JPH0682753U - 電子線分析装置 - Google Patents
電子線分析装置Info
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- JPH0682753U JPH0682753U JP2920793U JP2920793U JPH0682753U JP H0682753 U JPH0682753 U JP H0682753U JP 2920793 U JP2920793 U JP 2920793U JP 2920793 U JP2920793 U JP 2920793U JP H0682753 U JPH0682753 U JP H0682753U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 分析試料の座標データを容易にかつ短時間に
登録することができる電子線分析装置を、簡易な構成に
より安価に構成する。 【構成】 試料ステージ4上の試料11に電子ビーム4
4を照射し、この照射によって試料11から発生する信
号を検出する電子線分析装置において、試料11上の任
意の点の座標データを出力する座標位置出力シート13
を有し、試料11を目視により観察しながらその座標位
置出力シート13により分析ポイントを指定するアドレ
ススケール1と、このアドレススケール1からの座標デ
ータを記憶し、記憶された座標データの中から任意のデ
ータを選択して出力する座標処理装置2とを有し、座標
処理装置2からの座標データに基づいて分析ポイントと
電子ビーム44の照射位置との位置合わせを行う。
登録することができる電子線分析装置を、簡易な構成に
より安価に構成する。 【構成】 試料ステージ4上の試料11に電子ビーム4
4を照射し、この照射によって試料11から発生する信
号を検出する電子線分析装置において、試料11上の任
意の点の座標データを出力する座標位置出力シート13
を有し、試料11を目視により観察しながらその座標位
置出力シート13により分析ポイントを指定するアドレ
ススケール1と、このアドレススケール1からの座標デ
ータを記憶し、記憶された座標データの中から任意のデ
ータを選択して出力する座標処理装置2とを有し、座標
処理装置2からの座標データに基づいて分析ポイントと
電子ビーム44の照射位置との位置合わせを行う。
Description
【0001】
本考案は、電子線分析装置に関し、特に電子線分析装置において分析試料の分 析位置の位置決めを行なう装置に関するものである。
【0002】
一般に、試料に電子ビームや単色X線等の励起源を照射し、この照射によって 試料から発生する二次電子や特性X線等を検出することにより、試料の表面観察 や元素分析を行う電子線マイクロアナライザ等の電子線分析装置において、分析 試料上の分析位置に励起源を照射するには、試料ステージに対する分析点の位置 決めを行なう必要がある。
【0003】 従来、この分析点の位置を割り出す技術として以下のものが知られている。以 下、図7及び図8を用いて従来の分析点の位置を割り出す技術について説明する 。 (1)従来の分析点の位置の割り出す技術の1つとして、人手により位置座標を 求めるものがある。図7は従来の分析点の位置座標の割り出しを説明する図であ り、図7の(a)及び(b)に示すように、x,y座標系が彫刻された透明なア クリル板等からなる透明板51を、試料ホルダベース12上に設置した試料11 の上方に設置する。そして、この透明板51を通して試料11を観察し、透明板 51に彫刻されたx方向及びy方向の目盛りを読み取ることによって、試料ホル ダベース12に対する座標データを求める。そして、この求められた位置座標は 、図7の(c)に示すようにメモ52等の記録用紙に書き留めておく。その後、 分析試料11を試料ホルダベース12とともに電子線分析を行なう試料ステージ にセットし、前記記録用紙に書き留めておいておいた座標データを用いて試料ス テージを駆動し、励起源に対する分析試料の位置を設定する。 (2)前記従来の(1)は、試料ホルダベース12に対する分析試料11の座標 データの取得、及び該座標データに基づく試料ステージの移動を人手を用いて行 なうものであるのに対して、分析試料11の座標データの取得、及び該座標デー タに基づく試料ステージの移動を自動で行なうものが知られている。
【0004】 この従来の技術においては、図8に示すように試料ホルダベース12上に設置 された試料11の像をCCDカメラ53により読み取ってモニタCRT55に表 示し、モニタCRT55に表示された分析試料の画像に対して、ポインティング デバイス53によってカーソル57を移動させて分析試料11の座標データを求 める。その後、分析試料11を試料ホルダベース12とともに電子線分析装置の チャンバ内の試料ステージにセットし、この座標データを用いて試料ステージを 駆動し、励起源に対する分析試料の位置を設定する。
