジスタクロックRCKをRAM内蔵ゲートアレイ26に
出力するものである。例えば、試験信号出力部23はR
AM内蔵ゲートアレイ26のレジスタクロック入力端子
T1,試験入力端子T2,試験クロック入力端子T3,
試験モード端子T4に接続される。
That is, the test signal output section 23 is one embodiment of the test signal output means 13, and the non-test / test mode signal T / A, the test clock signal TCK, the test data DIN and the register clock RCK are contained in the RAM built-in gate array. It outputs to 26. For example, the test signal output unit 23 is R
Register clock input terminal T1, test input terminal T2, test clock input terminal T3 of the gate array 26 with built-in AM
It is connected to the test mode terminal T4.

【0064】試験信号入力部24は試験信号入力手段1
4の一実施例であり、RAM内蔵ゲートアレイ26から
帰還するダミー出力信号DTCK 及び試験出力データDOU
T を入力するものである。例えば、試験信号入力部24
はRAM内蔵ゲートアレイ26のダミー出力信号出力端
子T5,試験出力端子T6に接続される。
The test signal input section 24 is the test signal input means 1
4 is an embodiment of the present invention, which is a dummy output signal DTCK and test output data DOU fed back from the RAM built-in gate array 26.
You type T. For example, the test signal input unit 24
Is connected to the dummy output signal output terminal T5 and the test output terminal T6 of the RAM built-in gate array 26.

【0065】データ制御装置25は制御手段15の一実
施例であり、試験信号出力部23及び試験信号入力部2
4の入出力を制御するものである。例えば、データ制御
装置25はデータバス25Fに接続された信号発生部25
A,期待値比較部25B,メモリ部25C,その他の処理部
25D及びCPU(中央演算処理装置)25Eから成る。
The data control device 25 is an embodiment of the control means 15, and includes a test signal output section 23 and a test signal input section 2
4 controls the input / output of the signal. For example, the data control device 25 has a signal generator 25 connected to the data bus 25F.
A, expected value comparison unit 25B, memory unit 25C, other processing unit
25D and CPU (Central Processing Unit) 25E.

【0066】信号発生部25Aは非試験/試験モード信号
T/A,試験クロック信号TCK,試験データDIN及びレ
ジスタクロックRCKを発生するものであり、期待値比較
部25Bはダミー出力信号DTCK とその期待値, すなわ
ち、試験クロック信号TCKとの比較を行い試験データD
INに係る試験出力データDOUT とその評価基準となる期
待値データとを比較するものである。
The signal generator 25A generates the non-test / test mode signal T / A, the test clock signal TCK, the test data DIN and the register clock RCK, and the expected value comparator 25B outputs the dummy output signal DTCK and its expectation. Value, that is, the test data D is compared with the test clock signal TCK.
The test output data DOUT related to IN is compared with the expected value data which is the evaluation standard.

【0067】メモリ部25Cは試験出力データDOUT や期
待値データ等を記憶したり、試験用回路11Aの遅延時間
を含む見かけ上のRAMマクロMnのアクセスタイムT
RAMやダミーレジスタ22Bの見かけ上のセットアップ
タイムTREGに係る第1,第2の時間差データD1,
D2等を記憶する。
The memory section 25C stores the test output data DOUT, expected value data, etc., and the access time T of the apparent RAM macro Mn including the delay time of the test circuit 11A.
The first and second time difference data D1 relating to the apparent setup time TREG of the RAM and the dummy register 22B.
Memorize D2 and the like.

【0068】その他の処理部25DはCPU25Eの入出力
を補助するものであり、CPU25Eは信号発生部25A,
期待値比較部25B,メモリ部25C及びその他の処理部25
Dの入出力を制御するものである。例えば、CPU25E
は試験出力バッファ102 から帰還する試験出力データD
OUT やダミー試験用回路12から帰還するダミー出力信
号DTCK の2つの状態に係る第1,第2の時間差データ
D1,D2に基づいてRAMマクロMnのアクセスタイ
ムTAAの求値制御をする。
The other processing unit 25D assists the input / output of the CPU 25E, and the CPU 25E is a signal generating unit 25A,
Expected value comparison unit 25B, memory unit 25C and other processing unit 25
It controls the input / output of D. For example, CPU25E
Is the test output data D returned from the test output buffer 102.
The value of the access time TAA of the RAM macro Mn is controlled based on the first and second time difference data D1 and D2 relating to the two states of the dummy output signal DTCK fed back from the OUT or the dummy test circuit 12.

【0069】このようにして、本発明の実施例に係るR
AM内蔵ゲートアレイの試験装置によれば、図5に示す
ように、試験信号出力部23,試験信号入力部24及び
データ制御装置25が具備され、該データ制御装置25
により、RAMマクロMnのアクセスタイムTAAが求
値制御される。
Thus, R according to the embodiment of the present invention
As shown in FIG. 5, the test apparatus for the AM built-in gate array includes a test signal output section 23, a test signal input section 24, and a data control apparatus 25.
Thus, the access time TAA of the RAM macro Mn is controlled to be a value.