【0005】
しかしながら、従来の電子線分析装置では、以下のような問題点がある。 (1)前記従来の目盛りが彫刻された透明板を用いる方法では、分析試料の座標 を登録する点が多点にわたる場合には、非常に手間と時間がかかるという問題点 がある。 (2)また、前記従来のCCDカメラを用いる方法では、分析試料の座標データ を得るために、CCDカメラ、モニタCRT、及び画像処理装置の高価な構成要 素が必要であった。
【0006】 そこで、本考案は前記従来の電子線分析装置の問題点を解決して、分析試料の 座標データを容易にかつ短時間に登録することができる電子線分析装置を簡易な 構成要素により安価に構成することを目的とする。
【0007】
本考案は、前記目的を達成するために、試料ステージ上の試料に電子ビームを 照射し、この照射によって試料から発生する信号を検出する電子線分析装置にお いて、試料上の任意の点の座標データを出力する座標位置出力シートを有し、試 料を目視により観察しながらその座標位置出力シートにより分析ポイントを指定 するアドレススケールと、このアドレススケールからの座標データを記憶し、記 憶された座標データの中から任意の座標データを選択して出力する座標処理装置 とを有し、座標処理装置からの座標データに基づいて分析ポイントと電子ビーム の照射位置との位置合わせを行うよう構成するものである。
【0008】
本考案によれば、前記の構成によって、アドレススケールに試料を設置し、そ の試料を目視により観察しながらその座標位置出力シートにより分析ポイントを 指定して、試料上の任意の点の座標データを出力し、さらにその座標データを座 標処理装置に記憶する。試料の座標データを取得し記憶した後、試料を試料ステ ージにセットし、記憶しておいた座標データの中から任意の座標データを選択し て出力し、その座標データに基づいて分析ポイントと電子ビームの照射位置との 位置合わせを行う。
【0009】 この分析ポイントと照射位置との位置合わせの後、試料ステージ上の試料に電 子ビームを照射し、この照射によって試料から発生する信号を検出して試料の表 面観察や元素分析を行う。
【0010】
以下、本考案の実施例について図を参照しながら詳細に説明する。 (実施例の構成) 本考案の実施例1の構成を、図1に示す本考案の電子線分析装置のブロック構 成図、図2に示す本考案の電子線分析装置のアドレススケールの構成図、及び図 3に示す本考案の電子線分析装置のアドレススケールの平面図及び正面図を用い て説明する。なお、図2においては、アドレススケールの一部断面図を示してい る。
【0011】 はじめに、図1により本考案の電子線分析装置の全体の構成を説明する。本考 案の電子線分析装置は、アドレススケール1と座標処理装置2とステージコント ローラ3と試料ステージ4から構成される。
【0012】 そして、アドレススケール1の出力である座標データは座標処理装置2に入力 されて記憶され、その記憶された座標データは座標処理装置2からステージコン トローラ3に出力される。ステージコントローラ3はこの座標データに基づいて 、試料ステージ4を移動させ電子ビーム44の照射位置に分析試料11の位置を 合わせる。
【0013】 アドレススケール1は、分析試料11を支持する試料ホルダベース12と、分 析試料11の分析位置の座標データを出力する座標位置出力シート13とから構 成され、座標位置出力シート13からの座標データは座標処理装置2に出力され る。座標位置出力シート13は、例えばタッチパネルシートにより構成すること ができる。また、座標処理装置2はメモリ21を有しており、アドレススケール 1からの座標処理装置2からの座標データを登録番号とともに記憶し、ステージ コントローラ3に出力するものである。また、ステージコントローラ3は、試料 ステージ4の駆動を制御する装置であり、座標処理装置2から出力された座標デ ータに基づいて試料ステージ4を駆動する。また、試料ステージ4は、Xステー ジ41とYステージ42とZステージ43の3軸方向の移動ステージからなり、 分析試料11を載せた試料ホルダベース12を支持して、X方向,Y方向,及び Z方向の移動を可能としている。そして、ステージコントローラ3から出力され る座標データに基づいてその駆動量を制御し、分析試料11の分析位置と電子ビ ーム44の照射位置との位置合わせを行うものである。
【0014】 次に、図2及び図3を用いて、本考案の電子線分析装置のアドレススケールの 構成について説明する。
【0015】 アドレススケール1は、分析試料11を支持する部分と、分析試料11の分析 位置の座標データを測定するための部分により構成される。