【0070】例えば、RAM内蔵ゲートアレイ26のR
AMマクロM1のアクセスタイムを測定する場合であっ
て、その試験用回路11Aが組み込まれたRAM内蔵ゲー
トアレイ26に、非試験/試験モード信号T/A,試験
クロック信号TCK,試験データDIN及びレジスタクロッ
クRCKが試験信号出力部23から試験用回路11Aやダミ
ー試験用回路12に出力される。
For example, R of the gate array 26 with built-in RAM
When measuring the access time of the AM macro M1, the non-test / test mode signal T / A, the test clock signal TCK, the test data DIN and the register are added to the RAM built-in gate array 26 in which the test circuit 11A is incorporated. The clock RCK is output from the test signal output unit 23 to the test circuit 11A and the dummy test circuit 12.

【0071】この際に、図4に示すように、レジスタク
ロックRCKがダミー試験用回路12のレジスタクロック
入力22Aに入力されると、レジスタクロックRCKに基づ
いて試験クロック信号TCKがダミーレジスタ22Bにより
保持され、該試験補助クロック信号RCKに基づいて試験
出力データDOUT がデータ出力レジスタ22Cに保持され
る。
At this time, as shown in FIG. 4, when the register clock RCK is input to the register clock input 22A of the dummy test circuit 12, the test clock signal TCK is held by the dummy register 22B based on the register clock RCK. The test output data DOUT is held in the data output register 22C based on the test auxiliary clock signal RCK.

【0072】また、RAM内蔵ゲートアレイ26から帰
還するダミー出力信号DTCK ,試験出力データDOUT が
試験信号入力部24を介してデータ制御装置25に入力
される。この際に、ダミーレジスタ22Bを経た試験クロ
ック信号TCK,すなわち、ダミー出力信号DTCK やデー
タ出力レジスタ22Cを経た試験出力データDOUT がダミ
ー出力バッファ22Dや試験出力バッファ102 から出力さ
れる。
Further, the dummy output signal DTCK and the test output data DOUT fed back from the RAM built-in gate array 26 are input to the data control device 25 via the test signal input section 24. At this time, the test clock signal TCK passed through the dummy register 22B, that is, the dummy output signal DTCK and the test output data DOUT passed through the data output register 22C are output from the dummy output buffer 22D and the test output buffer 102.

【0073】さらに、データ制御装置25では、まず、
試験出力データDOUT に基づいて遅延時間を含む見かけ
上のRAMマクロMnのアクセスタイムを測定する。次
に、試験用回路12から帰還するダミー出力信号DTCK
に基づいて見かけ上のRAMマクロMnのアクセスタイ
ムに介入した遅延時間等に係るダミー情報が取得され
る。これにより、2つの状態に係る時間差TRAM,T
REGに基づいてRAMマクロMnのアクセスタイムT
AAが求値される。
Further, in the data control device 25, first,
The apparent access time of the RAM macro Mn including the delay time is measured based on the test output data DOUT. Next, the dummy output signal DTCK fed back from the test circuit 12
Based on the above, the dummy information relating to the delay time and the like intervening in the apparent access time of the RAM macro Mn is acquired. As a result, the time differences TRAM, T related to the two states are
Access time T of RAM macro Mn based on REG
AA is calculated.

【0074】このため、従来例のように複数のRAMマ
クロM1〜Mnに対して試験用回路11Aが共通して設け
られ、試験入力配線Lin1,試験クロック配線Lt,試
験データ出力配線がチップ内部を長く引き回された場合
であっても、そのダミー情報に基づいて該試験クロック
配線Lt等に係る遅延時間等の影響を取り除くことが可
能となる。
Therefore, as in the conventional example, the test circuit 11A is commonly provided for the plurality of RAM macros M1 to Mn, and the test input wiring Lin1, the test clock wiring Lt, and the test data output wiring are provided inside the chip. Even if it is routed for a long time, it is possible to remove the influence of the delay time or the like related to the test clock wiring Lt or the like based on the dummy information.

【0075】これにより、非試験/試験モード信号A/
T等に基づいてゲートアレイ26からRAMマクロM1
〜Mnのみを切り離し、試験用回路11Aを介してそのア
クセスタイムTAAを正確に測定することが可能とな
る。また、当該装置の試験精度の向上を図ることが可能
となる。
As a result, the non-test / test mode signal A /
From the gate array 26 to the RAM macro M1 based on T etc.
It becomes possible to accurately separate the access time TAA through the test circuit 11A by disconnecting only .about.Mn. Further, it is possible to improve the test accuracy of the device.

【0076】次に、本発明の実施例に係る半導体集積回
路装置の試験方法について、当該試験装置の動作を補足
しながら説明をする。図6は、本発明の実施例に係るR
AM内蔵ゲートアレイの試験フローチャートであり、図
7はその試験フローチャートを補足する限界タイミング
チャートをそれぞれ示している。
Next, a method of testing the semiconductor integrated circuit device according to the embodiment of the present invention will be described, supplementing the operation of the test device. FIG. 6 shows an R according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a test flowchart of the AM-incorporated gate array, and FIG. 7 is a limit timing chart supplementing the test flowchart.

【0077】例えば、ダミー試験用回路12が設けられ
たRAM内蔵ゲートアレイ(以下被試験ゲートアレイと
いう)26のRAMマクロM1の真のアクセスタイムT
AAを測定する場合、図6において、まず、ステップP
0で被試験ゲートアレイ26と試験システム装置とを接
続する。この際に、被試験ゲートアレイ26のレジスタ
クロック入力端子T1,試験入力端子T2,試験クロッ
ク入力端子T3,試験モード端子T4が試験信号出力部
23に接続され、その試験クロック出力端子T5,試験
出力端子T6が試験信号入力部24に接続される。
For example, the true access time T of the RAM macro M1 of the RAM built-in gate array (hereinafter referred to as the gate array under test) 26 provided with the dummy test circuit 12 is provided.
When measuring AA, first, in FIG.
At 0, the gate array under test 26 and the test system device are connected. At this time, the register clock input terminal T1, the test input terminal T2, the test clock input terminal T3, and the test mode terminal T4 of the gate array under test 26 are connected to the test signal output section 23, and the test clock output terminal T5 and the test output thereof are connected. The terminal T6 is connected to the test signal input section 24.

【0078】次に、ステップP1〜P4で外部から見た
RAMマクロM1の見かけ上のアクセスタイムTRAM
を測定する。なお、見かけ上のアクセスタイムTRAM
には、入・出力バッファの遅延時間,入力レジスタ21B
のセットアップタイム,RAM21Aの真のアクセスタイ
ムTAA及び各配線容量に係る遅延時間が含まれる。ま
た、真のアクセスタイムTAAとはRAMマクロMnに
試験クロック信号TCKが入力されてから、通常出力ポー
トPout に読出しデータ(試験出力データDOUT )が出
力されるまでの時間をいうものとする。
Next, the apparent access time TRAM of the RAM macro M1 seen from the outside in steps P1 to P4.
To measure. The apparent access time TRAM
Input / output buffer delay time, input register 21B
Setup time, the true access time TAA of the RAM 21A, and the delay time associated with each wiring capacitance. The true access time TAA means the time from the input of the test clock signal TCK to the RAM macro Mn to the output of the read data (test output data DOUT) to the normal output port Pout.

【0079】すなわち、ステップP1でモード信号T/
Aを選択する。この際に、試験システム装置の試験信号
出力部23から被試験ゲートアレイ26の試験用回路11
Aやダミー試験用回路12に各信号T/A,TCK,DI
N,RCKが出力される。例えば、非試験/試験モード信
号T/Aを「H」レベルにして、RAMマクロM1〜M
nを試験モードにする。これにより、試験切り換え回路
21Bにより通常入力ポートPinが切り離され、試験入力
配線Lin1側が選択される。
That is, in step P1, the mode signal T /
Select A. At this time, the test circuit 11 of the gate array under test 26 is tested by the test signal output section 23 of the test system device.
Signals T / A, TCK, DI to A and the dummy test circuit 12
N and RCK are output. For example, the non-test / test mode signal T / A is set to the “H” level, and the RAM macros M1 to M are
Put n in test mode. This allows the test switching circuit
21B disconnects the normal input port Pin and selects the test input wiring Lin1 side.

【0080】次に、ステップP2で被試験ゲートアレイ
26に非試験/試験モード信号T/A,試験クロック信
号TCK,試験データDIN及びレジスタクロックRCKを供
給する。
Next, in step P2, the non-test / test mode signal T / A, the test clock signal TCK, the test data DIN and the register clock RCK are supplied to the gate array under test 26.

【0081】次いで、ステップP3で被試験ゲートアレ
イ26から帰還するダミー出力信号DTCK 及び試験出力
データDOUT の取得処理する。ここで、図7(a)に示
すように、試験クロック信号TCKはその試験クロック入
力端子T1の入力時刻t10を基準にすると、入力配線容
量等により遅延時間TC後の時刻t11に入力レジスタ21
Bに到達する。この試験クロック信号TCKの立ち上がり
に同期して、真のアクセスタイムTAAを要してRAM
21Aが動作し、時刻t13で試験出力データDOUT が読み
出される。
Then, in step P3, the dummy output signal DTCK and test output data DOUT which are fed back from the gate array under test 26 are acquired. Here, as shown in FIG. 7A, when the test clock signal TCK is based on the input time t10 of the test clock input terminal T1, the input register 21 is input at the time t11 after the delay time TC due to the input wiring capacitance or the like.
Reach B. In synchronization with the rise of this test clock signal TCK, it takes a true access time TAA
21A operates, and the test output data DOUT is read at time t13.

【0082】一方、レジスタクロックRCKは時刻t12で
そのレジスタクロック入力端子T1に入力されたものと
すれば、入力配線容量等により遅延時間TR後の時刻t
14にデータ出力レジスタ22Cに到達する。ここで、デー
タ出力レジスタ22Cが試験データDOUT を取り込むため
にはセットアップタイムTSを必要とする。
On the other hand, assuming that the register clock RCK is input to the register clock input terminal T1 at time t12, the time t after the delay time TR depends on the input wiring capacity and the like.
At 14, the data output register 22C is reached. Here, the setup time TS is required for the data output register 22C to fetch the test data DOUT.