【0016】 分析試料11を支持する部分は、ベース18と試料ホルダ用案内部16とから なる。そして、分析試料11は試料ベースホルダ12に設置された状態でベース 18上に置かれ、試料ホルダ用案内部16によってベース18上での位置決めが 行われる。この試料ホルダ用案内部16は、例えば試料ベースホルダ12の底面 あるいは側面の形状に対応して形成された溝により構成され、この溝と試料ベー スホルダ12側の形状とを合わせることにより、試料ベースホルダ12の試料ホ ルダ用案内部16への取付け及び位置決めを行うことができる。なお、図2には 、試料ベースホルダ12の側面に形成された2つの試料ホルダ用案内部16によ り、試料ベースホルダ12を両側面から保持する構成例を示し、図3には、試料 ベースホルダ12の底面に形成された凹部に試料ホルダ用案内部16の凸部を係 合させることにより保持する構成例を示している。なお、試料ベースホルダ12 上に設置される分析試料11の個数及び設置位置は、任意に選択することができ る。
【0017】 また、分析試料11の分析位置の座標データを測定するための部分は、座標位 置出力シート13と透明板15及びポインティグペン14からなる。透明板15 は、前記ベース18及び試料ベースホルダ12と対向する位置に支持部材19等 を介してある一定距離を隔てて取り付けられており、この透明板15上に座標位 置出力シート13を支持している。この透明板15は、例えば透明なアクリル板 等により形成することができるが、材質はアクリル板に限定されるものではなく 任意の透明部材を用いることができる。
【0018】 また、座標位置出力シート13は、透明な部材からなり表面を押圧することに より、その押圧位置のX,Yデータを座標データとして出力するものであり、そ の座標データは出力コネクタ17を通して外部に出力される。
【0019】 したがって、前記の構成により、ベース18上に配置された分析試料11は、 透明板15及び透明な座標位置出力シート13を通して観察することができる。 (実施例の作用) 次に、本考案の実施例の作用について、前記図1〜図3と、図4の本考案の実 施例のフローチャート、図5の本考案の実施例の分析試料の座標位置を指定する フローチャート、及び図6の本考案の実施例の分析試料の分析を行うフローチャ ート用いて説明する。
【0020】 はじめに、図4により本考案の電子線分析装置の分析の手順を、図中のステッ プSの符号に従って説明する。 ステップS1: はじめに分析試料11の分析を行う部分の座標位置を指定する。この座標位置 の指定は、本考案の電子線分析装置のアドレススケール1において、大気中で行 われる。 ステップS2: 次に、前記ステップS1の工程で求められた分析試料11の座標位置のデータ に基づいて、その分析試料11の分析を行う。この分析試料11の分析は、分析 試料11を本考案の電子線分析装置のチャンバ内に移動させてセットし、分析試 料11に電子ビーム44等の励起源を照射することにより行われる。
【0021】 次に、前記各ステップS1及びステップS2の工程について、図5のフローチ ャートによりステップS1の工程を説明し、次に図6のフローチャートによりス テップS2の工程を説明する。なお、ステップS1の工程については10番代の ステップ番号により説明し、ステップS2の工程については20番代のステップ 番号により説明する。
【0022】 ステップS1の工程(分析試料の座標位置の指定する工程)について; ステップS11: 分析試料11を試料ホルダベース12に設置し、該試料ホルダベース12をア ドレススケール1のベース18に取り付けることにより、分析試料11をアドレ ススケール1にセットする。このセットにより、透明板15と透明な座標位置出 力シート13を通して分析試料11を観察することができ、分析試料11の分析 ポイントを選択することができる。なお、この工程は大気中において行うことが できる。 ステップS12: 座標位置出力シート13を通して分析試料11を観察し、選択した分析試料1 1の分析ポイントをポインティングペン14により指定する。このポインティン グペン14による指定は、ポインティングペン14でタッチパネルシート等の座 標位置出力シート13を押圧することによって行うことができる。 ステップS13: 前記ステップS12の工程において、ポインティングペン14で座標位置出力 シート13を押圧すると、座標位置出力シート13はその押圧された位置のX, Y座標データを座標処理装置2に出力する。このX,Y座標データは、分析試料 11の分析ポイントの試料ホルダベース12に対する座標データを示している。 したがって、この座標データにより分析試料11の分析ポイントを特定すること ができる。 ステップS14: 前記ステップS13の工程で出力された座標データは、座標処理装置2におい て、登録番号とともにメモリ21内に記憶される。登録番号は、分析試料11の 分析ポイントを特定する指標の役をするものであり、メモリ21内において登録 番号とその登録番号に対応する座標データは対となって記憶されている。