【0083】その後、ステップP4で試験クロック信号
TCKとレジスタクロックTCKとの時間差が縮小され、デ
ータ制御装置25の期待値比較部25Bにより、試験出力
データDOUT とその評価基準となる期待値データとが比
較され、期待値に達した場合に、その時間差縮小が停止
され、その限界タイミングが得られる。
After that, in step P4, the time difference between the test clock signal TCK and the register clock TCK is reduced, and the test output data DOUT and the expected value data serving as its evaluation reference are calculated by the expected value comparison unit 25B of the data control device 25. When they are compared and the expected value is reached, the time difference reduction is stopped and the limit timing is obtained.

【0084】ここで、図7(a)に示すように、RAM
21Aの見かけ上のアクセスタイムTRAMは試験クロッ
ク入力端子T3,レジスタクロック入力端子T1で見た
試験クロック信号TCKとレジスタクロックRCKとの時間
差である。また、入力配線容量等により遅延時間TC,
真のアクセスタイムTAA,データ出力レジスタ22Cの
セットアップタイムTS,見かけ上のアクセスタイムT
RAM及び入力配線容量等による遅延時間TRとの間に
は(1)式のような関係がある。
Here, as shown in FIG. 7A, the RAM
The apparent access time TRAM of 21A is the time difference between the test clock signal TCK and the register clock RCK seen at the test clock input terminal T3 and the register clock input terminal T1. Also, the delay time TC,
True access time TAA, setup time TS of data output register 22C, apparent access time T
There is a relationship as shown in equation (1) between the RAM and the delay time TR due to the input wiring capacitance and the like.

【0085】 TC+TAA+TS=TRAM+TR……(1) なお、第1の時間差データD1として、(1)式に係る
RAM21Aの見かけ上のアクセスタイムTRAMが得ら
れる。
TC + TAA + TS = TRAM + TR (1) Note that the apparent access time TRAM of the RAM 21A according to the equation (1) is obtained as the first time difference data D1.

【0086】次に、ステップP5で試験クロック信号T
CKとレジスタクロックRCKとの時間差が最も縮小した第
1の時間差データD1の格納処理をする。ここで、第1
の時間差データD1は(1)式に係るTRAMデータで
あり、例えば、それが試験システム装置のメモリ部25C
に一時格納される。
Next, in step P5, the test clock signal T
The storage process of the first time difference data D1 in which the time difference between CK and the register clock RCK is minimized is performed. Where the first
The time difference data D1 of is the TRAM data according to the equation (1), which is, for example, the memory unit 25C of the test system device.
Is temporarily stored in.

【0087】その後、ステップP6〜8で外部から見た
ダミーレジスタ22Bの見かけ上セットアップタイムTR
EGの測定をする。すなわち、ステップP6で、試験ク
ロック信号TCK及びレジスタクロックRCKが試験システ
ム装置の試験信号出力部23から被試験ゲートアレイ2
6の試験用回路11Aやダミー試験用回路12に出力され
る。
After that, the apparent setup time TR of the dummy register 22B seen from the outside in steps P6 to 8 is set.
Measure EG. That is, in step P6, the test clock signal TCK and the register clock RCK are output from the test signal output unit 23 of the test system device to the gate array 2 under test.
6 to the test circuit 11A and the dummy test circuit 12.

【0088】次いで、ステップP7で被試験ゲートアレ
イ26から帰還するダミー出力信号DTCK の取得処理を
する。ここで、図7(b)に示すように、試験クロック
信号TCKはその試験クロック入力端子T1の入力時刻t
20を基準にすると、入力配線容量等により遅延時間TC
後の時刻t22にダミーレジスタ22Bに到達する。一方、
レジスタクロックRCKは時刻t21でそのレジスタクロッ
ク入力端子T1に入力されたものとすれば、入力配線容
量等により遅延時間TR後の時刻t23にダミーレジスタ
22Bに到達する。ここで、ダミーレジスタ22BKが試験
クロック信号CKを入力データを見なして取り込むに
は、セットアップタイムT5を必要とする。
Then, in step P7, the dummy output signal DTCK fed back from the gate array under test 26 is acquired. Here, as shown in FIG. 7B, the test clock signal TCK is input at the input time t of the test clock input terminal T1.
If 20 is used as a reference, the delay time TC
The dummy register 22B is reached at a later time t22. on the other hand,
Assuming that the register clock RCK is input to the register clock input terminal T1 at time t21, the dummy register is set at time t23 after the delay time TR due to the input wiring capacity and the like.
Reach 22B. Here, the setup time T5 is required for the dummy register 22BK to take in the test clock signal CK while considering the input data.

【0089】その後、ステップP8で試験クロック信号
TCKとレジスタクロックRCKとの時間差を縮小させる。
この際に、データ制御装置25の期待値比較部25Bによ
り、出力時の試験クロック信号TCK,すなわちダミー出
力信号DTCK とその期待値となる入力時の試験クロック
信号TCKとが比較される。なお、期待値に達した場合
に、その時間差縮小が停止され、その限界タイミングが
得られる。
Then, in step P8, the time difference between the test clock signal TCK and the register clock RCK is reduced.
At this time, the expected value comparison unit 25B of the data control device 25 compares the test clock signal TCK at the time of output, that is, the dummy output signal DTCK with the test clock signal TCK at the time of input, which is the expected value. When the expected value is reached, the time difference reduction is stopped and the limit timing is obtained.

【0090】ここで、図7(b)に示すように、ダミー
レジスタ22Bの見かけ上セットアップタイムTREGは
試験クロック入力端子T1,レジスタクロック入力端子
T1で見た試験クロック信号TCKとレジスタクロックR
CKとの時間差である。また、入力配線容量等により遅延
時間TC,ダミーレジスタ22Bの真のセットアップタイ
ムTS,見かけ上のダミーレジスタ22Bのセットアップ
タイムTREG及び入力配線容量等による遅延時間TR
との間には(2)式のような関係がある。
Here, as shown in FIG. 7B, the apparent setup time TREG of the dummy register 22B is the test clock signal TCK and the register clock R seen at the test clock input terminal T1 and the register clock input terminal T1.
It is the time difference from CK. Also, the delay time TC, the true setup time TS of the dummy register 22B, the apparent setup time TREG of the dummy register 22B, and the delay time TR due to the input wiring capacitance, etc.
There is a relationship as shown in equation (2) between and.

【0091】TC+TS=TREG+TR……(2) なお、ダミーレジスタ22Bとデータ出力レジスタ22Cと
は、その形状や配置条件が互いに近似して設けられるこ
とからそのセットアップタイムTSがほぼ等しい。ま
た、ダミー情報の一例となる第2の時間差データD2と
して、(2)式に係るダミーレジスタ22Bの見かけ上セ
ットアップタイムTREGが得られる。
TC + TS = TREG + TR (2) Since the dummy register 22B and the data output register 22C are provided so that their shapes and arrangement conditions are close to each other, their setup times TS are almost the same. Further, the apparent setup time TREG of the dummy register 22B according to the equation (2) is obtained as the second time difference data D2 which is an example of the dummy information.

【0092】次に、ステップP9で第1,第2の時間差
データD1,D2に基づいて真のアクセスタイムTAA
の算出処理をする。この際に、例えば、試験システム装
置のCPU25Eにより、(1),(2)式の差の演算処
理が行われ、外部から直接測定できない未知数である遅
延時間TC,TR及びセットアップタイムTSが消去さ
れ、(3)式のように真のアクセスタイムTAAが求値
される。
Next, in step P9, the true access time TAA is calculated based on the first and second time difference data D1 and D2.
Is calculated. At this time, for example, the CPU 25E of the test system device calculates the difference between the equations (1) and (2), and erases the delay times TC and TR and the setup time TS that are unknowns that cannot be measured directly from the outside. , The true access time TAA is calculated as shown in equation (3).

【0093】TAA=TRAM−TREG……(3) その後、ステップP10で当該被試験ゲートアレイ26の
試験評価をする。これにより、ダミー試験用回路12が
設けられたRAM内蔵ゲートアレイ26のRAMマクロ
M1の真のアクセスタイムTAAを評価することができ
る。
TAA = TRAM-TREG (3) Then, in step P10, the test evaluation of the gate array under test 26 is performed. Thus, the true access time TAA of the RAM macro M1 of the RAM built-in gate array 26 provided with the dummy test circuit 12 can be evaluated.

【0094】このようにして、本発明の実施例に係るR
AM内蔵ゲートアレイの試験方法によれば、図6に示す
ように、ステップP4,P8で第1,第2の時間差デー
タD1,D2が取得される。
Thus, R according to the embodiment of the present invention
According to the method of testing the gate array with built-in AM, as shown in FIG. 6, the first and second time difference data D1 and D2 are acquired in steps P4 and P8.

【0095】このため、ステップP9で第1,第2の時
間差データD1,D2に基づいてRAM21Aの見かけ上
のアクセスタイムTRAMとダミーレジスタ22Bの見か
け上セットアップタイムTREGとの差の算出処理をす
ることにより、従来例のように複数のRAMマクロM1
〜Mnに対して試験用回路11Aを共通して設け、その試
験入力配線Lin1,試験クロック配線Lt,試験データ
出力配線がチップ内部を長く引き回した場合であって
も、そのダミー情報に基づいて該試験入・出力配線や試
験クロック配線及び入/出力バッファに係る遅延時間等
の影響を取り除くことができ、RAMマクロM1〜Mn
の真のアクセスタイムTAAを測定することが可能とな
る。
Therefore, in step P9, the difference between the apparent access time TRAM of the RAM 21A and the apparent setup time TREG of the dummy register 22B is calculated based on the first and second time difference data D1 and D2. Thus, a plurality of RAM macros M1 as in the conventional example
Even if the test circuit 11A is commonly provided for Mn to Mn, and the test input line Lin1, the test clock line Lt, and the test data output line are laid around the inside of the chip for a long time, RAM macros M1 to Mn can be removed by eliminating the influence of test input / output wiring, test clock wiring, delay time related to input / output buffer, and the like.
It is possible to measure the true access time TAA of

【0096】このことで、半導体集積回路装置の高集積
化,高密度化に伴い、RAM21Aの真のアクセスタイム
に比べて遅延時間が非常に大きくなった場合であって
も、見かけ上のRAMマクロMnのアクセスタイムTR
AMから試験クロック信号TCKの遅延時間等のダミー情
報TREGが差し引かれることから、その正確なアクセ
スタイムTAAを測定することが可能となる。
As a result, even if the delay time becomes much longer than the true access time of the RAM 21A due to the higher integration and higher density of the semiconductor integrated circuit device, the apparent RAM macro Mn access time TR
Since the dummy information TREG such as the delay time of the test clock signal TCK is subtracted from AM, the accurate access time TAA can be measured.