【0023】 なお、この登録番号は、座標処理装置2の外部から入力することによって設定 する構成とすることもでき、また、アドレススケール1から出力されてくる座標 データの順に対応して順次自動的に設定する構成とすることもできる。 ステップS15: 分析試料11において、分析ポイントを全て指定したか否かの判定を行い、他 の分析ポイントを指定する場合には再びステップS12に戻り、前記工程を繰り 返して、分析ポイントの指定を完了させる。
【0024】 ステップS2の工程(分析試料の分析を行う工程)について; ステップS21: 前記ステップS1の工程において、アドレススケール1にセットしてある分析 試料11を試料ホルダベース12に設置した状態で、本考案の電子線分析装置の 試料ステージ4にセットする。なお、図1において、このセットを行う状態を破 線により示している。この試料ステージ4は電子線分析装置のチャンバ内にあり 、大気中とは異なる測定条件に設定される。
【0025】 なお、この試料ホルダベース12の試料ステージ4へのセットにおいては、X ステージ41及びYステージ42の移動が容易となるように、Zステージ43を 駆動しておく。 ステップS22: 図示しない入力装置からステージコントローラ3に対して、分析試料11の分 析ポイントを示す登録番号を入力する。この登録番号の入力により、ステージコ ントローラ3は次に分析を行う分析ポイントを認識することになる。なお、登録 番号を入力を入力装置から行わず、ステージコントローラ3において登録番号を 順次出力するように構成することもできる。 ステップS23: 前記ステップS22における登録番号に対応する座標データをメモリ21より 読み出し、ステージコントローラ3に出力する。 ステップS24: 前記ステップS23の工程で出力された座標データに基づいて、試料ステージ 4のXステージ41及びYステージ42を駆動することにより、試料ホルダベー ス12上の試料11を移動させる。この移動により、前記ステップS1において 指定した分析ポイントを電子ビーム44の照射位置への位置合わせが行われる。 このXステージ41及びYステージ42の駆動においては、現在のステージの位 置を読み取りながら目標位置である座標データの位置となるよう制御を行うこと によりステージの移動を行う。 ステップS25: 次に、ステージコントローラ3は試料ステージ4のZステージ43に駆動信号 を出力して試料11のZ軸方向の移動を行い、試料11の分析ポイントにおける 電子ビーム44の焦点合わせを行う。このZ軸方向の移動においては、試料ステ ージ4のZ軸マニュアル駆動機能を用いることができる。 ステップS26: 前記までの工程により、試料11の試料ステージ4での位置決めが完了し、こ の状態で分析を開始する。 ステップS27: ステップS22の工程において選択した登録番号の試料の分析ポンイトにおけ る分析が終了した否かを監視し、未終了の場合には前記ステップS23に戻って 分析を終了させる。 ステップS28: さらに、前記ステップS22で選択した分析ポイント以外に分析を行う箇所が あるか否かの判定を行い、他に分析を行う分析ポイントがある場合にはステップ S22に戻って、新たな登録番号を入力する。 (実施例の効果) 前記構成の試料ホルダ用案内部により、試料ベースホルダのベースに対する位 置決め及び取付けを容易に行うことができる。
【0026】 また、前記実施例においては、座標位置出力シートを透明なタッチパネルシー トとし、この透明なタッチパネルシートを透明なアクリル板上に貼りつけくこと によってアドレススケールを構成することができる。また、このタッチパネルシ ートへの入力は、ポインティングペンによりタッチパネルシートを押圧すること により行うことができる。 (変形例) なお、本考案は上記実施例に限定されるものではなく、本考案の趣旨に基づき 種々の変形が可能であり、それらを本考案の範囲から排除するものではない。
【0027】 前記実施例においては、分析ポイントと電子ビームの照射位置の位置合わせに おいて、試料を支持する試料ステージを駆動しているが、電子ビームの側を駆動 することにより位置合わせを行うことができる。
【0028】 前記試料ホルダ用案内部は、前記溝形状に限定されるものではなく、位置決め 及び取付けを可能とする任意の構成とすることができる。
【0029】 前記座標処理装置において、図示しない入力装置により記憶されている座標デ ータを修正、変更を行うことができる。
【0030】 また、前記座標処理装置において、図示しない入力装置により登録番号と座標 データとの組み替えを行い、分析ポイントの分析順序を変更することができる。
【0031】