【0097】これにより、これらの遅延時間を考慮した
高精度のアクセスタイムTAAが測定されることで、半
導体集積回路装置の高機能化,高性能化に伴い益々高速
化されるRAMマクロM1〜Mnの真の評価をすること
が可能となる。
As a result, by measuring the access time TAA with high precision in consideration of these delay times, the RAM macros M1 to Mn are further accelerated as the function and performance of the semiconductor integrated circuit device are improved. It is possible to make a true evaluation of.

【0098】なお、本発明の実施例では、クロック信号
の立ち上がりを基準してアクセスタイムTAAを測定す
る方法を説明したが、それを立ち下がりを基準して測定
する場合にも同様な効果が得られる。また、本発明の実
施例では被試験対象16がRAMマクロ内蔵ゲートアレ
イの場合について説明をしたが、それがスタンダードセ
ルやマイクロ・プロセッサ等でも良く、マクロはROM
(読出し専用メモリ)や論理回路であっても、同様な効
果が得られる。
In the embodiment of the present invention, the method of measuring the access time TAA with reference to the rising edge of the clock signal has been described, but the same effect can be obtained when the access time TAA is measured with reference to the falling edge. To be Further, in the embodiment of the present invention, the case where the test object 16 is the RAM macro built-in gate array has been described, but it may be a standard cell or a microprocessor, and the macro is a ROM.
The same effect can be obtained with a (read-only memory) or a logic circuit.

【0099】[0099]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路装置によれば試験用回路とは別に試験クロック信
号のダミー処理をするダミー試験用回路が設けられる。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the dummy test circuit for performing the dummy processing of the test clock signal is provided separately from the test circuit.

【0100】このため、従来例のように複数の記憶回路
に対して試験用回路が共通して設けられ、試験入・出力
配線や試験クロック配線がチップ内部を長く引き回され
た場合であっても、その遅延時間等に係るダミー情報を
ダミー試験用回路から外部の試験装置等に提供すること
が可能となる。
Therefore, as in the conventional example, a test circuit is commonly provided for a plurality of memory circuits, and the test input / output wiring and the test clock wiring are laid long inside the chip. Also, it becomes possible to provide the dummy information regarding the delay time and the like from the dummy test circuit to an external test device or the like.

【0101】また、本発明の半導体集積回路装置の試験
装置によれば、試験信号出力手段,試験信号入力手段及
び制御手段が具備され、該制御手段により記憶回路の見
かけ上のアクセスタイム(第1の時間差データ)とダミ
ー保持手段の見かけ上のセットアップタイム(第2の時
間差データ)が取得処理される。
Further, according to the semiconductor integrated circuit device testing apparatus of the present invention, the test signal output means, the test signal input means and the control means are provided, and the control means allows the apparent access time of the memory circuit (first Data) and the apparent setup time of the dummy holding means (second time difference data) are acquired.

【0102】このため、半導体集積回路装置の内部集積
回路から記憶回路のみを切り離して、2つの見かけ上の
アクセスタイムとセットアップタイムに基づいて記憶回
路の真のアクセスタイムを求値することが可能となり、
当該装置の試験精度の向上を図ることが可能となる。
Therefore, it is possible to separate only the memory circuit from the internal integrated circuit of the semiconductor integrated circuit device and obtain the true access time of the memory circuit based on two apparent access times and setup times.
It is possible to improve the test accuracy of the device.

【0103】さらに、本発明の半導体集積回路装置の試
験方法によれば、被試験対象の試験用回路とは別に設け
られたダミー試験用回路を用いて第1,第2の時間差デ
ータが取得され、それに基づいて記憶回路のアクセスタ
イムが求値処理される。
Further, according to the test method of the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the first and second time difference data are acquired by using the dummy test circuit provided separately from the test circuit to be tested. Then, the access time of the storage circuit is calculated based on the value.

【0104】このため、外部端子より直接測定可能な第
1,第2の時間差データの差の算出処理をすることによ
り、試験用出力レジスタのセットアップタイムや入力配
線,入力バッファの遅延要素を消去することができ、記
憶回路の真のアクセスタイムを正確に測定することが可
能となる。このことで、半導体集積回路装置に内蔵され
た記憶回路の試験用回路の遅延時間を考慮した高精度な
アクセスタイムを測定することができ、真のRAM評価
等をすることが可能となる。
Therefore, the setup time of the test output register, the input wiring, and the delay element of the input buffer are erased by calculating the difference between the first and second time difference data that can be measured directly from the external terminal. Therefore, the true access time of the memory circuit can be accurately measured. As a result, a highly accurate access time can be measured in consideration of the delay time of the test circuit of the memory circuit built in the semiconductor integrated circuit device, and true RAM evaluation or the like can be performed.

【0105】これにより、半導体記憶回路を内蔵したゲ
ートアレイやスタンダードセル等の性能評価の信頼性の
向上を図ることが可能となり、高信頼度の半導体集積回
路装置及びその試験装置の提供に寄与するところが大き
い。
As a result, it becomes possible to improve the reliability of the performance evaluation of the gate array, the standard cell, etc. having the built-in semiconductor memory circuit, which contributes to the provision of a highly reliable semiconductor integrated circuit device and its testing device. However, it is big.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る半導体集積回路装置の原理図であ
る。
FIG. 1 is a principle diagram of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図2】本発明に係る半導体集積回路装置の試験装置及
びその試験方法の原理図である。
FIG. 2 is a principle diagram of a semiconductor integrated circuit device test apparatus and a test method therefor according to the present invention.

【図3】本発明の実施例に係るRAMマクロ内蔵ゲート
アレイの全体構成図である。
FIG. 3 is an overall configuration diagram of a RAM macro built-in gate array according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例に係るRAMマクロの内部構成
図である。
FIG. 4 is an internal configuration diagram of a RAM macro according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施例に係るRAMマクロ内蔵ゲート
アレイの試験システム装置の構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of a test system device for a RAM macro built-in gate array according to an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例に係るRAMマクロ内蔵ゲート
アレイの試験フローチャートである。
FIG. 6 is a test flowchart of a RAM macro built-in gate array according to an embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施例に係る試験フローチャートを補
足する限界タイミングチャートである。
FIG. 7 is a limit timing chart supplementing the test flow chart according to the embodiment of the present invention.

【図8】従来例に係るRAMマクロ内蔵ゲートアレイの
全体構成図である。
FIG. 8 is an overall configuration diagram of a RAM macro built-in gate array according to a conventional example.

【図9】従来例に係るRAMマクロの試験方法の説明図
である。
FIG. 9 is an explanatory diagram of a method of testing a RAM macro according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…内部集積回路、 11A…試験用回路、 12…ダミー試験用回路、 12A…試験補助クロック入力手段、 12B…ダミー保持手段、 12C…試験データ保持手段、 12D…ダミー出力手段、 13…試験信号出力手段、 14…試験信号入力手段、 15…制御手段、 M…記憶回路、 TCK…試験クロック信号、 DTCK …ダミー出力信号、 RCK…試験補助クロック信号、 DIN…試験データ、 DOUT …試験出力データ、 T/A…非試験/試験モード信号、 TAA…真のアクセスタイム、 D1…第1の時間差データ(TRAM)、 D2…第2の時間差データ(TREG)。 11 ... Internal integrated circuit, 11A ... Test circuit, 12 ... Dummy test circuit, 12A ... Test auxiliary clock input means, 12B ... Dummy holding means, 12C ... Test data holding means, 12D ... Dummy output means, 13 ... Test signal Output means, 14 ... Test signal input means, 15 ... Control means, M ... Memory circuit, TCK ... Test clock signal, DTCK ... Dummy output signal, RCK ... Test auxiliary clock signal, DIN ... Test data, DOUT ... Test output data, T / A ... Non-test / test mode signal, TAA ... True access time, D1 ... First time difference data (TRAM), D2 ... Second time difference data (TREG).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11C 29/00 303 H 6741−5L H01L 21/66 W 7377−4M 21/82 8225−4M H01L 21/82 T ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI Technical display location G11C 29/00 303 H 6741-5L H01L 21/66 W 7377-4M 21/82 8225-4M H01L 21 / 82 T