以上説明したように、本考案によれば、以下の効果を得ることができる。 (1)従来の座標データを記録用紙に記録する場合と比較して、筆記用具等が一 切不要となるとともに、操作が容易となり、分析ポイントの座標データの読み取 りや入力での作業時間を短縮でき、また、多数の分析ポイントの登録も容易とな る。 (2)従来のCCDカメラ、モニタCRT、画像処理装置の構成のものと比較し て、これらの高価な機器を用いることなく、安価な座標位置出力シートと通常の CPU及びメモリからなる処理装置等の簡易で安価な構成要素により同等の処理 を行うことが可能である。
【図1】本考案の電子線分析装置のブロック構成図であ
る。
る。
【図2】本考案の電子線分析装置のアドレススケールの
構成図である。
構成図である。
【図3】本考案の電子線分析装置のアドレススケールの
平面図及び正面図である。
平面図及び正面図である。
【図4】本考案の実施例のフローチャートである。
【図5】本考案の実施例の分析試料の座標位置を指定す
るフローチャートである。
るフローチャートである。
【図6】本考案の実施例の分析試料の分析を行うフロー
チャートである。
チャートである。
【図7】従来の分析点の位置座標の割り出しを説明する
図である。
図である。
【図8】従来の分析点の位置座標の割り出しを説明する
図である。
図である。
1…アドレススケール、2…座標処理装置、3…ステー
ジコントローラ、4…試料ステージ、11…試料、12
…試料ホルダベース、13…座標位置出力シート、14
…ポインティングペン、15…透明板、16…試料ホル
ダ用案内部、17…出力コネクタ、18…ベース、19
…支持部材、21…メモリ、41…Xステージ、42…
Yステージ、43…Zステージ、44…電子ビーム
ジコントローラ、4…試料ステージ、11…試料、12
…試料ホルダベース、13…座標位置出力シート、14
…ポインティングペン、15…透明板、16…試料ホル
ダ用案内部、17…出力コネクタ、18…ベース、19
…支持部材、21…メモリ、41…Xステージ、42…
Yステージ、43…Zステージ、44…電子ビーム
Claims (1)
- 【請求項1】 試料ステージ上の試料に電子ビームを照
射し、この照射によって試料から発生する信号を検出す
る電子線分析装置において、 (a)前記試料上の任意の点の座標データを出力する座
標位置出力シートを有し、前記試料を目視により観察し
ながら前記座標位置出力シートにより分析ポイントを指
定するアドレススケールと、 (b)前記アドレススケールからの座標データを記憶
し、前記記憶された座標データの中から任意の座標デー
タを選択して出力する座標処理装置とを有し、 (c)前記座標処理装置からの前記座標データに基づい
て前記分析ポイントと電子ビームの照射位置の位置合わ
せを行うことを特徴とする電子線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2920793U JPH0682753U (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 電子線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2920793U JPH0682753U (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 電子線分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0682753U true JPH0682753U (ja) | 1994-11-25 |
Family
ID=12269755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2920793U Withdrawn JPH0682753U (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 電子線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0682753U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014021048A (ja) * | 2012-07-23 | 2014-02-03 | Jeol Ltd | サンプルプレートおよび質量分析装置 |
-
1993
- 1993-05-07 JP JP2920793U patent/JPH0682753U/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014021048A (ja) * | 2012-07-23 | 2014-02-03 | Jeol Ltd | サンプルプレートおよび質量分析装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19971106 |