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 クロック信号に基づいて動作する内部集
積回路(11)の試験を補助する試験用回路(11A)が
組み込まれた半導体集積回路装置において、前記試験用
回路(11A)とは別に試験クロック信号(TCK)のダミ
ー処理をするダミー試験用回路(12)が設けられるこ
とを特徴とする半導体集積回路装置。
1. A semiconductor integrated circuit device incorporating a test circuit (11A) for assisting the test of an internal integrated circuit (11) which operates based on a clock signal, the test being performed separately from the test circuit (11A). A semiconductor integrated circuit device comprising a dummy test circuit (12) for performing dummy processing of a clock signal (TCK).
【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、前記ダミー試験用回路(12)が試験補助クロッ
ク信号(RCK)を入力する試験補助クロック入力手段
(12A)と、前記試験補助クロック信号(RCK)に基づ
いて試験クロック信号(TCK)を保持するダミー保持手
段(12B)と、前記試験補助クロック信号(RCK)に基
づいて試験出力データ(DOUT )を保持する試験データ
保持手段(12C)と、前記ダミー保持手段(12B)で保
持された試験クロック信号(TCK)をダミー出力信号
(DTCK )として出力をするダミー出力手段(12D)か
ら成ることを特徴とする半導体集積回路装置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the dummy test circuit (12) inputs a test auxiliary clock input means (12A) for inputting a test auxiliary clock signal (RCK), and the test auxiliary clock signal. Dummy holding means (12B) for holding the test clock signal (TCK) based on (RCK) and test data holding means (12C) for holding the test output data (DOUT) based on the test auxiliary clock signal (RCK). And a dummy output means (12D) for outputting the test clock signal (TCK) held by the dummy holding means (12B) as a dummy output signal (DTCK).
【請求項3】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、前記ダミー保持手段(12B)と試験データ保持手
段(12C)とが同一回路から成り、前記内部集積回路
(11)とダミー保持手段(12B)とが近接して配置さ
れることを特徴とする半導体集積回路装置。
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the dummy holding means (12B) and the test data holding means (12C) are made of the same circuit, and the internal integrated circuit (11) and the dummy holding means (12). 12B) is arranged in close proximity to the semiconductor integrated circuit device.
【請求項4】 請求項1記載の半導体集積回路装置を試
験する装置であって、前記被試験対象(16)に、非試
験/試験モード信号(T/A),試験クロック信号(T
CK),試験データ(DIN)及び試験補助クロック信号
(RCK)を出力する試験信号出力手段(13)と、前記
ダミー出力信号(DTCK )及び試験出力データ(DOUT
)を入力する試験信号入力手段(14)と、前記試験
信号出力手段(13)及び試験信号入力手段(14)の
入出力を制御する制御手段(15)とを具備し、前記制
御手段(15)が、被試験対象(16)に設けられたダ
ミー試験用回路(12)から帰還するダミー出力信号
(DTCK )に基づいて内部集積回路(11)の遅延時間
の求値制御をすることを特徴とする半導体集積回路装置
の試験装置。
4. A device for testing the semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said device under test (16) has a non-test / test mode signal (T / A) and a test clock signal (T).
CK), test data (DIN) and test auxiliary clock signal (RCK), and a dummy output signal (DTCK) and test output data (DOUT).
) Is inputted, and a control means (15) for controlling input / output of the test signal output means (13) and the test signal input means (14) is provided, and the control means (15) ) Controls the delay time of the internal integrated circuit (11) based on the dummy output signal (DTCK) fed back from the dummy test circuit (12) provided in the device under test (16). And a semiconductor integrated circuit device testing device.
【請求項5】 請求項1記載の半導体集積回路装置を試
験する方法であって、前記被試験対象(16)に、非試
験/試験モード信号(T/A),試験クロック信号(T
CK),試験データ(DIN)及び試験補助クロック信号
(RCK)の供給処理をし、前記ダミー出力信号(DTCK
)及び試験出力データ(DOUT )の取得処理をし、前
記被試験対象(16)の試験用回路(11A)とは別に設
けられたダミー試験用回路(12)から帰還するダミー
出力信号(DTCK )に基づいて内部集積回路(11)の
遅延時間の求値処理をすることを特徴とする半導体集積
回路装置の試験方法。
5. A method for testing a semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said device under test (16) has a non-test / test mode signal (T / A) and a test clock signal (T).
CK), test data (DIN) and test auxiliary clock signal (RCK) are supplied, and the dummy output signal (DTCK) is supplied.
) And test output data (DOUT) are acquired, and a dummy output signal (DTCK) is fed back from a dummy test circuit (12) provided separately from the test circuit (11A) of the device under test (16). A method of testing a semiconductor integrated circuit device, which comprises performing a delay time value calculation process of an internal integrated circuit (11) based on the above.
【請求項6】 請求項5記載の半導体集積回路装置の試
験方法であって、前記内部集積回路(11)の遅延時間
の求値処理は、前記被試験対象(16)の期待値と試験
出力データ(DOUT )とを比較する条件下において、試
験クロック信号(TCK)と試験補助クロック信号(RC
K)との時間差を縮小し、前記試験出力データ(DOUT
)が被試験対象(16)の期待値に一致する限界に係
る第1の時間差データ(D1)の取得処理をし、かつ、
前記被試験対象(16)の期待値とダミー出力信号(D
TCK )とを比較する条件下において、試験クロック信号
(TCK)と試験補助クロック信号(RCK)との時間差を
縮小し、前記ダミー出力信号(DTCK )が被試験対象
(16)の期待値に一致する限界に係る第2の時間差デ
ータ(D2)の取得処理をし、前記第1,第2の時間差
データ(D1,D2)の差の算出処理をすることを特徴
とする半導体集積回路装置の試験方法。
6. The method for testing a semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein the delay time value calculation process of the internal integrated circuit (11) is performed by using an expected value and a test output of the device under test (16). Under the condition of comparing the data (DOUT), the test clock signal (TCK) and the test auxiliary clock signal (RC
The time difference from the test output data (DOUT
) Performs the acquisition process of the first time difference data (D1) related to the limit in which the test object (16) matches the expected value, and
The expected value of the device under test (16) and the dummy output signal (D
Under the condition of comparing with TCK), the time difference between the test clock signal (TCK) and the test auxiliary clock signal (RCK) is reduced so that the dummy output signal (DTCK) matches the expected value of the device under test (16). A test of a semiconductor integrated circuit device, characterized by performing a process of obtaining second time difference data (D2) relating to a limit of the operation, and a process of calculating a difference between the first and second time difference data (D1, D2). Method.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6058496A (en) * 1997-10-21 2000-05-02 International Business Machines Corporation Self-timed AC CIO wrap method and apparatus
US7818526B2 (en) 2004-02-19 2010-10-19 Hynix Semiconductor Inc. Semiconductor memory device having test mode for data access time

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